JP2001357560A

JP2001357560A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2001357560A
Application number: JP2000176531A
Authority: JP
Inventors: Osamu Kobayashi; 理小林
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 2000-06-13
Filing date: 2000-06-13
Publication date: 2001-12-26

Abstract

(57)【要約】【課題】高密度記録を行っても、記録マークの歪がな
く良好な記録再生特性を得ることが出来る光情報記録媒
体を提供する。【解決手段】基板１上に、反射層２０、第１誘電体層
３、記録層４、第２誘電体層５、光が照射される保護層
６を順次積層してなる光情報記録体Ｂであって、反射層
２０は、基板１側の第１金属層２０Ａ、透明非金属層２
０Ｂ、第１誘電体層３側の第２金属層２０Ｃを順次積層
した、少なくとも３層構造からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は高密度記録対応の光
情報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】情報を光学的に再生又は記録再生可能な
光ディスク媒体としては、コンパクトディスク（以下
「ＣＤ」と記す）、デジタル・バーサタイル（多用途）
・ディスク（以下「ＤＶＤ」と記す）等がある。このう
ち記録再生可能な光ディスク媒体は、基板上に第１誘電
体層、記録層、第２誘電体層、反射層、保護層（保護
膜）が順次積層されている構成を有している。そしてこ
の光ディスク媒体の光透過性の基板側から記録用レーザ
光を記録層に照射してそこに記録マークを形成すること
によって情報を記録し、また記録層に形成されている記
録マーク上に光透過性の基板側から再生用レーザ光を照
射してその戻り光の強弱を検出することによって情報を
再生する。

【０００３】さて、前記した光ディスク媒体の記録密度
よりもさらに高密度記録が可能な高密度型光ディスク媒
体がある。この高密度型光ディスク媒体に情報を記録す
る場合には、より小さい記録マークを記録層に形成する
（書き込む）必要がある。その為には、光ディスク媒体
記録再生装置側の記録再生用レーザ光の波長の短波長
化、対物レンズの高ＮＡ化、さらには近接場光の利用な
どの各種の手法が検討されている。

【０００４】このうち近接場光を行う具体的な手法とし
ては、対物レンズと記録層との距離を短くすることであ
る。対物レンズと記録層との距離を短くする為には、前
記した低密度型光ディスク媒体の記録再生時のように、
厚い基板側から記録再生用レーザ光を記録層に照射する
のではなく、この反対に薄い保護膜側から記録再生用レ
ーザ光を記録層に照射することが必要となっている。こ
のため、前記した低密度型光ディスク媒体の積層構成と
は逆の順序で積層される必要が生じてきた。即ち、高密
度型光ディスク媒体は、基板上に反射層、第１誘電体
層、記録層、第２誘電体層、保護層（保護膜）が順次積
層されている構成とする必要が生じてきた。

【０００５】この高密度型光ディスク媒体の積層構成の
ために、基板上に最初に成膜される反射層の表面粗さ
が、第１誘電体層を介して成膜される記録層の表面粗さ
に直接影響する。この結果、反射層の表面粗さが光ディ
スク媒体の記録特性に大きな影響を与えていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前述したことをさらに
具体的に説明する。前記した低密度型光ディスク媒体に
は、基板に記録のためのガイドトラック（グルーブ、ラ
ンド）を設け、その上に第１誘電体層、記録層、第２誘
電体層、反射層の順に成膜を行い、基板側から記録再生
光を入射してデータの記録再生を行っている。この場
合、記録再生光は記録層にて焦点を結ぶように対物レン
ズで集光され、所定の大きさにて記録層に記録マークが
形成されるようになっている。集光のための対物レンズ
は、回転する基板に接触しないように、基板から充分な
距離を持って置かれる。この対物レンズの開口率ＮＡを
大きくすることにより、記録マークの大きさを小さくで
き、従って、より高密度の記録再生が可能となるが、そ
の反面、基板の傾きによる記録マークの歪みなどが生じ
やすいという欠点があった。

【０００７】この様な問題に対し、基板上に反射層、第
１誘電体層、記録層、第２誘電体層をこの順番に設け、
さらにその上に紫外線硬化樹脂などの保護コート、又は
薄い透明シートを設け、透明樹脂、又は透明シート側か
ら記録再生光を照射する方法が提案されている。この方
法によれば、ディスクの傾きによるマークの歪みを防ぐ
ことが出来、記録マークを小さく、高密度に記録する事
が出来る。

