JP2002069156A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物

Info

Publication number
JP2002069156A
JP2002069156A JP2000260762A JP2000260762A JP2002069156A JP 2002069156 A JP2002069156 A JP 2002069156A JP 2000260762 A JP2000260762 A JP 2000260762A JP 2000260762 A JP2000260762 A JP 2000260762A JP 2002069156 A JP2002069156 A JP 2002069156A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cyanuric
compound
epoxy resin
reaction
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000260762A
Other languages
English (en)
Inventor
Takehiko Suwa
剛彦 諏訪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP2000260762A priority Critical patent/JP2002069156A/ja
Publication of JP2002069156A publication Critical patent/JP2002069156A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 硬化物の耐熱性を損なうことな
く、誘電特性が良好なエポキシ樹脂組成物を提供するこ
と。 【解決手段】 多官能エポキシ化合物とシアヌル
酸エステル系化合物とを必須成分とするエポキシ樹脂組
成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂組成
物に関するもので、特に、誘電特性と耐熱性に優れた電
気積層板に好適な樹脂組成物を提供する。
【0002】
【従来の技術】近年、高周波領域で用いられる電子部品
には、高耐熱性、低誘電率且つ低誘電正接の材料が望ま
れている。これに対し、誘電率の低いフッ素樹脂やポリ
フェニレンエーテルなどの熱可塑性樹脂の使用が提案さ
れているが、作業性、基材への接着性が悪く信頼性に欠
けるなどの問題点がある。そのため、更に、作業性や密
着性の改善を目的としたエポキシ変性ポリフェニレンエ
ーテル、或いはポリフェニレンエーテル変性エポキシ樹
脂等が提案されているが充分な特性は得られていない。
【0003】また、フェノール類のシアン酸エステル化
合物(シアネート)は、触媒の存在下、三量化反応によ
りトリアジン構造(シアヌレート)を生成する。多官能
シアネート化合物は上記の三量化反応によりポリトリア
ジン樹脂として、高耐熱性、低誘電率の樹脂を生成する
ことが知られている。このポリトリアジン樹脂は、高耐
熱性で、良好な誘電特性を持つが、その反面、単独で
は、その硬化物が脆く、靭性に劣るという難点を持って
いる。この難点を改善すべく、熱可塑性樹脂やエポキシ
樹脂を添加した組成物を用いる方法が採られているが、
得られた硬化物の耐熱性、誘電特性の特性が不充分とな
る。また、2官能以上のシアネート化合物から合成され
るポリトリアジン樹脂は、高温で長時間加熱しないと反
応完結点においても未反応シアネート基が残存すること
で、耐熱性には優れるが、誘電率と誘電正接の低減が不
十分となることが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、硬化
物の耐熱性を損なうことなく、誘電特性が良好なエポキ
シ樹脂組成物を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前述の問題
点を鋭意検討した結果、シアヌレート骨格を有する化合
物と多官能性エポキシ樹脂とを反応させることによっ
て、高温の硬化を必要とせず、高耐熱性と低誘電性を有
した熱硬化性樹脂組成物を見出し、反応を完成させた。
すなわち、本発明は、 1.多官能エポキシ化合物とシアヌル酸エステル系化合
物とを必須成分とするエポキシ樹脂組成物、 2.シアヌル酸エステル系化合物が、シアヌル酸のアリ
ールエステルである前記1記載の組成物、 3.シアヌル酸エステル系化合物が、シアン酸エステル
を3量化したものである前記2記載の組成物、 4.多官能エポキシ化合物とシアヌル酸エステル系化合
物との配合割合が、シアヌル酸エステル系化合物のトリ
アジン骨格1モルに対して、エポキシ基12〜0.5モ
ルである前記1、2または3記載の組成物、 5.シアヌル酸エステル系化合物が多官能エポキシ化合
物の存在下で、アルキルシアネートまたはアリールシア
ネートを反応させて3量化して得られるものである前記
1〜4いずれか1つに記載の組成物、 6.多官能エポキシ化合物が、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂である前記1〜5いずれか1つに記載の組成物、 7.更に、エポキシ樹脂硬化剤を含有する前記1〜6い
ずれか1つに記載の組成物、を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明のエポキシ樹脂組成物は、
多官能エポキシ樹脂とシアヌル酸エステル化合物を必須
成分とすることを特徴しており、多官能エポキシ樹脂と
シアヌル酸エステル化合物とを混合し硬化成形時に反応
させるか、予め多官能エポキシ樹脂とシアヌル酸エステ
ル化合物の一部を反応させておいても良い。
【0007】本発明に用いるシアヌル酸エステル系化合
物としては、ハロゲン化シアヌルと活性水素化合物を反
応させるか、シアン酸エステルを3量化反応させて得ら
れるもの等が挙げられる。また、多官能エポキシ樹脂存
在下でシアン酸エステルを3量化反応させて、多官能エ
ポキシ樹脂がシアヌル酸エステル骨格に一部又は全部が
組み込まれたものも含まれる。更に、シアン酸エステル
基は加熱硬化時に3量化反応を起こしシアヌル酸エステ
ル基を形成することから、シアン酸エステル系化合物が
