JP2002052362A - 強磁性体からなる物品の塗装方法 - Google Patents

強磁性体からなる物品の塗装方法

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JP2002052362A
JP2002052362A JP2000243158A JP2000243158A JP2002052362A JP 2002052362 A JP2002052362 A JP 2002052362A JP 2000243158 A JP2000243158 A JP 2000243158A JP 2000243158 A JP2000243158 A JP 2000243158A JP 2002052362 A JP2002052362 A JP 2002052362A
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acid
coating
bolt
article
aromatic amine
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JP2000243158A
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English (en)
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Masayoshi Yono
政義 余野
Mikio Watanabe
幹雄 渡辺
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】強磁性体からなる物品がねじ部分を有していて
も能率良く均一に塗布剤を塗布することができる塗装方
法を提供する。 【解決手段】強磁性体からなる物品を磁石に磁力で固定
した状態で該磁石を介して回転させながら、該物品の少
なくとも一部分に塗布剤をスプレー塗布することを特徴
とする強磁性体からなる物品の塗装方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、強磁性体からなる物品
の塗装方法、特に塗布剤が防錆剤である塗装方法に関
し、ボルト等のねじ部分を有する物品の塗装に好適な方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】ボルトは、自動車、建材、パイプ配管の
フランジ等の接続用又は固定用に広く用いられている。
ボルトとしては、用いられる場所に応じて防食性が必要
な場合、防錆処理が施されたものが用いられる。通常、
ボルトを防錆処理する場合、浸漬方法が用いられる。こ
の浸漬方法では、多量のボルトが入っているカゴを防錆
剤液浸漬槽に浸漬し、その後ボルトを遠心分離機に入れ
て余剰の防錆剤液を取り除き、その後乾燥する。この浸
漬方法を用いた場合、一度に多量のボルトを防錆処理す
ることができる利点はあるが、浸漬後、ボルトを遠心分
離、乾燥する段階でボルトどうしの衝突、重なり合いに
より、防錆処理されたボルトの表面に傷が生じて、ボル
トの表面に防錆剤液が均一に塗布されない。この為、防
錆処理が施されたボルトであっても、上述した防錆処理
時に生じた、ボルトの表面の傷から腐食が生じるという
欠点があった。
【0003】この欠点を解消する為、ボルト1つ1つ単
品に対して防錆処理を施しせざるを得ないボルト単品に
対して防錆処理する場合、 1)防錆剤液に浸漬する方法 2)防錆剤液をスプレー塗布する方法 が考えられるが、 1)の浸漬する方法では、浸漬した後、ボルト表面に付
着塗布された余剰の防錆剤液を除去する工程が必要とな
り、作業が煩雑になり設備的に複雑となりコスト高とな
る欠点がある。 2)スプレー塗布する方法では、ボルト表面に付着塗布
される防錆剤液を制御できる利点があり、防錆剤液の塗
布後、余剰の防錆剤を除去する工程が必要ではない利点
がある。しかしながら、ボルト等のねじ部分を有するも
のに防錆剤液をスプレー塗布する場合、ねじ部分に対し
て塗布ムラなく均一に防錆液を塗布することは難しく、
人手による作業で塗布せざる得なかった。ボルト等のね
じ部分を有するもののねじ部分に防錆剤を均一にスプレ
ー塗布する方法が望まれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、ねじ部分を有する物品でも能率良く均一に塗布剤を
塗布することができる塗装方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記ボル
ト等のねじ部分を有するもののねじ部分に防錆剤等の塗
布剤を均一にスプレー塗布する方法について鋭意研究検
討した結果、先端部に磁石が取り付けられている支持体
の磁石にボルトなどの通常強磁性体からなる物品を取り
付けて、該支持体を回転させることにより被塗物である
前記物品を回転させながら塗布剤をスプレー塗布するこ
とにより、該物品がボルトのようにねじ部分を有してい
ても均一な塗布を行うことができることを見出し、本発
明に至った。すなわち、本発明によれば、強磁性体から
なる物品を磁石に磁力で固定した状態で該磁石を介して
回転させながら、該物品の少なくとも一部分に塗布剤を
スプレー塗布することを特徴とする強磁性体からなる物
品の塗装方法が提供される。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の方法について説明
する。なお、強磁性体からなる物品を「強磁性物品」と
略称する。本発明の方法の実施において、前記磁石の回
転は、例えば、モーターで駆動される回転軸の先端部に
前記磁石を取り付け、該回転軸をモーターにより回転さ
せる。こうして、前記強磁性物品を回転させながら塗装
を行う。さらに具体的には、この方法は、モーターと、
モーターで駆動される回転軸と、該回転軸の先端部に設
けられた磁石を支持、固定できる磁石支持手段とを有し
てなる強磁性物品回転支持装置により実施することがで
きる。
【0007】この強磁性物品回転支持装置について図1
を用いて説明する。図1は、一部を破断して示した強磁
性物品回転支持装置1の正面図である。強磁性物品回転
支持装置1は、モーター支持台11、該支持台の上に設
置された、モーターを収納するハウジング12、モータ
ーで駆動される回転軸(以下、「モーター回転軸」とい
う。)13、モーター回転軸の先端部に設けられた磁石
ホルダー14、該磁石ホルダーにより固定された磁石1
5から構成されている。磁石15は非磁性体保護膜で被
覆されていることが望ましい。
【0008】モーター支持台11上にモーター12が取
り付けられ、モーター回転軸13の上部先端には、磁石
ホルダー14により磁石15が固定取り付けられてい
る。磁石ホルダー14は、モーター回転軸13の先端部
に磁石15を固定取り付けることができる機構、構造を
有するものであれば特に制限はない。例えば、フランジ
間に磁石片の少なくとも一部を挟んで把持する構造等が
あげられる。磁石15としては、磁石15の磁力で塗装
される被塗物を吸着固定できるものであれば特に制限は
ないが、強磁性物品を保持する力の点から、希土類磁石
を用いるのが好ましい。希土類磁石としては、Nd−F
e−B系磁石などのネオジム系磁石、Sm−Co系磁石
などのサマリウム系磁石、Ce−Co系磁石などのセリ
ウム系磁石などが例示され、中でも高保持力の点からネ
オジム系磁石が特に好ましい。
【0009】また、磁石15の保磁力は、500bHC〔KA/
m〕以上、特に、820bHC〔KA/m〕以上であることが好ま
しい。また、磁石15の汚染や保磁力の劣化を防止する
