JP2002043054A - Light-emitting element and method of manufacturing the same - Google Patents

Light-emitting element and method of manufacturing the same

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JP2002043054A
JP2002043054A JP2000225447A JP2000225447A JP2002043054A JP 2002043054 A JP2002043054 A JP 2002043054A JP 2000225447 A JP2000225447 A JP 2000225447A JP 2000225447 A JP2000225447 A JP 2000225447A JP 2002043054 A JP2002043054 A JP 2002043054A
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light
organic
electrode
layer
substrate
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Tomoyuki Shirasaki
友之 白嵜
Takeshi Ozaki
剛 尾崎
Osamu Okada
修 岡田
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Casio Computer Co Ltd
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Casio Computer Co Ltd
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Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting element, capable of restricting generation of fuzziness of image, in the case of using as a display device and the generation of parallax displacement, when using as the backlight of a transmission-type display device, while improving the outgoing light quantity (light-emitting effi ciency) of an organic EL element, and to provide a method of manufacturing this light-emitting element. SOLUTION: An anode electrode 12 formed of a transparent electrode such as ITO, an organic EL layer 13 made of the organic compound, and a cathode electrode 14 forming a reflecting layer are laminated in the order on one surface of a transparent insulating substrate 11a formed thin at about 0.2 mm or less (desirably, 0.1 mm or less) for the plate thickness so as to form an organic EL element. A sealing substrate 16, having a relatively thick plate thickness and facing the insulating substrate 11a, is provided via a sealing layer 15 which covers the whole surface of the organic EL element, and a scattering plate 18 is provided in the other surface of the insulating substrate 11a, so as to maintain continuity of the refractive index.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光素子およびそ
の製造方法に関し、特に、有機エレクトルミネッセンス
材料による発光層を備えた面状構造の発光素子及びその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a light emitting device having a planar structure having a light emitting layer made of an organic electroluminescent material and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高度情報化社会の進展に伴い、コ
ンピュータや携帯電話、携帯情報端末等の情報通信機器
の普及が著しい。このような情報通信機器においては、
入出力インターフェースとして表示デバイスが大きな役
割を果たしている。そして、表示デバイスとしては、近
年、ブラウン管(CRT)の代替えとして、液晶表示パ
ネル(LCDパネル)が急速に普及している。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of a highly information-oriented society, information communication devices such as computers, portable telephones and portable information terminals have been remarkably spread. In such information communication equipment,
A display device plays a major role as an input / output interface. In recent years, as a display device, a liquid crystal display panel (LCD panel) has rapidly spread as an alternative to a cathode ray tube (CRT).

【0003】その一方で、薄型の表示デバイスとして、
有機化合物を発光材料とする有機エレクトロルミネッセ
ンス(Electroluminescence)素子(以下、「有機EL
素子」と略記する)が実用化に向けて研究開発されてい
る。ここで、LCDパネルは、バックライトの光により
画像情報を表示する非発光素子(透過型の表示デバイ
ス)であるのに対して、有機EL素子は、有機化合物を
発光層に用いた自己発光型の表示デバイスであるため、
次に示すような種々の特徴を有している。
On the other hand, as a thin display device,
The organic electroluminescence using an organic compound as a luminescent material (E lectro l uminescence) element (hereinafter, "organic EL
(Abbreviated as "element") is being researched and developed for practical use. Here, the LCD panel is a non-light-emitting element (transmissive display device) that displays image information by the light of a backlight, whereas the organic EL element is a self-light-emitting type using an organic compound for a light-emitting layer. Because it is a display device of
It has various features as follows.

【0004】例えば、LCDパネルに比べて視野角が広
く、コントラストや視認性に優れている。また、LCD
パネルのようなバックライトが必要ないため、一層の薄
型、軽量化が実現できるうえ、直流低電圧駆動が可能で
あり、応答速度も極めて速いという特徴を有している。
さらに、有機EL素子をLCDパネル等の透過型の表示
デバイスのバックライトとして適用した場合には、通常
の冷陰極管によるものに比較してより小さいエネルギー
で同等の光量を得ることができ、消費電力を低減するこ
とができるという特徴を有している。加えて、素子構造
が全て固体であるため振動に強く、適用範囲が広い等の
特徴を有している。このような種々の特徴を有している
ことから、有機EL素子は、次世代の表示デバイスある
いは光源として非常に注目されている。
[0004] For example, as compared with an LCD panel, it has a wider viewing angle and is superior in contrast and visibility. In addition, LCD
Since a backlight such as a panel is not required, it is characterized in that it can be made thinner and lighter, can be driven at a low DC voltage, and has a very high response speed.
Further, when the organic EL element is applied as a backlight of a transmissive display device such as an LCD panel, the same amount of light can be obtained with smaller energy than that of a normal cold cathode tube, and It has the feature that power can be reduced. In addition, since the element structure is all solid, it has a feature that it is resistant to vibration and has a wide application range. Because of these various features, the organic EL element has attracted much attention as a next-generation display device or light source.

【0005】図13に、従来技術における有機EL素子
の概略構成を示し、その構造について説明する。図13
(a)に示すように、有機EL素子10は、大別して、
ガラス基板等の透明な絶縁性基板11の一面側に、IT
O(Indium Thin Oxide)等の透明電極材料からなるア
ノード電極12と、有機化合物等の発光材料からなる有
機EL層13と、金属材料からなる反射特性を有するカ
ソード電極14と、を順次積層した構成を有している。
そして、上述したような有機EL素子10は、封止層1
5及び封止基板16(又は、不活性ガスを充填したキャ
ップ封止)により封止、密閉され、外気から遮断された
構成を有している。このような有機EL素子を封止する
構成については、例えば、特開2000−3782号公
報や特開2000−173766号公報等に記載されて
いる。また、有機EL層13は、図13(b)に示すよ
うに、例えば、高分子系のホール輸送材料からなるホー
ル輸送層13aと、高分子系の電子輸送性発光材料から
なる電子輸送性発光層13bを積層して構成されてい
る。
FIG. 13 shows a schematic structure of an organic EL device according to the prior art, and the structure will be described. FIG.
As shown in (a), the organic EL element 10 is roughly divided into
On one side of a transparent insulating substrate 11 such as a glass substrate, an IT
A configuration in which an anode electrode 12 made of a transparent electrode material such as O (Indium Thin Oxide), an organic EL layer 13 made of a light emitting material such as an organic compound, and a cathode electrode 14 made of a metal material and having a reflection characteristic are sequentially laminated. have.
The organic EL element 10 as described above includes the sealing layer 1
5 and a sealing substrate 16 (or cap sealing filled with an inert gas) are sealed and hermetically sealed from outside air. The configuration for sealing such an organic EL element is described in, for example, JP-A-2000-3782 and JP-A-2000-173766. Further, as shown in FIG. 13B, the organic EL layer 13 includes, for example, a hole transport layer 13a made of a polymer-based hole transport material and an electron transport light-emitting made of a polymer-based electron transport light-emitting material. It is configured by stacking layers 13b.

【0006】このような構成を有する有機EL素子10
において、図13(b)に示すように、直流電圧源から
アノード電極12に正電圧、カソード電極14に負電圧
を印加することにより、ホール輸送層13aに注入され
たホールと電子輸送性発光層13bに注入された電子が
有機EL層13内で再結合する際のエネルギーに基づい
て光が放射される。そして、この光hνは、透明なアノ
ード電極12を透過して絶縁性基板11の他面側に放出
される。このとき、光hνの発光強度は、アノード電極
12とカソード電極14間に流れる電流量に応じて制御
される。
The organic EL device 10 having such a configuration
As shown in FIG. 13 (b), by applying a positive voltage to the anode electrode 12 and a negative voltage to the cathode electrode 14 from a DC voltage source, the holes injected into the hole transport layer 13a and the electron transporting light emitting layer Light is emitted based on the energy at which the electrons injected into the organic EL layer 13 b recombine in the organic EL layer 13. The light hν passes through the transparent anode electrode 12 and is emitted to the other surface of the insulating substrate 11. At this time, the emission intensity of the light hν is controlled according to the amount of current flowing between the anode electrode 12 and the cathode electrode 14.

【0007】ところで、上述したような有機EL素子1
0においては、発光層となる有機EL層13において放
射される光が、有機EL層13からアノード電極12及
び絶縁性基板11を介して、あるいは、カソード電極1
4で反射して有機EL層13、アノード電極12及び絶
縁性基板11を介して、絶縁性基板11の他面側、すな
わち、視野側に出射されることになる。そのため、有機
EL素子10を構成する各層の屈折率に応じて、全体の
発光量に対する視野側への出射光量(取り出し効率)が
一義的に決まる。
By the way, the organic EL element 1 as described above
0, light emitted from the organic EL layer 13 serving as a light emitting layer is transmitted from the organic EL layer 13 via the anode electrode 12 and the insulating substrate 11 or the cathode electrode 1
The light 4 is reflected by the organic EL layer 13, the anode electrode 12, and the insulating substrate 11, and is emitted to the other surface side of the insulating substrate 11, that is, the viewing side. Therefore, the amount of light emitted (extraction efficiency) toward the visual field with respect to the total amount of light emitted is uniquely determined according to the refractive index of each layer constituting the organic EL element 10.

【0008】具体的には、有機EL層13の屈折率を
1.60、アノード電極12を構成するITOの屈折率
を2.00、絶縁性基板11を構成するガラスの屈折率
を1.45、視野側の空気の屈折率を1.0008とし
た場合、有機EL層13から放出される光の進路(放
射、出射角度)は、図14(a)に示すように、上記各
層の屈折率によって決まるため、有機EL層13におけ
る放射角度αと絶縁性基板11からの光L0、L11〜
L15の出射角度δとの関係は、次式により表される。 sinα/sinδ=1.0008/1.60 ・・・(1)
Specifically, the refractive index of the organic EL layer 13 is 1.60, the refractive index of ITO forming the anode electrode 12 is 2.00, and the refractive index of glass forming the insulating substrate 11 is 1.45. If the refractive index of the air on the visual field side is 1.0008, the path (radiation and emission angle) of the light emitted from the organic EL layer 13 is, as shown in FIG. Is determined by the radiation angle α in the organic EL layer 13 and the light L0, L11 to L11 from the insulating substrate 11.
The relationship between L15 and the emission angle δ is represented by the following equation. sinα / sinδ = 1.0008 / 1.60 (1)

【0009】したがって、図14(b)に示すように、
絶縁性基板11からの光L0、L11、L12の出射角
度δが各々0°、45°、75°の場合における有機E
L層13における放射角度αは、0°、26.3°、3
7.2°となる。ここで、これら放射角度α、出射角度
δは、有機EL層13の発光面への垂線を軸とした角度
であり、絶縁性基板11からの光の出射角度δが限界
(すなわち、出射角度δ=90°:光L13に相当)と
なる有機EL層13における放射角度(全反射臨界角)
αは、上記(1)式に基づいて、次式のように求めら
れる。 α=sin-1(sin90°×1.0008/1.60) α=38.7° ・・・(2)
Therefore, as shown in FIG.
The organic E in the case where the emission angles δ of the light L0, L11, L12 from the insulating substrate 11 are 0 °, 45 °, and 75 °, respectively.
The radiation angle α in the L layer 13 is 0 °, 26.3 °, 3
7.2 °. Here, the radiation angle α and the emission angle δ are angles with the axis perpendicular to the light emitting surface of the organic EL layer 13 as an axis, and the emission angle δ of light from the insulating substrate 11 is limited (that is, the emission angle δ). = 90 °: equivalent to light L13) radiation angle (total reflection critical angle) in organic EL layer 13
α L is obtained as in the following equation based on the above equation (1). α L = sin −1 (sin 90 ° × 1.008 / 1.60) α L = 38.7 ° (2)

【0010】なお、全反射臨界角α(=38.7°)
以上の角度αで放射される光L14、L15は、有機E
L層13、アノード電極12及び絶縁性基板11の屈折
率に基づいて、各々絶縁性基板11の上面、及び、アノ
ード電極12と絶縁性基板11の界面において反射した
後、有機EL素子内で反射を繰り返す。を有する
The critical angle for total reflection α L (= 38.7 °)
The light L14 and L15 emitted at the above angle α are
Based on the refractive indexes of the L layer 13, the anode electrode 12, and the insulating substrate 11, the light is reflected at the upper surface of the insulating substrate 11 and at the interface between the anode electrode 12 and the insulating substrate 11, and then reflected within the organic EL element. repeat. Having

【0011】一方、有機EL層13から放射される光
は、全周の全角度に対して均一な光束を出射する完全拡
散型の放射特性を有しているので、図15に示すよう
に、絶縁性基板11から光が出射される角度範囲(0〜
90°)の球冠の立体角θは、上記全反射臨界角α
38.7°に基づいて、次式のように表される。 θ=2π×(1−cos38.7°) ≒0.44π ・・・(3)
On the other hand, the light radiated from the organic EL layer 13 has a perfect diffusion type radiation characteristic of emitting a uniform luminous flux with respect to all angles of the entire circumference, and as shown in FIG. The angle range in which light is emitted from the insulating substrate 11 (0 to 0)
90 °), the solid angle θ of the spherical cap is the above-mentioned total reflection critical angle α L =
Based on 38.7 °, it is expressed by the following equation. θ = 2π × (1−cos 38.7 °) ≒ 0.44π (3)

