JP2002040274A - 電気/光配線基板、及び電子装置 - Google Patents
電気/光配線基板、及び電子装置Info
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Abstract
て容易で、電気・光素子の自動実装が容易な電気/光配
線基板の提供。 【解決手段】電気素子及び光素子9が実装される配線基
板であり、前記光素子を光学的に接続する光配線2が埋
設された配線基板と、前記配線基板の表面及び内部の何
れ間又は両方に形成されてなり、前記電気素子を電気的
に接続する電気配線11とを備える電気/光配線基板。
Description
及び電子装置に関し、特に、各種素子を実装する際の光
学的位置合わせが極めて容易であり、電気・光素子の自
動実装が容易に行なえる電気/光配線基板、及び前記電
気/光配線基板を用いた電子装置に関する。
例えば配線回路が形成された複数の回路基板を積層し、
プレスした後、スルーホールによって、各内層回路間を
接続する多層構造のものが使用されてきた。
層回路間にスルーホールを形成するため、配線回路の高
密度化がスルーホールにより制限されることから、ビル
ドアップ多層配線基板の開発が活発に進められてきた。
前記ビルドアップ多層配線基板としては、特公平4−5
5555号公報や、塚田他「ビルドアップ配線板におけ
る材料技術と製造プロセス」(技術情報協会)等に記載
されているように、コア基板上面(または上下面)に絶
縁層と導体層とを交互に積み上げ、絶縁層にヴィア・ホ
ールを設け、前記ヴィア・ホールを介して内層回路間の
導通をとる方式を採用したものが一般的であった。
配線基板及びビルドアップ多層配線基板などにおいて
は、電気配線における配線間容量や配線抵抗に起因する
信号遅延が、信号伝送の高速化に対してボトルネックに
なりつつある。
ックを解消する配線基板として、例えば、フィルム状の
ベース上に光導波路と電気配線を形成したフラットケー
ブルを用いて電気・光素子または前記・光配線基板間を
接続する電気・光配線回路モジュールが特開平6−22
2230号公報において提案されている。
を構成するのに別途フィルム状のフラットケーブルを用
いるため、電気・光素子との光学的な位置合わせが難し
く、また、プリント基板に電気・光素子を搭載後に、フ
ィルム状のフラットケーブルを自動実装することが困難
であるという問題があった。
わせが極めて容易であり、また、電気・光素子の自動実
装が容易に行なえる電気/光配線基板を提供することを
目的とする。
は、電気素子及び光素子を実装する電気/光配線基板に
おいて、前記光素子が光学的に接続される光配線が埋設
されてなる配線基板と、前記配線基板の表面及び内部の
何れか又は両方に形成されてなり、前記電気素子を互い
に電気的に接続する電気配線とを備えてなることを特徴
とする電気/光配線基板である。
光素子、及びIC,LSI等の電気素子を実装すると、
前記光素子は、前記配線基板に埋設された光配線によっ
て光学的に接続され、前記電気素子は、前記電気配線に
より電気的に接続される。
基板と同様に剛直であるから、前記電気素子及び光素子
の光学的位置決め及び自動実装が容易に行なえる。
素子が実装される電気/光配線基板において、コア基板
と、前記コア基板の少なくとも一方の面において、電気
素子を互いに電気的に接続する電気配線を形成する導体
層、及び前記導体層間を絶縁する絶縁層を少なくとも1
層交互に積層して形成したビルドアップ層とを備えてな
り、前記コア基板及びビルドアップ層の何れか又は両方
に、前記光素子を光学的に接続する光配線が埋設されて
なることを特徴とする電気/光配線基板である。
子を実装すると、前記電気素子は、ビルドアップ層にお
ける導体層において電気的に接続され、前記光素子は、
前記コア基板及びビルドアップ層の何れか又は両方に配
設された光配線によって光学的に接続される。
線が、前記ビルドアップ層中に層状に形成されているか
ら、電気配線を三次元状に形成できる。又、例えば前記
ビルドアップ層中に光配線を2層以上設けることもでき
る。
光信号をそれぞれの宛先に並列に伝送する光バス型配線
である電気/光配線基板である。
された光配線によって、複数の光信号を、異なる宛先
に、並列に伝送できるから、パーソナルコンピュータ等
におけるマザーボード及びドーターボード用として好適
である。
線が形成された光配線部材の厚さとがほぼ同程度である