【０００８】しかし、この様な方法を用いて記録再生型
光ディスクを試作しても、実際に得られる特性は要求を
充分に満たすものではなかった。その原因は、透明基板
の表面粗さが充分に小さいにも関わらず、その上に成膜
された反射層の表面粗さが大きく、従ってその上に形成
される記録層の表面粗さが大きくなり、記録マークの歪
みが生じることが原因である。反射層の表面粗さを大き
くする原因は、反射層に用いられる金属が成膜時に基板
に対し垂直方向に結晶成長するためであり、この結晶成
長を防ぐことにより反射層の表面粗さを改善することが
出来る。

【０００９】そこで、金属反射膜を多層構造とし、１層
当たりの膜厚を薄くすることにより金属反射膜の結晶成
長を防ぐと共に所望の反射率を得るように構成したもの
が開示されている（例えば特開平１０−３２０８５９号
公報においては）。しかしながら、この方法によっても
表面粗さの改善は十分ではなく、更に改善の必要があっ
た。

【００１０】図２は従来の光情報記録媒体の積層構造を
説明するための図である。従来の光情報記録媒体Ａは、
図２（ａ）に示すように、基板１上に、反射層２、第１
誘電体層３、記録層４、第２誘電体層５、保護層６を順
次積層してなる。反射層２は、図２（ｂ）に示すよう
に、第１金属層２Ａ及び第２金属層２Ｂからなる。記録
再生レーザは保護層６側（矢印方向）から照射される。

【００１１】そこで本発明は、上記した問題点に鑑みて
なされたものであり、特に基板上に成膜される反射層は
第１金属層、光透過性非金属層、第２金属層を順次積層
した、少なくとも３層構造からなり、前記第２金属層の
表面粗さＲＳＲａを１ｎｍ以上６ｎｍ以下にすることに
より、基板上に多層構造の反射層を成膜しても、この反
射層上の表面粗さは小さいから、この結果記録層に形成
される記録マークの歪みを低減できるので、この結果、
高密度記録を行っても良好な記録再生特性を得ることが
出来る光情報記録媒体を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明は、次の（１）〜（４）の構成を有する
光情報記録媒体を提供する。（１）図１に示すように、基板１上に、反射層２０、
第１誘電体層３、記録層４、第２誘電体層５、光が照射
される保護層６を順次積層してなる光情報記録体Ｂであ
って、前記反射層２０は、前記基板１側の第１金属層２
０Ａ、透明非金属層２０Ｂ、前記第１誘電体層３側の第
２金属層２０Ｃを順次積層した、少なくとも３層構造
（表１〜表４に示す実施例１〜実施例５０中、３層構造
は実施例５，９，１３，１７，２２，２６，３０，３
４，３８，４２，４６，５０、５層構造は実施例３，
４，７，８，１１，１２，１５，１６，２０，２１，２
４，２５，２８，２９，３２，３３，３６，３７，４
０，４１，４４，４５，４８，４９、９層構造は実施例
１，６，１０，１８，２３，２７，３１）、そして１３
層構造は実施例２，１４，１９，３５，３９，４３，４
７）からなり、前記第１誘電体層３側の前記反射層２０
（第２金属層２０Ｃ）の表面粗さＲＳＲａは、１ｎｍ以
上６ｎｍ以下（表９，１０に示す実施例１〜実施例５０
中、最小２．９ｎｍ（実施例４３）〜最大５．９ｎｍ
（実施例１７）の範囲）であるとしたことを特徴とする
光情報記録媒体。（２）前記透明非金属層２０Ｂの１層当りの厚みは、
１ｎｍ以上２０ｎｍ以下（表１〜表４に示す実施例１〜
実施例５０中、最小１ｎｍ（実施例４３〜４６）〜最大
２０ｎｍ（実施例３９〜４２，４７〜５０）の範囲）で
あることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。（３）前記第１金属層２０Ａ及び前記第２金属層２０
Ｃの各１層当りの厚みはそれぞれ、２０ｎｍ以上５０ｎ
ｍ以下（表１〜表４に示す実施例１〜実施例５０中、最
小２０ｎｍ（実施例１，６，１０，１４，１８，１９，
２３，２７，３１，３５，３９，４３，４７）〜最大５
０ｎｍ（実施例５，９，１３，１７，２２，２６，３
０，３４，３８，４２，４６，５０）の範囲）であるこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の光情報記録媒体。（４）前記第１金属層２０Ａ及び前記第２金属層２０
Ｃの各１層当りの主成分はそれぞれ、少なくともＡｕ，
Ａｇから選ばれた１種類以上であることを特徴とする請
求項１乃至請求項３のいずれか１に記載の光情報記録媒
体。前記した構成の本発明の光情報記録媒体における反射層
を少なくとも３層の多層構造とし、かつ各層における結
晶の成長を妨げる構造とすることで表面の平滑性を高
め、表面粗さを低減したものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき
その好ましい実施例を説明する。図１は本発明の光情報
記録媒体の一実施例の積層構造を説明するための図であ
る。