【0012】これにより、有機EL層13における全発
光量に対する視野側への出射光量(取り出し効率)は、
有機EL層13から直接絶縁性基板11を介して出射さ
れる前面出射光束と、有機EL層13からカソード電極
14において反射し、絶縁性基板11を介して出射され
る後面出射光束との和に基づいて、次式のように求めら
れる。 取り出し効率=(前面出射光束+後面出射光束)/全光束 =0.44π×2/4π ≒0.22(=22%) ・・・(4)
As a result, the amount of light emitted to the visual field side (extraction efficiency) with respect to the total amount of light emitted from the organic EL layer 13 is:
The sum of the front-side emitted light beam directly emitted from the organic EL layer 13 through the insulating substrate 11 and the rear-side emitted light beam reflected from the organic EL layer 13 at the cathode electrode 14 and emitted through the insulating substrate 11 is obtained. Based on the following equation, Extraction efficiency = (front emission light flux + rear emission light flux) / total light flux = 0.44π × 2 / 4π ≒ 0.22 (= 22%) (4)

【0013】上述したように、従来の有機EL素子10
においては、絶縁性基板11と空気の屈折率の差が大き
いために、各層の界面において反射又は全反射を繰り返
して減衰する成分が多くなり、有機EL層において放射
された光のうち、約20%程度が視野側に出射されるに
すぎなかった。そのため、このような問題を解決するた
めに、例えば、電極層や有機EL層の平面構造を変化さ
せた構成により、視野側における正面輝度を改善するこ
とが提案されているが、新たな構造に伴う製造上や特性
上の種々の課題を解決しなければならいという問題を有
している。
As described above, the conventional organic EL element 10
In this case, since the difference between the refractive indices of the insulating substrate 11 and air is large, a component that is repeatedly reflected or totally reflected at the interface of each layer and attenuated increases, and about 20% of the light emitted from the organic EL layer Only about% was emitted toward the viewing side. Therefore, in order to solve such a problem, for example, it has been proposed to improve the front luminance on the viewing side by changing the planar structure of the electrode layer and the organic EL layer. There is a problem that it is necessary to solve various problems in manufacturing and characteristics.

【0014】そこで、図16に示すように、絶縁性基板
11の他面側に散乱板(拡散性を有するフィルム等)1
8を配置するとともに、カソード電極14を構成する金
属層の反射率を高く設定することにより、上記取り出し
効率を向上する構成が知られている。このような構成を
有する有機EL素子においては、絶縁性基板11の界面
において光が反射又は全反射する角度が散乱板18によ
る散乱によって変化するため、カソード電極で反射した
光が視野側に出射される確率が高くなり、光の取り出し
効率を向上させることができる。
Therefore, as shown in FIG. 16, a scattering plate (a film having a diffusivity) 1 is formed on the other surface of the insulating substrate 11.
A configuration in which the above-described extraction efficiency is improved by arranging the metal layer 8 and setting the reflectance of the metal layer forming the cathode electrode 14 high is known. In the organic EL element having such a configuration, the angle at which light is reflected or totally reflected at the interface of the insulating substrate 11 changes due to scattering by the scattering plate 18, so that the light reflected by the cathode electrode is emitted to the viewing side. And the light extraction efficiency can be improved.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような有機EL素子においては、次に示すような問題
点が提起されている。 (1)有機EL素子を構成する絶縁性基板は、製造時に
おける各種処理工程や搬送時における外部応力による破
損を防止する強度を備え、また、有機EL素子を発光駆
動するための駆動回路(ドライバIC)等を良好に搭載
するために、例えば、0.4〜0.7mm程度の比較的
厚い板厚を有している。
However, in the above-mentioned organic EL device, the following problems have been raised. (1) The insulating substrate constituting the organic EL element has a strength for preventing breakage due to external stresses during various processing steps during manufacturing and during transport, and a driving circuit (driver) for driving the organic EL element to emit light. In order to mount IC) and the like satisfactorily, it has a relatively thick plate thickness of, for example, about 0.4 to 0.7 mm.

【0016】そのため、有機EL素子自体を所望の画像
情報を表示する表示デバイスとして適用した場合、図1
7(a)に示したように、有機EL層13において放射
された光の進路が各層の屈折率および絶縁性基板11の
板厚に応じて広がることになるため、表示画素や画像の
輪郭Zaが霞んで、いわゆる、画素ぼけ、あるいは、像
ぼけが発生するという問題を有していた。
Therefore, when the organic EL element itself is applied as a display device for displaying desired image information, FIG.
As shown in FIG. 7A, the path of the light emitted from the organic EL layer 13 expands according to the refractive index of each layer and the thickness of the insulating substrate 11, so that the contour Za of the display pixel or the image is obtained. Is blurred, so-called pixel blurring or image blurring occurs.

【0017】(2)また、有機EL素子をLCDパネル
等の透過型の表示デバイスの背面側に配置して、屋外等
の明視野の環境下では、カソード電極により外光を反射
する反射パネルとして使用するとともに、屋内等の暗視
野の環境下では、発光駆動してバックライトとして使用
する、いわゆる、2ウェイバックライト(2Way BackLi
ght)として適用する場合には、次のような問題点を有
している。
(2) The organic EL element is disposed on the back side of a transmissive display device such as an LCD panel, and serves as a reflective panel that reflects external light with a cathode electrode in a bright field environment such as outdoors. In the dark field environment such as indoors, the so-called two-way backlight (2 way backlight) is driven by emitting light and used as a backlight.
ght) has the following problems.

【0018】すなわち、図17(b)に示すように、有
機EL素子10をLCDパネル50の反射パネルとして
使用する場合においては、LCDパネル50に表示され
た画像Zbの反射像Rbがカソード電極14上で形成さ
れるとともに、絶縁性基板11の上面においても部分的
な反射によって薄い反射像Rcが形成されるため、表示
画像に陰が付加されたような二重像Zc、いわゆる、視
差ずれが発生するという問題を有していた。このような
問題点(1)、(2)は、絶縁性基板の板厚が厚くなる
ほど顕著になるが、上述したように、製造工程や表示デ
バイスの構成(有機EL素子の封止構造やドライバIC
の搭載等)上、絶縁性基板を薄くすることには限界があ
った。
That is, as shown in FIG. 17B, when the organic EL element 10 is used as a reflection panel of the LCD panel 50, the reflection image Rb of the image Zb displayed on the LCD panel 50 is used as the cathode electrode 14. Since a thin reflection image Rc is formed by partial reflection on the upper surface of the insulating substrate 11 as well as on the upper surface of the insulating substrate 11, a double image Zc in which a shade is added to a display image, that is, a so-called parallax shift. Had the problem of occurring. These problems (1) and (2) become more remarkable as the thickness of the insulating substrate increases, but as described above, the manufacturing process and the configuration of the display device (the sealing structure of the organic EL element and the driver) IC
In addition, there is a limit in making the insulating substrate thinner.

【0019】そこで、本発明は、このような問題点を解
決することを目的とし、有機EL素子における出射光量
(光の取り出し効率)の向上を図りつつ、表示デバイス
として適用した場合の像ぼけや、透過型表示デバイスの
バックライトとして適用した場合の視差ずれを抑制する
ことができる十分な機械的強度の発光素子及びその製造
方法を提供するものである。
Accordingly, an object of the present invention is to solve such a problem and improve the amount of emitted light (light extraction efficiency) in an organic EL element and to reduce image blur when applied as a display device. Another object of the present invention is to provide a light emitting element having sufficient mechanical strength capable of suppressing a parallax shift when applied as a backlight of a transmission type display device, and a method of manufacturing the same.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明に係る発光素子
は、絶縁性の透明基板の一面側に、透明な導電性材料か
らなる第1の電極と、有機エレクトロルミネッセンス材
料からなる発光層と、前記第1の電極に対向する第2の
電極が順次積層された面状構造を有する発光素子におい
て、前記透明基板の厚みが、概ね0.2mm以下である
ことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a light emitting device comprising: a first electrode made of a transparent conductive material; a light emitting layer made of an organic electroluminescent material; In a light emitting device having a planar structure in which second electrodes facing the first electrodes are sequentially laminated, the thickness of the transparent substrate is approximately 0.2 mm or less.

【0021】すなわち、出射光側となる透明基板を薄く
構成(概ね0.2mm以下、好ましくは、0.1mm以
下に)することにより、本発明に係る発光素子を自己発
光型の表示デバイスに適用した場合には、発光層から出
射面(透明基板の他面側)までの距離が短くなり、発光
層から放射された光の進路の拡がりが抑制される。した
がって、表示画素のぼけ(像ぼけ)を抑制することがで
き、画質を向上した表示デバイスを実現することができ
る。
That is, the light-emitting element according to the present invention is applied to a self-luminous display device by making the transparent substrate on the outgoing light side thin (approximately 0.2 mm or less, preferably 0.1 mm or less). In this case, the distance from the light emitting layer to the emission surface (the other surface side of the transparent substrate) is shortened, and the spread of the path of light emitted from the light emitting layer is suppressed. Therefore, blurring of display pixels (image blurring) can be suppressed, and a display device with improved image quality can be realized.

【0022】また、本発明に係る発光素子を透過型表示
デバイスの2ウェイバックライトとして適用した場合に
おいては、透明電極の上面から反射層となる第2の電極
までの距離が短くなり、透過型表示デバイスに表示され
た画像の反射像のずれや重なりが抑制される。したがっ
て、視差ずれを抑制することができ、画質を向上した表
示デバイスを実現することができる。
Further, when the light emitting device according to the present invention is applied as a two-way backlight of a transmission type display device, the distance from the upper surface of the transparent electrode to the second electrode serving as a reflection layer becomes shorter, and The displacement and the overlap of the reflection images of the image displayed on the display device are suppressed. Therefore, a parallax shift can be suppressed, and a display device with improved image quality can be realized.

【0023】また、本発明に係る発光素子は、上記発光
素子の構成において、前記透明基板上に積層された前記
第1の電極、前記発光層、前記第2の電極が、封止部材
によりが封止されていることが好ましい。さらには、前
記透明基板の一面側に、前記封止部材を介して前記透明
基板に対向する封止基板が設けられていることが好まし
い。
In the light emitting device according to the present invention, in the structure of the light emitting device, the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode laminated on the transparent substrate are separated by a sealing member. Preferably, it is sealed. Further, it is preferable that a sealing substrate facing the transparent substrate is provided on one surface side of the transparent substrate via the sealing member.

【0024】すなわち、発光素子を構成する各電極及び
発光層を、樹脂等の封止部材、さらには、透明基板に対
向する比較的厚い封止基板により全固体的に密閉封止す
ることにより、透明基板の一面側における物理的な強度
が向上する。したがって、透明基板の他面側を、概ね
0.2mm以下に薄く形成した場合であっても、透明基
板自体の物理的な強度を確保することができるととも
に、上記像ぼけや視差ずれを良好に抑制した発光素子を
実現することができる。特に、基板面積の増大の要因と
なる駆動回路を封止基板に設ければ、薄い透明基板の面
積をできるだけ小さくすることができ、かつ、透明基板
が駆動回路を保持しなくてよいので、透明基板が損壊し
にくいという効果を得ることができる。
That is, each electrode and the light-emitting layer constituting the light-emitting element are hermetically sealed with a sealing member such as a resin and a relatively thick sealing substrate facing the transparent substrate. The physical strength on one side of the transparent substrate is improved. Therefore, even when the other surface side of the transparent substrate is formed to be thin to approximately 0.2 mm or less, the physical strength of the transparent substrate itself can be ensured, and the image blur and parallax shift can be favorably reduced. A suppressed light emitting element can be realized. In particular, if a driving circuit that causes an increase in the substrate area is provided on the sealing substrate, the area of the thin transparent substrate can be reduced as much as possible, and the transparent substrate does not need to hold the driving circuit. The effect that the substrate is not easily damaged can be obtained.

【0025】また、本発明に係る発光素子は、上記発光
素子の構成において、前記発光層から放射される光の出
射方向を変更制御する光制御手段を設けた構成を有して
いることが好ましい。
Further, the light emitting device according to the present invention preferably has a configuration in which, in the configuration of the above light emitting device, light control means for changing and controlling the emission direction of light emitted from the light emitting layer is provided. .

【0026】すなわち、発光層から放射される光が出射
される透明基板の出射面、あるいは、発光層から放射さ
れた光を透明基板側へ反射する反射層に、光を散乱する
光制御手段を設けることにより、発光層から放射される
光のうち、全反射臨界角よりも大きい放射角度を有する
光が、光制御手段による散乱によって出射される。した
がって、視野方向への光の取り出し効率を増大すること
ができ、より小さなエネルギーで十分な光量を有する発
光素子を実現することができる。ここで、前記光制御手
段は、前記透明基板の他面側に密着するように設けら
れ、その密着面における屈折率は、透明基板の屈折率と
同一又は近似しているので、光の取り出し効率をさらに
増大させることができる。
That is, a light control means for scattering light is provided on an emission surface of the transparent substrate from which light emitted from the light emitting layer is emitted, or on a reflective layer for reflecting light emitted from the light emitting layer toward the transparent substrate. With this configuration, of the light emitted from the light emitting layer, light having an emission angle larger than the total reflection critical angle is emitted by scattering by the light control unit. Therefore, the light extraction efficiency in the viewing direction can be increased, and a light emitting element having a sufficient amount of light with smaller energy can be realized. Here, the light control means is provided so as to be in close contact with the other surface side of the transparent substrate, and the refractive index at the contact surface is the same as or close to the refractive index of the transparent substrate. Can be further increased.

