JP2002042660A - Correction method and device for pattern - Google Patents

Correction method and device for pattern

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JP2002042660A JP2000231247A JP2000231247A JP2002042660A JP 2002042660 A JP2002042660 A JP 2002042660A JP 2000231247 A JP2000231247 A JP 2000231247A JP 2000231247 A JP2000231247 A JP 2000231247A JP 2002042660 A JP2002042660 A JP 2002042660A
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect correcting method and device capable of correcting even if the width of a rib defect of a flat display is narrow. SOLUTION: The width of a rib defect 21 is widened with a cutting laser 2, and the widened width is coated with correcting paste with a paste coating mechanism 3 to correct the defect.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はパターン修正装置
に関し、特に、プラズマディスプレイ(以下、PDPと
称する)のリブ(隔壁)の製造工程において発生するリ
ブ欠け欠陥を修正するパターン修正方法およびパターン
修正装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern repairing device, and more particularly, to a pattern repairing method and a pattern repairing device for repairing a rib defect occurring in a process of manufacturing a rib (partition wall) of a plasma display (hereinafter referred to as a PDP). About.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9〜図11は従来のPDPのリブ欠陥
の修正方法を説明するための図である。
2. Description of the Related Art FIGS. 9 to 11 are views for explaining a conventional method of correcting a rib defect of a PDP.

【0003】図9に示すように、PDPのガラス基板2
0上には構造要素であるリブ21がたとえば高さ150
μm程度であり、幅60〜100μm程度の大きさで形
成されている。PDPの製造工程において、このような
リブ2の一部が欠けるリブ欠陥22を生じることがあ
る。このようなリブ欠陥22を生じても、歩留りを高め
るために、修正が行なわれ、適切に修正されたものは製
品として用いられる。
As shown in FIG. 9, a PDP glass substrate 2
A rib 21 as a structural element has a height of 150
The width is about 60 μm and the size is about 60 μm. In the manufacturing process of the PDP, a rib defect 22 in which a part of the rib 2 is missing may occur. Even if such a rib defect 22 occurs, it is repaired in order to increase the yield, and the appropriately corrected one is used as a product.

【0004】このような修正を行なう方法としては、た
とえば特開平08−292442号公報に記載されてい
るように、先端の形状が平坦に形成された針にペースト
を付着させてリブ欠陥22の部分に接触させ、ペースト
を塗布することにより欠陥箇所を修正する。
As a method of making such a correction, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-292442, a paste is attached to a needle having a flat tip to form a rib defect 22 portion. , And apply a paste to correct the defective portion.

【0005】また、特願平11−109517号には、
塗布したペーストをレーザ光で焼成し、欠陥部からはみ
出した余分なペーストをスクラッチ針機構で除去する方
法について記載されている。
In Japanese Patent Application No. 11-109517,
A method is described in which the applied paste is baked with a laser beam, and excess paste that has protruded from a defective portion is removed by a scratch needle mechanism.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図10
(a)に示すようにリブ欠陥の欠け幅が小さくて、10
0μm以下程度になると、図10(b)に示すように、
塗布針23によって修正ペーストを欠陥内部に充填する
ことができず、満足な修正を行なうことができない。
However, FIG.
(A) As shown in FIG.
When the thickness is about 0 μm or less, as shown in FIG.
The correction paste cannot be filled inside the defect by the application needle 23, and satisfactory correction cannot be performed.

【0007】これは、図11(a)に示すように欠陥幅
が小さいため、塗布針23に付着した修正用ペーストが
図11(b)に示すようにリブ欠22の両側の肩部分に
先に付着してしまい、欠陥内部に充填しないためであ
る。塗布針23の先端形状を極細にすることにより10
0μm以下でも若干な修正は可能となるが、これにも限
界がある。
[0007] This is because the defect width is small as shown in FIG. 11 (a), so that the repair paste adhered to the coating needle 23 is applied to the shoulder portions on both sides of the rib chip 22 as shown in FIG. 11 (b). This is because they do not adhere to the inside of the defect. By making the tip of the coating needle 23 extremely fine, 10
Slight correction is possible even at 0 μm or less, but this also has limitations.

