JP2002033566A - Method for forming wiring pattern of printed wiring board - Google Patents
Method for forming wiring pattern of printed wiring boardInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
配線パターン形成方法に関するものである。The present invention relates to a method for forming a wiring pattern on a printed wiring board.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、一般に、プリント配線板の配線パ
ターンは、基板上に銅箔(はく)を貼(てん)付し、次
いで、フォトリソグラフィー法を利用したエッチングに
より前記銅箔をパターニングすることによって形成され
る。2. Description of the Related Art Conventionally, in general, a wiring pattern of a printed wiring board is formed by attaching a copper foil on a substrate and then patterning the copper foil by etching using a photolithography method. Formed by
【0003】図2は従来のプリント配線板の配線パター
ン形成方法のフローを示す図、図3は従来の配線パター
ン形成方法の工程断面図である。FIG. 2 is a diagram showing a flow of a conventional method for forming a wiring pattern on a printed wiring board, and FIG. 3 is a sectional view showing a process of the conventional method for forming a wiring pattern.
【0004】まず、アートワーク工程において、設計さ
れた配線パターンデータに基づいて、フォトマスク11
1を製作する。該フォトマスク111はガラス、樹脂フ
ィルム等から成り、配線パターンがネガ又はポジで描画
される。First, in an artwork process, a photomask 11 is formed based on designed wiring pattern data.
Make one. The photomask 111 is made of glass, a resin film, or the like, and has a negative or positive wiring pattern.
【0005】一方、配線パターン形成工程においては、
まず、図3(a)に示されるように、あらかじめ誘電体
から成る基板112の上に貼付された銅箔113上に、
感光性樹脂材料から成るドライフィルム114をラミネ
ートする。On the other hand, in a wiring pattern forming step,
First, as shown in FIG. 3 (a), a copper foil 113 previously attached on a substrate 112 made of a dielectric is
A dry film 114 made of a photosensitive resin material is laminated.
【0006】次に、図3(b)に示されるように、前記
アートワーク工程において製作されたフォトマスク11
1を前記ドライフィルム114に貼付する。Next, as shown in FIG. 3B, the photomask 11 manufactured in the above-mentioned artwork process is used.
1 is attached to the dry film 114.
【0007】次に、図3(b)における上方から露光し
た後、前記フォトマスク111を取り去り、感光した前
記ドライフィルム114を現像すると、図3(c)に示
されるように、配線パターン通りにエッチングレジスト
膜115が形成される。Next, after exposing from above in FIG. 3B, the photomask 111 is removed, and the exposed dry film 114 is developed. As shown in FIG. An etching resist film 115 is formed.
【0008】次に、該エッチングレジスト膜115をマ
スクとして、エッチャントを使用してウェットエッチン
グを行うと、図3(d)に示されるように、前記エッチ
ングレジスト膜115の直下の前記銅箔113が配線パ
ターン通りにパターニングされる。Next, when wet etching is performed using the etching resist film 115 as a mask and using an etchant, as shown in FIG. 3D, the copper foil 113 immediately below the etching resist film 115 is removed. It is patterned according to the wiring pattern.
【0009】最後に、残存する前記エッチングレジスト
膜115を剥(はく)離すると、図3(e)に示される
ように、基板112上に配線パターン116が形成され
たプリント配線板を得ることができる。Finally, when the remaining etching resist film 115 is peeled (peeled) off, a printed wiring board having a wiring pattern 116 formed on a substrate 112 is obtained as shown in FIG. Can be.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のプリント配線板の配線パターン形成方法において
は、アートワーク工程におけるフォトマスク111の製
作に時間がかかるとともにコストが高くなってしまう。
特に、試作用のプリント配線板の場合は、製作枚数が少
ないので、フォトマスク111を製作するコストが相対
的に高くなってしまう。However, in the above-mentioned conventional method for forming a wiring pattern on a printed wiring board, it takes time and cost to manufacture the photomask 111 in the artwork process.
In particular, in the case of a trial printed wiring board, since the number of manufactured photomasks is small, the cost of manufacturing the photomask 111 is relatively high.
【0011】また、フォトマスク111の製作時に描画
された配線パターンに欠陥が生じたり、前記フォトマス
ク111をドライフィルム114に貼付する際に、前記
フォトマスク111とドライフィルム114との間にご
みが入ったり、描画された配線パターンが破損したり、
温湿度の変化によって前記フォトマスク111が伸縮し
たりしてしまう。このような場合には、基板112上に
形成された配線パターン116に断線、欠損、短絡等が
生じてしまう。Further, a defect occurs in a wiring pattern drawn at the time of manufacturing the photomask 111, and when the photomask 111 is attached to the dry film 114, dust is generated between the photomask 111 and the dry film 114. Entering, the drawn wiring pattern is damaged,
The photomask 111 expands and contracts due to a change in temperature and humidity. In such a case, the wiring pattern 116 formed on the substrate 112 may be disconnected, missing, short-circuited, or the like.
【0012】そして、ごみが付着したり、破損したり、
温湿度の変化によって伸縮したりしないように前記フォ
トマスク111を保管するためには、特殊な設備が必要
となるのでコストが高く、煩雑である。[0012] Then, the dust adheres or is damaged,
In order to store the photomask 111 so that it does not expand or contract due to changes in temperature and humidity, special equipment is required, so that the cost is high and complicated.
【0013】さらに、前記フォトマスク111は平面で
あり、また、柔軟性に乏しいので、基板112が三次元
形状(立体形状)を有する場合や基板112の表面が平
面でない場合は、配線パターン形成を行うことができな
くなってしまう。Further, since the photomask 111 is flat and has poor flexibility, when the substrate 112 has a three-dimensional shape (three-dimensional shape) or when the surface of the substrate 112 is not flat, a wiring pattern must be formed. You will not be able to do it.
