JP2002039893A - Package for pressure detection apparatus - Google Patents

Package for pressure detection apparatus

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JP2002039893A
JP2002039893A JP2000223787A JP2000223787A JP2002039893A JP 2002039893 A JP2002039893 A JP 2002039893A JP 2000223787 A JP2000223787 A JP 2000223787A JP 2000223787 A JP2000223787 A JP 2000223787A JP 2002039893 A JP2002039893 A JP 2002039893A
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ceramic
electrode
semiconductor element
ceramic plate
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small, high-sensitivity pressure detection apparatus capable of accurately detecting external pressures over a long period of time. SOLUTION: In this package for the pressure detection apparatus, a first metallized electrode 7 for forming an electrostatic capacity is provided on one principal surface of a ceramic base 1 having a semiconductor device 3 mounted on the other principal surface thereof, and a ceramic plate 2 having on the inner principal surface thereof a second metallized electrode 9 opposed to the first metallized electrode 7 for forming an electrostatic capacity, and also having a reinforcing metallized layer 10 on the outer principal surface thereof, is flexibly joined with the ceramic base 1 in such a way as to form a closed space therebetween.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、圧力を検出するた
めの圧力検出装置に使用される圧力検出装置用パッケー
ジに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure detecting device package used for a pressure detecting device for detecting pressure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、圧力を検出するための圧力検出装
置として静電容量型の圧力検出装置が知られている。こ
の静電容量型の圧力検出装置は、例えば図4に断面図で
示すように、セラミックス材料や樹脂材料から成る配線
基板21上に、静電容量型の感圧素子22と、パッケージ28
に収容された演算用の半導体素子29とを備えている。感
圧素子22は、例えばセラミックス材料等の電気絶縁材料
から成り、上面中央部に静電容量形成用の一方の電極23
が被着された凹部を有する絶縁基体24と、この絶縁基体
24の上面に絶縁基体24との間に密閉空間を形成するよう
にして可撓な状態で接合され、下面に静電容量形成用の
他方の電極25が被着された絶縁板26と、各静電容量形成
用の電極23・25をそれぞれ外部に電気的に接続するため
の外部リード端子27とから構成されており、外部の圧力
に応じて絶縁板26が撓むことにより各静電容量形成用の
電極23・25間に形成される静電容量が変化する。そし
て、この静電容量の変化を演算用の半導体素子29により
演算処理することにより外部の圧力を検出することがで
きる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a capacitance type pressure detecting device has been known as a pressure detecting device for detecting pressure. As shown in a sectional view of FIG. 4, for example, a capacitance type pressure sensing element 22 and a package 28 are provided on a wiring board 21 made of a ceramic material or a resin material.
And a semiconductor element 29 for arithmetic operation accommodated in the computer. The pressure-sensitive element 22 is made of, for example, an electrically insulating material such as a ceramic material.
An insulating substrate 24 having a concave portion with
An insulating plate 26 which is joined in a flexible state on the upper surface of the insulating substrate 24 so as to form a sealed space between the insulating substrate 24 and the other electrode 25 for forming a capacitance on the lower surface; Each of the electrodes 23 and 25 for forming a capacitance is composed of an external lead terminal 27 for electrically connecting the electrode to the outside, and each of the capacitances is formed by bending the insulating plate 26 in response to an external pressure. The capacitance formed between the forming electrodes 23 and 25 changes. Then, an external pressure can be detected by arithmetically processing the change in the capacitance by the semiconductor element 29 for arithmetic operation.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の圧力検出装置によると、感圧素子22と半導体素子29
とを配線基板21上に個別に実装していることから、圧力
検出装置が大型化してしまうとともに圧力検出用の電極
23・25と半導体素子29との間の配線が長いものとなり、
この長い配線間に不要な静電容量が形成されるため感度
が低いという問題点を有していた。
However, according to the conventional pressure detecting device, the pressure-sensitive element 22 and the semiconductor element 29 are not provided.
Are individually mounted on the wiring board 21, which increases the size of the pressure detecting device and the pressure detecting electrode.
The wiring between 23 and 25 and the semiconductor element 29 becomes longer,
There is a problem that the sensitivity is low because an unnecessary capacitance is formed between the long wires.

【0004】そこで、本願出願人は、先に特願2000-178
618において、一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有する絶縁基体と、この絶縁基体の表面および内
部に配設され、半導体素子の各電極が電気的に接続され
る複数の配線導体と、絶縁基体の他方の主面の中央部に
被着され、配線導体の一つに電気的に接続された静電容
量形成用の第一電極と、絶縁基体の他方の主面に、この
主面の中央部との間に密閉空間を形成するように可撓な
状態で接合された絶縁板と、この絶縁板の内側主面に第
一電極と対向して被着され、配線導体の他の一つに電気
的に接続された静電容量形成用の第二電極とを具備する
圧力検出装置用パッケージを提案した。この圧力検出装
置用パッケージによると、一方の主面に半導体素子が搭
載される搭載部を有する絶縁基体の他方の主面に静電容
量形成用の第一電極を設けるとともに、この第一電極と
対向する静電容量形成用の第二電極を内側面に有する絶
縁板を、絶縁基体の他方の主面との間に密閉空間を形成
するようにして可撓な状態で接合させたことから、半導
体素子を収容するパッケージに感圧素子が一体に形成さ
れ、その結果、圧力検出装置を小型とすることができる
とともに圧力検出用の電極と半導体素子とを接続する配
線を短いものとして、これらの配線間に発生する不要な
静電容量を小さなものとすることができる。
Accordingly, the applicant of the present application has previously filed Japanese Patent Application No. 2000-178.
618, an insulating base having a mounting portion on one main surface on which a semiconductor element is mounted; and a plurality of wiring conductors disposed on and inside the insulating base and electrically connected to respective electrodes of the semiconductor element. A first electrode for forming a capacitance, which is attached to the center of the other main surface of the insulating base and is electrically connected to one of the wiring conductors; An insulating plate joined in a flexible state so as to form a sealed space with the central portion of the main surface; and an inner main surface of the insulating plate, which is attached to face the first electrode and faces the first electrode. A pressure detection device package including a second electrode for forming a capacitance electrically connected to another one has been proposed. According to this pressure detecting device package, a first electrode for forming a capacitance is provided on the other main surface of the insulating base having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted on one main surface, and the first electrode is Since the insulating plate having the opposing second electrode for capacitance formation on the inner surface is joined in a flexible state so as to form a sealed space with the other main surface of the insulating base, The pressure-sensitive element is formed integrally with the package containing the semiconductor element, and as a result, the pressure detection device can be reduced in size, and the wiring for connecting the electrode for pressure detection and the semiconductor element is shortened. Unnecessary capacitance generated between the wirings can be reduced.