為に、磁石15上に非磁性体保護膜を設けるのが好まし
い。この非磁性体保護膜に使用される非磁性体材料とし
ては、プラスチック材料が好ましく、具体的には、弗素
系樹脂、ナイロン、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂等を挙
げることができる。さらには、金属材料も使用でき、例
えばアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、
真鍮等、使用可能である。
【0010】本発明の方法において、塗布剤が塗布され
る強磁性物品を構成する強磁性体は特に制限はないが、
鉄、鉄鋼、ニッケル等が例示される。また、本発明の方
法は、ねじ部分を有する強磁性物品を塗装するのに特に
好適である。ねじ部分を有する強磁性物品のねぎ部分が
設けられている目的は限定されされない。例えば、ねじ
(らせん状の溝)は、機械部品その他の物品の締め付
け、固定、距離の調整等のために設けられていてもよい
し、動力の伝達のためなどに設けられていてもよい。こ
のようなねじ部分を有する物品としては、ねじ(ナット
と組合せて使用されない、おねじを有する物品、ボルト
等があり、具体的には六角ボルト、四角ボルト、六角穴
付ねじ、すりわり付ネジ、辻ねじ、調整ねじ等が例示さ
れるが、上記例示した中でボルトに対して特に好適であ
る。
【0011】また、ボルトに防錆剤を塗布して防錆処理
する場合、防錆効果の点から表面に亜鉛メッキ、亜鉛系
合金メッキされているボルトを用いるのが好ましい。本
発明の方法において、スプレー塗布される塗布剤として
は特に制限はないが、防食性の効果を得る上では、塗布
剤としては防錆剤を用いるのが好ましい。塗布剤して用
いられる好ましい防錆剤としては、(イ)エポキシ樹
脂、(ロ)硬化剤、及び(ハ)芳香族アミン系縮合生成
物を含有する防錆組成物が例示される。以下、まず、こ
の防錆剤の成分について説明する。
【0012】(イ)エポキシ樹脂 エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、カルボキシル変性エポキシ樹脂、リン酸変性エポキ
シ樹脂等が例示される。
【0013】(ロ)硬化剤 硬化剤は、塗膜性能を向上させるために使用される。こ
のような硬化剤としては、水酸基を有する樹脂が好まし
い。この水酸基を有する樹脂としては、アミノ樹脂、ブ
ロックポリイソシアネート樹脂、フェノール樹脂等が挙
げらるが、中でもアミノ樹脂が好ましい。アミノ樹脂と
しては、メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、メチル
化メラミン樹脂等のメラミン樹脂;尿素樹脂、ブチル化
尿素樹脂等の尿素樹脂;ベンゾグアミン樹脂等が例示さ
れるが、中でもメラミン樹脂が好ましい。なお、硬化剤
としてアミノ樹脂を用いる場合、アミノ樹脂との反応を
促進するためにパラトルエンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸等の硬化触媒を添加することもできる。硬化剤
(ロ)の配合量は、エポキシ樹脂100重量部に対して
通常10〜150重量部、好ましくは30〜100重量
部である。この範囲外であると、防食性の耐久性が不十
分であったり、硬化後の硬さが低かったり、塗膜の付着
性が欠けたりすることがある。
【0014】(ハ)芳香族アミン系縮合生成物芳香族アミ
ン系縮合生成物としては、(A)芳香族アミン系化合物縮
合生成物、(B)芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)のア
ルカリ処理物、(C)芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)
の高級脂肪酸処理物及び芳香族カルボン酸処理物、並び
に(D)芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)のアルキル化
物、アルケニル化物及びアラルキル化物が例示される。
これら(A)〜(D)の成分は1種単独で又は2種以上組み合
わせて使用することができる。 (A)芳香族アミン系化合物縮合生成物としては、良好な
防食性を得る上で、重量平均分子量〔ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー(GPC)で測定、ポリスチレン
換算〕が1,000〜100,000の範囲内にあるものを用いるこ
とが好ましく、特に1,500〜50,000の範囲内にあるもの
を用いることが好ましい。
【0015】また本発明においては、防食性の点で、
(B)芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)のアルカリ処理
物、(C)芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)の高級脂肪
酸処理物又は芳香族カルボン酸処理物、又は(D)芳香族
アミン系化合物縮合生成物(A)のアルキル化物、アルケ
ニル化物又はアラルキル化物を用いるのが好ましい。更
には耐湿性、及びベース油の分離や拡散(滲み出し)の抑
制の点から(C)芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)の高
級脂肪酸処理物又は芳香族カルボン酸処理物、又は(D)
芳香族アミン系化合物縮合生成物(A)のアルキル化物、
アルケニル化物又はアラルキル化物を用いるのが好まし
い。
【0016】以下、(A)〜(D)について説明する。 −(A)芳香族アミン系化合物縮合生成物− (A)芳香族アミン系化合物縮合生成物としては、例え
ば、 芳香族アミン系化合物の自己縮合生成物、 芳香族アミン系化合物と芳香族ヒドロキシ系化合物
との縮合生成物、 芳香族アミン系化合物と芳香族ニトロ化合物との縮
合生成物、及び 芳香族アミン系化合物とキノン化合物との縮合生成
物 が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上組み合
わせて使用することができる。
【0017】芳香族アミン系化合物としては、アニリ
ン、o−、m−もしくはp−フェニレンジアミン、o−、m
−もしくはp−アミノフェノール、 o−、m−もしくはp
−クロロアニリン、p−アミノアゾベンゼン、2,4−
ジアミノアゾベンゼン、 p−アミノアセトアニリド、o
−、m−もしくはp−メチルアニリン、 N,N−ジメチ
ル−p−フェニレンジアミン、4−クロロ−o−フェニ
レンジアミン、4−メトキシ− o−フェニレンジアミ
ン、2−アミノ−4−クロロフェノール、2,3−ジア
ミノトルエン、2,4−ジアミノフェノール、 o−、m
−もしくはp−アミノ安息香酸、2,3−、2,4−、
2,5−、2,6−、3,4−、3,5−もしくは4,
6−ジアミノ安息香酸、3−もしくは4−アミノフタル
酸、2−、4−もしくは5−アミノイソフタル酸、4,
6−ジアミノイソフタル酸、2,5−もしくは2,6−
ジアミノテレフタル酸、3−、4−もしくは5−アミノ
サリチル酸、4−ヒドロキシアントラニル酸、o−、m−
もしくはp−アミノベンゼンスルホン酸、2,3−、
2,4−、2,5−、2,6−、3,4−もしくは3,
5−ジアミノベンゼンスルホン酸、2−アミノ−1−フ
ェノール−4−スルホン酸、6−アミノ−4−クロロ−
1−フェノール−2−スルホン酸等のアミノベンゼン
類;4−アミノジフェニルアミン、2−アミノジフェニ
ルアミン、4,4'−ジアミノジフェニルアミン、4−
