JP2002055349A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2002055349A
JP2002055349A JP2000241527A JP2000241527A JP2002055349A JP 2002055349 A JP2002055349 A JP 2002055349A JP 2000241527 A JP2000241527 A JP 2000241527A JP 2000241527 A JP2000241527 A JP 2000241527A JP 2002055349 A JP2002055349 A JP 2002055349A
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JP
Japan
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spacer
liquid crystal
display device
layer
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000241527A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Matsuoka
康司 松岡
Toshio Fujii
利夫 藤井
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device which can prevent electric short circuit between a counter electrode and a pixel electrode by the spacer formed on the surface of a color filter. SOLUTION: The liquid crystal display device 40 has a first substrate 43 prepared by laminating a TFT circuit layer 1, insulating layer 2, pixel electrode 3 and alignment film 10 in this order on a transparent substrate 4, and a second substrate 44 prepared by laminating a color filter layer 5, spacer 19, counter electrode 6 and alignment film 11 in this order on a transparent substrate 7. The pixel electrode 3 has a through hole 3a in the region opposing the spacer 19.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の対向する基
板を有するカラー液晶表示装置に関する。
The present invention relates to a color liquid crystal display device having a pair of opposed substrates.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示装置は、互いに対向する
一対の基板を有し、基板間がスペーサによって一定に保
持される。図10は、従来の液晶表示装置42を概略的
に示す断面図である。図10に示す液晶表示装置42
は、たとえばアクティブマトリクス型液晶表示装置であ
り、第1基板43および第2基板44を有する。
2. Description of the Related Art A conventional liquid crystal display device has a pair of substrates facing each other, and the space between the substrates is kept constant by spacers. FIG. 10 is a sectional view schematically showing a conventional liquid crystal display device 42. As shown in FIG. The liquid crystal display device 42 shown in FIG.
Is, for example, an active matrix type liquid crystal display device, and has a first substrate 43 and a second substrate 44.

【0003】第1基板43は、透明基板4の上に、薄膜
トランジスタ(TFT)素子などを含むTFT回路層
1、絶縁層2、絵素電極3、および配向膜10をこの順
に積層して構成される。第2基板44は、透明基板7の
上に、カラーフィルタ層5、対向電極6、および配向膜
11をこの順に積層して構成される。2枚の基板43,
44は、互いの配向膜10,11が向き合う状態で、透
明なスペーサ9によって一定の基板間隔(セルギャッ
プ)が保たれ、シール材によって貼合わされている。2
枚の基板43,44間には、液晶8が充填されており、
液晶注入口は封止材によって封止される。スペーサ9
は、微小な粒径のビーズであり、いずれか一方の基板に
散布される。また、ビーズ以外にスペーサとしてファイ
バなどが用いられている。
The first substrate 43 is formed by laminating a TFT circuit layer 1 including a thin film transistor (TFT) element, an insulating layer 2, a picture element electrode 3, and an alignment film 10 on a transparent substrate 4 in this order. You. The second substrate 44 is formed by stacking a color filter layer 5, a counter electrode 6, and an alignment film 11 on a transparent substrate 7 in this order. Two substrates 43,
Reference numeral 44 denotes a state in which the alignment films 10 and 11 face each other, a fixed substrate gap (cell gap) is maintained by the transparent spacer 9, and the substrates are bonded by a sealing material. 2
The liquid crystal 8 is filled between the substrates 43 and 44,
The liquid crystal injection port is sealed with a sealing material. Spacer 9
Are beads having a small particle size, and are dispersed on one of the substrates. Fibers and the like are used as spacers other than beads.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置のスペー
サとしてビーズまたはファイバを用いる構成では、スペ
ーサを均一に散布することが非常に困難である。特に、
大型の基板ではスペーサの散布が不均一になり、これに
よって表示のコントラスト低下または色むらが発生する
ことがある。
In a configuration in which beads or fibers are used as spacers of a liquid crystal display device, it is very difficult to uniformly disperse the spacers. In particular,
For large substrates, the distribution of the spacers is non-uniform, which may result in reduced display contrast or uneven color.

【0005】また、スペーサを散布によって配置する場
合には、特定の位置に配置することが困難であり、表示
に直接かかわる有効絵素領域にスペーサが配置されるこ
とがある。透明なスペーサが有効絵素域に配置される
と、スペーサ自身から光漏れが生じ、表示品位および表
示コントラストを低下させる。
When arranging the spacers by scattering, it is difficult to arrange the spacers at a specific position, and the spacers may be arranged in an effective picture element area directly related to display. When the transparent spacer is arranged in the effective picture element area, light leaks from the spacer itself, which lowers display quality and display contrast.

【0006】一方、他の従来技術が特開平5−1969
46号公報に開示される。この従来技術では、カラーフ
ィルタの表面にカラーフィルタ層を構成する樹脂層と同
じ樹脂層をスペーサとして積層し、これによって基板間
隔を保持している。前記スペーサは、樹脂層を重ねるこ
とによって充分な厚みを有し、所定の位置に容易に配置
することができ、また遮光性を容易に付与することがで
きる。
On the other hand, another prior art is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-1969.
No. 46 is disclosed. In this conventional technique, the same resin layer as the resin layer forming the color filter layer is laminated as a spacer on the surface of the color filter, thereby maintaining the distance between the substrates. The spacer has a sufficient thickness by stacking resin layers, can be easily arranged at a predetermined position, and can easily impart light-shielding properties.

【0007】この従来技術において、複数の樹脂層から
成るスペーサおよびカラーフィルタ層を覆うように対向
電極を形成する場合には、たとえば対向電極またはスペ
ーサに付着した異物によって配向膜に欠陥が生じ、スペ
ーサの上に形成される対向電極と他方基板の絵素電極と
がスペーサ部で接触し、電気的に導通するおそれがあ
る。絵素電極と対向電極とが導通すると、液晶に電圧が
印加されないといった問題が発生する。
In this prior art, when a counter electrode is formed so as to cover a spacer composed of a plurality of resin layers and a color filter layer, a defect occurs in the alignment film due to, for example, foreign matter attached to the counter electrode or the spacer, and There is a possibility that the opposing electrode formed on the substrate and the pixel electrode on the other substrate come into contact with each other at the spacer portion, and may be electrically connected. When the picture element electrode and the opposing electrode conduct, a problem arises in that no voltage is applied to the liquid crystal.

【0008】本発明の目的は、カラーフィルタ表面に形
成されるスペーサによる対向電極と絵素電極との電気的
短絡を防ぐことができる液晶表示装置を提供することで
ある。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of preventing an electric short circuit between a counter electrode and a pixel electrode due to a spacer formed on the surface of a color filter.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、所定の間隔を
あけて対向して配置される一対の基板間に液晶層を介在
して成り、一対の基板のうちいずれか一方基板に、平面
的に配置される複数の樹脂層から成るカラーフィルタ
層、前記カラーフィルタ層の表面に形成されるスペー
サ、および前記カラーフィルタ層とスペーサとを覆う対
向電極を備え、他方基板に絵素電極を備える液晶表示装
置において、前記スペーサが、他方基板の絵素電極と対
向する領域に配置され、絵素電極のスペーサに対向する
部分またはスペーサ上部の対向電極が除去されているこ
とを特徴とする液晶表示装置である。
According to the present invention, a liquid crystal layer is interposed between a pair of substrates which are arranged facing each other at a predetermined interval, and one of the pair of substrates is provided with a flat surface. A color filter layer composed of a plurality of resin layers, a spacer formed on the surface of the color filter layer, and a counter electrode covering the color filter layer and the spacer, and a pixel electrode on the other substrate In the liquid crystal display device, the spacer is arranged in a region of the other substrate facing the pixel electrode, and a portion of the pixel electrode facing the spacer or a counter electrode on the spacer is removed. Device.