【0005】しかしながら、この特願2000-178618で提
案した圧力検出装置用パッケージによると、絶縁板が脆
性を有するセラミックス材料から成ることから、この絶
縁板に外部の圧力が繰返し印加されると、絶縁板の外周
縁に微小なクラックが発生し、これが徐々に絶縁板の中
央部まで進行して、遂には、絶縁基体と絶縁板との間の
密閉空間の気密性が低下し、そのため外部の圧力を正確
に検出することができなくなってしまうことがあるとい
う問題点を有していた。
However, according to the pressure detecting device package proposed in Japanese Patent Application No. 2000-178618, the insulating plate is made of a brittle ceramic material, so that when an external pressure is repeatedly applied to the insulating plate, the insulating plate becomes insulated. Small cracks are generated on the outer peripheral edge of the plate, gradually progressing to the center of the insulating plate, and finally the airtightness of the sealed space between the insulating base and the insulating plate is reduced, so that the external pressure May not be able to be detected accurately.

【0006】本発明は、かかる上述の問題点に鑑み完成
されたものであり、その目的は、小型でかつ感度が高
く、しかも外部の圧力を長期間にわたり正確に検出する
ことが可能な圧力検出装置を提供することにある。
The present invention has been completed in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a pressure detection device which is small in size, has high sensitivity, and is capable of accurately detecting external pressure for a long period of time. It is to provide a device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の圧力検出装置用
パッケージは、一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有するセラミック基体と、このセラミック基体の
表面および内部に配設され、半導体素子の各電極が電気
的に接続される複数のメタライズ配線導体と、セラミッ
ク基体の他方の主面の中央部に被着され、メタライズ配
線導体の一つに電気的に接続された静電容量形成用の第
一メタライズ電極と、セラミック基体の他方の主面に、
この主面の中央部との間に密閉空間を形成するように可
撓な状態で接合されたセラミック板と、このセラミック
板の内側主面に第一メタライズ電極と対向して被着さ
れ、メタライズ配線導体の他の一つに電気的に接続され
た静電容量形成用の第二メタライズ電極とを具備する圧
力検出装置用パッケージであって、セラミック板は、そ
の外側主面の略全面に補強用メタライズ層が被着されて
いることを特徴とするものである。
A package for a pressure detecting device according to the present invention is provided on a ceramic substrate having a mounting portion on one side of which a semiconductor element is mounted, and disposed on and inside the ceramic substrate. A plurality of metallized wiring conductors to which each electrode of the semiconductor element is electrically connected; and a capacitance applied to the center of the other main surface of the ceramic base and electrically connected to one of the metallized wiring conductors. A first metallized electrode for formation, and on the other main surface of the ceramic substrate,
A ceramic plate joined in a flexible state so as to form a sealed space with the central portion of the main surface; and a metallized plate attached to the inner main surface of the ceramic plate so as to face the first metallized electrode. A package for a pressure detecting device comprising: a second metallized electrode for forming a capacitance electrically connected to another one of the wiring conductors, wherein the ceramic plate is reinforced over substantially the entire outer main surface thereof A metallized layer for use.

【0008】本発明の圧力検出装置用パッケージによれ
ば、一方の主面に半導体素子が搭載される搭載部を有す
るセラミック基体の他方の主面に静電容量形成用の第一
メタライズ電極を設けるとともに、この第一メタライズ
電極と対向する静電容量形成用の第二メタライズ電極を
内側面に有するセラミック板を、セラミック基体の他方
の主面との間に密閉空間を形成するようにして可撓な状
態で接合させたことから、半導体素子を収容するパッケ
ージに感圧素子が一体に形成され、その結果、圧力検出
装置を小型とすることができるとともに圧力検出用の電
極と半導体素子とを接続する配線を短いものとして、こ
れらの配線間に発生する不要な静電容量を小さなものと
することができる。さらに、セラミック板の外側主面の
略全面に補強用のメタライズ層を被着させたことから、
セラミック板に外部の圧力が繰返し印加された場合に、
セラミック板の外周部にクラックが発生することが有効
に防止されるとともに、仮にクラックが発生した場合で
もそのクラックがセラミック板の中央部まで進行するこ
とが有効に防止される。
According to the pressure detecting device package of the present invention, the first metallized electrode for forming the capacitance is provided on the other main surface of the ceramic base having the mounting portion on which the semiconductor element is mounted on one main surface. In addition, the ceramic plate having an inner surface on which a second metallized electrode for forming a capacitance facing the first metallized electrode is formed so as to form a closed space between the ceramic plate and the other main surface of the ceramic substrate. The pressure sensitive element is formed integrally with the package that contains the semiconductor element, and as a result, the pressure detection device can be made smaller and the pressure detecting electrode and the semiconductor element are connected. By reducing the length of the wiring, unnecessary capacitance generated between these wirings can be reduced. Furthermore, since a metallization layer for reinforcement was applied to almost the entire outer main surface of the ceramic plate,
When external pressure is repeatedly applied to the ceramic plate,
Cracks are effectively prevented from occurring in the outer peripheral portion of the ceramic plate, and even if cracks are generated, the crack is effectively prevented from progressing to the center of the ceramic plate.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に、本発明を添付の図面を基に
詳細に説明する。図1は、本発明の圧力検出装置用パッ
ケージの実施の形態の一例を示す断面図であり、図中、
1はセラミック基体、2はセラミック板、3は半導体素
子である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an embodiment of a pressure detection device package according to the present invention.
1 is a ceramic base, 2 is a ceramic plate, 3 is a semiconductor element.