アミノ−3’−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ
−4'−ヒドロキシジフェニルアミン、4−カルボキシ
ジフェニルアミン、4−アミノ−4’−カルボキシジフ
ェニルアミン、4−スルホジフェニルアミン、4−アミ
ノ−4’−スルホジフェニルアミン等のジフェニルアミ
ン類;α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン、1,
5−ジアミノナフタレン、1−アミノ−5−ヒドロキシ
ナフタレン、1,8−ジアミノナフタレン、2,3−ジ
アミノナフタレン、4−アミノ−1−ナフトール、1−
アミノ−5−ナフトール、1,2−ナフチレンジアミン
−7−カルボン酸、1,5−ナフチレンジアミン−2−
カルボン酸、1,5−ナフチレンジアミン−4−カルボ
ン酸、1,6−ナフチレンジアミン−4−カルボン酸、
1,8−ナフチレンジアミン−4−カルボン酸、1,2
−ナフチレンジアミン−3−スルホン酸、1,2−ナフ
チレンジアミン−4−スルホン酸、1,2−ナフチレン
ジアミン−5−スルホン酸、1,2−ナフチレンジアミ
ン−6−スルホン酸、1,2−ナフチレンジアミン−7
−スルホン酸、1,3−ナフチレンジアミン−5−スル
ホン酸、1,3−ナフチレンジアミン−6−スルホン
酸、1,4−ナフチレンジアミン−2−スルホン酸、
1,4−ナフチレンジアミン−7−スルホン酸、1,5
−ナフチレンジアミン−2−スルホン酸、1,5−ナフ
チレンジアミン−4−スルホン酸、1,5−ナフチレン
ジアミン−7−スルホン酸、1,6−ナフチレンジアミ
ン−2−スルホン酸、1,6−ナフチレンジアミン−4
−スルホン酸、1,6−ナフチレンジアミン−7−スル
ホン酸、1,8−ナフチレンジアミン−4−スルホン
酸、1,8−ナフチレンジアミン−3,6−ジスルホン
酸、1,8−ナフチレンジアミン−4,5−ジスルホン
酸、α−アミノ−β−ナフタレンプロピオン酸、α−ア
ミノ−β−ナフタレンカルボン酸、2−ナフチルアミン
−1−スルホン酸、8−ナフチルアミン−1−スルホン
酸、5−ナフチルアミン−1−スルホン酸、1−アミノ
−2−ナフトール−4−スルホン酸、2−アミノ−8−
ナフトール−6−スルホン酸(γ酸)、2−アミノ−5−
ナフトール−7−スルホン酸(J酸)、1−アミノ−8−
ナフトール−3,6−ジスルホン酸(H酸)等のアミノナ
フタレン類が例示される。
【0018】芳香族ヒドロキシ系化合物としては、フェ
ノール、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、
ヒドロキシヒドロキノン、ピロガロール、 o−、m−も
しくはp−クロロフェノール、 o−、m−もしくはp−ヒ
ドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、
2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ
安息香酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,5−、2,6−又は3,5−
ジヒドロキシトルエン等のフェノール類及びこれらの誘
導体が例示される。芳香族ヒドロキシ系化合物として
は、その他α−ナフトール、β−ナフトール、1,3
−、1,4−、1,5−、2,3−、2,6−又は2,
7−ジヒドロキシナフタレン、1−ヒドロキシ−2−ナ
フトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等のナフト
ール類及びこれらの誘導体が例示される。
【0019】芳香族ニトロ化合物としては、ニトロベン
ゼン、 o−、m−もしくはp−ヒドロキシニトロベンゼ
ン、オルソ、メタ又はパラニトロアニソール、 o−、m
−もしくはp−ニトロフェネトール、 o−、m−もしくは
p−クロロニトロベンゼン、 o−、m−もしくはp−アミ
ノニトロベンゼン、 o−、m−もしくはp−ニトロ安息香
酸、 o−、m−もしくはp−ニトロベンゼンスルホン酸、
o−、m−もしくはp−ニトロアニリン、2−ニトロ−p
−フェニレンジアミン、2−アミノ−4−ニトロフェノ
ール、2−アミノ−5−ニトロフェノール、4−アミノ
−2−ニトロフェノール等が例示される。
【0020】キノン化合物としては、例えば、 o−、m
−もしくはp−ベンゾキノン、トル−p−キノン、オルソ
−キシロ−p−キノン、チモキノン、2−メトキベンゾ
キノン、ゲンチシルキノン、ポリポール酸、ユビキノン
n等のベンゾキノン類及びこれらの誘導体;6−メチル
−1,4−ナフトキノン、2−メチル−1,4−ナフト
キノン、α−ナフトキノン、ユグロン、ローソン、プル
ンバギン、アルカンニン、エキノクロムA、ビタミン
K1、ビタミンK2、シコニン、β,β’−ジメチルアクリ
ルシコニン、β−ヒドロキシイソワレルシコニン、テラ
クリルシコニン等のナフトキノン類及びこれらの誘導
体;テクトキノン、3−ヒドロキシ−2−メチルアント
ラキノン、アントラキノン、2−ヒドロキシアントラキ
ノン、アリザリン、キサントプルプリン、ルビアジン、
ムンジスチン、クリソフェン酸、カルミン酸、ケルメシ
ン酸、ラッカイン酸A等のアントラキノン類及びこれら
の誘導体;フェナントレンキノン等のフェナントレンキ
ノン類が挙げられる。
【0021】前記した芳香族アミン系化合物の自己縮合
反応、芳香族アミン系化合物と芳香族ヒドロキシ系化合
物との縮合反応、及び芳香族アミン系化合物と芳香族ニ
トロ化合物との縮合反応には鉱酸及び縮合触媒が使用さ
れる。この鉱酸としては塩酸、硝酸、臭化水素酸、リン
酸及び硫酸等が例示される。また好適な縮合触媒として
は、過マンガン酸、過マンガン酸カリウムのような過マ
ンガン酸及びその塩;三酸化クロム、重クロム酸カリウ
ム、塩化クロム酸ナトリウムのようなクロム酸関連化合
物;硝酸銀、硝酸鉛のような金属硝酸塩;ヨウ素、臭素
のようなハロゲン;過酸化水素、過酸化ナトリウム、ベ
ンゾイルパーオキサイド、過硫酸カリウム、過硫酸アン
モニウム、過酢酸、キュメンハイドロパーオキサイド、
過安息香酸、p−メンタンハイドロパーオキサイドのよ
うな過酸化物;ヨウ素酸、ヨウ素酸カリウム、塩素酸ナ
トリウムのような酸素酸或いは酸素酸塩;塩化第一鉄、
塩化第二鉄、硫酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、酢酸鉛
のような金属塩類;オゾン及び酸化銅、酸化水銀、酸化
セリウム、二酸化マンガン、オスミウム酸のような酸化
物等が例示される。また、過酸化水素を塩化第一鉄と組
み合わせて使用することも有効である。前記した芳香族
アミン系化合物単独の自己縮合反応、芳香族アミン系化
合物と芳香族ヒドロキシ系化合物との縮合反応、及び芳
香族アミン系化合物と芳香族ニトロ系化合物との縮合反
応は、通常、縮合触媒の存在下100〜350℃で2〜100時間
行われる。
【0022】芳香族アミン系化合物と芳香族ヒドロキシ
系化合物との縮合反応及び芳香族アミン系化合物と芳香
族ニトロ系化合物との縮合反応における芳香族アミン系
化合物、芳香族ヒドロキシ系化合物又は芳香族ニトロ系
化合物の割合は使用される芳香族アミン系化合物、芳香
族ヒドロキシ系化合物、芳香族ニトロ系化合物及び触媒
の種類、反応時間、反応温度等によるが、通常、芳香族
アミン系化合物1モルに対して、芳香族ヒドロキシ系化
合物又は芳香族ニトロ系化合物は0.1〜10モルの範囲で
あることが好ましい。
【0023】芳香族アミン系化合物とキノン化合物との
縮合反応は、有機溶剤系媒体中、必要に応じて縮合触媒
の存在下で行われる。上記有機溶剤系媒体のpHは1〜13.