未反応で残留しているものもシアヌル酸エステル系化合
物として、含まれる。また、該シアヌル酸エステルが製
造中に、または保存中に、異性化したイソシアン酸エス
テル系化合物(イソシアヌレート)も含まれる。
【0008】本発明に用いるシアヌル酸エステル系化合
物中のシアン酸エステル系化合物の含有率は、特に限定
されないが、加熱時間を短縮する点からシアヌル酸エス
テル系化合物100重量部当たりシアン酸エステル系化
合物が50重量部以下であることが好ましい。シアン酸
エステルが50重量部を超えている場合は、予備的に加
熱してシアヌル酸エステルへの3量化反応を進めていく
と、円滑に硬化反応を進めることが出来る。
【0009】またハロゲン化シアヌル類(A)と活性水
素化合物(B)との反応割合は特に限定されるものでは
ないが、モル比(A)/(B)=1/1.2〜1/8、
好ましくはモル比(A)/(B)=1/1.5〜1/5
の割合で反応させることをによって、流動性、硬化性、
耐熱性、難燃性の優れた特性を得ることができる。
【0010】また該反応には、塩基性物質をハロゲン化
水素捕捉剤としてを反応系内に存在させることをによっ
て、すみやかに反応を進めることができる。ハロゲン化
水素捕捉剤としては、各種の化合物を使用することがで
きるが、例えば、トリエチルアミンやトリメチルアミン
等の3級アミン類;水酸化ナトリウムや水酸化カリウム
等のアルカリ金属水酸化物;などの塩基性物質が使用で
きる。ハロゲン化水素補足剤の使用量としては、ハロゲ
ン原子1モルに対して、1.0〜1.5モルが適量であ
る。ハロゲン化捕捉剤は、通常0.5〜3時間要して添
加する。
【0011】上記反応においては、有機溶媒存在下で反
応することが好ましい。その際使用する有機溶媒として
は特に限定されるものではないが、疎水性溶媒が好まし
い。疎水性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族系溶媒やメチルエチルケトンやメチルイソ
ブチルケトンなどのケトン系溶媒が使用できる。
【0012】上記の有機溶媒の使用量は、ハロゲン化シ
アヌル類と1分子中にヒドロキシル基含有化合物の合計
100重量部に対して、通常30〜500重量部、好ま
しくは50〜300重量部である。反応温度は通常20
〜150℃、反応時間は1〜20時間である。
【0013】このような系でハロゲン化捕捉剤を加えて
反応を行った後に、反応液に適量の水を加えて生成塩を
溶解する。その後、水洗を繰り返して系内の生成塩を除
去した後に、脱水や濾別でさらに精製して、有機溶媒を
蒸留で除去して目的のシアヌル酸エステル系化合物を得
ることができる。
【0014】本発明で用いられる活性水素化合物として
は、特に限定されるものではないが、例えば、フェノー
ル、ブチルフェノール、ノニルフェノール等のモノフェ
ノール誘導体;ハイドロキノン、カテコール、ブチルカ
テコール等のベンゼンジオール誘導体;ビスフェノール
A、ビスフェノールF、フルオレンビスフェノール、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)メンタン、ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ジシクロペンタン、4,4’−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビス(4−ヒドロキジフェニ
ル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)エーテル、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)スルホン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、1,
1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、1,1’−ビス(3−t−ブチル
−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、4,4’
−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェノール等のビ
スフェノール類;ビフェノール誘導体、1、1’−ビナ
フタレン−2,2’−ジオール等のビフェノール類、
1,1’−ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタ
ン(b)、1,1’−ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフ
チル−6メチル)メタン、1,1’−ビス(2−ヒドロ
キシ−1−ナフチル−7エチル)ブタン等のビスナフト
ール類;安息香酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリ
ット酸、サリチル酸、4−アミノサリチル酸、アミノ安
息香酸、乳酸等のカルボン酸誘導体が挙げられる。
【0015】前述のハロゲン化シアヌルとしては、特に
限定されるものではないが、経済性、反応性の点から塩
化シアヌルが好ましい。
【0016】前述のハロゲン化シアヌルと活性水素化合
物の反応に用いられる溶媒としては、特に限定されるも
のではないが、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水
素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;塩
化メチレン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル等のエーテル類が上げられる。また、溶媒の使
用量は、塩化シアヌルと活性水素化合物合計100重量
部に対して、副反応を抑制する点から200重量部以
上、生産効率、経済性から3000重量部以下が好まし
い。
【0017】前述の塩化シアヌルと活性水素化合物の反
応は、適度の反応速度、被反応物の反応溶媒溶解性の点
から0℃以上、反応の制御の容易さと副反応生成物が少
なくなる点から50℃以下が好ましい。
【0018】前述の塩化シアヌルと活性水素化合物の反
応において、塩化シアヌルと活性水素化合物の反応割合
