JP2001345556A - Method of manufacturing multilayered wiring board - Google Patents

Method of manufacturing multilayered wiring board

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JP2001345556A
JP2001345556A JP2000161271A JP2000161271A JP2001345556A JP 2001345556 A JP2001345556 A JP 2001345556A JP 2000161271 A JP2000161271 A JP 2000161271A JP 2000161271 A JP2000161271 A JP 2000161271A JP 2001345556 A JP2001345556 A JP 2001345556A
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JP
Japan
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wiring layer
substrate
hole
insulating layer
wiring board
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Application number
JP2000161271A
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Japanese (ja)
Inventor
Chikage Domoto
千景 堂本
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a multilayered wiring board which can improve the productivity. SOLUTION: A multilayered wiring board is manufactured, by the process of forming a plurality of projections 2 of trapezoid cross section on the top of a substrate 1, a process of forming a first wiring layer 3 whose one part is arranged on the projections 2 on the substrate 1 by the printing and baking of conductive paste, the process of forming an insulating layer 4 where a through-hole 6 is provided on the projection 2 on the substrate 1 by the printing and baking of glass paste, and the process of forming the second wiring layer 5, whose one part is arranged on the above projection 2 and which is electrically connected with the first wiring layer 3 within the through-hole 6 on the above insulating layer 4 by the printing and baking of the conductive paste.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の配線層を間
に絶縁層を介して積層させてなる多層配線基板の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board in which a plurality of wiring layers are stacked with an insulating layer interposed therebetween.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体装置や記録ヘッドを構
成するのに多層配線基板が用いられている。
2. Description of the Related Art Hitherto, a multilayer wiring board has been used to constitute a semiconductor device or a recording head.

【0003】かかる従来の多層配線基板は、例えば図3
に示す如く、ガラスやセラミック等から成る基板11の
上面に、銀(Ag)や金(Au)等を含む導電材料から
成る第1配線層12及び第2配線層13を、間に絶縁層
14を介して順次積層させるとともに、該絶縁層14に
形成した直径100μm〜500μm程度のビアホール
15を介して前記第1配線層12及び第2配線層13を
電気的に接続した構造を有している。
[0003] Such a conventional multilayer wiring board is, for example, shown in FIG.
As shown in FIG. 1, a first wiring layer 12 and a second wiring layer 13 made of a conductive material containing silver (Ag), gold (Au), or the like are provided on an upper surface of a substrate 11 made of glass, ceramic, or the like, and an insulating layer 14 is interposed therebetween. And the first wiring layer 12 and the second wiring layer 13 are electrically connected via a via hole 15 having a diameter of about 100 μm to 500 μm formed in the insulating layer 14. .

【0004】かかる従来の多層配線基板は、 (1)基板11の上面に、導電ペーストを従来周知のス
クリーン印刷によって所定パターンに印刷し、これを焼
成することによって第1配線層12を被着・形成する工
程と、(2)前記第1配線層12が被着されている基板
11上に、ガラスペーストをスクリーン印刷によって所
定パターンに印刷し、これを焼成することによって第1
配線層12上の所定位置に貫通孔を有する絶縁層14を
形成する工程と、(3)前記絶縁層14の貫通孔内に、
導電ペーストをスクリーン印刷によって印刷・充填する
工程と、(4)前記絶縁層14上に、導電ペーストをス
クリーン印刷によって所定パターンに印刷し、これを上
記(3)の工程で絶縁層14の貫通孔内に充填した導電
ペーストと共に焼成することによって貫通孔内の接続導
体16と該接続導体16に貫通孔上で電気的に接続され
た第2配線層13とを形成する工程と、によって製造さ
れていた。
[0004] Such a conventional multilayer wiring board includes the following steps: (1) A conductive paste is printed on the upper surface of a substrate 11 in a predetermined pattern by a conventionally known screen printing, and the printed pattern is baked to deposit a first wiring layer 12 thereon. And (2) printing a glass paste on the substrate 11 on which the first wiring layer 12 is adhered in a predetermined pattern by screen printing and firing the glass paste to form a first pattern.
Forming an insulating layer 14 having a through hole at a predetermined position on the wiring layer 12; and (3) forming an insulating layer 14 in the through hole of the insulating layer 14;
A step of printing and filling the conductive paste by screen printing; and (4) a step of printing a conductive paste on the insulating layer 14 in a predetermined pattern by screen printing. Forming a connection conductor 16 in the through-hole and a second wiring layer 13 electrically connected to the connection conductor 16 on the through-hole by firing together with the conductive paste filled therein. Was.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の多層配線基板の製造方法によれば、上記(2)
の工程において基板11上に印刷・焼成されるガラスペ
ーストは、完全に固まってしまうまでの間、所定の流動
性をもっていることから、貫通孔の設計上の大きさが例
えば径100μm〜200μmと極めて小さいと、ガラ
スペーストが貫通孔内に流れ込んで貫通孔を塞いでしま
うことがあり、その場合、第1配線層12と第2配線層1
3とを貫通孔内の接続導体16等で確実に接続すること
が不可となり、多層配線基板の製造歩留りが低下すると
いう欠点を有していた。
However, according to the above-mentioned conventional method for manufacturing a multilayer wiring board, the above (2)
Since the glass paste printed and fired on the substrate 11 in the step (1) has a predetermined fluidity until it is completely solidified, the design size of the through-hole is extremely large, for example, a diameter of 100 μm to 200 μm. If the size is small, the glass paste may flow into the through-hole and block the through-hole. In this case, the first wiring layer 12 and the second wiring layer 1
3 cannot be reliably connected by the connection conductor 16 or the like in the through-hole, and the production yield of the multilayer wiring board is reduced.