電気/光配線基板である。
から、光配線部材が突出したり凹陥したりすることがな
いから、電気素子及び光素子の自動実装が特に容易であ
る。
ップ層の一部と、前記光配線が形成された光配線部材の
厚さとがほぼ同程度である電気/光配線基板である。
の電気/光配線基板と同様の特長を有している。
1項に記載の電気/光配線基板と、前記電気/光配線基
板に搭載され、相互に電気的又は光学的に接続されてな
る電気素子及び光素子とからなる電子装置である。
の授受は、電気信号以外に光信号によっても行なえるか
ら、大容量の信号の授受が可能である。
ルドアップ多層配線基板を図1に示す。図1において
(a)は、前記電気/光ビルドアップ多層配線基板を長
手方向に沿って切断した断面を示し、(b)は、前記電
気/光ビルドアップ多層配線基板におけるコア基板1と
光配線部材2との関係を示す。
ップ多層配線基板は、光配線部材2が嵌装される開口部
である光配線部材装入部6が略中央部に形成されたコア
基板1と、光配線部材装入部6に嵌装され、言い替えれ
ばコア基板1に埋設された光配線部材2とを有する。
多層配線基板に剛直性と一定の形状とを付与する機能を
有する。したがって、コア基板1としては、電気絶縁性
であると同時に、高い剛直性を有する板状又はシート状
の部材が好ましい。このようなコア基板としては、エポ
キシ基板、フェノール樹脂基板、及びセラミックス基板
等がある。
号を透過する透光性材料で形成された略長方形の平面形
状を有する長尺板状の部材であり、光配線が形成され、
光信号が進行する平板状の透光性媒体21と、透光性媒
体21の一端部に形成された反射部22とを有する。こ
こで、光配線は、光信号を伝送する経路とも言い替えら
れる。光配線部材2は、本発明に係る電気/光配線基板
におけるバス型光配線が形成されたバス型配線部材の一
例である。尚、光配線部材2は、コア基板1とほぼ同一
の厚みを有することが好ましい。
メチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリ4−メ
チルペンテン−1やエチレン・プロピレン共重合体など
のアモルファスポリオレフィン、及び弗化ビニリデンや
テトラフルオロエチレンなどの弗素系樹脂のような透明
プラスチック材料、並びに石英、石英ガラス、弗化物系
ガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、燐酸ガラス、及び弗燐
酸ガラスなどの透明ガラス系材料等があげられる。
チック材料を射出成形したり、前記透明ガラス系材料の
板を研磨したりして形成することができる。
部22は、図2に示すように、透光性媒体21内に入射
した光信号を反射すると同時に拡散させる機能を有す
る。反射部22は、前記他端面を研磨加工するか、又は
前記他端面を研磨し、更に入射光を反射・拡散させるホ
ログラム面を形成するかすることにより形成できる。前
記他端面にホログラム面を形成する方法としては、前記
他端面に直接ホログラム面を形成する方法のほか、透明
板の一方の面にホログラム面を形成した透過型ビーム整
形ディフューザ、又は透過型ビーム整形ディフューザに
おけるホログラム面に更に反射面を形成した反射型ビー
ム整形ディフューザを、前記ホログラム面を形成してい
ない側の面において前記他端面に貼り合わせる方法など
が挙げられる。
ように、階段状の段差23が長手方向に沿って3つ形成
されている。そして、透光性媒体21の他端面と、前記
段差23における前記他端面側の面とは、透光性媒体2
1の上面、即ち光信号が入射する側の面に対して45°
の角度を成すように形成され、4つの入出射部24が形
成されている。入出射部24には、図2に示すように、
何れも、透光性媒体21の図2における上面に対して垂
直に光信号が入射及び出射する。以下、前記4つの入出
射部24を、透光性媒体21の前記他端面から反射部2
2に向かう方向に沿って、入出射部241、242、2
43、及び244ということがある。
部に入射した光信号が、どのようにして他の入出射部2
4に伝送されるかにつき、光信号が入出射部241に入
射した場合を例にとって説明する。
Sが入出射部241に入射すると、光信号Sは、入出射
部241において、入射方向に対して直角の方向に全反
射し、透光性媒体21の内部を反射部22に向かって進
行する。
おける(b)において点線で示すように、反射部22に
おいて、入射方向とは反対の方向に反射されると同時