【0010】前記スペーサ上に形成される対向電極と絵
素電極とが対向した状態で、一方基板と他方基板とが貼
合わせられると、たとえば絵素電極、対向電極およびス
ペーサに付着した異物などによって配向膜に欠陥が生
じ、対向電極と絵素電極とが接触し、電気的に導通する
おそれがある。絵素電極と対向電極とが導通すると、電
気的に短絡し液晶に電圧が印加されないといった問題が
生じる。
When the one substrate and the other substrate are bonded together in a state where the counter electrode formed on the spacer and the pixel electrode face each other, for example, foreign matter adhering to the pixel electrode, the counter electrode, and the spacer is generated. There is a possibility that a defect occurs in the alignment film, the counter electrode and the pixel electrode come into contact with each other, and conduct electricity. When the pixel electrode and the counter electrode conduct, there is a problem that an electric short circuit occurs and no voltage is applied to the liquid crystal.

【0011】本発明に従えば、前記スペーサが配置され
る領域の絵素電極または対向電極が除去されるので、絵
素電極と対向電極との接触を防止することができ、絵素
電極と対向電極とが導通することを防止することができ
る。
According to the present invention, the pixel electrode or the counter electrode in the region where the spacer is arranged is removed, so that contact between the pixel electrode and the counter electrode can be prevented, and Conduction with the electrode can be prevented.

【0012】また本発明の前記絵素電極は、スペーサに
対向する部分に透孔または切欠きを有することを特徴と
する。
Further, the picture element electrode according to the present invention is characterized in that the picture element electrode has a through hole or a notch at a portion facing the spacer.

【0013】本発明に従えば、前記絵素電極は、切欠き
部分または透孔部分を有し、前記スペーサは、絵素電極
の前記切欠き部分または透孔部分に対向する領域に配置
されるので、スペーサ上に形成される対向電極と絵素電
極とが対向することを防止することができ、絵素電極と
対向電極との接触を防止することができる。
According to the present invention, the picture element electrode has a cutout portion or a hole portion, and the spacer is arranged in a region facing the cutout portion or the hole portion of the picture element electrode. Therefore, the opposing electrode formed on the spacer and the pixel electrode can be prevented from opposing each other, and the contact between the pixel electrode and the opposing electrode can be prevented.

【0014】なお、絵素電極は、成膜後のパターニング
工程によってマトリクス状に形成されるので、このパタ
ーニング工程に用いるマスク版のマスク部の形状を変え
ることによって、工程を追加することなく、また製造コ
ストを増加することなく、絵素電極と対向電極との導通
を防ぐことができる。
Since the pixel electrodes are formed in a matrix by a patterning step after film formation, the shape of a mask portion of a mask plate used in this patterning step is changed without adding a step. The conduction between the pixel electrode and the counter electrode can be prevented without increasing the manufacturing cost.

【0015】また本発明は、所定の間隔をあけて対向し
て配置される一対の基板間に液晶層を介在して成り、一
対の基板のうちいずれか一方基板に、平面的に配置され
る複数の樹脂層から成るカラーフィルタ層、前記カラー
フィルタ層の表面に形成されるスペーサ、および前記カ
ラーフィルタ層とスペーサとを覆う対向電極を備え、他
方基板に絵素電極を備える液晶表示装置において、前記
スペーサは、他方基板の絵素電極と対向する領域に配置
され、前記スペーサ上に形成される対向電極と他方基板
の絵素電極との間には、電気的絶縁膜が介在されること
を特徴とする液晶表示装置である。
Further, according to the present invention, a liquid crystal layer is interposed between a pair of substrates arranged to face each other at a predetermined interval, and the liquid crystal layer is arranged in a plane on one of the pair of substrates. A color filter layer including a plurality of resin layers, a spacer formed on the surface of the color filter layer, and a counter electrode covering the color filter layer and the spacer, a liquid crystal display device including a pixel electrode on the other substrate, The spacer is arranged in a region facing the pixel electrode on the other substrate, and an electrical insulating film is interposed between the counter electrode formed on the spacer and the pixel electrode on the other substrate. A liquid crystal display device characterized by the following.

【0016】本発明に従えば、前記スペーサは、他方基
板の絵素電極と対向する領域に配置され、前記スペーサ
上に形成される対向電極と他方基板の絵素電極との間に
は、電気的絶縁膜が介在されるので、絵素電極と対向電
極との接触を防止することができ、導通を防止すること
ができる。
According to the present invention, the spacer is disposed in a region facing the picture element electrode on the other substrate, and an electric field is provided between the counter electrode formed on the spacer and the picture element electrode on the other substrate. Since the static insulating film is interposed, contact between the pixel electrode and the counter electrode can be prevented, and conduction can be prevented.

【0017】また本発明の前記スペーサは、液晶表示装
置の光を透過しない領域に配置されることを特徴とす
る。
Further, the spacer according to the present invention is arranged in a region of the liquid crystal display device which does not transmit light.

【0018】本発明に従えば、前記スペーサは、液晶表
示装置の光を透過しない領域に配置されるので、スペー
サによる液晶表示装置の開口率の低下を防止することが
でき、スペーサによる配向膜のラビング処理のむらを隠
すことができる。
According to the present invention, since the spacer is disposed in a region of the liquid crystal display device through which light does not pass, it is possible to prevent the aperture ratio of the liquid crystal display device from being reduced by the spacer, and to prevent the alignment film from being reduced by the spacer. The unevenness of the rubbing process can be hidden.

【0019】また本発明の前記カラーフィルタ層は、赤
色の樹脂層、緑色の樹脂層および青色の樹脂層を含んで
構成され、前記スペーサは、前記カラーフィルタ層の表
面に、これらの樹脂層が2層積層されて構成され、カラ
ーフィルタ層を構成する樹脂層を含んで3色の樹脂層が
積層されることを特徴とする。
Further, the color filter layer of the present invention includes a red resin layer, a green resin layer and a blue resin layer, and the spacer has a structure in which these resin layers are formed on the surface of the color filter layer. It is characterized in that two layers are laminated, and three color resin layers are laminated including the resin layer constituting the color filter layer.

【0020】本発明に従えば、前記スペーサが形成され
る部分は、カラーフィルタ層を構成する樹脂層を含ん
で、赤色、緑色および青色の3色の樹脂層が積層される
ので、優れた遮光性を有する。よって、スペーサを薄膜
トランジスタ(TFT)素子などのアクティブ素子への
入射光を遮る領域に形成すれば、光によるアクティブ素
子の誤作動や不安定な動作を防止することができる。ま
た、ゲート配線、ソース配線などの配線への入射光を遮
る領域にスペーサを形成すれば、配線による光の反射を
防止することができ、液晶表示装置の表示品位を向上す
ることができる。また、前記スペーサは、カラーフィル
タ層を形成する工程で同時に形成することができる。
According to the present invention, the portions where the spacers are formed include the resin layers constituting the color filter layers, and the resin layers of three colors of red, green and blue are laminated, so that excellent light shielding is achieved. Has the property. Therefore, if the spacer is formed in a region that blocks incident light to an active element such as a thin film transistor (TFT) element, malfunction or unstable operation of the active element due to light can be prevented. In addition, if a spacer is formed in a region that blocks incident light to a wiring such as a gate wiring or a source wiring, reflection of light by the wiring can be prevented, and display quality of the liquid crystal display device can be improved. Further, the spacer can be formed simultaneously with the step of forming the color filter layer.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施の一形態で
ある液晶表示装置40を概略的に示す断面図である。図
1に示す液晶表示装置40は、たとえばアクティブマト
リクス型液晶表示装置であり、第1基板43および第2
基板44を有する。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device 40 according to an embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 40 shown in FIG. 1 is, for example, an active matrix liquid crystal display device, and includes a first substrate 43 and a second substrate 43.
It has a substrate 44.

