JP2002026168A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP2002026168A
JP2002026168A JP2000203057A JP2000203057A JP2002026168A JP 2002026168 A JP2002026168 A JP 2002026168A JP 2000203057 A JP2000203057 A JP 2000203057A JP 2000203057 A JP2000203057 A JP 2000203057A JP 2002026168 A JP2002026168 A JP 2002026168A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
leads
lead
semiconductor device
exposed
sealing body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000203057A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002026168A5 (ja
Inventor
Masahiro Saito
雅浩 斉藤
Toru Nagamine
徹 長峰
Kazuo Shimizu
一男 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2000203057A priority Critical patent/JP2002026168A/ja
Priority to TW090111982A priority patent/TWI249834B/zh
Priority to KR1020010028965A priority patent/KR100778174B1/ko
Priority to US09/881,716 priority patent/US6710429B2/en
Publication of JP2002026168A publication Critical patent/JP2002026168A/ja
Publication of JP2002026168A5 publication Critical patent/JP2002026168A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】アウタリード先端付近の切断されたレジンの周
辺に微小な欠けやクラックが発生しない、アウタリード
が樹脂封止体の底面で露出する半導体装置を提供するこ
と。 【解決手段】リードフレームにあらかじめプッシュバッ
ク材をリード間に存在させておき、モールド後プッシュ
バック材を突き落とすことにより、樹脂封止体底面で露
出するアウタリード間に封止樹脂が充填されない半導体
装置を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術、特に、片面モールドの半導体装置及びその製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、携帯機器を中心としてパッケージ
の小型化、軽量化が急速に進んできている。採用される
小型パッケージの実装形態をCSP(チップサイズパッ
ケージ又はチップスケールパッケージ)と一般に称して
おり、外部端子がパッケージ面に格子状に配列されるエ
リアアレイ型及び外部端子がパッケージ面の周辺部に配
列されるペリフェラル型に現在のところ大別されてい
る。エリアアレイ型には、FBGAとLBGA等があり、ペリフ
ェラル型には、SON(Small Out line Nonleaded packag
e)とQFN(Quad Flat Non-leaded package)等がある。ペ
リフェラル型のCSPとして代表的なパッケージ形態で
あるQFNは、例えば、特開平10―189830号公報
に記載されているような外形のものである。通常のQFP
(Quad Flat Package)との違いは、パッケージを小型
化・薄型化するために片面モールド技術を用い、実装面
積を小さくするために外部端子であるアウタリードがパ
ッケージの外部にほとんど突出しない構造をしており、
また、実装基板とのコンタクトをとるため、アウタリー
ドがパッケージの底面において露出する構造をしている