【００１４】本発明の一実施例である光情報記録媒体Ｂ
は、前述した従来の光情報記録媒体Ａ（図２）とは、反
射層の層構成が異なるだけであり、これ以外の構成は従
来のものと同様である。前述したものと同一部分には同
一符号を付し、その説明を省略する。この光情報記録媒
体Ｂは、図１（ａ）に示すように、基板１上に、反射層
２０、第１誘電体層３、記録層４、第２誘電体層５、保
護層６を順次積層してなる。記録再生レーザは保護層６
側（矢印方向）から照射される。

【００１５】反射層２０は、図１（ｂ）に示すように、
基板１上に成膜される第１金属層２０Ａ、透明非金属層
２０Ｂ、第１誘電体層３側に接する第２金属層２０Ｃの
３層構造である。ここでは反射層２０の多層構造として
３層構造を例として示したが、これ以外に下記する多層
構造であっても良い（即ち少なくとも３層構造）。具体
的には次の通りである。金属層の各層は同一組成であっ
ても異なってもよい。また透明非金属層の各層は同一組
成であっても異なってもよい。

【００１６】（１)３層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第２金属層２０Ｃ（第１誘電体層３側）の３層構
造（既述）である。

【００１７】（２）５層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、4)透明
非金属層２０Ｂ、5)第２金属層２０Ｃ（第１誘電体層３
側）の５層構造である。

【００１８】（３）７層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、4)透明
非金属層２０Ｂ、5)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２
０Ｃ、6)透明非金属層２０Ｂ、7)第２金属層２０Ｃ（第
１誘電体層３側）の７層構造である。

【００１９】（４）９層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、4)透明
非金属層２０Ｂ、5)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２
０Ｃ、6)透明非金属層２０Ｂ、7)第１金属層２０Ａ又は
第２金属層２０Ｃ、8)透明非金属層２０Ｂ、9)第２金属
層２０Ｃ（第１誘電体層３側）の９層構造である。

【００２０】（５）１１層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、4)透明
非金属層２０Ｂ、5)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２
０Ｃ、6)透明非金属層２０Ｂ、7)第１金属層２０Ａ又は
第２金属層２０Ｃ、8)透明非金属層２０Ｂ、9)第１金属
層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、10)透明非金属層２０
Ｂ、11)第２金属層２０Ｃ（第１誘電体層３側）の１１
層構造である。

【００２１】（５）１３層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、4)透明
非金属層２０Ｂ、5)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２
０Ｃ、6)透明非金属層２０Ｂ、7)第１金属層２０Ａ又は
第２金属層２０Ｃ、8)透明非金属層２０Ｂ、9)第１金属
層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、10)透明非金属層２０
Ｂ、11)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、12)透
明非金属層２０Ｂ、13)第２金属層２０Ｃ（第１誘電体
層３側）の１３層構造である。

【００２２】（６）１５層構造 1)第１金属層２０Ａ（基板１側）、2)透明非金属層２０
Ｂ、3)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、4)透明
非金属層２０Ｂ、5)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２
０Ｃ、6)透明非金属層２０Ｂ、7)第１金属層２０Ａ又は
第２金属層２０Ｃ、8)透明非金属層２０Ｂ、9)第１金属
層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、10)透明非金属層２０
Ｂ、11)第１金属層２０Ａ又は第２金属層２０Ｃ、12)透
明非金属層２０Ｂ、13)第１金属層２０Ａ又は第２金属
層２０Ｃ、14)透明非金属層２０Ｂ、15)第２金属層２０
Ｃ（第１誘電体層３側）の１５層構造である。

