JP2001091727A - Production method of color filter substrate, color filter substrate and liquid crystal display device - Google Patents

Production method of color filter substrate, color filter substrate and liquid crystal display device

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JP2001091727A
JP2001091727A JP27147499A JP27147499A JP2001091727A JP 2001091727 A JP2001091727 A JP 2001091727A JP 27147499 A JP27147499 A JP 27147499A JP 27147499 A JP27147499 A JP 27147499A JP 2001091727 A JP2001091727 A JP 2001091727A
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Application number
JP27147499A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Inoue
Hideki Matsukawa
Masanori Yoshida
浩治 井上
正典 吉田
秀樹 松川
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
松下電器産業株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a color filter substrate which does not lower the display grade of a liquid crystal panel and ensures no increase in cost while adopting columnar spacers. SOLUTION: A colored layer 16 (16R) is formed on a glass substrate 2a, exposed and developed, red, green and blue colored pixels 6R, 6G, 6B are formed in the required pattern shape and a light shielding layer 16K is formed on the pixels 6R, 6G, 6B, exposed from the rear face of the substrate 2a through the pixels 6R, 6G, 6B as a light shielding mask and exposed from the front face of the substrate 2a through a mask 17b having a columnar spacer pattern formed in a prescribed shape. The exposed light shielding layer 16K is developed to form a light shielding film 32 and columnar spacers 33 in one united body.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置のカラー化を目的としたカラーフィルタ基板の製造方法に関し、より詳細には、基板上に柱状スペーサを形成し、液晶表示装置形成時にスペーサ散布を不要としたカラーフィルタ基板とその製造方法と同基板を用いた液晶表示装置とに関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a color filter substrate for the purpose of color of the liquid crystal display device, and more particularly, a columnar spacer is formed on a substrate and spacer spraying when the liquid crystal display device formed and to a liquid crystal display device using a method of manufacturing the same substrate as unnecessary the color filter substrate and.

【0002】 [0002]

【従来の技術】図9は、従来の薄膜トランジスタ(Th BACKGROUND ART FIG. 9, a conventional thin film transistor (Th
in Film Transister、以下、「TF in Film Transister, hereinafter referred to as "TF
T」と称す。 Referred to as T ". )型の液晶表示装置(以下「液晶パネル」 ) Type liquid crystal display device (hereinafter referred to as "liquid crystal panel"
と称す。 Referred to as. )の一例の断面構成を示し、図10はその液晶パネルの表示領域の平面構成を示す。 Shows an example of the cross-sectional configuration), FIG. 10 shows a planar structure of a display region of the liquid crystal panel.

【0003】図9に示すように、液晶パネル1は、ガラス基板2b上にスイッチング能動素子(以下「能動素子」と称す。)3が形成されたアレイ基板4と、ガラス基板2a上にR、G、Bの各着色画素6R、6G、6B [0003] As shown in FIG. 9, the liquid crystal panel 1, on the glass substrate 2b the switching active element (hereinafter referred to as "active element".) 3 and the array substrate 4 is formed, R on the glass substrate 2a, G, the individual colored pixels 6R of B, 6G, 6B
が形成されたカラーフィルタ基板5とを、一方の基板(4または5)上に散布することにより点在させた球状スペーサ7を介してシール材8にて貼り合わせ、両ガラス基板2a、2bの間隙に液晶9を介在させることにより、構成されている。 There the color filter substrate 5 formed, bonded at one of the substrate (4 or 5) via the spherical spacers 7 interspersed by spraying on the sealant 8, the glass substrates 2a, 2b of by interposing the liquid crystal 9 in the gap, it is constituted.

【0004】液晶パネル1に用いるアレイ基板4の一例としては、ガラス基板2bの上に信号線および走査線と共に形成された能動素子3がマトリックス状に配置され、その上に平坦化膜10および画素電極11が形成されている。 [0004] Examples of the array substrate 4 used in the liquid crystal panel 1, an active element 3 formed with signal lines and scanning lines on the glass substrate 2b are arranged in a matrix, the planarizing film 10 and the pixel on the electrode 11 is formed. 能動素子3と画素電極11とは、コンタクトホール12を介して電気的に導通されている。 The active element 3 and the pixel electrode 11 are electrically conducted through the contact hole 12. 一方、カラーフィルタ基板5の一例として図10にその平面図を示すように、カラーフィルタ基板5は、ガラス基板2a On the other hand, as shown in the plan view in FIG. 10 as an example of a color filter substrate 5, color filter substrate 5, glass substrate 2a
の上にマトリックス状の遮光膜13が形成されており、 Matrix of light-shielding film 13 is formed on the,
その間隙にはRGBの各着色画素6R、6G、6Bが形成され、遮光膜13の膜面上には透明電極21(図9参照)が形成されている。 Its the gap the colored pixels of RGB 6R, 6G, 6B are formed on the film surface of the light-shielding film 13 transparent electrode 21 (see FIG. 9) is formed.

【0005】これらカラーフィルタ基板5とアレイ基板4との相対向する面には、それぞれ配向膜14a、14 [0005] opposing surfaces of these color filter substrate 5 and the array substrate 4, respectively orientation films 14a, 14
bが形成されており、液晶パネル1の表裏面には、用途に応じて偏光板が貼り付けられる。 b is formed, on the front and back surfaces of the liquid crystal panel 1, polarizing plates are stuck depending on the application. ここで、一般的なカラーフィルタ基板5の形成方法について説明する。 Here, the method of forming the general color filter substrate 5 will be described. カラーフィルタ基板5は、遮光膜13として、クロム膜や顔料分散した樹脂ブラック膜等が用いられる。 The color filter substrate 5, as the light shielding film 13, a chromium film or a pigment dispersed resin black film or the like is used. また、カラーフィルタ基板の各着色画素6R、6G、6Bの形成方法として、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、フィルム転写法、インクジェット法等の工法が開発され、それぞれ開示されている。 Further, the colored pixels 6R of the color filter substrate, 6G, as a method of forming 6B, dyeing, pigment dispersion method, a printing method, an electrodeposition method, a film transfer method, method such as an inkjet method have been developed and are disclosed, respectively there.

【0006】これら工法のうち、フィルム転写法は高歩留、大型基板対応が容易であることから有効な工法の一つに挙げられており、以下このフィルム転写法について説明する。 [0006] Of these method, the film transfer method high yield, has been cited as one of the effective method since a large substrate corresponding is easy, it will be described below the film transfer method. 図11(a)はフィルム転写法の着色層形成フィルム(着色層形成フィルムの着色層が黒色であり、 11 (a) is a colored layer a black colored layer forming film (colored layer formation film of the film transfer method,
遮光層形成フィルムである場合を含む)を熱圧着する時の状態を示す斜視図、図11(b)は、フィルム転写法に用いる着色層形成フィルムの断面図、図12(a)〜 Perspective view showing a state in which the containing) a case where the light-shielding layer formed film thermocompression bonding, and FIG. 11 (b) is a sectional view of the colored layer forming film used in the film transfer method, Fig. 12 (a) ~
(f)は、それぞれフィルム転写法の各工程を示す断面図である。 (F) are cross-sectional views showing process steps of each film transfer method.