は、モノフェノール誘導体においては、塩化シアヌル1
モルに対して、モノフェノールの水酸基が2.7当量か
ら3.6当量が好ましい。また、ビスフェノール類、ビ
スナフトール類、ビフェノール類、ベンゼンジオール誘
導体等の2官能フェノール誘導体と塩化シアヌルとの反
応においては、塩化シアヌル1モルに対して、2官能フ
ェノール誘導体の水酸基2.7当量以上が好まく、また
硬化物の誘電特性からは、6当量以下が好ましい。ま
た、酸誘導体においては、塩化シアヌル1モルに対し
て、カルボン酸誘導体のカルボキシル基を2〜4当量と
して反応させることが好ましい。この場合酸無水物1当
量は、カルボキシル基2当量を表す。
【0019】前述の塩化シアヌルと活性水素化合物の反
応において、使用する塩基性物質としては、特に限定さ
れるものではないが、反応時にハロゲン成分をトラップ
することが出来るものが好ましく、例えば、アルカリ
(土類)金属水酸化物、アルカリ(土類)金属酸化物、
アミン類が挙げられる。
【0020】本発明で用いるシアン酸エステル類とは、
塩基性物質存在下、フェノール性水酸基含有化合物と塩
化シアン、臭化シアン等のハロゲン化シアンとを反応さ
せて得られる物質と一部が3量化している物質、及びそ
れらと同一の構造を持つ物質をいう。これらの物質は、
例えば、下記の方法で製造することが出来る。
【0021】フェノール性水酸基含有化合物と塩基性物
質とを混合して水を主成分とする溶媒に溶解する。該フ
ェノール性水酸基含有化合物が塩基性物質と水の混合物
に溶解しにくい場合は、溶解を促進するために、一部脂
肪族アルコール、ケトン類を使用してよい。その際の混
合比は、(フェノール性水酸基含有化合物の重量)/
(フェノール性水酸基含有化合物の水酸基当量)=X、
(塩基性物質の重量)/(塩基性物質の当量)=Yとす
ると、Y/Xの値が1をこえるように選ぶことが好まし
い。該フェノール性水酸基含有化合物の溶液は、0〜1
0℃に冷却しておくことが、好ましい。
【0022】また、ハロゲン化シアンとフェノール性水
酸基含有化合物の反応比率は、フェノール性水酸基含有
化合物の1水酸基当量当たり、ハロゲン化シアン1.0
モル以上が好ましく、反応性、安全性、分離の簡便さか
ら、ハロゲン化シアン1.05モル〜1.5モルがとく
に好ましい。
【0023】次いで、上記の溶液に、塩化シアン、臭化
シアン等のハロゲン化シアンの、水との溶解度が0〜5
0容量%である有機溶媒溶液を滴下する。また、塩化シ
アンの場合は、溶解させずに直接反応系に吹き込んでも
良い。この際、混合溶液が、反応時の発熱により温度上
昇するが、その上昇の度合いが10℃/時間以内に制御
するようにハロゲン化シアンの添加速度を調整すること
が好ましい。また、液温は0〜50℃の範囲になるよう
に、必要に応じて冷却しながら、保持する。温度上昇の
度合いが単独重反応系への添加により混合溶液の温度が
上昇するが、10℃/時間以下、液温は0〜50℃の範
囲は、ハロゲン化シアンの単独重合や生成したシアネー
トの重合を抑制可能である点から好ましい。また、ハロ
ゲン化シアンの反応系外への漏洩、飛散等の安全上の観
点からも好ましい。
【0024】上記の、フェノール性水酸基含有化合物に
塩基性化合物を混合した水溶液と、ハロゲン化シアンの
有機溶媒溶液の濃度は、撹拌状態、冷却能力により最適
条件は決定されるが、共に30重量%以下が好ましい。
【0025】フェノール性水酸基含有化合物とハロゲン
化シアンとの反応は、特に制限されるものではないが、
混合後、5時間以内に終了させることが好ましい。反応
終了後、必要に応じて、トルエン、キシレン等の炭化水
素を反応溶液中の水と同重量以上投入し、分離した有機
溶媒相を分液する。この後、有機溶媒相を水で、シアン
イオンが検出されなくなるまで洗浄する。洗浄後、有機
溶媒相を、合成ゼオライト、硫酸ナトリウム等で乾燥す
る。乾燥後、溶液を冷却するか、濃縮することで、シア
ネートを析出させる。析出させた結晶は、炭素数4以下
のアルコールで洗浄後、空気、窒素、アルゴンなとの乾
燥気体、乾燥することにより、目的とするシアン酸エス
テル類を得ることができる。
【0026】本発明に用いられる水酸基含有化合物とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、ビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、フルオレンビスフェノ
ール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メンタン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ジシクロペンタン、4,
4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス(4−ヒドロ
キジフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−
メチルフェニル)エーテル、ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3
−メチルフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、1,1’−ビス(3−
t−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブ
タン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェ
ノール等のビスフェノール類;ビフェノール誘導体、
1、1’−ビナフタレン−2,2’−ジオール等のビフ
ェノール類、1,1’−ビス(2−ヒドロキシ−1−ナ
フチル)メタン(b)、1,1’−ビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル−6メチル)メタン、1,1’−ビス
(2−ヒドロキシ−1−ナフチル−7エチル)ブタン等
のビスナフトール類;トリス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−ク
レゾールノボラック等のノボラック型フェノール樹脂が