【0014】本発明は、前記従来のプリント配線板の配
線パターン形成方法の問題点を解決して、コストが高
く、取扱いや保管が困難であり、三次元形状に適用でき
ないフォトマスクを使用することのない、プリント配線
板の配線パターン形成方法を提供することを目的とす
る。The present invention solves the problems of the conventional method for forming a wiring pattern of a printed wiring board, and uses a photomask which is expensive, difficult to handle and store, and cannot be applied to a three-dimensional shape. It is an object of the present invention to provide a method for forming a wiring pattern of a printed wiring board without using the same.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】そのために、本発明のプ
リント配線板の配線パターン形成方法においては、基板
の表面に無電解メッキ膜を形成する無電解メッキ工程
と、配線パターンの立体形状を重層する複数の二次元平
面でスライスしたスライスデータを作成し、該スライス
データに基づいてレーザ光を走査させて前記基板を覆う
銅粉末を焼結させることによって、前記配線パターンの
二次元平面を1層ずつ形成して積層させ、前記無電解メ
ッキ膜上に前記配線パターンを形成する積層造形工程
と、前記配線パターンが形成されない部分の前記無電解
メッキ膜を研磨することによって除去する研磨工程とを
有する。For this purpose, in the method for forming a wiring pattern of a printed wiring board according to the present invention, an electroless plating step of forming an electroless plating film on the surface of a substrate, and a three-dimensional shape of the wiring pattern are superimposed. By creating slice data sliced on a plurality of two-dimensional planes, and scanning a laser beam based on the slice data to sinter the copper powder covering the substrate, the two-dimensional plane of the wiring pattern is formed as one layer. A lamination molding step of forming and laminating the electroless plating film on the electroless plating film, and a polishing step of polishing and removing the electroless plating film in a portion where the wiring pattern is not formed. .
【0016】本発明の他のプリント配線板の配線パター
ン形成方法においては、さらに前記基板の対向する2表
面上に前記配線パターンを形成する。In another method for forming a wiring pattern on a printed wiring board according to the present invention, the wiring pattern is further formed on two opposing surfaces of the substrate.
【0017】本発明の更に他のプリント配線板の配線パ
ターン形成方法においては、さらに前記基板の表面は三
次元形状を有する。In still another method of forming a wiring pattern on a printed wiring board according to the present invention, the surface of the substrate has a three-dimensional shape.
【0018】本発明の更に他のプリント配線板の配線パ
ターン形成方法においては、さらに前記配線パターンは
高さの相違する部分を有する。In still another method for forming a wiring pattern of a printed wiring board according to the present invention, the wiring pattern further has a portion having a different height.
【0019】本発明の更に他のプリント配線板の配線パ
ターン形成方法においては、さらに前記配線パターンは
表面に凹凸を有する。In still another method of forming a wiring pattern for a printed wiring board according to the present invention, the wiring pattern further has irregularities on its surface.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0021】図1は本発明の第1の実施の形態における
プリント配線板の配線パターン形成方法のフローを示す
図、図4は本発明の第1の実施の形態における無電解メ
ッキ工程の工程断面図、図5は本発明の第1の実施の形
態における積層造形工程の工程断面図、図6は積層造形
工程の動作原理を説明する工程断面図、図7は本発明の
第1の実施の形態における研磨工程の工程断面図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a flow of a method of forming a wiring pattern on a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view of an electroless plating process according to the first embodiment of the present invention. FIGS. 5 and 6 are sectional views showing steps of the additive manufacturing process according to the first embodiment of the present invention, FIG. 6 is a sectional view explaining the operation principle of the additive manufacturing process, and FIG. 7 is a first embodiment of the present invention. It is a process sectional view of a polish process in a form.
【0022】本実施の形態においては、図1に示される
ように、まず、基板12の表面に無電解メッキ膜21を
形成する無電解メッキ工程を実施し、次に、前記無電解
メッキ膜21上に配線パターンを形成する積層造形工程
を実施し、最後に、不要な無電解メッキ膜21を除去す
る研磨工程を実施することによって、プリント配線板の
配線パターン23aを形成する。In the present embodiment, as shown in FIG. 1, first, an electroless plating step of forming an electroless plating film 21 on the surface of the substrate 12 is performed, and then the electroless plating film 21 is formed. A laminate forming process for forming a wiring pattern thereon is performed, and finally, a polishing process for removing an unnecessary electroless plating film 21 is performed to form a wiring pattern 23a of the printed wiring board.
【0023】まず、無電解メッキ工程においては、図4
に示されるように、樹脂、プリプレグ、セラミクス等の
誘電体から成る基板12を、例えば、メッキ液中に浸漬
して、該基板12の周囲に銅の薄膜から成る無電解メッ
キ膜21を形成する。First, in the electroless plating step, FIG.
As shown in FIG. 1, a substrate 12 made of a dielectric material such as resin, prepreg, ceramics, or the like is immersed in, for example, a plating solution to form an electroless plating film 21 made of a thin copper film around the substrate 12. .
【0024】次に、積層造形工程においては、図5
(a)に示されるように、無電解メッキ膜21が形成さ
れた前記基板12を昇降テーブル22上に載置し、該昇
降テーブル22上の全面を銅粉末23で覆う。この場
合、銅粉末23の表面の数μm程度下に前記基板12の
上面が位置するようにする。なお、前記昇降テーブル2
2は図示されない昇降駆動源によって上方又は下方へ移
動させられる。Next, in the additive manufacturing process, FIG.
As shown in (a), the substrate 12 on which the electroless plating film 21 is formed is placed on a lifting table 22, and the entire surface of the lifting table 22 is covered with copper powder 23. In this case, the upper surface of the substrate 12 is positioned about several μm below the surface of the copper powder 23. The lifting table 2
2 is moved upward or downward by a lifting drive source (not shown).
【0025】また、前記昇降テーブル22及び銅粉末2
3の周囲は図示されない周壁部材で囲われていて、前記
銅粉末23が周囲に散逸しないようになっている。The lifting table 22 and the copper powder 2
The periphery of 3 is surrounded by a peripheral wall member (not shown) so that the copper powder 23 does not escape to the periphery.