【0027】また、本発明に係る発光素子は、上記発光
素子の構成において、前記第2の電極は、少なくとも前
記発光層から放射された光を前記透明基板側へ反射する
反射特性を有しているものであってもよい。あるいは、
前記封止部材の上層に、少なくとも前記発光層から放射
された光を前記透明基板側へ反射する反射層を設けたも
のであってもよい。
In the light emitting device according to the present invention, in the above light emitting device configuration, the second electrode has a reflection characteristic of reflecting at least light emitted from the light emitting layer to the transparent substrate side. May be available. Or
A reflective layer that reflects at least light emitted from the light emitting layer toward the transparent substrate may be provided on the sealing member.

【0028】要するに、発光層から放射された光のう
ち、透明基板とは反対側の後面側に放射された光が、透
明基板側へ良好に反射されるものであればよい。これに
より、光の取り出し効率をさらに増大させて、より小さ
なエネルギーで十分な光量を有する発光素子を実現する
ことができる。
In short, any light emitted from the light-emitting layer, which is emitted to the rear surface side opposite to the transparent substrate, is preferably reflected to the transparent substrate side. Thereby, the light extraction efficiency can be further increased, and a light emitting element having a sufficient amount of light with smaller energy can be realized.

【0029】さらに、本発明に係る発光素子は、上記発
光素子の構成において、前記透明電極と前記第2の電極
との間に、前記第1の電極が、又は、前記第1の電極及
び前記発光層が、あるいは、前記第1の電極、前記発光
層及び前記第2の電極のいずれもが介在しない領域を有
しているものであってもよい。
Further, in the light emitting device according to the present invention, in the above light emitting device, the first electrode or the first electrode and the first electrode may be provided between the transparent electrode and the second electrode. Alternatively, the light emitting layer may have a region in which none of the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode intervene.

【0030】すなわち、第1の電極を、例えば、ストラ
イプ状に形成することにより、又は、該ストライプ状に
形成された複数の第1の電極上に発光層をマトリクス状
に形成することにより、あるいは、第1の電極及び第2
の電極を相互に直交するストライプ状に形成し、発光素
子を該第1及び第2の電極の交点位置にマトリクス状に
形成することにより、透明電極と第2の電極との間に、
第1の電極が、又は、第1の電極及び発光層が、あるい
は、第1の電極、発光層及び第2の電極のいずれもが介
在しない領域が形成される。したがって、発光層から放
射された光が第1の電極、又は、第1の電極及び発光
層、あるいは、第1の電極、発光層及び第2の電極のい
ずれをも透過することなく透明基板を介して出射される
ので、第1の電極、発光層及び第2の電極により吸収さ
れて減衰する光量(光の吸収損失)を抑制することがで
き、光の取り出し効率を一層増大することができる。
That is, the first electrode is formed in a stripe shape, for example, or a light emitting layer is formed in a matrix on a plurality of first electrodes formed in the stripe shape, or , The first electrode and the second
Are formed in a stripe shape orthogonal to each other, and the light-emitting elements are formed in a matrix at the intersections of the first and second electrodes, so that a transparent electrode and a second electrode are provided between the transparent electrode and the second electrode.
A region where the first electrode, the first electrode and the light-emitting layer, or the first electrode, the light-emitting layer, and the second electrode are not interposed is formed. Therefore, the light emitted from the light emitting layer passes through the transparent substrate without transmitting through the first electrode, or the first electrode and the light emitting layer, or the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode. Since the light is emitted through the first electrode, the amount of light (light absorption loss) absorbed and attenuated by the first electrode, the light-emitting layer, and the second electrode can be suppressed, and the light extraction efficiency can be further increased. .

【0031】本発明に係る発光素子の製造方法は、絶縁
性の透明基板の一面側に、透明な導電性材料からなる第
1の電極と、有機エレクトロルミネッセンス材料からな
る発光層と、前記第1の電極に対向する第2の電極を順
次積層する工程と、前記透明基板上に積層された前記第
1の電極、前記発光層、前記第2の電極の全面を、少な
くとも封止部材により固体的に封止する工程と、前記透
明基板の他面側を研磨して、前記透明基板の厚みを概ね
0.2mm以下にする工程と、を含むことを特徴とす
る。
According to the method of manufacturing a light emitting device of the present invention, a first electrode made of a transparent conductive material, a light emitting layer made of an organic electroluminescent material, Sequentially laminating a second electrode facing the first electrode, and solidifying at least a sealing member on the entire surface of the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode laminated on the transparent substrate. And a step of polishing the other surface of the transparent substrate to reduce the thickness of the transparent substrate to approximately 0.2 mm or less.

【0032】すなわち、発光素子を構成する各電極及び
発光層を、少なくとも樹脂等の封止部材により全固体的
に密閉封止した後、透明基板の他面側を研磨することに
より、透明基板の物理的な強度を確保しつつ、透明基板
が薄く形成(研磨)される。したがって、従来の構成に
比較して数分の1程度となる概ね0.2mm以下(好ま
しくは、0.1mm以下)に良好に薄く形成して、発光
層から出射面までの距離を短くすることができ、上記像
ぼけや視差ずれを良好に抑制した発光素子を実現するこ
とができる。
That is, each electrode and the light emitting layer constituting the light emitting element are hermetically sealed and sealed at least with a sealing member such as a resin, and then the other surface of the transparent substrate is polished. The transparent substrate is formed thinly (polished) while securing the physical strength. Therefore, it is preferable to form a thin film of about 0.2 mm or less (preferably 0.1 mm or less), which is about several times smaller than that of the conventional structure, and to shorten the distance from the light emitting layer to the emission surface. Accordingly, it is possible to realize a light-emitting element in which the above-described image blur and parallax shift are successfully suppressed.

【0033】また、本発明に係る発光素子の製造方法
は、上記方法において、前記研磨された前記透明基板の
他面側に、前記発光層から放射される光の出射方向を変
更制御する光制御手段を密着する工程を有しているもの
であってもよい。
Further, in the method for manufacturing a light emitting device according to the present invention, in the above method, a light control for changing and controlling an emission direction of light emitted from the light emitting layer may be provided on the other side of the polished transparent substrate. It may have a step of adhering the means.

【0034】すなわち、透明基板の厚みを概ね0.2m
m以下に研磨した後、透明基板の出射面側に、透明基板
との屈折率の連続性を保持しつつ、光拡散性のフィルタ
等の光制御手段が密着して設けられる。したがって、発
光層から放射される光のうち、全反射臨界角よりも大き
い放射角度を有する光を、光制御手段による散乱によっ
て出射することができるので、上記像ぼけや視差ずれを
良好に抑制しつつ、光の取り出し効率を増大して、より
小さなエネルギーで十分な光量を有する発光素子を簡易
に実現することができる。
That is, the thickness of the transparent substrate is approximately 0.2 m
After polishing to m or less, a light control means such as a light diffusing filter is provided in close contact with the emission surface side of the transparent substrate while maintaining the continuity of the refractive index with the transparent substrate. Therefore, of the light emitted from the light-emitting layer, light having an emission angle larger than the critical angle for total reflection can be emitted by scattering by the light control means, so that the image blur and the parallax shift can be suppressed well. At the same time, the light extraction efficiency is increased, and a light-emitting element having a sufficient amount of light with smaller energy can be easily realized.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る発光素子およ
びその製造方法について、詳しく説明する。図1は、本
発明に係る発光素子(有機EL素子)の一実施形態を示
す概略図である。ここで、従来技術(図13)と同等の
構成については、同一の符号を付して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a light emitting device according to the present invention and a method for manufacturing the same will be described in detail. FIG. 1 is a schematic view showing one embodiment of a light emitting device (organic EL device) according to the present invention. Here, configurations equivalent to those of the related art (FIG. 13) will be described with the same reference numerals.

【0036】図1に示すように、本実施形態に係る有機
EL素子10Aは、有機EL素子を構成する各層が形成
される絶縁性基板(透明電極)11aと、透明電極から
なるアノード電極(第1の電極)12と、有機化合物等
からなる有機EL層(発光層)13と、反射層を構成す
るカソード電極(第2の電極)14と、上記アノード電
極12、有機EL層13及びカソード電極14を積層し
て構成される有機EL素子の全面を覆う封止層(封止部
材)15と、絶縁性基板11aに対向して配置された封
止基板16と、絶縁性基板11aの有機EL素子形成側
と反対側の面に光学部材17を介して、密着して設けら
れた散乱板(光制御手段)18と、を有して構成されて
いる。
As shown in FIG. 1, an organic EL element 10A according to the present embodiment has an insulating substrate (transparent electrode) 11a on which layers constituting the organic EL element are formed, and an anode electrode (transparent electrode) made of a transparent electrode. A first electrode) 12, an organic EL layer (light emitting layer) 13 made of an organic compound or the like, a cathode electrode (second electrode) 14 constituting a reflective layer, and the anode electrode 12, the organic EL layer 13, and the cathode electrode. A sealing layer (sealing member) 15 covering the entire surface of the organic EL element formed by laminating the insulating substrates 14, a sealing substrate 16 disposed to face the insulating substrate 11 a, and an organic EL of the insulating substrate 11 a. A scattering plate (light control means) 18 provided in close contact with the surface opposite to the element formation side via an optical member 17.

【0037】絶縁性基板11aは、ガラス又は合成樹脂
等の光透過性の高い基板であって、例えば、従来構成
(図13)に示したような絶縁性基板11の板厚(概
ね、0.4〜0.7mm)に比較して、数分の1以下と
なる0.2mm以下、望ましくは、0.1mm以下の板
厚を有している。この薄い絶縁性基板11aに対して、
一面側(図面下方側)に有機EL素子を構成する各層が
形成され、他面側(図面情報側)に散乱板18が設けら
れる。アノード電極12は、ITO等の透明電極材料に
より構成され、絶縁性基板11aの一面側に、所定の形
状(パターン)を有して形成される。なお、アノード電
極12に適用される電極材料は、ITOに限定されるも
のではなく、透明電極として適用が可能なものであれ
ば、In(ZnO)(m>0)等の他の材質で
あってもよい。
The insulating substrate 11a is a substrate having high light transmittance such as glass or synthetic resin. For example, the thickness of the insulating substrate 11 as shown in the conventional configuration (FIG. 13) is approximately 0.1 mm. 4 to 0.7 mm), which is 0.2 mm or less, preferably 0.1 mm or less, which is a fraction or less. For this thin insulating substrate 11a,
Each layer constituting the organic EL element is formed on one surface side (the lower side in the drawing), and the scattering plate 18 is provided on the other surface side (the drawing information side). The anode electrode 12 is made of a transparent electrode material such as ITO, and is formed to have a predetermined shape (pattern) on one surface side of the insulating substrate 11a. Note that the electrode material applied to the anode electrode 12 is not limited to ITO, but may be any other material such as In 2 O 3 (ZnO) m (m> 0) as long as it can be applied as a transparent electrode. May be used.

【0038】有機EL層13は、上記アノード電極12
上に所定の形状(パターン)を有して積層形成され、従
来技術(図13(b))に示したものと同様に、ホール
輸送層と電子輸送性発光層が積層された構成を有してい
る。ここで、ホール輸送層としては、例えば、ポリ3,
4−エチレンジオキシチオフェン及びポリスチレンスル
フォネート等の高分子系の有機化合物材料を良好に適用
することができ、また、電子輸送性発光層としては、例
えば、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体等の高分
子系の有機化合物材料を良好に適用することができる。
The organic EL layer 13 is formed on the anode electrode 12
It has a configuration in which a hole transporting layer and an electron transporting light emitting layer are laminated on each other in a predetermined shape (pattern), similarly to the prior art (FIG. 13B). ing. Here, as the hole transport layer, for example, poly 3,
Polymeric organic compound materials such as 4-ethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonate can be favorably applied, and examples of the electron-transporting light emitting layer include polymers such as polyphenylenevinylene and derivatives thereof. A system organic compound material can be applied favorably.

【0039】カソード電極14は、少なくとも上記有機
EL層13上に積層されるように、所定の形状(パター
ン)を有して形成され、例えば、低仕事関数のカルシウ
ム(Ca)(又は、Li、Mg)、及び、低抵抗、光反
射性かつ高仕事関数のアルミニウム(Al)(又は、A
g)を積層形成した構成を有し、この積層されたカソー
ド電極14により有機EL層13において放射された光
を特定方向に反射する反射層としての機能を有してい
る。ここで、カソード電極14における光の反射率は、
例えば、70%以上となるように、極力高く設定するこ
とが好ましい。
The cathode electrode 14 is formed to have a predetermined shape (pattern) so as to be laminated at least on the organic EL layer 13. For example, calcium (Ca) (or Li, Mg) and low resistance, light reflective and high work function aluminum (Al) (or A
g), and has a function as a reflection layer that reflects light emitted from the organic EL layer 13 by the laminated cathode electrode 14 in a specific direction. Here, the reflectance of light at the cathode electrode 14 is
For example, it is preferable to set as high as possible so as to be 70% or more.