【0022】第1基板43は、ガラス基板またはプラス
チック基板などの透明基板4の上に、薄膜トランジスタ
(TFT)素子、ソース電極、ゲート電極および補助電
極などを含むTFT回路層1、絶縁層2、絵素電極3、
および配向膜10をこの順に積層して構成される。第2
基板44は、透明基板7上に、カラーフィルタ層5、柱
状のスペーサ19、対向電極6および配向膜11をこの
順に積層して構成される。
The first substrate 43 is formed on a transparent substrate 4 such as a glass substrate or a plastic substrate, and a TFT circuit layer 1 including a thin film transistor (TFT) element, a source electrode, a gate electrode, an auxiliary electrode, etc., an insulating layer 2, Elementary electrode 3,
And the alignment film 10 are laminated in this order. Second
The substrate 44 is formed by laminating a color filter layer 5, a columnar spacer 19, a counter electrode 6, and an alignment film 11 on a transparent substrate 7 in this order.

【0023】カラーフィルタ層5は、樹脂層である赤色
のフィルタ5a、緑色のフィルタ5bおよび青色のフィ
ルタ5cによって構成される。
The color filter layer 5 is composed of a red filter 5a, a green filter 5b and a blue filter 5c, which are resin layers.

【0024】スペーサ19は、カラーフィルタ層5を構
成する赤色のフィルタ5aの上に、青色の樹脂層19b
および緑色の樹脂層19cをこの順に積層して構成され
る。柱状のスペーサ19は、カラーフィルタ層5の表面
から突出し、2枚の基板43,44の間隔を一定に維持
する役割を果たす。なお、スペーサ19は、緑色の樹脂
層19cの上に青色の樹脂層19bが積層される構造で
あってもよい。
The spacer 19 has a blue resin layer 19b on the red filter 5a constituting the color filter layer 5.
And a green resin layer 19c in this order. The columnar spacer 19 protrudes from the surface of the color filter layer 5 and plays a role in maintaining a constant interval between the two substrates 43 and 44. The spacer 19 may have a structure in which a blue resin layer 19b is laminated on a green resin layer 19c.

【0025】カラーフィルタ層5を構成するフィルタ5
a,5b,5cおよびスペーサ19を構成する樹脂層1
9b,19cは、たとえば紫外線によって硬化する感光
性樹脂から成る。スペーサ19を構成する樹脂層19
b,19cは、たとえば一層当たり1〜3μmの厚みを
有し、樹脂層19b,19cを2層重ねたスペーサ19
の厚みは2〜6μmの厚みとなる。また、各フィルタ5
a〜5cと各樹脂層19b,19cとの1層当たりの厚
みは等しい。スペーサ19を構成する樹脂層は2層に限
らず、1層以上であれば1μm以上の基板間隔を保つこ
とができるので、1層以上であればいくらであってもか
まわない。
Filter 5 Constituting Color Filter Layer 5
a, 5b, 5c and Resin Layer 1 Constituting Spacer 19
9b and 19c are made of, for example, a photosensitive resin which is cured by ultraviolet rays. Resin layer 19 constituting spacer 19
b, 19c have a thickness of, for example, 1 to 3 μm per layer, and are spacers 19 in which two resin layers 19b, 19c are stacked.
Has a thickness of 2 to 6 μm. In addition, each filter 5
The thickness of each of the resin layers 19b and 19c is equal to each other. The number of resin layers constituting the spacers 19 is not limited to two, and if one or more layers can be maintained, the substrate interval of 1 μm or more can be maintained.

【0026】図1に示す液晶表示装置40では、赤色の
フィルタ5a上に、青色の樹脂層19bおよび緑色の樹
脂層19cから成るスペーサ19が設けられる構造であ
るが、緑色のフィルタ5b上に、赤色の樹脂層および青
色の樹脂層から成るスペーサが設けられる構造、または
青色のフィルタ5c上に、赤色の樹脂層および緑色の樹
脂層から成るスペーサが設けられる構造であってもかま
わない。このように、赤色の樹脂層、緑色の樹脂層およ
び青色の樹脂層を積層された部分は、優れた遮光性を有
する。なお、スペーサ19およびカラーフィルタ層5
は、たとえばC(シアン)、M(マゼンダ)、Y(イエロー)
に着色された樹脂層から構成されてもよい。
The liquid crystal display device 40 shown in FIG. 1 has a structure in which a spacer 19 composed of a blue resin layer 19b and a green resin layer 19c is provided on a red filter 5a. A structure in which a spacer made of a red resin layer and a blue resin layer is provided, or a structure in which a spacer made of a red resin layer and a green resin layer are provided on the blue filter 5c may be used. Thus, the portion where the red resin layer, the green resin layer, and the blue resin layer are laminated has excellent light-shielding properties. The spacer 19 and the color filter layer 5
Is, for example, C (cyan), M (magenta), Y (yellow)
It may be composed of a colored resin layer.

【0027】図2は、第1基板43のTFT回路層1を
説明するための断面図である。第1基板43では、電気
的絶縁物である透明基板4上に、Ta,Al,Ti,M
oなどの金属から成るゲート配線1bおよび補助容量共
通配線(Cs配線)1cが所定のパターンで形成され、
これらの上にSiNx,SiOxなどの電気的絶縁性に優
れた無機材料から成る絶縁膜1fが形成される。さらに
ゲート配線1b上に形成された絶縁膜1fの一部に、n
型のアモルファスシリコンなどから成る半導体層1gが
形成され、その上にTa,Al,Ti,Moなどの金属
から成るソース電極1hおよびドレイン電極1iが形成
される。さらに、ソース電極1hに接続されるソース配
線1aと、ドレイン電極1iに接続されるドレイン配線
1eとが形成される。ドレイン配線1eは、ドレイン電
極1i上からCs配線1c上の絶縁膜1f上にわたって
形成される。Cs配線1cは、TFT素子1dのゲート
ドレイン間に発生する寄生容量CGDによって液晶の印加
電圧が変動することを抑制するために設けられる。
FIG. 2 is a sectional view for explaining the TFT circuit layer 1 of the first substrate 43. On the first substrate 43, Ta, Al, Ti, M
A gate wiring 1b and a storage capacitor common wiring (Cs wiring) 1c made of a metal such as o are formed in a predetermined pattern.
On these, an insulating film 1f made of an inorganic material having excellent electrical insulation such as SiN x , SiO x is formed. Further, a part of the insulating film 1f formed on the gate wiring 1b includes n
A semiconductor layer 1g made of amorphous silicon or the like is formed, on which a source electrode 1h and a drain electrode 1i made of a metal such as Ta, Al, Ti, and Mo are formed. Further, a source wiring 1a connected to the source electrode 1h and a drain wiring 1e connected to the drain electrode 1i are formed. The drain wiring 1e is formed from over the drain electrode 1i to over the insulating film 1f over the Cs wiring 1c. The Cs wiring 1c is provided to suppress a change in the voltage applied to the liquid crystal due to a parasitic capacitance CGD generated between the gate and the drain of the TFT element 1d.

【0028】このように形成されるTFT回路層1上に
は、有機材料から成る電気的絶縁層2が形成され、この
上にITO(インジウム錫酸化物)などの透明導電膜か
ら成る絵素電極3がマトリクス状に形成される。絶縁層
2には、透孔であるコンタクトホール2aがCs配線1
c上に形成されており、絵素電極3は、コンタクトホー
ル2aによってドレイン配線1eと接触している。
An electrical insulating layer 2 made of an organic material is formed on the TFT circuit layer 1 thus formed, and a pixel electrode made of a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) is formed thereon. 3 are formed in a matrix. In the insulating layer 2, a contact hole 2 a which is a through hole is provided with a Cs wiring 1.
c, and the pixel electrode 3 is in contact with the drain wiring 1e through the contact hole 2a.

【0029】第1基板43および第2基板44は、互い
の配向膜10,11が対向するようにシール材によって
貼合わせられ、スペーサ19によって一定の基板間隔
(セルギャップ)が保たれる。2枚の基板43,44間
にはたとえばツイストネマティック型の液晶8が充填さ
れており、液晶注入口は封止材によって封止される。
The first substrate 43 and the second substrate 44 are bonded together by a sealing material so that the alignment films 10 and 11 face each other, and a constant substrate gap (cell gap) is maintained by the spacer 19. The space between the two substrates 43 and 44 is filled with, for example, a twisted nematic liquid crystal 8, and the liquid crystal injection port is sealed with a sealing material.