【0008】それゆえに、この発明の主たる目的は、フ
ラットディスプレイのリブ欠陥幅が小さくとも修正が可
能なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, a main object of the present invention is to provide a pattern correcting method and a pattern correcting apparatus which can correct even if a rib defect width of a flat display is small.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明は、パターン修
正方法であって、フラットディスプレィの構造要素であ
るリブの形成された基板を水平方向に移動させるテーブ
ルと、基板のリブが欠如している欠陥部に修正部材を塗
布する塗布手段と、塗布された修正部材を焼成あるいは
欠陥部を削除するためのレーザ光を照射するレーザ照射
機構と、リブを除去するためのスクラッチ針機構とを備
えたパターンものにおいて、リブの欠け幅を広げた後、
修正部材を塗布することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method of correcting a pattern, which lacks a table for horizontally moving a substrate having ribs, which are structural elements of a flat display, and ribs of the substrate. An application unit for applying a correction member to a defective portion, a laser irradiation mechanism for irradiating a laser beam for firing the applied correction member or removing the defective portion, and a scratch needle mechanism for removing a rib are provided. After expanding the width of the rib in the pattern,
It is characterized in that a correction member is applied.

【0010】他の発明は、フラットディスプレィの構造
要素であるリブの形成された基板を水平方向に移動させ
るテーブルと、基板のリブが欠如している欠陥部に修正
部材を塗布する塗布手段と、塗布された修正部材を焼成
あるいは欠陥部を削除するためのレーザ光を照射するレ
ーザ照射機構と、リブを除去するためのスクラッチ針機
構とを備えたパターン修正装置において、レーザ照射機
構およびスクラッチ針機構の少なくともいずれか一方を
用いてリブの欠け幅を広げた後、塗布手段により修正部
材を塗布する。
Another aspect of the present invention is a table for horizontally moving a substrate having ribs, which are structural elements of a flat display, a coating means for coating a correction member on a defective portion of the substrate where a rib is missing, In a pattern correction apparatus including a laser irradiation mechanism for irradiating a laser beam for firing a coated correction member or removing a defective portion, and a scratch needle mechanism for removing a rib, a laser irradiation mechanism and a scratch needle mechanism are provided. After the notch width of the rib is widened using at least one of the above, the correction member is applied by the application unit.

【0011】また、レーザ照射機構は、連続発振で波長
が第2高調波を発振するYAGレーザ光源を含む。
The laser irradiation mechanism includes a YAG laser light source that oscillates at a second harmonic with continuous oscillation.

【0012】また、レーザ照射機構は、ジャイアントパ
ルス発振で波長が第2高調波を発振するYAGレーザ光
源を含む。
The laser irradiation mechanism includes a YAG laser light source that oscillates at a second harmonic with giant pulse oscillation.

【0013】さらに、レーザ照射機構はYLFレーザ光
源を含む。さらに、レーザ照射機構を上下方向に移動可
能な駆動機構を含み、駆動機構でレーザ照射機構を多段
で下方向に移動させてリブを除去する。
Further, the laser irradiation mechanism includes a YLF laser light source. Further, the laser irradiation mechanism includes a driving mechanism capable of moving the laser irradiation mechanism in a vertical direction, and the driving mechanism moves the laser irradiation mechanism downward in multiple stages to remove ribs.

【0014】さらに、スクラッチ針機構は、リブを除去
した残りカスを吸引する吸引機構を含む。
Further, the scratch needle mechanism includes a suction mechanism for suctioning remaining residue after removing the rib.

【0015】さらに、スクラッチ針機構を上下方向に移
動可能な駆動機構を含み、駆動機構でスクラッチ針機構
を多段で下方向に移動させてリブを除去する。
Further, a driving mechanism is provided which can move the scratch needle mechanism up and down, and the driving mechanism moves the scratch needle mechanism downward in multiple stages to remove ribs.