挙げられる。中でも、ビスフェノールA、ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、クレ
ゾールノボラック樹脂がハロゲン化シアンとの反応性、
反応物の溶解性、相溶性の点で好ましい。
【0027】前記の一部が3量化している物質、及びそ
れらと同一の構造を持つ物質としては、例えば、チバ製
AroCy B-30、B-40〔ともにビスフェノールAのシアン
酸エステル〕、チバ製 AroCy M-30〔ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタンのシアン酸エ
ステル〕等が挙げられる。
【0028】本発明に係るシアン酸エステル系化合物の
3量化反応は、上述のシアン酸エステル類を、必要に応
じて触媒存在下で行う。好ましい温度範囲としては、反
応が円滑に進行しやすい点から80℃以上、反応性の制
御のしやすさから200℃以下である。
【0029】本発明に係るシアン酸エステル系化合物3
量化反応の反応触媒及としては、フェノール類、アミン
類、ルイス酸類、3級スルホニウム塩、4級アンモニウ
ム塩、4級ホスホニウム塩、エポキシ基含有化合物など
が挙げられる。中でも、ノニルフェノール、2,4,6
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ベンジ
ルジメチルアミン、銅、鉛、スズ、マンガン、ニッケ
ル、鉄、亜鉛、コバルト等のカルボン酸塩、チタンテト
ラ-n-ブトキシドとそのポリマー、銅、ニッケル、コバ
ルト等のペンタジオナート塩、臭化テトラブチルアンモ
ニウム、塩化テトラブチルホスホニウムが、反応時に樹
脂との相溶性が高く、反応が円滑に進行する上で好まし
い。また、反応速度が早く進行する面からは、エポキシ
化合物が特に好ましい。
【0030】本発明に係るシアン酸エステル類の3量化
反応において、多官能エポキシ樹脂存在下で行うことが
出来る。
【0031】本発明に係る多官能エポキシ樹脂として
は、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキ
シ樹脂であれば全て使用できる。具体的に例示すれば、
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノー
ル、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾル
シン等の2価のフェノール類、あるいはトリス−(4−
ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラ
キス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノ
ボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフ
ェノール類、又はテトラブロモビスフェノールA等のハ
ロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエ
ーテル化物等が挙げられる。本発明のエポキシ樹脂組成
物には、これらの多官能エポキシ樹脂を単独で用いても
よいし、2種類以上を併用してもよい。中でも、ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂類等が好ましく、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂が特に好まし
い。
【0032】本発明で用いられる多官能エポキシ樹脂の
エポキシ当量は、適度な架橋点間の分子量が得られて、
強靭な硬化物が得られる点から、エポキシ当量156グ
ラム/当量(以下g/eqと記す。)以上が好ましく、ま
た、硬化物の良好な耐熱性、誘電特性が得られる点から
エポキシ当量4000g/eq以下が好ましい。
【0033】本発明で用いられる多官能エポキシ樹脂と
シアヌル酸エステル系化合物との、反応触媒及び硬化触
媒としては、フェノール類、アミン類、ルイス酸類、3
級スルホニウム塩、4級アンモニウム塩、4級ホスホニ
ウム塩などが挙げられる。中でも、ノニルフェノール、
2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、ベンジルジメチルアミン、銅、鉛、スズ、マンガ
ン、ニッケル、鉄、亜鉛、コバルト等のカルボン酸塩、
チタンテトラ-n-ブトキシドとそのポリマー、銅、ニッ
ケル、コバルト等のペンタジオナート塩、臭化テトラブ
チルアンモニウム、塩化テトラブチルホスホニウムが、
反応時に樹脂との相溶性が高く、反応が円滑に進行する
上で好ましい。
【0034】本発明において、多官能エポキシ樹脂とシ
アヌル酸エステル系化合物との配合割合は、強靭な硬化
樹脂を形成する点から、トリアジン骨格1モル当たりエ
ポキシ基12モル以下が好ましく、硬化物の吸水率が低
くなる点からトリアジン骨格1モル当たりエポキシ基
1.5モル以上が好ましい。但し、ここでいうトリアジ
ン骨格とは、組成物中のシアヌル酸エステル系化合物中
のトリアジン骨格と組成物中のシアン酸エステル系化合
物から加熱硬化時に生成するトリアジン骨格の両者の和
を表す。この際、下記の関係式を満たすことが好まし
い。 1.5≦EpW/EE/(n×NCy+3×NTr)≦
12 且つ 0.25<(n×NCy)/(3×NTr)<9 ここで、EpWは組成物中のエポキシ樹脂の重量
(部)、EEは組成物中のエポキシ樹脂のエポキシ当
量、nは組成物中に含まれる1分子当たりのシアン酸エ
ステル系化合物の平均官能基数、NCyは組成物中に含
まれるシアン酸エステル系化合物のモル数、NTrは組
成物中に含まれるシアヌル酸エステル系化合物のモル数
を表す。
【0035】本発明で用いられる多官能エポキシ樹脂と
シアヌル酸エステル系化合物との反応触媒及び硬化触媒
としては、フェノール類、アミン類、ルイス酸類、3級
スルホニウム塩、4級アンモニウム塩、4級ホスホニウ
ム塩などが挙げられる。中でも、ノニルフェノール、
2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、ベンジルジメチルアミン、銅、鉛、スズ、マンガ
ン、ニッケル、鉄、亜鉛、コバルト等のカルボン酸塩、
チタンテトラ-n-ブトキシドとそのポリマー、銅、ニッ
ケル、コバルト等のペンタジオナート塩、臭化テトラブ