【0007】フィルム転写法は、図11(b)に示すような、ベースフィルム15に中間層19を形成した上に赤色層16Rを塗布して形成した赤色層形成フィルム1 [0007] film transfer method, and FIG. 11 (b) in as shown, the base film 15 interlayer 19 red layer formed by coating the red layer 16R on the formation formed film 1
8Rを、図11(a)に示すように、ローラ22a、2 The 8R, as shown in FIG. 11 (a), the roller 22a, 2
2b間を通して熱圧着することによりガラス基板2a上に貼り付け(図12(a)参照)、ベースフィルム15 Paste on the glass substrate 2a by thermocompression bonding through the inter-2b (see FIG. 12 (a)), the base film 15
を除去した後、赤色層16Rをマスク17aを用いて紫外線20aで露光し現像する(図12(b)参照)ことにより、図12(c)に示すように、赤色画素6Rを形成する。 After removal of, by exposing the red layer 16R ultraviolet 20a using the mask 17a is developed (see FIG. 12 (b)), as shown in FIG. 12 (c), to form the red pixel 6R. これらの工程を3回繰り返すことにより、図1 By repeating 3 times of these steps, Fig. 1
2(d)に示すようなRGB各色の着色画素6R、6 2 coloration of the RGB colors as shown in (d) pixel 6R, 6
G、6Bが得られる。 G, 6B can be obtained. さらに、図12(e)、図11 Further, FIG. 12 (e), the 11
(b)に示すように、これら画素6R、6G、6B上に、遮光層16Kを塗布してなる遮光層形成フィルム1 (B), the the pixel 6R, 6G, on the 6B, formed by coating a light-shielding layer 16K shielding layer formed film 1
8Kを熱圧着し、ベースフィルム15(図12においては略している)を剥離した後、既に形成されているRG The 8K thermocompression bonding, after separating the (by being short in FIG. 12) the base film 15, already formed RG
Bの着色画素6R、6G、6Bのパターンをマスクパターンとしてフォトマスクを用いることなくガラス基板2 Colored pixels 6R of B, 6G, the glass substrate 2 without using a photomask pattern of 6B as a mask pattern
aの裏面より露光し(以下「裏面露光」と称す。)、現像することにより遮光膜13(図12(f)、図9、図10参照)の形成を行うものである。 Exposed from the rear surface of a (hereinafter referred to as "back exposure".), The light-shielding film 13 by development (Fig. 12 (f), FIG. 9, see FIG. 10) is performed in the formation of. 但し、裏面露光する時には、遮光膜13の外周部をパターニングするため、裏面露光用マスク17cを用いる。 However, when the back surface exposure, for patterning the outer peripheral portion of the light shielding film 13, using a backside exposure mask 17c.

【0008】また、上記のように裏面露光のみで遮光膜13を形成できるが、場合によっては遮光膜13の表面性を改善させるため、裏面露光と同時に表面から所望の遮光膜パターン形状のマスク17bを用いて露光することによって実現することが可能である。 Further, although capable of forming a light shielding film 13 only by the backside exposure as described above, since in some cases to improve the surface properties of the light-shielding film 13, the desired light shielding film pattern from surface simultaneously with back exposure mask 17b It can be achieved by exposing with. なお、図12 It should be noted that, as shown in FIG. 12
(e)における20a、20bはそれぞれ紫外線である。 20a in (e), 20b is a UV respectively.

【0009】また近年、液晶パネルのプロセスの簡素化、コントラスト向上等の液晶パネル1の性能向上の目的から、ガラス基板2a、2b表面に散布して形成する球状スペーサ7の代わりに、カラーフィルタ基板5に対して柱状スペーサを形成する試みが行われている。 [0009] In recent years, simplifying the process of the liquid crystal panel, the purpose of improving the performance of the liquid crystal panel 1, such as contrast enhancement, instead of spherical spacers 7 formed by spraying the glass substrate 2a, and 2b surface, a color filter substrate It has been made attempts to form the columnar spacers against 5. カラーフィルタ基板5上に柱状スペーサを形成する場合は、 When forming the columnar spacers on the color filter substrate 5,
ガラス基板2a上に所要パターン形状に形成された着色画素6R、6G、6B間に遮光膜13を前もって露光現像して形成した後に、この上に柱状スペーサを形成している。 Colored pixels are formed in a required pattern on a glass substrate 2a 6R, 6G, after formation by previously unexposed developing a light-shielding film 13 between 6B, to form a columnar spacer on the.

【0010】 [0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、カラーフィルタ基板5上に柱状スペーサを形成する場合、柱状スペーサの高さが面内均一であっても、下部に形成されている遮光膜13の露光現像時の膜厚バラツキにより、柱状スペーサ形成部の高さが面内不均一になり、液晶パネル化した場合に、ギャップムラにより面内表示品位を低下させるという課題がある。 [0008] However, when forming the columnar spacers on the color filter substrate 5, the height of the columnar spacer is a plane uniformity, exposure and development of the light-shielding film 13 formed on the lower the thickness variation of the time, the height of the columnar spacer formation portion is in the in-plane non-uniformity, in the case where a liquid crystal panel, there is a problem that reducing the in-plane display quality by uneven gap.

【0011】さらに、新たな工程である柱状スペーサ形成工程を設け、スペーサ剤の塗布、露光、現像を行うと、製造工程数が増え、コストアップにつながる。 Furthermore, provided is a new process columnar spacer formation step, spacer agent coating, exposure, and developed, increasing the number of manufacturing steps leads to increase in cost. 本発明は、上記課題を解決するもので、柱状スペーサを採用できながら、液晶パネルとしての表示品位を低下させたり、コストアップを生じたりすることのないカラーフィルタ基板の製造方法とそのカラーフィルタ基板および液晶表示装置を提供することを目的とする。 The present invention is intended to solve the above problems, while able to adopt columnar spacers, or reduce the display quality of the liquid crystal panel, manufacturing method and color filter substrate of the color filter substrate that do not or any increase in cost Another object of the invention is to provide a liquid crystal display device.

【0012】 [0012]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決するため、本発明は、遮光膜を形成する工程で、柱状スペーサを同時に形成するものである。 Means for Solving the Problems] To solve the above problems, the present invention is a process of forming a light shielding film, and forms a columnar spacers simultaneously. すなわち、RGBの各色の画素を形成した後、遮光層をRGB画素上に形成した後、RGB各色の画素をマスクとして前記遮光層に対して裏面露光を行う工程と併せて、ガラス基板表面からは所定形状に形成された柱状スペーサパターンのマスクを用いて前記遮光層に対して露光し、現像することにより所定形状の柱状スペーサを遮光層からなる遮光膜上に形成する。 That is, after forming the respective color pixels of RGB, after forming the light shielding layer on the RGB pixel, together with the step of performing a backside exposure to the light shielding layer of RGB colors of pixels as a mask, the glass substrate surface It was exposed to the light shielding layer by using a mask of the columnar spacer pattern formed in a predetermined shape is formed on the light shielding film made of a light-shielding layer columnar spacers in a predetermined shape by developing.