ことが掲げられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のSON及びQFNに
は、次のような問題点がある。
【0004】(1)アウタリード(SON及びQFNにおいて
は樹脂封止体から露出する面を含むリードの部分)間に
充填されたレジン(封止樹脂)はアウタリードと共に切
断されるため、特にアウタリード先端付近の切断された
レジンの周辺に微小な欠けやクラックが発生する。特に
上記欠けは樹脂封止体の周辺に付着し振動等によって落
下する可能性があり、特に、実装時にフットプリント上
への落下すると実装不良の原因となる。また、外観上も
問題が生ずる。
【0005】(2)アウタリード間に封止樹脂が充填さ
れるため、封止前にアウタリードの部分にメッキがされ
ていたとしても、アウタリードの側面はアウタリード間
の封止樹脂に埋まっておりメッキ面がほとんど露出しな
い。したがって、アウタリード側面のメッキはリードの
濡れ性の向上に寄与せず、結果、実装時のコンタクト性
の向上に寄与しない。
【0006】(3)アウターリード切断と共にリード間
の封止樹脂も切断しているので、封止前にアウタリード
の部分にメッキがされていたとしても、アウタリード先
端は切断面になるためメッキが存在しない。したがっ
て、切断面はリードの濡れ性は向上せず、実装時のコン
タクト性の向上に寄与しない。
【0007】本願において開示される発明のうち代表的
なものの目的は、問題点(1)(2)を解決できる半導
体装置及びその製造方法を提供することにある。また、
他の代表的な発明の目的は、問題点(1)(2)に加え
て(3)をも解決できる半導体装置及びその製造方法を
更に提供することにある。
【0008】本明細書に記載の発明のその他の目的及び
新規な特徴等については本明細書の記述並びに図面等か
ら明らかになるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願おいて開示される発
明のうち代表的なものの概要を説明すれば次の通りであ
る。
【0010】すなわち、複数のリード、第1の面、第2
の面及び該複数のリードの先端面が露出する4つの側面
を備える樹脂封止体を具備する半導体装置であって、該
リードが該第1の面と該第2の面との間において該第2
の面より該樹脂封止体の外へ突出し、該樹脂封止体の該
第1の面で露出し、該リードの上記突出部分の側面は露
出していることを特徴とする半導体装置である。
【0011】上記発明では、リードが第1の面と第2の
面との間において第2の面より該樹脂封止体の外へ突出
することで、リード切断時に少なくとも一辺に並ぶリー
ドをまとめて押さえることができるので、容易に一度で
切断することができる。
【0012】また、リードが樹脂封止体の第1の面で露
出するため、従来のQFP等のリードが樹脂封止体から
突出し、リード曲げが必要な形状の半導体装置に比べ
て、同等の実装コンタクト性を得ることが可能な実装時
の占有面積が格段に小さくなるので、実装密度の向上に
寄与する。
【0013】さらに、リードの突出部分の側面が露出し
ているので、リード先端付近の切断されたレジンの周辺
に微小な欠けやクラックが発生するおそれはない。ま
た、リード側面にレジンがないので、リードと、実装基
板側のリードとコンタクトをとる端子との間のハンダと
のコンタクトが十分にとれ、また、その検査を外観から
することが容易であり、リードにメッキが施されていれ
ば、メッキ面が露出することになるので、リードの濡れ
性が向上し、実装時のコンタクト性が向上する。
【0014】また、本願おいて開示される発明のうち他
の代表的なものの概要を説明すれば次の通りである。す
なわち、複数のリード、第1の面、第2の面及び該複数
のリードの先端面が露出する4つの側面を備える樹脂封
止体を具備する半導体装置であって、該リードが該第1
の面と該第2の面との間において該第2の面より該樹脂
封止体の外へ突出し、該突出部分の先端面には金属層が
付着され、該樹脂封止体の該第1の面で露出し、該リー
ドの上記突出部分の側面は露出していることを特徴とす
る半導体装置である。
【0015】リードが第1の面と第2の面との間におい
て第2の面より該樹脂封止体の外へ突出すること、リー
ドが樹脂封止体の第1の面で露出すること、リードの突
出部分の側面が露出していることについては上述の通り
であるが、さらに、突出部分の先端面には金属層が付着
されている。通常、本半導体装置を製造する際には、リ
