JP2002067525A - Original plate for thermosensitive lithographic printing - Google Patents

Original plate for thermosensitive lithographic printing

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JP2002067525A
JP2002067525A JP2000263812A JP2000263812A JP2002067525A JP 2002067525 A JP2002067525 A JP 2002067525A JP 2000263812 A JP2000263812 A JP 2000263812A JP 2000263812 A JP2000263812 A JP 2000263812A JP 2002067525 A JP2002067525 A JP 2002067525A
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JP
Japan
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heat
acid
printing
plate
lithographic printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000263812A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiji Akiyama
慶侍 秋山
Kazuo Maemoto
一夫 前本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Priority to AT01107824T priority patent/ATE327097T1/en
Priority to EP01107824A priority patent/EP1142707B2/en
Priority to US09/827,934 priority patent/US6637334B2/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for thermosensitive lithographic printing having good on-press developability, high plate wear resistance, a difficulty in a contamination of printing and excellent ink repellency in the plate capable of printing by mounting the plate in a printer as it is after scanning exposure based on a digital signal. SOLUTION: The original plate for thermosensitive lithographic printing comprises a thermosensitive layer containing hydrophobic thermoplastic fine particles and a hydrophilic binder polymer to be melted by a heat on an aluminum support having an anodized film. In the original plate, micropores of the anodized film are treated to be enlarged. The plate also comprises an undercoating layer provided on a surface of the anodized layer and containing a water soluble resin having a carboxyl group or a carboxylate group, and a water soluble salt of at least one type of metal selected from the group consisting of zinc, calcium, magnesium, barium, strontium, cobalt, manganese and nickel.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要のコンピ
ュータ・ツウ・プレートシステム用の感熱性平版印刷用
原板に関する。より詳しくは、デジタル信号に基づいた
赤外線走査露光による画像記録が可能であり、画像記録
したものは従来のような液体による現像工程を経ること
なしに、そのまま印刷機に装着して印刷することが可能
な感熱性平版印刷用原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-sensitive lithographic printing plate for a computer-to-plate system which does not require development. More specifically, it is possible to record an image by infrared scanning exposure based on a digital signal, and the recorded image can be directly attached to a printing machine and printed without going through a conventional developing process using a liquid. It relates to a possible heat-sensitive lithographic printing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用平版印刷原板については、多数
の研究がなされている。その中で、より一層の工程合理
化と廃液処理問題の解決を目指すものとして、露光後、
そのまま印刷機に装着して印刷可能な平版印刷用原板が
研究され、種々の方法が提案されている。有望な方法の
一つは、親水性バインダーポリマー中に疎水性熱可塑性
ポリマー粒子を分散した親水層を画像形成感熱層とする
感熱性平版印刷用原板である。感熱層に熱を加えると疎
水性熱可塑性ポリマー粒子が融着し、親水性感熱層表面
が親油性画像部に変換することを利用した方法である。
2. Description of the Related Art Numerous studies have been made on lithographic printing original plates for computer-to-plate systems, which have made remarkable progress in recent years. Among them, after exposure, we aim to further streamline the process and solve the waste liquid treatment problem.
A lithographic printing plate that can be directly mounted on a printing machine for printing has been studied, and various methods have been proposed. One promising method is a heat-sensitive lithographic printing original plate, in which a hydrophilic layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is used as an image forming heat-sensitive layer. This method utilizes the fact that when heat is applied to the heat-sensitive layer, the hydrophobic thermoplastic polymer particles are fused and the surface of the hydrophilic heat-sensitive layer is converted into an oleophilic image area.

【0003】かかる疎水性熱可塑性ポリマー粒子の熱融
着を利用した方式の中で、処理工程をなくす方法の一つ
に、露光済みの印刷用原版を印刷機のシリンダーに装着
し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給す
ることによって、印刷用原版の非画像部を除去する機上
現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷用原版を露
光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で
処理が完了する方式である。このような機上現像に適し
た平版印刷用原板は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光
層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像され
るのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされ
る。
[0003] Among the methods utilizing heat fusion of the hydrophobic thermoplastic polymer particles, one of the methods for eliminating the processing step is to mount an exposed printing master on a cylinder of a printing press and rotate the cylinder. There is a method called on-press development in which a non-image portion of a printing original plate is removed by supplying a dampening solution and ink while the ink is being supplied. That is, the printing master is mounted on a printing machine as it is after exposure, and the process is completed in a normal printing process. A lithographic printing plate suitable for such on-press development has a photosensitive layer soluble in fountain solution and ink solvent, and is suitable for development on a printing machine placed in a bright room. It is required to have a light room handling property.

【0004】例えば、日本特許2938397号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設け
た平版印刷用原板が開示されている。この公報には、該
平版印刷用原板において、赤外線レーザー露光して熱可
塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画像形
成した後、印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し水及
び/又はインキを供給することにより機上現像できるこ
とが記載されている。また、この平版印刷用原板は感光
域が赤外線域であることにより、明室取り扱い適性もあ
る。
For example, Japanese Patent No. 2938397 discloses an original plate for lithographic printing wherein a photosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. I have. According to this publication, the plate for lithographic printing is subjected to infrared laser exposure to form an image by heat-bonding fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer to form an image. Then, the plate is mounted on a printing press cylinder, and dampening water and / or Alternatively, it is described that on-press development can be performed by supplying ink. Further, since the lithographic printing plate has a photosensitive region in an infrared region, it is also suitable for handling in a bright room.

【0005】また、特開平9−127683号公報およ
びWO99−10186号公報にも熱可塑性微粒子を熱
による合体後、機上現像により印刷版を作製することが
記載されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-127683 and WO99-10186 also disclose that a printing plate is prepared by on-press development after combining thermoplastic fine particles by heat.

【0006】しかしながら、このような熱による微粒子
の合体で画像を作る方法は、良好な機上現像性を示すも
のの、アルミニウム支持体と画像との接着力が弱く、ま
た画像強度も弱いために、耐刷性が不十分という問題が
あった。この対策として、接着力の強いリン酸浴陽極酸
化皮膜を使用することが知られているが、この方法で
は、インキ払い性が劣化してしまう欠点があった。
[0006] However, such a method of forming an image by combining fine particles by heat shows good on-press developability, but the adhesion between the aluminum support and the image is weak, and the image strength is also low. There was a problem that the printing durability was insufficient. As a countermeasure, it is known to use a phosphoric acid bath anodic oxide film having a strong adhesive force, but this method has a drawback that the ink wiping property is deteriorated.

【0007】また、特開平8−48020号公報には、
親油性感熱性層を多孔質親水性支持体上に設けて、赤外
線レーザで露光し、熱により親油性感熱性層を基板に固
着する方法が記載されている。しかし、親油性の皮膜で
は機上現像性が悪く、インキローラー又は印刷物へ親油
性感熱層のカスが付着する問題がある。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-48020 discloses that
A method is described in which a lipophilic thermosensitive layer is provided on a porous hydrophilic support, exposed to infrared laser, and the lipophilic thermosensitive layer is fixed to a substrate by heat. However, a lipophilic film has poor on-press developability, and there is a problem that scum of the lipophilic thermosensitive layer adheres to an ink roller or printed matter.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような先行技術の欠点を克服した感熱性平版印刷用原
板を提供することである。すなわち、機上現像性が良好
であり、かつ高耐刷性を有し、しかも印刷での地汚れや
インキ払い性等の汚れ難さに優れた感熱性平版印刷用原
板を提供することである。
It is an object of the present invention to provide a heat-sensitive lithographic printing plate which overcomes the disadvantages of the prior art as described above. That is, it is an object of the present invention to provide a heat-sensitive lithographic printing plate which has good on-press developability, has high printing durability, and is excellent in difficulty in soiling such as background stain and ink dispensing property in printing. .

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、上記目的が、高接着性支持体に親水性の表面処理
を施すことによって達成されることを見出した。すなわ
ち、本発明は、以下のとおりである。
Means for Solving the Problems As a result of diligent studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by subjecting a highly adhesive support to a hydrophilic surface treatment. That is, the present invention is as follows.

【0010】1.陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支
持体上に、熱により溶融する疎水性熱可塑性微粒子及び
親水性バインダーポリマーを含有する感熱層を有する感
熱性平版印刷用原板であって、該陽極酸化皮膜のマイク
ロポアがポアワイド処理され、かつその表面に、カルボ
キシル基又はカルボキシラト基を有する水溶性樹脂と、
亜鉛、カルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロン
チウム、コバルト、マンガン及びニッケルから選ばれた
少なくとも一種の金属の水溶性塩とを含有する下塗り層
を有することを特徴とする感熱性平版印刷用原板。
[0010] 1. A heat-sensitive lithographic printing plate having a heat-sensitive layer containing hydrophobic thermoplastic fine particles and a hydrophilic binder polymer melted by heat on an aluminum support having an anodized film, wherein the micropores of the anodized film are Pore wide treatment, and on the surface thereof, a water-soluble resin having a carboxyl group or a carboxylate group,
A heat-sensitive lithographic printing plate having an undercoat layer containing a water-soluble salt of at least one metal selected from zinc, calcium, magnesium, barium, strontium, cobalt, manganese and nickel.

【0011】2.前記1に記載の感熱性平版印刷用原板
をレーザー光によって画像露光し、そのまま印刷機に取
り付けて印刷するか、又は印刷機に取り付けた後に、印
刷機上でレーザー光によって露光し、そのまま印刷する
ことを特徴とする感熱性平版印刷用原板の製版及び印刷
方法。
2. The heat-sensitive lithographic printing original plate as described in 1 above is image-exposed with a laser beam and is attached to a printing machine for printing, or after being attached to the printing machine, is exposed to the laser beam on a printing machine and printed as it is. A method for making and printing a heat-sensitive lithographic printing plate, comprising:

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明に用いられるアルミニウム支
持体としては、寸度的に安定なアルミニウムを主成分と
する金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金
からなる。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成
分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム
(合金)がラミネートもしくは蒸着されたプラスチック
フィルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭48−
18327号公報に記載されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合
された複合シートでもかまわない。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. The aluminum support used in the present invention is a dimensionally stable metal containing aluminum as a main component, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, it is selected from an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, or a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or evaporated. Further,
A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in JP 18327 may be used.