【0026】そして、前記昇降テーブル22の図におけ
る上方には、レーザ発振器24が配設される。該レーザ
発振器24は、YAGレーザ、半導体レーザ、エキシマ
レーザ等のいかなる種類のレーザを発振するものであっ
てもよいが、波長、エネルギーの強さ等の観点から、C
O2 (炭酸ガス)レーザ発振器であるのが望ましい。ま
た、前記レーザ発振器24が配設される位置はいかなる
場所であってもよいが、レーザ光24aの光路長があま
り長くならない場所が望ましい。A laser oscillator 24 is disposed above the elevation table 22 in the figure. The laser oscillator 24 may oscillate any type of laser, such as a YAG laser, a semiconductor laser, an excimer laser, etc., but from the viewpoints of wavelength, energy intensity, etc.
An O 2 (carbon dioxide) laser oscillator is preferred. Further, the position where the laser oscillator 24 is provided may be any place, but a place where the optical path length of the laser beam 24a is not so long is desirable.
【0027】さらに、前記昇降テーブル22の図におけ
る上方には、スキャニングミラー25が配設される。該
スキャニングミラー25は、図示されないミラー駆動源
によって駆動されて揺動し、前記レーザ発振器24から
のレーザ光24aを反射して、前記昇降テーブル22を
覆う銅粉末23の表面を走査させる。Further, a scanning mirror 25 is disposed above the elevation table 22 in the figure. The scanning mirror 25 is driven and oscillated by a mirror driving source (not shown) to reflect the laser beam 24 a from the laser oscillator 24 and scan the surface of the copper powder 23 covering the lifting table 22.
【0028】また、本実施の形態においては、図示され
ない制御装置が配設される。該制御装置は、演算手段、
記憶手段、入力手段、表示手段、入出力インターフェイ
ス等を有し、前記昇降駆動源、レーザ発振器24、ミラ
ー駆動源等の動作を制御する。In this embodiment, a control device (not shown) is provided. The control device includes: an arithmetic unit;
It has a storage means, an input means, a display means, an input / output interface and the like, and controls the operations of the elevation drive source, the laser oscillator 24, the mirror drive source and the like.
【0029】一方、プリント配線板上に形成される配線
パターンの立体形状を重層する水平な複数の二次元平面
でスライスしたスライスデータを、あらかじめCAD装
置等の図示されないコンピュータ又は前記制御装置を使
用して作成し、該制御装置の記憶手段に格納する。On the other hand, slice data obtained by slicing a plurality of horizontal two-dimensional planes overlapping a three-dimensional shape of a wiring pattern formed on a printed wiring board is obtained by using a computer (not shown) such as a CAD device or the control device in advance. And stored in the storage means of the control device.
【0030】そして、前記スライスデータに基づいて、
前記レーザ発振器24、ミラー駆動源及び昇降駆動源を
作動させ、レーザ光24aを走査させて銅粉末23を焼
結させることによって、前記配線パターンの二次元平面
を1層ずつ形成して積層させ、前記基板12の表面上に
前記配線パターンを形成する積層造形により、前記基板
12の無電解メッキ膜21上に、図5(b)に示される
ように、配線パターン23aが形成される。Then, based on the slice data,
By activating the laser oscillator 24, the mirror driving source and the lifting driving source, scanning the laser beam 24a and sintering the copper powder 23, two-dimensional planes of the wiring pattern are formed one by one and laminated, As shown in FIG. 5B, a wiring pattern 23a is formed on the electroless plated film 21 of the substrate 12 by the additive manufacturing for forming the wiring pattern on the surface of the substrate 12.
【0031】ここで、前記積層造形工程の動作原理を説
明する。Here, the operation principle of the above-mentioned additive manufacturing process will be described.
【0032】まず、成形すべき立体形状を重層する水平
な複数の二次元平面でスライスしたスライスデータを作
成し、前記制御装置の記憶手段に格納する。First, slice data is sliced on a plurality of horizontal two-dimensional planes on which a three-dimensional shape to be formed is layered, and stored in the storage means of the control device.
【0033】そして、図6(a)に示されるように、前
記レーザ発振器24及びミラー駆動源を作動させ、前記
レーザ発振器24からのレーザ光24aをスキャニング
ミラー25によって反射させて、銅粉末23を前記スラ
イスデータに従って走査させる。前記レーザ光24aを
受けた銅粉末23は焼結するので、これによって、前記
成形すべき立体形状23bの最下層の二次元平面が形成
される。Then, as shown in FIG. 6A, the laser oscillator 24 and the mirror driving source are operated, and the laser beam 24a from the laser oscillator 24 is reflected by the scanning mirror 25, and the copper powder 23 is removed. Scanning is performed according to the slice data. The copper powder 23 that has received the laser beam 24a is sintered, thereby forming the lowermost two-dimensional plane of the three-dimensional shape 23b to be formed.
【0034】なお、実際に基板12の無電解メッキ膜2
1上に配線パターン23bを形成する場合には、前記最
下層の二次元平面は、基板12の無電解メッキ膜21の
直上に位置し、該無電解メッキ膜21に密着する。The electroless plating film 2 of the substrate 12 is actually
When the wiring pattern 23b is formed on the substrate 1, the lowermost two-dimensional plane is located immediately above the electroless plating film 21 of the substrate 12, and is in close contact with the electroless plating film 21.
【0035】次に、図6(b)に示されるように、前記
昇降駆動源によって昇降テーブル22が前記二次元平面
の1層分だけ下方に移動させられる。この場合、前記昇
降テーブル22を覆う銅粉末23の表面の高さが変化し
ないように、前記二次元平面の1層分だけ前記銅粉末2
3が補充される。Next, as shown in FIG. 6B, the lifting table 22 is moved downward by one layer of the two-dimensional plane by the lifting drive source. In this case, the copper powder 2 is covered by one layer of the two-dimensional plane so that the height of the surface of the copper powder 23 covering the lifting table 22 does not change.
3 is replenished.
【0036】続いて、前述されたように前記レーザ光2
4aを走査させると、該レーザ光24aを受けた銅粉末
23が焼結し、前記最下層の二次元平面の直上に、立体
形状23bの下から2番目の層の二次元平面が形成され
て最下層の二次元平面に密着する。Subsequently, as described above, the laser light 2
4A, the copper powder 23 receiving the laser beam 24a is sintered, and a two-dimensional plane of the second layer from the bottom of the three-dimensional shape 23b is formed immediately above the two-dimensional plane of the lowermost layer. It adheres to the lowermost two-dimensional plane.