に、透光性媒体21内部全体に拡散される。反射部22
において反射・拡散された光信号Sは、透光性媒体21
内部を入出射部24に向かって水平に進み、入出射部2
42〜244において、前記進行方向に対して90°の
方向に反射され、図2においてS’で示すように、透光
性媒体21の上面から、前記上面に対して直角の方向に
出射される。入出射部242〜244から出射した光信
号の強度は、何れもほぼ同一である。入出射部242〜
244の何れかから光信号が入射した場合も、同様に、
残りの3つの光入出射部から、ほぼ同一の強さの光信号
が出射する。
は、図1に示すように、ビルドアップ層3が、それぞれ
2層づつ形成されている。以下において、前記ビルドア
ップ層のうち、外側に位置するものを「外側ビルドアッ
プ層3a」といい、コア基板1に近い側に位置するもの
を「内側ビルドアップ層3b」ということがある。
間、外側ビルドアップ層3aとビルドアップ層3bとの
間、及び外側ビルドアップ層3aの表面には、薄膜状の
電気配線11が形成されている。電気配線11は、銅、
金、銀、及びアルミニウムなどの高導電性金属、並びに
前記高導電性金属の合金などにより形成することができ
る。電気配線11は、コア基板11、内側ビルドアップ
層3b、及び外側ビルドアップ層3aの表面に、前記高
導電性金属の箔を貼り合わせるか、又は前記高導電性金
属をメッキする等して前記高導電性金属の薄膜を形成
し、前記薄膜の不要な部分をエッチング法によって除去
して回路パターンを形成するなどの方法により形成でき
る。
2の光信号を出射すべき面に設けられたビルドアップ層
3には、図1において(b)に示すように、光配線部材
2における入出射部241〜244のそれぞれに対応し
てヴィア・ホール4即ち開口部が4個形成されている。
は、入出射部24に光信号を送出する発光素子7と、入
出射部24から出射された信号光を受光する受光素子8
とが嵌装されている。発光素子7と受光素子8とは、光
モジュール9に搭載され、光モジュール9は、半田バン
プ10等を介して外側ビルドアップ層3aの表面に形成
された電気配線11の1つに接続されている。
基板の製造手順の一例を図3に示す。
mのエポキシ基板に、ドリル等により、光配線部材装入
部6及びスルーホール部5を開口し、コア基板1を形成
し(図3における(a)及び(b))、光配線部材装入
部6に光配線部材2を嵌装する (図3における
(c)) 。次に、光配線部材2が嵌装されたコア基板
1の表面に高導電性金属をメッキするか、前記高導電性
金属の箔を貼り合わせるかして前記高導電性金属の薄膜
を形成し、エッチング等により、前記薄膜における回路
パターン以外の不要な部分を除去して電気配線11を形
成し、更に、スルーホール5の内壁面に前記高導電性金
属をメッキしてメッキスルーホール12を形成する(図
3における(d))。表面に電気配線11及びメッキス
ルーホール12を形成したコア基板1及び表面に電気配
線11を形成した光配線部材2の表面に、エポキシ系樹
脂、アクリル系樹脂、ポリイミド等の液状感光性樹脂を
塗布して硬化させ、内側ビルドアップ層3bを形成す
る。このとき、スルーホール部5、及びコア基板1の光
配線部材装入部6に光配線部材2を嵌装して形成された
凹陥部等は、前記液状感光性樹脂で十分に充填すること
が好ましい(図3における(e)) 。コア基板1及び
光配線部材2の表面に内側ビルドアップ層3bが形成さ
れたら、露光又はエッチング等の適宜の方法により、ヴ
ィア・ホール4’を形成する(図3における(f))
。ヴィア・ホール4’を形成した内側ビルドアップ層
3bの表面に、更に、電気配線11を形成する(図3に
おける(g)) 。図3における(e)〜(g)の工程
を繰り返して、内側ビルドアップ層3bの表面に外側ビ
ルドアップ層3a及び電気配線11を形成し、ヴィア・
ホール4を形成する(図3における(h)及び
(i))。
7と受光素子8とをヴィア・ホール4に嵌装し、光モジ
ュール9を、半田バンプ10を介して電気配線11に接
続することにより、図1に示す電気/光ビルドアップ多
層配線基板が得られる。
多層配線基板におけるコア基板は剛直な板状乃至シート
状であるから、前記電気/光ビルドアップ多層配線基板
も剛直である。したがって、前記電気/光ビルドアップ
多層配線基板上の電気配線11及びヴィア・ホール4
と、IC、LSI、抵抗器、コイル、及びコンデンサ等
の電気素子、及び光モジュール、光IC、各種受発光素