ードフレームにメッキ等の金属層の付着を施した後に、
リードを切断するため、突出部分の先端面は金属層が残
ることはない。しかし、本発明においてはリードの先端
面に金属層が付着されるようにリードフレームの段階
(リード切断の前)で、リード先端面が露出するように
予め穴をあけておく。そうすることによって、特に、リ
ード間にレジンが埋まっている従来技術では実現不可能
だったリード先端面に金属層を付着させることができ
る。これにより、切断面も実装コンタクトに寄与するこ
ととなり、リードの濡れ性が向上し、実装時のコンタク
ト性が向上する。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。尚、実施の形態を説明するた
めの全図において同一機能を有するものは同一の符号を
付し、その繰り返しの説明は省略する。
【0017】本発明の一実施例である半導体装置は、リ
ードフレームは全面Pd(パラジウム)メッキされたもの
であり、従来のQFNと比較すると、底面で露出するリ
ードとリードの間が樹脂で埋まっていない半導体装置で
ある。本実施例では外形が3mm角で16ピンの小型パ
ッケージを例に掲げている。本実施例の半導体装置は、
樹脂封止体1の底面で露出しているリードの寸法よりも
大きい基板側の電極に接続されることで実装構造体を形
成する。以下、本実施例の半導体装置につき説明する。
【0018】図1には本実施例の半導体装置の上面図が
記載されている。樹脂封止体1の外形は3mm角であ
り、樹脂封止体1の側面からはリード2はその外形より
約0.1mm突出している。したがって、樹脂封止体1
にリード2を加えた半導体装置の外形は約3.2mmで
ある。リード2のリードピッチは0.5mmである。リ
ード2と同様に樹脂封止体1の面取りをした部分から吊
りリード3が突出している。面取り部分の寸法及び吊り
リードの突出部分の寸法はピン数等に依存する。また、
本実施例の半導体装置では吊りリード3の数は2本であ
る。これは4方向からタブを吊る通常のQFP等で用い
るタブのサイズ、チップサイズに比べて、本実施例にお
いては、パッケージサイズが小さいことに伴ってチップ
サイズも小さく、また、タブサイズも小さいため、相対
的に吊りリードの厚さが厚く、吊りリードの幅が広い。
そのため、2方向から吊ることでも十分な強度を確保で
きるからである。また、吊りリードの数を少なくするこ
とで、リード2のスペースを広くとることができる。
【0019】図2には本実施例の半導体装置の底面図、
図3には本実施例の半導体装置の側面図が記載されてい
る。リード2はパッケージ底面5に露出しており、ま
た、リード間ポケット6でその側面も露出している。し
たがって、リード間ポケット6はリード2の側面、樹脂
封止体のリード間露出面7、及び樹脂封止体のプッシュ
バック材先端接触面8とで構成される。具体的な寸法
は、リード間ポケット6の幅はリードピッチ0.5mm
の約半分である0.26mmであり、深さはリード厚さ
とほぼ同じ0.20mmである。また、リード間ポケッ
ト6の長さ(突出したリード部分を含めない、樹脂封止
体1の外形線から樹脂封止体の内側に向かっての長さ)
は0.125mmである。なお、リード2と吊りリード
3との間にもポケットが存在し、一辺の最外にあるリー
ドと他の辺の最外にあるリードとの間にもポケットが存
在するが、基本的には吊りリード3が吊りリードとして
の機能を果たす範囲の寸法であればよいため、ポケット
の寸法については省略する。吊りリード3自体の寸法は
幅が0.18mmであり、樹脂封止体内に封止されてい
る部分の幅0.20mmよりも狭くなっている。これ
は、タブ上げの際の曲げ応力の吸収を考慮したものであ
る。また、露出部分の長さはリード2の露出部分の長さ
約0.20mmとほぼ同じ長さである。
【0020】図4には図1におけるA-A断面での断面図
が記載されている。タブは0.115mmの高さでタブ
上げされている。これはタブの下に樹脂が充填されるこ
とでタブも含めた半導体チップを完全に樹脂封止するた
めである。このタブ上げ高さの最低限は0.10mmで
ある。この高さ以下になるとタブ下の樹脂が剥がれてし
まうおそれがあるからである。また、本実施例において
は、半導体チップで発生する熱についてはあまり問題に
ならないため行っていないが、放熱の必要がある場合に
は、タブ11を完全に樹脂封止するのではなく、逆にタ
ブ裏面を樹脂封止体外に露出させる形状にしてもよい。