【0013】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる支持体をアルミ
ニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10重量%以
下である。本発明では純アルミニウム板が好適である
が、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難
であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材
のもの、例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、
JIS A 3005などを適宜利用することができる。また、本
発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ
0.1〜0.6mm程度である。この厚みは、印刷機の
大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜
変更することができる。アルミニウム支持体には、適宜
後述の支持体表面処理が施される。
In the following description, the above-mentioned supports made of aluminum or an aluminum alloy are collectively used as aluminum supports. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium, and the content of the foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. Thus, the aluminum plate applied to the present invention, the composition is not specified, conventionally known and publicly available materials, such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103,
JIS A 3005 can be used as appropriate. The thickness of the aluminum support used in the present invention is about 0.1 to 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's request. The aluminum support is appropriately subjected to a support surface treatment described below.

【0014】本発明に用いるアルミニウム支持体は、そ
の表面を砂目立てすることができる。砂目立て処理方法
は、特開昭56−28893号公報に記載されているよ
うな機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレイン
などがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学
的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミ
ニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグ
レイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立
てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表
面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目
立て法を用いることができ、これらの各砂目立て方法を
単独又は組み合わせて用いることもできる。その中でも
本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸
または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化学的
方法であり、好ましい電流密度は100〜400C/d
2の範囲である。さらに具体的には、0.1〜50重
量%の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度20〜10
0℃、時間1秒〜30分、電流密度100〜400C/
dm2の条件で電解を行うことが好ましい。また、機械
的砂目立てと電気化学的砂目立てとを組み合わせて行う
ことも好ましい。
The surface of the aluminum support used in the present invention can be grained. Examples of the graining method include mechanical graining, chemical etching, and electrolytic grain as described in JP-A-56-28893. Furthermore, an electrochemical graining method in which the aluminum surface is electrochemically grained in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, a wire brush graining method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, and a ball graining method in which the aluminum surface is grained with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a brush graining method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive can be used, and these graining methods can be used alone or in combination. Among them, a method for producing a surface roughness usefully used in the present invention is an electrochemical method of chemically graining in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a preferable current density is 100 to 400 C / d.
m 2 . More specifically, in an electrolyte containing 0.1 to 50% by weight of hydrochloric acid or nitric acid, the temperature is 20 to 10%.
0 ° C., time 1 second to 30 minutes, current density 100 to 400 C /
It is preferable to perform electrolysis under the condition of dm 2 . It is also preferable to perform the combination of mechanical graining and electrochemical graining.

【0015】このように砂目立て処理したアルミニウム
支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチング
される。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構
造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明に適用
するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤
として用いることにより改善できる。本発明において好
適に用いられるアルカリ剤は、カ性ソーダ、炭酸ソー
ダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソー
ダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と
温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50重量%、20〜
100℃であり、アルミニウムの溶解量が5〜20g/
2となるような条件が好ましい。エッチングの後、表
面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い
が行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロ
ム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に
電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法として
は、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載さ
れているような50〜90℃の温度の15〜65重量%
の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号
公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙
げられる。
The grained aluminum support is chemically etched with an acid or an alkali. When an acid is used as an etching agent, it takes time to destroy a fine structure, which is disadvantageous when applied to the present invention industrially. However, it can be improved by using an alkali as an etching agent. Alkali agents suitably used in the present invention are sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. ~ 50% by weight, 20 ~
100 ° C., and the amount of aluminum dissolved is 5 to 20 g /
It is preferable that the condition be m 2 . After the etching, pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing the smut after the electrochemical surface-roughening treatment, it is preferable to use 15 to 65% by weight of a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739.
And an alkali etching method described in JP-B-48-28123.

【0016】以上のようにして処理されたアルミニウム
支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。陽極酸化処
理はこの分野で従来より行われている方法で行うことが
できる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等から選ばれ
た少なくとも一種を含む水溶液または非水溶液中でアル
ミニウム支持体に直流または交流を流すことにより、ア
ルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することが
できる。陽極酸化処理の条件は使用される電解液によっ
て種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的に
は電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電
流密度0.5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電
解時間10〜100秒の範囲が好ましい。これらの陽極
酸化処理のうちでも、特に英国特許第1,412,76
8号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極
酸化する方法および米国特許3,511,661号公報
に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方
法が好ましい。本発明においては、陽極酸化皮膜は1〜
10g/m2であることが好ましく、より好ましくは、
1.5〜7g/m2である。更に好ましくは、2〜5g
/m2である。上記の陽極酸化皮膜は、その表面にマイ
クロポアと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成さ
れている。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの密度
は、処理条件を適宜選択することによって調整すること
ができる。
The aluminum support thus treated is further subjected to an anodic oxidation treatment. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally performed in this field. Specifically, by flowing a direct current or an alternating current to an aluminum support in an aqueous solution or a non-aqueous solution containing at least one selected from sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, and the like, aluminum An anodized film can be formed on the surface of the support. The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolytic solution to be used, and thus cannot be unconditionally determined. The range of 5 to 60 A / dm 2 , the voltage of 1 to 100 V, and the electrolysis time of 10 to 100 seconds is preferable. Among these anodizing treatments, in particular, British Patent No. 1,412,76
No. 8, a method of anodizing with high current density in sulfuric acid and a method of anodizing phosphoric acid as an electrolytic bath described in US Pat. No. 3,511,661 are preferred. In the present invention, the anodic oxide film is 1 to
It is preferably 10 g / m 2 , more preferably
1.5 to 7 g / m 2 . More preferably, 2 to 5 g
/ M 2 . The above-mentioned anodic oxide film has fine concave portions called micropores formed uniformly on its surface. The density of the micropores present in the anodic oxide film can be adjusted by appropriately selecting the processing conditions.

【0017】本発明においては、陽極酸化処理の後、マ
イクロポアのポア径を拡げる目的で酸又はアルカリ水溶
液によって処理(ポアワイド処理)することを特徴の一
つとする。この処理は、陽極酸化皮膜が形成されたアル
ミニウム基板を酸又はアルカリ水溶液に浸漬し、陽極酸
化皮膜を溶解する処理であり、その結果マイクロポアの
ポア径が拡大される。このポアワイド処理は、陽極酸化
皮膜の溶解量として、好ましくは0.05〜20g/m
2、より好ましくは0.1〜5g/m2、特に好ましくは
0.2〜4g/m2の範囲で行われる。
One of the features of the present invention is that after the anodizing treatment, the micropore is treated with an acid or alkali aqueous solution (pore widening treatment) in order to increase the pore diameter. This treatment is a treatment in which the aluminum substrate on which the anodized film is formed is immersed in an acid or alkali aqueous solution to dissolve the anodized film, and as a result, the pore diameter of the micropore is enlarged. This pore widening treatment is preferably performed in an amount of 0.05 to 20 g / m
2 , more preferably 0.1 to 5 g / m 2 , particularly preferably 0.2 to 4 g / m 2 .

【0018】上記の陽極酸化皮膜を溶解するポアワイド
処理条件として、以下の条件範囲が望ましい。この範囲
内で、良好なポアワイド処理ができる。具体的条件範囲
として、酸水溶液で処理する場合には、硫酸、リン酸な
どの無機酸またはこれらの混合物の水溶液を用いること
が好ましく、濃度としては、好ましくは10〜500g
/l、より好ましくは20〜100g/l、温度として
は、好ましくは10〜90℃、より好ましくは40〜7
0℃、浸漬処理時間としては、好ましくは10〜300
秒、より好ましくは30〜120秒である。一方、アル
カリ水溶液で処理する場合には、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、及び水酸化リチウムから選ばれた少なく
とも一つの水溶液を用いることが好ましく、その水溶液
のpHとしては、好ましくは11〜13、より好ましく
は11.5〜12.5であり、温度としては、好ましく
は10〜90℃、より好ましくは30〜50℃、浸漬処
理時間としては、好ましくは5〜300秒、より好まし
くは10〜30秒である。
As the conditions for the pore widening treatment for dissolving the anodic oxide film, the following condition ranges are desirable. Within this range, good pore wide processing can be performed. As a specific condition range, when treating with an aqueous acid solution, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid or phosphoric acid or a mixture thereof, and the concentration is preferably 10 to 500 g.
/ L, more preferably 20 to 100 g / l, and the temperature is preferably 10 to 90 ° C, more preferably 40 to 7 ° C.
0 ° C., the immersion time is preferably 10 to 300
Seconds, more preferably 30 to 120 seconds. On the other hand, when treating with an alkaline aqueous solution, it is preferable to use at least one aqueous solution selected from sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide, and the pH of the aqueous solution is preferably 11 to 13, The temperature is more preferably 11.5 to 12.5, and the temperature is preferably 10 to 90 ° C, more preferably 30 to 50 ° C, and the immersion time is preferably 5 to 300 seconds, more preferably 10 to 90 ° C. 30 seconds.

【0019】本発明においては、ポアワイド処理後、必
要に応じて親水性化合物を含有する水溶液への浸漬処理
による親水性表面処理を施しても良い。好適な親水性化
合物としては、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を
有する化合物、又は糖類化合物を挙げることができる。
In the present invention, after the pore widening treatment, if necessary, a hydrophilic surface treatment by immersion in an aqueous solution containing a hydrophilic compound may be performed. Suitable hydrophilic compounds include polyvinyl phosphonic acid, compounds having a sulfonic acid group, and saccharide compounds.

