JP2002025046A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分子量が整った潤滑剤を用い、耐久性の優れ
た磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも磁性層を形成した
後、真空蒸着法によって潤滑層を形成する磁気記録媒体
の製造方法において、分子量精製された潤滑剤を用い、
潤滑剤蒸気を前記磁性層又は磁性層上に形成した保護層
の表面に蒸着させることにより前記潤滑層を形成する。
た磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも磁性層を形成した
後、真空蒸着法によって潤滑層を形成する磁気記録媒体
の製造方法において、分子量精製された潤滑剤を用い、
潤滑剤蒸気を前記磁性層又は磁性層上に形成した保護層
の表面に蒸着させることにより前記潤滑層を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造方法に係り、特に高精度に分子量の整った潤滑剤を用
いて潤滑層を形成することのできる磁気記録媒体の製造
方法に関する。
造方法に係り、特に高精度に分子量の整った潤滑剤を用
いて潤滑層を形成することのできる磁気記録媒体の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、磁気記録媒体の最上層には、記
録ヘッドとの接触摺動による抵抗を低減するために潤滑
層が形成されており、使用する潤滑剤としてはパーフロ
ロポリエーテル等が一般に用いられる。そして真空蒸着
法により潤滑層を形成する方法が提案されている（特開
平７−２７２２６８）。一般にこれまで真空蒸着法に用
いていた市販のパーフロロポリエーテル系潤滑剤はその
分子量が約１,０００から約１５，０００まで分布が広
がり、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は約１．３程度であ
る。また、その市販の潤滑剤は品質不安定成分である低
分子量成分および未反応不純物成分が多く含まれてお
り、真空蒸着法のように潤滑剤を加熱し、かつ真空にし
て潤滑剤を蒸発させた場合、低分子領域から蒸発して高
分子領域へと徐々に蒸発して磁気記録媒体に蒸着されて
いく。すなわち、広い分子量分布ゆえに潤滑層形成工程
において、真空蒸着法を用いた場合、その生産始まりと
終わりとでは平均分子量が全く異なった潤滑層を形成す
ることになる。また、低分子領域と高分子領域とでは潤
滑剤加熱温度、真空度などを一定した条件で生産するこ
とができないので、制御が困難である。
録ヘッドとの接触摺動による抵抗を低減するために潤滑
層が形成されており、使用する潤滑剤としてはパーフロ
ロポリエーテル等が一般に用いられる。そして真空蒸着
法により潤滑層を形成する方法が提案されている（特開
平７−２７２２６８）。一般にこれまで真空蒸着法に用
いていた市販のパーフロロポリエーテル系潤滑剤はその
分子量が約１,０００から約１５，０００まで分布が広
がり、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は約１．３程度であ
る。また、その市販の潤滑剤は品質不安定成分である低
分子量成分および未反応不純物成分が多く含まれてお
り、真空蒸着法のように潤滑剤を加熱し、かつ真空にし
て潤滑剤を蒸発させた場合、低分子領域から蒸発して高
分子領域へと徐々に蒸発して磁気記録媒体に蒸着されて
いく。すなわち、広い分子量分布ゆえに潤滑層形成工程
において、真空蒸着法を用いた場合、その生産始まりと
終わりとでは平均分子量が全く異なった潤滑層を形成す
ることになる。また、低分子領域と高分子領域とでは潤
滑剤加熱温度、真空度などを一定した条件で生産するこ
とができないので、制御が困難である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】たとえば、１日の生産
の中で、生産初期段階では潤滑剤中の低分子量領域から
蒸着され、生産終了時には高分子量領域をもつ潤滑剤が
媒体に蒸着することになり、１日の生産の中で全く分子
量の異なった潤滑層を持った磁気記録媒体が生産される
可能性がある。低分子量領域の潤滑層を持った磁気記録
媒体は、高温雰囲気中においては潤滑層が低分子量であ
るため熱に弱く膜厚減少を起こす。したがって、設定さ
れた膜厚に対して薄くなり、ＣＳＳ等の耐久性が非常に
悪くなり最悪の場合クラッシュを引き起こす。また、高