【００２３】さて、本発明者の研究の結果、前記した第
１誘電体層３側の反射層２の表面粗さＲＳＲａが大きく
なる原因は、基板１上に成膜した下地金属層（第１金属
層）２Ａ上に上層金属層（第２金属層）２Ｂを直接積層
した場合（図２（ｂ））、この第１金属層２Ａの成膜の
直接の影響により第２金属層２Ｂが結晶化してしまうた
めであることを解明した。このことから、反射層２０と
して第１金属層２０Ａと第２金属層２０Ｃの間に、非金
属の透明薄膜（透明非金属層）２０Ｂを設けることによ
り、第１金属層２０Ａの成膜の直接の影響が第２金属層
２０Ｃに及んでこれを結晶化してしまうことを防止で
き、この結果、前記した第１誘電体層３側の第２金属層
２０Ｃが充分小さい表面粗さＲＳＲａを達成することが
出来ることを見いだした。

【００２４】こうして、本発明は、基板１上に、反射層
２０、第１誘電体層３、記録層４、第２誘電体層５、保
護層６を順次積層してなる光情報記録体とした場合（図
１）に於いても、反射層２０（第２金属層２０Ｃ）にお
ける結晶の成長がないため、前記した第１誘電体層３側
の反射層２０の表面粗さＲＳＲａは小さく、記録層４の
表面粗さも小さいために、この結果、記録層４に形成さ
れる記録マークの歪みが少なく、従って高密度記録時に
おいても良好な記録再生特性を得ることが出来るもので
ある。

【００２５】ここで、記録マークの歪みが少なく良好な
記録再生特性を得るためには、基板１と反対面の第１誘
電体層３側の反射層２０（上層金属層２０Ｃ）の表面粗
さＲＳＲａは１ｎｍ以上６ｎｍ以下である必要がある。
この表面粗さＲＳＲａが１ｎｍ未満は作成が困難であ
り、６ｎｍを越えると記録再生特性が低下する。反射層
２０の表面粗さＲＳＲａを１ｎｍ以上６ｎｍ以下とする
ためには、反射層は３層以上の次に記す多層構造で有る
ことが必要である。

【００２６】反射層２０の表面粗さＲＳＲａを悪化させ
る要因である基板１上に成膜される、基板１の厚さ方向
の金属（第１金属層２０Ａ）の結晶成長を防ぐために、
少なくとも基板１側及び第１誘電体層３側の２層は第
１，第２金属層２０Ａ，２０Ｃで、かつ第１金属層２０
Ａと第２金属層２０Ｃの間には透明非金属層２０Ｂを設
ける必要があることは前述した通りである。この透明非
金属層２０Ｂの１層の厚みは１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が
好ましい。透明非金属層２０Ｂの１層の厚みが１ｎｍ未
満と薄いと、均一な非透明金属層ができないために反射
層２０の表面粗さＲＳＲａが大きくなる。また非透明金
属層２０Ｂの１層の厚みが２０ｎｍを越えると記録マー
ク歪みが大きくなり記録再生特性が悪化する。これは断
熱材となる透明非金属層２０Ｂの厚みが厚すぎるため
に、記録層４からの熱拡散が不十分となり、記録マーク
が歪んだためと考えられる。

【００２７】第１，第２金属層２０Ａ，２０Ｃの各１層
の厚みはそれぞれ２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であること
が好ましい。第１，第２金属層２０Ａ，２０Ｃの各１層
の厚みがそれぞれ２０ｎｍ未満であると、反射層２０と
して必要な反射率を得るためには層数が多くなり過ぎ、
生産コストが過大になる。また金属層２０Ａ，２０Ｃの
各１層の厚みが５０ｎｍを越えると、表面粗さが大きく
なり記録再生特性が悪化する。

【００２８】反射層２０の過大な結晶成長を防ぐために
は、反射層２０の厚みを薄くし、結晶が成長しないよう
にすることが望まれるが、単に薄くしたのみでは反射層
２０を記録再生光が透過し、所望の反射率を得ることが
出来ない。そのため反射層２０の全厚みとしては７０ｎ
ｍ以上が望ましい。厚い場合は生産性、コストの面から
の制約を受けるが通常は３００ｎｍ以下が選ばれる。