【0020】スルホン酸基を有する化合物としては、芳
香族スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それら
の誘導体及び塩が含まれる。芳香族スルホン酸として
は、フェノールスルホン酸、カテコールスルホン酸、レ
ソルシノールスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、リグニンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、アセナフテン−5−スルホン酸、フェナントレン
−2−スルホン酸、ベンズアルデヒド−2(または3)
−スルホン酸、ベンズアルデヒド−2,4(または3,
5)−ジスルホン酸、オキシベンジルスルホン酸類、ス
ルホ安息香酸、スルファニル酸、ナフチオン酸、タウリ
ンなどが用いられる。これらの中でベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン酸及びそ
れらのホルムアルデヒド縮合物が特に好ましい。さらに
スルホン酸塩として使用してもよく、例えば、ナトリウ
ム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネ
シウム塩等が挙げられる。中でもナトリウム塩、カリウ
ム塩の水溶液が特に望ましい。上記化合物を含有する水
溶液のpHは、4〜6.5が好ましく、硫酸、水酸化ナ
トリウム、アンモニア等でこのpH範囲に調整すること
ができる。
The compounds having a sulfonic acid group include aromatic sulfonic acids, formaldehyde condensates thereof, derivatives and salts thereof. As the aromatic sulfonic acid, phenolsulfonic acid, catecholsulfonic acid, resorcinolsulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, ligninsulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, acenaphthene-5-sulfonic acid, phenanthrene-2-sulfonic acid, Benzaldehyde-2 (or 3)
Sulfonic acid, benzaldehyde-2,4 (or 3,
5) -Disulfonic acid, oxybenzylsulfonic acids, sulfobenzoic acid, sulfanilic acid, naphthonic acid, taurine and the like are used. Among these, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, ligninsulfonic acid and their formaldehyde condensates are particularly preferred. Further, it may be used as a sulfonate, and examples thereof include a sodium salt, a potassium salt, a lithium salt, a calcium salt, and a magnesium salt. Among them, aqueous solutions of sodium salts and potassium salts are particularly desirable. The pH of the aqueous solution containing the above compound is preferably 4-6.5, and can be adjusted to this pH range with sulfuric acid, sodium hydroxide, ammonia or the like.

【0021】又、糖類化合物としては、単糖類とその糖
アルコール、オリゴ糖類、多糖類及び配糖体を包含す
る。単糖類では、グリセロール等のトリオース類及び糖
アルコール類、トレオースやエリトリトール等のテトロ
ース及び糖アルコール類、アラビノースやアラビトール
等のペントース及び糖アルコール類、グルコースやソル
ビトール等のヘキソース及び糖アルコール類、D−グリ
セロ−D−ガラクトヘプトースやD−グリセロ−D−ガ
ラクトヘプチトール等のヘプトース及び糖アルコール
類、D−エリトロ−D−ガラクトオクチトール等のオク
トース、D−エリトロ−L−グルコ−ノヌロース等のノ
ノースを挙げることができる。オリゴ糖類としては、サ
ッカロース、トレハロース、ラクトースのような二糖
類、ラフィノースのような三糖類が挙げられる。多糖類
としては、アミロース、アラビナン、シクロデキストリ
ン、アルギン酸セルロース等が挙げられる。
The saccharide compounds include monosaccharides and their sugar alcohols, oligosaccharides, polysaccharides and glycosides. Monosaccharides include trioses and sugar alcohols such as glycerol, tetroses and sugar alcohols such as threose and erythritol, pentoses and sugar alcohols such as arabinose and arabitol, hexoses and sugar alcohols such as glucose and sorbitol, and D-glycero. -Heptose and sugar alcohols such as -D-galactoheptose and D-glycero-D-galactoheptitol, octose such as D-erythro-D-galactooctitol, and nonose such as D-erythro-L-gluco-nonulose. Can be mentioned. Oligosaccharides include disaccharides such as saccharose, trehalose and lactose, and trisaccharides such as raffinose. Examples of the polysaccharide include amylose, arabinan, cyclodextrin, cellulose alginate and the like.

【0022】上記配糖体とは、糖部分と非糖部がエーテ
ル結合等を介して結合している化合物をいう。これらの
配糖体は非糖部分により分類することができ、その例と
してアルキル配糖体、フェノール配糖体、クマリン配糖
体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド配糖体、アン
トラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、ステロイド配
糖体、からし油配糖体等を挙げることができる。糖部分
としては単糖類、オリゴ糖類、多糖類を挙げることがで
きる。単糖類としてはグリセロール等のトリオース類及
び糖アルコール類、トレオースやエリトリトール等のテ
トロース及び糖アルコール類、アラビノースやアラビト
ール等のペントース及び糖アルコール類、グルコースや
ソルビトール等のヘキソース及び糖アルコール類、D−
グリセロ−D−ガラクトヘプトースやD−グリセロ−D
−ガラクトヘプチトール等のヘプトース及び糖アルコー
ル類、D−エリトロ−D−ガラクトオクチトール等のオ
クトース、D−エリトロ−L−グルコ−ノヌロース等の
ノノースを挙げることができる。オリゴ糖類としては、
サッカロース、トレハロース、ラクトースのような二糖
類、ラフィノースのような三糖類が挙げられる。多糖類
としては、アミロース、アラビナン、シクロデキストリ
ン、アルギン酸セルロース等を挙げることができる。糖
部分としては単糖又はオリゴ糖が好ましく、より好まし
くは単糖又は二糖である。好ましい配糖体の例として下
記一般式(I)の化合物を挙げることができる。
The glycoside is a compound in which a sugar moiety and a non-sugar moiety are linked via an ether bond or the like. These glycosides can be classified according to non-sugar moieties, such as alkyl glycosides, phenolic glycosides, coumarin glycosides, oxycoumarin glycosides, flavonoid glycosides, anthraquinone glycosides, Examples include triterpene glycosides, steroid glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar moiety include monosaccharides, oligosaccharides, and polysaccharides. As monosaccharides, trioses and sugar alcohols such as glycerol, tetroses and sugar alcohols such as threose and erythritol, pentoses and sugar alcohols such as arabinose and arabitol, hexoses and sugar alcohols such as glucose and sorbitol, D-
Glycero-D-galactoheptose and D-glycero-D
-Heptose and sugar alcohols such as -galactoheptitol, octose such as D-erythro-D-galactooctitol, and nonose such as D-erythro-L-gluco-nonulose. As oligosaccharides,
Examples include disaccharides such as saccharose, trehalose and lactose, and trisaccharides such as raffinose. Examples of the polysaccharide include amylose, arabinan, cyclodextrin, cellulose alginate and the like. The sugar moiety is preferably a monosaccharide or an oligosaccharide, and more preferably a monosaccharide or a disaccharide. Examples of preferred glycosides include compounds of the following general formula (I).

【0023】[0023]

【化1】 Embedded image

【0024】(式(I)中、Rは炭素原子数1〜20の
直鎖もしくは分枝の、アルキル基、アルケニル基又はア
ルキニル基を表す。)
(In the formula (I), R represents a linear or branched alkyl group, alkenyl group or alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms.)

【0025】上記一般式(I)のRで表される炭素原子
数1〜20のアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、エイコシル基などが挙げられ、これらアルキル
基は直鎖又は分枝していてもよく、環状アルキル基でも
よい。アルケニル基としては、例えばアリル、2−ブテ
ニル基など、アルキニル基としては、例えば1−ペンチ
ニル基が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R in the general formula (I) include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, Examples include undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl and eicosyl groups. These alkyl groups may be linear or branched, or may be cyclic alkyl groups. Examples of the alkenyl group include an allyl and a 2-butenyl group, and examples of the alkynyl group include a 1-pentynyl group.

【0026】上記一般式(I)で表される具体的な化合
物として、例えばメチルグルコシド、エチルグルコシ
ド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブ
チルグルコシド、イソブチルグルコシド、n−ヘキシル
グルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシ
ド、デシルグルコシド、2−エチルヘキシルグルコシ
ド、2−ペンチルノニルグルコシド、2−ヘキシルデシ
ルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコ
シド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシ
ド、2−ブチニルグルコシドが挙げられる。これらの化
合物は、配糖体の一種であるグルコシドで、ブドウ糖の
ヘミアセタール水酸基が他の化合物をエーテル状に結合
したものであり、例えばグルコースとアルコール類を反
応させる公知の方法により得ることができる。これらの
アルキルグルコシドの一部はドイツHenkel社で商
品名グルコポン(GLUCOPON)として市販されて
おり、本発明ではそれを使用することができる。好まし
い配糖体の別の例として、サポニン類、ルチントリハイ
ドレート、ヘスペリジンメチルカルコン、ヘスペリジ
ン、ナリジンハイドレート、フェノール−β−D−グル
コピラノシド、サリシン、3´,5,7−メトキシ−7
−ルチノシドを挙げることができる。
Specific compounds represented by the above general formula (I) include, for example, methyl glucoside, ethyl glucoside, propyl glucoside, isopropyl glucoside, butyl glucoside, isobutyl glucoside, n-hexyl glucoside, octyl glucoside, caprylic glucoside, decyl Examples include glucoside, 2-ethylhexyl glucoside, 2-pentyl nonyl glucoside, 2-hexyl decyl glucoside, lauryl glucoside, myristyl glucoside, stearyl glucoside, cyclohexyl glucoside, and 2-butynyl glucoside. These compounds are glucosides, which are a kind of glycosides, in which the hemiacetal hydroxyl group of glucose is linked to another compound in an ether state, and can be obtained, for example, by a known method of reacting glucose with alcohols. . Some of these alkyl glucosides are marketed under the trade name GLUCOPON by Henkel, Germany, and can be used in the present invention. Other examples of preferred glycosides include saponins, rutin trihydrate, hesperidin methyl chalcone, hesperidin, narizine hydrate, phenol-β-D-glucopyranoside, salicin, 3 ′, 5,7-methoxy-7.
-Rutinoside.