5の範囲であり、このpH範囲とするために、pH調整剤を
特に制約されることなく使用することができる。 pH調
整剤としては、各種の酸性化合物及びアルカリ性化合物
を使用することができ、酸性化合物としては、例えばリ
ン酸、硫酸、フィチン酸、酢酸等の酸性化合物が、また
アルカリ性化合物としては、例えば)、KOH、NaOH、Na2C
O3、Na2SiO3、Na2HPO4、NH4OH等のアルカリ金属化合物
或いはアンモニウム化合物、エチレンジアミン、モノエ
タノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アミン
化合物等が挙げられる。
【0024】縮合反応の媒体としては、有機溶剤、例え
ばアルコール類、ケトン類、エステル類等;水と混和性
を有する親水性有機溶剤と水との混合溶剤が好ましい。
親水性有機溶剤としては、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類;アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン類;及び酢酸メチル、酢酸エチ
ル等のエステル類が使用できる。
【0025】また、必要に応じて縮合触媒が使用される
が、縮合触媒としては、α、α’−アゾビスイソブチロ
ニトリル、α、α’−アゾビス−2,4−ジメチルバレ
ロニトリル等のアゾ触媒;ヨウ素、臭素、塩素等の元素
ないし分子状の単体ハロゲン;過酸化水素、過酸化ナト
リウム、ベンゾイルパーオキサイド、過安息香酸、p−
メンタンハイドロパーオキサイド等の過酸化物;ヨウ素
酸、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸カリウム、過塩素酸ナトリ
ウム等の酸素酸或いは酸素酸塩が例示される。なお、キ
ノン化合物は縮合触媒として作用するので、縮合触媒を
使用しなくても芳香族アミン系化合物とキノン化合物と
の縮合反応は行われる。この縮合反応は通常20〜200℃
で0.5〜100時間行えばよい。芳香族アミン系化合物とキ
ノン化合物との縮合反応における芳香族アミン系化合物
とキノン化合物との割合は、使用される芳香族アミン系
化合物及びキノン化合物、触媒の種類、反応時間、反応
温度等によるが、通常、芳香族アミン系化合物1モルに
対して、キノン化合物は0.1〜10モルの範囲であること
が好ましい。
【0026】−(B)芳香族アミン系化合物縮合生成物の
アルカリ処理物− (B)芳香族アミン系化合物縮合生成物のアルカリ処理物
は、酸性触媒の存在下又は酸性媒体中で得られた芳香族
アミン系化合物縮合生成物をアルカリ処理することによ
り得られる。この芳香族アミン系化合物縮合生成物をア
ルカリ処理する方法は、まず芳香族アミン系化合物縮合
生成物を水に分散させて芳香族アミン系縮合生成物の0.
1〜50重量%分散水溶液を調製する。次に、得られた芳
香族アミン系化合物縮合生成物分散水溶液に、芳香族ア
ミン系化合物縮合生成物100重量部に対してNaOH、KOH、
Na2CO3、NH4OH、(NH4)2CO3等の無機アルカリ性化合物を
10〜20重量部添加混合し、この混合物分散水溶液を90〜
140℃で0.5〜10時間加熱処理する。アルカリ性化合物の
使用量は、芳香族アミン系化合物縮合生成物の縮合反応
時に使用した酸性化合物を中和するに足りる量であれば
よい。
【0027】−(C)芳香族アミン系縮合生成物の高級脂
肪酸処理物又は芳香族カルボン酸処理物− (C)芳香族アミン系縮合生成物の高級脂肪酸処理物又は
芳香族カルボン酸処理物は、前述した(A)芳香族アミン
系化合物縮合生成物及び/又は(B)芳香族アミン系化合
物縮合生成物のアルカリ処理物を高級脂肪酸又は芳香族
カルボン酸で処理することにより得られる。こうして得
られる高級脂肪酸処理物及び芳香族カルボン酸処理物は
1種単独で又はこれら2種を組み合わせて使用すること
ができる。
【0028】芳香族アミン系化合物縮合生成物を高級脂
肪酸又は芳香族カルボン酸で処理する方法は、まず(A)
芳香族アミン系化合物縮合生成物及び/又は(B)芳香族
アミン系化合物縮合生成物のアルカリ処理物100重量部
に対して、ロジン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オ
レイン酸、リノール酸等の高級脂肪酸;高級脂肪酸のア
ルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩;タンニン酸、シ
ェラック酸等の芳香族カルボン酸;及び/又は芳香族カ
ルボン酸のアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩(以
下、これらを「脂肪酸等」という)を5〜1000重量部添
加混合し、次に、得られた混合物を脂肪酸等の融点より
やや高い温度(40〜250℃程度)で加熱処理する。更
に、必要に応じて処理物を水洗した後、水中に投入して
析出させることにより、(C)芳香族アミン系化合物縮合
生成物の高級脂肪酸処理物又は芳香族カルボン酸処理物
を得る。
【0029】なお、(A)芳香族アミン系化合物縮合生成
物及び/又は(B)芳香族アミン系化合物縮合生成物のア
ルカリ処理物と、脂肪酸等とを混合する段階で、ジオキ
サン、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル
−2−イミダゾリジノン、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン等を溶剤として用いる
と、得られる混合物の溶解性が向上して高級脂肪酸又は
芳香族カルボン酸処理がいっそう十分に行われるので好
ましい。また、上記例示した高級脂肪酸処理物又は芳香
族カルボン酸処理物の中で高級脂肪酸処理物が好まし
い。
【0030】−(D)芳香族アミン系化合物縮合生成物の
アルキル化物、アルケニル化物又はアラルキル化物− (D)芳香族アミン系化合物縮合生成物のアルキル化物、
アルケニル化物又はアラルキル化物は、前述した(A)芳
香族アミン系化合物縮合生成物及び/又は(B)芳香族ア
ミン系化合物縮合生成物のアルカリ処理物にアルキルハ
ライド、アルケニルハライド又はアラルキルハライドを
有機溶剤中で反応させることにより得られる。こうして
得られるアルキル化物、アルケニル化物及びアラルキル