【0037】以降、前述されたようなレーザ光24aの
走査による1層毎の二次元平面の形成と、昇降テーブル
22の1層分の下方への移動とを繰り返すことによっ
て、立体形状23bが成形される。すなわち、スライス
データに基づいてレーザ光24aを走査させて基板12
を覆う銅粉末23を焼結させることによって、立体形状
23bの二次元平面を1層ずつ形成して積層させ、前記
昇降テーブル22上に立体形状23bが形成される。こ
の場合、1層毎にレーザ光24aの走査範囲を徐々に変
更してゆくと、図6(c)に示されるように、複雑な断
面の立体形状23bを成形することができる。Thereafter, the three-dimensional shape 23b is formed by repeating the above-described formation of a two-dimensional plane for each layer by scanning with the laser beam 24a and downward movement of the lifting table 22 for one layer. Is done. That is, the laser beam 24a is scanned based on the slice data to
By sintering the copper powder 23 covering the surface, the two-dimensional planes of the three-dimensional shape 23b are formed one by one and laminated, and the three-dimensional shape 23b is formed on the elevating table 22. In this case, as the scanning range of the laser beam 24a is gradually changed for each layer, a three-dimensional shape 23b having a complicated cross section can be formed as shown in FIG.
【0038】最後に、研磨工程において、積層造形工程
によって配線パターン23aが形成された基板12上か
ら不要な無電解メッキ膜21を除去する。すなわち、図
7(a)(図5(b)と同一構造)に示されるような、
周囲に無電解メッキ膜21を有し、該無電解メッキ膜2
1上に配線パターン23aが形成された基板12の全面
に、一般的なサンドブラスト処理によって砥(と)粒を
面に垂直な方向から吹き付ける。これにより、前記基板
12の全面が研磨される。そして、前記配線パターン2
3aが形成されなかった部分の無電解メッキ膜21が除
去された時点で前記サンドブラスト処理を停止すると、
図7(b)に示されるように、表面に不要な無電解メッ
キ膜21がなく、配線パターン23aが形成された基板
12を得ることができる。Finally, in the polishing step, the unnecessary electroless plating film 21 is removed from the substrate 12 on which the wiring pattern 23a has been formed by the lamination molding step. That is, as shown in FIG. 7A (the same structure as FIG. 5B),
An electroless plating film 21 having an electroless plating film 21 therearound.
Abrasive (and) grains are sprayed from a direction perpendicular to the surface by general sandblasting on the entire surface of the substrate 12 on which the wiring pattern 23a is formed. Thus, the entire surface of the substrate 12 is polished. And the wiring pattern 2
When the sandblasting process is stopped when the portion of the electroless plating film 21 where the 3a is not formed is removed,
As shown in FIG. 7B, the substrate 12 on which the wiring pattern 23a is formed without the unnecessary electroless plating film 21 on the surface can be obtained.
【0039】このように、本実施の形態においては、プ
リント配線板の配線パターン23a形成に必要であった
フォトマスクの製作が不要になるので、アートワーク工
程が不要になる。したがって、前記配線パターン23a
の形成におけるフォトマスクの製作時間を短縮すること
ができるので、生産性を向上させることができる。As described above, in the present embodiment, the production of the photomask required for forming the wiring pattern 23a of the printed wiring board is not required, so that the artwork step is not required. Therefore, the wiring pattern 23a
The production time of the photomask in the formation of the photomask can be shortened, so that the productivity can be improved.
【0040】また、フォトマスクを使用しないので、フ
ォトマスクの製作時に描画された配線パターンに欠陥が
生じたり、前記フォトマスクを貼付する際に、ごみが入
ったり、描画された配線パターン23aが破損したり、
温湿度の変化によって前記フォトマスクが伸縮したりす
ることがないので、これらに起因する配線パターン23
aの断線、欠損、短絡等が生じることがない。Further, since the photomask is not used, a defect occurs in the wiring pattern drawn at the time of manufacturing the photomask, dust is generated when the photomask is attached, or the drawn wiring pattern 23a is damaged. Or
Since the photomask does not expand or contract due to changes in temperature and humidity, the wiring pattern 23
There is no disconnection, loss, short circuit, etc. of a.
【0041】さらに、ごみが付着したり、破損したり、
温湿度の変化によって伸縮したりしないように前記フォ
トマスクを保管するための特殊な設備が必要ないので、
コストを低くすることができ、煩雑な作業も不要にな
る。Furthermore, dust adheres or breaks,
Since no special equipment is required to store the photomask so that it does not expand or contract due to changes in temperature and humidity,
Cost can be reduced, and complicated work is not required.
【0042】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。なお、前記第1の実施の形態と同じ構造及び
同じ方法については、説明を省略する。Next, a second embodiment of the present invention will be described. The description of the same structure and the same method as in the first embodiment will be omitted.
【0043】図8は本発明の第2の実施の形態における
積層造形工程の工程断面図、図9は本発明の第2の実施
の形態における研磨工程の工程断面図である。FIG. 8 is a process sectional view of a lamination molding process according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a process sectional view of a polishing process according to the second embodiment of the present invention.
【0044】まず、前記第1の実施の形態と同様の方法
によって、周囲に無電解メッキ膜21が形成された基板
12の一方の面に積層造形工程を施し、図8(a)に示
されるように、前記無電解メッキ膜21上に配線パター
ン23aを形成する。次に、前記基板12を反転して、
他方の面にも積層造形工程を施し、図8(b)に示され
るように、両面の無電解メッキ膜21上に配線パターン
23aが形成された基板12を得る。First, by a method similar to that of the first embodiment, a lamination molding process is performed on one surface of the substrate 12 on which the electroless plating film 21 is formed, as shown in FIG. 8A. Thus, the wiring pattern 23a is formed on the electroless plating film 21. Next, the substrate 12 is inverted.
The other surface is also subjected to the additive manufacturing process to obtain the substrate 12 having the wiring pattern 23a formed on the electroless plating films 21 on both surfaces, as shown in FIG. 8B.