【0010】セラミック基体1は、酸化アルミニウム質
焼結体や窒化アルミニウム質焼結体・ムライト質焼結体
・炭化珪素質焼結体・窒化珪素質焼結体・ガラス−セラ
ミックス等のセラミックス材料から成る積層体であり、
例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれ
ば、酸化アルミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・
酸化カルシウム等のセラミック原料粉末に適当な有機バ
インダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して泥漿状と
なすとともにこれを従来周知のドクタブレード法を採用
してシート状に成形することにより複数枚のセラミック
グリーンシートを得、しかる後、これらのセラミックグ
リーンシートに適当な打ち抜き加工・積層加工・切断加
工を施すことにより絶縁基体1用の生セラミック成形体
を得るとともにこの生セラミック成形体を約1600℃の温
度で焼成することにより製作される。
The ceramic substrate 1 is made of a ceramic material such as a sintered body of aluminum oxide, a sintered body of aluminum nitride, a sintered body of mullite, a sintered body of silicon carbide, a sintered body of silicon nitride, or a glass-ceramic. A laminate comprising
For example, in the case of an aluminum oxide sintered body, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide,
A ceramic raw material powder such as calcium oxide is mixed with an appropriate organic binder, solvent, plasticizer, and dispersant to form a slurry, which is formed into a sheet by employing a conventionally known doctor blade method. A plurality of ceramic green sheets were obtained, and thereafter, these ceramic green sheets were subjected to appropriate punching, laminating, and cutting to obtain a green ceramic molded body for the insulating substrate 1 and to reduce the green ceramic molded body to approximately one. It is manufactured by firing at a temperature of 1600 ° C.

【0011】セラミック基体1は、その下面中央部に半
導体素子3を収容するための凹部1aが形成されてお
り、これにより半導体素子3を収容する容器として機能
する。そして、この凹部1aの底面中央部が半導体素子
3が搭載される搭載部1bとなっており、この搭載部1
bに半導体素子3を搭載するとともに凹部1a内に例え
ばエポキシ樹脂等の樹脂製封止材4を充填することによ
り半導体素子3が封止される。なお、この例では半導体
素子3は樹脂製封止材4を凹部1a内に充填することに
より封止されるが、半導体素子3はセラミック基体1の
下面に金属やセラミックスから成る蓋体を凹部1aを塞
ぐように接合させることにより封止されてもよい。
The ceramic base 1 has a concave portion 1a for accommodating the semiconductor element 3 in the center of the lower surface thereof, and thereby functions as a container for accommodating the semiconductor element 3. The center of the bottom surface of the concave portion 1a is a mounting portion 1b on which the semiconductor element 3 is mounted.
The semiconductor element 3 is sealed by mounting the semiconductor element 3 on the substrate b and filling the recess 1a with a resin sealing material 4 such as an epoxy resin. In this example, the semiconductor element 3 is sealed by filling a resin sealing material 4 into the recess 1a, but the semiconductor element 3 is provided with a lid made of metal or ceramic on the lower surface of the ceramic base 1 in the recess 1a. It may be sealed by joining so as to close.

【0012】また、搭載部1bには半導体素子3の各電
極と接続される複数のメタライズ配線導体5が導出して
おり、このメタライズ配線導体5と半導体素子3の各電
極を半田バンプ6等の導電性材料から成る導電性接合部
材を介して接合することにより半導体素子3の各電極と
各メタライズ配線導体5とが電気的に接続されるととも
に半導体素子3が搭載部1bに固定される。なお、この
例では、半導体素子3の電極とメタライズ配線導体5と
は半田バンプ6を介して接続されるが、半導体素子3の
電極とメタライズ配線導体5とはボンディングワイヤ等
の他の種類の電気的接続手段により接続されてもよい。
A plurality of metallized wiring conductors 5 connected to the respective electrodes of the semiconductor element 3 are led out from the mounting portion 1b. The metallized wiring conductor 5 and the respective electrodes of the semiconductor element 3 are connected to the solder bumps 6 and the like. By bonding via a conductive bonding member made of a conductive material, each electrode of the semiconductor element 3 is electrically connected to each metallized wiring conductor 5, and the semiconductor element 3 is fixed to the mounting portion 1b. In this example, the electrodes of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductors 5 are connected via the solder bumps 6, but the electrodes of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductors 5 are connected to another type of electric wire such as a bonding wire. May be connected by a dynamic connection means.

【0013】メタライズ配線導体5は、半導体素子3の
各電極を外部電気回路および後述する第一メタライズ電
極7・第二メタライズ電極9に電気的に接続するための
導電路として機能し、その一部はセラミック基体1の外
周下面に導出し、別の一部は第一メタライズ電極7・第
二メタライズ電極9に電気的に接続されている。そし
て、半導体素子3の各電極をこれらのメタライズ配線導
体5に導電性接合材6を介して電気的に接続するととも
に半導体素子3を樹脂製封止材4で封止した後、メタラ
イズ配線導体5のセラミック基体1外周下面に導出した
部位を外部電気回路基板の配線導体に半田等の導電性接
合材を介して接合することにより、内部に収容する半導
体素子3が外部電気回路に電気的に接続されることとな
る。
The metallized wiring conductor 5 functions as a conductive path for electrically connecting each electrode of the semiconductor element 3 to an external electric circuit and a first metallized electrode 7 and a second metallized electrode 9 to be described later. Is led out to the lower surface of the outer periphery of the ceramic base 1, and another part is electrically connected to the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9. Then, each electrode of the semiconductor element 3 is electrically connected to the metallized wiring conductor 5 via a conductive bonding material 6 and the semiconductor element 3 is sealed with a resin sealing material 4. The semiconductor element 3 housed inside is electrically connected to the external electric circuit by joining the portion led out to the lower surface of the outer periphery of the ceramic base 1 to the wiring conductor of the external electric circuit board via a conductive bonding material such as solder. Will be done.

