JP2002064116A - Flux coater on solder ball on bga semiconductor device - Google Patents

Flux coater on solder ball on bga semiconductor device

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JP2002064116A
JP2002064116A JP2000251459A JP2000251459A JP2002064116A JP 2002064116 A JP2002064116 A JP 2002064116A JP 2000251459 A JP2000251459 A JP 2000251459A JP 2000251459 A JP2000251459 A JP 2000251459A JP 2002064116 A JP2002064116 A JP 2002064116A
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Japan
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flux
disk
scraper
ball
solder ball
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JP2000251459A
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Japanese (ja)
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Kazuaki Harada
和明 原田
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Rohm Co Ltd
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Rohm Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flux coater on solder balls on a BGA semiconductor device by which races formed on the flux surface by solder balls dropped on a flux coating disk can be eliminated. SOLUTION: With respect to the flux coater on semiconductor balls on a BGA semiconductor device, a ball stopping scraper 4 is provided in the rearward position of a flattening scraper 3 provided on a flux coating disk 1 in the rotating direction of the disk 1 and flux (a) is supplied between the scrapers 3 and 4 of the flux coating disk 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、BGA型半導体装置
における半田ボールへのフラックス塗布装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for applying flux to solder balls in a BGA type semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、BGA型半導体装置において半田ボ
ールを装着するためには通常ボール移載装置が用いられ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a ball transfer device is usually used for mounting a solder ball in a BGA type semiconductor device.

【0003】かかるボール移載装置はBGA型半導体装置
のフレーム裏面に形成したスルーホールへ半田ボールを
移載すべく、所定間隔に多数の半田ボールを真空吸着し
ておき、真空吸着した半田ボールの外側半球面にフラッ
クスを塗布した後にBGA型半導体装置のフレームのスル
ーホールへフラックス塗布面がスルーホールに対抗する
ように移載する。
In such a ball transfer device, a large number of solder balls are vacuum-adsorbed at predetermined intervals in order to transfer solder balls to through holes formed on the back surface of a frame of a BGA type semiconductor device. After the flux is applied to the outer hemisphere, it is transferred to the through hole of the frame of the BGA type semiconductor device such that the flux applied surface opposes the through hole.

【0004】このように、移載装置に真空吸着した半田
ボールの外側半球面にフラックスを塗布する場合はフラ
ックス塗布円盤が用いられる。すなわち、円盤上にフラ
ックス層になるように供給塗布しながらスクレーパーに
てフラックス表面を均平し、この均平したフラックス層
にボール移載装置で吸着保持した半田ボールを一部浸漬
することにより半田ボール外側半球面にフラックスを塗
布する。
As described above, when a flux is applied to the outer hemisphere of the solder ball vacuum-adsorbed to the transfer device, a flux-coated disk is used. That is, the flux surface is leveled by a scraper while supplying and applying the flux layer on a disk, and the solder balls adsorbed and held by a ball transfer device are partially immersed in the flattened flux layer to perform soldering. Apply flux to the outer hemisphere of the ball.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、半田ボール
移載装置に真空吸着して保持した半田ボールをフラック
ス塗布円盤上のフラックス層に接触させて塗布する場
合、半田ボールがボール移載装置の吸着保持部分から剥
離して落下し円盤上のフラックス層に残ったままとなる
虞があった。
However, when the solder balls held by vacuum suction on the solder ball transfer device are applied by contacting the flux layer on the flux application disk, the solder balls are adsorbed by the ball transfer device. There was a possibility that the film would be peeled off from the holding portion and fall to remain on the flux layer on the disk.