【0016】さらに、レーザ照射機構でリブの除去すべ
き幅の両端にレーザ光を照射して切り込みを形成し、ス
クラッチ針機構で切り込みの形成した内側のリブ材を除
去する。
Further, a laser beam is applied to both ends of the width of the rib to be removed by the laser irradiation mechanism to form a cut, and the inside rib material having the cut is removed by the scratch needle mechanism.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】図1はこの発明の一実施形態の外
観図である。図1において、観察光学系部1はCCDカ
メラなどを内蔵しており、PDPのリブ欠陥を撮像す
る。カット用レーザ部2はリブ欠陥の幅を広げるための
レーザ光を照射する。ペースト塗布機構3は塗布針にペ
ーストを付着させ、リブ欠陥に接触してペーストを欠陥
部分に塗布する。スキージ機構4はペースト塗布機構3
で塗布したペーストのうちはみ出した部分を平坦となる
ようにならす作用をする。スクラッチ機構5はスクラッ
チ針によりリブを除去するものであり、除去したカスを
取るための吸引機構が設けられている。IR(赤外線)
光源6は塗布したペーストを乾燥させる。
FIG. 1 is an external view of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, an observation optical system unit 1 has a built-in CCD camera or the like and images a rib defect of a PDP. The cutting laser unit 2 irradiates a laser beam for expanding the width of the rib defect. The paste application mechanism 3 applies the paste to the application needle, and applies the paste to the defective portion in contact with the rib defect. The squeegee mechanism 4 is a paste application mechanism 3
This has the effect of smoothing out the protruding part of the paste applied in the above. The scratch mechanism 5 removes ribs with a scratch needle, and is provided with a suction mechanism for removing the removed scum. IR (infrared)
The light source 6 dries the applied paste.

【0018】画像処理機構7は観察光学系部1で撮像さ
れた画像信号に基づいて欠陥を認識するための画像処理
を行なう。ホストコンピュータ8は装置全体を制御し、
制御用コンピュータ9は装置機構部の動作を制御する。
その他に、修正すべきワークをXY方向に移動させるた
めのXYテーブル10と、XYテーブル10上でワーク
を保持するチャック台11と、観察光学系部1,カット
用レーザ部2,ペースト塗布機構3,スキージ機構4お
よびスクラッチ機構5を上下方向に駆動するZ軸テーブ
ル12と、観察光学系部1で撮像された画像を表示する
モニタ13とを含む。
The image processing mechanism 7 performs image processing for recognizing a defect based on an image signal picked up by the observation optical system 1. The host computer 8 controls the entire device,
The control computer 9 controls the operation of the device mechanism.
In addition, an XY table 10 for moving a workpiece to be corrected in the XY directions, a chuck table 11 for holding the workpiece on the XY table 10, an observation optical system unit 1, a cutting laser unit 2, a paste coating mechanism 3, , A Z-axis table 12 that drives the squeegee mechanism 4 and the scratch mechanism 5 in the vertical direction, and a monitor 13 that displays an image captured by the observation optical system 1.

【0019】図2はこの発明の一実施形態によりリブ欠
陥を修正する手順を示す図である。図2(a)に示すよ
うに、リブ欠陥が小さく、その幅が100μm以下で
は、図11で説明したようにペースト塗布機構9による
ペーストの塗布では満足する結果が得られない。そこ
で、図2(b)に示すように、ペーストを塗布する前
に、リブ欠陥22の欠け幅を拡張し、その拡張部分に図
2(c)に示すようにペースト塗布機構3でペーストを
充填することにより、リブ欠陥22を修正する。このよ
うにリブ欠陥22を拡幅する方法には、以下に述べるよ
うにレーザでカットする方法とスクラッチ針で切欠く方
法がある。
FIG. 2 is a diagram showing a procedure for correcting a rib defect according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2A, if the rib defect is small and the width is 100 μm or less, satisfactory results cannot be obtained by applying the paste by the paste applying mechanism 9 as described with reference to FIG. Therefore, as shown in FIG. 2 (b), before applying the paste, the chip width of the rib defect 22 is expanded, and the expanded portion is filled with the paste by the paste application mechanism 3 as shown in FIG. 2 (c). By doing so, the rib defect 22 is corrected. As described above, the method of widening the rib defect 22 includes a method of cutting with a laser and a method of notching with a scratch needle as described below.