【0006】また上述した従来の多層配線基板の製造方
法によれば、第1配線層11、絶縁層14及び第2配線層
13をスクリーン印刷によって形成する際、各層のパタ
ーンに対応して穴あけされたスクリーン版を基板11に
対して高精度に位置合わせする必要がある。従って、各
配線層12、13のパターンが極めて微細であったり、
貫通孔の径が極めて小さかったりすると、各スクリーン
版を短時間で正確に位置合わせすることが難しく、多層
配線基板の生産性が低下するという欠点も有していた。
According to the above-described conventional method for manufacturing a multilayer wiring board, when the first wiring layer 11, the insulating layer 14, and the second wiring layer 13 are formed by screen printing, holes are formed corresponding to the patterns of the respective layers. It is necessary to position the screen plate with respect to the substrate 11 with high accuracy. Therefore, the pattern of each of the wiring layers 12 and 13 is extremely fine,
If the diameter of the through-hole is extremely small, it is difficult to accurately position each screen plate in a short time, and the productivity of the multilayer wiring board is reduced.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点に鑑み
案出されたもので、本発明の多層配線基板の製造方法
は、基板の上面に断面台形状の突起を複数個形成する工
程と、前記基板上に、一部が前記突起上に配された第1
配線層を、導電ペーストの印刷及び焼成によって形成す
る工程と、前記基板上に、貫通孔が前記突起上に設けら
れた絶縁層を、ガラスペーストの印刷及び焼成によって
形成する工程と、前記絶縁層上に、一部が前記突起上に
配され、前記貫通孔内で前記第1配線層に電気的に接続
される第2配線層を、導電ペーストの印刷及び焼成によ
って形成する工程と、を含むことを特徴とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above-mentioned drawbacks, and a method of manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention comprises the steps of forming a plurality of trapezoidal projections on the upper surface of a substrate. A first part of which is arranged on the projection on the substrate
A step of forming a wiring layer by printing and baking a conductive paste; a step of forming an insulating layer having a through hole provided on the protrusion on the substrate by printing and baking a glass paste; Forming a second wiring layer partially disposed on the protrusion and electrically connected to the first wiring layer in the through hole by printing and firing a conductive paste. It is characterized by the following.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づい
て詳細に説明する。図1は本発明の製造方法によって製
作した多層配線基板の断面図であり、1は基板、2は突
起、3は第1配線層、4は絶縁層、5は第2配線層、6
は貫通孔、7は接続導体である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer wiring board manufactured by the manufacturing method of the present invention, wherein 1 is a substrate, 2 is a protrusion, 3 is a first wiring layer, 4 is an insulating layer, 5 is a second wiring layer, 6
Is a through hole, and 7 is a connection conductor.

【0009】前記基板1は、アルミナセラミックス、ム
ライト、窒化アルミニウム、ガラスセラミックス、石
英、アルカリガラス、無アルカリガラス等の電気絶縁性
材料から成り、その上面で突起2や第1配線層3,絶縁
層4,第2配線層5を支持するための支持母材として機
能する。
The substrate 1 is made of an electrically insulating material such as alumina ceramics, mullite, aluminum nitride, glass ceramics, quartz, alkali glass, and alkali-free glass. 4. It functions as a supporting base material for supporting the second wiring layer 5.