【0040】封止層15は、上記アノード電極12、有
機EL層13、カソード電極14を積層して構成される
有機EL素子の全域を被覆し、さらに、該封止層15を
接着層としてガラス基板等からなる封止基板16を、絶
縁性基板11aに対向するように貼り合わせることによ
り、有機EL素子を封止、密閉して、外気から遮断され
た構成を形成する。ここで、封止層15としては、例え
ば、エポキシ系の樹脂や、シリコン(Si)とセリウム
(Ce)が混成された酸化物を良好に適用することがで
きる。
The sealing layer 15 covers the entire area of the organic EL element formed by laminating the anode electrode 12, the organic EL layer 13, and the cathode electrode 14, and further uses the sealing layer 15 as an adhesive layer to form a glass. By bonding a sealing substrate 16 made of a substrate or the like so as to face the insulating substrate 11a, the organic EL element is sealed and hermetically closed to form a configuration shielded from the outside air. Here, as the sealing layer 15, for example, an epoxy-based resin or an oxide in which silicon (Si) and cerium (Ce) are mixed can be favorably applied.

【0041】ここで、封止層15及び封止基板16によ
る封止構造は、上記絶縁性基板11aを0.2mm以下
の板厚に薄く加工した場合であっても、有機EL素子の
製造工程における各種処理工程や搬送作業において、破
損や不良等を生じない程度の厚さ(又は、強度)を有し
ていることを必要とし、0.4mm以上の厚さのガラス
又は合成樹脂からなる。また、封止基板16は、一面側
に有機EL素子の駆動回路(ドライバIC)搭載し、配
線等を形成することができる程度の厚さ(又は、強度)
を有していることが好ましい。なお、具体的な構成につ
いては後述する。
Here, the sealing structure using the sealing layer 15 and the sealing substrate 16 can be applied to the manufacturing process of the organic EL element even when the insulating substrate 11a is thinned to a thickness of 0.2 mm or less. It is necessary to have a thickness (or strength) that does not cause breakage or failure in the various processing steps and the transporting operation, and is made of glass or synthetic resin having a thickness of 0.4 mm or more. The sealing substrate 16 has a thickness (or strength) enough to mount a driving circuit (driver IC) for an organic EL element on one surface side and form a wiring or the like.
It is preferable to have The specific configuration will be described later.

【0042】また、散乱板18は、光拡散性を有するフ
ィルムや一面側が粗面化された光透過性部材等の光学手
段であって、絶縁性基板11aの他面側に、光学オイル
等の光学部材17を介して密着して張り付けられてい
る。ここで、光学部材17の屈折率は、絶縁性基板11
aと散乱板18の双方における屈折率の中間値、あるい
は、絶縁性基板11a及び散乱板18のいずれか一方と
同一または近似した値であり、絶縁性基板11a及び散
乱板18を、あたかも単一の光学特性を有する構成とす
る機能を有している。したがって、絶縁性基板11aと
散乱板18の界面において、有機EL層13から放射さ
れた光やカソード電極(反射層)14からの反射光の、
内部方向への反射が抑制され、視野側(絶縁性基板11
aの他面側)に良好に出射される。
The scattering plate 18 is an optical means such as a light-diffusing film or a light-transmitting member whose one surface is roughened. The scattering plate 18 is provided with an optical oil or the like on the other surface of the insulating substrate 11a. It is closely attached via an optical member 17. Here, the refractive index of the optical member 17 is the same as that of the insulating substrate 11.
a and an intermediate value of the refractive index in both the scattering plate 18 and the same value or an approximate value as one of the insulating substrate 11a and the scattering plate 18, so that the insulating substrate 11a and the scattering plate 18 are Has the function of providing the above optical characteristics. Therefore, at the interface between the insulating substrate 11a and the scattering plate 18, the light emitted from the organic EL layer 13 and the reflected light from the cathode electrode (reflection layer) 14
Reflection in the inward direction is suppressed, and the view side (insulating substrate 11
a on the other side).

【0043】すなわち、本実施形態に係る有機EL素子
10Aにおいては、有機EL層13に対して光出射側
に、板厚0.2mm以下に薄く形成された絶縁性基板1
1aと、散乱板18が配置され、また、背面側に、反射
層となるカソード電極14と、封止層15及び封止基板
16が配置された構成を有している。そして、有機EL
素子10Aは、固体層からなる上記各層を積層して形成
され、全固体デバイスを構成している。
That is, in the organic EL element 10A according to the present embodiment, the insulating substrate 1 formed to be as thin as 0.2 mm or less on the light emission side with respect to the organic EL layer 13.
1a, a scattering plate 18 is arranged, and a cathode electrode 14 serving as a reflective layer, a sealing layer 15 and a sealing substrate 16 are arranged on the back side. And organic EL
The element 10 </ b> A is formed by stacking the above-described layers each including a solid layer, and constitutes an all-solid device.

【0044】このような構成を有する有機EL素子10
Aにおいて、従来技術に示したように、アノード電極1
2に相対的に正の電圧、カソード電極14に相対的に負
の電圧を印加することにより、有機EL層13にホール
及び電子が注入され、これらが結合する際の再結合エネ
ルギーによって光が放射される。有機EL層13におい
て放射された光、及び、カソード電極(反射層)14に
おいて反射した光は、透明なアノード電極12、絶縁性
基板11aを介して、絶縁性基板11aの他面側に至
り、絶縁性基板11aの他面側に密着して設けられた散
乱板18により散乱されて、視野側に出射される。
The organic EL device 10 having such a configuration
A, as shown in the prior art, the anode electrode 1
By applying a relatively positive voltage to the organic EL layer 2 and a relatively negative voltage to the cathode electrode 14, holes and electrons are injected into the organic EL layer 13, and light is radiated by recombination energy when these are combined. Is done. Light emitted from the organic EL layer 13 and light reflected from the cathode electrode (reflection layer) 14 reach the other surface of the insulating substrate 11a via the transparent anode electrode 12 and the insulating substrate 11a. The light is scattered by the scattering plate 18 provided in close contact with the other surface of the insulating substrate 11a, and is emitted toward the visual field.

【0045】ここで、本実施形態に適用される光学部材
及び散乱板の作用について、図面を参照して具体的に説
明する。図2は、本実施形態に係る有機EL素子におけ
る光の放射角度と視野側への出射状態との関係を示す概
略図であり、図3は、本実施形態に係る有機EL素子に
おける散乱板の張り付け状態と放射光束との関係を示す
実測値を示すグラフである。
Here, the operation of the optical member and the scattering plate applied to the present embodiment will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic diagram showing the relationship between the emission angle of light and the state of emission to the visual field side in the organic EL element according to the present embodiment. FIG. 3 shows the scattering plate in the organic EL element according to the present embodiment. It is a graph which shows the actual measurement value which shows the relationship between the stuck state and the emitted light flux.

【0046】本実施形態においては、上述したように、
絶縁性基板11aおよび散乱板18は、双方の屈折率の
連続性を保持する光学オイル等の光学部材17を介して
張り付けられた構成を有している。このような構成にお
いては、絶縁性基板11aおよび散乱板18が、略単一
の光学特性を示すことになるので、図2に示すように、
図14に示した全反射臨界角αを有する光L1よりも
大きく、絶縁性基板11aと光学部材17との間で全反
射が生じる光L3の臨界角αより小さい角度αで放
射(又は、カソード電極14において反射)される光L
2についても、光学部材17の界面及び散乱板18の界
面で全反射が起こらず散乱されて視野側に出射される。
In the present embodiment, as described above,
The insulating substrate 11a and the scattering plate 18 have a configuration in which the insulating substrate 11a and the scattering plate 18 are attached via an optical member 17 such as an optical oil that maintains the continuity of both refractive indexes. In such a configuration, since the insulating substrate 11a and the scattering plate 18 exhibit substantially single optical characteristics, as shown in FIG.
Larger than the light L1 having a total reflection critical angle alpha L shown in FIG. 14, the radiation at the critical angle alpha 3 is smaller than the angle alpha 2 of the light L3 which total reflection occurs between the insulating substrate 11a and the optical member 17 ( Or, the light L reflected by the cathode electrode 14)
With respect to 2, the light is scattered without being totally reflected at the interface of the optical member 17 and the interface of the scattering plate 18 and emitted toward the visual field.

【0047】特に、図3に示すように、絶縁性基板11
aに対して光学オイル等の光学部材17を用いることな
く散乱板18を密着させた場合(図3(a))には、概
ね−45°〜+45°の放射角度の範囲で視野側に出射
される光束が増大(放射光束の最大が概ね200程度ま
で増大)するのに対して、絶縁性基板11aに対して屈
折率の整合性を保持するように光学部材17を介在させ
て散乱板18を張り付けた場合(図3(b))には、概
ね−60°〜+60°のより広い放射角度のほぼ全範囲
で視野側に出射される光束が大幅に増大(放射光束の最
大が200以上まで増大)することが観測された。
In particular, as shown in FIG.
In the case where the scattering plate 18 is brought into close contact with (a) without using the optical member 17 such as an optical oil (FIG. 3A), the light is emitted toward the visual field in a range of a radiation angle of approximately −45 ° to + 45 °. While the light flux to be emitted increases (the maximum of the radiated light flux increases to approximately 200), the scattering member 18 is provided with the optical member 17 interposed therebetween so as to maintain the matching of the refractive index with the insulating substrate 11a. (FIG. 3B), the luminous flux emitted to the visual field side is substantially increased in almost the entire range of a wider radiation angle of about −60 ° to + 60 ° (the maximum of the radiated luminous flux is 200 or more). ) Was observed.

【0048】すなわち、本実施形態に係る有機EL素子
10Aにおいては、光学部材17を介して散乱板18を
密着して配置した構成を有することにより、全反射臨界
角を実質的に大きく(図2における角度α→角度α
(>α))することができるとともに、光の取り出し
効率(すなわち、放射光束)を大幅に向上させることが
できる。よって、より小さなエネルギーで十分な光量を
有する発光素子を実現して、表示デバイスやバックライ
ト等の光源に良好に適用することができる。
That is, the organic EL element 10A according to the present embodiment has a configuration in which the scattering plate 18 is arranged in close contact with the optical member 17 so that the critical angle for total reflection is substantially large (FIG. 2). Α L at angle → angle α 3
(> Α 2 )), and the light extraction efficiency (that is, the emitted light flux) can be significantly improved. Therefore, a light-emitting element having a sufficient amount of light with smaller energy can be realized and can be favorably applied to a light source such as a display device or a backlight.

【0049】また、本実施形態に係る有機EL素子10
Aの構成によれば、有機EL素子が形成される絶縁性基
板11aが、概ね0.2mm以下(望ましくは、0.1
mm以下)の板厚になるように薄く形成されていること
により、有機EL素子10Aを自己発光型の表示デバイ
スとして適用した場合には、有機EL層13から放射さ
れた光の進路の広がりが、絶縁性基板11aの板厚に相
当する幅に抑制されるので、従来構成(図17)に比較
して、表示画素や画像の輪郭の霞み(画素ぼけや像ぼ
け)が抑えられる。一方、有機EL素子10Aを透過型
の表示デバイスの2ウェイバックライトとして適用した
場合には、絶縁性基板の上面とカソード電極の上面との
距離が短くなるので、従来構成(図17)に比較して、
絶縁性基板上面やカソード電極上面において形成される
反射像の水平方向へのずれや重なり(視差ずれ)が抑制
される。よって、画像情報の表示品質に優れた表示装置
を実現することができる。
The organic EL device 10 according to the present embodiment
According to the configuration A, the insulating substrate 11a on which the organic EL element is formed is approximately 0.2 mm or less (preferably, 0.1 mm or less).
mm or less), when the organic EL element 10A is applied as a self-luminous display device, the path of light emitted from the organic EL layer 13 spreads. Since the width is reduced to a width corresponding to the plate thickness of the insulating substrate 11a, haze (pixel blur or image blur) of a contour of a display pixel or an image is suppressed as compared with the conventional configuration (FIG. 17). On the other hand, when the organic EL element 10A is applied as a two-way backlight of a transmissive display device, the distance between the upper surface of the insulating substrate and the upper surface of the cathode electrode becomes shorter, so that it is compared with the conventional configuration (FIG. 17). do it,
The displacement and overlap (parallax displacement) in the horizontal direction of the reflected images formed on the upper surface of the insulating substrate and the upper surface of the cathode electrode are suppressed. Therefore, a display device having excellent display quality of image information can be realized.