分子領域の潤滑層は低分子領域のそれに比べ非常に粘性
が高いため、ＣＳＳなどでは磁気ヘッドがディスクへ吸
着してしまうといった障害が引き起こされる。したがっ
て、本発明の目的は、分子量が整った潤滑剤を真空蒸着
法に用いることによって安定した潤滑層を形成し、かつ
高温高湿あるいは低温低湿などのさまざまな環境下にお
いて耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することにあ
る。
の中で、生産初期段階では潤滑剤中の低分子量領域から
蒸着され、生産終了時には高分子量領域をもつ潤滑剤が
媒体に蒸着することになり、１日の生産の中で全く分子
量の異なった潤滑層を持った磁気記録媒体が生産される
可能性がある。低分子量領域の潤滑層を持った磁気記録
媒体は、高温雰囲気中においては潤滑層が低分子量であ
るため熱に弱く膜厚減少を起こす。したがって、設定さ
れた膜厚に対して薄くなり、ＣＳＳ等の耐久性が非常に
悪くなり最悪の場合クラッシュを引き起こす。また、高
分子領域の潤滑層は低分子領域のそれに比べ非常に粘性
が高いため、ＣＳＳなどでは磁気ヘッドがディスクへ吸
着してしまうといった障害が引き起こされる。したがっ
て、本発明の目的は、分子量が整った潤滑剤を真空蒸着
法に用いることによって安定した潤滑層を形成し、かつ
高温高湿あるいは低温低湿などのさまざまな環境下にお
いて耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的は、真空蒸着法
に市販のパーフロロポリエーテル系の潤滑剤を、ゲル浸
透クロマトグラフィー（以下ＧＰＣという）、超臨界抽
出（以下ＳＦＥという）などの装置を使って分子量精製
を行い、その精製された潤滑剤を真空蒸着法に用いるこ
とにより達成できる。
に市販のパーフロロポリエーテル系の潤滑剤を、ゲル浸
透クロマトグラフィー（以下ＧＰＣという）、超臨界抽
出（以下ＳＦＥという）などの装置を使って分子量精製
を行い、その精製された潤滑剤を真空蒸着法に用いるこ
とにより達成できる。
【０００５】市販のパーフロロポリエーテル系の潤滑剤
を、ＧＰＣ、ＳＦＥなどの装置を使って分子量分散度
（Ｍｗ／Ｍｎ）を限りなく小さくし、それを真空蒸着に
よって磁気記録媒体に蒸着することで潤滑剤膜を形成す
る。ここで分子量分散度とは、潤滑剤の分子量の広がり
を示し、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍ
ｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）によって表わされる。使用する
パーフロロポリエーテル系潤滑剤は液体潤滑剤、固体潤
滑剤どちらでも良く、また片末端基、両末端基などは限
定されない。また、末端基を変性させたものでも使うこ
とができる。しかしながら、重量平均分子量は２，００
０〜１２，０００までの範囲が良い。潤滑剤の重量平均
分子量が２，０００未満の場合、高温雰囲気中において
膜厚減少が起こりやすく、ＣＳＳ耐久性が劣化するので
好ましくなく、１２，０００を超える場合、粘性が高く
なることにより、ＣＳＳにおいて磁気ヘッドが磁気ディ
スクに吸着することになるので好ましくない。より好ま
しくは４，０００〜１０，０００の範囲が望ましい。ま
た分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１以下であることがさら
に望ましい。
を、ＧＰＣ、ＳＦＥなどの装置を使って分子量分散度
（Ｍｗ／Ｍｎ）を限りなく小さくし、それを真空蒸着に
よって磁気記録媒体に蒸着することで潤滑剤膜を形成す
る。ここで分子量分散度とは、潤滑剤の分子量の広がり
を示し、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍ
ｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）によって表わされる。使用する
パーフロロポリエーテル系潤滑剤は液体潤滑剤、固体潤
滑剤どちらでも良く、また片末端基、両末端基などは限
定されない。また、末端基を変性させたものでも使うこ
とができる。しかしながら、重量平均分子量は２，００
０〜１２，０００までの範囲が良い。潤滑剤の重量平均
分子量が２，０００未満の場合、高温雰囲気中において
膜厚減少が起こりやすく、ＣＳＳ耐久性が劣化するので
好ましくなく、１２，０００を超える場合、粘性が高く
なることにより、ＣＳＳにおいて磁気ヘッドが磁気ディ