タブを露出させることによって、特に実装基板とのコン
タクトを取れば、基板への放熱性がより向上する。半導
体チップ9の大きさは本実施例の半導体装置においては
1.1mm角である。リード2はタブ上げに併せて曲げ
られており、曲げに用いられているリード2の長さは
0.15mmである。本実施例ではタブが半導体チップ
よりも大きい場合について記載したが、これに限られる
ものではなく、タブの大きさが半導体チップよりも小さ
い、若しくはタブの大きさが吊りリードの幅まで狭くな
ったクロスタブを含む、所謂小タブ構造でもよい。
【0021】図5には本実施例の半導体装置の拡大斜視
図が記載されている。この図により、リード2及びリー
ド間ポケット6の形状、樹脂封止体のリード間露出面7
及び樹脂封止体のプッシュバック材先端接触面8の位置
が明らかとなる。
【0022】図6には半導体装置に用いるリードフレー
ムのうち、パッケージ一つ分のリードフレームパターン
が記載されている。リードフレーム13の厚さは0.2
0mm、タブ11の大きさは最大辺の長さは1.4〜
1.5mmであり、吊りリードのタブ上げ用の曲げ部分
の長さは約0.15mmとなっている。タブ上げ高さは
上述の通りである。リードフレームはリード2とリード
2との間、リード2と吊りリード3との間にはプッシュ
バック材12がある(図6の斜線部分)。プッシュバッ
ク材12はリード2、吊りリード3及びタブ11以外は
リード露出部線の付近まで存在し、その先のタブ11ま
での間には存在しないようにあらかじめ打ち抜き又はエ
ッチング等でリードフレーム13において形成される。
またプッシュバック材12とリード2とは切り込みが入
れられて櫛刃形状になっており、片持ちばりのようにリ
ードフレーム13の側で接続されている。本実施例の半
導体装置の製造方法では、リードフレームを全面Pd(パ
ラジウム)メッキを施し、タブ上げ並びにリード上げを
行った後、ダイボンディングでタブ11にダイボンディ
ング材を用いて半導体チップ9を接続し、ワイヤボンデ
ィングで半導体チップ9とリード2とをワイヤ10によ
って電気的に接続する。本実施例においてはワイヤ10
は金線ワイヤを用いている。その後、片面ラミネートモ
ールドを行う。
【0023】図7には半導体装置の基本的な製造フロー
が記載されている。同図中では上述の片面ラミネートモ
ールド前までの工程はすべて組立工程と称している。通
常のQFP等の半導体装置においては片面ラミネートモ
ールド工程、ラミネートテープ剥離工程がそもそもな
く、他にQFN等の片面ラミネートモールド工程を有す
る半導体装置の製造においても、プッシュバック材突き
落とし工程はあり得ないため、この工程の存在が本実施
例の半導体装置の製造方法の要諦である。ゲート切断工
程では、ゲートとキャビティを接続する樹脂を切断除去
し、ウォータージェット工程では、樹脂封止体に付着し
た不要なバリ及び欠けレジン等を洗浄により除去する。
なお、本実施例では片面ラミネートモールド法を用いた
が、この方法に限らず、片面をモールドできる工程であ
れば片面ラミネートモールド法に限られないことは言う
までもない。
【0024】図8にはプッシュバック材突き落とし工程
での半導体装置の断面図が記載されている。片面ラミネ
ートモールド工程で櫛刃形状のリードフレーム13に樹
脂封止を行う。この工程において、通常の片面ラミネー
トモールドではリード2間にプッシュバック材12がな
いため、リード2間には樹脂で埋まることになる。しか
し、本実施例においてはプッシュバック材12がリード
2間にあるため、樹脂で埋まることはない。続いて、ラ
ミネートテープ剥離工程で、ラミネートテープを剥離す
る。その後、プッシュバック材突き落とし工程で、プッ
シュバック材12を突き落とす(図9参照)。プッシュ
バック材12はリードフレーム13で櫛刃形状になって
おり、櫛刃の反対側はリードフレームに固定されてお
り、片持ち梁になっているため、突き落とすとは言って
も、リード2とプッシュバック材12が離れれば十分
(本実施例ではリードフレーム13の厚さ0.2mm程
度)であり、更に言えば、その後のリード切断工程でプ
ッシュバック材12が完全にリード2間から離れるので
あれば、リード2とプッシュバック材12が多少の接触
を持っても、すなわち完全に離れなくともよい。リード
先端のカット位置は図6のリード切断線14であり、図
8では図示の位置であり、樹脂封止体1の外形から0.