化物は、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用する
ことができる。なお、アルキル化物、アルケニル化物及
びアラルキル化物の少なくとも2種の混合物を得る場合
は、上記反応においてアルキルハライド、アルケニルハ
ライド及びアラルキルハライドの少なくとも2種の混合
物を用いても製造することができる。
【0031】使用されるアルキルハライドとしては、例
えばn−プロピルブロマイド、n−ブチルクロライド、n
−ブチルブロマイド、イソブチルブロマイド、2−エチ
ルヘキシルブロマイド、n−オクチルブロマイド、n−オ
クチルクロライド、ドデシルブロマイド、セチルブロマ
イド、ステアリルブロマイド、ステアリルクロライド等
が挙げられる。アルケニルハライドとしては、例えばア
リルクロライド、アリルブロマイド、イソプロペニルク
ロライド、イソプロペニルブロマイド、オレイルクロラ
イド、オレイルブロマイド等が挙げられる。アラルキル
ハライドとしては、例えばベンジルクロライド、ベンジ
ルブロマイド、β−フェニルエチルクロライド、β−フ
ェニルエチルブロマイド、p−メチルベンジルクロライ
ド、p−メチルベンジルブロマイド、 p−エチルベンジ
ルクロライド、 p−エチルベンジルブロマイド、シンナ
ミルクロライド、シンナミルブロマイド、 p−オクチル
ベンジルクロライド、 p−オクチルベンジルブロマイ
ド、スチリルクロライド、スチリルブロマイド、フェネ
チルクロライド、フェネチルブロマイド等が挙げられ
る。
【0032】前記反応に用いられる有機溶剤としては、
例えばジオキサン、N, N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルアニリン、ジメチルベンジ
ルイミン、ニトロベンゼン、N, N−ジメチルアセトアミ
ド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メ
チル−2−ピロリドン等が挙げられる。反応温度は通常
10〜200℃の範囲であるが、ハライド類の滴下中、反応
系は溶剤の沸点以下の温度に保つことが好ましく、更
に、滴下後反応を進行させるため、所定の温度に昇温す
ることが好ましい。反応時間は、反応温度が高いと短い
が、一般的にハライド類滴下後1〜10時間である。ま
た、前記反応ではアルカリ剤としてアルカリ性化合物を
使用するのが好ましいが、アルカリ性化合物としては、
例えばLiOH、KOH、Na2OH、Na2CO3、Na2SiO3、Na2HPO4
Li2CO3、K2CO3、CaCO3等が挙げられる。
【0033】芳香族アミン系化合物縮合生成物をアルキ
ル化するには、まず(A)芳香族アミン系化合物縮合生成
物及び/又は(B)芳香族アミン系化合物縮合生成物のア
ルカリ処理物を前記有機溶剤に分散もしくは溶解させて
0.01〜20重量%の分散液又は溶液を調製し、次にこれ
に、(A)芳香族アミン系化合物縮合生成物及び/又は(B)
芳香族アミン系化合物縮合生成物のアルカリ処理物100
重量部に対して前記ハライド類10〜300重量部、好まし
くは50〜150重量部を滴下する。更に、必要に応じてア
ルカリ剤を10〜500重量部、好ましくは30〜300重量部添
加する。アルカリ剤を添加する場合は、一般的にハライ
ド類滴下前に添加するのが好ましい。その後、更に所定
の温度に昇温し、所定の時間反応させる。反応終了後、
冷却し、水中に投入し、反応物を析出及び/又は分散さ
せた後、ろ過、水洗、乾燥することにより、アルキル化
物、アルケニル化物又はアラルキル化物を得る。以上の
ような芳香族アミン系縮合生成物(ハ)の配合量は、エ
ポキシ樹脂100重量部に対して通常1〜200重量部、好ま
しくは5〜100重量部である。
【0034】(ニ)その他の成分 −溶剤− 上記の防錆組成物には通常溶剤が配合され、液状組成物
として調製される。溶剤としては、例えば、ヘキサン等
の脂肪族炭化水素;トルエン、キシレン、シクロヘキサ
ノン、テトラヒドロフラン等の芳香族炭化水素;酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルイソブチルケ
トン等のケトン類;メタノール、エタール、プロピルア
ルコール等のアルコール類;N, N−ジメチルホルムアミ
ド、N, N−ジエチルホルムアミド等のホルムアミド類;
N, N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトア
ミド等のアセトアミド類;ジオキサン,N−メチル−2
−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ン、イソホロン等の有機溶剤が用いられる。また、本発
明の効果を損わない程度の範囲で水を有機溶剤と混合し
て、混合溶剤の一部として使用することもできる。
【0035】上記の液状組成物は一般に溶剤に前記
(イ)、(ロ)及び(ハ)の成分、並びに必要に応じて
加えられる任意的な成分を溶解又は分散させて調製され
る。この場合、これら固形成分の合計濃度は液状組成物
全量に対して通常0.1〜40重量%、好ましくは1〜30重
量%である。また該防錆組成物には、必要に応じて下記
添加剤を配合することができる。
【0036】−ケイ酸化合物− ケイ酸化合物の配合により、耐食性が向上するという利
点が得られる。ケイ酸化合物は、好ましくは、例えばケ
イ酸エステル類、コロイド状シリカ及びアルカリ金属の
ケイ酸塩である。ケイ酸エステル類としては、例えば、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラ
ン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−i−ブトキ
シシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、メチルトリメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ
−n−プロポキシシラン、メチルトリ−i−プロポキシ
シラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ
−t−ブトキシシラン等のアルコキシシラン化合物及び
これらのアルコキシシラン化合物の縮合物である。
【0037】アルコキシシラン化合物の縮合物は、一般
的にアルコキシシラン化合物を部分的に加水分解した