【0045】最後に、研磨工程において、図9(a)
(図8(b)と同一構造)に示されるような、周囲に無
電解メッキ膜21を有し、対向する2表面の無電解メッ
キ膜21上に配線パターン23aが形成された基板12
の全面に、サンドブラスト処理によって砥粒を吹き付
け、前記配線パターン23aが形成されなかった部分の
無電解メッキ膜21を除去する。そして、図9(b)に
示されるように、対向する2表面に配線パターン23a
が形成された基板12を得ることができる。Finally, in the polishing step, FIG.
As shown in FIG. 8 (b), a substrate 12 having an electroless plating film 21 therearound and having a wiring pattern 23a formed on the two opposing electroless plating films 21
Abrasive particles are sprayed on the entire surface of the substrate by sandblasting to remove the electroless plating film 21 at the portion where the wiring pattern 23a is not formed. Then, as shown in FIG. 9B, the wiring patterns 23a are formed on the two opposing surfaces.
Can be obtained.
【0046】このように、本実施の形態においては、基
板12の対向する2表面に配線パターン23aを形成す
る場合に必要であった2枚のフォトマスクの製作が不要
になる。したがって、プリント配線板が両面プリント配
線板である場合のフォトマスクの製作時間を短縮するこ
とができるので、生産性を向上させることができる。As described above, in the present embodiment, it is not necessary to manufacture two photomasks which are necessary when forming the wiring pattern 23a on the two opposing surfaces of the substrate 12. Therefore, the manufacturing time of the photomask when the printed wiring board is a double-sided printed wiring board can be shortened, and the productivity can be improved.
【0047】次に、本発明の第3の実施の形態について
説明する。なお、前記第1及び第2の実施の形態と同じ
構造及び同じ方法については、説明を省略する。Next, a third embodiment of the present invention will be described. The description of the same structure and the same method as in the first and second embodiments will be omitted.
【0048】図10は本発明の第3の実施の形態におけ
る無電解メッキ工程の工程断面図、図11は本発明の第
3の実施の形態における積層造形工程の工程断面図、図
12は本発明の第3の実施の形態における研磨工程の工
程断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a process of an electroless plating process according to a third embodiment of the present invention, FIG. 11 is a sectional view showing a process of an additive manufacturing process according to the third embodiment of the present invention, and FIG. It is a process sectional view of a polish process in a 3rd embodiment of the present invention.
【0049】まず、無電解メッキ工程においては、図1
0に示されるように、略三角形状の断面形状を有する基
板31の周囲に銅の薄膜から成る無電解メッキ膜21を
形成する。First, in the electroless plating step, FIG.
As shown at 0, an electroless plating film 21 made of a copper thin film is formed around a substrate 31 having a substantially triangular cross section.
【0050】次に、積層造形工程においては、図11
(a)に示されるように、無電解メッキ膜21が形成さ
れた前記基板31を昇降テーブル22上に載置し、該昇
降テーブル22上を銅粉末23で覆う。この場合、前記
基板31の最周辺部分の上面は銅粉末23の表面の数μ
m程度下に位置し、前記基板31の中心部分は銅粉末2
3の表面から露出するようにする。Next, in the additive manufacturing process, FIG.
As shown in (a), the substrate 31 on which the electroless plating film 21 is formed is placed on a lifting table 22, and the lifting table 22 is covered with copper powder 23. In this case, the upper surface of the outermost peripheral portion of the substrate 31 has several μm of the surface of the copper powder 23.
m, and the central portion of the substrate 31 is a copper powder 2
3 to be exposed from the surface.
【0051】そして、あらかじめ作成された配線パター
ンの立体形状を重層する水平な複数の二次元平面でスラ
イスしたスライスデータに基づいて、レーザ光24aを
走査させて銅粉末23を焼結させると、前記銅粉末23
で覆われた基板31の最周辺部分の上面に配線パターン
23aの1層の二次元平面が形成される。Then, based on slice data obtained by slicing a plurality of horizontal two-dimensional planes in which a three-dimensional shape of a wiring pattern prepared in advance is layered, the copper powder 23 is sintered by scanning with a laser beam 24a. Copper powder 23
A one-layer two-dimensional plane of the wiring pattern 23a is formed on the upper surface of the outermost peripheral portion of the substrate 31 covered with.
【0052】以降、レーザ光24aの走査による1層毎
の二次元平面の形成と、昇降テーブル22の1層分の下
方への移動とを繰り返すことによって、図11(b)に
示されるように、略三角形状の断面形状を有する基板3
1の周辺部分から中心部分に向かって徐々に配線パター
ン23aが成形される。Thereafter, the formation of a two-dimensional plane for each layer by scanning with the laser beam 24a and the downward movement of the lifting table 22 for one layer are repeated, as shown in FIG. Substrate 3 having a substantially triangular cross section
The wiring pattern 23a is gradually formed from the peripheral portion toward the central portion.
【0053】最後に、研磨工程において、周囲の無電解
メッキ膜21上に配線パターン23aが形成された略三
角形状の断面形状を有する図12(a)に示されるよう
な基板31に、サンドブラスト処理によって砥粒を吹き
付け、前記配線パターン23aが形成されなかった部分
の無電解メッキ膜21を除去する。そして、図12
(b)に示されるように、配線パターン23aが形成さ
れた基板31を得ることができる。Finally, in a polishing step, a substrate 31 having a substantially triangular cross-sectional shape in which a wiring pattern 23a is formed on the surrounding electroless plating film 21 as shown in FIG. Abrasive grains are sprayed to remove the electroless plating film 21 at the portion where the wiring pattern 23a is not formed. And FIG.
As shown in (b), the substrate 31 on which the wiring pattern 23a is formed can be obtained.
【0054】このように、本実施の形態においては、柔
軟性に乏しいフォトマスクが不要であるので、基板31
が三次元形状(立体形状)を有する場合や基板31が曲
がっていたり歪(ゆが)んでいる場合のように、基板3
1の表面が平面でなく三次元形状を有する場合であって
も、配線パターン形成を行うことができる。As described above, in the present embodiment, since a photomask having low flexibility is not required, the substrate 31
Has a three-dimensional shape (three-dimensional shape), or when the substrate 31 is bent or distorted (distorted).
The wiring pattern can be formed even when the surface of the substrate 1 is not flat but has a three-dimensional shape.