【0027】上記化合物を含有する水溶液のpH調整
は、水酸化カリウム、硫酸、炭酸、炭酸ナトリウム、リ
ン酸、リン酸ナトリウムで行うことができ、pHは8〜
11が好ましい。
The pH of the aqueous solution containing the above compound can be adjusted with potassium hydroxide, sulfuric acid, carbonic acid, sodium carbonate, phosphoric acid, and sodium phosphate.
11 is preferred.

【0028】ポリビニルホスホン酸水溶液は、濃度0.
1〜5重量%が好ましく、0.2〜2.5%がより好ま
しい。浸漬温度は10〜70℃が好ましく、30〜60
℃がより好ましい。浸漬時間は1〜20秒が好ましい。
又、スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、濃度0.
02〜0.2重量%が好ましく、浸漬温度は60〜10
0℃が好ましい。浸漬時間は1〜300秒が好ましく、
より好ましくは10〜100秒である。さらに、糖類の
水溶液は、濃度0.5〜10重量%が好ましく、浸漬温
度は40〜70℃が好ましい。浸漬時間は2〜300秒
が好ましく、より好ましくは5〜30秒である。
The aqueous solution of polyvinyl phosphonic acid has a concentration of 0.
It is preferably from 1 to 5% by weight, more preferably from 0.2 to 2.5%. The immersion temperature is preferably from 10 to 70 ° C, and from 30 to 60 ° C.
C is more preferred. The immersion time is preferably from 1 to 20 seconds.
The aqueous solution of the compound having a sulfonic acid group has a concentration of 0.1.
Preferably, the immersion temperature is 60 to 10%.
0 ° C. is preferred. Immersion time is preferably 1 to 300 seconds,
More preferably, it is 10 to 100 seconds. Further, the concentration of the aqueous solution of the saccharide is preferably 0.5 to 10% by weight, and the immersion temperature is preferably 40 to 70 ° C. The immersion time is preferably from 2 to 300 seconds, more preferably from 5 to 30 seconds.

【0029】又、親水性化合物を含有する水溶液とし
て、上記のような有機化合物の水溶液による処理のみで
なく、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液、フッ化ジルコニウ
ムカリウム(K2ZrF6)水溶液やリン酸塩/無機フッ
素化合物を含む水溶液などの無機化合物水溶液による処
理も好適である。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液処理は、
アルカリ金属ケイ酸塩の濃度が好ましくは1〜30重量
%、より好ましくは2〜15重量%であり、25℃での
pHが10〜13である水溶液に、好ましくは50〜9
0℃で0.5〜40秒間、より好ましくは1〜20秒間
浸漬する。
As the aqueous solution containing the hydrophilic compound, not only the treatment with the aqueous solution of the organic compound as described above, but also an aqueous solution of an alkali metal silicate, an aqueous solution of potassium zirconium fluoride (K 2 ZrF 6 ) or a phosphate Treatment with an aqueous solution of an inorganic compound such as an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is also suitable. The alkali metal silicate aqueous solution treatment
The concentration of the alkali metal silicate is preferably 1 to 30% by weight, more preferably 2 to 15% by weight, and an aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C, preferably 50 to 9%.
Immerse at 0 ° C. for 0.5 to 40 seconds, more preferably 1 to 20 seconds.

【0030】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ムなどが使用され、中でもケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウムが好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpH
を高くするために使用される水酸化物としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがあ
り、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが使
用される。なお、上記処理液にアルカリ土類金属塩又は
第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩
としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸
マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸
塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩
等の水溶性塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四
塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シ
ュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、
塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩
化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム等を挙げることが
できる。アルカリ土類金属又は第IVB族金属塩は、単独
又は2種以上組み合わせて使用することができる。フッ
化ジルコニウムカリウム水溶液処理は、濃度0.1〜1
0重量%が好ましく、0.5〜2重量%がより好まし
い。浸漬温度は30〜80℃が好ましい。浸漬時間は6
0〜180秒が好ましい。
As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used, and among them, sodium silicate and potassium silicate are preferable. PH of alkali metal silicate aqueous solution
Examples of the hydroxide used to increase the value include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like, and preferably, sodium hydroxide and potassium hydroxide are used. In addition, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above treatment liquid. Examples of the alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates, borates, and the like. Is mentioned. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide,
Examples thereof include zirconium chloride oxide, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, and zirconium tetrachloride. The alkaline earth metal or Group IVB metal salt can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the aqueous solution of potassium zirconium fluoride is 0.1 to 1
0% by weight is preferable, and 0.5 to 2% by weight is more preferable. The immersion temperature is preferably from 30 to 80C. Immersion time is 6
0 to 180 seconds is preferred.

【0031】リン酸塩/無機フッ素化合物処理は、リン
酸塩化合物5〜20重量%、無機フッ素化合物0.01
〜1重量%の水溶液を用いるのが好ましく、pHは3〜
5に調整する。浸漬温度は30〜90℃が好ましく、浸
漬時間は2〜300秒が好ましく、より好ましくは5〜
30秒である。
The phosphate / inorganic fluorine compound treatment was carried out by treating the phosphate compound with 5 to 20% by weight and the inorganic fluorine compound with 0.01%.
It is preferable to use an aqueous solution having a pH of 3 to 1% by weight.
Adjust to 5. The immersion temperature is preferably 30 to 90 ° C., and the immersion time is preferably 2 to 300 seconds, more preferably 5 to 90 seconds.
30 seconds.

【0032】リン酸塩としては、アルカリ金属及びアル
カリ土類金属といった金属のリン酸塩が挙げられる。具
体的には、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸ア
ンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素
アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウ
ム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン
酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アン
モニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸
マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二
水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナト
リウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水
素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、
リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸
ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリ
ブデン酸ナトリウムが挙げられる。又、亜リン酸ナトリ
ウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウ
ムを挙げることができる。好ましくはリン酸二水素ナト
リウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウ
ム、リン酸水素二カリウムを用いることができる。
Examples of the phosphate include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals. Specifically, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, potassium dihydrogen phosphate, Dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, ammonium sodium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, disodium hydrogen phosphate , Lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid,
Examples include ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, and sodium phosphomolybdate. Further, sodium phosphite, sodium tripolyphosphate and sodium pyrophosphate can be mentioned. Preferably, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate can be used.

【0033】無機フッ素化合物としては金属フッ化物が
好適である。具体的には、フッ化ナトリウム、フッ化カ
リウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、ヘキ
サフルオロジルコニウムナトリウム、ヘキサフルオロジ
ルコニウムカリウム、ヘキサフルオロチタン酸ナトリウ
ム、ヘキサフルオロチタン酸カリウム、ヘキサフルオロ
ジルコニウム水素酸、ヘキサフルオロチタン水素酸、ヘ
キサフルオロジルコニウムアンモニウム、ヘキサフルオ
ロチタン酸アンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸、フッ
化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸ア
ンモニウム等が挙げられる。本発明において、水溶液
中、リン酸塩及び無機フッ素化合物はそれぞれ、1種又
は2種以上含有させてもよい。これらの水溶液への浸漬
処理後は、全て基板は水などによって洗浄され、乾燥さ
れる。
As the inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferred. Specifically, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium hexafluorozirconium, potassium hexafluorozirconium, sodium hexafluorotitanate, potassium hexafluorotitanate, hexafluorozirconium hydrochloride, hexafluorozirconium Examples include hydrofluorotitanic acid, ammonium hexafluorozirconium, ammonium hexafluorotitanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphoric acid phosphoric acid, and ammonium fluoride phosphate. In the present invention, the aqueous solution may contain one or more of the phosphate and the inorganic fluorine compound. After the immersion treatment in these aqueous solutions, all the substrates are washed with water or the like and dried.

【0034】本発明においては、ポアワイド処理後、カ
ルボン酸基又はカルボキシラト基を有する水溶性樹脂と
亜鉛、カルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロン
チウム、コバルト、マンガン及びニッケルから選ばれた
少なくとも一種の金属の水溶性塩を含有する下塗り層を
有することをもう一つの特徴とする。
In the present invention, the water-soluble resin having a carboxylic acid group or a carboxylate group and a water-soluble resin of at least one metal selected from zinc, calcium, magnesium, barium, strontium, cobalt, manganese and nickel after the pore widening treatment. Another feature is that it has an undercoat layer containing a neutral salt.

【0035】本発明に好適なカルボキシル基又はカルボ
キシラト基を有する水溶性樹脂としては、ポリアクリル
酸、アルギン酸ソーダ、カルボン酸変性澱粉、水溶性の
カルボキシアルキルセルロースの塩を挙げることができ
る。水溶性のカルボキシアルキルセルロースの塩として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエ
チルセルロース又はカルボキシプロピルセルロースの塩
であり、カリウム又はナトリウムの塩等が好ましい。更
に別の好適なカルボキシル基又はカルボキシラト基を有
する水溶性樹脂としては、アクリルアミドと(メタ)ア
クリル酸の共重合体、ビニルピロリドンと(メタ)アク
リル酸の共重合体、酢酸ビニルと無水マレイン酸共重合
体の加水分解物、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ートと(メタ)アクリル酸の共重合体等のカルボキシル
基を有するモノマーの共重合体又はそのナトリウム塩や
カリウム塩などの水溶性塩を挙げることができる。
Examples of the water-soluble resin having a carboxyl group or a carboxylate group suitable for the present invention include polyacrylic acid, sodium alginate, carboxylic acid-modified starch, and water-soluble salts of carboxyalkyl cellulose. Examples of the water-soluble salt of carboxyalkylcellulose include carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose and carboxypropylcellulose, and potassium or sodium salts are preferred. Still other suitable water-soluble resins having a carboxyl group or a carboxylate group include copolymers of acrylamide and (meth) acrylic acid, copolymers of vinylpyrrolidone and (meth) acrylic acid, and vinyl acetate and maleic anhydride. Examples include a hydrolyzate of a copolymer, a copolymer of a monomer having a carboxyl group such as a copolymer of hydroxyalkyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid, or a water-soluble salt such as a sodium salt or a potassium salt thereof. Can be.