【0013】このように、遮光層を現像して遮光膜と柱状スペーサとを一括に形成することにより、現像後の遮光膜と柱状スペーサとの総膜厚が一定化することができ、この結果、液晶パネルのギャップを均一化できる。 [0013] Thus, by forming collectively a light shielding film and the columnar spacer by developing the light-shielding layer can be total thickness of the light shielding film and the columnar spacers after development is kept constant, the result can uniform the gap of the liquid crystal panel.
また別方法として、遮光層形成フィルムおよびスペーサ用樹脂層形成フィルムを用いて熱圧着により遮光層およびスペーサ用樹脂層を積層形成し、裏面露光および基板表面からのマスクにて露光し、2層を一括して現像することにより、所定形状の柱状スペーサを遮光膜上に形成する。 As another method, a light-shielding layer and a resin layer for spacers was laminated by thermocompression bonding using a resin layer forming film light shielding layers formed films and spacers, exposed by the mask from the back surface exposure and the substrate surface, two layers by collectively developed to form a columnar spacer of a predetermined shape on the light shielding film.

【0014】さらに上記方法の別方法として、予めベースフィルム上に遮光層とスペーサ用樹脂層とを積層形成した着色層形成フィルムを基板上に熱圧着し、ガラス基板上に遮光層およびスペーサ用樹脂層を積層形成した後、裏面露光および基板表面からのマスクにて露光し、 [0014] Yet another method of the above methods, previously base film a coloring layer formation film laminated form a light shielding layer and the spacer resin layer on thermocompression bonding on a substrate, the light-shielding layer and the resin spacer on the glass substrate after stacking a layer, exposed by the mask from the back surface exposure and the substrate surface,
同積層を一括して現像することにより、所定形状の柱状スペーサを遮光膜上に形成する。 By developing collectively same stack to form a columnar spacer of a predetermined shape on the light shielding film.

【0015】このように、従来の方法において、遮光膜の単独での現像では膜厚にバラツキが生じていたが、本発明では、遮光層とスペーサ用樹脂層とを一括して現像することにより、現像後の遮光膜と樹脂膜(柱状スペーサ)との総膜厚を一定化させることができ、この結果、 [0015] Thus, in the conventional method, variations in thickness in the developing alone of the light-shielding film has occurred, in the present invention, by developing collectively a light shielding layer and the spacer resin layer the total thickness of the light shielding film and the resin film after development (columnar spacer) can be made constant, as a result,
液晶パネルのギャップを均一化できる。 It can equalize the gap of the liquid crystal panel. さらに、柱状スペーサの形成と遮光膜の形成との表裏露光に使用するマスクを繰り返して使用できるため、マスクコストを低減することが可能である。 Moreover, because it can be used by repeating the mask used for the front and back exposure and formation of the light shielding film and forming the columnar spacers, it is possible to reduce the mask cost. また、RGBを形成した基板上に遮光層およびスペーサ用樹脂層を一括露光現像を行うことにより、遮光膜と柱状スペーサを一括形成でき、工程の簡略化が可能である。 Further, by performing batch exposure and development of light-shielding layer and a resin layer for spacers on the substrate formed with the RGB, the light shielding film and the columnar spacers can bulk form, it is possible to simplify the process.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】請求項1記載の本発明は、ガラス基板上に所要パターン形状に形成された着色画素間に遮光膜を形成し、この遮光膜上に所定柱状形状の柱状スペーサを形成するカラーフィルタ基板の製造方法であって、着色膜をガラス基板上に形成し露光現像して、RG The present invention DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION first aspect, on a glass substrate to form a light shielding film between the colored pixels formed in a desired pattern shape, forming columnar spacers having a predetermined columnar shape on the light-shielding film a method of manufacturing a color filter substrate, is exposed and developed a colored film formed on a glass substrate, RG
Bの各着色画素を所要パターン形状に形成した後、前記着色画素上に遮光層を形成し、ガラス基板の裏面から前記着色画素を遮光マスクとして前記遮光層に対して露光し、かつガラス基板表面からは所定形状に形成された柱状スペーサパターンのマスクを用いて前記遮光層に対して露光し、この遮光層を現像することにより、遮光膜と柱状スペーサとを一体的に形成することを特徴とする。 After forming the respective colored pixels of B in a required pattern shape, the on colored pixels to form a light shielding layer, and exposed to a back surface of the glass substrate the light shielding layer the colored pixels as a light-shielding mask and the glass substrate surface the exposed against the light-shielding layer with a mask of the columnar spacer pattern formed in a predetermined shape from, by developing the light-shielding layer, and characterized by integrally forming a light shielding film and the columnar spacer to.

【0017】請求項2記載の本発明は、ガラス基板上に所要パターン形状に形成された着色画素間に遮光膜を形成し、この遮光膜上に所定柱状形状の柱状スペーサを形成するカラーフィルタ基板の製造方法であって、着色膜をガラス基板上に形成し露光現像して、RGBの各着色画素を所要パターン形状に形成した後、各着色画素が形成されたガラス基板上に遮光層とスペーサ用樹脂層とを積層し、ガラス基板の裏面から前記着色画素を遮光マスクとして前記遮光層に対して露光し、かつガラス基板表面からは所定形状に形成された柱状スペーサパターンのマスクを用いて前記スペーサ用樹脂層に対して露光し、 [0017] According to a second aspect of the invention, the color filter substrate light shielding film between the colored pixels formed in a required pattern on a glass substrate is formed, to form a columnar spacer of a predetermined columnar shape on the light-shielding film a method of manufacturing, is exposed and developed to form a colored film on a glass substrate, after forming the respective colored pixels of RGB in a required pattern shape, the light-shielding layer on a glass substrate to the colored pixels are formed and the spacer and use the resin layer is laminated, the colored pixels from the back surface of the glass substrate was exposed to the light shielding layer as a shielding mask, and using said mask columnar spacer pattern formed in a predetermined shape from the glass substrate surface exposing the resin layer for spacers,
前記遮光層と前記スペーサ用樹脂層とを一括して現像することにより、遮光膜と柱状スペーサとを一括形成することを特徴とする。 By developing collectively and said light shielding layer and the spacer resin layer, characterized by simultaneously forming a light shielding film and the columnar spacers.

【0018】請求項3記載の本発明は、請求項2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法において、遮光層およびスペーサ用樹脂層の形成は、ベースフィルム上にコーティングすることにより形成された遮光層を、各着色画素が形成されたガラス基板上に貼り付け、さらに、ベースフィルム上にコーティングすることにより形成されたスペーサ用樹脂層を貼り付けることにより行うことを特徴とする。 [0018] According to a third aspect of the invention is a method of manufacturing a color filter substrate according to claim 2, the light-shielding layer and spacer formation resin layer, the light-shielding layer formed by coating on a base film the paste on the colored pixels glass substrate formed, further characterized by performing by affixing the spacer resin layer formed by coating on the base film.