後、縮合させることにより製造される。アルコキシシラ
ン化合物の縮合物としては、例えば、テトラエトキシシ
ランの縮合物であるエトキシポリシロキサン(多摩化学
工業(株)製 商品名“エチルシリケート−40”)等
が挙げられる。コロイド状シリカは、水媒体、又は例え
ばメタノール、プロパノール、エチレングリコール等の
非水性媒体からなる分散媒体中に、一般に粒径5〜500
nmである二酸化ケイ素(シリカ)の超微粒子が分散し
てなるコロイドである。
【0038】コロイド状シリカの製造方法は何ら限定さ
れない。代表的な製造方法としては、例えば、シリカ粒
子が水媒体に分散したコロイドの場合、ケイ酸ナトリウ
ムの水溶液に塩酸を加えることにより得る方法が知られ
ている。また、テトラエトキシシラン等のケイ酸エステ
ル類を、イソプロピルアルコール等の有機溶剤中、少量
の純水とエチルアミン等を触媒として加えて、加水分解
反応させることにより得る方法も知られている。
【0039】また、アルカリ金属のケイ酸塩としては、
例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属のメタケイ酸塩(M2SiO3)オルトケイ酸塩(M4Si
O4)、二ケイ酸塩(M2Si2O3)、三ケイ酸塩(M3Si
3O7)、セスキケイ酸塩(M4Si3O10)等(上記式中、M
はリチウム、ナトリウム,カリウム等のアルカリ金属を
示す)、並びに水ガラスが挙げられる。これらケイ酸化
合物の中でも、コロイド状シリカがより良好な防食性を
得る上で好ましい。ケイ酸化合物の配合量はエポキシ樹
脂100重量部に対して通常1〜200重量部、好まし
くは5〜100重量部である。
【0040】−高分子化合物− このような高分子化合物としては、例えばポリビニルア
ルコール、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸、ポ
リビニルフェノール樹脂(例えばポリp−ビニルフェノ
ール)、p−ビニルフェノールとメタクリル酸2−ヒド
ロキシエチルとの共重合体、ポリp−ビニルフェノール
の臭素化物、p−ビニルフェノールとスチレンとの共重
合体、p−ビニルフェノールとアクリル酸ブチルとの共
重合体、ペクチン、シェラック、アルギン酸、デンプ
ン、キチン、キトサン、ポリビニルアセタール、ポリエ
ステル樹脂、アルキッド樹脂、ウレタン樹脂、ポリアル
キレングリコール、酢酸ビニルとビニルアルコールとの
共重合体等が挙げられるが、中でもポリビニルブチラー
ルが好ましい。これらの高分子化合物は1種単独で又は
2種以上組み合わせて使用することができる。
【0041】−無機酸及び/又は有機酸− 無機酸としては、リン酸類が好ましく、例えば、リン
酸、ピロリン酸、トリポリリン酸等が挙げられる。有機
酸としては、安息香酸、サリチル酸、タンニン酸、グリ
コール酸、没食子酸、トルエンスルホン酸、フィチン
酸、クエン酸、酒石酸等が挙げられる。これら無機酸、
有機酸は1種単独で又は2種以上組み合わせて使用する
ことができる。
【0042】−その他の添加剤− その他、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又は両性
界面活性剤等の界面活性剤;パラフィンワックス、モン
タンワックス、脂肪酸アミドワックス、ポリエチレンワ
ックス等のワックス;粘度調節剤;酸化防止剤;紫外線
吸収剤等が挙げられる。
【0043】上記の防錆組成物は、例えば前述のよう
に、更に溶剤を配合して強磁性物品の塗布剤として使用
される。この組成物の適用対象は、防錆処理を必要とす
る強磁性体である金属、即ち、錆が発生しやすい強磁性
体からなる物品の表面であれば特に限定されない。本発
明の方法においては、強磁性物品回転支持装置を用い、
強磁性物品を磁石に磁力で吸着させ、モーター回転軸を
回転させることにより被塗物である強磁性物品を回転さ
せながら、該被塗物に塗布剤をスプレー塗布するのであ
るが、塗布剤をスプレー塗布する上で塗布剤が被塗物の
表面に均一に塗布される様に、必要に応じて適宜スプレ
ー噴射ノズルの位置や、用いるスプレー噴射ノズルの数
を決めればよい。
【0044】また、ボルト等のねじ部分を有するものの
ねじ部分を塗装する場合、塗布剤を均一に塗布する効果
を得る上で、複数個のスプレー噴射ノズルを用いるのが
好ましい。また、ボルト等のねじ部分を有するものの全
体表面に塗布剤を塗布する場合、ボルトの縦断面図であ
る図2に例示した様にボルト16のボルト頭部分17の
塗布とボルトねじ部分18の塗布と2工程に分けて塗布
することが好ましい。図3はボルトの頭部分を塗布する
場合の配置を示した縦断面図である。ボルト頭部分の塗
布をする際には、図2、図3に示した様に、塗布剤がね
じ部分18に塗布されないように、ねじ部分を筒状等の
プラスチック等でできたカバー19で覆っておくこと
が、ねじ部分の塗布ムラを防止する上で好ましい。図4
は、ボルトねじ部分に塗布剤をスプレー塗布する場合の
配置を示した縦断面図である。頭部分の塗布とねじ部分
の塗布の順番はいずれを先にしてもよいが、頭部分の塗
布をした後、ねじ部分の塗布をした方がねじ部分の塗布
ムラを防止する上で好ましい。
【0045】
【実施例】芳香族アミン系縮合生成物の製造:下記に示
す縮合反応により(イ)芳香族アミン系縮合生成物とし
て、縮合生成物A−、A−、A−及びA−を製
造し、その重量平均分子量(ポリスチレン換算)をGPC
により下記の測定条件で測定した。 カラム: ガードカラム 商品名 Slim-pack GPC-800DP、島津製作所社製 分析カラム 商品名 Slim-pack GPC-803D、802D、島津製作所社製 移動相: 10mM LiBr / DMF 流量 : 1.0mL / min 検出器: RI 温度 : 60℃ 更に得られた縮合生成物A−及びA−を用いて下記
に示す方法でアルカリ処理物B−、B−、高級脂肪
酸処理物C−、C−を製造した。また得られた縮合
生成物B−を用いて下記に示す方法でアラルキル化物
D−を製造した。
【0046】[縮合生成物A−の製造]耐圧反応器にp
−アミノフェノール100モル(10.9kg)及び30%塩酸0.99k
g(HC1として9.5モル)を仕込み、169℃に昇温した。169
℃に達した時、キシレン18Lを徐々に添加した。キシレ
ンの添加目的は縮合反応中に生成する水を共沸混合物と
して除去するためである。次に、反応混合物を222℃に