【００２９】本発明に用いられる基板１の材料としては
透明なプラスチック系材料が用いられ、光学特性の面か
らポリカーボネートを用いる事が望ましい。基板１の厚
み範囲としては特に指定はない。

【００３０】本発明に用いられる記録層４の材料として
はいわゆる相変化材料、または光磁気記録材料が用いら
れ、生産性の点からＳｂ−Ｔｅ系材料の使用が好まし
い。記録層４の厚み範囲としては５〜３０ｎｍが好まし
い。

【００３１】本発明に用いられる反射層２０のを構成す
る金属層２０Ａ，２０Ｃの各層の材料としてはＡｌ，Ｍ
ｇ，Ａｕ，Ａｇ等が用いられ、特にＡｕあるいはＡｇを
用いると反射層の表面粗さが小さく記録再生特性が良好
となる。

【００３２】本発明に用いられる反射層２０を構成する
透明非金属層２０Ｂの材料としては光学的に透明（光透
過率が略１００％（９８％程度））であり、融点が金属
より高いセラミック系材料が用いられ、強度の点からＳ
ｉＯ₂，ＺｎＳ−ＳｉＯ₂，，ＧｅＮの使用が好ましい。

【００３３】また本発明の記録層４、反射層２０、反射
層２０を構成する金属層２０Ａ，２０Ｃ、透明非金属層
２０Ｂの各成膜手段は蒸着法、スパッタ法などの方法が
用いられるが、生産性の点からスパッタによる方法が好
ましい。

【００３４】次に、好ましい実施例を用いて具体的に説
明する。［実施例１］（１）まず、基板１の作成用スタンパを作製する。こ
のスタンパについては所望の形状のスタンパが得られれ
ば作成方法は特に限定されない。本実施例では一般的な
フォトレジストとガラス原盤を用い、レーザ露光によっ
て所望のスタンパを得た。

【００３５】良く研磨したガラス原盤上にフォトレジス
トをスピンコートを用いて塗布する。レジストの塗布厚
は現像、乾燥後の厚みが３５ｎｍとなるように条件を設
定した。次にＡｒイオンレーザーを搭載したカッティン
グマシンで、２４ｍｍから５８．５ｍｍの範囲にトラッ
クピッチ０．６μｍ、現像後に０．５５μｍの幅になる
レーザパワーにて連続露光を行った。その後現像液を用
いて現像を行い、さらにポストベーキングを行ってレジ
スト原盤を得た。

【００３６】得られたレジスト原盤を洗浄し、残留レジ
ストを除去した後、洗浄を行い、得られた原盤にスパッタ
リング法により７０ｎｍのＮｉ導電膜を形成した。な
お、スパッタリングの代わりに真空蒸着、または無電解
めっき等の方法を用いることも可能である。このＮｉ導
電膜を電極とし、Ｎｉを電鋳めっきし０．２５ｍｍ厚の
Ｎｉマスタを得た。次にＮｉをガラス盤から剥離し、金
属板で裏打ちしてＮｉスタンパを得た。

【００３７】（２）こうして作製したＮｉスタンパを
用い、射出成型法により直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ
のポリカーボネート製プラスティック基板１を作製し
た。作製した基板１のグルーブの深さは３０．０ｎｍで
あり、表面粗さは２．５ｎｍであった。

【００３８】（３）この基板１上に、基板１側からＡ
ｌ反射層２０ＡとＳｉＯ₂透明非金属層２０ＢとＡｌ反
射層２０Ｃとからなる多重（３層）反射層２０、ＺｎＳ
−ＳｉＯ₂第１誘電体層３、ＡｇＩｎＳｂＴｅ相変化記
録層４、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂第２誘電体層５をスパッタリ
ング法により順番に設けた。（４）次にＺｎＳ−ＳｉＯ₂第２誘電体層５上に紫外
線硬化樹脂による保護層６をスピンコートにより設け、
さらに接着剤層（図示せず）を介して０．１ｍｍ厚のポ
リエチレンテレフタレートの透明フィルムを貼り合わせ
て１．２ｍｍ厚の光ディスクを得た。