チルアンモニウム、塩化テトラブチルホスホニウムが、
反応時に樹脂との相溶性が高く、反応が円滑に進行する
上で好ましい。
【0036】本発明のエポキシ樹脂組成物と併用され得
る他の硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤と
して知られているものであれば全て使用できる。このよ
うな硬化剤としては、例えばジシアンジアミド、多価フ
ェノール類、酸無水物類、芳香族及び脂肪族アミン類な
どが挙げられる。具体的に例示すれば、多価フェノール
類としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビ
スフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’
−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキ
ノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェ
ノール類、あるいはトリス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−ク
レゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニ
ルフェノール等の3価以上のフェノール類が挙げられ
る。更には、フェノール類、ナフトール類、又は、ビス
フェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、
フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、
2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、ナフタレンジオール等の2価フェノール類とホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p
−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリレングリコ
ール等の縮合剤から合成される多価フェノール性化合物
などが挙げられる。また、酸無水物としては、無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水
ナジック酸、無水トリメリット酸などが挙げられる。ま
た、アミン類としては、4,4’−ジアミノジフェニル
メタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,
4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジ
アミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、
エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミ
ン類などが挙げられる。
【0037】更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には、
可撓性、基材への密着性等を付与するため種々の熱可塑
性樹脂を併用することが出来る。これらの熱可塑性樹脂
としては、特に限定されるものではないが、例えば、芳
香族ポリエステル樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂
類、ゴム状重合体が挙げられる。ゴム状重合体として
は、ブタジエン、アクリルニトリル等からなる共重合体
が挙げられ、中でも、特にカルボキシル基含有ゴム状重
合体が好ましい。上記のカルボキシル基含有ゴム状重合
体としては、カルボキシル基含有単量体と共役ジエン系
単量体とに必要に応じて他の単量体を共重合させたも
の、あるいは、共役ジエン系単量体と他の単量体とを共
重合させたものにカルボキシル基を導入したもの等が挙
げられる。カルボキシル基は、分子の末端、側鎖のいず
れに位置しても良く、その量は1分子中に1〜5個、よ
り好ましくは1.5〜3個であることが好ましい。
【0038】更に、耐熱性、難燃性等を付与するため、
ポリイミド系化合物、ポリアミック酸系化合物、または
マレイミド系化合物を併用することが出来る。これらの
樹脂とては、特に限定されないが、例えば、一部に脂肪
族基を持つ酸無水物とジアミンからなるポリイミド系樹
脂、または、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物等の芳香族酸無水物とジアミノジフェニルエー
テル、フェニレンジアミン等の芳香族ジアミンの反応物
であるポリアミック酸系化合物、芳香族ジアミンと無水
マレイン酸とを反応して得られるビスマレイミド系化合
物とそのホモポリマーからなるマレイミド系化合物が挙
げられる。
【0039】更に、上記のエポキシ樹脂組成物にシラン
カップリング剤類を併用することが出来る。シランカッ
プリング剤としては、ビニル基、エポキシ基、アミノ
基、またはメルカプト基をもつシラン化合物が好まし
く、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメト
キシシラン、γ−グリシドプロピルトリメトキシシラ
ン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランが挙げ
られる。
【0040】
【実施例】次に本発明を実施例、比較例により具体的に
説明するが、以下において部及び%は特に断わりのない
限り重量基準である。
【0041】また、実施例及び比較例では、フッ素樹脂
でコーティングされた成形用容器で成形後、2mmの厚
さの板が得られるものを用いた。
【0042】参考例1<1,3,5−トリス(p−tert−ブチ
ルフェノキシ)トリアジンの合成> 塩化シアヌル100部とp−tert−ブチルフェノール2
92部とを塩化メチレン2000部に溶解し、0℃まで
冷却する。次いで、液温を15℃以下になる様に冷却し
ながら、トリエチルアミン197部を滴下する。次い
で、滴下終了後、冷却を止めて1時間撹拌する。撹拌終
了後、水1200部で洗浄する。有機相の容積が1/2