【0036】本発明の下塗り層に用いられる金属の水溶
性塩としては、有機酸又は無機酸で形成された亜鉛、カ
ルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチウム、
コバルト、マンガン及びニッケルから選ばれた一種の金
属の水溶性塩がある。代表的有機酸塩は、サリチル酸、
安息香酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸及びフマル酸等の
カルボン酸の塩、及びアセチルアセトネートを挙げるこ
とができる。代表的無機酸塩は、臭素酸塩、臭化物、塩
素酸塩、塩化物、ジチオン酸塩、ヨウ化物、硝酸塩及び
硫酸塩である。
The water-soluble salt of a metal used in the undercoat layer of the present invention includes zinc, calcium, magnesium, barium, strontium and organic or inorganic acid.
There is a water-soluble salt of a metal selected from cobalt, manganese and nickel. Representative organic acid salts are salicylic acid,
Mention may be made of salts of carboxylic acids such as benzoic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid and fumaric acid, and acetylacetonate. Representative inorganic acid salts are bromate, bromide, chlorate, chloride, dithionate, iodide, nitrate and sulfate.

【0037】下塗り層は、カルボキシル基又はカルボキ
シラト基を有する水溶性樹脂と上記の金属水溶性塩を含
有するが、両者の混合溶液を塗布することによって設け
ても良いし、又は、水溶性樹脂の溶液を塗布した後、そ
の上に金属水溶性塩の溶液を塗布するか、もしくはその
逆の順序で別々に塗布して設けても良い。好適な下塗り
層塗布組成物(下塗り液)は、水溶液として製造でき
る。これに、必要に応じてアルコールやケトンのような
有機溶媒を加えることができる。下塗り液の固形分濃度
は、0.15〜0.75重量%〔水溶性樹脂が約0.1
〜約0.5重量%及び金属の水溶性塩が約0.05〜約
0.25重量%〕が好ましく、より好ましくい固形分濃
度は、0.2〜0.6重量%である。下塗り層の乾燥塗
布重量は、1〜100mg/m2が好ましく、5〜50
mg/m2がより好ましい。この範囲内で良好なインキ
払い性及び感熱層との接着性が得られる。
The undercoat layer contains a water-soluble resin having a carboxyl group or a carboxylate group and the above-mentioned metal water-soluble salt, and may be provided by applying a mixed solution of both, or And then a solution of a water-soluble metal salt may be applied thereon, or may be applied separately in the reverse order. A suitable undercoat layer coating composition (undercoat liquid) can be produced as an aqueous solution. To this, an organic solvent such as alcohol or ketone can be added as needed. The solid content concentration of the undercoat liquid is 0.15 to 0.75% by weight [water-soluble resin is about 0.1%.
To about 0.5% by weight and the water-soluble salt of the metal is about 0.05 to about 0.25% by weight], and more preferably the solid concentration is 0.2 to 0.6% by weight. The dry coating weight of the undercoat layer is preferably from 1 to 100 mg / m 2 ,
mg / m 2 is more preferred. Within this range, good ink-wiping properties and adhesion to the heat-sensitive layer can be obtained.

【0038】この親水性下塗りにより、陽極酸化処理後
のポアワイド処理で向上した接着性と引き替えに発生す
るインキ払い性劣化等の印刷汚れ問題が解消される。す
なわち、一般にポア径が拡大すると、印刷時、特に印刷
機が停止し、印刷版が印刷機上で放置された後の印刷再
スタート時に、インキが取れにくくなる現象(インキ払
い性劣化)が発生しやすくなるが、本下塗りが施されて
いると、表面の親水性が向上するるため、このインキ払
い性劣化問題が軽減される。
By this hydrophilic undercoat, problems of printing stains such as deterioration of ink dispensing property which occur in exchange for the adhesiveness improved by the pore widening treatment after the anodic oxidation treatment are solved. In other words, generally, when the pore diameter is enlarged, a phenomenon that it is difficult to remove ink (deterioration of ink dispensing property) occurs at the time of printing, particularly when the printing press is stopped and printing is restarted after the printing plate has been left on the printing press. However, when the undercoat is applied, the hydrophilicity of the surface is improved, so that the problem of deterioration of ink dispensing property is reduced.

【0039】本発明の感熱層は、熱により溶融する疎水
性熱可塑性ポリマー微粒子および親水性バインダーポリ
マーを含有する。
The heat-sensitive layer of the present invention contains fine particles of a hydrophobic thermoplastic polymer melted by heat and a hydrophilic binder polymer.

【0040】本発明の感熱層に用いられる疎水性熱可塑
性ポリマー微粒子は、好適には35℃以上の、そしてよ
り好適には50℃以上の凝固温度を有する。本発明に用
いられる熱可塑性疎水性ポリマー微粒子の凝固温度には
特別な上限はないが、この温度はポリマー微粒子の分解
点より十分低くなくてはならない。該ポリマー微粒子を
凝固温度より上の温度に上げると、それらは溶融合体し
て感熱層中で疎水性集塊を生成する。そのためこれらの
部分では水または水性液体に不溶性となり、インキ受容
性となる。
The hydrophobic thermoplastic polymer particles used in the heat-sensitive layer of the present invention preferably have a solidification temperature of 35 ° C. or more, and more preferably 50 ° C. or more. Although there is no particular upper limit on the solidification temperature of the thermoplastic hydrophobic polymer fine particles used in the present invention, this temperature must be sufficiently lower than the decomposition point of the polymer fine particles. When the polymer particulates are raised above the coagulation temperature, they fuse and coalesce to form hydrophobic agglomerates in the thermosensitive layer. Therefore, these portions become insoluble in water or an aqueous liquid and become ink-receptive.

【0041】本発明の感熱層に用いられる疎水性微粒子
を構成する疎水性ポリマーの具体例として、例えば、エ
チレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカル
バゾールなどのモノマーからのホモポリマーまたはコポ
リマーあるいはそれらの混合物を挙げることができる。
その中で特に好適なものとして、ポリスチレン、ポリメ
タクリル酸メチルを挙げることができる。
As specific examples of the hydrophobic polymer constituting the hydrophobic fine particles used in the heat-sensitive layer of the present invention, for example, ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Mention may be made of homopolymers or copolymers from monomers such as vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole or mixtures thereof.
Among them, polystyrene and polymethyl methacrylate are particularly preferable.

【0042】本発明の感熱層に用いられる疎水性ポリマ
ーの重量平均分子量は5,000〜1,000,000の
範囲であってよい。
[0042] The weight average molecular weight of the hydrophobic polymer used in the heat-sensitive layer of the present invention may be in the range of 5,000 to 1,000,000.

【0043】本発明の疎水性微粒子は0.01〜50μ
mの、より好適には0.05〜10μmの、そして最も
好適には0.05〜2μmの粒子径を有していてよい。
The hydrophobic fine particles of the present invention have a particle size of 0.01 to 50 μm.
m, more preferably from 0.05 to 10 μm, and most preferably from 0.05 to 2 μm.

【0044】感熱層中に含有される疎水性熱可塑性ポリ
マー微粒子の量は、好適には感熱層固形分の20〜65
重量%の間、そしてより好適には25〜55重量%の
間、そして最も好適には30〜45重量%の間である。
The amount of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles contained in the heat-sensitive layer is preferably from 20 to 65% of the solid content of the heat-sensitive layer.
% By weight, and more preferably between 25 and 55% by weight, and most preferably between 30 and 45% by weight.

【0045】親水性バインダーポリマーとしては、例え
ばヒドロキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル
基、アミド基、カルボキシル基、カルボキシメチル基、
カルボキシラト基などの親水基を有するものが好まし
い。
Examples of the hydrophilic binder polymer include a hydroxyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, an amino group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, an amide group, a carboxyl group, a carboxymethyl group,
Those having a hydrophilic group such as a carboxylate group are preferred.

【0046】親水性バインダーポリマーの具体例とし
て、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、
カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、
セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビ
ニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸
コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポ
リメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒド
ロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマ
ーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメ
タクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロ
キシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマ
ー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレン
ポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分
解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも8
0重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマ
ー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、
N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコ
ポリマー等を挙げることができる。
Specific examples of the hydrophilic binder polymer include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives,
Carboxymethylcellulose and its sodium salt,
Cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate Homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, Polyvinyl alcohols, and the degree of hydrolysis is at least 0 wt%, preferably at least 8
0% by weight of hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide,
Examples thereof include homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide.

【0047】親水性バインダーポリマーの感熱層への添
加量は、感熱層固形分の5〜40重量%が好ましく、1
0〜30重量%がさらに好ましい。この範囲内で、良好
な機上現像性と皮膜強度が得られる。
The amount of the hydrophilic binder polymer to be added to the heat-sensitive layer is preferably 5 to 40% by weight based on the solid content of the heat-sensitive layer.
0-30% by weight is more preferred. Within this range, good on-press developability and film strength can be obtained.

【0048】本発明の感熱層は、感度を向上させるた
め、赤外線を吸収して発熱する光熱変換剤を含有するこ
とができる。かかる光熱変換剤としては、700〜12
00nmの少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質
であればよく、種々の顔料、染料および金属微粒子を用
いることができる。
The heat-sensitive layer of the present invention may contain a photothermal conversion agent that absorbs infrared rays and generates heat to improve sensitivity. As such a photothermal conversion agent, 700 to 12
Any light absorbing substance having an absorption band in at least a part of 00 nm may be used, and various pigments, dyes and metal fine particles can be used.