【0014】このようなメタライズ配線導体5は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤等を添加混合して得たメタ
ライズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用し
てセラミック基体1用のセラミックグリーンシートに所
定のパターンに印刷塗布し、これをセラミック基体1用
の生セラミック成形体とともに焼成することによってセ
ラミック基体1の内部および表面に所定のパターンに形
成される。なお、メタライズ配線導体5の露出表面に
は、メタライズ配線導体5が酸化腐食するのを防止する
とともにメタライズ配線導体5と半田等の導電性接合材
との接合を良好なものとするために、通常であれば、厚
みが1〜10μm程度のニッケルめっき層と厚みが0.1〜
3μm程度の金めっき層とが順次被着されている。
Such a metallized wiring conductor 5 is made of metallized metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like. The metallized paste thus obtained is applied in a predetermined pattern to a ceramic green sheet for the ceramic substrate 1 by employing a conventionally known screen printing method, and is fired together with the green ceramic molded body for the ceramic substrate 1 to obtain a ceramic. A predetermined pattern is formed inside and on the surface of the base 1. In addition, in order to prevent the metallized wiring conductor 5 from being oxidized and corroded and to make the metallized wiring conductor 5 and a conductive bonding material such as solder good, the exposed surface of the metallized wiring conductor 5 is usually formed on the exposed surface. If so, the nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm and the thickness of 0.1 to
A gold plating layer of about 3 μm is sequentially applied.

【0015】また、セラミック基体1の上面外周部には
高さが0.01〜5mm程度の枠状の突起部1cが設けられ
ており、それにより上面中央部に底面が略平坦な凹部1
dが形成されている。この凹部1dは、後述するよう
に、セラミック板2との間に密閉空間を形成するための
ものであり、この凹部1dの底面には静電容量形成用の
第一メタライズ電極7が被着されている。
A frame-shaped projection 1c having a height of about 0.01 to 5 mm is provided on the outer peripheral portion of the upper surface of the ceramic base 1, whereby a concave portion 1 having a substantially flat bottom surface is provided at the center of the upper surface.
d is formed. The concave portion 1d is for forming a closed space between the concave portion 1d and the ceramic plate 2, and a first metallized electrode 7 for forming a capacitance is attached to the bottom surface of the concave portion 1d. ing.

【0016】この第一メタライズ電極7は、後述する第
二メタライズ電極9とともに感圧素子用の静電容量を形
成するためのものであり、例えば略円形のパターンに形
成されている。そして、この第一メタライズ電極7には
メタライズ配線導体5の一つ5aが接続されており、そ
れによりこのメタライズ配線導体5aに半導体素子3の
電極を半田バンプ6等の導電性接合材を介して接続する
と半導体素子3の電極と第一メタライズ電極7とが電気
的に接続されるようになっている。
The first metallized electrode 7 is for forming a capacitance for a pressure-sensitive element together with a second metallized electrode 9 described later, and is formed, for example, in a substantially circular pattern. One of the metallized wiring conductors 5a is connected to the first metallized electrode 7 so that the electrode of the semiconductor element 3 is connected to the metallized wiring conductor 5a via a conductive bonding material such as a solder bump 6. When connected, the electrode of the semiconductor element 3 and the first metallized electrode 7 are electrically connected.

【0017】このような第一メタライズ電極7は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタラ
イズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用して
セラミック基体1用のセラミックグリーンシートに印刷
塗布し、これをセラミック基体1用の生セラミック成形
体とともに焼成することによってセラミック基体1の凹
部1d底面に所定のパターンに形成される。なお、第一
メタライズ電極7の露出表面には、第一メタライズ電極
7が酸化腐食するのを防止するために、通常であれば、
厚みが1〜10μm程度のニッケルめっき層が被着されて
いる。
The first metallized electrode 7 is made of metallized metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like. The metallized paste thus obtained is printed and applied to a ceramic green sheet for the ceramic substrate 1 by employing a conventionally known screen printing method, and is fired together with the green ceramic molded body for the ceramic substrate 1 to thereby form recesses in the ceramic substrate 1. A predetermined pattern is formed on the bottom surface of 1d. In addition, in order to prevent the first metallized electrode 7 from being oxidized and corroded, the exposed surface of the first metallized electrode 7 is usually
A nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is applied.

【0018】また、セラミック基体1の突起部1cの上
面にはその全周にわたり枠状の接合用メタライズ層8が
被着されており、この接合用メタライズ層8には、下面
に第二メタライズ電極9を有するセラミック板2がこの
第二メタライズ電極9と接合用メタライズ層8とを銀−
銅ろう材等の導電性接合材を介して接合することにより
取着されている。
On the upper surface of the projection 1c of the ceramic base 1, a frame-shaped joining metallization layer 8 is attached over the entire periphery thereof. The second metallized electrode 9 and the bonding metallized layer 8 are formed of silver-
It is attached by joining via a conductive joining material such as a copper brazing material.

【0019】この接合用メタライズ層8にはメタライズ
配線導体5の一つ5bが接続されており、それによりこ
のメタライズ配線導体5bに半導体素子3の電極を半田
バンプ6等の導電性接合材を介して電気的に接続すると
接合用メタライズ層8に接続された第二メタライズ電極
9と半導体素子3の電極とが電気的に接続されるように
なっている。
One of the metallized wiring conductors 5b is connected to the bonding metallized layer 8 so that the electrodes of the semiconductor element 3 are connected to the metallized wiring conductor 5b via a conductive bonding material such as a solder bump 6. When electrically connected to each other, the second metallized electrode 9 connected to the bonding metallized layer 8 and the electrode of the semiconductor element 3 are electrically connected.