となるまで濃縮する。濃縮後、0℃に静置して析出した
白色結晶をロ別し、254部の1,3,5−トリス(p−tert
−ブチルフェノキシ)トリアジン(以下PTBPシアヌル酸
エステルと記す。)を得た。
【0043】参考例2<ビスフェノールAのシアン酸エ
ステルの合成> 0℃に保った臭化シアンの10%トルエン溶液に、ビス
フェノールA228部を10%水酸化ナトリウム水溶液
400部に溶解した溶液を、液温が15℃以下になる様
に冷却しながら、滴下した。次いで、滴下終了後、冷却
を止めて1時間撹拌し、その後静置して有機相を分離す
る。分離した有機相を水500部で洗浄した後、有機相
の容積が1/2となるまで濃縮する。濃縮後、0℃に静
置して析出した白色結晶をロ別し、265部のビスフェ
ノールAのシアン酸エステル(以下BPACNと記
す。)を得た。
【0044】実施例1 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部とEPICLON840S(BPA型エポキシ樹脂 エポキ
シ当量185g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)1
06部を170℃で溶解混合した後、触媒としてチタン
テトラ-n-ブトキシドテトラマー1部を添加し、前述の
成形用容器に流し込み、210℃で4時間加熱後冷却し
て、厚さ2mmの硬化物を得た。得られた硬化物につい
て、ガラス転移点、線膨張係数(両者ともTMAによ
る)、誘電率、誘電正接(1GHz)を測定した。得ら
れた結果を表1に示す。
【0045】実施例2 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部とEPICLON N665(クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂 エポキシ当量215g/eq;大日本インキ化学工
業(株)製)106部を200℃で溶解混合した後、触
媒としてチタンテトラ-n-ブトキシドテトラマー1部を
添加し、前述の成形用容器に流し込み、210℃で4時
間加熱後冷却して、厚さ2mmの硬化物を得た。得られ
た硬化物について、ガラス転移点、線膨張係数(両者と
もTMAによる)、誘電率、誘電正接(1GHz)を測
定した。得られた結果を表1に示す。
【0046】実施例3 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部、参考例2で製造したBPACN40部、及びEPICLO
N840S(BPA型エポキシ樹脂 エポキシ当量18
5g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)157部を1
50℃で溶解混合した後、触媒としてチタンテトラ-n-
ブトキシドテトラマー1部を添加し、前述の成形用容器
に流し込み、210℃で4時間加熱後冷却して、厚さ2
mmの硬化物を得た。得られた硬化物について、ガラス
転移点、線膨張係数(両者ともTMAによる)、誘電
率、誘電正接(1GHz)を測定した。得られた結果を
表1に示す。
【0047】実施例4 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部、参考例2で製造したBPACN79部、及びEPICLO
N840S(BPA型エポキシ樹脂 エポキシ当量18
5g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)211部を1
50℃で溶解混合した後、触媒としてチタンテトラ-n-
ブトキシドテトラマー1部を添加し、前述の成形用容器
に流し込み、210℃で4時間加熱後冷却して、厚さ2
mmの硬化物を得た。得られた硬化物について、ガラス
転移点、線膨張係数(両者ともTMAによる)、誘電
率、誘電正接(1GHz)を測定した。得られた結果を
表1に示す。
【0048】実施例5 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部、参考例2で製造したBPACN158部、及びEPIC
LON840S(BPA型エポキシ樹脂 エポキシ当量1
85g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)315部を
150℃で溶解混合した後、触媒としてチタンテトラ-n
-ブトキシドテトラマー1部を添加し、前述の成形用容
器に流し込み、210℃で4時間加熱後冷却して、厚さ
2mmの硬化物を得た。得られた硬化物について、ガラ
ス転移点、線膨張係数(両者ともTMAによる)、誘電
率、誘電正接(1GHz)を測定した。得られた結果を
表2に示す。
【0049】実施例6 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン36部、及
びEPICLON840S(BPA型エポキシ樹脂エポキシ当
量185g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)200
部を150℃で溶解混合した後、触媒として2,4,6
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール1部を添
加し、前述の成形用容器に流し込み、210℃で4時間
加熱後冷却して、厚さ2mmの硬化物を得た。得られた
硬化物について、ガラス転移点、線膨張係数(両者とも
TMAによる)、誘電率、誘電正接(1GHz)を測定
した。得られた結果を表2に示す。
【0050】比較例1 EPICLON840S(BPA型エポキシ樹脂 エポキシ当
量185g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)100
部と参考例2で製造したBPACN75部を150℃で
溶解混合した後、触媒としてチタンテトラ-n-ブトキシ
ドテトラマー1部を添加し、前述の成形用容器に流し込
み、210℃で4時間加熱後冷却して、厚さ2mmの硬
化物を得た。得られた硬化物について、ガラス転移点、
線膨張係数(両者ともTMAによる)、誘電率、誘電正
接(1GHz)を測定した。得られた結果を表3に示
す。
【0051】比較例2 EPICLON N665(クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂 エポキシ当量215g/eq;大日本インキ化学工業