【0019】請求項4記載の本発明は、請求項2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法において、遮光層およびスペーサ用樹脂層の形成は、ベースフィルム上に遮光層および樹脂層を積層コーティングすることにより形成された積層部分を、各着色画素が形成されたガラス基板上に貼り付けることにより行うことを特徴とする。 [0019] According to a fourth aspect of the invention is a method of manufacturing a color filter substrate according to claim 2, the formation of the light shielding layer and the spacer resin layer is laminated coating the light-shielding layer and a resin layer on a base film the stacked portion formed by, and performing by sticking on a glass substrate to the colored pixels are formed. 請求項5記載の本発明に係るカラーフィルタ基板は、ガラス基板上に所要パターン形状に着色画素が形成され、着色画素間に遮光膜が形成されているとともに、遮光膜と一体的に柱状スペーサが形成されていることを特徴とする。 The color filter substrate according to the present invention of claim 5, colored pixel in a required pattern shape on a glass substrate is formed, together with the light shielding film is formed between the colored pixels, the light-shielding film and integrally columnar spacers characterized in that it is formed.

【0020】請求項6記載の本発明は、請求項5記載のカラーフィルタ基板において、柱状スペーサは遮光膜と同じ材質であることを特徴とする。 [0020] According to a sixth aspect of the invention, in the color filter substrate according to claim 5, wherein the columnar spacers is characterized in that the same material as the light-shielding film. 請求項7記載の本発明は、請求項5記載のカラーフィルタ基板において、遮光膜は遮光用材質で形成され、柱状スペーサはスペーサに適した樹脂で形成されていることを特徴とする。 The present invention of claim 7, wherein, in the color filter substrate according to claim 5, wherein the light shielding film is formed of a light shielding material, the columnar spacer is characterized in that it is formed of a resin suitable for the spacer.

【0021】請求項8記載の本発明は、請求項7記載のカラーフィルタ基板において、遮光層およびスペーサ用樹脂層が所要膜厚に積層されていることを特徴とする。 The invention according to claim 8, in the color filter substrate according to claim 7, characterized in that the light-shielding layer and the spacer resin layer is laminated to the required thickness.
請求項9記載の本発明は、請求項8記載のカラーフィルタ基板において、遮光膜と柱状スペーサとを構成する層の総膜厚が着色画素部分の膜厚より大きいことを特徴とする。 The present invention of claim 9, wherein, in the color filter substrate according to claim 8, the total thickness of the layers constituting the light-shielding film and the columnar spacers being greater than the thickness of the colored pixel portion.

【0022】請求項10記載の本発明にかかる液晶表示装置は、請求項5〜9の何れかに記載のカラーフィルタ基板を備えたものである。 [0022] 10. The liquid crystal display device according to the present invention described are those having a color filter substrate according to any one of claims 5-9. (実施の形態1)図1は、本発明の第1の実施の形態にかかるカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面図、図2は、同カラーフィルタ基板の平面図、図3 1 (Embodiment 1), the cross-sectional view of the first liquid crystal panel using such a color filter substrate to the embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the color filter substrate, FIG. 3
(a)〜(f)はそれぞれ同カラーフィルタ基板の製造方法の各工程毎の断面図である。 (A) ~ (f) are cross-sectional views for each process of each method for manufacturing the color filter substrate. なお、従来の液晶パネルと同機能の部品には同符号を付して、その説明は省略する。 Incidentally, the conventional parts of the liquid crystal panel with the same function are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.

【0023】この液晶パネル30のカラーフィルタ基板31においては、ガラス基板2a上に所要パターン形状に着色画素6R、6G、6Bが形成され、着色画素6 [0023] In this color filter substrate 31 of the liquid crystal panel 30, the color pixels 6R in a required pattern shape on a glass substrate 2a, 6G, 6B are formed, colored pixels 6
R、6G、6B間に遮光膜が形成されているとともに、 R, 6G, with the light shielding film is formed between 6B,
遮光膜32と一体的に柱状スペーサ33が形成されている。 Shielding film 32 integrally with the columnar spacers 33 are formed. ここで、柱状スペーサ33は遮光膜32と同じ材質で形成されている。 Here, the columnar spacers 33 are formed of the same material as the light blocking film 32. また、柱状スペーサ33の高さは、 The height of the columnar spacer 33,
図3(f)にも示すように、液晶パネル30に要求されるパネルギャップ厚に応じて高さ設計が行われている。 As also shown in FIG. 3 (f), the height designed in accordance with the panel gap thickness required for the liquid crystal panel 30 is performed.
また、柱状スペーサ33は、図1に示すように、着色画素6R、6G、6B間の遮光膜32のエリアに、必要に応じた形状、形成密度(形成数)に制御されて形成されている。 Also, the columnar spacers 33, as shown in FIG. 1, the color pixels 6R, 6G, an area of ​​the light shielding film 32 between 6B, are formed under the control of the shape as needed, the formation density (formation rate) .

【0024】このカラーフィルタ基板31は以下のようにして製造される。 [0024] The color filter substrate 31 is manufactured as follows. まず、図3(a)に示すように、ガラス基板2a上にスピナー塗布法等で着色層16Rを形成する。 First, as shown in FIG. 3 (a), to form a colored layer 16R in spinner coating method on a glass substrate 2a. この時、場合によっては、着色層16Rに、紫外線を遮断する紫外線遮光剤を含有させると、後の工程がより効果的に行える。 At this time, in some cases, the colored layers 16R, the inclusion of ultraviolet light blocking agent for blocking ultraviolet rays, after the step can be performed more effectively. この後、図3(b)に示すように、フォトマスク17aを用いて露光、現像することにより、図3(c)に示す所要パターン形状の着色画素6 Thereafter, as shown in FIG. 3 (b), exposed to light using a photomask 17a, by developing, colored pixels of a required pattern shape shown in FIG. 3 (c) 6
Rをパターニングする。 Patterning the R. この後、同様の工程を繰り返すことにより、図3(d)に示すようなRGBの着色画素6R、6G、6Bを形成する。 Thereafter, by repeating the same process to form the RGB color pixels 6R, as shown in FIG. 3 (d), 6G, and 6B. なお、図3(b)における20aは紫外線である。 Incidentally, 20a is a UV in FIG. 3 (b).