【0050】(適用例)次に、上述した有機EL素子を
適用した表示装置又は光源(バックライト)の一構成例
について、図面を参照して説明する。図4は、本実施形
態に係る有機EL素子を適用した表示装置又は光源の一
構成例(構成例1)を示す概略断面図であり、図5は、
図4に示した表示装置又は光源の出射側(X−X矢視)
の絶縁性基板と有機EL素子の平面構造を示す概略図で
あり、図6は、図4に示した表示装置又は光源の封止基
板側(Y−Y矢視)の平面構造を示す概略図である。こ
こで、上述した実施形態と同等の構成については、同一
の符号を付して、その説明を簡略化する。
(Application Example) Next, a configuration example of a display device or a light source (backlight) to which the above-described organic EL element is applied will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration example (configuration example 1) of a display device or a light source to which the organic EL element according to the embodiment is applied, and FIG.
Emission side of display device or light source shown in FIG.
FIG. 6 is a schematic diagram showing a planar structure of the insulating substrate and the organic EL element of FIG. 6, and FIG. 6 is a schematic diagram showing a planar structure of the display device or the light source shown in FIG. It is. Here, the same components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be simplified.

【0051】図4乃至図6に示すように、本構成例に係
る表示装置又は光源は、上述した実施形態と同様に、概
ね、板厚0.2mm以下に薄く形成された絶縁性基板1
1aの一面側に、例えば、一方向にストライプ状に複数
条並んで形成されたアノード電極12と、該複数条のア
ノード電極12を覆うように形成された単一の有機EL
層13と、例えば、アノード電極12の延在方向とは直
交する方向にストライプ状に複数条形成されたカソード
電極14と、アノード電極12、有機EL層13、カソ
ード電極14を順次積層して構成された有機EL素子群
の全形成領域を囲むように設けられ、絶縁性基板11a
と後述する封止基板16とを接合する絶縁性のシール部
材21と、該シール部材21を介して絶縁性基板11a
に対向して配置され、少なくともシール部材21により
囲まれた空間(有機EL素子を含む)にエポキシ系等の
封止層15を充填して、該空間を封止する封止基板(又
は、対向基板)16と、封止基板16の一面側に所定の
パターンで延在するように形成された引き出し電極23
A、23Cと、シール部材21に形成された開口部に充
填され、絶縁性基板側に形成されたアノード電極12及
びカソード電極14と引き出し電極23A、23Cと
を、各々個別に電気的に接続するコンタクト電極22
A、22Cと、封止基板16の一面側の所定の位置に配
置され、引き出し電極23A、23Cに電気的に接続さ
れた駆動回路(ドライバIC)30と、を有して構成さ
れている。
As shown in FIGS. 4 to 6, the display device or the light source according to this configuration example has an insulating substrate 1 having a thickness of approximately 0.2 mm or less, similar to the above-described embodiment.
On one surface side of 1a, for example, a plurality of anode electrodes 12 formed in a stripe shape in one direction, and a single organic EL formed so as to cover the plurality of anode electrodes 12
For example, a layer 13, a cathode electrode 14 formed in a plurality of stripes in a direction perpendicular to the direction in which the anode electrode 12 extends, and an anode electrode 12, an organic EL layer 13, and a cathode electrode 14 are sequentially laminated. The insulating substrate 11a is provided so as to surround the entire formation region of the formed organic EL element group.
Sealing member 21 for joining the sealing substrate 16 and the sealing substrate 16 to be described later, and the insulating substrate 11a via the sealing member 21.
A space (including an organic EL element) surrounded by at least the seal member 21 is filled with a sealing layer 15 made of epoxy or the like, and a sealing substrate (or a facing substrate) for sealing the space is provided. Substrate) 16 and a lead-out electrode 23 formed on one surface side of the sealing substrate 16 so as to extend in a predetermined pattern.
A, 23C, the anode electrode 12 and the cathode electrode 14 filled in the opening formed in the seal member 21 and formed on the insulating substrate side, and the extraction electrodes 23A, 23C are individually and electrically connected. Contact electrode 22
A, 22C, and a drive circuit (driver IC) 30 arranged at a predetermined position on one surface side of the sealing substrate 16 and electrically connected to the lead electrodes 23A, 23C.

【0052】すなわち、マトリクス状に形成された有機
EL素子群は、絶縁性基板11a、シール部材21、封
止基板16により形成される空間内にあって、該空間に
封止層15を充填、封止することにより密閉されて、外
気から遮断された構成を有している。また、有機EL素
子群の各アノード電極12及び各カソード電極14は、
各々シール部材21中に形成されたコンタクト電極22
A、22C、及び、封止基板16上に形成された引き出
し電極23A、23Cを介して駆動回路30に電気的に
接続されている。
That is, the organic EL element group formed in a matrix is in a space formed by the insulating substrate 11a, the sealing member 21, and the sealing substrate 16, and the space is filled with the sealing layer 15. It has a configuration that is sealed by being sealed, and is shielded from outside air. Further, each anode electrode 12 and each cathode electrode 14 of the organic EL element group are
Contact electrodes 22 respectively formed in the sealing member 21
A and 22C, and are electrically connected to the drive circuit 30 via lead electrodes 23A and 23C formed on the sealing substrate 16.

【0053】なお、図示を省略したが、絶縁性基板11
aの他面側(視野側)には、上述した実施形態に示した
ように、光学オイル等の光学部材を介して、屈折率の連
続性が保持されるように散乱板が密着して張り付けられ
ている。このような構成を有する表示装置又は光源にお
いて、駆動回路30から各有機EL素子のアノード電極
12及びカソード電極14に所定の直流電圧が印加され
ることにより、有機EL層13において光が放射され、
表示駆動、又は、発光駆動が行われる。
Although not shown, the insulating substrate 11
a, a scattering plate is adhered to the other surface side (viewing side) through an optical member such as an optical oil so as to maintain the continuity of the refractive index, as shown in the above-described embodiment. Have been. In the display device or the light source having such a configuration, when a predetermined DC voltage is applied from the drive circuit 30 to the anode electrode 12 and the cathode electrode 14 of each organic EL element, light is emitted from the organic EL layer 13,
Display driving or light-emitting driving is performed.

【0054】このように、本構成例に係る表示装置又は
光源においては、封止基板16を比較的厚く形成するこ
とにより、表示デバイスとしての物理的な強度を確保し
つつ、封止基板16側に引き出し電極23A、23Cや
駆動回路30を形成、搭載することができるので、絶縁
性基板11aの板厚を0.2mm以下に極めて薄く形成
することができ、有機EL層13において放射された光
の進路を大幅に短くして、像ぼけや視差ずれの発生を抑
制した良好な表示品質を有する表示装置を提供すること
ができる。また、薄く形成された絶縁性基板11aの光
出射側に屈折率の連続性が保持されるように散乱板を設
けることにより、光の取り出し効率を大幅に向上させる
ことができるので、省電力かつ高輝度の光源を実現する
ことができる。
As described above, in the display device or the light source according to the present configuration example, by forming the sealing substrate 16 to be relatively thick, the physical strength of the display device is ensured and the sealing substrate 16 side Since the extraction electrodes 23A and 23C and the drive circuit 30 can be formed and mounted on the substrate, the thickness of the insulating substrate 11a can be extremely thin to 0.2 mm or less, and light emitted from the organic EL layer 13 can be formed. Can be greatly shortened, and a display device having good display quality in which occurrence of image blur and parallax displacement is suppressed can be provided. Further, by providing a scattering plate on the light emitting side of the thinly formed insulating substrate 11a so as to maintain the continuity of the refractive index, the light extraction efficiency can be greatly improved, so that power saving and power saving can be achieved. A high-luminance light source can be realized.

【0055】(製造方法)次に、上述した表示装置又は
光源に適用される有機EL素子の製造方法について、図
面を参照して説明する。図7、図8は、図4に示した有
機EL素子の製造方法を示す工程断面図である。なお、
以下の説明において、「第1の工程」乃至「第4の工
程」の表記は、説明の都合上、便宜的に用いたものであ
って、実際の製造プロセスに関連付けられたものではな
い。また、上述した構成例と同等の構成については、同
一の符号を付して説明する。
(Manufacturing Method) Next, a method of manufacturing an organic EL element applied to the above-described display device or light source will be described with reference to the drawings. 7 and 8 are process cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the organic EL device shown in FIG. In addition,
In the following description, the terms “first step” to “fourth step” are used for convenience of explanation, and are not related to the actual manufacturing process. Further, the same components as those in the above-described configuration example will be described with the same reference numerals.

【0056】まず、第1の工程は、図7(a)に示すよ
うに、0.4〜0.7mm程度の板厚を有するガラスや
石英、透明な樹脂等からなる絶縁性基板11bの一面側
(図中、下面側)に、スパッタリング法やイオンプレー
ティング法等により、ITO等の透明な電極層を成膜し
た後、所定の形状(ここでは、ストライプ状)にパター
ニングしてアノード電極12を形成する。その後、真空
蒸着法やその他の薄膜形成法により、少なくともアノー
ド電極12が形成された領域を覆うように、有機化合物
材料からなるホール輸送層及び電子輸送性発光層を順次
積層して単一の有機EL層13を形成する。
First, as shown in FIG. 7A, the first step is to form one surface of an insulating substrate 11b made of glass, quartz, transparent resin or the like having a thickness of about 0.4 to 0.7 mm. A transparent electrode layer made of ITO or the like is formed on the side (lower side in the figure) by a sputtering method, an ion plating method, or the like, and then patterned into a predetermined shape (a stripe shape in this case) to form the anode electrode 12. To form Thereafter, a hole transporting layer and an electron transporting light emitting layer made of an organic compound material are sequentially laminated by a vacuum evaporation method or another thin film forming method so as to cover at least a region where the anode electrode 12 is formed. An EL layer 13 is formed.

【0057】次いで、第2の工程は、図7(b)に示す
ように、有機EL層13上から絶縁性基板11b上に延
在するように、スパッタリング法や蒸着法等により、カ
ルシウム及びアルミニウムからなる金属層を所定の形状
に成膜してカソード電極14を形成する。ここで、カソ
ード電極14は、例えば、上記ストライプ状に形成され
たアノード電極12に対して、直交する方向に延在する
ようにストライプ状に形成される。これにより、アノー
ド電極12とカソード電極14が有機EL層13を介し
て対向するように積層され、図5に示したような有機E
L素子群が形成される。
Next, in a second step, as shown in FIG. 7 (b), calcium and aluminum are extended by a sputtering method or a vapor deposition method so as to extend from the organic EL layer 13 onto the insulating substrate 11b. Is formed in a predetermined shape to form the cathode electrode 14. Here, for example, the cathode electrode 14 is formed in a stripe shape so as to extend in a direction orthogonal to the anode electrode 12 formed in the stripe shape. As a result, the anode electrode 12 and the cathode electrode 14 are stacked so as to face each other with the organic EL layer 13 interposed therebetween.
An L element group is formed.

【0058】次いで、第3の工程は、図7(c)に示す
ように、0.4mm以上の厚さのガラス又は合成樹脂か
らなる封止基板16の一面側(図中、上面側)に所定の
パターンを有する引き出し電極23A、23Cを形成し
た後、後述する工程において、絶縁性基板11bとの離
間距離が適切に保たれるような高さを有するシール部材
21を、上記有機EL素子群を囲むように形成する。そ
して、シール部材21の所定の箇所に複数の開口部を形
成して、該開口部にコンタクト電極22A、22Cを埋
込形成することにより、コンタクト電極22A、22C
と上記引き出し電極23A、23Cが電気的に接続され
る。その後、上記有機EL素子群が形成された絶縁性基
板11bの一面側と、引き出し電極23A、23Cやシ
ール部材21が形成された封止基板16の一面側を対向
するように、所定の位置関係で接続する。
Next, as shown in FIG. 7 (c), a third step is performed on one surface side (the upper surface side in the figure) of the sealing substrate 16 made of glass or synthetic resin having a thickness of 0.4 mm or more. After the extraction electrodes 23A and 23C having a predetermined pattern are formed, in a later-described step, the sealing member 21 having such a height that the separation distance from the insulating substrate 11b is appropriately maintained is changed to the organic EL element group. Is formed so as to surround. Then, a plurality of openings are formed at predetermined positions of the seal member 21, and the contact electrodes 22A, 22C are buried in the openings to form the contact electrodes 22A, 22C.
And the extraction electrodes 23A and 23C are electrically connected. Thereafter, a predetermined positional relationship is set such that one surface of the insulating substrate 11b on which the organic EL element group is formed and one surface of the sealing substrate 16 on which the lead electrodes 23A and 23C and the sealing member 21 are formed face each other. Connect with.

【0059】このとき、図8(a)に示すように、絶縁
性基板11b、封止基板16及びシール部材21により
形成される空間に封止層15を注入して、全体を固体的
に封止(固化封止)することにより、有機EL素子群は
外気から完全に遮断される。ここで、封止層15とし
て、例えば、エポキシ系やアクリル系の樹脂を用いるこ
とにより、有機EL素子群が良好に固化封止されるとと
もに、絶縁性基板11bと封止基板16が良好に接着さ
れる。また、このとき、シール部材21に埋め込まれた
コンタクト電極22A、22Cを介して、絶縁性基板1
1b側のアノード電極12及びカソード電極14と、封
止基板16側の引き出し電極23A、23Cが個別に電
気的に接続される。
At this time, as shown in FIG. 8A, the sealing layer 15 is injected into a space formed by the insulating substrate 11b, the sealing substrate 16 and the sealing member 21, and the whole is solid-sealed. By stopping (solidifying and sealing), the organic EL element group is completely shut off from the outside air. Here, for example, by using an epoxy-based or acrylic-based resin as the sealing layer 15, the organic EL element group is solidified and sealed well, and the insulating substrate 11b and the sealing substrate 16 are well bonded. Is done. At this time, the insulating substrate 1 is contacted via the contact electrodes 22A and 22C embedded in the seal member 21.
The anode electrode 12 and the cathode electrode 14 on the 1b side and the extraction electrodes 23A and 23C on the sealing substrate 16 side are individually and electrically connected.