【0030】図3および図4は、液層表示装置40にお
けるスペーサ19の第1の配置位置を説明するための平
面図である。図3では、第2基板44に形成されるカラ
ーフィルタ層5およびスペーサ19を示し、図4では、
第1基板43の絵素電極3およびTFT回路層1を示
す。また図4では、基板44,43を貼合わせたときの
スペーサ19の配置位置を仮想線によって示す。
FIGS. 3 and 4 are plan views for explaining the first arrangement position of the spacer 19 in the liquid layer display device 40. FIG. FIG. 3 shows the color filter layer 5 and the spacer 19 formed on the second substrate 44, and FIG.
The picture element electrode 3 and the TFT circuit layer 1 of the first substrate 43 are shown. Also, in FIG. 4, the arrangement position of the spacer 19 when the substrates 44 and 43 are bonded together is indicated by a virtual line.

【0031】図3に示すように、スペーサ19は、直方
体状の青色の樹脂層19bの上に、青色の樹脂層19b
よりも基板に平行な大きさが小さい直方体状の緑色の樹
脂層19cが積層され構成され、形状が略錐体である。
第2基板44では、このように構成されるスペーサ19
とカラーフィルタ層5とを覆うように対向電極6が形成
され、対向電極6上に配向膜11が形成される。
As shown in FIG. 3, a spacer 19 is formed on a blue resin layer 19b in the shape of a rectangular parallelepiped.
A rectangular parallelepiped green resin layer 19c, which is smaller in parallel to the substrate than the substrate, is formed by lamination and has a substantially pyramid shape.
In the second substrate 44, the spacer 19 thus configured
A counter electrode 6 is formed so as to cover and the color filter layer 5, and an alignment film 11 is formed on the counter electrode 6.

【0032】スペーサ19の形状がなだらかであると、
その上に形成される配向膜11もなだらかになる。配向
膜11は、基板44上に液晶材料層を重ね、布などを用
いて表面をこするラビングと呼ばれる処理を行い形成さ
れる。配向膜11がなだらかになると、ラビング処理が
行いやすくなり、ラビング処理のむらを低減することが
できる。
If the shape of the spacer 19 is gentle,
The alignment film 11 formed thereon also becomes gentle. The alignment film 11 is formed by stacking a liquid crystal material layer on the substrate 44 and performing a process called rubbing in which the surface is rubbed with a cloth or the like. When the alignment film 11 becomes gentle, the rubbing process is easily performed, and unevenness in the rubbing process can be reduced.

【0033】図4に示すように、第1基板43は、透明
基板4上に、TFT回路層1として、ソース配線1a、
ゲート配線1b、Cs配線1cおよびTFT素子1dな
どが形成され、その上に絶縁層2および絵素電極3が形
成される。図4において2重線は、絵素電極3を示して
いる。液晶表示装置40は、絵素電極3が、TFT素子
1d、ドレイン配線1eおよびCs配線1c上だけでな
く、ソース配線1aおよびゲート配線1b上にも形成さ
れる高開口率構造の液晶表示装置である。このような高
開口率構造の液晶表示装置では、隣合う絵素電極3間の
隙間が小さく、スペーサ19を絵素域外に配置すること
が困難である。このため、スペーサ19は、絵素域内に
配置される。
As shown in FIG. 4, a first substrate 43 is formed on a transparent substrate 4 as a TFT circuit layer 1 as source wirings 1a,
A gate wiring 1b, a Cs wiring 1c, a TFT element 1d, and the like are formed, and an insulating layer 2 and a pixel electrode 3 are formed thereon. In FIG. 4, the double line indicates the picture element electrode 3. The liquid crystal display device 40 is a liquid crystal display device having a high aperture ratio structure in which the picture element electrode 3 is formed not only on the TFT element 1d, the drain wiring 1e and the Cs wiring 1c, but also on the source wiring 1a and the gate wiring 1b. is there. In the liquid crystal display device having such a high aperture ratio structure, the gap between the adjacent picture element electrodes 3 is small, and it is difficult to arrange the spacer 19 outside the picture element area. For this reason, the spacer 19 is arranged in the picture element area.

【0034】図3および図4に示すスペーサ19は、基
板44,43を貼合わせたときに、TFT素子1dに対
向する部分に配置される。絵素電極3は、TFT素子1
dの上方部分、すなわちスペーサ19に対向する部分に
矩形状の透孔3aが形成されている。
The spacer 19 shown in FIGS. 3 and 4 is arranged at a portion facing the TFT element 1d when the substrates 44 and 43 are bonded. The picture element electrode 3 is a TFT element 1
A rectangular through hole 3a is formed in the upper part of d, that is, in the part facing the spacer 19.

【0035】対向電極6のスペーサ19上に形成された
部分と絵素電極3とが対向した状態で基板44,43が
貼合わせられると、たとえば絵素電極3、対向電極6お
よびスペーサ19に付着した異物などによって、厚みが
約600Å〜1000Åと非常に薄い配向膜10,11
に欠陥が生じ、対向電極6と絵素電極3とが接触し、電
気的に導通するおそれがある。絵素電極3と対向電極6
とが導通すると、電気的に短絡し液晶8に電圧が印加さ
れないといった問題が生じる。これに対して液晶表示装
置40では、絵素電極3のスペーサ19に対向する部分
に透孔3aが形成されているので、絵素電極3と対向電
極6とが接触することを防ぐことができる。
When the substrates 44 and 43 are bonded together in a state where the portion formed on the spacer 19 of the counter electrode 6 and the pixel electrode 3 face each other, for example, the substrate 44 and 43 adhere to the pixel electrode 3, the counter electrode 6 and the spacer 19. Very thin alignment films 10 and 11 having a thickness of about 600 to 1000
And the counter electrode 6 and the pixel electrode 3 may come into contact with each other and become electrically conductive. Pixel electrode 3 and counter electrode 6
Is conducted, there is a problem that an electric short circuit occurs and no voltage is applied to the liquid crystal 8. On the other hand, in the liquid crystal display device 40, since the through-holes 3a are formed in the portions of the pixel electrodes 3 facing the spacers 19, the contact between the pixel electrodes 3 and the counter electrode 6 can be prevented. .

【0036】また、赤色の樹脂層と青色の樹脂層とを積
層した部分は、赤色の樹脂層、緑色の樹脂層および青色
の樹脂層を積層した部分と同程度の遮光性を有する。ス
ペーサ19は、赤色のフィルタ5aの上に青色の樹脂層
19bが積層されるので、充分な遮光性を有する。
The portion where the red resin layer and the blue resin layer are laminated has the same light shielding property as the portion where the red resin layer, the green resin layer and the blue resin layer are laminated. Since the blue resin layer 19b is laminated on the red filter 5a, the spacer 19 has a sufficient light shielding property.

【0037】液晶表示装置40の絵素電極3と対向電極
6とが互いに対向する部分は、絵素域であり、絵素域の
中で光を透過する部分が表示に直接かかわる有効絵素域
である。スペーサ19が有効絵素域に形成されると、有
効絵素域を透過する光を遮り、表示の開口率が低下して
しまう。しかしながら、スペーサ19を、図3および図
4に示すようにTFT素子1dへの入射光を遮る領域に
形成すれば、光によるTFT素子1dの誤作動や不安定
な動作を防止することができる。
The portion of the liquid crystal display device 40 where the picture element electrode 3 and the counter electrode 6 face each other is a picture element area, and a portion of the picture element area that transmits light is an effective picture element area directly related to display. It is. When the spacers 19 are formed in the effective picture element area, light passing through the effective picture element area is blocked, and the aperture ratio of display is reduced. However, if the spacer 19 is formed in a region that blocks light incident on the TFT element 1d as shown in FIGS. 3 and 4, malfunction and unstable operation of the TFT element 1d due to light can be prevented.