【0020】図3はカット用レーザ部2を用いてリブ欠
陥を拡幅する方法を示す図である。図3において、カッ
ト用レーザ部2に用いられるレーザ光源としてはYAG
の第2高調波(波長:532nm)の高周波発振タイプ
(発振周波数:1000Hz)が用いられる。レーザ光
の照射方法は、たとえば特開2000−42764号公
報に記載された方法を用いることができる。それ以外に
も、レーザ光源としては、YAGの第2高調波ジャイア
ントパルスタイプのレーザ光でもカットすることが可能
である。さらに、YAG基本波でもカット可能である
が、基本波は赤外光であるため、リブ材質の熱による変
色が大きいのであまり好ましくない。
FIG. 3 is a diagram showing a method of widening a rib defect using the cutting laser unit 2. In FIG. 3, a laser light source used for the cutting laser unit 2 is YAG.
The second harmonic (wavelength: 532 nm) high-frequency oscillation type (oscillation frequency: 1000 Hz) is used. As a method for irradiating a laser beam, for example, a method described in JP-A-2000-42764 can be used. In addition, as a laser light source, a laser beam of the second harmonic giant pulse type of YAG can be cut. Further, although the YAG fundamental wave can be cut, it is not preferable because the fundamental wave is infrared light and the discoloration of the rib material due to heat is large.

【0021】図3(a)に示すように、カットするリブ
の頂上に観察光学系部1による画像フォーカスを一致さ
せ、その部分にカット用レーザ部2からレーザ光を照射
し、図3(b)に示すようにリブ21を高さの半分程度
の位置までカットが行なわれる。次いで、図3(c)に
示すように半分程度にカットしたリブ21の頂上にフォ
ーカスを合わせ、図3(d)に示すようにリブ21を最
後までカットする。
As shown in FIG. 3A, the image focus by the observation optical system unit 1 is made coincident with the top of the rib to be cut, and the portion is irradiated with laser light from the cutting laser unit 2, and FIG. As shown in ()), the rib 21 is cut to a position of about half the height. Next, as shown in FIG. 3C, the top of the rib 21 cut to about half is focused, and as shown in FIG. 3D, the rib 21 is cut to the end.

【0022】リブ21は従来の電極カットと異なり、高
さが150μm程度と高いため、リブ21の頂上にフォ
ーカスを合わせた状態で下(ガラス基板1)まで完全に
リブ21をカットするのは難しく、またカットに時間が
かかってしまう。これはリブ21の下方にいくに従って
フォーカスがずれてレーザのエネルギ密度が低下するた
めである。そこで、図3に示した方法では、フォーカス
合わせを2段階で行なうことにより、上述の問題を低減
する。
Since the height of the rib 21 is as large as about 150 μm, unlike the conventional electrode cut, it is difficult to completely cut the rib 21 down to the bottom (glass substrate 1) while focusing on the top of the rib 21. In addition, it takes time to cut. This is because the focus shifts toward the lower side of the rib 21 and the energy density of the laser decreases. Therefore, in the method shown in FIG. 3, the above-described problem is reduced by performing focus adjustment in two stages.

【0023】図3に示した例では2段階でレーザによっ
てリブ21のカットを行なっているが、3段階,4段階
とさらに多段にすることにより、カット時におけるレー
ザのエネルギ密度低下を防ぐことができるが、その分フ
ォーカス移動回数が多くなるため、フォーカス移動に時
間がかかってしまうことになる。
In the example shown in FIG. 3, the cutting of the ribs 21 is performed by laser in two stages. However, by increasing the number of stages to three or four, it is possible to prevent a reduction in the energy density of the laser during cutting. Although it is possible, the number of times of focus movement increases accordingly, so that the focus movement takes time.