スクに吸着することになるので好ましくない。より好ま
しくは４，０００〜１０，０００の範囲が望ましい。ま
た分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１以下であることがさら
に望ましい。
【０００６】上記パーフロロポリエーテル系潤滑剤の分
子量を精製する手段として、ＧＰＣ、ＳＦＥなどを用い
ると容易に分子量精製できる。この他、限界ろ過法、減
圧蒸留法、薄膜蒸留法、超臨界クロマト法、カラムクロ
マト法など上述した重量平均分子量および分散度（Ｍｗ
／Ｍｎ）を満足できるような分子量精製ができれば手法
は問わない。中でも、ＳＦＥは分子量分散度が１．１以
下の精製潤滑剤を容易に得ることができるので好まし
い。上記潤滑剤を蒸着する対象物としては、特に制限は
されないが、ハードディスクやフロッピー（登録商標）
ディスク、磁気テープなど通常公知の方法により基板ま
たはベースフィルム上に磁性層および保護層が形成され
ている磁気記録媒体が挙げられる。
子量を精製する手段として、ＧＰＣ、ＳＦＥなどを用い
ると容易に分子量精製できる。この他、限界ろ過法、減
圧蒸留法、薄膜蒸留法、超臨界クロマト法、カラムクロ
マト法など上述した重量平均分子量および分散度（Ｍｗ
／Ｍｎ）を満足できるような分子量精製ができれば手法
は問わない。中でも、ＳＦＥは分子量分散度が１．１以
下の精製潤滑剤を容易に得ることができるので好まし
い。上記潤滑剤を蒸着する対象物としては、特に制限は
されないが、ハードディスクやフロッピー（登録商標）
ディスク、磁気テープなど通常公知の方法により基板ま
たはベースフィルム上に磁性層および保護層が形成され
ている磁気記録媒体が挙げられる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を実施
例に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明に用いた
潤滑層真空蒸着装置の模式図で、この装置は真空チャン
バー内で片面ずつ潤滑剤を蒸着するようになっており、
片面の蒸着が終わると反転機構により磁気ディスクを反
転させ、残りの面に蒸着するようになっている。真空度
は流量調整可変バルブの調節により制御する。潤滑剤の
蒸発源として、加熱ヒータを用いている。
例に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明に用いた
潤滑層真空蒸着装置の模式図で、この装置は真空チャン
バー内で片面ずつ潤滑剤を蒸着するようになっており、
片面の蒸着が終わると反転機構により磁気ディスクを反
転させ、残りの面に蒸着するようになっている。真空度
は流量調整可変バルブの調節により制御する。潤滑剤の
蒸発源として、加熱ヒータを用いている。
【０００８】図１において、１はステンレス製シャー
レ、２は潤滑剤（ＧＰＣを使って精製を施したＦｏｍｂ
ｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００：この時の重量平均分子量は
４，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０８である）、３は加熱
用ヒータ、４は真空チャンバ、５は磁気ディスク、６は
ディスク用キャリア、７は流量調整用可変バルブ、８は
真空排気用ロータリーポンプ、９は真空排気用ターボポ
ンプである。
レ、２は潤滑剤（ＧＰＣを使って精製を施したＦｏｍｂ
ｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００：この時の重量平均分子量は
４，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０８である）、３は加熱
用ヒータ、４は真空チャンバ、５は磁気ディスク、６は
ディスク用キャリア、７は流量調整用可変バルブ、８は
真空排気用ロータリーポンプ、９は真空排気用ターボポ
ンプである。
【０００９】（実施例１）潤滑剤として、上記分子量精
製を施したパーフロロポリエーテル系液体潤滑剤を用い
た。潤滑剤２を１０ｇステンレス製シャーレ１に供給
し、加熱ヒータ３で加熱する。加熱源のステンレスシャ
ーレ１の温度は、シース熱電対にて８０℃±１０℃に温
度調節をおこなった。真空チャンバ４の中に、磁気ディ
スク５を設置し、真空チャンバ４内を１０-5Ｔｏｒｒに
なる様に調整し、１０秒間放置した。その後反転機構に
より残りの面にも潤滑剤を蒸着させ、その後、真空排気