昇温し、この温度で3時間反応させた。反応中に発生す
るキシレンと水との混合蒸気を除去し、内圧は150kPa以
下に保った。3時間の反応後、反応混合物を冷却した。
得られた反応生成物は固体であった。次に、該反応生成
物を粉砕し微粒状態にした後、水で洗浄し、ろ過し、次
いで乾燥して縮合生成物A−を得た。重量平均分子量
は、2,500であった。
【0047】[縮合生成物A−の製造]耐圧反応器にm
−フェニレンジアミン100モル(10.8kg)、レゾルシノー
ル200モル(22.0kg)及び触媒として35%塩酸1.04kg(HCI
として10モル)を仕込み、305℃に昇温した。反応容器内
の混合物が305℃に達した時、直ちに反応系を冷却し
た。昇温及び反応の過程で生成した水蒸気は除去し、内
圧は150kPa以下に保った。冷却後、得られたm−フェニ
レンジアミン−レゾルシノール縮合物を粉砕して縮合生
成物A−を得た。重量平均分子量は3,000であった。
【0048】[縮合生成物A−の製造]アニリン100モ
ル、塩酸31モル、ニトロベンゼン22.7モル及び塩化第二
鉄0.103モルの混合物を60℃で6時間加熱後、180〜185℃
まで昇温して水を留去させながらこの温度で15時間反応
させた。この間に水と共にアニリン及びニトロベンゼン
の一部が留出されるが、このアニリン及びニトロベンゼ
ンは回収し、反応器へ戻した。次に内温を更に200℃ま
で昇温し、この温度で5時間加熱した。こうして得られ
た反応混合物(溶融状物)を希塩酸中に投入し、60℃で3
時間加熱し、熱ろ過して未反応のアニリンを除去した。
更に過剰な塩酸を除くために水で5〜6回洗浄した後、乾
燥して縮合生成物A−を得た。重量平均分子量は15,00
0であった。
【0049】[縮合生成物A−の製造]耐圧反応器にメ
タノール30,000(960kg)、1,8−ジアミノナフタレン1
00モル(15.8kg)、p-ベンゾキノン50モル(5.4kg)を仕込
んだ。これにピロガロールを159モル(20kg)添加し、6
0℃で20時間反応させた。ついで、反応混合液に水1000k
gを投入し、得られた縮合物を沈殿させた。沈殿物をろ
過し、洗浄、乾燥して縮合生成物A−を得た。重量平
均分子量は12,000であった。
【0050】[縮合生成物B−(アルカリ処理物)の製
造]上記縮合生成物A−1.0kgを水5.0kgに分散し、NaO
H 0.1kg添加した後、130℃に昇温し、この温度で2時間
加熱処理した。反応混合液を冷却した後、反応物をろ
過、水洗、乾燥してアルカリ処理物B−を得た。
【0051】[縮合生成物B−(アルカリ処理物)の製
造]上記縮合生成物A−1.0kgを水5.0kgに分散し、NaO
H 0.2kg添加した後、100℃に昇温した。この温度で4時
間加熱処理した後、冷却した。ついで、反応物をろ過、
水洗、乾燥してアルカリ処理物B−を得た。
【0052】[縮合生成物C−(高級脂肪酸処理物)の
製造]上記縮合生成物A−1.0kgにステアリン酸リチウ
ム1.0kgを加え、230℃に昇温し、この温度で1時間処理
した。その後、冷却し、得られた反応生成物を粉砕し微
粒状態にした後、水で洗浄し、ろ過し、乾燥して高級脂
肪酸処理物C−を得た。
【0053】[縮合生成物C−(高級脂肪酸処理物)の
製造]上記縮合生成物A−0.5kgにオレイン酸1.0kgを
加え100℃に昇温し、この温度で2時間処理した。その
後、冷却し、粉砕して微粒状の高級脂肪酸処理物C−
を得た。
【0054】[縮合生成物D−(アラルキル化物)の製
造]上記アルカリ処理物C−1.0kgを攪拌機、滴下ロー
ト、コンデンサー等を備えた反応器に投入した後、ジメ
チルホルムアミド10kgを入れ、攪拌を開始した。次にア
ルカリ剤として無水炭酸カリウム1.0kgを加えた後、80
℃に昇温し、この温度に保った。ベンジルクロライド25
0gを2時間かけて滴下し、更に80℃で1時間攪拌を続け
た。次に120℃に昇温し、この温度で2時間攪拌した後、
冷却した。反応混合物を水90L中に投入し、1時間攪拌
した後、ろ過、水洗、乾燥してアラルキル化物D−を
得た。
【0055】溶液の調製(I):表1に示した芳香族アミ
ン系縮合生成物40gをテトラヒドロフラン/1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン=6/1(重量比)の混
合溶剤770gに加えて溶解し、溶液No.11〜19を調製し
た。
【0056】
【表1】
【0057】溶液の調製(II):各々表2に示した量
(g)の、(イ)エポキシ樹脂〔三井化学(株)社製
商品名エポキー863;不揮発分46重量%の液状エポキ
シ樹脂の溶液で、溶剤組成はプロピレングリコールモノ
メチルアセテート/トルエン/イソプロピルアルコール
/メチルエチルケトン/n−ブタノール=10/50/
10/20/10(重量比)〕、(ロ)硬化剤としてブ
チル化メラミン樹脂〔三井化学(株)社製商品名ユーバ
ン22R;不揮発分50重量%のブチル化メラミン樹脂溶
液で、溶剤組成はブタノール/キシロール=60/40
(重量比)〕及び(ニ)高分子化合物としてポリビニル
ブチラール樹脂〔和光純薬工業社製;重合度約700〕
をテトラヒドロフラン800gに加えて溶解し、溶液No.21
及びNo.22を調製した。
【0058】
【表2】
【0059】防錆組成物(塗布液)の調製:溶液の調製
(I)で調製した溶液(I)と溶液の調製(II)で調製した溶液
(II)とを表3に混合溶液I/II〔(溶液(I)の溶液N
o.)/(溶液(II)の溶液No.)を意味する〕と示すよう
に組合せ、攪拌混合して、同表に示した組成の塗布液N
o.101〜110を調製した。なお、表3中の部及び%はそれ
ぞれ重量部及び重量%を表す。
【0060】
【表3】
【0061】防錆組成物(塗布液)の塗布 磁石としてN42(信越化学工業(株)製:ネオジム系磁
石 保磁力 955〜1035bHC〔KA/m〕)をフッ素系樹脂で
コートしたものを用い、図1に示した強磁性物品回転支
持装置に装着した。被塗物として表面にZn−Fe−C
o合金メッキが施されたM16のボルト(材質、鉄鋼
材)を用いた。
【0062】〔実験No.201〕ボルトのネジ部分を図2で
示した様にプラスチックからなる筒状保護カバー20に
通して覆いボルト頭部分18のみを露出させた。この状
態で図3に示す様にボルト17を物品回転支持装置1の