【0024】最適なフォーカス移動回数は、リブ21の
高さ,レーザパワーによって変化するため、カット対象
によって適宜その最適回数でカットするのが望ましい。
なお、レーザ光によるリブ21のカットは、カット対象
となるリブ21が焼成後でも乾燥後でも可能である。
Since the optimum number of times of focus movement changes depending on the height of the rib 21 and the laser power, it is desirable to perform cutting with the optimum number of times as appropriate for the object to be cut.
The cutting of the rib 21 by the laser beam can be performed even after the firing of the rib 21 to be cut or after the drying.

【0025】図4はスクラッチ針を用いてリブ欠陥22
を拡幅する方法を示す図である。この方法は、図3に示
したレーザ光によるカットと異なり、基本的には乾燥後
のリブ21にしか適用することができない。図4(a)
に示すように、スクラッチ針51をリブ21と直交する
方向に移動させ、リブ欠陥22近傍のリブ21を削り取
ることにより除去する。このとき、スクラッチ針51を
リブ21に対して高さ方向にあまり深く入れすぎると、
リブ21が大きく欠けてしまうことになるため、注意を
要する。この方法をスクラッチ針51の高さを変えなが
ら繰返し行なうことにより、リブ21を除去することが
可能となる。この方法は、繰返し行なう必要があるが、
1回の除去量が多いため、レーザ光でカットするよりは
短時間でリブ21を除去することが可能となる。
FIG. 4 shows a rib defect 22 using a scratch needle.
FIG. 4 is a diagram showing a method of widening the width of the image. This method is basically different from the laser beam cutting shown in FIG. 3 and can be basically applied only to the dried rib 21. FIG. 4 (a)
As shown in (1), the scratch needle 51 is moved in a direction perpendicular to the rib 21 and the rib 21 near the rib defect 22 is removed by scraping. At this time, if the scratch needle 51 is inserted too deep in the height direction with respect to the rib 21,
Care must be taken because the ribs 21 are largely chipped. By repeating this method while changing the height of the scratch needle 51, the rib 21 can be removed. This method needs to be repeated,
Since the amount of removal at one time is large, it is possible to remove the rib 21 in a shorter time than cutting with a laser beam.

【0026】図5はレーザ光とスクラッチ針とによって
リブ欠陥を拡幅する方法を示す図である。まず、図5
(a)に示すように、リブ21の除去したい幅の両端部
に対物レンズ25を介してレーザ光を照射し、スリット
状の切込みをリブ21の底まで入れる。その結果、図5
(b)に示すように、レーザ光によりリブ21にスリッ
ト23が形成される。次に、図5(c)に示すように、
スクラッチ針51をリブ21と直交方向に移動させるこ
とにより、図5(d)に示すようにスリット加工した内
側のリブを除去する。この方法の場合、スクラッチ針5
1による除去回数が少なくてよいため、大きい幅のリブ
21を短時間で除去することが可能となる。また、この
方法は乾燥後のリブだけでなく、焼成後のリブにも用い
ることができる。
FIG. 5 is a diagram showing a method of widening a rib defect by using a laser beam and a scratch needle. First, FIG.
As shown in (a), laser light is applied to both ends of the width of the rib 21 to be removed through the objective lens 25, and a slit-like cut is made to the bottom of the rib 21. As a result, FIG.
As shown in (b), a slit 23 is formed in the rib 21 by the laser beam. Next, as shown in FIG.
By moving the scratch needle 51 in a direction perpendicular to the rib 21, the inner rib which has been slit as shown in FIG. 5D is removed. In this method, the scratch needle 5
Since the number of removals by 1 may be small, the ribs 21 having a large width can be removed in a short time. This method can be used not only for ribs after drying but also for ribs after firing.