1mmリード2が突出する位置である。したがって、突
き落とし工程でリードフレーム13が歪む等の不具合が
発生しないと考えた場合には、リード切断線14の位置
は、プッシュバック材12がリードフレーム13と接続
されている位置と樹脂封止体1との間にあればよい。
【0025】以上では、リード切断工程でリード2とプ
ッシュバック材12とを一度に切断する場合を記載した
が、プッシュバック材突き落とし工程であるから、リー
ド切断工程ではプッシュバック材12を切断することを
要しないために、樹脂封止体1と反対側の方向にリード
切断線14よりも外に出るようにプッシュバック材12
を折り曲げるように突き落としてもよい。リード切断工
程で用いる刃の長寿命化をはかることができる。
【0026】上記の例ではリード先端切断工程が必要な
場合について述べたが、あらかじめ有効リード先端形成
している場合には存在しない工程である。その場合に
は、上記リード切断線14に相当するリード先端線があ
ることになるので、プッシュバック材12を切断するた
めに前記リード切断線よりも、若干、樹脂封止体1とは
反対側でプッシュバック材切断を行うことになる。
【0027】次に他の実施例2の説明をする。先の実施
例1との主な違いはリード2の側面に半田メッキがなさ
れているところである。図10には実施例2の半導体装
置の製造フローのうち組立工程以後、ゲート切断工程前
の主な工程が記載されている。図7との違いは、ラミネ
ートテープ剥離工程の後、プッシュバック材突き落とし
工程の間に、プッシュバック材折り曲げ工程及び半田電
界メッキ工程がある点である。
【0028】プッシュバック材折り曲げ工程では、半田
電界メッキ工程でリード2の側面をメッキ液に露出させ
る必要があるためプッシュバック材12を折り曲げる。
折り曲げる量はリード2の側面が露出するのに十分な量
である。すなわち本実施例においては、リード厚さ0.
2mm以上である。尚、半田電界メッキ工程では、その
目的がリード2の側面に半田メッキすることであるか
ら、電界メッキでなくとも良いことはいうまでもない。
さらに言えば、リード2に金属層を付着させることが目
的であるから、半田メッキ工程でなくともよい。尚、半
田メッキに用いる半田はSn-Pb(錫-鉛)系の半田でもよ
いし、Sn-Ag(錫-銀)系、Sn-Ag-Bi(錫-銀-ビスマス)
等の鉛フリー半田でもよいことは言うまでもない。
【0029】次に他の実施例3の説明をする。先の実施
例1との主な違いはリード2の先端にはんだメッキがな
されるところである。図11には実施例3の半導体装置
の製造フローが記載されている。図7との違いは、ラミ
ネートテープ剥離工程の後、プッシュバック材突き落と
し工程の間に、半田電界メッキ工程がある点である。実
施例3に用いるリードフレームは実施例1及び実施例2
とは異なるリードフレームであり、図12に記載されて
いる。図6との主な違いは、リード2の先端にメッキ用
穴17が存在する点である。メッキ用穴17の位置は樹
脂封止体外形線15の0.1mm外側である。したがっ
て、本実施例においてはリード先端切断工程は存在しな
い。このように本来、リード切断された後に露出する面
であるため、メッキすることが不可能なリードの先端面
をメッキ用穴17をあらかじめ設けることにより、樹脂
封止後にリード先端が露出するため、メッキを行うこと
が可能になる。それと同時にリード先端切断工程を省略
することが可能になるため、コストの削減にも寄与する
ことになる。
【0030】さらに、工程数が増えてしまうが、実施例
2及び実施例3を組み合わせることにより、リード2の
側面及び先端にメッキが施された半導体装置を得ること
ができる。リード2の側面及び先端にメッキが施された
半導体装置はメッキがないものに比べて実装のコンタク
ト性が飛躍的に向上することはいうまでもない。
【0031】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となったQFN及びその製造技術
に適用した場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、SON等の片面モールド等によってリード
が露出する形状に樹脂封止する半導体装置一般に適用す
ることができる。
【0032】
【発明の効果】本明細書に記載の発明によれば、アウタ
リード先端付近の切断されたレジンの周辺に微小な欠け
やクラックが発生せず、アウタリード間に封止樹脂が充
填されないため、外観から正常に実装基板とコンタクト
が保たれているか検査することが容易でありかつ、実装
時のコンタクト性が格段に向上する半導体装置を得るこ
とができる。また、更に、アウターリード先端にメッキ
を施すことが可能となるため、実装時のコンタクト性が
さらに格段に向上する半導体装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の半導体装置の上面図。
【図2】実施例1の半導体装置の底面図。
【図3】実施例1の半導体装置の側面図。
【図4】図1におけるA-A断面での断面図。
【図5】実施例1の半導体装置の拡大斜視図。
【図6】実施例1及び実施例2の半導体装置に用いるリ
ードフレームの図。
【図7】実施例1の半導体装置の製造フローの図。
【図8】プッシュバック材突き落とし工程での半導体装
置の断面図。
【図9】プッシュバック材突き落としの拡大斜視図。
【図10】実施例2の半導体装置の製造フローの図。
【図11】実施例3の半導体装置の製造フローの図。
【図12】実施例3の半導体装置に用いるリードフレー
ムの図。
【符号の説明】
1 樹脂封止体 2 リード 3 吊りリード 4 マーク 5 パッケージ底面(樹脂封止体底面) 6 リード間ポケット 7 樹脂封止体のリード間露出面 8 樹脂封止体のプッシュバック材先端接触面 9 半導体チップ 10 ワイヤ 11 タブ 12 プッシュバック材 13 リードフレーム 14 リード切断線 15 樹脂封止体外形線 16 リード露出部線 17 メッキ用穴。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/50 H01L 23/12 L (72)発明者 清水 一男 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA01 DA10 FA10 5F061 AA01 BA01 CA21 DD14 5F067 AA01 AA07 AB04 DC11

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数のリード、第1の面、第2の面及び該
    複数のリードの先端面が露出する4つの側面を備える樹
    脂封止体を具備する半導体装置であって、該リードが該