【0038】図3および図4では、TFT素子1dに対
向する領域にスペーサ19が設けられるが、スペーサ1
9は一対の基板43,44のうち、少なくとも一方の基
板が遮光性を有する領域、たとえばゲート配線1b、ソ
ース配線1aまたはブラックマトリクスなどが配置され
る領域に形成されると、スペーサ19による液晶表示装
置の開口率の低下を防止することができるうえに、スペ
ーサ19による配向膜11のラビング処理のむらを隠す
ことができる。また、ゲート配線1b、ソース配線1a
などの配線への入射光を遮る領域にスペーサ19を形成
すれば、配線による光の反射を防止することができ、液
晶表示装置40の表示品位を向上することができる。
In FIGS. 3 and 4, the spacer 19 is provided in a region facing the TFT element 1d.
Reference numeral 9 denotes a liquid crystal display by the spacers 19 when at least one of the pair of substrates 43 and 44 is formed in a region having a light-shielding property, for example, in a region where the gate wiring 1b, the source wiring 1a, or a black matrix is arranged. In addition to preventing a decrease in the aperture ratio of the device, it is possible to hide unevenness in the rubbing of the alignment film 11 by the spacer 19. Further, the gate wiring 1b and the source wiring 1a
If the spacer 19 is formed in a region that blocks incident light to the wiring such as, the reflection of light by the wiring can be prevented, and the display quality of the liquid crystal display device 40 can be improved.

【0039】図5および図6は、液層表示装置40にお
けるスペーサ19の第2の配置位置を説明するための平
面図である。図5では、第2基板44に形成されるカラ
ーフィルタ層5、遮光部45およびスペーサ19を示
し、図6では、第1基板43の絵素電極3およびTFT
回路層1を示す。また図6では、基板44,43を貼合
わせたときのスペーサ19の配置位置を仮想線によって
示す。
FIGS. 5 and 6 are plan views for explaining the second arrangement position of the spacer 19 in the liquid layer display device 40. FIG. FIG. 5 shows the color filter layer 5, the light shielding portion 45 and the spacer 19 formed on the second substrate 44, and FIG.
1 shows a circuit layer 1. In FIG. 6, the position of the spacer 19 when the substrates 44 and 43 are bonded to each other is indicated by a virtual line.

【0040】図5に示す第2基板44では、スペーサ1
9はCs配線1cに対向する領域に配置され、TFT素
子1dに対向する部分に遮光部45が形成されている。
遮光部45は、光によるTFT素子1dの誤作動や不安
定な動作を防止するために設けられ、赤色のフィルタ5
aの上に青色の樹脂層19bが重ねられ構成される。
On the second substrate 44 shown in FIG.
Reference numeral 9 denotes a light-shielding portion 45 which is arranged in a region facing the Cs wiring 1c and which faces the TFT element 1d.
The light-shielding portion 45 is provided to prevent malfunction and unstable operation of the TFT element 1d due to light.
A blue resin layer 19b is superposed on “a”.

【0041】スペーサ19は、Cs配線1cに対向する
領域に設けられることによって、前述したようにスペー
サ19による液晶表示装置の開口率の低下を防止するこ
とができ、スペーサ19による配向膜11のラビング処
理のむらを隠すことができ、さらにCs配線1cによる
光の反射を防止することができる。
Since the spacer 19 is provided in a region facing the Cs wiring 1c, it is possible to prevent the aperture ratio of the liquid crystal display device from being lowered by the spacer 19 as described above, and to rub the alignment film 11 by the spacer 19. The processing unevenness can be hidden, and the reflection of light by the Cs wiring 1c can be prevented.

【0042】図6に示す絵素電極3は、Cs配線1cの
上方部分、すなわちスペーサ19に対向する部分に矩形
状の透孔3aが形成されている。これによって、絵素電
極3と対向電極6とが接触し、導通することを防ぐこと
ができる。
In the picture element electrode 3 shown in FIG. 6, a rectangular through hole 3a is formed in a portion above the Cs wiring 1c, that is, in a portion facing the spacer 19. This can prevent the pixel electrode 3 and the counter electrode 6 from contacting and conducting.

【0043】なお、図4および図6に示す第1基板43
では、絵素電極3に矩形状の透孔3aが設けられるが、
これに限らずたとえば絵素電極3にスペーサ19が一部
だけ対向する構成では、絵素電極3に切欠き部分を設け
てもよいし、スペーサ19の上面が円状であれば、絵素
電極3に円状の透孔を設けてもよい。このように、絵素
電極3のスペーサ19に対向する領域を除去することに
よって、絵素電極3と対向電極6との導通を防止するこ
とができる。
The first substrate 43 shown in FIGS.
In the above, the pixel electrode 3 is provided with a rectangular through hole 3a,
However, the present invention is not limited to this. For example, in a configuration in which the spacer 19 partially faces the pixel electrode 3, a cutout portion may be provided in the pixel electrode 3. 3 may be provided with a circular through-hole. In this way, by removing the region of the pixel electrode 3 facing the spacer 19, conduction between the pixel electrode 3 and the counter electrode 6 can be prevented.

【0044】絵素電極3は、成膜後のパターニング工程
によってマトリクス状に形成されるので、このパターニ
ング工程に用いるマスク版のマスク部の形状を変えるこ
とによって、工程を追加することなく形状を変更するこ
とができる。したがって、絵素電極3のスペーサ19に
対向する部分を除去する場合は、工程を追加することな
く、また製造コストを増加することなく、絵素電極3と
対向電極6との導通を防ぐことができる。
Since the pixel electrodes 3 are formed in a matrix by a patterning step after film formation, the shape of the mask portion of the mask plate used in this patterning step is changed without adding a step. can do. Therefore, when the portion of the pixel electrode 3 facing the spacer 19 is removed, conduction between the pixel electrode 3 and the counter electrode 6 can be prevented without adding a step and without increasing the manufacturing cost. it can.

【0045】本実施の形態では、基板43,44の貼合
わせによるずれを考慮し、基板43,44を貼合せたと
きに、絵素電極3とスペーサ19の上面との基板に平行
な距離が約10μm以上離れるように、絵素電極3が除
去され、矩形状の透孔3aが設けられる。
In this embodiment, considering the displacement due to the bonding of the substrates 43 and 44, when the substrates 43 and 44 are bonded, the distance between the pixel electrode 3 and the upper surface of the spacer 19 is parallel to the substrate. The picture element electrode 3 is removed so as to be separated by about 10 μm or more, and a rectangular through hole 3a is provided.

【0046】なお、液晶表示装置40は、絵素電極のス
ペーサに対向する部分のみが除去される構成であるが、
本発明はこれに限定されず、対向電極をパターニングす
ることによって、スペーサ上部の対向電極が除去される
構成であっても、絵素電極のスペーサに対向する部分と
スペーサ上部の対向電極とが除去される構成であって
も、絵素電極と対向電極との導通を防ぐことが可能であ
る。
The liquid crystal display device 40 has a configuration in which only the portion of the pixel electrode facing the spacer is removed.
The present invention is not limited to this. Even when the counter electrode on the spacer is removed by patterning the counter electrode, the portion of the pixel electrode facing the spacer and the counter electrode on the spacer are removed. With such a configuration, it is possible to prevent conduction between the pixel electrode and the counter electrode.

【0047】図7は、本発明の実施の他の形態である液
晶表示装置41の概略的な構成を示す断面図である。以
下、液晶表示装置41において、図1に示す液晶表示装
置40と同様に構成される箇所については説明を省略す
る。
FIG. 7 is a sectional view showing a schematic structure of a liquid crystal display device 41 according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, in the liquid crystal display device 41, description of portions configured similarly to the liquid crystal display device 40 illustrated in FIG. 1 will be omitted.