(株)製)100部と参考例2で製造したBPACN6
5部を150℃で溶解混合した後、触媒としてチタンテ
トラ-n-ブトキシドテトラマー1部を添加し、前述の成
形用容器に流し込み、210℃で4時間加熱後冷却し
て、厚さ2mmの硬化物を得た。得られた硬化物につい
て、ガラス転移点、線膨張係数(両者ともTMAによ
る)、誘電率、誘電正接(1GHz)を測定した。得ら
れた結果を表3に示す。
【0052】比較例3 参考例1で製造したPTBPシアヌル酸エステル100
部、参考例2で製造したBPACN80部、及びEPICLO
N840S(BPA型エポキシ樹脂 エポキシ当量18
5g/eq;大日本インキ化学工業(株)製)200部を1
50℃で溶解混合した後、触媒としてチタンテトラ-n-
ブトキシドテトラマー1部を添加し、前述の成形用容器
に流し込み、210℃で4時間加熱後冷却して、厚さ2
mmの硬化物を得た。得られた硬化物について、ガラス
転移点、線膨張係数(両者ともTMAによる)、誘電
率、誘電正接(1GHz)を測定した。得られた結果を
表3に示す。
【0053】比較例4 EPICLON840S( BPA型エポキシ樹脂 エポキシ当
量185g/eq;大日本インキ化学工業(株)製 )10
0部とジアミノジフェニルエタン13部とを150℃で
溶解混合した後、前述の成形用容器に流し込み、210
℃で4時間加熱後冷却して、厚さ2mmの硬化物を得
た。得られた硬化物について、ガラス転移点、線膨張係
数(両者ともTMAによる)、誘電率、誘電正接(1G
Hz)を測定した。得られた結果を表3に示す。
【0054】比較例5 参考例2で製造したBPACN100部を150℃で溶
解混合した後、触媒としてチタンテトラ−n−ブトキシ
ドテトラマー1部を添加し、前述の成形用容器に流し込
み、210℃で4時間加熱後冷却して、厚さ2mmの硬
化物を得た。得られた硬化物について、ガラス転移点、
線膨張係数(両者ともTMAによる)、誘電率、誘電正
接(1GHz)を測定した。得られた結果を表4に示
す。
【0055】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【0056】
【発明の効果】本発明のシアヌレート骨格を有する化合
物と多官能性エポキシ樹脂とを反応させることによって
得られる熱硬化性樹脂組成物は、高温の硬化を必要とせ
ず、高耐熱性と低誘電性を有したを硬化物を提供し、プ
リント配線基板などの積層板材料、半導体封止材料、接
着剤、構造材、注型材料の用途に好適に使用することが
できる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多官能エポキシ化合物とシアヌル酸エス
    テル系化合物とを必須成分とするエポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 シアヌル酸エステル系化合物が、シアヌ
    ル酸のアリールエステルである請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】 シアヌル酸エステル系化合物が、シアン
    酸エステルを3量化したものである請求項2記載の組成
    物。
  4. 【請求項4】 多官能エポキシ化合物とシアヌル酸エス
    テル系化合物との配合割合が、シアヌル酸エステル系化
    合物のトリアジン骨格1モルに対して、エポキシ基12
    〜0.5モルである請求項1、2または3記載の組成
    物。
  5. 【請求項5】 シアヌル酸エステル系化合物が多官能エ
    ポキシ化合物の存在下で、シアン酸エステル系化合物を
    反応させて3量化して得られるものである請求項1〜4
    いずれか1つに記載の組成物。
  6. 【請求項6】 多官能エポキシ化合物が、ビスフェノー
    ル型エポキシ樹脂である請求項1〜5いずれか1つに記
    載の組成物。
  7. 【請求項7】 更に、エポキシ樹脂用硬化剤を含有する
    請求項1〜6いずれか1つに記載の組成物。
JP2000260762A 2000-08-30 2000-08-30 エポキシ樹脂組成物 Pending JP2002069156A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000260762A JP2002069156A (ja) 2000-08-30 2000-08-30 エポキシ樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000260762A JP2002069156A (ja) 2000-08-30 2000-08-30 エポキシ樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002069156A true JP2002069156A (ja) 2002-03-08

Family

ID=18748723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000260762A Pending JP2002069156A (ja) 2000-08-30 2000-08-30 エポキシ樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002069156A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010074085A1 (ja) * 2008-12-25 2010-07-01 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート、金属張積層板、プリント配線板、多層プリント配線板、及び半導体装置
JP2011006593A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板
JP2016117670A (ja) * 2014-12-19 2016-06-30 Dic株式会社 シアン酸エステル化合物、シアン酸エステル樹脂、シアン酸エステル化合物の製造方法、硬化性樹脂組成物、その硬化物、ビルドアップ用接着フィルム、半導体封止材料、プリプレグ、及び回路基板