子等の光素子とを光学的に位置合わせすることが極めて
容易である。又、前記電気素子、及び光素子の自動実装
も容易である。
ビルドアップ多層配線基板を図4に示す。図4において
(a)は、前記電気/光ビルドアップ多層配線基板を長
手方向に沿って切断した断面を示し、(b)は、前記電
気/光ビルドアップ多層配線基板におけるコア基板1と
後述する光配線部材20との関係を示す。図4におい
て、図1〜図3と同一の符号は、前記符号が図1〜図3
において示す構成要素と同一の構成要素を示す。
気/光ビルドアップ多層配線基板は、両端に入出射部2
02が形成された光配線部材20が埋設されたコア基板
1と、コア基板1の両面に形成されたビルドアップ層3
と、光配線部材20における入出射部202の一方に光
信号を出射する発光素子7と、光配線部材20における
入出射部202の他方から出射される光信号を受光する
受光素子8とを備える。
部材20のそれぞれの入出射部202に対応する位置
に、ヴィア・ホール40及び42が開口している。ヴィ
ア・ホール40には、発光素子7が収容され、ヴィア・
ホール42には、受光素子8が収容されている。発光素
子7は、光モジュール92に搭載され、受光素子8は、
光モジュール94に搭載されている。光モジュール92
及び94は、何れも半田バンプ10により、前記一方の
ビルドアップ層3における外側の外側ビルドアップ層3
aの表面に形成された電気配線11に電気的に接続され
ている。
図5における(a)及び(b)に示す。
信号を透過する透光性材料で形成され、長方形の断面形
状を有する角棒状又は板状の透光性媒体201と、透光
性媒体201の両端において、上方に向かって間隔が広
がるように形成された1対の平面である入出射部202
(202a及び202b)とを備える。入出射部202
は、何れも透光性媒体201の上面又は下面に対して4
5°の角度を成している。
及び図5における(a)に示すように、直線状であって
もよく、また、図4における(b)及び図5における
(b)に示すように、クランク状に屈曲していてもよ
い。
光ビルドアップ多層配線基板は、図1に示す電気/光ビ
ルドアップ多層配線基板と同一の構成を有している。
おいて、発光素子7から、光配線部材20における一方
の入出射部202aに入射した光信号は、前記入出射部
202において、光路が90°屈曲し、透光性媒体20
1の内部を、反対側の入出射部202bに向かって進行
する。そして、前記光信号は、入出射部202bにおい
て、光路が90°上方に屈曲して光配線部材20の表面
から上方に向かって出射し、受光素子8において受光さ
れる。
素子7と受光素子8との間における光信号のポイント間
伝送を行なうことができる。
は、図1に示す電気/光ビルドアップ多層配線基板と同
様の手順に従って作製できる。
多層配線基板は、第1実施形態に係る電気/光ビルドア
ップ多層配線基板の特長を有し、更に、光配線部材20
は、バス型光配線部材である光配線部材2に比較して構
成が単純であるから、複雑な光配線を要しない場合にお
いては好ましい。
/光ビルドアップ多層配線基板を図6に示す。図6にお
いて、図1〜図3と同一の符号は、前記符号が図1〜図
3において示す構成要素と同一の構成要素を示す。
気/光ビルドアップ多層配線基板においては、図6にお
ける上側の面と下側の面とに、発光素子7と受光素子8
とが搭載された1対の光モジュール9が配置されてい
る。
備えるコア基板1に埋設された光配線部材26は、図6
に示すように、長手方向に沿って平行四辺形状の断面を
有している。光配線部材26は、透光性材料で形成され
た板状又は棒状の部材である透光性媒体261と、透光
性媒体261の両端に互いに平行に形成された1対の平
面である入出射部262a及び262bとを備える。入
出射部262a及び262bは、透光性媒体261の上
面及び下面に対して45°の角度を形成している。
おいては、図6に示すように、光配線部材26は、入出
射部262aが上方を向き、入出射部262bが下方を
向くようにコア基板1内に埋設されている。
262aにおいて入出射された光信号が通過するヴィア
・ホール44は、コア基板1の下面に積層されたビルド
アップ層3に穿設され、入出射部262bにおいて入出
射された光信号が通過するヴィア・ホール46は、コア
基板1の上面に積層されたビルドアップ層3に穿設され
ている。
素子7及び受光素子8は、ヴィア・ホール44及び46