磁石15にボルト頭18を上にして吸着、固定した。ス
プレー噴射ノズルは、図3に示すように、ノズルはボ
ルト頭部分18の斜め上方に配置し、別のノズルはボ
ルト17の横方向に設置している。強磁性物品回転支持
装置1のモーター回転軸13を回転(回転数:500rp
m/min)させながら、塗布液No.101をボルト頭部分
18に向け、噴射ノズルより6.2mL量を3秒かけて噴
射させ、次いで噴射ノズルより6.2mL量を3秒かけて
噴射させてボルト頭部分18に塗布した。塗布後、170
℃で15分間放置して乾燥させた。
【0063】乾燥後、ボルトより筒状保護カバー20を
取り去り、図4に示す様にボルトをボルト頭18を下に
して強磁性物品回転支持装置1に設置した。スプレー噴
射ノズルは、図4に示す様に、ノズルはボルトの被塗
部(ねじ部分)の斜め上方に、ノズルは被塗部の斜め
下方に、ノズルはノズルの反対側の斜め下方に、そ
してノズルは被塗部の横方向に配置してある。強磁性
物品回転支持装置1のモーター回転軸13を回転(回転
数:500rmp/min)させながら、塗布液No.101を
ボルトねじ部分19に向け噴射ノズルより3.1mL量
を3秒かけて噴射し、次いで噴射ノズルより3.1mL量
を3秒かけて噴射し、ノズルより3.1mL量を3秒かけ
て、噴射ノズルより3.1mL量を3秒かけて順次噴射さ
せ、ボルトねじ部分19に塗布した。塗布後、170℃で1
5分間放置して乾燥させた。ボルト表面全体に防錆組成
物の被膜が形成されたボルトを得た。この防錆組成物の
塗膜が形成されたボルトを用いて、防食性試験、塗膜厚
さ試験を下記に示す方法で行い、その結果を表4に示し
た。
【0064】防食性試験 防錆組成物の塗膜が形成されたボルトについて、JIS Z-
2371に準拠し塩水噴霧試験を行った。24時間毎に該試験
ボルトの観察を行い、発生した白錆の状況を目視で観察
して、下記に示す基準で評価した。その結果を表4に示
した。 観察評価 ○:96時間後、白錆は観察されなかった ×:96時間後、白錆は観察された塗膜厚さ試験 防錆組成物の塗膜が形成されたボルトについてM16の
ボルトに適合するナットをボルトのおねじ部に回しなが
らボルトの頭部分まで入れた後、ナットを回しながら抜
きとった。ナットをボルトのおねじ部より抜きとった
後、おねじ部の塗膜のはがれ及びキズの状況を目視で観
察した。その結果を表4に示した。
【0065】〔実験No.202〜210〕実験No.201において
使用した塗布液を塗布液No.102〜110に変えて行った以
外は、実験No.201と同様に行い、各種塗布液No.102〜11
0に相当する防錆塗膜が形成されたボルトを得た。この
得られたボルトについて実験No.201と同様に防食性試
験、塗膜厚さ試験を行った。その結果を表4に示した。
【0066】〔実験No.301〕実験No.201において使用し
た筒状保護カバーを用いなかった以外は実験No.201と同
様に行った。この得られたボルトについて実験No.201と
同様に防食性試験、塗膜厚さ試験を行った。その結果を
表4に示した。
【表4】
【0067】
【発明の効果】本発明の塗装方法によれば、強磁性物品
がねじ部分を有していても能率良く均一に塗布剤を塗布
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法の実施に用いられる強磁性物品回
転支持装置を、上部のみ一部破断した縦断面として示し
た立面図である。
【図2】ネジ部分を保護カバーで覆ったボルトの正面図
であり、但し保護カバーのみ縦断して示されている。
【図3】本発明の方法によりボルトの頭部分を塗布する
状態を示す立面図であり、強磁性物品回転支持装置の磁
石と磁石ホルダーは縦断して示されている。
【図4】本発明の方法によりボルトのねじ部分を塗布す
る状態を示す立面図であり、強磁性物品回転支持装置の
磁石と磁石ホルダーは縦断して示されている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 AA01 AA39 AA53 AA63 AA67 BB14Z CA33 CA47 DA11 DA32 DA34 DB02 DB05 DC16 EA07 EB14 EB19 EB20 EB22 EB32 EB33 EB35 EB38 EB45 EC07 EC15 4K062 AA01 BC12 FA16

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 強磁性体からなる物品を磁石に磁力で固
    定した状態で該磁石を介して回転させながら、該物品の
    少なくとも一部分に塗布剤をスプレー塗布することを特
    徴とする強磁性体からなる物品の塗装方法。
  2. 【請求項2】 モーターにより駆動される回転軸の先端
    部に前記磁石を取り付け、該回転軸を回転させることに
    より前記物品を回転させることを特徴とする請求項1に
    記載の強磁性体からなる物品の塗装方法。
  3. 【請求項3】 前記強磁性体からなる物品がネジ部分を
    有し、該ネジ部分に塗布剤を塗布することを特徴とする
    請求項1又は2に記載の強磁性体からなる物品の塗装方
    法。
  4. 【請求項4】 前記のスプレー塗布を複数個の噴射ノズ
    ルを用いて行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    か1項に記載の強磁性体からなる物品の塗装方法。
  5. 【請求項5】 前記塗布剤が防錆剤であることを特徴と
    する請求項1〜4のいずれか1項に記載の強磁性体から
    なる物品の塗装方法。
  6. 【請求項6】 前記防錆剤がエポキシ樹脂、硬化剤、及
    び芳香族アミン系縮合物を含有する組成物であることを
    特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の強磁性
    体からなる物品の塗装方法。
  7. 【請求項7】 ネジ部分を有する強磁性体からなる物品
    がボルトであり、ボルト頭部分に防錆剤をスプレー塗布
    する工程と、ボルトのネジ部分に防錆剤をスプレー塗布
    する工程とを有することを特徴とする、請求項3に記載
    の強磁性体からなる物品の塗装方法。
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