用ロータリーポンプ８と真空排気用ターボポンプ９を停
止し、大気圧力になるまで放置し、磁気ディスクを取り
出し、フーリエ変換赤外分光装置（ＦＴＩＲ）にて潤滑
膜厚を測定した。磁気ディスク上に形成された潤滑膜厚
は、１０．０オングストロームであった。潤滑膜を形成
するために使用した磁気ディスクは、ガラス基板上に、
Ｃｒ下地層，ＣｏＣｒＰｔ磁性層，カーボン保護層を順
次スパッタリングにて形成したサンプルを用いた。
製を施したパーフロロポリエーテル系液体潤滑剤を用い
た。潤滑剤２を１０ｇステンレス製シャーレ１に供給
し、加熱ヒータ３で加熱する。加熱源のステンレスシャ
ーレ１の温度は、シース熱電対にて８０℃±１０℃に温
度調節をおこなった。真空チャンバ４の中に、磁気ディ
スク５を設置し、真空チャンバ４内を１０-5Ｔｏｒｒに
なる様に調整し、１０秒間放置した。その後反転機構に
より残りの面にも潤滑剤を蒸着させ、その後、真空排気
用ロータリーポンプ８と真空排気用ターボポンプ９を停
止し、大気圧力になるまで放置し、磁気ディスクを取り
出し、フーリエ変換赤外分光装置（ＦＴＩＲ）にて潤滑
膜厚を測定した。磁気ディスク上に形成された潤滑膜厚
は、１０．０オングストロームであった。潤滑膜を形成
するために使用した磁気ディスクは、ガラス基板上に、
Ｃｒ下地層，ＣｏＣｒＰｔ磁性層，カーボン保護層を順
次スパッタリングにて形成したサンプルを用いた。
【００１０】（実施例２）ＳＦＥ装置を使って精製した
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００の重量分子量は４，
２００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０７の潤滑剤を使用し真空蒸
着法で蒸着した。
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００の重量分子量は４，
２００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０７の潤滑剤を使用し真空蒸
着法で蒸着した。
【００１１】（実施例３）ＧＰＣ装置を使って精製した
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００の重量平均分子量は
３，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．１２の潤滑剤を使用し真
空蒸着法で蒸着した。
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００の重量平均分子量は
３，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．１２の潤滑剤を使用し真
空蒸着法で蒸着した。
【００１２】（実施例４）ＧＰＣ装置を使って精製した
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００の重量平均分子量は
４，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．２５の潤滑剤を使用し真
空蒸着法で蒸着した。
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＤＯＬ２０００の重量平均分子量は
４，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．２５の潤滑剤を使用し真
空蒸着法で蒸着した。
【００１３】（比較例）精製していないＦｏｍｂｌｉｎ
ＺＤＯＬ２０００（重量平均分子量が２，６００、Ｍ
ｗ／Ｍｎは１．３）を上記磁気ディスクに蒸着すること
以外は、実施例１〜４と同様にしてサンプルを作製し
た。図２は比較例で使用した未精製潤滑剤のアウジモン
ト社（Ａｕｓｉｍｏｎｔ）の潤滑剤ＺＤＯＬ２０００の
分子量分布（ａ）と、その諸特性（ｂ）を示したもので
ある。これらの磁気ディスクを、ＭＲヘッドスライダ
（磁気抵抗型ヘッドスライダー）を用い、６０℃、８０
％（高温高湿）、５℃，５％（低温低湿）における環境
で５万回のＣＳＳ試験をおこなった。結果を表１に示
す。また、ＭＲヘッドスライダを用いて、ランプロード
方式におけるヘッドと磁気ディスクの耐久試験であるヘ
ッドのロード・アンロード試験を６０℃、８０％（高温
高湿）、５℃，５％（低温低湿）の環境でおこなった。
結果を表１に示す。
ＺＤＯＬ２０００（重量平均分子量が２，６００、Ｍ