【0055】次に、本発明の第4の実施の形態について
説明する。なお、前記第1〜第3の実施の形態と同じ構
造及び同じ方法については、説明を省略する。Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. The description of the same structure and the same method as those of the first to third embodiments will be omitted.
【0056】図13は本発明の第4の実施の形態におけ
る積層造形工程の工程断面図、図14は本発明の第4の
実施の形態における研磨工程の工程断面図である。FIG. 13 is a sectional view showing a step of a lamination molding process according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a sectional view showing a polishing step according to the fourth embodiment of the present invention.
【0057】まず、積層造形工程においては、図13
(a)に示されるように、無電解メッキ膜21が形成さ
れた基板12を昇降テーブル22上に配置し、該昇降テ
ーブル22上を銅粉末23で覆う。続いて、、あらかじ
め作成された配線パターンの立体形状を重層する水平な
複数の二次元平面でスライスしたスライスデータに基づ
いて、レーザ光24aを走査させることによる1層毎の
二次元平面の形成と、昇降テーブル22の1層分の下方
への移動とを繰り返すことによって、図13(b)に示
されるように、高さの相違する配線パターン23aが成
形される。First, in the additive manufacturing process, FIG.
As shown in (a), the substrate 12 on which the electroless plating film 21 is formed is arranged on a lifting table 22, and the lifting table 22 is covered with copper powder 23. Subsequently, based on slice data sliced on a plurality of horizontal two-dimensional planes in which a three-dimensional shape of a wiring pattern created in advance is formed, a two-dimensional plane is formed for each layer by scanning with a laser beam 24a. By repeating the downward movement of the lifting table 22 for one layer, the wiring patterns 23a having different heights are formed as shown in FIG. 13B.
【0058】最後に、研磨工程において、周囲の無電解
メッキ膜21上に高さの相違する配線パターン23aが
形成された図14(a)(図13(b)と同一構造)に
示されるような基板21に、サンドブラスト処理によっ
て砥粒を吹き付け、前記配線パターン23aが形成され
なかった部分の無電解メッキ膜21を除去する。そし
て、図14(b)に示されるように、高さの相違する配
線パターン23aが形成された基板21を得ることがで
きる。Finally, in the polishing step, wiring patterns 23a having different heights are formed on the surrounding electroless plating film 21 as shown in FIG. 14A (the same structure as FIG. 13B). Abrasive particles are sprayed onto the transparent substrate 21 by sandblasting to remove the electroless plating film 21 at the portion where the wiring pattern 23a is not formed. Then, as shown in FIG. 14B, the substrate 21 on which the wiring patterns 23a having different heights are formed can be obtained.
【0059】このように、本実施の形態においては、高
さの相違する配線パターン23aを形成することができ
るので、配線パターン23aの任意の部分に局部的に肉
付けを行うことができ、プリント配線板の配線の任意の
箇所の電気特性、回路特性等を任意に変化させることが
できる。As described above, in the present embodiment, since the wiring patterns 23a having different heights can be formed, it is possible to locally thicken an arbitrary portion of the wiring pattern 23a, and to perform printed wiring. It is possible to arbitrarily change electrical characteristics, circuit characteristics, and the like of an arbitrary portion of the wiring of the board.
【0060】次に、本発明の第5の実施の形態について
説明する。なお、前記第1〜第4の実施の形態と同じ構
造及び同じ方法については、説明を省略する。Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. The description of the same structure and the same method as those of the first to fourth embodiments will be omitted.
【0061】図15は本発明の第5の実施の形態におけ
る積層造形の工程断面図、図16は本発明の第5の実施
の形態における研磨の工程断面図、図17は本発明の第
5の実施の形態により形成された配線パターンへの部品
の搭載状態を示す断面図である。FIG. 15 is a sectional view showing a step of lamination molding according to the fifth embodiment of the present invention, FIG. 16 is a sectional view showing a polishing step according to the fifth embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state where components are mounted on a wiring pattern formed according to the embodiment.
【0062】まず、積層造形工程においては、図15
(a)に示されるように、無電解メッキ膜21が形成さ
れた基板12を昇降テーブル22上に載置し、該昇降テ
ーブル22上を銅粉末23で覆う。続いて、あらかじめ
作成された配線パターンの立体形状を重層する水平な複
数の二次元平面でスライスしたスライスデータに基づい
て、レーザ光24aを走査させることによる1層毎の二
次元平面の形成と、昇降テーブル22の1層分の下方へ
の移動とを繰り返すことによって、図15(b)に示さ
れるように、1本ごとの配線の表面に凹凸が形成された
配線パターン23aが得られる。First, in the additive manufacturing process, FIG.
As shown in (a), the substrate 12 on which the electroless plating film 21 is formed is placed on a lifting table 22, and the lifting table 22 is covered with copper powder 23. Subsequently, based on slice data obtained by slicing a plurality of horizontal two-dimensional planes in which the three-dimensional shape of the wiring pattern created in advance is layered, forming a two-dimensional plane for each layer by scanning the laser beam 24a, By repeating the downward movement of the elevating table 22 for one layer, a wiring pattern 23a in which irregularities are formed on the surface of each wiring is obtained as shown in FIG.
【0063】最後に、研磨工程において、周囲の無電解
メッキ膜21上に配線パターン23aが形成された図1
6(a)(図15(b)と同一構造)に示されるような
基板21に、サンドブラスト処理によって砥粒を吹き付
け、前記配線パターン23aが形成されなかった部分の
無電解メッキ膜21を除去する。そして、図16(b)
に示されるように、1本ごとの配線の表面に凹凸が形成
された配線パターン23aを有する基板21を得ること
ができる。なお、前記凹凸の形状は、いかなる形状であ
ってもよい。Finally, in the polishing step, the wiring pattern 23a was formed on the surrounding electroless plating film 21 as shown in FIG.
6 (a) (same structure as in FIG. 15 (b)) is sprayed with abrasive grains by sandblasting on the substrate 21 to remove the electroless plating film 21 in the portion where the wiring pattern 23a is not formed. . Then, FIG.
As shown in (2), it is possible to obtain a substrate 21 having a wiring pattern 23a in which irregularities are formed on the surface of each wiring. In addition, the shape of the unevenness may be any shape.