【0027】図6は乾燥後の電極を修正する方法を示す
図である。図6(a)において、ガラス基板31上にI
TO電極32が形成されており、このITO電極32の
上に乾燥後電極33が形成されている。乾燥後電極33
上に異物欠陥34が生じていて、この異物欠陥34を除
去する場合にもこの発明を適用できる。すなわち、異物
欠陥34を挟むようにして、乾燥後銀電極33に対物レ
ンズ25を介してレーザ光を照射し、スリット状に切込
みを形成する。そして、図6(b)に示すように、切込
みを形成した内側をスクラッチ針51で除去する。この
ように、レーザ光でスリット状に切込みを入れてやるこ
とにより、スクラッチ針51で除去したときの除去形状
を安定させることができる。
FIG. 6 is a diagram showing a method of correcting the electrode after drying. In FIG. 6A, the I
A TO electrode 32 is formed, and an electrode 33 after drying is formed on the ITO electrode 32. Electrode 33 after drying
The present invention can also be applied to a case where a foreign matter defect 34 is generated on the upper side and the foreign matter defect 34 is removed. That is, the dried silver electrode 33 is irradiated with laser light via the objective lens 25 so as to sandwich the foreign matter defect 34, thereby forming a slit-like cut. Then, as shown in FIG. 6B, the inside of the cut is removed with a scratch needle 51. In this manner, by forming a slit in the slit shape with the laser light, the removal shape when the laser beam is removed by the scratch needle 51 can be stabilized.

【0028】図7はレーザ光による切込みなしの場合の
除去例を示す。この場合、スクラッチ針51による除去
形状が安定せず、必要な部分まで除去してしまう可能性
がある。
FIG. 7 shows an example of removal when there is no cut by a laser beam. In this case, the shape removed by the scratch needle 51 is not stable, and there is a possibility that a necessary portion is removed.

【0029】これに対して、図6(c)に示すように、
この実施形態では、下層のITO電極32へのダメージ
はレーザ光でスリット状にカットした部分のみとなるた
め、ダメージを極力抑えることができる。
On the other hand, as shown in FIG.
In this embodiment, the damage to the lower ITO electrode 32 is limited to the portion cut into a slit shape by the laser beam, so that the damage can be minimized.

【0030】図8は銀電極のすべてをレーザ光でカット
した場合の下層のITO電極32へのダメージ状態36
を示している。
FIG. 8 shows a damage state 36 on the lower ITO electrode 32 when all of the silver electrodes are cut by laser light.
Is shown.

【0031】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、リブ
欠け欠陥修正において、リブ欠け幅を広げた後ペースト
を塗布して修正するようにしたので、従来では欠け幅が
100μm以下の欠陥については修正が困難となってい
たのに対して、この発明により100μm以下の欠陥も
修正が可能となる。
As described above, according to the present invention, in repairing a rib chipping defect, the rib chipping width is widened and then the paste is applied to correct the chipping defect. Has been difficult to correct, but the present invention can correct defects of 100 μm or less.

【0033】また、レーザ光によるリブ欠陥幅の拡幅に
おいて、上下方向に多段に移動させて行なうことによ
り、短時間で効率的なリブ欠陥の除去が可能となる。
Further, when the width of the rib defect is increased by the laser beam, the rib defect is moved in multiple stages in the vertical direction, so that the rib defect can be efficiently removed in a short time.

【0034】また、リブ欠陥幅の拡幅に針を用いること
により短時間での拡幅が可能となる。
Further, by using a needle for widening the rib defect width, the width can be widened in a short time.

【0035】さらに、リブ欠陥幅の拡幅に、レーザ光と
針を併用することにより、除去幅が大きい場合でも短時
間で除去が可能となる。そして、リブの焼成後あるいは
乾燥後を問わず実施することが可能となる。
Further, by using a laser beam and a needle together to widen the rib defect width, even when the removal width is large, the removal can be performed in a short time. Then, it can be carried out regardless of whether the rib is fired or dried.

【0036】さらに、除去したカスを吸引するための機
構を、リブを除去するスクラッチ針機構に付加すること
により、修正後も修正箇所を清浄に保つことが可能とな
る。
Further, by adding a mechanism for sucking the removed scum to the scratch needle mechanism for removing the rib, it is possible to keep the corrected portion clean after the correction.