【0060】次いで、第4の工程は、図8(b)に示す
ように、絶縁性基板11bの他面側(図中、上面側)
を、物理的、又は、化学的なエッチング方法により薄く
して、図4に示したような、板厚が0.2mm以下、望
ましくは、0、1mm以下の絶縁性基板11aを有する
表示装置又は光源を形成する。ここで、絶縁性基板11
bを薄く形成する方法としては、機械的な研磨方法やサ
ンドブラスタによる物理的なエッチング法、フッ酸によ
る科学的なエッチング法を適用することができる。な
お、図示を省略したが、薄く形成された絶縁性基板11
aの他面側(図中、上面側)には、上述したように、光
学オイルを塗布して散乱板が張り付けられた構成を有し
ている。
Next, in a fourth step, as shown in FIG. 8B, the other surface side (the upper surface side in the figure) of the insulating substrate 11b
A display device having an insulating substrate 11a having a thickness of 0.2 mm or less, preferably 0 or 1 mm or less as shown in FIG. Form a light source. Here, the insulating substrate 11
As a method for forming b thin, a mechanical polishing method, a physical etching method using a sand blaster, or a scientific etching method using hydrofluoric acid can be applied. Although not shown, the thin insulating substrate 11 is formed.
As described above, the other surface side (the upper surface side in the figure) of the “a” has a configuration in which an optical oil is applied and a scattering plate is attached.

【0061】このような有機EL素子の製造方法によれ
ば、アノード電極、有機EL層、カソード電極を積層し
て構成される有機EL素子を、封止部材及び封止基板に
より固化封止した後、絶縁性基板を薄く加工する処理を
行っているので、製造工程における各種処理における外
部応力に対して破損や不良を生じることなく、十分な物
理的強度を確保しつつ、上記実施形態に係る有機EL素
子の構成を良好に製造することができる。これにより、
有機EL層から絶縁性基板の出射面までの距離を短くす
ることができるので、上記像ぼけや視差ずれを抑制した
発行素子を良好に実現することができる。また、製造後
の有機EL素子に加わる応力は、その大部分が封止層1
5及び0.4mm以上の厚さの封止基板16に集中する
ので十分に保護することができる。
According to such a method of manufacturing an organic EL device, an organic EL device formed by laminating an anode electrode, an organic EL layer, and a cathode electrode is solidified and sealed by a sealing member and a sealing substrate. Since the processing for thinly processing the insulating substrate is performed, without causing breakage or failure due to external stress in various processes in the manufacturing process, while securing sufficient physical strength, The structure of the EL element can be favorably manufactured. This allows
Since the distance from the organic EL layer to the emission surface of the insulating substrate can be shortened, a light emitting element that suppresses the above-described image blur and parallax shift can be satisfactorily realized. In addition, most of the stress applied to the organic EL element after manufacturing is
Since it concentrates on the sealing substrate 16 having a thickness of 5 mm or more and 0.4 mm or more, sufficient protection can be achieved.

【0062】(他の構成例)次に、上述した実施形態に
係る有機EL素子の他の構成例について、図面を参照し
て説明する。なお、以下の各構成例において、上述した
実施形態と同等の構成については、同一の符号を付し
て、その説明を省略する。図9は、本実施形態に係る有
機EL素子の他の構成例(構成例2)の概略構造を示す
図である。
(Other Configuration Examples) Next, another configuration example of the organic EL device according to the above-described embodiment will be described with reference to the drawings. In the following configuration examples, the same reference numerals are given to the same components as those in the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted. FIG. 9 is a diagram showing a schematic structure of another configuration example (configuration example 2) of the organic EL element according to the present embodiment.

【0063】図9に示すように、本構成例に係る有機E
L素子10Bは、板厚0.2mm以下に薄く形成された
絶縁性基板11aの一面側(図中、下面側)に、ストラ
イプ状に形成された複数条のアノード電極12と、少な
くともアノード電極12が形成された領域を覆うように
形成された単一の有機EL層13と、少なくとも有機E
L層13を覆うように形成された、光反射特性を有する
金属層等からなる単一のカソード電極14と、を有して
構成されている。なお、図示を省略したが、アノード電
極12、有機EL層13、カソード電極14から構成さ
れる有機EL素子群は、上述した実施形態に示した構成
と同様に、封止部材及び封止基板により固化封止された
構成を有していてもよい。また、絶縁性基板11aの他
面側(出射面側)には、光学オイル等の光学部材を介し
て散乱板等の光制御手段が設けられた構成を有していて
もよい。
As shown in FIG. 9, the organic E according to this configuration example
The L element 10B is composed of a plurality of striped anode electrodes 12 on at least one surface side (lower surface side in the figure) of an insulating substrate 11a formed to be as thin as 0.2 mm or less. A single organic EL layer 13 formed so as to cover the region where
And a single cathode electrode 14 formed of a metal layer or the like having a light reflection characteristic and formed so as to cover the L layer 13. Although not shown, the organic EL element group including the anode electrode 12, the organic EL layer 13, and the cathode electrode 14 is formed by a sealing member and a sealing substrate, similarly to the configuration shown in the above-described embodiment. It may have a solidified and sealed configuration. Further, the other surface side (outgoing surface side) of the insulating substrate 11a may have a configuration in which light control means such as a scattering plate is provided via an optical member such as optical oil.

【0064】すなわち、本構成例に係る有機EL素子1
0Bは、絶縁性基板11aの一面側に積層される有機E
L素子の各構成のうち、アノード電極12を構成するI
TO層が形成されていない領域を有している。ここで、
アノード電極12を構成するITO層は、高い光透過性
(透過率)を有するものの、ITO層を通過する光は、
僅かながらITO層内で吸収されて減衰するため、有機
EL素子内で複数回にわたって反射した光の光量が低下
する。
That is, the organic EL element 1 according to this configuration example
0B is the organic E laminated on one surface side of the insulating substrate 11a.
Among the components of the L element, I
There is a region where the TO layer is not formed. here,
Although the ITO layer forming the anode electrode 12 has high light transmittance (transmittance), light passing through the ITO layer
Since the light is slightly absorbed and attenuated in the ITO layer, the amount of light reflected a plurality of times in the organic EL element decreases.

【0065】したがって、このような構成によれば、上
述した構成例と同等の作用効果に加え、アノード電極1
2の形成領域以外において、有機EL層13から放射さ
れる光haや有機EL素子内で反射した光hbが、IT
O層を通過することなく、絶縁性基板11aに到達して
絶縁性基板11aの他面側から出射されるので、ITO
層(アノード電極12)による光の吸収、減衰(光吸収
損失)を抑制して、視野側に出射される光hνの光量
(光の取り出し効率)を増大させることができ、省電力
で高輝度の発光素子を実現することができる。
Therefore, according to such a configuration, in addition to the same functions and effects as those of the above-described configuration example, the anode electrode 1
Light ha emitted from the organic EL layer 13 and light hb reflected in the organic EL element in the region other than the region where
Since the light reaches the insulating substrate 11a and is emitted from the other surface of the insulating substrate 11a without passing through the O layer, the ITO
Light absorption and attenuation (light absorption loss) of light by the layer (anode electrode 12) can be suppressed, and the amount of light hν (light extraction efficiency) emitted to the visual field side can be increased. Can be realized.

【0066】図10は、本実施形態に係る有機EL素子
のさらに他の構成例(構成例3)の概略構造を示す図で
ある。図10に示すように、本構成例に係る有機EL素
子10Cは、板厚0.2mm以下に薄く形成された絶縁
性基板11aの一面側(図中、下面側)に、ストライプ
状に形成された複数条のアノード電極12と、少なくと
もアノード電極12が形成された領域を覆うように形成
された複数の有機EL層13と、少なくともアノード電
極12及び有機EL層13が形成された領域を覆うよう
に形成された、光反射特性を有する金属層等からなる単
一のカソード電極14と、を有して構成されている。な
お、図示を省略したが、上述した構成例と同様に、有機
EL素子群は、封止部材及び封止基板により固化封止さ
れた構成を有していてもよく、また、絶縁性基板11a
の他面側には、散乱板等の光制御手段が設けられた構成
を有していてもよい。
FIG. 10 is a view showing a schematic structure of still another configuration example (configuration example 3) of the organic EL device according to the present embodiment. As shown in FIG. 10, the organic EL element 10C according to the present configuration example is formed in a stripe shape on one surface side (the lower surface side in the figure) of the insulating substrate 11a formed as thin as 0.2 mm or less. A plurality of anode electrodes 12, a plurality of organic EL layers 13 formed so as to cover at least a region where the anode electrode 12 is formed, and a plurality of organic EL layers 13 formed so as to cover at least a region where the anode electrode 12 and the organic EL layer 13 are formed. And a single cathode electrode 14 formed of a metal layer or the like having light reflection characteristics. Although not shown, the organic EL element group may have a configuration solidified and sealed by a sealing member and a sealing substrate similarly to the above-described configuration example.
On the other surface side, a light control means such as a scattering plate may be provided.

【0067】すなわち、本構成例に係る有機EL素子1
0Cは、絶縁性基板11aの一面側に積層される有機E
L素子の各構成のうち、アノード電極12を構成するI
TO層及び有機EL層13が形成されていない領域を有
している。ここで、有機EL層13は、上述したアノー
ド電極12を構成するITO層と同様に、高い光透過性
(透過率)を有するものの、有機EL層13を通過する
光は、僅かながら有機EL層13内で吸収されて減衰す
るため、その光量が低下する。
That is, the organic EL device 1 according to this configuration example
0C is the organic E laminated on one surface side of the insulating substrate 11a.
Among the components of the L element, I
There is a region where the TO layer and the organic EL layer 13 are not formed. Here, the organic EL layer 13 has a high light transmittance (transmittance) like the above-mentioned ITO layer forming the anode electrode 12, but light passing through the organic EL layer 13 is slightly applied to the organic EL layer. Since the light is absorbed and attenuated in the light 13, the amount of light decreases.

【0068】したがって、このような構成によれば、上
述した構成例と同等の作用効果に加え、アノード電極1
2及び有機EL層13の形成領域以外において、光が通
過することなく、光反射特性を有するカソード電極14
により良好に反射した光hcが、絶縁性基板11aに到
達して絶縁性基板11aの他面側から出射されるので、
ITO層(アノード電極12)及び有機EL層13によ
る光の吸収、減衰(光吸収損失)をさらに抑制して、視
野側に出射される光hνの光量(光の取り出し効率)を
より増大させることができ、より省電力でより高輝度の
発光素子を実現することができる。
Therefore, according to such a configuration, in addition to the same functions and effects as those of the above-described configuration example, the anode electrode 1
2 and a cathode electrode 14 having a light reflection characteristic without light passing outside the region where the organic EL layer 13 is formed.
Since the light hc reflected more favorably reaches the insulating substrate 11a and is emitted from the other surface side of the insulating substrate 11a,
Light absorption and attenuation (light absorption loss) by the ITO layer (anode electrode 12) and the organic EL layer 13 are further suppressed to further increase the light quantity (light extraction efficiency) of the light hν emitted to the visual field side. Thus, a light-emitting element with higher power consumption and higher luminance can be realized.

【0069】図11は、本実施形態に係る有機EL素子
のさらに他の構成例(構成例4)の概略構造を示す図で
ある。図11に示すように、本構成例に係る有機EL素
子10Dは、板厚0.2mm以下に薄く形成された絶縁
性基板11aの一面側(図中、下面側)に、ストライプ
状に形成された複数条のアノード電極12と、少なくと
もアノード電極12が形成された領域の所定の位置に形
成された複数の有機EL層13と、ストライプ状に形成
されたアノード電極12の延在方向と直交するように延
在するストライプ状に形成され、少なくともアノード電
極12及び有機EL層13が積層形成された領域を覆う
ように形成されたカソード電極14と、アノード電極1
2、有機EL層13、カソード電極14から構成される
有機EL素子群の全域を覆うように保護する透明なパッ
シベーション膜15aと、パッシベーション膜15aの
全域を覆うように形成された光反射特性を有する金属層
等からなる単一の反射層19と、を有して構成されてい
る。
FIG. 11 is a view showing a schematic structure of still another configuration example (configuration example 4) of the organic EL device according to the present embodiment. As shown in FIG. 11, the organic EL element 10D according to the present configuration example is formed in a stripe shape on one surface side (the lower surface side in the figure) of an insulating substrate 11a formed as thin as 0.2 mm or less. The plurality of anode electrodes 12, the plurality of organic EL layers 13 formed at least at predetermined positions in the region where the anode electrodes 12 are formed, and the direction perpendicular to the extending direction of the stripe-shaped anode electrodes 12. Electrode 14 formed in a stripe shape extending in such a manner as to cover at least a region where the anode electrode 12 and the organic EL layer 13 are laminated.
2. A transparent passivation film 15a for protecting the whole area of the organic EL element group composed of the organic EL layer 13 and the cathode electrode 14, and a light reflection characteristic formed to cover the whole area of the passivation film 15a. And a single reflective layer 19 made of a metal layer or the like.