【0049】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
Examples of the type of the pigment include a black pigment, a brown pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, a metal powder pigment, and a polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like.

【0050】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカ
ゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、イソシアナート化合物等)を顔料表面に結合さ
せる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金
属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」
(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線を発
光するレーザでの利用に適する点で好ましい。かかる赤
外線を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好まし
い。顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲にあるこ
とが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範囲にある
ことが更に好ましい。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (eg, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent, an epoxy compound, an isocyanate compound, and the like). Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo), "Printing Ink Technology"
(CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).
Among these pigments, those that absorb infrared rays are preferred because they are suitable for use in lasers that emit infrared rays. As such a pigment absorbing infrared rays, carbon black is preferable. The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm.

【0051】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の
「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市
場動向」第2章2.3項(1990)シーエムシー)又
は特許に記載されている公知の染料が利用できる。具体
的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ
染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カル
ボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シ
アニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
Examples of the dye include commercially available dyes and literatures (for example, “Near-Infrared Absorbing Dyes” in “Chemical Industry”, May 1986, p. , "Development and Market Trend of 90s Functional Dyes", Chapter 2, Section 2.3 (1990), CM) or patents can be used. Specifically, infrared absorbing dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, polymethine dyes, and cyanine dyes are preferred.

【0052】さらに、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭60−787
87号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−
173696号、特開昭58−181690号、特開昭
58−194595号等に記載されているメチン染料、
特開昭58−112793号、特開昭58−22479
3号、特開昭59−48187号、特開昭59−739
96号、特開昭60−52940号、特開昭60−63
744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭
58−112792号等に記載されているスクワリリウ
ム染料、英国特許434,875号記載のシアニン染料
や米国特許第4,756,993号記載の染料、米国特
許第4,973,572号記載のシアニン染料、特開平
10−268512号記載の染料、特開平11−235
883号記載のフタロシアニン化合物を挙げることがで
きる。
Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-12524
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-60-787
No. 87, etc .;
173696, JP-A-58-181690, methine dyes described in JP-A-58-194595, and the like;
JP-A-58-112793, JP-A-58-22479
No. 3, JP-A-59-48187, JP-A-59-739
No. 96, JP-A-60-52940, JP-A-60-63
744, etc .; squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc .; cyanine dyes described in British Patent 434,875; and dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993. And cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,973,572, dyes described in JP-A-10-268512, JP-A-11-235.
No. 883.

【0053】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開
昭58−181051号、同58−220143号、同
59−41363号、同59−84248号、同59−
84249号、同59−146063号、同59−14
6061号に記載されているピリリウム系化合物、特開
昭59−216146号記載のシアニン染料、米国特許
第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩等や特公平5−13514号、同5−1970
2号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン
社製エポライトIII−178、エポライトIII−130、
エポライトIII−125等も好ましく用いられる。これ
らの中で、感熱層の親水性樹脂中などの親水性マトリッ
クス中に添加するのに好適な色素は水溶性色素で、以下
にいくつかの具体例を示す。
As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645, JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, and JP-A-59-84248.
No. 84249, No. 59-146063, No. 59-14
No. 6061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. No. 4,283,475, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. 5-70
No. 2, a pyrylium compound, Epolite III-178, Epolite III-130, manufactured by Eporin Co., Ltd.
Epolite III-125 and the like are also preferably used. Among these, a dye suitable for being added to a hydrophilic matrix such as a hydrophilic resin of a heat-sensitive layer is a water-soluble dye, and some specific examples are shown below.

【0054】[0054]

【化2】 Embedded image

【0055】[0055]

【化3】 Embedded image

【0056】本発明の感熱層の疎水性熱可塑性微粒子中
に添加する赤外線吸収色素としては、前記の赤外線吸収
色素であっても良いが、親油性の色素がより好ましい。
具体例として、以下の色素を挙げることができる。
As the infrared absorbing dye to be added to the hydrophobic thermoplastic fine particles of the heat-sensitive layer of the present invention, the above-mentioned infrared absorbing dye may be used, but a lipophilic dye is more preferable.
Specific examples include the following dyes.

【0057】[0057]

【化4】 Embedded image

【0058】[0058]

【化5】 Embedded image

【0059】上記の有機系の光熱変換剤は、感熱層中に
30重量%まで添加することができる。好ましくは5〜
25重量%であり、特に好ましくは7〜20重量%であ
る。この範囲内で、良好な感度が得られる。
The above-mentioned organic photothermal conversion agent can be added up to 30% by weight in the thermosensitive layer. Preferably 5
The content is 25% by weight, particularly preferably 7 to 20% by weight. Within this range, good sensitivity is obtained.

【0060】本発明の感熱層には、光熱変換剤として金
属微粒子も用いることができる。金属微粒子の多くは光
熱変換性であって、かつ自己発熱性であるが、好ましい
金属微粒子として、Si、Al、Ti、V、Cr、M
n、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、
Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、W、T
e、Pb、Ge、Re、Sbの単体もしくは合金、又
は、それらの酸化物または硫化物の微粒子が挙げられ
る。これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好まし
い金属は、光照射時に熱による合体をし易い、融点がお
よそ1000℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸
収をもつ金属、例えば、Re、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、PbおよびSnである。また、特に好
ましいのは、融点も比較的低く、赤外線に対する吸光度
も比較的高い金属の微粒子、例えば、Ag、Au、C
u、Sb、GeおよびPbで、最も好ましい元素として
は、Ag、AuおよびCuが挙げられる。
In the heat-sensitive layer of the present invention, fine metal particles can also be used as a photothermal conversion agent. Most of the metal fine particles are light-heat converting and self-heating, but preferred metal fine particles include Si, Al, Ti, V, Cr, and M.
n, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Mo,
Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, Sn, W, T
e, Pb, Ge, Re, and Sb alone or as an alloy, or fine particles of oxides or sulfides thereof. Among the metals constituting these metal fine particles, preferred metals are those which are liable to be coalesced by heat at the time of light irradiation, and have a melting point of about 1000 ° C. or less and have absorption in the infrared, visible or ultraviolet region, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb and Sn. Particularly preferred are metal fine particles having a relatively low melting point and a relatively high absorbance to infrared rays, for example, Ag, Au, C
Among u, Sb, Ge and Pb, the most preferred elements include Ag, Au and Cu.

【0061】また、例えばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb、Snなどの低融点金属の微粒子
と、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Geなどの自
己発熱性金属の微粒子とを混合使用するなど、2種以上
の光熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ag、
Pt、Pdなど微小片としたときに光吸収が特に大きい
金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いる
ことも好ましい。
Further, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb, Sn and other low melting point metal particles and self-heating metal particles such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W and Ge. It may be made of a light-to-heat conversion material. Also, Ag,
It is also preferable to use a combination of a metal-type micro-piece and a metal-type micro-piece having a particularly large light absorption when made into a micro-piece such as Pt or Pd.

【0062】これらの粒子の粒径は、好ましくは10μ
m以下、より好ましくは0.003〜5μm、特に好ま
しくは0.01〜3μmである。この範囲内で、良好な
感度と解像力が得られる。
The size of these particles is preferably 10 μm.
m, more preferably 0.003 to 5 μm, particularly preferably 0.01 to 3 μm. Within this range, good sensitivity and resolution can be obtained.

【0063】本発明において、これらの金属微粒子を光
熱変換剤として用いる場合、その添加量は、好ましくは
感熱層固形分の10重量%以上であり、より好ましくは
20重量%以上、特に好ましくは30重量%以上で用い
られる。この範囲内で高い感度が得られる。
In the present invention, when these metal fine particles are used as a light-to-heat converting agent, the amount added is preferably at least 10% by weight, more preferably at least 20% by weight, particularly preferably at least 30% by weight of the solid content of the heat-sensitive layer. Used in weight percent or more. High sensitivity is obtained within this range.

【0064】上記の光熱変換剤は、感熱層の隣接層であ
る下塗り層や後述の水溶性オーバーコート層が含有して
もよい。感熱層、下塗り層およびオーバーコート層のう
ち少なくとも一つの層が光熱変換剤を含有することによ
り、赤外線吸収効率が高まり、感度を向上できる。
The photothermal conversion agent may contain an undercoat layer adjacent to the heat-sensitive layer or a water-soluble overcoat layer described later. When at least one of the heat-sensitive layer, the undercoat layer, and the overcoat layer contains a light-to-heat conversion agent, infrared absorption efficiency is increased and sensitivity can be improved.

【0065】本発明の感熱層は、必要に応じて、架橋剤
を含んでも良い。好適な架橋剤としては、メチロール基
を有する低分子化合物、例えばメラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、ヒダントイン−ホルムアルデヒド樹脂、チオ
尿素−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂を挙げることができる。
The heat-sensitive layer of the present invention may contain a crosslinking agent, if necessary. Suitable crosslinking agents include low molecular weight compounds having a methylol group, such as melamine-formaldehyde resin, hydantoin-formaldehyde resin, thiourea-formaldehyde resin, and benzoguanamine-formaldehyde resin.

【0066】本発明の感熱層には、さらに必要に応じて
上記以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、画
像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするた
め、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤と
して使用することができる。具体的には、オイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)等、及び特開昭62−293247号に記載されて
いる染料を挙げることができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、酸化チタン等の顔料も好適に用い
ることができる。添加量は、感熱層塗布液全固形分に対
し0.01〜10重量%が好ましい。
The heat-sensitive layer of the present invention may further contain various compounds other than those described above, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image in order to make it easy to distinguish between an image portion and a non-image portion after image formation. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) etc. and dyes described in JP-A-62-293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, and titanium oxide can be suitably used. The addition amount is preferably 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the heat-sensitive layer coating solution.