【0037】さらに、レーザ光と針による除去方法を乾
燥後銀電極に用いることにより、銀電極の下層のITO
電極のダメージの少ない銀電極欠陥除去が可能となる。
Further, the removal method using a laser beam and a needle is used for the silver electrode after drying, so that the ITO under the silver electrode can be removed.
It is possible to remove silver electrode defects with little electrode damage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の一実施形態の外観図である。FIG. 1 is an external view of an embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の一実施形態の欠陥修正方法を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing a defect repair method according to an embodiment of the present invention.

【図3】 レーザ光を用いてリブ欠陥を除去する方法を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a method of removing a rib defect using a laser beam.

【図4】 スクラッチ針を用いてリブ欠陥を除去する方
法を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a method of removing a rib defect using a scratch needle.

【図5】 レーザ光とスクラッチ針とを用いてリブ欠陥
を除去する方法を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a method of removing a rib defect using a laser beam and a scratch needle.

【図6】 銀電極の異物欠陥を除去する方法を示す図で
ある。
FIG. 6 is a view showing a method of removing a foreign matter defect of a silver electrode.

【図7】 レーザ光を用いることなく異物欠陥を除去し
た場合の電極を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an electrode when a foreign matter defect is removed without using a laser beam.

【図8】 銀電極すべてをレーザ光でカットした場合の
ITO電極へのダメージ状態を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a state of damage to an ITO electrode when all silver electrodes are cut by laser light.

【図9】 PDPのリブ欠陥を示す図である。FIG. 9 is a view showing rib defects of a PDP.

【図10】 従来のリブ欠陥修正方法を説明するための
図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining a conventional rib defect repair method.

【図11】 リブ欠陥にペーストを除去する従来の方法
を示す図である。
FIG. 11 is a view showing a conventional method of removing a paste for a rib defect.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 観察光学系部、2 カット用レーザ部、3 ペース
ト塗布機構、4 スキージ機構、5 スクラッチ機構、
6 IR光源、7 画像処理機構、8 ホストコンピュ
ータ、9 制御用コンピュータ、10 XYテーブル、
11 チャック台、12 Z軸テーブル、13 モニ
タ。
1 observation optical system section, 2 laser section for cutting, 3 paste application mechanism, 4 squeegee mechanism, 5 scratch mechanism,
6 IR light source, 7 image processing mechanism, 8 host computer, 9 control computer, 10 XY table,
11 chuck base, 12 Z-axis table, 13 monitors.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F040 AA12 AA32 AB20 CA03 DB02 DB07 5C012 AA09 5C040 FA01 FA02 GF19 JA26 MA23 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F040 AA12 AA32 AB20 CA03 DB02 DB07 5C012 AA09 5C040 FA01 FA02 GF19 JA26 MA23