【００３９】前記した多重反射膜２０は、Ａｌ金属層２
０Ａ，２０Ｃを各厚さ２０ｎｍ、ＳｉＯ₂透明非金属層
２０Ｂを厚さ１０ｎｍを交互に、金属層５層、透明非金
属層４層づつ９層構造の反射層２０をスパッタリングに
より積層した構造とした。即ち、基板１上に、1)金属層
２０Ａ、2))透明非金属層２０Ｂ、3)金属層２０Ａ（又
は金属層２０Ｃ）、4)透明非金属層２０Ｂ、5)金属層２
０Ａ（又は金属層２０Ｃ）、6)透明非金属層２０Ｂ、7)
金属層２０Ａ（又は金属層２０Ｃ）、8)透明非金属層２
０Ｂ、9)金属層２０Ｃを順次積層した構造とした。

【００４０】また、別に反射膜（反射層２０）のみを成
膜したサンプルを作製し、原子間力顕微鏡をもちいて表
面粗さを測定（ＰａｒｋＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製
ＡｕｔｏｐｒｏｂｅＭＳ）し、表面粗さの測定値と
した。このようにして作製した光ディスクに透明フィル
ム側から波長８１０ｎｍのレーザを照射して初期化を行
い、光情報記録媒体を作製した。

【００４１】このようにして作製した光情報記録媒体に
対し、波長６３５ｎｍ，ＮＡ０．８５のレーザ光学系
を用い、線速８．０ｍ／ｓにて記録・再生を行い、照射
したレーザ光強度に対する戻り光の割合を反射率、記録
マークの時間歪みをジッターとして測定、評価を行っ
た。

【００４２】［実施例２］〜［実施例１７］前記した
［実施例１］において多重反射膜（反射層２０）の構成
を表１のようにした以外は、前記した［実施例１］と同
様にして光情報記録媒体を作製した。

【００４３】

【表１】

【００４４】［実施例１８］〜［実施例２６］前記した
［実施例１］において多重反射膜（反射層２０）に用い
る透明非金属層２０ＢにＳｉＯ₂を用い、膜（層）構成
を下記する表２のようにした以外は、前記した［実施例
１］と同様にして光情報記録媒体を作製した。

【００４５】

【表２】

【００４６】［実施例２７］〜［実施例３４］前記した
［実施例１８］〜［実施例２６］において多重反射膜
（反射層２０）に用いる透明非金属層２０ＢにＧｅＮを
用い、膜（層）構成を下記する表３のようにした以外
は、前記した［実施例１］と同様にして光情報記録媒体
を作製した。

【００４７】

【表３】

【００４８】［実施例３５］〜［実施例５０］前記した
［実施例１］において多重反射膜（反射層２０）の構成
を下記する表４のようにした以外は、前記した［実施例
１］と同様にして光情報記録媒体を作製した。

【００４９】

【表４】

【００５０】［比較例１］〜［比較例８］前記した［実
施例１］において多重反射膜（反射層２０）を用いず、
多重反射層２０の代わりに反射層を下記する表５の構成
にした以外は、前記した［実施例１］と同様にして光情
報記録媒体を作製した。

【００５１】

【表５】

【００５２】［比較例９］〜［比較例１４］前記した
［実施例１］において多重反射膜（反射層２０）を用い
ず、その膜厚構成を下記する表６の構成にし、透明非金
属層２０Ｂを設けない構成とした以外は、前記した［実
施例１］と同様にして光情報記録媒体を作製した。

【００５３】

【表６】

【００５４】［比較例１５］〜［比較例２０］前記した
［実施例１］において多重反射膜（反射層２０）の膜厚
構成を下記する表７の構成にした以外は、前記した［実
施例１］と同様にして光情報記録媒体を作製した。

【００５５】

【表７】

【００５６】［比較例２１］〜［比較例３２］前記した
［実施例１］において多重反射膜（反射層２０）の膜厚
構成を下記する表８の構成にした以外は、前記した［実
施例１］と同様にして光情報記録媒体を作製した。

【００５７】

【表８】

【００５８】下記する表９、表１０から判るように、本
発明の実施例の光情報記録媒体は、反射層２０（第２金
属層２０Ｃ）の表面粗さが６ｎｍ以下と小さく、従っ
て、ジッターの値も良好である。特に［実施例６］〜
［実施例１３］のように、反射層２０（第１，第２金属
層２０Ａ，２０Ｃ）にＡｇ，Ａｕを用いた実施例は、反
射層２０の表面粗さが２ｎｍ以下（１．０〜１．８）と
小さくジッターが良好である。