【0067】さらに、本発明の感熱層には、必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えるこ
とができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
Furthermore, a plasticizer can be added to the heat-sensitive layer of the present invention, if necessary, to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate,
Dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.

【0068】本発明の感熱層は、必要な上記各成分を溶
剤に溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用
する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これ
に限定されるものではない。これらの溶剤は、単独また
は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好まし
くは1〜50重量%である。
The heat-sensitive layer of the present invention is prepared by dissolving the above-mentioned necessary components in a solvent to prepare a coating solution. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate,
N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like, but are not limited thereto. is not. These solvents are used alone or as a mixture. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by weight.

【0069】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感
熱層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般
的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。この範囲より
塗布量が少なくなると、見かけの感度は大になるが、画
像記録の機能を果たす感熱層の皮膜特性は低下する。塗
布する方法としては、種々の方法を用いることができ
る。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
The coating amount (solid content) of the heat-sensitive layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 . When the amount of coating is smaller than this range, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the heat-sensitive layer that performs the function of image recording deteriorate. Various methods can be used as a method of applying. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating,
Examples include blade coating and roll coating.

【0070】感熱層塗布液には、塗布性を良化するため
の界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号に
記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加するこ
とができる。好ましい添加量は、感熱層全固形分の0.
01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重
量%である。
A surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added to the coating solution for the heat-sensitive layer. A preferable addition amount is 0.1% of the total solid content of the heat-sensitive layer.
The content is from 01 to 1% by weight, more preferably from 0.05 to 0.5% by weight.

【0071】本発明の平版印刷用原板は、親油性物質に
よる感熱層表面の汚染防止のため、感熱層上に、水溶性
オーバーコート層を設けることができる。本発明に使用
される水溶性オーバーコート層は印刷時容易に除去でき
るものであり、水溶性の有機高分子化合物から選ばれた
樹脂を含有する。ここで用いる水溶性の有機高分子化合
物としては、塗布乾燥によってできた被膜がフィルム形
成能を有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル(但
し加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリル酸、そ
のアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリル酸共
重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメ
タクリル酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポ
リメタクリル酸共重合体、そのアルカリ金属塩もしくは
アミン塩、ポリアクリルアミド、その共重合体、ポリヒ
ドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン、
その共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチ
ルエーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アク
リルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸、そ
のアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリ−2−アクリ
ルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸共重合
体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、アラビアガ
ム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等)、その変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、
酵素分解エーテル化デキストリン等を挙げることができ
る。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合
して用いることもできる。
In the lithographic printing plate precursor of the present invention, a water-soluble overcoat layer can be provided on the heat-sensitive layer in order to prevent the surface of the heat-sensitive layer from being stained with a lipophilic substance. The water-soluble overcoat layer used in the present invention can be easily removed at the time of printing and contains a resin selected from water-soluble organic polymer compounds. As the water-soluble organic polymer compound used here, a film formed by coating and drying has a film-forming ability, specifically, polyvinyl acetate (having a hydrolysis rate of 65% or more), polyacrylic Acid, alkali metal salt or amine salt thereof, polyacrylic acid copolymer, alkali metal salt or amine salt thereof, polymethacrylic acid, alkali metal salt or amine salt thereof, polymethacrylic acid copolymer, alkali metal salt thereof or amine Salt, polyacrylamide, its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone,
The copolymer, polyvinyl methyl ether, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid, alkali metal salt or amine salt thereof, poly-2-acrylamide- 2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer, an alkali metal salt or an amine salt thereof, gum arabic, a cellulose derivative (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.), a modified product thereof, white dextrin, Pullulan,
Examples include enzymatically degraded etherified dextrins. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination.

【0072】また、オーバーコート層には、前記の水溶
性光熱変換剤を添加しても良い。さらに、オーバーコー
ト層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の
場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。オーバーコー
ト層の乾燥塗布量は、0.1〜2.0g/m2が好まし
い。この範囲内で、機上現像性を損なわず、指紋付着汚
れなどの親油性物質による感熱層表面の良好な汚染防止
ができる。
The above-mentioned water-soluble photothermal conversion agent may be added to the overcoat layer. Furthermore, in the case of aqueous solution application, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene nonylphenyl ether and polyoxyethylene dodecyl ether can be added to the overcoat layer in order to ensure uniformity of application. . Dry coating amount of the overcoat layer, 0.1 to 2.0 g / m 2 is preferred. Within this range, the surface of the heat-sensitive layer can be favorably prevented from being stained by a lipophilic substance such as a fingerprint stain without impairing the on-press developability.

【0073】本発明の平版印刷用原板は熱により画像形
成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像
様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯
などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが
用いられるが、波長700〜1200nmの赤外線を放
射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外
線レーザによる露光が好適である。
The lithographic printing plate of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head or the like, scanning exposure using an infrared laser, high-intensity flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure is used. Semiconductors that emit infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm are used. Exposure with a solid-state high-output infrared laser such as a laser or a YAG laser is preferable.

【0074】画像露光された本発明の平版印刷用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷用原板は、日本特許293839
8号に記載されているように、印刷機シリンダー上に取
りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光
し、その後に湿し水および/またはインクをつけて機上
現像することも可能である。また、これらの平版印刷用
原板は、水または適当な水溶液を現像液とする現像をし
た後、印刷に用いることもできる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention, which has been image-exposed, can be mounted on a printing press without any further processing, and can be printed by an ordinary procedure using ink and fountain solution. These lithographic printing original plates are disclosed in Japanese Patent No. 293839.
As described in No. 8, after being mounted on a printing press cylinder, it can be exposed by a laser mounted on the printing press, and then developed with a dampening solution and / or ink. is there. These lithographic printing original plates can be used for printing after development using water or an appropriate aqueous solution as a developing solution.

【0075】[0075]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0076】[支持体の製造例]厚さ0.3mm、材質
JIS A 1050のアルミニウム板を8号ナイロン
ブラシと800メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。こ
の板を10%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒
間浸してエッチングをした後、流水で水洗し、さらに2
0%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをVa=
12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1
%硝酸水溶液中で300C/dm2の陽極時電気量にて
電解粗面化処理を行った。アルミニウム板の表面粗さを
測定したところ0.45μm(Ra表示)であった。引
き続いて30%硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で2分間
デスマットした後、33℃、15%硫酸中で5A/dm
2の電流密度で45秒間直流電解して陽極酸化皮膜を形
成した。(この支持体を支持体(0)と呼ぶ。)次に、
支持体(0)の生成した陽極酸化皮膜のマイクロポアを
拡大するため、60℃の50g/l硫酸中に1分間浸漬
した後、水洗乾燥して支持体(I)を得た。さらにケイ
酸ナトリウム2.5重量%水溶液で70℃12秒間処理
し、水洗乾燥して、支持体(II)を得た。
[Example of Production of Support] An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm and a material of JIS A 1050 was grained with a No. 8 nylon brush and an aqueous suspension of 800 mesh pamiston, and the surface thereof was grained. Washed with water. This plate was immersed in a 10% aqueous solution of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water, and further washed with
It was neutralized and washed with 0% nitric acid and then washed with water. This is Va =
Under the condition of 12.7 V, 1
The electrolytic surface roughening treatment was performed in a 300% aqueous solution of nitric acid at an anode charge of 300 C / dm 2 . When the surface roughness of the aluminum plate was measured, it was 0.45 μm (Ra display). Subsequently, after immersing in a 30% sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, 5 A / dm in 15% sulfuric acid at 33 ° C.
DC electrolysis was performed at a current density of 2 for 45 seconds to form an anodic oxide film. (This support is referred to as support (0).)
In order to enlarge the micropores of the anodic oxide film formed on the support (0), the support was immersed in 50 g / l sulfuric acid at 60 ° C. for 1 minute, washed with water and dried to obtain a support (I). Further, the support was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 12 seconds, washed with water and dried to obtain a support (II).

【0077】[下塗り層を有する支持体の製造例]上記
製造例で得た支持体(I)又は(II)の上に、表1に示
した組み合わせで下記組成の下塗り液(1)〜(5)を
塗布し、100℃2分間乾燥して、下塗り層を有する支
持体(III)〜(VII)を得た。
[Production example of support having undercoat layer] On the support (I) or (II) obtained in the above-mentioned production example, the undercoat liquids (1) to ( 5) was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain supports (III) to (VII) having an undercoat layer.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】 下塗り液(1) カルボキシメチルセルロース 4g (第一工業製薬(株)製セロゲンWS−A) 酢酸マグネシウム・4水塩 4g 蒸留水 1000gUndercoating liquid (1) 4 g of carboxymethyl cellulose (Cellogen WS-A manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 4 g of magnesium acetate tetrahydrate 1000 g of distilled water

【0080】 下塗り液(2) カルボキシメチルセルロース 4g (第一工業製薬(株)製セロゲン6A) 酢酸ニッケル・4水塩 4g 蒸留水 1000gUndercoat liquid (2) 4 g of carboxymethylcellulose (Cellogen 6A manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 4 g of nickel acetate tetrahydrate 1000 g of distilled water

【0081】 下塗り液(3) ポリアクリル酸 4g (和光純薬工業(株)製、重量平均分子量2.5万) 酢酸マンガン・4水塩 2.5g 蒸留水 1000gUndercoating liquid (3) Polyacrylic acid 4 g (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., weight average molecular weight 25,000) Manganese acetate tetrahydrate 2.5 g Distilled water 1000 g

【0082】 下塗り液(4) カルボキシメチルセルロース 4g (第一工業製薬(株)製セロゲンWS−C) 酢酸カルシウム・1水塩 4g 蒸留水 800g メタノール 200gUndercoating liquid (4) Carboxymethyl cellulose 4 g (Serogen WS-C manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) Calcium acetate monohydrate 4 g Distilled water 800 g Methanol 200 g

【0083】 下塗り液(5) アクリルアミド/メタクリル酸共重合体 4g (重合モル比3/1、重量平均分子量10万) 酢酸ニッケル・4水塩 4g 蒸留水 1000gUndercoating liquid (5) Acrylamide / methacrylic acid copolymer 4 g (polymerization molar ratio 3/1, weight average molecular weight 100,000) Nickel acetate tetrahydrate 4 g Distilled water 1000 g

【0084】実施例1〜5及び比較例1〜2 上記製造例で得た支持体(III)〜(V)及び比較用支
持体(0)と(II)の上に、下記調製法の感熱層(1)
塗布液を表2に示した組み合わせて塗布して感熱性平版
印刷用原板を作製した。乾燥はオーブンにて100℃6
0秒間行い、乾燥塗布量は1.0g/m2であった。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 On the supports (III) to (V) and the comparative supports (0) and (II) obtained in the above Production Examples, heat-sensitive Layer (1)
The coating solutions were applied in combination as shown in Table 2 to prepare heat-sensitive lithographic printing original plates. Drying in oven at 100 ℃ 6
The drying was performed for 0 seconds, and the dry coating amount was 1.0 g / m 2 .