【0070】ここで、カソード電極14は、ITO等の
透明な電極材料により形成されている。また、図示を省
略したが、絶縁性基板11aの他面側には、散乱板等の
光制御手段が設けられた構成を有していてもよい。な
お、光制御手段は、絶縁性基板11aの他面側に設ける
構成に限らず、反射層19の表面を粗く加工することに
より、散乱板と同等の光拡散性を付与した構成であって
もよい。すなわち、本構成例に係る有機EL素子10D
は、絶縁性基板11aの一面側に積層される有機EL素
子の各構成のうち、アノード電極12とカソード電極1
4が互いに直交する格子状に形成され、また、有機EL
層13がその格子点(交点)に形成された構成を有して
いるため、アノード電極12、有機EL層13及びカソ
ード電極14のいずれもが形成されていない領域を有し
ている。
Here, the cathode electrode 14 is formed of a transparent electrode material such as ITO. Although not shown, a configuration in which light control means such as a scattering plate is provided on the other surface side of the insulating substrate 11a may be employed. Note that the light control means is not limited to the configuration provided on the other surface side of the insulating substrate 11a, and may have a configuration in which the surface of the reflection layer 19 is roughened so as to have the same light diffusion as the scattering plate. Good. That is, the organic EL element 10D according to this configuration example
Are the anode electrode 12 and the cathode electrode 1 among the components of the organic EL element laminated on one surface side of the insulating substrate 11a.
4 are formed in a lattice shape orthogonal to each other, and the organic EL
Since the layer 13 has a configuration formed at the lattice points (intersection points), it has a region where none of the anode electrode 12, the organic EL layer 13, and the cathode electrode 14 is formed.

【0071】したがって、このような構成によれば、上
述した構成例と同等の作用効果に加え、アノード電極1
2、有機EL層13及びカソード電極14の形成領域以
外においては、光の吸収、減衰(光吸収損失)が抑制さ
れるとともに、有機EL層13の背面側(図面下方)に
放射された光hdや有機EL素子内で反射した光hbが
反射層19により良好に反射、散乱されて絶縁性基板1
1aに到達して出射されるので、視野側に出射される光
hνの光量(光の取り出し効率)をさらに増大させるこ
とができ、より省電力でより高輝度の発光素子を実現す
ることができる。
Therefore, according to such a configuration, in addition to the same functions and effects as those of the above-described configuration example, the anode electrode 1
2. In regions other than the region where the organic EL layer 13 and the cathode electrode 14 are formed, light absorption and attenuation (light absorption loss) are suppressed, and light hd radiated to the back side of the organic EL layer 13 (downward in the drawing). And the light hb reflected in the organic EL element is satisfactorily reflected and scattered by the reflection layer 19 to form the insulating substrate 1.
Since the light reaches and emits light 1a, the amount of light hν (light extraction efficiency) emitted toward the visual field can be further increased, and a light-emitting element with higher power saving and higher luminance can be realized. .

【0072】図12は、本実施形態に係る有機EL素子
のさらに他の構成例(構成例5)の概略構造を示す図で
ある。図12に示すように、本構成例に係る有機EL素
子10Eは、板厚0.2mm以下に薄く形成された絶縁
性基板11aの一面側(図中、下面側)に、ストライプ
状に形成された複数条のアノード電極12と、少なくと
もアノード電極12が形成された領域の所定の位置に形
成された複数の有機EL層13と、ストライプ状に形成
されたアノード電極12の延在方向と直交するように延
在するストライプ状に形成され、少なくともアノード電
極12及び有機EL層13が積層形成された領域を覆う
ように形成されたカソード電極14と、アノード電極1
2、有機EL層13、カソード電極14から構成される
有機EL素子群の全域を覆うように封止する透明な封止
層15と、光反射特性を有する金属層等からなる単一の
反射層19が形成されるとともに、絶縁性基板11aに
対向して配置された比較的厚い封止基板16と、を有し
て構成されている。
FIG. 12 is a view showing a schematic structure of still another configuration example (configuration example 5) of the organic EL device according to the present embodiment. As shown in FIG. 12, the organic EL element 10E according to this configuration example is formed in a stripe shape on one surface side (the lower surface side in the figure) of the insulating substrate 11a formed to be thinner than 0.2 mm in thickness. The plurality of anode electrodes 12, the plurality of organic EL layers 13 formed at least at predetermined positions in the region where the anode electrodes 12 are formed, and the direction perpendicular to the extending direction of the stripe-shaped anode electrodes 12. Electrode 14 formed in a stripe shape extending in such a manner as to cover at least a region where the anode electrode 12 and the organic EL layer 13 are laminated.
2. A transparent sealing layer 15 for sealing to cover the entire area of the organic EL element group composed of the organic EL layer 13 and the cathode electrode 14, and a single reflective layer made of a metal layer having a light reflection characteristic. 19, and a relatively thick sealing substrate 16 disposed opposite the insulating substrate 11a.

【0073】ここで、上述した構成例と同様に、カソー
ド電極14は、ITO等の透明な電極材料により形成さ
れている。また、図示を省略したが、絶縁性基板11a
の他面側には、散乱板等の光制御手段が設けられた構成
を有していてもよく、また、反射層19の表面を粗く加
工することにより、散乱板と同等の光拡散性を付与した
光制御手段を有するものであってもよい。すなわち、本
構成例に係る有機EL素子10Eは、アノード電極12
とカソード電極14が互いに格子状に形成され、また、
有機EL層13がその格子点に形成された構成を有して
いるため、アノード電極12、有機EL層13及びカソ
ード電極14のいずれもが形成されていない領域を有し
ている。
Here, similarly to the above-described configuration example, the cathode electrode 14 is formed of a transparent electrode material such as ITO. Although not shown, the insulating substrate 11a
On the other surface side, a light control means such as a scattering plate may be provided, and by roughing the surface of the reflection layer 19, light diffusivity equivalent to that of the scattering plate can be obtained. It may have the light control means provided. That is, the organic EL element 10E according to this configuration example includes the anode electrode 12
And the cathode electrode 14 are formed in a lattice pattern with each other, and
Since the organic EL layer 13 has a structure formed at the lattice points, the organic EL layer 13 has a region where none of the anode electrode 12, the organic EL layer 13 and the cathode electrode 14 is formed.

【0074】したがって、このような構成によれば、上
述した構成例と同等の作用効果に加え、有機EL素子が
形成された絶縁性基板11aに対向して、比較的厚い封
止基板16が設けられているので、十分な物理的強度を
確保することができ、製造工程における各種処理におけ
る外部応力に対する破損や不良の発生を抑制することが
できる。
Therefore, according to such a configuration, in addition to the same functions and effects as those of the above-described configuration example, a relatively thick sealing substrate 16 is provided opposite to the insulating substrate 11a on which the organic EL element is formed. Therefore, sufficient physical strength can be ensured, and occurrence of breakage or failure due to external stress in various processes in the manufacturing process can be suppressed.

【0075】なお、上述した各実施形態においては、有
機EL層から放射される光の取り出し効率を向上させる
ための構成として、絶縁性基板の出射面側に散乱板等の
光制御手段を設けた構成を示したが、本発明は、これに
限定されるものではない。要するに、有機EL層から放
射される光の進路(進行方向)を変化させて、視野側に
出射させるものであればよく、例えば、絶縁性基板の出
射面側の表面を粗く加工(いわゆる、フロスト加工)し
て散乱面を構成するものであってもよいし、有機EL層
から放射される光を反射するカソード電極や反射金属層
の表面を粗く加工して、有機EL素子の内部で散乱を生
じさせるものであってもよい。このような構成によれ
ば、絶縁性基板の出射面側に散乱板等を設ける必要がな
いため、製造工数を削減して簡易に光の取り出し効率が
高く、高輝度の有機EL素子を提供することができる。
In each of the above embodiments, a light control means such as a scattering plate is provided on the emission surface side of the insulating substrate as a configuration for improving the efficiency of extracting light emitted from the organic EL layer. Although the configuration is shown, the present invention is not limited to this. In short, it is sufficient that the light emitted from the organic EL layer is changed in its course (traveling direction) and emitted toward the visual field. For example, the surface of the insulating substrate on the emission surface side is roughened (so-called frost). The surface of a cathode electrode or a reflective metal layer that reflects light emitted from the organic EL layer may be roughened so that scattering is performed inside the organic EL element. May be caused. According to such a configuration, there is no need to provide a scattering plate or the like on the emission surface side of the insulating substrate, so that the number of manufacturing steps is reduced, the light extraction efficiency is easily increased, and a high-brightness organic EL element is provided. be able to.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明に係る発光素子によれば、出射光
側となる透明基板を薄く構成(概ね0.2mm以下、好
ましくは、0.1mm以下に)することにより、発光素
子を自己発光型の表示デバイスに適用した場合には、発
光層から出射面(透明基板の他面側)までの距離が短く
なり、発光層から放射された光の進路の拡がりが抑制さ
れるので、表示画素のぼけ(像ぼけ)を抑制することが
でき、画質を向上した表示デバイスを実現することがで
きる。
According to the light-emitting device of the present invention, the light-emitting device is made to emit light by making the transparent substrate on the emission light side thin (approximately 0.2 mm or less, preferably 0.1 mm or less). When the present invention is applied to a display device of the type, the distance from the light emitting layer to the emission surface (the other surface side of the transparent substrate) is shortened, and the spread of the path of light emitted from the light emitting layer is suppressed. Blur (image blur) can be suppressed, and a display device with improved image quality can be realized.

【0077】また、発光素子を透過型表示デバイスの2
ウェイバックライトとして適用した場合においては、透
明電極の上面から反射層となる第2の電極までの距離が
短くなり、透過型表示デバイスに表示された画像の反射
像のずれや重なりが抑制されるので、視差ずれを抑制す
ることができ、画質を向上した表示デバイスを実現する
ことができる。
Further, the light emitting element is used as a transmission type display device.
When applied as a way backlight, the distance from the upper surface of the transparent electrode to the second electrode serving as the reflective layer is shortened, and the shift or overlap of the reflected image of the image displayed on the transmissive display device is suppressed. Therefore, a parallax shift can be suppressed, and a display device with improved image quality can be realized.

【0078】また、上記発光素子の構成において、発光
素子を構成する各電極及び発光層を、樹脂等の封止部
材、さらには、透明基板に対向する比較的厚い封止基板
により全固体的に密閉封止することにより、透明基板の
一面側における物理的な強度が向上するので、透明基板
の他面側を、概ね0.2mm以下に薄く形成した場合で
あっても、透明基板自体の物理的な強度を確保すること
ができるとともに、上記像ぼけや視差ずれを良好に抑制
した発光素子を実現することができる。
In the structure of the light-emitting element, each electrode and the light-emitting layer constituting the light-emitting element are all-solid-formed by a sealing member such as a resin and a relatively thick sealing substrate facing the transparent substrate. Since the physical strength on one side of the transparent substrate is improved by hermetically sealing, even if the other side of the transparent substrate is formed to be thinner to approximately 0.2 mm or less, the physical strength of the transparent substrate itself is reduced. In addition, it is possible to realize a light-emitting element which can secure a sufficient intensity, and in which the above-described image blur and parallax shift are favorably suppressed.

【0079】また、上記発光素子の構成において、発光
層から放射される光が出射される透明基板の出射面、あ
るいは、発光層から放射された光を透明基板側へ反射す
る反射層に、光を散乱する光制御手段を設けることによ
り、発光層から放射される光のうち、全反射臨界角より
も大きい放射角度を有する光が、光制御手段による散乱
によって出射されるので、視野方向への光の取り出し効
率を増大することができ、より小さなエネルギーで十分
な光量を有する発光素子を実現することができる。ここ
で、光制御手段は、透明基板の他面側に密着するように
設けられ、その密着面における屈折率は、透明基板の屈
折率と同一又は近似しているので、光の取り出し効率を
さらに増大させることができる。
In the structure of the light-emitting element, the light emitted from the light-emitting layer is emitted to the light-emitting surface of the transparent substrate, or the light emitted from the light-emitting layer is reflected on the transparent substrate to reflect light toward the transparent substrate. By providing the light control means for scattering the light, of the light emitted from the light emitting layer, light having an emission angle larger than the total reflection critical angle is emitted by scattering by the light control means, so Light extraction efficiency can be increased, and a light-emitting element having a sufficient amount of light with smaller energy can be realized. Here, the light control means is provided so as to be in close contact with the other surface side of the transparent substrate, and the refractive index at the contact surface is the same as or approximate to the refractive index of the transparent substrate. Can be increased.

【0080】さらに、上記発光素子の構成において、発
光層から放射された光のうち、透明基板とは反対側の後
面側に放射された光が、透明基板側へ良好に反射される
ように反射層を形成することにより、光の取り出し効率
をさらに増大させることができ、より小さなエネルギー
で十分な光量を有する発光素子を実現することができ
る。
Further, in the structure of the light emitting element, of the light emitted from the light emitting layer, the light emitted to the rear surface side opposite to the transparent substrate is reflected so as to be favorably reflected to the transparent substrate side. By forming the layer, light extraction efficiency can be further increased, and a light-emitting element having a sufficient amount of light with smaller energy can be realized.