【0020】接合用メタライズ層8は、タングステンや
モリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズから成り、
タングステン等の金属粉末に適当な有機バインダ・溶剤
・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタライズペース
トを従来周知のスクリーン印刷法を採用してセラミック
基体1用のセラミックグリーンシートに印刷塗布し、こ
れをセラミック基体1用の生セラミック成形体とともに
焼成することによってセラミック基体1の突起部1c上
面に枠状の所定のパターンに形成される。なお、接合用
メタライズ層8の露出表面には、接合用メタライズ層8
が酸化腐食するのを防止するとともに接合用メタライズ
層8と導電性接合材との接合を強固なものとするため
に、通常であれば、厚みが1〜10μm程度のニッケルめ
っき層が被着されている。
The bonding metallization layer 8 is made of a metal powder metallization such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like.
A metallized paste obtained by adding a suitable organic binder, a solvent, a plasticizer, and a dispersant to a metal powder such as tungsten is mixed with a ceramic green sheet for the ceramic substrate 1 by printing using a conventionally known screen printing method. By firing this together with the green ceramic molded body for the ceramic base 1, a predetermined frame-like pattern is formed on the upper surface of the projection 1c of the ceramic base 1. The exposed surface of the bonding metallization layer 8 is provided on the exposed surface of the bonding metallization layer 8.
A nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is usually applied to prevent oxidation corrosion of the metal and to strengthen the bonding between the bonding metallized layer 8 and the conductive bonding material. ing.

【0021】また、セラミック基体1の上面に取着され
たセラミック板2は、酸化アルミニウム質焼結体や窒化
アルミニウム質焼結体・ムライト質焼結体・窒化珪素質
焼結体・炭化珪素質焼結体・ガラス−セラミックス等の
セラミックス材料から成る厚みが0.01〜5mmの略平板
であり、外部の圧力に応じてセラミック基体1側に撓む
いわゆる圧力検出用のダイアフラムとして機能する。
The ceramic plate 2 attached to the upper surface of the ceramic base 1 is made of a sintered body of aluminum oxide, sintered body of aluminum nitride, sintered body of mullite, sintered body of silicon nitride, sintered body of silicon carbide. A substantially flat plate made of a ceramic material such as a sintered body or glass-ceramic and having a thickness of 0.01 to 5 mm, and functions as a so-called pressure detecting diaphragm that bends toward the ceramic base 1 in response to external pressure.

【0022】なお、セラミック板2は、その厚みが0.01
mm未満では、その機械的強度が小さいものとなってし
まうため、これに大きな外部圧力が印加された場合に破
壊されてしまう危険性が大きなものとなり、他方、5m
mを超えると、小さな圧力では撓みにくくなり、圧力検
出用のダイアフラムとしては不適となってしまう。した
がって、セラミック板2の厚みは0.01〜5mmの範囲が
好ましい。
The ceramic plate 2 has a thickness of 0.01.
If it is less than 5 mm, its mechanical strength will be small, so that when a large external pressure is applied thereto, there is a great risk of being destroyed.
If it exceeds m, it becomes difficult to bend under a small pressure, and it is unsuitable as a diaphragm for pressure detection. Therefore, the thickness of the ceramic plate 2 is preferably in the range of 0.01 to 5 mm.

【0023】このようなセラミック板2は、例えば酸化
アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化アル
ミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カルシウ
ム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ・溶剤
・可塑剤・分散剤を添加混合して泥漿状となすとともに
これを従来周知のドクタブレード法を採用してシート状
に成形することによりセラミックグリーンシートを得、
しかる後、このセラミックグリーンシートに適当な打ち
抜き加工や切断加工を施すことによりセラミック板2用
の生セラミック成形体を得るとともにこの生セラミック
成形体を約1600℃の温度で焼成することにより製作され
る。
When such a ceramic plate 2 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, an organic binder, a solvent, and a plastic suitable for a ceramic raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, and calcium oxide. A ceramic green sheet is obtained by adding and mixing an agent and a dispersing agent to form a slurry and forming this into a sheet by employing a conventionally known doctor blade method.
Thereafter, the ceramic green sheet is subjected to appropriate punching and cutting to obtain a green ceramic molded body for the ceramic plate 2 and to fire the green ceramic molded body at a temperature of about 1600 ° C. .

【0024】また、セラミック板2の下面の略全面には
静電容量形成用の第二メタライズ電極9が被着されてい
る。この第二メタライズ電極9は、前述の第一メタライ
ズ電極7とともに感圧素子用の静電容量を形成するため
の電極として機能するとともにセラミック板2をセラミ
ック基体1に接合するための接合用下地金属層として機
能する。
Further, a second metallized electrode 9 for forming a capacitance is attached to substantially the entire lower surface of the ceramic plate 2. The second metallized electrode 9 functions as an electrode for forming a capacitance for a pressure-sensitive element together with the first metallized electrode 7 described above, and also serves as a bonding base metal for bonding the ceramic plate 2 to the ceramic base 1. Functions as a layer.

【0025】このような第二メタライズ電極9は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタラ
イズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用して
セラミック板2用のセラミックグリーンシートに印刷塗
布し、これをセラミック板2用の生セラミック成形体と
ともに焼成することによってセラミック板2の下面の略
全面に所定のパターンに形成される。なお、第二メタラ
イズ電極9の露出表面には、第二メタライズ電極9が酸
化腐食するのを防止するとともに第二メタライズ電極9
と導電性接合材との接合を良好とするために、通常であ
れば、厚みが1〜10μm程度のニッケルめっき層が被着
されている。
The second metallized electrode 9 is made of metal powder of metal such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like. The metallized paste thus obtained is printed and applied to a ceramic green sheet for the ceramic plate 2 by employing a conventionally well-known screen printing method, and is fired together with a green ceramic molded body for the ceramic plate 2 to thereby obtain a lower surface of the ceramic plate 2. Is formed in a predetermined pattern over substantially the entire surface of the substrate. The exposed surface of the second metallized electrode 9 is prevented from being oxidized and corroded by the second metallized electrode 9.
Usually, a nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is applied in order to improve the bonding between the metal and the conductive bonding material.

【0026】この第二メタライズ電極9と接合用メタラ
イズ層8とは銀−銅ろう材等の導電性接合材を介して接
合されており、それにより、セラミック基体1上面とセ
ラミック板2下面との間に密閉空間が形成されるととも
に接合用メタライズ層8と第二メタライズ電極9とが電
気的に接続される。
The second metallized electrode 9 and the metallized layer 8 for bonding are bonded via a conductive bonding material such as a silver-copper brazing material, so that the upper surface of the ceramic base 1 and the lower surface of the ceramic plate 2 are connected. A sealed space is formed therebetween, and the bonding metallized layer 8 and the second metallized electrode 9 are electrically connected.