【0025】次に、図3(e)に示すように、この着色画素6R、6G、6B上に顔料を分散した遮光層16K Next, as shown in FIG. 3 (e), the colored pixels 6R, 6G, the light-shielding layer 16K dispersed pigment onto 6B
を形成する。 To form. この後、ガラス基板2aの裏面側から着色画素6R、6G、6Bをマスクとして裏面露光し、更に所望形状の柱状スペーサパターンのマスク17bを用いてガラス基板2aの表面側から露光し、この後、現像を行うことにより、図3(f)に示すように、遮光膜32 Thereafter, the colored pixels 6R from the back side of the glass substrate 2a, 6G, 6B and back exposure as a mask, further exposing the surface side of the glass substrate 2a by using a mask 17b of the columnar spacer pattern having a desired shape, after which by performing the development, as shown in FIG. 3 (f), the light-shielding film 32
に柱状スペーサ33を形成したカラーフィルタ基板31 The color filter substrate 31 to form a columnar spacer 33
を形成することができる。 It can be formed. この時、遮光膜32の周辺パターンを形成するため、裏面露光用マスク17cを用いる。 At this time, in order to form a peripheral pattern of the light shielding film 32, using a backside exposure mask 17c. なお、図3(e)における20a,20bは紫外線である。 Incidentally, 20a, 20b are UV in FIG 3 (e).

【0026】このように、両面からそれぞれ露光した遮光層16Kを現像して遮光膜32と柱状スペーサ33とを形成することで、現像後の遮光膜32と柱状スペーサ33との総膜厚を一定化することができ、この結果、液晶パネル30のギャップを均一化でき、良好な表示品位を得ることができる。 [0026] Thus, by forming the respective light shielding film 32 by developing the light-shielding layer 16K was exposed and the columnar spacers 33 from both sides, constant total thickness of the light shielding film 32 and the columnar spacers 33 after development it can be of, as a result, can uniform the gap of the liquid crystal panel 30, it is possible to obtain satisfactory display quality. (実施の形態2)図4は、本発明の第2の実施の形態にかかるカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面図、図5は、同カラーフィルタ基板の平面図、図6 Embodiment 2 FIG. 4 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel using such a color filter substrate to a second embodiment of the present invention, FIG 5 is a plan view of the color filter substrate, FIG. 6
(a)〜(f)はそれぞれ同カラーフィルタ基板の製造方法の各工程毎の断面図である。 (A) ~ (f) are cross-sectional views for each process of each method for manufacturing the color filter substrate. なお、上記第1の実施の形態にかかる液晶パネルと同機能の部品には同符号を付して、その説明は省略する。 The above is the first component of the liquid crystal panel and the function according to the embodiment of by the same symbol, and a description thereof will be omitted.

【0027】この液晶パネル40のカラーフィルタ基板41においては、ガラス基板2a上に所要パターン形状に着色画素6R、6G、6Bが形成され、着色画素6 [0027] In this color filter substrate 41 of the liquid crystal panel 40, the color pixels 6R in a required pattern shape on a glass substrate 2a, 6G, 6B are formed, colored pixels 6
R、6G、6B間に遮光膜が形成されているとともに、 R, 6G, with the light shielding film is formed between 6B,
遮光膜42と一体的に柱状スペーサ43が形成されている。 Shielding film 42 integrally with the columnar spacers 43 are formed. ここで、遮光膜42は遮光に適した材質で形成され、柱状スペーサ43はスペーサに適した樹脂で形成されている。 Here, the light shielding film 42 is formed of a material suitable for shielding, the columnar spacers 43 are formed of a resin suitable for the spacer. また、柱状スペーサ43の高さは、図6 The height of the columnar spacers 43, Figure 6
(f)にも示すように、それぞれの液晶パネル40に要求されるパネルギャップ厚に応じて、後述するスペーサ用樹脂層45の膜厚を変更することにより制御されている。 As also shown (f), the depending on the panel gap thickness required for each of the liquid crystal panel 40 is controlled by changing the thickness of the spacer resin layer 45 to be described later. また、柱状スペーサ43は、図4に示すように、着色画素6R、6G、6B間の遮光膜42のエリアに、必要に応じた形状、形成密度(形成数)に制御されて形成されている。 Also, the columnar spacers 43, as shown in FIG. 4, the colored pixels 6R, 6G, an area of ​​the light shielding film 42 between 6B, are formed under the control of the shape as needed, the formation density (formation rate) .

【0028】このカラーフィルタ基板41は以下のようにして製造される。 [0028] The color filter substrate 41 is manufactured as follows. まず、図11(a)、(b)に示すように、予め加熱したガラス基板2a上に、ベースフィルム15に中間層19を介して赤色層16Rが設けられた着色層形成フィルム18を載せた状態で熱ロール22 First, as shown in FIG. 11 (a), (b), on a glass substrate 2a heated beforehand, red layer 16R is mounted a colored layer formation film 18 provided over the intermediate layer 19 to the base film 15 heat roll 22 in the state
a、22bにより熱圧着させてガラス基板2aに貼り付ける。 a, by thermocompression bonding paste to the glass substrate 2a by 22b. この後、ガラス基板2aを冷却した後、ベースフィルム15を剥離して、着色画素6Rの膜を形成する(図6(a)参照)。 Then, after cooling the glass substrate 2a, by peeling off the base film 15, to form a film of coloring pixels 6R (see FIG. 6 (a)). この時、場合によっては、着色画素6Rの膜に、紫外線を遮断する紫外線遮光剤を含有させると、後の工程がより効果的に行える。 At this time, in some cases, the film of the colored pixels 6R, the inclusion of ultraviolet light blocking agent for blocking ultraviolet rays, after the step can be performed more effectively. この後、図6 After that, as shown in FIG. 6
(b)に示すように、フォトマスク17aを用いて露光し、現像することにより、図6(c)に示すような所要パターン形状の着色画素6Rをパターニングする。 (B), the exposure is performed using a photo mask 17a, and is developed to pattern the colored pixels 6R of a required pattern shape as shown in FIG. 6 (c). この後、同様の工程を繰り返すことにより、図6(d)に示すようなRGBの着色画素6R、6G、6Bを形成する。 Thereafter, by repeating the same process to form the RGB color pixels 6R, as shown in FIG. 6 (d), 6G, and 6B. なお、図6(b)における18aは紫外線である。 Incidentally, 18a is a UV in FIG 6 (b).

【0029】次に、図6(e)に示すように、この着色画素6R、6G、6B上に、樹脂内に黒色顔料を分散してなる遮光層16Kを上記と同様にベースフィルム15 Next, as shown in FIG. 6 (e), the colored pixels 6R, 6G, on the 6B, the base film 15 a light shielding layer 16K obtained by dispersing black pigment in the same manner as described above in the resin
上にコーティングすることにより形成するとともにこの遮光層16Kをガラス基板2aに熱圧着し、この後、ベースフィルム15を剥離して遮光層16Kを形成し、さらにその上に、図6(f)に示すように、感光性のスペーサ用樹脂層45を同様な手法で熱圧着して、積層構造にする。 The light shielding layer 16K and forming by coating on thermocompression bonding to the glass substrate 2a, thereafter, forming a light shielding layer 16K is peeled off the base film 15, on which further, in FIG. 6 (f) as shown, the spacer resin layer 45 of the photosensitive and thermocompression bonding in a manner similar to the layered structure.