【0048】図1に示す液晶表示装置40では、絵素電
極3のスペーサ19に対向する部分が除去され、透孔3
aが形成されるが、図7に示す液晶表示装置41では絵
素電極3のスペーサ19に対向する部分を除去せずに、
スペーサ19に対向する部分の絵素電極3の上に電気的
絶縁膜12、たとえばCVD(化学的気相成長法)など
で成膜する無機材料の絶縁膜、または樹脂などの有機材
料の絶縁膜が形成されている。これによって、絵素電極
3と対向電極6との接触および電気的導通を防ぐことが
でき、前述の液晶8に電圧が印加されないといった問題
を解決することができる。なお、本実施の形態では、絵
素電極3の上に絶縁膜12が形成されるが、スペーサ1
9の上に形成される対向電極6の表面に絶縁膜が形成さ
れてもよく、スペーサ19の上に形成される対向電極6
と絵素電極3との間に電気的絶縁膜が介在されればよ
い。
In the liquid crystal display device 40 shown in FIG. 1, the portion of the pixel electrode 3 facing the spacer 19 is removed,
a is formed, but in the liquid crystal display device 41 shown in FIG. 7, the portion of the pixel electrode 3 facing the spacer 19 is not removed,
An electrical insulating film 12, for example, an inorganic insulating film formed by CVD (Chemical Vapor Deposition) or the like, or an organic insulating film such as resin on the portion of the pixel electrode 3 facing the spacer 19 Are formed. Thereby, contact and electrical conduction between the pixel electrode 3 and the counter electrode 6 can be prevented, and the problem that no voltage is applied to the liquid crystal 8 can be solved. In this embodiment, the insulating film 12 is formed on the picture element electrode 3, but the spacer 1
An insulating film may be formed on the surface of the counter electrode 6 formed on the
It is sufficient that an electrical insulating film is interposed between the pixel electrode 3 and the pixel electrode 3.

【0049】図8は、スペーサ19およびカラーフィル
タ層5の形成手順を示すフローチャートである。図8に
示す形成手順では、カラーフィルタ層5およびスペーサ
19を構成する赤色の樹脂層、青色の樹脂層および緑色
の樹脂層に、カーボンの微粒子を樹脂に分散させた黒色
の樹脂層であるブラックマトリクスを加えて、合計4色
の樹脂層が形成される。ブラックマトリクスは、第4色
目の樹脂層として、カラーフィルタ層5およびスペーサ
19が形成された後に形成される。
FIG. 8 is a flowchart showing a procedure for forming the spacer 19 and the color filter layer 5. In the forming procedure shown in FIG. 8, a black resin layer in which carbon fine particles are dispersed in a resin is added to a red resin layer, a blue resin layer, and a green resin layer constituting the color filter layer 5 and the spacer 19. By adding the matrix, resin layers of a total of four colors are formed. The black matrix is formed after the color filter layer 5 and the spacer 19 are formed as the fourth color resin layer.

【0050】次に、各色の樹脂層の形成手順について説
明する。基板7の樹脂層を形成する表面を洗浄する。洗
浄した透明基板7に、後述するドライフィルムラミネー
ト法によって、支持体フィルムおよび赤色の樹脂膜から
構成されるドライフィルムを圧着し貼付け、ドライフィ
ルムの支持体フィルムを剥離する。ドライフィルムとし
ては、たとえばトランサーフィルム(富士写真フィルム
株式会社製の商品名)を用いることができる。
Next, the procedure for forming the resin layers of each color will be described. The surface of the substrate 7 on which the resin layer is to be formed is cleaned. A dry film composed of a support film and a red resin film is pressure-bonded and adhered to the washed transparent substrate 7 by a dry film lamination method described later, and the support film of the dry film is peeled off. As the dry film, for example, a transer film (trade name, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) can be used.

【0051】その後、透明基板7上に貼付けられた赤色
の樹脂膜の上方に、透明シート14上にパターニングさ
れたマスク部を備えるマスク版を、位置を合わせて配置
する。マスク版は、赤色の樹脂膜の赤色のフィルタ5a
となる部分に紫外線が照射するように、パターニングさ
れたマスク部を有する。次にマスク版の上方から紫外線
を照射し露光する。露光によって赤色のフィルタ5aと
成る部分が硬化した樹脂膜に対して、現像、ポスト露光
およびポストベーグを行って、1色目の樹脂層である赤
色のフィルタ5aを形成する。その後、赤色のフィルタ
5aと同様に、2色目の樹脂層である青色のフィルタ5
bおよび青色の樹脂層19bを形成し、次に3色目の樹
脂層である緑色のフィルタ5cおよび緑色の樹脂層19
cを形成し、4色目の樹脂層であるブラックマトリクス
を形成する。このように、青色の樹脂層19bおよび緑
色の樹脂層19cから成るスペーサ19は、青色のフィ
ルタ5bおよび緑色のフィルタ5cを形成するカラーフ
ィルタ層5の形成工程で同時に形成することができる。
Thereafter, a mask plate having a mask portion patterned on the transparent sheet 14 is arranged above the red resin film adhered on the transparent substrate 7 so as to be aligned. The mask plate is a red filter 5a made of a red resin film.
A mask portion patterned so that ultraviolet light is irradiated to a portion to be formed. Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet rays from above the mask plate. Development, post-exposure, and post-bake are performed on the resin film in which the portion to be the red filter 5a is hardened by the exposure, to form the red filter 5a as the first color resin layer. After that, similarly to the red filter 5a, the blue filter 5 which is the resin layer of the second color is used.
b and the blue resin layer 19b, and then the green filter 5c and the green resin layer 19, which are the third color resin layers.
Then, a black matrix which is a resin layer of the fourth color is formed. As described above, the spacer 19 composed of the blue resin layer 19b and the green resin layer 19c can be formed simultaneously in the step of forming the color filter layer 5 for forming the blue filter 5b and the green filter 5c.

【0052】ブラックマトリクスは、カラーフィルタ層
5およびスペーサ19を形成する前に、第1色目の樹脂
層として形成してもよい。ブラックマトリクスの代わり
に、赤色の樹脂層、緑色の樹脂層および青色の樹脂層を
積層することによって遮光層を形成する場合は、ブラッ
クマトリクスの形成手順を省略してもよい。また、スペ
ーサ19を、ブラックマトリクスを構成する黒色の樹脂
層から形成してもよい。
The black matrix may be formed as a first color resin layer before forming the color filter layer 5 and the spacer 19. When the light shielding layer is formed by laminating a red resin layer, a green resin layer, and a blue resin layer instead of the black matrix, the procedure for forming the black matrix may be omitted. Further, the spacer 19 may be formed from a black resin layer forming a black matrix.

【0053】図9は、樹脂膜を形成するドライフィルム
ラミネート法を説明するための断面図である。まず、図
9(a)に基づいて、たとえばPET(ポリエチレンテ
レフタレート)から成るシート状の透明なベースフィル
ム31の上に、樹脂膜20が形成されて成るドライフィ
ルム18の形成方法について述べる。
FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining a dry film laminating method for forming a resin film. First, a method of forming the dry film 18 in which the resin film 20 is formed on a sheet-like transparent base film 31 made of, for example, PET (polyethylene terephthalate) will be described with reference to FIG.

【0054】ドライフィルム18を形成するには、ベー
スフィルム31の上に、液体状の樹脂をスリットコータ
などの塗工機を用いて、塗布用保護スリット23から均
一に塗布する。次に、ヒータ24を用いて100℃で5
分間乾燥させ樹脂膜20を形成し、さらに樹脂膜20の
膜面に、ポリエチレンテレフタレートから成る保護フィ
ルム21を形成することで得ることができる。
In order to form the dry film 18, a liquid resin is uniformly applied onto the base film 31 from the application protection slit 23 using an application machine such as a slit coater. Next, 5 minutes at 100 ° C. using the heater 24.
The resin film 20 is formed by drying the resin film for 20 minutes, and a protective film 21 made of polyethylene terephthalate is formed on the surface of the resin film 20.