【0027】このとき、第一メタライズ電極7と第二メ
タライズ電極9とは、セラミック基体1とセラミック板
2との間に形成された空間を挟んで対向しており、これ
らの間には、第一メタライズ電極7や第二メタライズ電
極9の面積および第一メタライズ電極7と第二メタライ
ズ電極9との間隔に応じて所定の静電容量が形成され
る。そして、セラミック板2の上面に外部の圧力が印加
されると、その圧力に応じてセラミック板2がセラミッ
ク基体1側に撓んで第一メタライズ電極7と第二メタラ
イズ電極9との間隔が変わり、それにより第一メタライ
ズ電極7と第二メタライズ電極9との間の静電容量が変
化するので、外部の圧力の変化を静電容量の変化として
感知する感圧素子として機能する。そして、この静電容
量の変化を凹部1a内に収容した半導体素子3にメタラ
イズ配線導体5a・5bを介して伝達し、これを半導体
素子3で演算処理することによって外部の圧力の大きさ
を知ることができる。
At this time, the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 face each other with a space formed between the ceramic base 1 and the ceramic plate 2 therebetween. A predetermined capacitance is formed according to the area of one metallized electrode 7 or the second metallized electrode 9 and the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9. When an external pressure is applied to the upper surface of the ceramic plate 2, the ceramic plate 2 bends toward the ceramic base 1 according to the pressure, and the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 changes, As a result, the capacitance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 changes, so that it functions as a pressure-sensitive element that senses a change in external pressure as a change in capacitance. Then, the change of the capacitance is transmitted to the semiconductor element 3 housed in the recess 1a via the metallized wiring conductors 5a and 5b, and the magnitude of the external pressure is known by performing arithmetic processing on the semiconductor element 3. be able to.

【0028】このように、本発明の圧力検出装置用パッ
ケージによれば、一方の主面に半導体素子3が搭載され
るセラミック基体1の他方の主面に、静電容量形成用の
第一メタライズ電極7を設けるとともにこの第一メタラ
イズ電極7と対向する静電容量形成用の第二メタライズ
電極9を内側主面に有するセラミック板2をセラミック
基体1との間に密閉空間を形成するように可撓な状態で
接合させたことから、半導体素子3を収容する容器と感
圧素子とが一体となり、その結果、圧力検出装置を小型
化することができる。また、静電容量形成用の第一メタ
ライズ電極7および第二メタライズ電極9を、セラミッ
ク基体1に設けたメタライズ配線導体5a・5bを介し
て半導体素子3に接続することから、第一メタライズ電
極7および第二メタライズ電極9を短い距離で半導体素
子3に接続することができ、その結果、これらのメタラ
イズ配線導体5a・5b間に発生する不要な静電容量を
小さなものとして感度の高い圧力検出装置を提供するこ
とができる。
As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the first metallization for forming the capacitance is provided on the other main surface of the ceramic base 1 on which the semiconductor element 3 is mounted on one main surface. An electrode 7 is provided, and a ceramic plate 2 having a second metallized electrode 9 for forming a capacitance facing the first metallized electrode 7 on an inner main surface is formed so as to form a closed space between the ceramic plate 2 and the ceramic substrate 1. Since they are joined in a flexible state, the container for accommodating the semiconductor element 3 and the pressure-sensitive element are integrated, and as a result, the size of the pressure detection device can be reduced. Since the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 for forming the capacitance are connected to the semiconductor element 3 via the metallized wiring conductors 5a and 5b provided on the ceramic base 1, the first metallized electrode 7 And the second metallized electrode 9 can be connected to the semiconductor element 3 at a short distance, and as a result, unnecessary capacitance generated between these metallized wiring conductors 5a and 5b is reduced, and a highly sensitive pressure detecting device is provided. Can be provided.

【0029】なお、第一メタライズ電極7と第二メタラ
イズ電極9との間隔が1気圧中において0.01mm未満の
場合、セラミック板2に大きな圧力が印加された際に、
第一メタライズ電極7と第二メタライズ電極9とが接触
して圧力を検出することができなくなってしまう危険性
があり、他方、5mmを超えると、第一メタライズ電極
7と第二メタライズ電極9との間に形成される静電容量
が小さなものとなり、圧力を検出する感度が低いものと
なる傾向にある。したがって、第一メタライズ電極7と
第二メタライズ電極9との間隔は、1気圧中において0.
01〜5mmの範囲が好ましい。
When the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 is less than 0.01 mm at 1 atm, when a large pressure is applied to the ceramic plate 2,
There is a danger that the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 may come into contact with each other and the pressure cannot be detected. The capacitance formed between them tends to be small, and the sensitivity for detecting pressure tends to be low. Therefore, the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 is 0.
A range from 01 to 5 mm is preferred.

【0030】また、セラミック板2の上面には、補強用
のメタライズ層10がその略全面にわたり被着されてい
る。補強用メタライズ層10は、タングステンやモリブデ
ン・銅・銀等の金属粉末メタライズから成り、セラミッ
ク板2に外部の圧力が繰返し印加された場合に、セラミ
ック板2の外周部にクラックが発生するのを防止すると
ともに、仮にクラックが発生した場合であってもそのク
ラックがセラミック板2の中央部まで進行するのを防止
するための障壁として機能する。このように、本発明の
圧力検出装置用パッケージによれば、セラミック板2の
外側主面の略全面に補強用メタライズ層10が被着されて
いることから、セラミック板2に外部の圧力が繰返し印
加された場合であっても、セラミック板2の外周部にク
ラックが発生することが有効に防止されるとともに、仮
にクラックが発生したとしてもそのクラックがセラミッ
ク板2の中央部まで進行することが有効に防止され、そ
の結果、セラミック基体1とセラミック板2との間に形
成された密閉空間の気密性が低下することはなく、した
がって外部の圧力を長期間にわたり正確に検出すること
が可能である。
On the upper surface of the ceramic plate 2, a metallization layer 10 for reinforcement is applied over substantially the entire surface. The reinforcing metallization layer 10 is made of metal powder of metal such as tungsten, molybdenum, copper, silver, or the like. It functions as a barrier for preventing the crack from advancing to the center of the ceramic plate 2 even if the crack occurs. As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, since the reinforcing metallization layer 10 is applied to substantially the entire outer main surface of the ceramic plate 2, external pressure is repeatedly applied to the ceramic plate 2. Even when the voltage is applied, cracks are effectively prevented from being generated on the outer peripheral portion of the ceramic plate 2, and even if cracks are generated, the cracks can propagate to the central portion of the ceramic plate 2. It is effectively prevented, and as a result, the airtightness of the sealed space formed between the ceramic base 1 and the ceramic plate 2 does not decrease, and therefore, it is possible to accurately detect the external pressure for a long period of time. is there.