【0006】このように、半田ボールがフラックス塗布
円盤上に落下してフラックス層に残留した場合、この状
態でフラックスを供給しながら塗布円盤を回転させて均
平スクレーパーで均平作業をすると、落下した半田ボー
ルが均平スクレーパーに係止して、フラックス表面に半
田ボールによる環状溝が形成され、この溝に半田ボール
が当接しても充分にフラックスが塗布されず、次工程の
リフロー工程でBGA型半導体装置のフレームに半田ボー
ルが充分に溶着しないことになり、半田ボールの欠けた
不良品が製造されることになる。
As described above, when the solder balls fall on the flux-applied disc and remain on the flux layer, the applicator disc is rotated in this state while supplying the flux, and the leveling work is performed by the leveling scraper. The solder ball locked on the flattening scraper forms an annular groove with the solder ball on the surface of the flux, and the flux is not sufficiently applied even if the solder ball comes into contact with this groove. As a result, the solder balls are not sufficiently welded to the frame of the die-shaped semiconductor device, and defective products lacking the solder balls are manufactured.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明は、フラックス
塗布円盤上に設けた均平スクレーパーの円盤回転方向後
方に、ボール止めスクレーパーを配設すると共に、フラ
ックス塗布円盤上の各スクレーパーの間にフラックスを
供給するように構成した事を特徴とするBGA型半導体装
置における半田ボールへのフラックス塗布装置を提供せ
んとするものである。
According to the present invention, a ball stopper scraper is provided at the rear of the leveling scraper provided on the flux-applying disk in the direction of rotation of the disk, and the flux is applied between the scrapers on the flux-applying disk. And a flux application device for solder balls in a BGA type semiconductor device, characterized in that the flux application device is provided.

【0008】また、ボール止めスクレーパーは半田ボー
ルを受止めフラックス塗布円盤外に排出可能に構成した
ことにも特徴を有する。
[0008] The ball stopper scraper is also characterized in that it can receive the solder ball and discharge it to the outside of the flux-coated disk.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】この発明では、回転自在のフラッ
クス塗布円盤上に円盤中心より放射状方向にかけて二個
のスクレーパーを配設する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, two scrapers are arranged on a rotatable flux-applied disk in a radial direction from the center of the disk.

【0010】すなわち、同円盤の回転方向の前方に均平
スクレーパーを配設し、一定の間隔(角度)を保持して
同円盤の回転方向後方にボール止めスクレーパーを配設
する。
That is, a leveling scraper is disposed in front of the disk in the rotation direction, and a ball stopper scraper is disposed behind the disk in the rotation direction of the disk while maintaining a constant interval (angle).

【0011】そして、両スクレーパーの間隔内をフラッ
クス供給スペースとしている。
The space between the scrapers is used as a flux supply space.

【0012】このように構成したフラックス塗布円盤を
回転させながら均平スクレーパーで円盤上のフラックス
塗布層表面を均平しておきフラックス回転円盤上方に半
田ボール移載装置を移動し、半田ボール移載装置のヘッ
ドに吸着保持された半田ボールを均平されたフラックス
層の表面に浸漬しボールの外側半球面にフラックスを塗
布する。
The surface of the flux coating layer on the disk is leveled by a leveling scraper while rotating the flux-coated disk thus configured, and the solder ball transfer device is moved above the flux-rotating disk to transfer the solder balls. The solder ball sucked and held by the head of the apparatus is immersed in the surface of the leveled flux layer, and the flux is applied to the outer hemisphere of the ball.

【0013】このようなフラックス塗布作業工程におい
て、半田ボール移載装置のヘッドから半田ボールが剥離
してフラックス層表面に落下した場合は均平作業による
同円盤の回転に伴い半田ボール移載装置をいったん離隔
し落下した半田ボールは、まず円盤回転方向の後方にあ
るボール止めスクレーパーにて受止められ、円盤回転方
向前方の均平スクレーパーとの間のフラックス供給スペ
ースにフラックスを供給しながら更に円盤を回転させる
と、ボール止めスクレーパーにて受止められ、半田ボー
ルにて形成された条溝は、均平スクレーパーによる供給
フラックスの均平により充分に埋め戻されて消失し、均
平スクレーパーの回転方向前方には落下半田ボールによ
る条溝は一切形成されない。
In such a flux applying step, when the solder balls are separated from the head of the solder ball transfer device and fall on the surface of the flux layer, the solder ball transfer device is rotated with the rotation of the disk by the leveling operation. Once separated and dropped, the solder balls are first received by the ball stopper scraper at the rear in the disk rotation direction, and the disk is further fed while supplying flux to the flux supply space between the flattening scraper and the disk rotation direction front. When it is rotated, it is received by the ball stopper scraper, and the groove formed by the solder ball is sufficiently filled back by the leveling of the supplied flux by the leveling scraper and disappears, and the rotating direction of the leveling scraper is rotated forward. Are not formed at all by the falling solder balls.