【0081】さらに、上記発光素子の構成において、第
1の電極を、例えば、ストライプ状に形成することによ
り、又は、該ストライプ状に形成された複数の第1の電
極上に発光層をマトリクス状に形成することにより、あ
るいは、第1の電極及び第2の電極を相互に直交するス
トライプ状に形成し、発光素子を該第1及び第2の電極
の交点位置にマトリクス状に形成することにより、透明
電極と第2の電極との間に、第1の電極が、又は、第1
の電極及び発光層が、あるいは、第1の電極、発光層及
び第2の電極のいずれもが介在しない領域が形成される
ので、発光層から放射された光が第1の電極、又は、第
1の電極及び発光層、あるいは、第1の電極、発光層及
び第2の電極のいずれをも透過することなく透明基板を
介して出射することにより、第1の電極、発光層及び第
2の電極により吸収されて減衰する光量(光の吸収損
失)を抑制することができ、光の取り出し効率を一層増
大することができる。
Further, in the above structure of the light emitting element, the first electrode is formed in a stripe shape, for example, or a light emitting layer is formed in a matrix on the plurality of first electrodes formed in the stripe shape. Alternatively, the first electrode and the second electrode are formed in a stripe shape orthogonal to each other, and the light emitting elements are formed in a matrix at the intersections of the first and second electrodes. A first electrode or a first electrode between the transparent electrode and the second electrode;
The electrode and the light-emitting layer, or the first electrode, a region where neither the light-emitting layer and the second electrode are formed, the light emitted from the light-emitting layer is the first electrode, or, The first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are emitted through the transparent substrate without passing through any of the first electrode, the light emitting layer, or the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode. The amount of light absorbed by the electrode and attenuated (light absorption loss) can be suppressed, and the light extraction efficiency can be further increased.

【0082】本発明に係る発光素子の製造方法によれ
ば、発光素子を構成する各電極及び発光層を、少なくと
も樹脂等の封止部材により全固体的に密閉封止した後、
透明基板の他面側を研磨することにより、透明基板の物
理的な強度を確保しつつ、透明基板が薄く形成(研磨)
されるので、従来の構成に比較して数分の1程度となる
概ね0.2mm以下(好ましくは、0.1mm以下)に
良好に薄く形成して、発光層から出射面までの距離を短
くすることができ、上記像ぼけや視差ずれを良好に抑制
した発光素子を実現することができる。
According to the method of manufacturing a light emitting device according to the present invention, after each electrode and the light emitting layer constituting the light emitting device are hermetically sealed at least with a sealing member such as a resin,
By polishing the other side of the transparent substrate, the transparent substrate is formed thinly (polishing) while maintaining the physical strength of the transparent substrate.
Therefore, it is preferably formed to be thinner to about 0.2 mm or less (preferably 0.1 mm or less), which is about several times smaller than the conventional configuration, and the distance from the light emitting layer to the emission surface is shortened. Thus, a light-emitting element in which the above-described image blur and parallax shift are successfully suppressed can be realized.

【0083】また、上記方法において、透明基板の厚み
を概ね0.2mm以下に研磨した後、透明基板の出射面
側に光拡散性のフィルタ等の光制御手段が密着して設け
られるので、発光層から放射される光のうち、全反射臨
界角よりも大きい放射角度を有する光を、光制御手段に
よる散乱によって出射することができ、上記像ぼけや視
差ずれを良好に抑制しつつ、光の取り出し効率を増大し
て、より小さなエネルギーで十分な光量を有する発光素
子を簡易に実現することができる。
In the above method, after the transparent substrate is polished to a thickness of about 0.2 mm or less, light control means such as a light diffusing filter is provided in close contact with the light emitting surface of the transparent substrate. Of the light emitted from the layer, light having an emission angle larger than the critical angle for total reflection can be emitted by scattering by the light control means, and while suppressing the image blur and the parallax shift, the light It is possible to easily realize a light emitting element having a sufficient light amount with smaller energy by increasing the extraction efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る発光素子の一実施形態を示す概略
図である。
FIG. 1 is a schematic view showing one embodiment of a light emitting device according to the present invention.

【図2】本実施形態に係る有機EL素子における光の放
射角度と視野側への出射状態との関係を示す概略図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the relationship between the emission angle of light and the state of emission to the viewing side in the organic EL element according to the embodiment.

【図3】本実施形態に係る有機EL素子における散乱板
の張り付け状態と放射光束との関係を示す実測値を示す
グラフである。
FIG. 3 is a graph showing measured values showing the relationship between the state of attachment of a scattering plate and the radiated light flux in the organic EL device according to the embodiment.

【図4】本実施形態に係る有機EL素子を適用した表示
装置又は光源の一構成例(構成例1)を示す概略断面図
である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration example (configuration example 1) of a display device or a light source to which the organic EL element according to the embodiment is applied.

【図5】図4に示した表示装置又は光源の出射側(X−
X矢視)の絶縁性基板と有機EL素子の平面構造を示す
概略図である。
FIG. 5 is a diagram showing an output side (X-
FIG. 2 is a schematic view showing a planar structure of an insulating substrate (as viewed from an arrow X) and an organic EL element.

【図6】図4に示した表示装置又は光源の封止基板側
(Y−Y矢視)の平面構造を示す概略図である。
6 is a schematic diagram showing a planar structure of the display device or the light source shown in FIG. 4 on the sealing substrate side (as viewed from the arrow YY).

【図7】図4に示した有機EL素子の製造方法における
第1乃至第3の工程を示す各工程断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing each of first to third steps in the method for manufacturing the organic EL element shown in FIG.

【図8】図4に示した有機EL素子の製造方法における
第4の工程を示す工程断面図である。
8 is a process cross-sectional view showing a fourth process in the method for manufacturing the organic EL device shown in FIG.

【図9】本実施形態に係る有機EL素子の他の構成例
(構成例2)の概略構造を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a schematic structure of another configuration example (configuration example 2) of the organic EL element according to the embodiment.

【図10】本実施形態に係る有機EL素子のさらに他の
構成例(構成例3)の概略構造を示す図である。
FIG. 10 is a view showing a schematic structure of still another configuration example (configuration example 3) of the organic EL element according to the embodiment.

【図11】本実施形態に係る有機EL素子のさらに他の
構成例(構成例4)の概略構造を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a schematic structure of still another configuration example (configuration example 4) of the organic EL element according to the embodiment.

【図12】本実施形態に係る有機EL素子のさらに他の
構成例(構成例5)の概略構造を示す図である。
FIG. 12 is a view showing a schematic structure of still another configuration example (configuration example 5) of the organic EL element according to the embodiment.

【図13】従来技術における有機EL素子の概略構成を
示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an organic EL element according to a conventional technique.

【図14】有機EL素子内部における光の進路と、視野
側への出射角度との関係を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a relationship between a light path inside an organic EL element and an emission angle toward a viewing side.

【図15】有機EL素子の放射特性と、全反射臨界角と
の関係を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the radiation characteristics of the organic EL element and the critical angle for total reflection.

【図16】従来技術における有機EL素子の光の取り出
し効率を向上させた構成を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a configuration in which light extraction efficiency of an organic EL element is improved in a conventional technique.

【図17】従来技術における有機EL素子の問題点を説
明するための概略図である。
FIG. 17 is a schematic diagram for explaining a problem of the organic EL element in the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、10A〜10E 有機EL素子 11a、11b 絶縁性基板 12 アノード電極 13 有機EL層 14 カソード電極 15a パッシベーション膜 15 封止層 16 封止基板 17 光学部材 18 散乱板 19 反射層 21 シール部材 22A、22C コンタクト電極 23A、23C 引き出し電極 30 駆動回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A-10E Organic EL element 11a, 11b Insulating substrate 12 Anode electrode 13 Organic EL layer 14 Cathode electrode 15a Passivation film 15 Sealing layer 16 Sealing substrate 17 Optical member 18 Scattering plate 19 Reflective layer 21 Sealing member 22A, 22C Contact electrode 23A, 23C Lead electrode 30 Drive circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡田 修 東京都八王子市石川町2951番地の5 カシ オ計算機株式会社八王子研究所内 Fターム(参考) 3K007 AB02 AB17 AB18 BA06 BB07 CA01 CA05 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA01 FA02  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Osamu Okada Inventor F-term in Kashio Computer Co., Ltd., Hachioji Research Laboratory, 2951 Ishikawacho, Hachioji-shi, Tokyo 3K007 AB02 AB17 AB18 BA06 BB07 CA01 CA05 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA01 FA02

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性の透明基板の一面側に、透明な導
電性材料からなる第1の電極と、有機エレクトロルミネ
ッセンス材料からなる発光層と、前記第1の電極に対向
する第2の電極が順次積層された面状構造を有する発光
素子において、 前記透明基板の厚みが、概ね0.2mm以下であること
を特徴とする発光素子。
1. A first electrode made of a transparent conductive material, a light emitting layer made of an organic electroluminescent material, and a second electrode facing the first electrode on one surface side of an insulating transparent substrate. Wherein the thickness of the transparent substrate is approximately 0.2 mm or less.
【請求項2】 前記透明基板上に積層された前記第1の
電極、前記発光層、前記第2の電極は、封止部材により
封止されていることを特徴とする請求項1記載の発光素
子。
2. The light emitting device according to claim 1, wherein the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode laminated on the transparent substrate are sealed by a sealing member. element.
【請求項3】 前記発光層から放射される光の出射方向
を変更制御する光制御手段を設けたことを特徴とする請
求項1又は2記載の発光素子。
3. The light emitting device according to claim 1, further comprising light control means for changing and controlling an emission direction of light emitted from the light emitting layer.
【請求項4】 前記光制御手段は、前記透明基板の他面
側に密着するように設けられ、該密着面での屈折率は、
前記透明基板の屈折率と同一又は近似していることを特
徴とする請求項3記載の発光素子。
4. The light control means is provided so as to be in close contact with the other surface of the transparent substrate, and the refractive index at the contact surface is:
The light emitting device according to claim 3, wherein the refractive index is the same as or approximate to the refractive index of the transparent substrate.
【請求項5】 前記透明基板の一面側に、前記透明基板
に対向する対向基板を設けたことを特徴とする請求項1
乃至4のいずれかに記載の発光素子。
5. An apparatus according to claim 1, wherein an opposing substrate facing said transparent substrate is provided on one surface side of said transparent substrate.
5. The light-emitting device according to any one of items 1 to 4.
【請求項6】 前記対向基板は、0.4mm以上のガラ
ス又は合成樹脂基板からなることを特徴とする請求項5
記載の発光素子。
6. The substrate according to claim 5, wherein the counter substrate is made of a glass or synthetic resin substrate having a size of 0.4 mm or more.
The light-emitting device according to any one of the preceding claims.
【請求項7】 前記対向基板は、前記透明基板上の前記
第1の電極及び前記第2の電極に電圧を印加する駆動回
路が設けられていることを特徴とする請求項7又は8記
載の発光素子。
7. The drive circuit according to claim 7, wherein the counter substrate is provided with a drive circuit for applying a voltage to the first electrode and the second electrode on the transparent substrate. Light emitting element.
【請求項8】 前記発光層の周囲の前記透明基板と前記
対向基板との間はシール部材により接合され、前記シー
ル部材、前記透明基板及び前記対向基板に囲まれた空間
には、封止部材が設けられていることを特徴とする請求
項5乃至7のいずれかに記載の発光素子。
8. A sealing member is provided between the transparent substrate and the opposing substrate around the light emitting layer, and a sealing member is provided in a space surrounded by the sealing member, the transparent substrate, and the opposing substrate. The light emitting device according to claim 5, wherein
【請求項9】 絶縁性の透明基板の一面側に、透明な導
電性材料からなる第1の電極と、有機エレクトロルミネ
ッセンス材料からなる発光層と、前記第1の電極に対向
する第2の電極を順次積層する工程と、 前記透明基板上に積層された前記第1の電極、前記発光
層、前記第2の電極の全面を、少なくとも封止部材によ
り固体的に封止する工程と、 前記透明基板の他面側を研磨して、前記透明基板の厚み
を概ね0.2mm以下にする工程と、を含むことを特徴
とする発光素子の製造方法。
9. A first electrode made of a transparent conductive material, a light emitting layer made of an organic electroluminescent material, and a second electrode facing the first electrode, on one surface side of the insulating transparent substrate. A step of sequentially laminating, a step of solidly sealing the entire surface of the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode laminated on the transparent substrate with at least a sealing member; Polishing the other surface of the substrate to reduce the thickness of the transparent substrate to about 0.2 mm or less.
【請求項10】 前記研磨された前記透明基板の他面側
に、前記発光層から放射される光の出射方向を変更制御
する光制御手段を密着する工程を有していることを特徴
とする請求項9記載の発光素子の製造方法。
10. The method according to claim 1, further comprising the step of: adhering a light control unit for changing and controlling the emission direction of light emitted from the light emitting layer, on the other surface side of the polished transparent substrate. A method for manufacturing a light emitting device according to claim 9.
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