【0030】この後、ガラス基板2aの裏面側から着色画素6R、6G、6Bをマスクとして裏面露光し、さらに所望形状の柱状スペーサパターンのマスク17bを用いてガラス基板2aの表面側から露光し、遮光層16K [0030] After this, the colored pixels 6R from the back side of the glass substrate 2a, 6G, and 6B and back exposure as a mask, further exposing the surface side of the glass substrate 2a by using a mask 17b of the columnar spacer pattern having a desired shape, shielding layer 16K
とスペーサ用樹脂層45とを一括して現像することにより、図6(g)に示すように、遮光膜42上に樹脂層の柱状スペーサ43が形成されたカラーフィルタ基板41 And by collectively developing a spacer for a resin layer 45, the color filter substrate 41 as shown in FIG. 6 (g), that on the light-shielding film 42 columnar spacers 43 of the resin layer is formed
を得ることができる。 It is possible to obtain. この時、遮光膜42の周辺パターンを形成するため、裏面露光用マスク17cを用いる。 At this time, in order to form a peripheral pattern of the light shielding film 42, using a backside exposure mask 17c.

【0031】このように、遮光層16Kとスペーサ用樹脂層45とを一括して現像することにより、現像後の遮光膜42とスペーサ用樹脂層45との総膜厚が一定化することとなり、この結果、液晶パネル40のギャップを均一化でき、良好な表示品位を得ることができる。 [0031] Thus, by collectively developing the light-shielding layer 16K and the spacer resin layer 45, the total thickness of the light shielding film 42 and the spacer resin layer 45 after development becomes possible to kept constant, as a result, can be made uniform gap of a liquid crystal panel 40, it is possible to obtain satisfactory display quality. また、この液晶パネル40のカラーフィルタ基板4を以下のようにして製造してもよい。 Further, a color filter substrate 4 of the liquid crystal panel 40 may be manufactured as follows.

【0032】まず、図11(a)、(b)に示すように、予め加熱したガラス基板2a上に、ベースフィルム15に中間層19を介して赤色層16Rが設けられた着色層形成フィルム18を載せた状態で熱ロール22a、 Firstly, FIG. 11 (a), the (b), the advance on the heated glass substrate 2a, the base film 15 colored layer red layer 16R is provided through the intermediate layer 19 to form a film 18 hot roll 22a while carrying the,
22bにより熱圧着させてガラス基板2aに貼り付ける。 Is thermocompression bonded by 22b pasted on the glass substrate 2a by. この後、ガラス基板2aを冷却した後、ベースフィルム15を剥離して、着色画素6Rの膜を形成する(図7(a)参照)。 Then, after cooling the glass substrate 2a, by peeling off the base film 15, to form a film of coloring pixels 6R (see FIG. 7 (a)). この時、場合によっては、着色画素6 At this time, in some cases, the color pixels 6
Rの膜に、紫外線を遮断する紫外線遮光剤を含有させると、後の工程がより効果的に行える。 The membrane of the R, the inclusion of ultraviolet light blocking agent for blocking ultraviolet rays, after the step can be performed more effectively. この後、図7 After that, as shown in FIG. 7
(b)に示すように、フォトマスク17aを用いて露光、現像することにより、図7(c)に示すような所要パターン形状の着色画素6Rをパターニングする。 (B), the exposure using the photomask 17a, and is developed to pattern the colored pixels 6R of a required pattern shape as shown in FIG. 7 (c). この後、同様の工程を繰り返すことにより、図7(d)に示すようなRGBの着色画素6R、6G、6Bを形成する。 Thereafter, by repeating the same process to form the RGB color pixels 6R, as shown in FIG. 7 (d), 6G, and 6B. なお、図7(b)における18aは紫外線である。 Incidentally, 18a is a UV in FIG 7 (b).

【0033】次に、図7(e)に示すように、この着色画素6R、6G、6B上に、図8に示すような、ベースフィルム15上に中間層19を介してスペーサ用樹脂層45を積層させ、さらにこの上に黒色の遮光層16Kを積層させた着色層形成フィルム46を熱圧着し、その後、ベースフィルム15を剥離する。 Next, as shown in FIG. 7 (e), the colored pixels 6R, 6G, on the 6B, as shown in FIG. 8, the base film 15 spacer resin layer 45 through the intermediate layer 19 on was laminated, further the upper black light-shielding layer 16K colored layer forming film 46 as a laminate of thermocompression bonding, the then peeled off the base film 15. この後、ガラス基板2aの裏面側から着色画素6R、6G、6Bをマスクとして裏面露光し、さらに所望形状の柱状スペーサパターンのマスク17bを用いてガラス基板2aの表面側から露光し、遮光層16Kとスペーサ用樹脂層45とを一括して現像することにより、図7(f)に示すように、 Thereafter, the colored pixels 6R from the back side of the glass substrate 2a, 6G, and 6B and back exposure as a mask, further exposing the surface side of the glass substrate 2a by using a mask 17b of the columnar spacer pattern having a desired shape, the light-shielding layer 16K by collectively developing a spacer for a resin layer 45 and, as shown in FIG. 7 (f),
遮光膜42上に樹脂層の柱状スペーサ43が形成されたカラーフィルタ基板41を得ることができる。 It is possible to obtain a color filter substrate 41 where the columnar spacers 43 of the resin layer is formed on the light shielding film 42. この時、 At this time,
遮光膜42の周辺パターンを形成するため、裏面露光用マスク17cを用いる。 To form the peripheral pattern of the light shielding film 42, using a backside exposure mask 17c.

【0034】この製造方法によっても、遮光層16Kとスペーサ用樹脂層45とを一括して現像するので、現像後の遮光膜42とスペーサ用樹脂層45との総膜厚が一定化することとなり、この結果、液晶パネル40のギャップを均一化でき、良好な表示品位を得ることができる。 [0034] The even by the manufacturing method, since the collectively developing the light-shielding layer 16K and the spacer resin layer 45, it becomes possible to total thickness of the light shielding film 42 and the spacer resin layer 45 after the development is kept constant as a result, it is possible to equalize the gap of the liquid crystal panel 40, it is possible to obtain satisfactory display quality. なお、この実施の形態において用いた着色層形成フィルム46は以下のようにして製造するとよい。 Incidentally, the colored layer formation film 46 used in this embodiment may be produced as follows. 図8に示すように、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたベースフィルム15上に、中間層19を、グラビアコータ、ダイコータ、リバースコータ等により塗布した後、溶剤を蒸発させるため熱処理等を行って形成させる。 As shown in FIG. 8, on the base film 15 using a polyethylene terephthalate film, an intermediate layer 19, a gravure coater, die coater, it was coated by a reverse coater or the like, is formed by performing a heat treatment or the like to evaporate the solvent. この後、スペーサ用樹脂層45および黒色遮光層1 Thereafter, the spacer resin layer 45 and the black shielding layer 1
6Kを塗布することで、ベースフィルム15上に中間層19、スペーサ用樹脂層45、遮光層16Kを積層した着色層形成フィルム46を形成できる。 By applying the 6K, to form a base film 15 interlayer 19 on the spacer resin layer 45 was laminated a light shielding layer 16K colored layer forming film 46. この時、黒色の遮光層16Kの膜厚は要求されるOD値(遮光率)およびカラーフィルタ段差に応じて制御し、また、スペーサ用樹脂層45の膜厚は、それぞれの液晶パネル40の要求されるギャップに応じて設定するものである。 At this time, the thickness of the light-shielding layer 16K of black is controlled according to the OD values ​​(light blocking ratio) and the color filter step that is required, Further, the thickness of the spacer resin layer 45 is required of each of the liquid crystal panel 40 it is to set according to the gap to be.