    第1の面と該第2の面との間において該第2の面より該
    樹脂封止体の外へ突出し、該樹脂封止体の該第1の面で
    露出し、該リードの上記突出部分の側面は露出している
    ことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】複数のリード、第1の面、該第1の面より
    面積が小さい第2の面及び該複数のリードの先端面が露
    出する4つの側面を備える樹脂封止体を具備する半導体
    装置において、該リードが該第1の面と該第2の面との
    間において該第2の面より樹脂封止体の外へ突出し、該
    樹脂封止体の該第1の面で露出し、該リードの側面の一
    部は露出していることを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】複数のリード、複数の吊りリード、第1の
    面、第2の面及び該複数のリードの先端面が露出する4
    つの側面を備える樹脂封止体を具備する半導体装置であ
    って、該吊りリードが該樹脂封止体の該第1の面で露出
    し、該リードが該第1の面と該第2の面との間において
    該第2の面より該樹脂封止体の外へ突出し、該樹脂封止
    体の該第1の面で露出し、該リードの上記突出部分の側
    面は露出していることを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】複数のリード、複数の吊りリード、第1の
    面、該第1の面より面積が小さい第2の面及び該複数の
    リードの先端面が露出する4つの側面を備える樹脂封止
    体を具備する半導体装置において、該吊りリードが該樹
    脂封止体の該第1の面で露出し、該リードが該第1の面
    と該第2の面との間において該第2の面より樹脂封止体
    の外へ突出し、該樹脂封止体の該第1の面で露出し、該
    リードの側面の一部は露出していることを特徴とする半
    導体装置。
  5. 【請求項5】複数のリード、第1の面、第2の面及び該
    複数のリードの先端面が露出する4つの側面を備える樹
    脂封止体を具備する半導体装置であって、該リードが該
    第1の面と該第2の面との間において該第2の面より該
    樹脂封止体の外へ突出し、該突出部分の先端面には金属
    層が付着され、該樹脂封止体の該第1の面で露出し、該
    リードの上記突出部分の側面は露出していることを特徴
    とする半導体装置。
  6. 【請求項6】複数のリード、第1の面、該第1の面より
    面積が小さい第2の面及び該複数のリードの先端面が露
    出する4つの側面を備える樹脂封止体を具備する半導体
    装置において、該リードが該第1の面と該第2の面との
    間において該第2の面より該樹脂封止体の外へ突出し、
    該突出部分の先端面には金属層が付着され、該樹脂封止
    体の該第1の面で露出し、該リードの側面の一部は露出
    していることを特徴とする半導体装置。
  7. 【請求項7】吊りリードは2本であることを特徴とする
    請求項3又は請求項4に記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】タブは上記樹脂封止体内に封止されている
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれに記載
    の半導体装置。
  9. 【請求項9】樹脂封止体と、該樹脂封止体の一つの面で
    一部が露出する複数のリードとを具備する半導体装置の
    製造方法であって、樹脂流入を抑制する部材を該複数の
    リード間に挟んだ状態で樹脂封止するモールド工程と、
    前記モールド工程後、該部材をリード間から離す工程と
    を有する半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】樹脂封止体と、該樹脂封止体の一つの面
    で一部が露出する複数のリードとを具備する半導体装置
    の製造方法であって、樹脂流入を抑制する部材を該複数
    のリード間に挟んだ状態で樹脂封止するモールド工程
    と、前記モールド工程後、該部材をリード間から離す工
    程と、該リードの先端を切断する工程とを有する半導体
    装置の製造方法。
  11. 【請求項11】樹脂封止体と、該樹脂封止体の一つの面
    で一部が露出する複数のリードとを具備する半導体装置
    の製造方法であって、樹脂流入を抑制する部材を該複数
    のリード間に挟んだ状態で樹脂封止するモールド工程
    と、前記モールド工程後、該部材をリード間から離す工
    程と、該リードに金属層を付着させる工程とを有する半
    導体装置の製造方法。
JP2000203057A 2000-06-30 2000-06-30 半導体装置およびその製造方法 Pending JP2002026168A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000203057A JP2002026168A (ja) 2000-06-30 2000-06-30 半導体装置およびその製造方法
TW090111982A TWI249834B (en) 2000-06-30 2001-05-18 Semiconductor device and its manufacturing method
KR1020010028965A KR100778174B1 (ko) 2000-06-30 2001-05-25 반도체장치 및 그 제조방법
US09/881,716 US6710429B2 (en) 2000-06-30 2001-06-18 Semiconductor device and process for production thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000203057A JP2002026168A (ja) 2000-06-30 2000-06-30 半導体装置およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002026168A true JP2002026168A (ja) 2002-01-25
JP2002026168A5 JP2002026168A5 (ja) 2005-06-30

Family

ID=18700505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000203057A Pending JP2002026168A (ja) 2000-06-30 2000-06-30 半導体装置およびその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6710429B2 (ja)