【0055】保護フィルム層21は、樹脂膜20の損傷
または異物の付着を防止するために設けられる。このよ
うに形成されたドライフィルム18は、ロール状に巻取
られてロール状ドライフィルム22となる。なお、樹脂
膜20には、特に制限なく公知の材料を使用することが
できるが、紫外線によって硬化するアクリル系の感光性
樹脂材料を用いることが好ましい。なお、必要に応じ
て、ベースフィルム31と樹脂膜20との間に、保護用
の酸素遮断膜などの中間層を設けてもよい。
The protective film layer 21 is provided to prevent the resin film 20 from being damaged or foreign matter from adhering. The dry film 18 formed as described above is wound into a roll to form a roll-shaped dry film 22. A known material can be used for the resin film 20 without any particular limitation, but it is preferable to use an acrylic photosensitive resin material that is cured by ultraviolet rays. If necessary, an intermediate layer such as a protective oxygen barrier film may be provided between the base film 31 and the resin film 20.

【0056】次に、図9(b)に示すように、作成され
たドライフィルム18を、真空ラミネータを用いて透明
基板7に転写する。前記真空ラミネータとしては、たと
えばアンガーエレクトロニック(ANGER ELECTRONIC)
(GMBH社製商品名)の、VA-CUUM LAMINATOR TYPE V
CLなどがある。
Next, as shown in FIG. 9B, the produced dry film 18 is transferred to the transparent substrate 7 using a vacuum laminator. As the vacuum laminator, for example, ANGER ELECTRONIC
VA-CUUM LAMINATOR TYPE V from GMBH
There are CL and others.

【0057】ロール状ドライフィルム22から、透明基
板7付近まで誘導されたドライフィルム18は、透明基
板7への転写直前に保護フィルム21が剥離装置27に
よって剥離される。保護フィルム21が剥離された後、
ドライフィルム18は、転写ローラ25によって透明基
板7に加熱・圧着される。剥離された保護フィルム21
は、保護フィルム巻取りローラ28に巻取られ、感光性
樹脂20が転写された後に残るベースフィルム31は、
ベースフィルム巻取りローラ29に巻取られる。
The protective film 21 is peeled off by the peeling device 27 immediately before the dry film 18 guided from the roll-shaped dry film 22 to the vicinity of the transparent substrate 7 is transferred to the transparent substrate 7. After the protective film 21 is peeled off,
The dry film 18 is heated and pressed on the transparent substrate 7 by the transfer roller 25. Peeled protective film 21
Is wound on the protective film winding roller 28, and the base film 31 remaining after the photosensitive resin 20 is transferred is
The film is wound on a base film winding roller 29.

【0058】転写ローラ25とロール状ドライフィルム
22との間には、ロール状ドライフィルム22からのド
ライフィルム18の導入領域26にて、ドライフィルム
18に弛みやしわが発生しないようテンションがかけら
れている。導入領域26での弛みやしわは、透明基板7
への転写時に発生し、樹脂膜20のむら、気泡のかみ込
みの原因となる。これを防ぐため、前記テンションは、
使用する樹脂膜20の材料および転写する透明基板7の
サイズに応じて設定される。
A tension is applied between the transfer roller 25 and the roll-shaped dry film 22 in an area 26 where the dry film 18 is introduced from the roll-shaped dry film 22 so that the dry film 18 does not loosen or wrinkle. ing. The looseness or wrinkles in the introduction region 26
This occurs during transfer to the substrate, causing unevenness of the resin film 20 and entrapment of air bubbles. To prevent this, the tension is
It is set according to the material of the resin film 20 to be used and the size of the transparent substrate 7 to be transferred.

【0059】このようにドライフィルムラミネート法で
は、均一な膜厚の樹脂膜を圧着して貼付けるので、厚み
が均一な樹脂層を形成することができる。したがって、
スペーサ19の厚みを均一にすることができ、基板間隔
を均一に保つことができる。なお、図8および図9で
は、ドライフィルムラミネート法による樹脂膜の形成手
順を説明したが、本発明はこれに限定されず、たとえば
スリットを有する塗工機、または遠心力によって液状の
樹脂を均一に広げるスピンコータによって樹脂膜を形成
してもかまわない。
As described above, in the dry film laminating method, since a resin film having a uniform thickness is bonded by pressing, a resin layer having a uniform thickness can be formed. Therefore,
The thickness of the spacer 19 can be made uniform, and the distance between the substrates can be kept uniform. 8 and 9, the procedure for forming the resin film by the dry film laminating method has been described, but the present invention is not limited to this. For example, a coating machine having slits, or a liquid resin is made uniform by centrifugal force. The resin film may be formed by a spin coater that spreads out.

【0060】以上、TFT素子を有する液晶表示装置に
ついて説明したが、本発明はこれに限らずMIM(Meta
l Insulator Metal)素子などの2端子型のアクティブ
素子を有する液晶表示装置にも適用することができる。
また、透過型の液晶表示装置だけでなく、反射型の液晶
表示装置にも適用することができる。
Although the liquid crystal display device having the TFT element has been described above, the present invention is not limited to this, and the MIM (Meta
The present invention can also be applied to a liquid crystal display device having a two-terminal type active element such as an (Insulator Metal) element.
Further, the present invention can be applied to not only a transmission type liquid crystal display device but also a reflection type liquid crystal display device.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、前記スペ
ーサが配置される領域の絵素電極または対向電極が除去
されるので、絵素電極と対向電極との接触を防止するこ
とができ、絵素電極と対向電極とが導通することを防止
することができる。
As described above, according to the present invention, the pixel electrode or the counter electrode in the region where the spacer is arranged is removed, so that the contact between the pixel electrode and the counter electrode can be prevented. In addition, conduction between the picture element electrode and the counter electrode can be prevented.

【0062】本発明によれば、前記絵素電極は、切欠き
部分または透孔部分を有し、前記スペーサは、絵素電極
の前記切欠き部分または透孔部分に対向する領域に配置
されるので、スペーサ上に形成される対向電極と絵素電
極とが対向することを防止することができ、絵素電極と
対向電極との接触を防止することができる。
According to the present invention, the picture element electrode has a notch or a hole, and the spacer is arranged in a region of the picture electrode facing the notch or the hole. Therefore, the opposing electrode formed on the spacer and the pixel electrode can be prevented from opposing each other, and the contact between the pixel electrode and the opposing electrode can be prevented.

【0063】なお、絵素電極は、成膜後のパターニング
工程によってマトリクス状に形成されるので、このパタ
ーニング工程に用いるマスク版のマスク部の形状を変え
ることによって、工程を追加することなく、また製造コ
ストを増加することなく、絵素電極と対向電極との導通
を防ぐことができる。
Since the pixel electrodes are formed in a matrix by a patterning step after the film formation, the shape of the mask portion of the mask plate used in the patterning step is changed without adding a step. The conduction between the pixel electrode and the counter electrode can be prevented without increasing the manufacturing cost.

【0064】また本発明によれば、前記スペーサは、他
方基板の絵素電極と対向する領域に配置され、前記スペ
ーサ上に形成される対向電極と他方基板の絵素電極との
間には、電気的絶縁膜が介在されるので、絵素電極と対
向電極との接触を防止することができ、導通を防止する
ことができる。
Further, according to the present invention, the spacer is arranged in a region facing the picture element electrode of the other substrate, and is provided between the counter electrode formed on the spacer and the picture element electrode of the other substrate. Since the electrical insulating film is interposed, contact between the pixel electrode and the counter electrode can be prevented, and conduction can be prevented.

【0065】また本発明によれば、前記スペーサは、液
晶表示装置の光を透過しない領域に配置されるので、ス
ペーサによる液晶表示装置の開口率の低下を防止するこ
とができ、スペーサによる配向膜のラビング処理のむら
を隠すことができる。
Further, according to the present invention, since the spacer is disposed in a region of the liquid crystal display device which does not transmit light, it is possible to prevent a decrease in the aperture ratio of the liquid crystal display device due to the spacer, and to provide an alignment film using the spacer. Rubbing process can be hidden.