【0014】従って、条溝のないフラックス表面によっ
て半田ボール移載装置のヘッドに吸着した半田ボールに
フラックスを充分塗布することができ、フレームへの半
田ボールのリフローが完全に行えるものである。
Therefore, the flux can be sufficiently applied to the solder balls adsorbed on the head of the solder ball transfer device by the flux surface having no grooves, and the solder balls can be completely reflowed to the frame.

【0015】更には、ボール止めスクレーパーにより受
止められた落下半田ボールは、円盤の回転作動に伴って
円盤外に自動的に排出できるので、落下半田ボールをフ
ラックス塗布円盤から除去する工程を省略出来るもので
ある。
Further, since the falling solder balls received by the ball stopper scraper can be automatically ejected out of the disk with the rotation of the disk, the step of removing the falling solder balls from the flux-coated disk can be omitted. Things.

【0016】[0016]

【実施例】この発明の実施例を図面にもとづき詳説すれ
ば、図1は、本発明のフラックス塗布装置Aを示す平面
図であり、図2は、図1のI−I線の断面図、図3は、
図1のII-II線の断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a flux coating apparatus A of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II of FIG. FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG. 1.

【0017】図1において、1は、フラックス塗布円盤
を示し、同円盤1は、中心部下面に回転軸2を具備し、
モーター(図示しない)と連動連結されており、回転軸
2を介して時計と反対回り、すなわち、左側方向に回転
するように構成されている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a flux-coated disk, and the disk 1 has a rotating shaft 2 on a lower surface of a central portion.
It is linked to a motor (not shown) and is configured to rotate counterclockwise through the rotating shaft 2, that is, to rotate leftward.

【0018】同円盤1の上方の12時位置には、同円盤
1表面に積層したフラックスaを均平するための均平ス
クレーパー3が配設されており、均平スクレーパー3の
円円盤回転方向の後方には、ボール止めスクレーパー4
が配設されており、ボール止めスクレーパー4は、同円
盤上に落下した半田ボールbを受止めることのできる状
態に同円盤1からの高さを規制している。
At the twelve o'clock position above the disk 1, a leveling scraper 3 for leveling the flux a laminated on the surface of the disk 1 is provided, and the disk rotating direction of the leveling scraper 3 is provided. Behind the ball stop scraper 4
Is disposed, and the ball stopper scraper 4 regulates the height from the disk 1 so that the solder ball b dropped on the disk can be received.

【0019】しかも、均平スクレーパー3とボール止め
スクレーパー4とは、同円盤1の中心部から放射状に伸
延する状態で配設され、その角度は、約90度以内の角
度になるような間隔を保持している。
Moreover, the leveling scraper 3 and the ball stopper scraper 4 are disposed in a state of extending radially from the center of the disk 1, and the angles are set so that the angle becomes about 90 degrees or less. keeping.

【0020】そして、フラックス塗布円盤1の上表面に
おいて、均平スクレーパー3とボール止めスクレーパー
4との約90度以内の間隔部分はフラックス供給スペー
スsとしており、フラックス供給スペースs上には、フ
ラックスを供給するためのフラックス供給ノズル5が配
設されており、同ノズル5からは、定期的に、フラック
ス塗布円盤1の1回転作動ごとにフラックスがフラック
ス供給スペースsに供給される。
On the upper surface of the flux-applied disc 1, the space between the flat scraper 3 and the ball stopper scraper 4 within about 90 degrees is defined as a flux supply space s. A flux supply nozzle 5 for supplying the flux is provided, from which the flux is periodically supplied to the flux supply space s for each rotation of the flux application disk 1.