に収容され、光モジュール9は、半田バンプ10を介し
てビルドアップ層3表面の電気配線に電気的に接続され
ている。
光ビルドアップ多層配線基板は、図1に示す電気/光ビ
ルドアップ多層配線基板と同一の構成を有している。
又、前記1対の光モジュール間においては、図4に示す
電気/光ビルドアップ多層配線基板と同様にして光信号
が授受される。
ルドアップ多層配線基板のうち、ビルドアップ層中に光
配線部材を埋設した電気/光ビルドアップ多層配線基板
の例を図7に示す。図7において、(a)は、前記電気
/光ビルドアップ多層配線基板において、光配線部材と
光信号を授受する発光素子と受光素子とを有する光モジ
ュールが載置された側に光配線部材を埋設した電気/光
ビルドアップ多層配線基板の例を示し、(b)は、前記
光モジュールが載置された側とは反対側に光配線部材を
埋設した電気/光ビルドアップ多層配線基板の例を示
す。図7において、図1〜3と同一の符号は、前記符号
が、図1〜図3において示す構成要素と同一の構成要素
を示す。
プ多層配線基板は、図7に示すように、エポキシ樹脂等
の剛直な絶縁性材料から形成された板状のコア基板1
と、コア基板1の両面に形成されたビルドアップ層3と
を備える。ビルドアップ層3は、コア基板1の近傍、即
ち内側に位置する内側ビルドアップ層3bと、外側に位
置する外側ビルドアップ層3aとから構成されている。
板1の図7における上面に位置するビルドアップ層3に
は、光モジュール9が実装されている。光モジュール9
は、発光素子7と受光素子8とを装着した面が下方を向
くように実装され、前記光モジュール9が実装されたビ
ルドアップ層3における外側ビルドアップ層3aの表面
に形成された電気配線11に、半田バンプ10を介して
電気的に接続されている。
2が嵌装される開口部である光配線部材装入部6が形成
され、光配線部材装入部6には、図2に示す光配線部材
2が装入されている。尚、内側ビルドアップ層3bを形
成した後に光配線部材装入部6を形成する代わりに、コ
ア基板1の上面又は下面に予め光配線部材2を載置し、
このコア基板1の両面に適宜の液状の光硬化性樹脂を塗
布し、露光して硬化させて内側ビルドアップ層3b中に
光配線部材2を埋設してもよい。
アップ多層配線基板においては、外側ビルドアップ層3
aにおける光配線部材2の入出射部24に対応する位置
にヴィア・ホール4aが開口し、ヴィア・ホール4a中
に、光モジュール9に装着された発光素子7と受光素子
8とが収容されている。
ビルドアップ多層配線基板においては、コア基板1の上
面に位置するビルドアップ層3及びコア基板1を貫通す
るヴィア・ホール4bが設けられている。
は、前述の諸点を除いて、構成、作用とも第1実施形態
に係る電気/光ビルドアップ多層配線基板と同様であ
る。
多層配線基板は、第1実施形態に係る電気/光ビルドア
ップ多層配線基板の有する特長に加え、コア基板1に光
配線部材装入部6を開口させる必要がないから、工作が
容易であるという特長を有する。特に、コア基板1に光
配線部材2を載置し、次いで内側ビルドアップ層3bを
形成することにより、内側ビルドアップ層3b中に光配
線部材2を埋設する方法を取れば、内側ビルドアップ層
3bに光配線部材装入部6を開口させる必要がないか
ら、電気/光ビルドアップ多層配線基板を能率よく作製
できる。
において、コア基板として多層基板を用いた例を図8に
示す。
ップ多層配線基板においては、コア基板25は、5層か
らなるエポキシ積層基板から構成されている。尚、コア
基板25における各層の間には、高導電性金属から形成
された薄膜状の電気配線が形成されている。前記電気配
線は、電気配線11と同様の手順に従って形成できる。
おいては、光配線部材2として、図2に示す光配線部材
が使用できる。
作製手順を図9に示す。図9に示す例においては、例え
ば厚さ1mmの層の5層からなるエポキシ積層基板が使
用される。尚、図9において(a)に示すように、前記
エポキシ積層基板における光配線部材装入部6が形成さ
れる部分には、配線パターンを形成しないことが好まし
い。
ポキシ積層基板にスルーホール部5を穿設し、スルーホ
ール部5の内壁面をメッキしてメッキスルーホール12
を形成する。
6を穿設する(図9における(b))し、光配線部材装
入部6に光配線部材2を装入する(図9における
(c))。
面に、図3に示す第1実施形態に係る電気/光ビルドア
ップ多層配線基板の作製手順についての説明で述べたの