【0035】(実施の形態3)次に、上記実施の形態のカラーフィルタ基板31、41を用いた液晶パネル3 [0035] (Embodiment 3) Next, the liquid crystal panel 3 using the color filter substrate 31 and 41 of the above-described embodiment
0、40について、図1〜図6を参照しながら説明する。 For 0,40, it will be described with reference to FIGS. まず、液晶パネル30、40は、ガラス基板2b上に能動素子3が形成されたアレイ基板4と、図3(f) First, the liquid crystal panel 30 and 40, an array substrate 4 which active devices 3 are formed on the glass substrate 2b, FIG. 3 (f)
に示したR、G、Bの各着色画素6R、6G、6B間の遮光膜32、42に柱状スペーサ33、43からなる突起を形成し、膜面上に透明電極21を形成したカラーフィルタ基板31、41とを、柱状スペーサ33、43を介してシール材8にて貼り合わせ、両ガラス基板2a、 A color filter substrate R, G, the individual colored pixels 6R of B, 6G, the projection is formed consisting of columnar spacers 33 and 43 in the light shielding film 32, 42 between 6B, to form a transparent electrode 21 on the membrane surface shown in and 31 and 41, bonded at the sealing member 8 through the columnar spacers 33 and 43, two glass substrates 2a,
2bの間隙に液晶9を介在させることにより構成されている。 It is constructed by interposing a liquid crystal 9 and 2b of the gap.

【0036】この液晶パネル30、40に用いるアレイ基板4の一例としては、ガラス基板2bの上に信号線および走査線と共に形成された能動素子3がマトリックス状に配置され、その上に平坦化膜10および画素電極1 [0036] As an example of the array substrate 4 used in the liquid crystal panel 30 and 40, an active element 3 formed with signal lines and scanning lines on the glass substrate 2b are arranged in a matrix, planarization layer thereon 10 and the pixel electrode 1
1が形成されている。 1 is formed. 能動素子3と画素電極11とは、 The active element 3 and the pixel electrode 11,
コンタクトホール12を介して電気的に導通されている。 It is electrically conductive via the contact hole 12.

【0037】また、これらのカラーフィルタ基板31、 [0037] In addition, these color filter substrate 31,
41とアレイ基板4との相対向する面には、それぞれ配向膜14a、14bが形成されており、液晶パネル3 41 and the opposing surfaces of the array substrate 4 are respectively oriented films 14a, 14b are formed, the liquid crystal panel 3
0、40の表裏面には、用途に応じて偏光板が貼り付けられる。 The front and back surfaces of the 0,40, the polarizing plate is attached depending on the application.

【0038】 [0038]

【発明の効果】以上のように、従来方法の遮光膜単独の現像では膜厚にバラツキが生じるのを、本発明によると、遮光層を現像して遮光膜と柱状スペーサとを形成したり、遮光層とスペーサ用樹脂層とを一括に形成したりすることにより、現像後の遮光膜と柱状スペーサとの総膜厚が面内一定化することができ、ひいては、ギャップが均一化した表示品位の優れた液晶パネルが得られる。 As is evident from the foregoing description, that the variation in thickness of a light-shielding film alone developing conventional method occurs, according to the present invention, it may be formed a light shielding film and the columnar spacer by developing the light-shielding layer, by the light-shielding layer and the spacer resin layer may be formed in bulk, total thickness of the light shielding film and the columnar spacers after development can be kept constant in a plane, consequently, display quality gap homogenized excellent liquid crystal panel can be obtained.

【0039】さらに、柱状スペーサの形成と遮光膜の形成との表裏露光に使用するマスクを繰り返して使用できるため、マスクコストを低減することが可能である。 [0039] Moreover, because it can be used by repeating the mask used for the front and back exposure and formation of the light shielding film and forming the columnar spacers, it is possible to reduce the mask cost. また、RGBを形成した基板上に遮光層およびスペーサ用樹脂層を一括露光現像を行うことにより、遮光膜と柱状スペーサを一括形成でき、工程の簡略化が可能である。 Further, by performing batch exposure and development of light-shielding layer and a resin layer for spacers on the substrate formed with the RGB, the light shielding film and the columnar spacers can bulk form, it is possible to simplify the process.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の第1の実施の形態にかかる柱状スペーサを設けたカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面図である。 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel using a color filter substrate provided with such a column spacer to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の平面図である。 2 is a plan view of a color filter substrate according to the embodiment.

【図3】(a)〜(f)はそれぞれ同実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の各製造工程を示した断面図である。 [3] (a) ~ (f) are cross-sectional views showing the respective manufacturing steps of a color filter substrate according to the embodiment, respectively.

【図4】本発明の第2の実施の形態にかかる柱状スペーサを設けたカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面図である。 4 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel using a color filter substrate provided with such columnar spacers in the second embodiment of the present invention.

【図5】同実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の平面図である。 5 is a plan view of a color filter substrate according to the embodiment.

【図6】(a)〜(g)はそれぞれ同実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の各製造工程を示した断面図である。 6 (a) ~ (g) are sectional views showing the respective manufacturing steps of a color filter substrate according to the embodiment, respectively.

【図7】(a)〜(f)はそれぞれ他の実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の各製造工程を示した断面図である。 7 (a) ~ (f) are cross-sectional views showing the respective manufacturing steps of each color filter substrate according to another embodiment.

【図8】同実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の製造の際に用いられる柱状スペーサ形成用着色フィルムの断面図である。 8 is a cross-sectional view of a colored film for columnar spacer formation used in the manufacture of a color filter substrate according to the embodiment.

【図9】従来のフィルム転写法でのカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面図である。 9 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel using a color filter substrate in conventional film transfer method.

【図10】同従来のカラーフィルタ基板の平面図である。 10 is a plan view of the conventional color filter substrate.

【図11】(a)および(b)は、フィルム転写法のフィルム熱転写時の状態を示した斜視図およびフィルム転写法に用いる着色フィルムの断面図である。 11 (a) and (b) is a cross-sectional view of a colored film for use in a perspective view and a film transfer method illustrating the state during film thermal transfer film transfer method.