【0021】すなわち、半田ボール移載装置cのヘッド
dに吸着された半田ボールbへフラックスを塗布する作
業がフラックス塗布円盤上で終了するごとに、フラック
ス塗布円盤1は回転作動し、この回転作動のたびにフラ
ックスは同円盤上に供給され、均平スクレーパー3によ
りフラックス上面が均平される。
That is, each time the operation of applying the flux to the solder balls b adsorbed on the head d of the solder ball transfer device c is completed on the flux application disk, the flux application disk 1 rotates and this rotation operation is performed. Each time, the flux is supplied onto the same disk, and the upper surface of the flux is leveled by the leveling scraper 3.

【0022】なお、フラックスの供給は、同円盤1の回
転中に行われるのが最も効率的であるが回転直前であっ
てもよい。
The supply of the flux is most efficiently performed during the rotation of the disk 1, but may be performed immediately before the rotation.

【0023】また、均平スクレーパー3は、同円盤1に
供給されたフラックスaの表面を均平して円盤面から均
一の厚さのフラックス層となるように機能するものであ
るから、円盤中心部から円盤周縁部にかけて直線状の矩
形板を延設して構成することができ、フラックス塗布円
盤1のフラックス層表面に当接する下端縁部分は薄刃状
に形成している。
The leveling scraper 3 functions to level the surface of the flux a supplied to the disk 1 so as to form a flux layer having a uniform thickness from the disk surface. A straight rectangular plate can be formed by extending from the portion to the peripheral edge of the disk, and the lower edge portion of the flux-applied disk 1 that contacts the surface of the flux layer is formed as a thin blade.

【0024】ボール止めスクレーパー4は、半田ボール
移載装置cのヘッドdからフラックス層上に落下した半
田ボールbを受止める機能を有するものであり、均平ス
クレーパー3と略同じ様に円盤中心部から円盤周縁部に
かけて直線状の矩形板を延設して構成しており、少なく
とも半田ボールbの直径よりも短い間隔を円盤表面との
間に保持して設けられている。
The ball stopper scraper 4 has a function of receiving the solder ball b dropped onto the flux layer from the head d of the solder ball transfer device c. , And a straight rectangular plate extending from the edge of the disk to the periphery of the disk, and at least an interval shorter than the diameter of the solder ball b is provided between the disk and the surface of the disk.

【0025】各スクレーパー3,4は以上のように構成
されており、従って、半田ボール移載装置cの半田ボー
ルbにフラックスaを塗布する場合は、半田ボール移載
装置cを同円盤1上に位置させて円盤上の均平されたフ
ラックス層に半田ボールbの外側表面が浸漬するように
降下させ、半田ボールbの外側表面にフラックスが塗布
された後は、半田ボール移載装置cを引き上げてフラッ
クスの塗布された半田ボールbをBGA型半導体装置のフ
レームに多数形成されたのスルーホールに移載してリフ
ロー工程に移行させるものであり、かかるフラックスの
塗布作業工程において、半田ボール移載装置cのヘッド
dから半田ボールbが剥離して円盤上のフラックス層表
面に落下した場合は、同円盤1は落下した半田ボールb
を載置したまま回転していく。
Each of the scrapers 3 and 4 is constructed as described above. Therefore, when applying the flux a to the solder balls b of the solder ball transfer device c, the solder ball transfer device c is placed on the same disk 1. After the outer surface of the solder ball b is immersed in the flattened flux layer on the disk so that the outer surface of the solder ball b is immersed, the solder ball transfer device c is moved to the outer surface of the solder ball b. The solder balls b on which the flux has been applied are transferred to through holes formed in a large number of frames of the BGA type semiconductor device and are transferred to a reflow process. When the solder ball b separates from the head d of the mounting device c and falls on the surface of the flux layer on the disk, the disk 1
Rotate while placing.