【0031】なお、補強用メタライズ層10は、その厚み
が5μm未満の場合、セラミック板2に外部の圧力が繰
返し印加された場合に、セラミック板2の外周部にクラ
ックが発生することおよびそのクラックがセラミック板
2の中央部まで進行するのを有効に防止することができ
なくなる危険性が大きくなり、他方50μmを超えると、
セラミック板2と補強用メタライズ層10との熱膨張係数
の相違に起因して補強用メタライズ層10がセラミック板
2から剥離する危険性が大きなものとなる。したがっ
て、補強用メタライズ層10の厚みは、5〜50μmの範囲
が好ましい。
When the thickness of the reinforcing metallized layer 10 is less than 5 μm, when an external pressure is repeatedly applied to the ceramic plate 2, cracks are generated on the outer peripheral portion of the ceramic plate 2 and the cracks are generated. When it exceeds 50 μm, the risk of not being able to effectively prevent the metal from proceeding to the center of the ceramic plate 2 is increased.
Due to the difference in thermal expansion coefficient between the ceramic plate 2 and the reinforcing metallized layer 10, the risk of the reinforcing metallized layer 10 peeling off from the ceramic plate 2 increases. Therefore, the thickness of the reinforcing metallized layer 10 is preferably in the range of 5 to 50 μm.

【0032】このような補強用メタライズ層10は、タン
グステン等の金属粉末に適当な有機バインダ・溶剤・可
塑剤・分散剤を添加混合して得たメタライズペーストを
従来周知のスクリーン印刷法を採用してセラミック板2
用のセラミックグリーンシートに印刷塗布し、これをセ
ラミック板2用の生セラミック成形体とともに焼成する
ことによってセラミック板2の上面の略全面に所定のパ
ターンに形成される。また、補強用メタライズ層10の露
出表面には、補強用メタライズ層10が酸化腐食するのを
防止するために、通常であれば、厚みが1〜10μm程度
のニッケルめっき層および厚みが0.1〜3μm程度の金め
っき層が被着されている。
The metallized paste 10 obtained by adding a suitable organic binder, solvent, plasticizer and dispersant to a metal powder such as tungsten and mixing the metallized paste with a conventionally well-known screen printing method is used for the metallized layer 10 for reinforcement. Ceramic plate 2
The ceramic green sheet is printed and applied, and is fired together with the green ceramic molded body for the ceramic plate 2 to form a predetermined pattern on substantially the entire upper surface of the ceramic plate 2. On the exposed surface of the metallizing layer 10 for reinforcement, in order to prevent the metallizing layer 10 for reinforcement from being oxidized and corroded, a nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm and a thickness of 0.1 to 3 μm are usually used. A gold plating layer is applied.

【0033】かくして、上述の圧力検出装置用パッケー
ジによれば、搭載部1bに半導体素子3を搭載するとと
もに半導体素子3の各電極とメタライズ配線導体5とを
電気的に接続し、しかる後、半導体素子3を封止するこ
とによって小型でかつ感度の高く、しかも外部の圧力を
長期間にわたり正確に検出することが可能な高信頼性の
圧力検出装置となる。
Thus, according to the above-described package for a pressure detecting device, the semiconductor element 3 is mounted on the mounting portion 1b, and each electrode of the semiconductor element 3 is electrically connected to the metallized wiring conductor 5. By sealing the element 3, a highly reliable pressure detection device which is small in size, has high sensitivity, and is capable of accurately detecting external pressure over a long period of time.

【0034】なお、本発明は、上述の実施の形態の一例
に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない
範囲であれば種々の変更は可能である。例えば上述の実
施の形態の一例では、セラミック基体1の上面外周部に
枠状の突起部1cを設け、この突起部1c上にセラミッ
ク板2を接合することによりセラミック基体1上面とセ
ラミック板2との間に密閉空間を設けるようにしたが、
本発明は図2に断面図で示すように、セラミック板2の
下面外周部に枠状の突起部2aを設け、これをセラミッ
ク基体1上面に接合することによってセラミック基体1
とセラミック板2との間に密閉空間を設けるようにして
もよい。この場合、突起部2a下面に接合用メタライズ
層11を設けておき、この接合用メタライズ層11を接合用
メタライズ層8に銀−銅ろう等の導電性接合材を介して
接合すればよい。なお、接合用メタライズ層11と第二メ
タライズ電極9とは、セラミック板2にこれらを接続す
るための接続用メタライズ導体12を設けることにより電
気的に接続しておけばよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in an example of the above-described embodiment, a frame-shaped protrusion 1c is provided on the outer peripheral portion of the upper surface of the ceramic base 1, and the ceramic plate 2 is joined onto the protrusion 1c, so that the upper surface of the ceramic base 1 and the ceramic plate 2 I tried to provide a closed space between
According to the present invention, as shown in the sectional view of FIG. 2, a frame-shaped projection 2a is provided on the outer peripheral portion of the lower surface of the ceramic plate 2 and this is joined to the upper surface of the ceramic substrate 1.
A closed space may be provided between the ceramic plate 2 and the ceramic plate 2. In this case, a metallization layer 11 for bonding may be provided on the lower surface of the protrusion 2a, and the metallization layer 11 for bonding may be bonded to the metallization layer 8 for bonding via a conductive bonding material such as silver-copper solder. The bonding metallization layer 11 and the second metallization electrode 9 may be electrically connected by providing the metallization conductor 12 for connection to the ceramic plate 2 to connect them.