【0066】また本発明によれば、前記スペーサが形成
される部分は、カラーフィルタ層を構成する樹脂層を含
んで、赤色、緑色および青色の3色の樹脂層が積層され
るので、優れた遮光性を有する。
Further, according to the present invention, the portion where the spacer is formed includes the resin layer constituting the color filter layer, and the resin layers of three colors of red, green and blue are laminated. Has light-shielding properties.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態である液晶表示装置40
の概略的な構成を示す断面図である。
FIG. 1 shows a liquid crystal display device 40 according to an embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the schematic structure of.

【図2】第1基板43のTFT回路層1を説明するため
の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a TFT circuit layer 1 of a first substrate 43.

【図3】液層表示装置40におけるスペーサ19の第1
の配置位置を説明するための平面図である。
3 shows a first example of a spacer 19 in the liquid layer display device 40. FIG.
FIG. 3 is a plan view for explaining the arrangement position of the.

【図4】液層表示装置40におけるスペーサ19の第1
の配置位置を説明するための平面図である。
FIG. 4 shows a first example of a spacer 19 in the liquid layer display device 40.
FIG. 3 is a plan view for explaining the arrangement position of the.

【図5】液層表示装置40におけるスペーサ19の第1
の配置位置を説明するための平面図である。
FIG. 5 shows a first example of a spacer 19 in the liquid layer display device 40.
FIG. 3 is a plan view for explaining the arrangement position of the.

【図6】液層表示装置40におけるスペーサ19の第1
の配置位置を説明するための平面図である。
FIG. 6 shows a first example of the spacer 19 in the liquid layer display device 40.
FIG. 3 is a plan view for explaining the arrangement position of the.

【図7】本発明の実施の他の形態である液晶表示装置4
1の概略的な構成を示す断面図である。
FIG. 7 is a liquid crystal display device 4 according to another embodiment of the present invention.
1 is a sectional view showing a schematic configuration of FIG.

【図8】スペーサ19およびカラーフィルタ層5の形成
手順を示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a procedure for forming a spacer 19 and a color filter layer 5;

【図9】樹脂膜を形成するドライフィルムラミネート法
を説明するための断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining a dry film laminating method for forming a resin film.

【図10】従来の液晶表示装置42の概略的な構成を示
す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a schematic configuration of a conventional liquid crystal display device 42.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 TFT回路層 2 絶縁層 3 絵素電極 3a 透孔 4,7 透明基板 5 カラーフィルタ層 5a 赤色のフィルタ 5b 青色のフィルタ 5c 緑色のフィルタ 6 対向電極 8 液晶 10,11 配向膜 12 絶縁膜 18 ドライフィルム 19 スペーサ 19b 青色の樹脂層 19c 緑色の樹脂層 20 樹脂膜 21 保護フィルム層 22 ロール状ドライフィルム 23 保護スリット 24 ヒータ 25 転写ローラ 26 導入領域 27 保護フィルム剥離装置 28 保護フィルム巻取りローラ 29 ベースフィルム巻取りローラ 31 ベースフィルム 40,41 液晶表示装置 43 第1基板 44 第2基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 TFT circuit layer 2 Insulating layer 3 Pixel electrode 3a Through-hole 4,7 Transparent substrate 5 Color filter layer 5a Red filter 5b Blue filter 5c Green filter 6 Counter electrode 8 Liquid crystal 10,11 Alignment film 12 Insulating film 18 Dry Film 19 Spacer 19b Blue resin layer 19c Green resin layer 20 Resin film 21 Protective film layer 22 Rolled dry film 23 Protective slit 24 Heater 25 Transfer roller 26 Introducing area 27 Protective film peeling device 28 Protective film take-up roller 29 Base film Take-up roller 31 Base film 40, 41 Liquid crystal display 43 First substrate 44 Second substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA45 BB02 BB07 BB08 BB44 2H089 LA12 QA14 QA16 TA02 TA05 TA09 TA12 2H091 FB02 GA03 GA08 GA13 LA16 MA10 5C094 AA06 AA08 AA21 BA03 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA07 EB02 EC04 ED03 ED15 FB12 FB15  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 2H048 BA45 BB02 BB07 BB08 BB44 2H089 LA12 QA14 QA16 TA02 TA05 TA09 TA12 2H091 FB02 GA03 GA08 GA13 LA16 MA10 5C094 AA06 AA08 AA21 BA03 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 EA04 FB15

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の間隔をあけて対向して配置される
一対の基板間に液晶層を介在して成り、一対の基板のう
ちいずれか一方基板に、平面的に配置される複数の樹脂
層から成るカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ層の
表面に形成されるスペーサ、および前記カラーフィルタ
層とスペーサとを覆う対向電極を備え、他方基板に絵素
電極を備える液晶表示装置において、 前記スペーサは、他方基板の絵素電極と対向する領域に
配置され、絵素電極のスペーサに対向する部分またはス
ペーサ上部の対向電極が除去されていることを特徴とす
る液晶表示装置。
A liquid crystal layer is interposed between a pair of substrates disposed opposite to each other at a predetermined interval, and a plurality of resins arranged in a plane on one of the pair of substrates. A liquid crystal display device comprising a color filter layer comprising a layer, a spacer formed on the surface of the color filter layer, and a counter electrode covering the color filter layer and the spacer, and a picture element electrode on the other substrate. A liquid crystal display device which is disposed in a region of the other substrate facing the picture element electrode, and in which a part of the picture element electrode facing the spacer or a counter electrode on the spacer is removed.
【請求項2】 前記絵素電極は、スペーサに対向する部
分に透孔または切欠きを有することを特徴とする請求項
1記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the picture element electrode has a through hole or a notch at a portion facing the spacer.
【請求項3】 所定の間隔をあけて対向して配置される
一対の基板間に液晶層を介在して成り、一対の基板のう
ちいずれか一方基板に、平面的に配置される複数の樹脂
層から成るカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ層の
表面に形成されるスペーサ、および前記カラーフィルタ
層とスペーサとを覆う対向電極を備え、他方基板に絵素
電極を備える液晶表示装置において、 前記スペーサは、他方基板の絵素電極と対向する領域に
配置され、前記スペーサ上に形成される対向電極と他方
基板の絵素電極との間には、電気的絶縁膜が介在される
ことを特徴とする液晶表示装置。
3. A plurality of resins arranged in a plane on one of the pair of substrates with a liquid crystal layer interposed between a pair of substrates arranged opposite to each other at a predetermined interval. A liquid crystal display device comprising a color filter layer comprising a layer, a spacer formed on the surface of the color filter layer, and a counter electrode covering the color filter layer and the spacer, and a picture element electrode on the other substrate. An electric insulating film is interposed between the counter electrode formed on the spacer and the picture element electrode of the other substrate, disposed in a region facing the picture element electrode of the other substrate. Liquid crystal display.
【請求項4】 前記スペーサは、液晶表示装置の光を透
過しない領域に配置されることを特徴とする請求項1〜
3のいずれかに記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is disposed in a region of the liquid crystal display device that does not transmit light.
3. The liquid crystal display device according to any one of 3.
【請求項5】 前記カラーフィルタ層は、赤色の樹脂
層、緑色の樹脂層および青色の樹脂層を含んで構成さ
れ、前記スペーサは、前記カラーフィルタ層の表面に、
これらの樹脂層が2層積層されて構成され、カラーフィ
ルタ層を構成する樹脂層を含んで3色の樹脂層が積層さ
れることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の
液晶表示装置。
5. The color filter layer includes a red resin layer, a green resin layer, and a blue resin layer, and the spacer is provided on a surface of the color filter layer.
The liquid crystal according to any one of claims 1 to 4, wherein two layers of these resin layers are laminated, and three color resin layers are laminated including a resin layer constituting a color filter layer. Display device.
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