【0026】そして、落下した半田ボールbはボール止
めスクレーパー4に受止められてここで停止し、従っ
て、円盤上には半田ボールbにより筋溝mがフラックス
表面に形成された状態となるが、フラックス供給スペー
スsに供給される新たなフラックスとその下手側におい
て均平スクレーパー3によって筋溝mは修復されて均平
にならされて、ボール止めスクレーパー4と均平スクレ
ーパー3との間を除いた円盤上のスペースは筋溝mのな
い平坦なフラックス面となっている。
Then, the dropped solder ball b is received by the ball stopper scraper 4 and stopped there. Therefore, a streak groove m is formed on the disk by the solder ball b on the flux surface. The new groove supplied to the flux supply space s and the underside thereof are repaired and leveled by the leveling scraper 3 by the leveling scraper 3, and the space between the ball stopper scraper 4 and the leveling scraper 3 is removed. The space on the disk is a flat flux surface without the streaks m.

【0027】また、ボール止めボール止めスクレーパー
4は、半田ボールbを受止めるだけではなくてフラック
ス塗布円盤1外に排出可能に構成することが出来る。
Further, the ball stopper scraper 4 can be configured not only to receive the solder ball b but also to be able to discharge the solder ball b out of the flux-applied disk 1.

【0028】すなわち、ボール止めスクレーパー4が落
下した半田ボールbを円盤の回転と共に受止めた場合
に、受止めた半田ボールbを円盤外に自動的に誘導すべ
くボール止めスクレーパー4の後側面たるボール受止め
面を凸状湾曲面4−1とし、かつボール止めスクレーパ
ー4の円盤中心部における湾曲面の接線Pが少なくとも
均平スクレーパー3と90度以上の角度を保持すべく凸
状湾曲面4−1を形成しており、このように形成するこ
とにより、図6に示すように、フラックス塗布円盤1の
左回転にともない落下半田ボールはボール止めスクレー
パー4の凸状湾曲面4−1にそって円盤外に移動してい
き最終的には円盤外に排出される。
That is, when the ball stopper scraper 4 receives the dropped solder ball b together with the rotation of the disk, the rear side of the ball stopper scraper 4 automatically guides the received solder ball b out of the disk. The ball receiving surface is a convex curved surface 4-1, and the tangent P of the curved surface at the center of the disk of the ball stopper scraper 4 is at least 90 degrees or more with the flat scraper 3 so that the convex curved surface 4 is maintained. As a result, as shown in FIG. 6, the solder balls falling along with the left rotation of the flux-applied disk 1 lie along the convex curved surface 4-1 of the ball stopper scraper 4, as shown in FIG. To move out of the disk, and is eventually discharged out of the disk.

【0029】ボール止めスクレーパー4の他の実施例と
しては、図4および図5に示すように、ボール止めスク
レーパー4の後側面に沿って、円盤中心部から周縁部に
向かってボ−ル押し出し用の摺動片6を摺動自在に取り
付けており、円盤の回転にともない同摺動片6が移動し
て落下半田ボールbを円盤外に押し出し排出する。
As another embodiment of the ball stopper scraper 4, as shown in FIGS. 4 and 5, a ball is pushed out from the center of the disk toward the peripheral edge along the rear surface of the ball stopper scraper 4. The sliding piece 6 is slidably mounted, and the sliding piece 6 moves with the rotation of the disk to push the dropped solder ball b out of the disk and discharge it.

【0030】尚、フラックス塗布円円盤1の回転と摺動
片6との連動機構は、ボール止めスクレーパー4にそっ
て雄ネジ7を付設し、同雄ネジ7に摺動片6の雌ネジ孔
を螺合し雄ネジ7の回転にともない摺動片6が移動し半
田ボールbを円盤外に排出すべく構成している。
An interlocking mechanism between the rotation of the flux-applying disk 1 and the sliding piece 6 is provided with a male screw 7 along the ball stopper scraper 4, and the female screw hole of the sliding piece 6 is provided in the male screw 7. And the sliding piece 6 moves with the rotation of the male screw 7 to discharge the solder ball b out of the disk.