と同様の液状感光性樹脂を塗布して硬化させ、コア基板
25内に光配線部材2を埋設すると同時に内側ビルドア
ップ層3bを形成し、露光又はエッチング等によりヴィ
ア・ホール4’を形成する(図9における(d)及び
(e))。そして、内側ビルドアップ層3bの表面に、
電気配線11をメッキ及びエッチング法により形成する
(図9における(f))。
と同様のプロセスを繰り返すことにより、外側ビルドア
ップ層3a及びヴィア・ホール4を形成し、外側ビルド
アップ層3aの表面に電気配線11を形成する(図9に
おける(g)及び(h))。
多層配線基板は、第1実施形態に係る電気/光ビルドア
ップ多層配線基板の有する特長に加えて、コア基板とし
て積層基板を使用することにより、更に配線密度を高く
できるという特徴を有している。
らなる積層基板の内の1層に光配線部材を嵌装した電気
/光配線基板の例を図10に示す。
電気/光配線基板は、ガラス繊維強化エポキシ樹脂から
形成された5層の積層基板30と、積層基板30の図1
0における最上層に嵌め込まれ、換言すれば埋設された
光配線部材2とを備える。
用いられる。尚、光配線部材2は、積層基板30におけ
る最上層の厚みとほぼ等しいことが好ましい。
び積層基板30における各層の間には、第1実施形態に
係る電気/光ビルドアップ多層配線基板のところで述べ
た高導電性金属の薄膜を、回路パターンを残してエッチ
ングして除去して形成した配線である電気配線11が形
成されている。
には、発光素子7及び受光素子8が搭載された光モジュ
ール9が載置されている。半田バンプ10等を介して電
気配線11と接続されている。積層基板30の間に配設さ
れた前記電気配線11は、具体的には、前記シート状体
の表面において、高導電性金属から形成された薄膜状の
回路パターンが挙げられる。
の一例を図11に示す。
等にエポキシ樹脂を含浸させ、半硬化させたプリプレグ
31(図11における(a)に示す。)を複数枚積層
し、圧着して硬化させ、ガラス繊維強化エポキシ基板3
2を作製する (図11における(b))。ガラス繊維
強化エポキシ基板32の厚さは、例えば0.3mm程度で
ある。ガラス繊維強化エポキシ基板32の両面に銅箔3
3を圧着し、前記銅箔を、回路パターンの部分を除いて
エッチングにより除去して電気配線11を形成する(図
11における(c)及び(d))。
維強化エポキシ基板32と、プレプリグ31とを交互に
積層し、圧着・硬化させて積層基板30を形成する(図
11における(e)及び(f))。尚、ガラス繊維強化
エポキシ基板32の1枚には、予め、光配線部材装入部
6を穿設し、例えば図2に示すような光配線部材2を装
入して埋設しておく。
成し、スルーホール5を銅等でメッキし、メッキスルー
ホール12を形成する(図11における(g)及び
(h))。
で、電気配線のボトルネックが解消され、信号伝送の高
速化が可能とであり、電気素子及び光素子との光学的な
位置合わせが容易であり、素子の自動実装が容易な電気
/光配線基板が提供される。
光ビルドアップ多層配線基板の構成を示す長手方向の断
面図及び上面図である。
層配線基板における光配線部材を示す斜視図である。
層配線基板における光配線部材の作製手順の一例を示す
工程図である。
光ビルドアップ多層配線基板の構成を示す長手方向の断
面図及び上面図である。
層配線基板における光配線部材を示す斜視図である。
光ビルドアップ多層配線基板の構成を示す長手方向の断
面図である。
光ビルドアップ多層配線基板の構成を示す長手方向の断
面図である。
光ビルドアップ多層配線基板の構成を示す長手方向の断
面図である。
層配線基板の作製手順の一例を示す工程図である。
気/光ビルドアップ多層配線基板の構成を示す長手方向
の断面図である。
ップ多層配線基板の作製手順の一例を示す工程図であ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 電気素子及び光素子を実装する電気/光
配線基板において、 前記光素子が光学的に接続される光配線が埋設されてな
る配線基板と、 前記配線基板の表面及び内部の何れか又は両方に形成さ
れてなり、前記電気素子を電気的に接続する電気配線と
を備えてなることを特徴とする電気/光配線基板。 - 【請求項2】 電気素子及び光素子が実装される電気/
光配線基板において、 コア基板と、 前記コア基板の少なくとも一方の面において、前記電気
素子を互いに電気的に接続する電気配線を形成する導体