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フラットディスプレィの構造要素である
リブの形成された基板を水平方向に移動させるテーブル
と、 前記基板のリブが欠如している欠陥部に修正部材を塗布
する塗布手段と、 前記塗布された修正部材を焼成あるいは欠陥部を削除す
るためのレーザ光を照射するレーザ照射機構と、 前記リブを除去するためのスクラッチ針機構とを備えた
ものにおいて、 前記リブの欠け幅を広げた後、前記修正部材を塗布する
ことを特徴とする、パターン修正方法。
1. A table for horizontally moving a substrate on which ribs, which are structural elements of a flat display, are formed; coating means for coating a correction member on a defective portion of the substrate where ribs are missing; A laser irradiation mechanism for irradiating a laser beam for firing the repaired member or removing a defective portion, and a scratch needle mechanism for removing the rib, after increasing a notch width of the rib. Applying a correction member to the pattern.
【請求項2】 フラットディスプレィの構造要素である
リブの形成された基板を水平方向に移動させるテーブル
と、 前記基板のリブが欠如している欠陥部に修正部材を塗布
する塗布手段と、 前記塗布された修正部材を焼成あるいは欠陥部を削除す
るためのレーザ光を照射するレーザ照射機構と、 前記リブを除去するためのスクラッチ針機構とを備えた
パターン修正装置において、 前記レーザ照射機構および前記スクラッチ針機構の少な
くともいずれか一方を用いて前記リブの欠け幅を広げた
後、前記塗布手段により修正部材を塗布することを特徴
とする、パターン修正装置。
2. A table for horizontally moving a substrate on which ribs, which are structural elements of a flat display, are formed; coating means for coating a correction member on a defective portion of the substrate where ribs are missing; A laser irradiation mechanism for irradiating a laser beam for baking the repaired member or removing a defective portion, and a scratch needle mechanism for removing the rib, wherein the laser irradiation mechanism and the scratch are provided. A pattern correcting device, characterized in that after increasing the notch width of the rib using at least one of the needle mechanisms, a correction member is applied by the application means.
【請求項3】 前記レーザ照射機構は、連続発振で波長
が第2高調波を発振するYAGレーザ光源を含むことを
特徴とする、請求項2に記載のパターン修正装置。
3. The pattern correction apparatus according to claim 2, wherein the laser irradiation mechanism includes a YAG laser light source that oscillates a second harmonic with continuous oscillation.
【請求項4】 前記レーザ照射機構は、ジャイアントパ
ルス発振で波長が第2高調波を発振するYAGレーザ光
源を含むことを特徴とする、請求項2に記載のパターン
修正装置。
4. The pattern correction apparatus according to claim 2, wherein the laser irradiation mechanism includes a YAG laser light source that oscillates a second harmonic with giant pulse oscillation.
【請求項5】 前記レーザ照射機構はYLFレーザ光源
を含むことを特徴とする、請求項2または3に記載のパ
ターン修正装置。
5. The pattern correction device according to claim 2, wherein the laser irradiation mechanism includes a YLF laser light source.
【請求項6】 さらに、前記レーザ照射機構を上下方向
に移動可能な駆動機構を含み、 前記駆動機構で前記レーザ照射機構を多段で下方向に移
動させて前記リブを除去することを特徴とする、請求項
3から5のいずれかに記載のパターン修正装置。
6. A driving mechanism capable of moving the laser irradiation mechanism in a vertical direction, wherein the driving mechanism moves the laser irradiation mechanism downward in multiple stages to remove the rib. The pattern correcting apparatus according to claim 3.
【請求項7】 前記スクラッチ針機構は、前記リブを除
去した残りカスを吸引する吸引機構を含むことを特徴と
する、請求項2に記載のパターン修正装置。
7. The pattern correction device according to claim 2, wherein the scratch needle mechanism includes a suction mechanism for sucking remaining residue from which the rib has been removed.
【請求項8】 さらに、前記スクラッチ針機構を上下方
向に移動可能な駆動機構を含み、 前記駆動機構で前記スクラッチ針機構を多段で下方向に
移動させて前記リブを除去することを特徴とする、請求
項1,2または7に記載のパターン修正装置。
8. The apparatus according to claim 8, further comprising a driving mechanism capable of vertically moving the scratch needle mechanism, wherein the driving mechanism moves the scratch needle mechanism downward in multiple stages to remove the rib. The pattern correcting apparatus according to claim 1, 2, or 7.
【請求項9】 前記レーザ照射機構で前記リブの除去す
べき幅の両端にレーザ光を照射して切り込みを形成し、 前記スクラッチ針機構で前記切り込みの形成した内側の
リブ材を除去することを特徴とする、請求項2に記載の
パターン修正装置。
9. The laser irradiation mechanism irradiates a laser beam to both ends of the width of the rib to be removed to form a cut, and the scratch needle mechanism removes the rib material inside the cut. The pattern correction apparatus according to claim 2, wherein the pattern correction apparatus is characterized in that:
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JP2010211227A (en) * 2010-04-27 2010-09-24 Dainippon Printing Co Ltd Manufacturing method for color filter and defect removing apparatus for color filter
CN102346318A (en) * 2010-07-23 2012-02-08 三星电子株式会社 Liquid crystal display panel repairing device and method thereof

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