ｗ／Ｍｎは１．３）を上記磁気ディスクに蒸着すること
以外は、実施例１〜４と同様にしてサンプルを作製し
た。図２は比較例で使用した未精製潤滑剤のアウジモン
ト社（Ａｕｓｉｍｏｎｔ）の潤滑剤ＺＤＯＬ２０００の
分子量分布（ａ）と、その諸特性（ｂ）を示したもので
ある。これらの磁気ディスクを、ＭＲヘッドスライダ
（磁気抵抗型ヘッドスライダー）を用い、６０℃、８０
％（高温高湿）、５℃，５％（低温低湿）における環境
で５万回のＣＳＳ試験をおこなった。結果を表１に示
す。また、ＭＲヘッドスライダを用いて、ランプロード
方式におけるヘッドと磁気ディスクの耐久試験であるヘ
ッドのロード・アンロード試験を６０℃、８０％（高温
高湿）、５℃，５％（低温低湿）の環境でおこなった。
結果を表１に示す。
【００１４】
【表１】 表１に示すように、真空蒸着に精製したパーフロロポリ
エーテルを用いた実施例の磁気ディスクは、精製せずに
用いた比較例の磁気ディスクに比べて摩擦係数が小さ
く、５０，０００回のＣＳＳ耐久試験、４００，０００
回のロード・アンロード試験において、吸着やクラッシ
ュすることなく良好な耐久性が得られた。
エーテルを用いた実施例の磁気ディスクは、精製せずに
用いた比較例の磁気ディスクに比べて摩擦係数が小さ
く、５０，０００回のＣＳＳ耐久試験、４００，０００
回のロード・アンロード試験において、吸着やクラッシ
ュすることなく良好な耐久性が得られた。
【００１５】上記実施例では、パーフロロポリエーテル
系潤滑剤を例にあげたが、パーフロロアルキルポリエー
テル、磁気記録媒体などすでに潤滑剤として公知のもの
ならばいずれでもよい。また、真空蒸着法の利点とし
て、溶剤を使わず記録媒体に潤滑剤を形成できることで
コストダウンが可能である。また、ディップ法で形成し
ていたときには、ディスク表面には少なからず潤滑剤の
膜斑が存在したが、真空蒸着法ではその心配がない。
系潤滑剤を例にあげたが、パーフロロアルキルポリエー
テル、磁気記録媒体などすでに潤滑剤として公知のもの
ならばいずれでもよい。また、真空蒸着法の利点とし
て、溶剤を使わず記録媒体に潤滑剤を形成できることで
コストダウンが可能である。また、ディップ法で形成し
ていたときには、ディスク表面には少なからず潤滑剤の
膜斑が存在したが、真空蒸着法ではその心配がない。
【００１６】（実施例５）図３は抽出圧力を１４ＭＰ
ａ、カラム温度８０℃の条件下で超臨界抽出法により精
製したＡｕｓｉｍｏｎｔ ＺＤＯＬ２０００の各ロット
毎の分子量分布（ａ）と、その諸特性（ｂ）を示したも
のである。図２と図３とを比較してわかるように、潤滑
剤を精製することにより分子量分布が狭まり、又、諸特
性（重量平均分子量（Ｍｗ），数平均分子量（Ｍｎ），
分散度（Ｍｗ／Ｍｎ））も向上することがわかる。又、
これらの４種の精製した潤滑剤を用いて実施例１と同様
に磁気ディスクを作製し、ＣＳＳ試験、ロード・アンロ
ード試験を行ったが、吸着やヘッドクラッシュすること
なく良好な耐久性が得られた。
ａ、カラム温度８０℃の条件下で超臨界抽出法により精
製したＡｕｓｉｍｏｎｔ ＺＤＯＬ２０００の各ロット
毎の分子量分布（ａ）と、その諸特性（ｂ）を示したも
のである。図２と図３とを比較してわかるように、潤滑
剤を精製することにより分子量分布が狭まり、又、諸特
性（重量平均分子量（Ｍｗ），数平均分子量（Ｍｎ），
分散度（Ｍｗ／Ｍｎ））も向上することがわかる。又、
これらの４種の精製した潤滑剤を用いて実施例１と同様
に磁気ディスクを作製し、ＣＳＳ試験、ロード・アンロ
ード試験を行ったが、吸着やヘッドクラッシュすること
なく良好な耐久性が得られた。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、真空蒸
着法によって高精度分子量の整った潤滑層を少なくとも
磁性層が形成された基板上に形成することができるの
で、高温高湿や低温低湿などさまざまな環境において耐
久性が良好な磁気記録媒体が得られるようになる。
着法によって高精度分子量の整った潤滑層を少なくとも
磁性層が形成された基板上に形成することができるの
で、高温高湿や低温低湿などさまざまな環境において耐
久性が良好な磁気記録媒体が得られるようになる。
【図１】本発明に用いられる潤滑剤蒸着装置の模式図。
【図２】未精製潤滑剤の分子量分布とその諸特性を示す
図。
図。
【図３】精製した潤滑剤の分子量分布とその諸特性を示
す図。
す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１０Ｎ 70:00 Ｃ１０Ｎ 70:00