層、及び前記導体層間を絶縁する絶縁層を少なくとも1
層交互に積層して形成したビルドアップ層とを備えてな
り、 前記コア基板及びビルドアップ層の何れか又は両方にお
いて、前記光素子を実装したときに前記光素子を光学的
に接続する光配線が埋設されてなることを特徴とする電
気/光配線基板。 - 【請求項3】 前記光配線が、複数の光信号をそれぞれ
の宛先に並列に伝送するバス型光配線である請求項1又
は2に記載の電気/光配線基板。 - 【請求項4】 配線基板と、前記光配線が形成された光
配線部材の厚さとがほぼ同程度である請求項1に記載の
電気/光配線基板。 - 【請求項5】 コア基板又はビルドアップ層の一部と、
前記光配線が形成された光配線部材の厚さとがほぼ同程
度である請求項2に記載の電気/光配線基板。 - 【請求項6】 請求項1〜5の何れか1項に記載の電
気/光配線基板と、前記電気/光配線基板に搭載され、
相互に電気的又は光学的に接続されてなる電気素子及び
光素子とを備えてなることを特徴とする電子装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000227794A JP2002040274A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 電気/光配線基板、及び電子装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000227794A JP2002040274A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 電気/光配線基板、及び電子装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002040274A true JP2002040274A (ja) | 2002-02-06 |
Family
ID=18721195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000227794A Pending JP2002040274A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 電気/光配線基板、及び電子装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002040274A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7463491B2 (en) | 2003-07-28 | 2008-12-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Wiring board and a semiconductor device using the same |
JP2009277290A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Nitto Denko Corp | 回路付サスペンション基板 |
-
2000
- 2000-07-27 JP JP2000227794A patent/JP2002040274A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7463491B2 (en) | 2003-07-28 | 2008-12-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Wiring board and a semiconductor device using the same |
US7589282B2 (en) | 2003-07-28 | 2009-09-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Wiring board and a semiconductor device using the same |
JP2009277290A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Nitto Denko Corp | 回路付サスペンション基板 |
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