【0064】そして、プリント配線板の配線パターン2
3aの、例えば、パット部分に、図17に示されるよう
に、QFP、BGA、CSP等の部品35を搭載する場
合には、該部品35に付着する半田ボール36が前記配
線の表面の凹部に嵌(は)まり込むので、前記部品35
の位置決め精度が向上するとともに、溶融した半田が散
逸せず、かつ、接触する面積も増大するので、半田付け
性も向上する。Then, the wiring pattern 2 of the printed wiring board
As shown in FIG. 17, when a component 35 such as a QFP, a BGA, or a CSP is mounted on, for example, a pad portion 3a, a solder ball 36 attached to the component 35 is placed in a concave portion on the surface of the wiring. The fitting 35
In addition to improving the positioning accuracy, the molten solder does not dissipate and the contact area increases, so that the solderability is also improved.
【0065】このように、本実施の形態においては、1
本ごとの配線の表面に任意の形状の凹凸を形成すること
ができるので、配線パターン23aの任意の部分に局部
的に肉付けを行うことができ、プリント配線板の配線の
任意の箇所の電気特性、回路特性等を任意に変化させる
ことができるだけでなく、配線パターン23aに部品3
5を搭載する場合に、部品35の位置決め精度が向上
し、半田付け性も向上する。As described above, in the present embodiment, 1
Since irregularities of an arbitrary shape can be formed on the surface of the wiring of each book, any portion of the wiring pattern 23a can be locally thickened, and the electrical characteristics of an arbitrary portion of the wiring of the printed wiring board can be improved. , Circuit characteristics and the like can be arbitrarily changed, and the component 3
5, the positioning accuracy of the component 35 is improved, and the solderability is also improved.
【0066】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させ
ることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除す
るものではない。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified based on the gist of the present invention, and they are not excluded from the scope of the present invention.
【0067】[0067]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、プリント配線板の配線パターン形成方法において
は、基板の表面に無電解メッキ膜を形成する無電解メッ
キ工程と、配線パターンの立体形状を重層する複数の二
次元平面でスライスしたスライスデータを作成し、該ス
ライスデータに基づいてレーザ光を走査させて前記基板
を覆う銅粉末を焼結させることによって、前記配線パタ
ーンの二次元平面を1層ずつ形成して積層させ、前記基
板の表面上に前記配線パターンを形成する積層造形工程
と、前記配線パターンが形成されない部分の前記無電解
メッキ膜を研磨することによって除去する研磨工程とを
有する。As described above in detail, according to the present invention, in the method for forming a wiring pattern of a printed wiring board, an electroless plating step of forming an electroless plating film on the surface of a substrate, By creating slice data sliced on a plurality of two-dimensional planes overlapping a three-dimensional shape, by scanning a laser beam based on the slice data and sintering copper powder covering the substrate, two-dimensional of the wiring pattern A lamination molding step of forming and laminating planes one by one and forming the wiring pattern on the surface of the substrate, and a polishing step of polishing and removing the electroless plating film in a portion where the wiring pattern is not formed. And
【0068】この場合、フォトマスクの製作が不要にな
るので、アートワーク工程が不要になり、配線パターン
の形成におけるフォトマスクの製作時間を短縮すること
ができるので、生産性を向上させることができる。In this case, the production of a photomask becomes unnecessary, so that an artwork process becomes unnecessary, and the production time of the photomask in forming a wiring pattern can be shortened, so that productivity can be improved. .
【0069】また、フォトマスクを使用しないので、フ
ォトマスクの製作時に描画された配線パターンに欠陥が
生じたり、前記フォトマスクを貼付する際に、ごみが入
ったり、描画された配線パターンが破損したり、温湿度
の変化によって前記フォトマスクが伸縮したりすること
がないので、これらに起因する配線パターンの断線、欠
損、短絡等が生じることがない。Further, since a photomask is not used, a defect occurs in a wiring pattern drawn at the time of manufacturing the photomask, dust is generated when the photomask is attached, and the drawn wiring pattern is damaged. Since the photomask does not expand or contract due to changes in temperature and humidity, disconnection, loss, short circuit, and the like of the wiring pattern due to these does not occur.
【0070】さらに、ごみが付着したり、破損したり、
温湿度の変化によって伸縮したりしないように前記フォ
トマスクを保管するための特殊な設備が必要ないので、
コストを低くすることができ、煩雑な作業も不要にな
る。Further, dust adheres or breaks,
Since no special equipment is required to store the photomask so that it does not expand or contract due to changes in temperature and humidity,
Cost can be reduced, and complicated work is not required.
【0071】また、他のプリント配線板の配線パターン
形成方法においては、前記基板の対向する2表面上に前
記配線パターンを形成する。In another wiring pattern forming method for a printed wiring board, the wiring pattern is formed on two opposing surfaces of the substrate.
【0072】この場合、基板の2面に配線パターンを形
成する場合に必要であった2枚のフォトマスクの製作が
不要になるので、プリント配線板が両面プリント配線板
である場合のフォトマスクの製作時間を短縮することが
できるので、生産性を向上させることができる。In this case, it is not necessary to manufacture two photomasks, which is necessary when forming a wiring pattern on two surfaces of the substrate. Therefore, when the printed wiring board is a double-sided printed wiring board, the photomask is not used. Since the manufacturing time can be shortened, productivity can be improved.
【0073】さらに、更に他のプリント配線板の配線パ
ターン形成方法においては、前記基板の表面は三次元形
状を有する。In still another method for forming a wiring pattern on a printed wiring board, the surface of the substrate has a three-dimensional shape.
【0074】この場合、柔軟性に乏しいフォトマスクが
不要であるので、基板の表面が平面でなくても配線パタ
ーン形成を行うことができる。In this case, since a photomask having poor flexibility is not required, a wiring pattern can be formed even if the surface of the substrate is not flat.
【0075】さらに、更に他のプリント配線板の配線パ
ターン形成方法においては、前記配線パターンは高さの
相違する部分を有する。Further, in still another method of forming a wiring pattern on a printed wiring board, the wiring pattern has portions having different heights.