JP (1) JP2002026168A (ja)
KR (1) KR100778174B1 (ja)
TW (1) TWI249834B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006073600A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Renesas Technology Corp 半導体装置およびその製造方法
DE102005038443A1 (de) * 2005-08-16 2007-02-22 Robert Bosch Gmbh Sensoranordnung mit einem Substrat und mit einem Gehäuse und Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung
TWI405313B (zh) * 2010-03-31 2013-08-11 Quanta Comp Inc 具側邊接腳之積體電路封裝元件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0689241A2 (en) * 1991-10-17 1995-12-27 Fujitsu Limited Carrier for carrying semiconductor device
JP3012816B2 (ja) 1996-10-22 2000-02-28 松下電子工業株式会社 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3027954B2 (ja) * 1997-04-17 2000-04-04 日本電気株式会社 集積回路装置、その製造方法
US5986209A (en) * 1997-07-09 1999-11-16 Micron Technology, Inc. Package stack via bottom leaded plastic (BLP) packaging

Also Published As

Publication number Publication date
TWI249834B (en) 2006-02-21
US20020000674A1 (en) 2002-01-03
US6710429B2 (en) 2004-03-23
KR100778174B1 (ko) 2007-11-22
KR20020003082A (ko) 2002-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7439097B2 (en) Taped lead frames and methods of making and using the same in semiconductor packaging
KR100369393B1 (ko) 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법
US8102035B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
JP5959386B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
US6525406B1 (en) Semiconductor device having increased moisture path and increased solder joint strength
JP4860939B2 (ja) 半導体装置
JP2014007363A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP2005057067A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH11340409A (ja) リードフレームおよびその製造方法ならびに樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3436159B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2002076228A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2000058711A (ja) Cspのbga構造を備えた半導体パッケージ
JP2003174131A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2004247613A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4418764B2 (ja) 樹脂封止型半導体パッケージの製造方法
JP2002026168A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2002033345A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2017108191A (ja) 半導体装置
JP3503502B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP2002026192A (ja) リードフレーム
EP3840039B1 (en) A semiconductor device and corresponding method
JP4569048B2 (ja) 面実装型半導体パッケージおよびその製造方法
KR200159861Y1 (ko) 반도체 패키지
JP4311294B2 (ja) 電子装置およびその製造方法
KR100290783B1 (ko) 반도체 패키지

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041012

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041012

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20041012

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060613

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061017