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010074085A1 (ja) * 2008-12-25 2010-07-01 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート、金属張積層板、プリント配線板、多層プリント配線板、及び半導体装置
CN102264793A (zh) * 2008-12-25 2011-11-30 住友电木株式会社 树脂组合物、半固化片、树脂片、覆金属层叠板、印刷布线板、多层印刷布线板及半导体装置
JPWO2010074085A1 (ja) * 2008-12-25 2012-06-21 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート、金属張積層板、プリント配線板、多層プリント配線板、及び半導体装置
US8709587B2 (en) 2008-12-25 2014-04-29 Sumitomo Bakelite Company, Ltd. Resin composition, prepreg, resin sheet, metal-clad laminate, printed wiring board, multilayer printed wiring board and semiconductor device
JP5545222B2 (ja) * 2008-12-25 2014-07-09 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート、金属張積層板、プリント配線板、多層プリント配線板、及び半導体装置
KR101526645B1 (ko) * 2008-12-25 2015-06-05 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 수지 조성물, 프리프레그, 수지 시트, 금속 부착 적층판, 프린트 배선판, 다층 프린트 배선판 및 반도체 장치
JP2011006593A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板
JP2016117670A (ja) * 2014-12-19 2016-06-30 Dic株式会社 シアン酸エステル化合物、シアン酸エステル樹脂、シアン酸エステル化合物の製造方法、硬化性樹脂組成物、その硬化物、ビルドアップ用接着フィルム、半導体封止材料、プリプレグ、及び回路基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5180583B2 (ja) エポキシ樹脂、それを含有する硬化性樹脂組成物およびその用途
US6900269B2 (en) Halogen-free resin composition
US20080200636A1 (en) Epoxy Resin, Hardenable Resin Composition Containing the Same and Use Thereof
JP5655284B2 (ja) 可溶性イミド骨格樹脂、可溶性イミド骨格樹脂溶液組成物、硬化性樹脂組成物、およびその硬化物
KR20120101096A (ko) 에폭시 수지 조성물
JP5719562B2 (ja) 高分子量エポキシ樹脂、該高分子量エポキシ樹脂を用いる樹脂フィルム、樹脂組成物、および硬化物
JP2013166959A (ja) 混合触媒系を含む硬化性エポキシ樹脂組成物およびそれから作られた積層体
WO2007037206A1 (ja) 熱硬化性樹脂、及びそれを含む熱硬化性組成物、並びにそれから得られる成形体
US7141627B2 (en) Epoxy resin composition
JP6515255B1 (ja) 硬化性樹脂組成物、ワニス、プリプレグ、硬化物、及び、積層板または銅張積層板
US7084194B2 (en) Halogen-free resin composition
WO2007080871A1 (ja) 芳香族エーテル型重合体、その製造方法及び重合体組成物
JP5127164B2 (ja) 変性エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物
JP2007308570A (ja) エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物
JP5328064B2 (ja) 多価フェノール化合物、熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物
JP5322143B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物
KR100531072B1 (ko) 다가 페놀류 화합물, 에폭시 수지, 에폭시 수지 조성물 및그의 경화물
JP2002069156A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2008195843A (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物
TW201843212A (zh) 改質聚芳酯樹脂
JPH0725962A (ja) 新規なアリールエステル化フェノールノボラック樹脂
JPH07228580A (ja) 変性多価エポキシ化合物、同化合物の製造方法及びエポキシ樹脂組成物
JP5966903B2 (ja) シアン酸エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリプレグ、回路基板、半導体封止材料、及びビルドアップフィルム
JP2022007637A (ja) 多価ヒドロキシ樹脂、その製造方法、及びそれを含むエポキシ樹脂組成物、並びにエポキシ樹脂硬化物
JP6098908B2 (ja) 硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及び、ビルドアップフィルム

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050805