【0076】この場合、配線パターンの任意の部分に局
部的に肉付けを行うことができ、プリント配線板の配線
の任意の箇所の電気特性、回路特性等を任意に変化させ
ることができる。In this case, an arbitrary portion of the wiring pattern can be locally thickened, and the electrical characteristics, circuit characteristics, and the like of the arbitrary portions of the wiring of the printed wiring board can be arbitrarily changed.
【0077】さらに、更に他のプリント配線板の配線パ
ターン形成方法においては、前記配線パターンは表面に
凹凸を有する。In still another method for forming a wiring pattern on a printed wiring board, the wiring pattern has irregularities on the surface.
【0078】この場合、配線パターンに部品を搭載する
場合に、部品の位置決め精度が向上し、半田付け性も向
上する。In this case, when components are mounted on the wiring pattern, the positioning accuracy of the components is improved, and the solderability is also improved.
【図1】本発明の第1の実施の形態におけるプリント配
線板の配線パターン形成方法のフローを示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a flow of a method for forming a wiring pattern on a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.
【図2】従来のプリント配線板の配線パターン形成方法
のフローを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a flow of a conventional method for forming a wiring pattern on a printed wiring board.
【図3】従来の配線パターン形成方法の工程断面図であ
る。FIG. 3 is a process sectional view of a conventional wiring pattern forming method.
【図4】本発明の第1の実施の形態における無電解メッ
キ工程の工程断面図である。FIG. 4 is a process sectional view of an electroless plating process according to the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第1の実施の形態における積層造形工
程の工程断面図である。FIG. 5 is a process sectional view of the additive manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第1の実施の形態における積層造形工
程の動作原理を説明する工程断面図である。FIG. 6 is a process cross-sectional view for explaining the operation principle of the additive manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第1の実施の形態における研磨工程の
工程断面図である。FIG. 7 is a process sectional view of a polishing process in the first embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第2の実施の形態における積層造形工
程の工程断面図である。FIG. 8 is a process cross-sectional view of the additive manufacturing process according to the second embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第2の実施の形態における研磨工程の
工程断面図である。FIG. 9 is a process sectional view of a polishing process according to the second embodiment of the present invention.
【図10】本発明の第3の実施の形態における無電解メ
ッキ工程の工程断面図である。FIG. 10 is a process sectional view of an electroless plating process according to a third embodiment of the present invention.
【図11】本発明の第3の実施の形態における積層造形
工程の工程断面図である。FIG. 11 is a process cross-sectional view of a layered manufacturing process according to the third embodiment of the present invention.
【図12】本発明の第3の実施の形態における研磨工程
の工程断面図である。FIG. 12 is a process sectional view of a polishing process according to a third embodiment of the present invention.
【図13】本発明の第4の実施の形態における積層造形
工程の工程断面図である。FIG. 13 is a process cross-sectional view of a layered manufacturing process in a fourth embodiment of the present invention.
【図14】本発明の第4の実施の形態における研磨工程
の工程断面図である。FIG. 14 is a process cross-sectional view of a polishing process according to a fourth embodiment of the present invention.
【図15】本発明の第5の実施の形態における積層造形
工程の工程断面図である。FIG. 15 is a process cross-sectional view of a layered manufacturing process in the fifth embodiment of the present invention.
【図16】本発明の第5の実施の形態における研磨工程
の工程断面図である。FIG. 16 is a process sectional view of a polishing process in a fifth embodiment of the present invention.
【図17】本発明の第5の実施の形態により形成された
配線パターンへの部品の搭載状態を示す断面図である。FIG. 17 is a sectional view showing a state where components are mounted on a wiring pattern formed according to a fifth embodiment of the present invention.
12 基板 21 無電解メッキ膜 23 銅粉末 23a 配線パターン 23b 立体形状 24 レーザ光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Substrate 21 Electroless plating film 23 Copper powder 23a Wiring pattern 23b Three-dimensional shape 24 Laser beam
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E339 BC02 BD03 BD08 BE03 EE05 5E343 AA02 AA12 BB16 BB24 BB71 BB78 DD33 DD69 DD76 ER45 ER47 FF11 GG11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E339 BC02 BD03 BD08 BE03 EE05 5E343 AA02 AA12 BB16 BB24 BB71 BB78 DD33 DD69 DD76 ER45 ER47 FF11 GG11
Claims (5)
成する無電解メッキ工程と、 (b)配線パターンの立体形状を重層する複数の二次元
平面でスライスしたスライスデータを作成し、該スライ
スデータに基づいてレーザ光を走査させて前記基板を覆
う銅粉末を焼結させることによって、前記配線パターン
の二次元平面を1層ずつ形成して積層させ、前記無電解
メッキ膜上に前記配線パターンを形成する積層造形工程
と、 (c)前記配線パターンが形成されない部分の前記無電
解メッキ膜を研磨することによって除去する研磨工程と
を有することを特徴とするプリント配線板の配線パター
ン形成方法。(A) an electroless plating step of forming an electroless plating film on the surface of a substrate; and (b) creating slice data obtained by slicing a plurality of two-dimensional planes in which a three-dimensional shape of a wiring pattern is overlaid; By scanning a laser beam based on the slice data and sintering the copper powder covering the substrate, two-dimensional planes of the wiring pattern are formed and laminated one by one, and the wiring pattern is formed on the electroless plating film. Forming a wiring pattern on a printed wiring board, comprising: a lamination modeling step of forming a wiring pattern; and (c) a polishing step of polishing and removing the electroless plating film in a portion where the wiring pattern is not formed. Method.
パターンを形成する請求項1に記載のプリント配線板の
配線パターン形成方法。2. The method according to claim 1, wherein the wiring patterns are formed on two opposing surfaces of the substrate.
求項1又は2に記載のプリント配線板の配線パターン形
成方法。3. The method according to claim 1, wherein the surface of the substrate has a three-dimensional shape.
を有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のプリント
配線板の配線パターン形成方法。4. The method for forming a wiring pattern on a printed wiring board according to claim 1, wherein said wiring pattern has portions having different heights.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のプリント配線板の
配線パターン形成方法。5. The method for forming a wiring pattern on a printed wiring board according to claim 1, wherein the wiring pattern has irregularities on the surface.
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