Claims (6)
- 【請求項１】 基板上に少なくとも磁性層を形成した
後、真空蒸着法によって潤滑層を形成する磁気記録媒体
の製造方法において、 分子量精製された潤滑剤を用い、潤滑剤蒸気を前記磁性
層又は磁性層上に形成した保護層の表面に蒸着させるこ
とにより前記潤滑層を形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記潤滑剤は分子量分散度（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）が１．３未満であることを特徴とする請求項１記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記潤滑剤は分子量分散度（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）が１．１以下であることを特徴とする請求項１記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 前記潤滑剤は重量平均分子量が２,００
０〜１２,０００の範囲内に精製されていることを特徴
とする請求項１乃至３のいずれか１に記載の磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項５】 前記潤滑剤は、超臨界抽出法により精製
したものであることを特徴とする請求項４に記載の磁気
記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】 前記潤滑剤がパーフロロポリエーテルで
あることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記
載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000199829A JP2002025046A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000199829A JP2002025046A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002025046A true JP2002025046A (ja) | 2002-01-25 |
Family
ID=18697779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000199829A Pending JP2002025046A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002025046A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005068589A1 (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Hoya Corporation | 磁気ディスク用潤滑剤及びその製造方法、並びに、磁気ディスク及びその製造方法 |
| JP2006059491A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Hoya Corp | 磁気ディスク用潤滑剤の製造方法、並びに、磁気ディスク及びその製造方法 |
| US7105241B2 (en) | 2003-03-31 | 2006-09-12 | Hoya Corporation | Magnetic disk and method of manufacturing same |
| US7277254B2 (en) | 2002-09-03 | 2007-10-02 | Hoya Corporation | Magnetic recording disk and process for manufacture thereof |
| JP2009301709A (ja) * | 2009-09-28 | 2009-12-24 | Hoya Corp | 磁気ディスク及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-06-30 JP JP2000199829A patent/JP2002025046A/ja active Pending
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