【0085】感熱層(1)塗布液の調製 ノニオン界面活性剤によって脱イオン水中に分散された
ポリスチレン(Tg100℃、平均粒子直径90nm)
の20重量%分散液8gに、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル0.024g、脱イオン水10.96
gを連続して加え、そして最後に撹拌しながらポリビニ
ルアルコール(PVA205、(株)クラレ製)の5重
量%水溶液8gを加える。
Thermosensitive layer (1) Preparation of coating solution Polystyrene (Tg 100 ° C., average particle diameter 90 nm) dispersed in deionized water with a nonionic surfactant
In 8 g of a 20% by weight dispersion of the above, 0.024 g of polyoxyethylene nonylphenyl ether and 10.96 of deionized water were added.
g, and finally, with stirring, 8 g of a 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).

【0086】このようにして作製した各基板の感熱層上
に、下記組成のオーバーコート層塗布液を塗布液量20
g/m2で塗布し、100℃で60秒間乾燥して、乾燥
塗布重量1.0g/m2のオーバーコート層を有する感
熱性平版印刷用原板を作製した。
An overcoat layer coating solution having the following composition was coated on the heat-sensitive layer of each substrate thus prepared in an amount of 20 coating solutions.
g / m 2 and dried at 100 ° C. for 60 seconds to prepare a heat-sensitive planographic printing plate having an overcoat layer having a dry coating weight of 1.0 g / m 2 .

【0087】 (オーバーコート層塗布液) ポリアクリル酸(重量平均分子量2.5万) 1g ノニオン界面活性剤で安定化したカーボンブラックの 20重量%エタノール分散液 2.5g メタノール 26.5g(Coating Solution for Overcoat Layer) Polyacrylic acid (weight average molecular weight: 25,000) 1 g 20% by weight ethanol dispersion of carbon black stabilized by a nonionic surfactant 2.5 g 26.5 g methanol

【0088】このようにして得た平版印刷用原板をカナ
ダ、クレオ社製トレンドセッター(40Wの830nm
半導体レーザーを搭載したプレートセッター)に取付
け、40mJ/cm2のエネルギーで露光した。露光し
た版をそれ以上の処理をしないでそのままハリスオーレ
リア印刷機に取付け、エッチ液含有10容量%イソプロ
ピルアルコール水溶液からなる湿し水とインキを用いて
印刷した。その結果を表2に示した。表で、○は良好、
○〜△は少し劣る、×は劣るを示す。
The lithographic printing plate thus obtained was used as a trendsetter (40 W, 830 nm) manufactured by Creo, Canada.
(A plate setter equipped with a semiconductor laser) and exposed at an energy of 40 mJ / cm 2 . The exposed plate was directly attached to a Harris Aurelia printing press without further processing, and printing was performed using a fountain solution containing a 10% by volume aqueous solution of isopropyl alcohol containing an etchant and ink. The results are shown in Table 2. In the table, ○ is good,
△ to △ indicate slightly inferior, × indicates inferior.

【0089】[0089]

【表2】 [Table 2]

【0090】以上の結果は、本発明による感熱性平版印
刷用原板は、いずれも地汚れがなく、インキ払い性も良
好で、しかも約2.5万枚程度の良好な耐刷性を有する
ことを示している。
The above results indicate that the heat-sensitive lithographic printing plate according to the present invention is free from background contamination, has good ink dispensing properties, and has good printing durability of about 25,000 sheets. Is shown.

【0091】実施例6〜10及び比較例3〜4 実施例1〜5の感熱層塗布液のポリスチレン微粒子の代
わりに、ポリメタクリル酸メチル微粒子(Tg90℃、
平均粒径80nm)を使用した以外は実施例1〜5と同
様にして、支持体(III)〜(VII)及び比較用支持体
(0)と(II)を用いて感熱性平版印刷用原板を作製し
た。次いで、これらの印刷用原板を用いて実施例1〜5
と同様に露光、印刷した。その結果を表3に示した。
Examples 6 to 10 and Comparative Examples 3 and 4 Instead of the polystyrene fine particles of the heat-sensitive layer coating solution of Examples 1 to 5, polymethyl methacrylate fine particles (Tg 90 ° C.,
In the same manner as in Examples 1 to 5, except that an average particle size of 80 nm was used, and using the supports (III) to (VII) and the supports (0) and (II) for comparison, a heat-sensitive lithographic printing plate was used. Was prepared. Then, Examples 1 to 5 were performed using these printing original plates.
Exposure and printing were performed in the same manner as described above. Table 3 shows the results.

【0092】[0092]

【表3】 [Table 3]

【0093】以上の結果は、本発明による感熱性平版印
刷用原板は、いずれも地汚れがなく、インキ払い性も良
好で、しかも約2.5万枚程度の良好な耐刷性を有する
ことを示している。
The above results indicate that the heat-sensitive lithographic printing plate according to the present invention is free from background contamination, has good ink dispensing properties, and has good printing durability of about 25,000 sheets. Is shown.

【0094】[0094]

【発明の効果】本発明によれば、露光後、処理を行うこ
となく直接印刷機に装着して印刷することが可能な感熱
性平版印刷用原板であって、機上現像性が良好であり、
かつ高耐刷性を有し、しかも印刷での地汚れやインキ払
い性等の汚れ難さに優れた感熱性平版印刷用原板が提供
できる。
According to the present invention, there is provided a heat-sensitive lithographic printing plate which can be directly mounted on a printing press and printed without any processing after exposure, and has good on-press developability. ,
In addition, it is possible to provide a heat-sensitive planographic printing plate which has high printing durability and is excellent in difficulty in soiling such as background stain and ink dispensing property in printing.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/09 501 G03F 7/09 501 Fターム(参考) 2H025 AA02 AA12 AB03 AC08 AD01 BH02 BJ03 CB51 CB54 CC11 CC20 DA20 DA35 DA36 2H084 AA14 AA38 AE05 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA01 BA20 CA03 CA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA11 AA15 AA22 AA24 AA30 DA04 DA43 DA46 DA47 DA49 DA52 DA74 EA01 EA03 FA15 FA16 GA09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03F 7/09 501 G03F 7/09 501 F term (Reference) 2H025 AA02 AA12 AB03 AC08 AD01 BH02 BJ03 CB51 CB54 CC11 CC20 DA20 DA35 DA36 2H084 AA14 AA38 AE05 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA01 BA20 CA03 CA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA11 AA15 AA22 AA24 AA30 DA04 DA43 DA46 DA47 DA49 DA52 DA74 EA01 EA03 FA15 FA16 GA09

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持
体上に、熱により溶融する疎水性熱可塑性微粒子及び親
水性バインダーポリマーを含有する感熱層を有する感熱
性平版印刷用原板であって、該陽極酸化皮膜のマイクロ
ポアがポアワイド処理され、かつその表面に、カルボキ
シル基又はカルボキシラト基を有する水溶性樹脂と、亜
鉛、カルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチ
ウム、コバルト、マンガン及びニッケルから選ばれた少
なくとも一種の金属の水溶性塩とを含有する下塗り層を
有することを特徴とする感熱性平版印刷用原板。
1. A heat-sensitive lithographic printing original plate having a heat-sensitive layer containing hydrophobic thermoplastic fine particles melted by heat and a hydrophilic binder polymer on an aluminum support having an anodized film. The micropores of the film are subjected to pore-wide treatment, and the surface thereof has a water-soluble resin having a carboxyl group or a carboxylate group, and at least one metal selected from zinc, calcium, magnesium, barium, strontium, cobalt, manganese, and nickel. A heat-sensitive lithographic printing plate having an undercoat layer containing a water-soluble salt of:
【請求項2】 請求項1に記載の感熱性平版印刷用原板
をレーザー光によって画像露光し、そのまま印刷機に取
り付けて印刷するか、又は印刷機に取り付けた後に、印
刷機上でレーザー光によって露光し、そのまま印刷する
ことを特徴とする感熱性平版印刷用原板の製版及び印刷
方法。
2. The heat-sensitive lithographic printing plate according to claim 1, which is image-exposed with a laser beam, and is directly mounted on a printing machine for printing, or after being mounted on the printing machine, is then irradiated with the laser beam on the printing machine. A plate making and printing method for a heat-sensitive lithographic printing original plate, which is exposed and printed as it is.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113126437A (en) * 2021-02-26 2021-07-16 上海宝士嘉印刷器材有限公司 UV-resistant ink CTP imaging coating, UV-resistant ink CTP and preparation method thereof

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