【００５９】

【表９】

【００６０】

【表１０】

【００６１】これに対し、表１１に示すように、［比較
例１］〜［比較例８］においては単層で反射層の厚みが
厚いため、反射層の表面粗さが６ｎｍを越えて大きく、
ジッター値が悪い。［比較例９］〜［比較例１４］では
反射層を多層化しているものの、透明非金属層２０Ｂが
ないため表面粗さが大きく、ジッターが悪い。

【００６２】

【表１１】

【００６３】さらに［比較例１５］〜［比較例２０］を
見ると、反射層は多層であり、透明非金属層２０Ｂも設
けてあるが、金属層２０Ａ，２０Ｃ１層の厚みが５０ｎ
ｍを越えているために、反射層の表面粗さが大きく、ジ
ッターが悪くなっている。

【００６４】［比較例２１］〜［比較例３２］において
は透明非金属層２０Ｂの厚みによって結果が異なってい
る。［比較例２１，２２，２７，２８］においては透明
非金属層２０Ｂの厚みが０．５ｎｍと薄く、均一な非金
属層ができないために表面粗さが大きくなっている。

【００６５】これに対し、［比較例２３］〜［比較例２
６］、［比較例２９］〜［比較例３２］においては透明
非金属層２０Ｂの厚みが２０ｎｍを越えているために、
反射層２０の表面粗さが６ｎｍ以下であるにも関わら
ず、ジッターが非常に悪い。これは断熱材となる透明非
金属層２０Ｂの厚みが厚すぎるために、記録層４からの
熱拡散が不十分となり、記録マークが歪んだためと考え
られる。従って、透明非金属層２０Ｂの厚みは１〜２０
ｎｍが望ましい。

【００６６】なお本発明に用いる基板１は特に限定され
るものではないが、当然の事ながら基板１の表面粗さは
反射層２０の表面粗さを支配する。従って、基板１の表
面粗さは小さい方が望ましく、３ｎｍ以下が望ましい。

【００６７】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば．特
に基板上に成膜される反射層は第１金属層、光透過性非
金属層、第２金属層を順次積層した、少なくとも３層構
造からなり、前記第２金属層の表面粗さＲＳＲａを１ｎ
ｍ以上６ｎｍ以下することにより、基板上に多層構造の
反射層を成膜しても、この反射層上の表面粗さは小さい
から、この結果記録層に形成される記録マークの歪みを
低減できるので、この結果、高密度記録を行っても良好
な記録再生特性を得ることが出来る光情報記録媒体を提
供することができる。また、基板側から反射層、第１誘
電体層、記録層、第２誘電体層の順番に成膜を行って
も、反射層の表面粗さは悪くならず、従って、記録特性
であるジッターの悪化を招くことがない。特に第１，第
２金属層の材料にＡｕ，Ａｇを選定した場合は表面粗さ
が小さく、ジッターも特に優秀である

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録媒体の一実施例の積層構
造を説明するための図である。

【図２】従来の光情報記録媒体の積層構造を説明する
ための図である。

【符号の説明】

１基板２，２０反射層２Ａ，２０Ａ第１金属層２Ｂ，２０Ｃ第２金属層３第１誘電体層４記録層５第２誘電体層６保護層２０Ｂ透明非金属層Ａ，Ｂ光情報記録媒体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、反射層、第１誘電体層、記録
層、第２誘電体層、光が照射される保護層を順次積層し
てなる光情報記録体であって、前記反射層は、前記基板側の第１金属層、透明非金属層、前記第１誘電
体層側の第２金属層を順次積層した、少なくとも３層構
造からなり、前記第１誘電体層側の前記反射層の表面粗さＲＳＲａ
は、１ｎｍ以上６ｎｍ以下であるとしたことを特徴とす
る光情報記録媒体。
【請求項２】前記透明非金属層の１層当りの厚みは、
１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項
１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】前記第１金属層及び前記第２金属層の各
１層当りの厚みはそれぞれ、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下
であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の光
情報記録媒体。
【請求項４】前記第１金属層及び前記第２金属層の各
１層当りの主成分はそれぞれ、少なくともＡｕ，Ａｇか
ら選ばれた１種類以上であることを特徴とする請求項１
乃至請求項３のいずれか１に記載の光情報記録媒体。