【図12】(a)〜(f)はそれぞれ従来のカラーフィルタ基板の各製造工程を示した断面図である。 [12] (a) ~ (f) are cross-sectional views showing the respective manufacturing steps of a conventional color filter substrate, respectively.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

2a ガラス基板 6R、6G、6B 着色画素 15 ベースフィルム 16、16R 着色層 16K 遮光層 17a、17b、17c マスク 30、40 液晶パネル(液晶表示装置) 31、41 カラーフィルタ基板 32、42 遮光膜 33、43 柱状スペーサ 45 スペーサ用樹脂層 2a glass substrate 6R, 6G, 6B colored pixels 15 base film 16,16R colored layers 16K shielding layer 17a, 17b, 17c mask 30 and 40 (liquid crystal display device) 31 and 41 a color filter substrate 32, 42 light shielding film 33, 43 columnar spacer 45 resin layer spacer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松川 秀樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA11 BA43 BA45 BB02 BB07 BB08 BB44 2H089 LA09 LA11 NA07 NA14 QA12 QA14 QA16 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA34Y FB08 FC01 FC05 FC12 GA13 LA12 LA17 LA30 ────────────────────────────────────────────────── ─── front page of the continuation (72) inventor Hideki Matsukawa Osaka Prefecture Kadoma Oaza Kadoma 1006 address Matsushita Electric industrial Co., Ltd. in the F-term (reference) 2H048 BA11 BA43 BA45 BB02 BB07 BB08 BB44 2H089 LA09 LA11 NA07 NA14 QA12 QA14 QA16 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA34Y FB08 FC01 FC05 FC12 GA13 LA12 LA17 LA30

Claims (10)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 ガラス基板上に所要パターン形状に形成された着色画素間に遮光膜を形成し、この遮光膜上に所定柱状形状の柱状スペーサを形成するカラーフィルタ基板の製造方法であって、着色膜をガラス基板上に形成し露光現像して、RGBの各着色画素を所要パターン形状に形成した後、前記着色画素上に遮光層を形成し、ガラス基板の裏面から前記着色画素を遮光マスクとして前記遮光層に対して露光し、かつガラス基板表面からは所定形状に形成された柱状スペーサパターンのマスクを用いて前記遮光層に対して露光し、この遮光層を現像することにより、遮光膜と柱状スペーサとを一体的に形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 1. A forming a light shielding film between the colored pixels formed in a required pattern on a glass substrate, a method of manufacturing a color filter substrate to form the columnar spacers in a predetermined columnar shape on the light shielding film, a colored film formed by exposure and development on a glass substrate, after forming the respective colored pixels of RGB in a required pattern shape, the light shielding layer is formed on the colored pixels, shading mask the colored pixels from the back surface of the glass substrate by exposing to the light-shielding layer, and the glass substrate surface was exposed to the light shielding layer by using a mask of the columnar spacer pattern formed into a predetermined shape, developing the light-shielding layer as a light-shielding film the color filter substrate manufacturing method characterized by integrally forming the columnar spacers and.
  2. 【請求項2】 ガラス基板上に所要パターン形状に形成された着色画素間に遮光膜を形成し、この遮光膜上に所定柱状形状の柱状スペーサを形成するカラーフィルタ基板の製造方法であって、着色膜をガラス基板上に形成し露光現像して、RGBの各着色画素を所要パターン形状に形成した後、各着色画素が形成されたガラス基板上に遮光層とスペーサ用樹脂層とを形成し、ガラス基板の裏面から前記着色画素を遮光マスクとして前記遮光層に対して露光し、かつガラス基板表面からは所定形状に形成された柱状スペーサパターンのマスクを用いて前記スペーサ用樹脂層に対して露光し、前記遮光層と前記スペーサ用樹脂層とを一括して現像することにより、遮光膜と柱状スペーサとを一括形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造 Wherein forming a light shielding film between the colored pixels formed in a required pattern on a glass substrate, a method of manufacturing a color filter substrate to form the columnar spacers in a predetermined columnar shape on the light shielding film, a colored film formed by exposure and development on a glass substrate, after forming the respective colored pixels of RGB in a required pattern shape, a light shielding layer and the spacer resin layer was formed on a glass substrate in which the colored pixels are formed , the colored pixels from the back surface of the glass substrate was exposed to the light shielding layer as a shielding mask, and the resin layer for the spacer by using a mask of the columnar spacer pattern formed in a predetermined shape from the glass substrate surface exposed and developed collectively and said light shielding layer and the spacer resin layer, production of a color filter substrate, which comprises simultaneously forming the light shielding film and the columnar spacer 方法。 Method.
  3. 【請求項3】 遮光層およびスペーサ用樹脂層の形成は、ベースフィルム上にコーティングすることにより形成された遮光層を、各着色画素が形成されたガラス基板上に貼り付け、さらに、ベースフィルム上にコーティングすることにより形成されたスペーサ用樹脂層を貼り付けることにより行うことを特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 Wherein formation of the light shielding layer and the spacer resin layer, based on the light-shielding layer formed by coating on the film, adhered on a glass substrate to the colored pixels are formed, further, base film a color filter substrate manufacturing method according to claim 2, characterized in that by attaching a resin layer formed spacers by coating the.
  4. 【請求項4】 遮光層およびスペーサ用樹脂層の形成は、ベースフィルム上に遮光層および樹脂層を積層コーティングすることにより形成された積層部分を、各着色画素が形成されたガラス基板上に貼り付けることにより行うことを特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 Wherein formation of the light-shielding layer and the spacer resin layer is bonded the light-shielding layer and a resin layer on the base film a stacked portion formed by stacking a coating, on a glass substrate to the colored pixels are formed a color filter substrate manufacturing method according to claim 2, characterized in that by putting.
  5. 【請求項5】 ガラス基板上に所要パターン形状に着色画素が形成され、着色画素間に遮光膜が形成されているとともに、遮光膜と一体的に柱状スペーサが形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。 5. A color pixel in a required pattern shape on a glass substrate is formed, together with the light shielding film is formed between the colored pixels, wherein the light-shielding film and integrally columnar spacer is formed The color filter substrate.
  6. 【請求項6】 柱状スペーサは遮光膜と同じ材質であることを特徴とする請求項5記載のカラーフィルタ基板。 6. columnar spacers color filter substrate according to claim 5, characterized in that the same material as the light-shielding film.
  7. 【請求項7】 遮光膜は遮光用材質で形成され、柱状スペーサはスペーサに適した樹脂で形成されていることを特徴とする請求項5記載のカラーフィルタ基板。 7. A light shielding film is formed of a light shielding material, the columnar spacer color filter substrate according to claim 5, characterized in that it is formed of a resin suitable for the spacer.
  8. 【請求項8】 遮光層およびスペーサ用樹脂層が所要膜厚に積層されていることを特徴とする請求項7記載のカラーフィルタ基板。 8. The color filter substrate according to claim 7, wherein the light-shielding layer and the spacer resin layer is characterized in that it is laminated to the required thickness.
  9. 【請求項9】 遮光膜と柱状スペーサとを構成する層の総膜厚が着色画素部分の膜厚より大きいことを特徴とする請求項8記載のカラーフィルタ基板。 9. The color filter substrate according to claim 8, wherein the total thickness of the layers constituting the light-shielding film and the columnar spacers being greater than the thickness of the colored pixel portion.
  10. 【請求項10】 請求項5〜9の何れかに記載のカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置。 10. A liquid crystal display device comprising the color filter substrate according to any one of claims 5-9.
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