【0035】さらに、本発明は図3に断面図で示すよう
に、セラミック基体1の上面外周部に例えば鉄−ニッケ
ル−コバルト合金や鉄−ニッケル合金等から成る金属枠
体13を銀−銅ろう等の導電性接合材を介して接合させて
おき、この金属枠体13上にセラミック板2を銀−銅ろう
等の導電性接合材を介して接合させることによりセラミ
ック基体1とセラミック板2との間に密閉空間を設ける
ようにしてもよい。
Further, according to the present invention, as shown in the sectional view of FIG. 3, a metal frame 13 made of, for example, an iron-nickel-cobalt alloy or an iron-nickel alloy is provided on the outer peripheral portion of the upper surface of the ceramic base 1 by using a silver-copper solder. The ceramic base 2 and the ceramic plate 2 are joined together by bonding the ceramic plate 2 on the metal frame 13 via a conductive joining material such as silver-copper solder. A closed space may be provided between them.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の圧力検
出装置用パッケージによれば、一方の主面に半導体素子
が搭載される搭載部を有するセラミック基体の他方の主
面に静電容量形成用の第一メタライズ電極を設けるとと
もに、この第一メタライズ電極と対向する静電容量形成
用の第二メタライズ電極を内側面に有するセラミック板
を、セラミック基体の他方の主面との間に密閉空間を形
成するようにして可撓な状態で接合させたことから、半
導体素子を収容するパッケージに感圧素子が一体とな
り、その結果、圧力検出装置を小型とすることができ
る。また、静電容量形成用の第一メタライズ電極および
第二メタライズ電極を、絶縁基体に設けたメタライズ配
線導体を介して半導体素子に接続することから、第一メ
タライズ電極および第二メタライズ電極を短い距離で半
導体素子に接続することができ、その結果、これらのメ
タライズ配線導体間に発生する不要な静電容量を小さな
ものとして感度の高い圧力検出装置を提供することがで
きる。さらに、セラミック板の外側主面の略全面に補強
用のメタライズ層を被着させたことから、セラミック板
に外部の圧力が繰返し印加された場合であっても、セラ
ミック板の外周部にクラックが発生することを有効に防
止することができるとともに、仮にクラックが発生した
としてもそのクラックがセラミック板の中央部まで進行
することが有効に防止され、その結果、セラミック基板
とセラミック板との間に形成された密閉空間の気密性が
低下することはなく、したがって外部の圧力を長期間に
わたり正確に検出することができる。
As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the capacitance is provided on the other main surface of the ceramic base having the mounting portion on which the semiconductor element is mounted on one main surface. A first metallized electrode for formation is provided, and a ceramic plate having a second metallized electrode for capacitance formation facing the first metallized electrode on the inner surface is hermetically sealed with the other main surface of the ceramic base. Since the space is formed and joined in a flexible state, the pressure-sensitive element is integrated with the package accommodating the semiconductor element, and as a result, the pressure detection device can be downsized. In addition, since the first metallized electrode and the second metallized electrode for forming the capacitance are connected to the semiconductor element via the metallized wiring conductor provided on the insulating base, the first metallized electrode and the second metallized electrode can be short distances. As a result, it is possible to provide a pressure sensitive device with high sensitivity by reducing unnecessary capacitance generated between these metallized wiring conductors. Furthermore, since a metallizing layer for reinforcement is applied to almost the entire outer main surface of the ceramic plate, even when external pressure is repeatedly applied to the ceramic plate, cracks are formed on the outer peripheral portion of the ceramic plate. This can be effectively prevented from occurring, and even if a crack occurs, the crack is effectively prevented from progressing to the center of the ceramic plate, and as a result, between the ceramic substrate and the ceramic plate. The airtightness of the formed closed space is not reduced, and therefore, the external pressure can be accurately detected over a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施の形
態の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a package for a pressure detecting device according to the present invention.

【図2】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施形態
の他の例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the embodiment of the pressure detection device package according to the present invention.

【図3】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施形態
のさらに他の例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing still another example of the embodiment of the pressure detecting device package according to the present invention.

【図4】従来の圧力検出装置を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a conventional pressure detecting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・セラミック基体 2・・・・・セラミック板 3・・・・・半導体素子 5,5a,5b・・・・・メタライズ配線導体 7・・・・・第一メタライズ電極 9・・・・・第二メタライズ電極 10・・・・・補強用メタライズ層 1 Ceramic substrate 2 Ceramic plate 3 Semiconductor element 5, 5a, 5b Metallized wiring conductor 7 First metallized electrode 9 ... Second metallized electrode 10 ... Reinforcing metallized layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有するセラミック基体と、該セラミック基体の表
面および内部に配設され、前記半導体素子の各電極が電
気的に接続される複数のメタライズ配線導体と、前記セ
ラミック基体の他方の主面の中央部に被着され、前記メ
タライズ配線導体の一つに電気的に接続された静電容量
形成用の第一メタライズ電極と、前記他方の主面に、前
記中央部との間に密閉空間を形成するように可撓な状態
で接合されたセラミック板と、該セラミック板の内側主
面に前記第一メタライズ電極と対向して被着され、前記
メタライズ配線導体の他の一つに電気的に接続された静
電容量形成用の第二メタライズ電極とを具備する圧力検
出装置用パッケージであって、前記セラミック板は、そ
の外側主面の略全面に補強用メタライズ層が被着されて
いることを特徴とする圧力検出装置用パッケージ。
1. A ceramic base having a mounting portion on one side of which a semiconductor element is mounted, and a plurality of ceramic bases disposed on and inside the ceramic base and electrically connected to respective electrodes of the semiconductor element. A metallized wiring conductor; a first metallized electrode for forming a capacitance, which is attached to a center portion of the other main surface of the ceramic base and is electrically connected to one of the metallized wiring conductors; A ceramic plate joined in a flexible state so as to form a closed space between the ceramic plate and the central portion; and an inner main surface of the ceramic plate adhered to the first metallized electrode in opposition to the first metallized electrode. And a second metallized electrode for forming a capacitance electrically connected to another one of the metallized wiring conductors, wherein the ceramic plate has an outer main surface. Almost all over A package for a pressure detecting device, wherein a metallizing layer for reinforcement is adhered to the package.
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