【0031】[0031]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、均平スクレー
パーの円盤回転方向後方にボール止めスクレーパーを配
設したので、フラックスを供給しながら円盤を回転させ
ても落下した半田ボールはボール止めスクレーパーにて
受止められ、その前方の均平スクレーパーにてフラック
ス表面が均平されるので、フラックス表面には落下ボー
ルにより筋溝が形成されることがなく、従って次工程に
おいて半田ボール移載装置によりボールへのフラックス
塗布作業を行う際にすべての半田ボールにフラックスを
充分に塗布することができ、半田ボールの欠損した不良
品の発生を防止できる効果がある。
According to the first aspect of the present invention, since the ball stopper scraper is disposed behind the leveling scraper in the rotating direction of the disk, even if the disk is rotated while supplying the flux, the dropped solder ball is fixed to the ball stopper. Since the flux is received by the scraper and the flux surface is leveled by the leveling scraper in front of the scraper, no streaks are formed by the falling ball on the flux surface. Accordingly, the flux can be sufficiently applied to all the solder balls when performing the flux applying operation to the balls, and there is an effect of preventing the occurrence of defective products in which the solder balls are missing.

【0032】請求項2の発明によれば、ボール止めスク
レーパーは半田ボールを受け止め、しかもフラックス塗
布円盤外に排出可能となっているので、落下してフラッ
クス面に残留した半田ボールを取り去る手間が不要であ
り自動的にボール止めスクレーパーにて円盤外に排出で
きる効果があり、フラックス塗布付作業の省力化に貢献
できる効果がある。
According to the second aspect of the present invention, since the ball stopper scraper receives the solder ball and can discharge it to the outside of the flux-applied disk, there is no need to remove the solder ball that has dropped and remained on the flux surface. Therefore, there is an effect that the ball can be automatically discharged to the outside of the disk by the ball stopper scraper, which has an effect of contributing to labor saving of the work of applying the flux.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のBGA型半導体装置における半田ボール
へのフラックス塗布装置を示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing an apparatus for applying a flux to solder balls in a BGA type semiconductor device of the present invention.

【図2】図1のI-I線の断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II of FIG. 1;

【図3】図2のII-II線の端面図。FIG. 3 is an end view taken along the line II-II of FIG. 2;

【図4】他の実施例の平面図。FIG. 4 is a plan view of another embodiment.

【図5】図4のIII-III線の断面図。FIG. 5 is a sectional view taken along line III-III in FIG. 4;

【図6】他の実施例の平面図。FIG. 6 is a plan view of another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A フラックス塗布装置 a フラックス b 半田ボール c 半田ボール移載装置 d ヘッド 1 フラックス塗布円盤 2 回転軸 3 均平スクレーパー 4 ボール止めスクレーパー 5 フラックス供給ノズル Reference Signs List A flux application device a flux b solder ball c solder ball transfer device d head 1 flux application disk 2 rotating shaft 3 leveling scraper 4 ball stopper scraper 5 flux supply nozzle

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フラックス塗布円盤(1)上に設けた均平
スクレーパー(3)の円盤回転方向後方に、ボール止めス
クレーパー(4)を配設すると共に、フラックス塗布円盤
(1)の各スクレーパー(3),(4)の間にフラックス(a)を供
給するように構成したことを特徴とするBGA型半導体装
置における半田ボールへのフラックス塗布装置。
A ball-stopping scraper (4) is disposed behind a leveling scraper (3) provided on a flux-applied disc (1) in the rotational direction of the disc, and a flux-applied disc is provided.
A flux coating device for solder balls in a BGA type semiconductor device, characterized in that the flux (a) is supplied between the scrapers (3) and (4) of (1).
【請求項2】 ボール止めスクレーパー(4)は半田ボー
ルを受止めフラックス塗布円盤(1)外に排出可能に構成
したことを特徴とする請求項1に記載のBGA型半導体装
置における半田ボールへのフラックス塗布装置。
2. The BGA type semiconductor device according to claim 1, wherein the ball stopper scraper (4) is configured to receive the solder ball and discharge the solder ball to the outside of the flux application disk (1). Flux coating device.
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