【0010】また前記基板1の上面には、その所定箇所
に複数個の突起2が被着・形成されている。
On the upper surface of the substrate 1, a plurality of projections 2 are attached and formed at predetermined positions.

【0011】前記突起2は、その断面形状が上底を下底
よりも短い略台形状をなすように形成されており、その
厚みは、後述する絶縁層4の厚みが30μmの場合、例
えば5μm〜15μmに設定される。
The projection 2 is formed such that its cross-section has a substantially trapezoidal shape in which the upper base is shorter than the lower base, and has a thickness of, for example, 5 μm when the thickness of an insulating layer 4 described later is 30 μm. 1515 μm.

【0012】そして前記突起2を有する基板1上には、
第1配線層3及び第2配線層5が間に絶縁層4を介して
所定パターンに被着されている。
On the substrate 1 having the protrusions 2,
The first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 are provided in a predetermined pattern with the insulating layer 4 interposed therebetween.

【0013】前記第1配線層3及び第2配線層5は、例え
ば銀や金、或いは、これらの合金等を含む導電材料から
成り、その一部が前記突起2上を通過するようにして被
着・形成され、前記突起2上で絶縁層4のビアホールを
介して相互に電気的に接続される。
The first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 are made of a conductive material containing, for example, silver, gold, or an alloy thereof. And are electrically connected to each other via the via holes of the insulating layer 4 on the protrusions 2.

【0014】また一方、前記第1配線層3及び第2配線層
5間に介在されている絶縁層4は、非晶質ガラス等によ
って例えば15μm〜100μmの厚みをもって形成さ
れており、前記突起2上には貫通孔6が設けられ、その
内部に接続導体7を充填させることによりビアホールを
形成している。
On the other hand, the insulating layer 4 interposed between the first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 is formed of amorphous glass or the like to have a thickness of, for example, 15 μm to 100 μm. A through hole 6 is provided on the upper side, and a via hole is formed by filling the inside with a connection conductor 7.

【0015】この絶縁層4で第1配線層3−第2配線層
5間の電気絶縁性を良好に確保するには、最低でも15
μmの厚みが必要となる。
In order to ensure good electrical insulation between the first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 with this insulating layer 4, at least 15
A thickness of μm is required.

【0016】前記絶縁層4中に形成されるビアホール
は、例えば配線層3,5の線幅が50μmの場合、その
1.5倍〜8倍に相当する大きさ、具体的には直径75
μm〜400μm程度の円柱状をなすように形成され、
第1配線層3及び第2配線層5を両者の交差部で相互に電
気的に接続する作用を為す。
The via hole formed in the insulating layer 4 has a size corresponding to 1.5 to 8 times the line width of the wiring layers 3 and 5, for example, 50 μm, specifically, a diameter of 75 μm.
formed to have a columnar shape of about μm to 400 μm,
The first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 function to electrically connect to each other at the intersection of the two.

【0017】尚、前記ビアホールを形成する接続導体7
は、第1配線層3や第2配線層5と同じ導電材料、例え
ば銀や金、或いは、これらの合金等を含む導電材料によ
って形成される。
The connecting conductor 7 forming the via hole
Is formed of the same conductive material as the first wiring layer 3 and the second wiring layer 5, for example, a conductive material including silver, gold, or an alloy thereof.

【0018】次に上述した多層配線基板の製造方法につ
いて図2(a)〜(e)を用いて説明する。 (1)まず、基板1を準備し、その上面に図2(a)に
示す如き断面台形状の突起2を複数個形成する。
Next, a method for manufacturing the above-described multilayer wiring board will be described with reference to FIGS. (1) First, a substrate 1 is prepared, and a plurality of projections 2 having a trapezoidal cross section as shown in FIG.

【0019】前記基板1は、例えばアルミナセラミック
スから成る場合、アルミナ、シリカ、マグネシア等のセ
ラミックス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加・混
合して泥漿状になすとともに、これを従来周知のドクタ
ーブレード法やカレンダーロール法等を採用することに
よってセラミックグリーンシート(セラミック生シー
ト)を得、しかる後、該グリーンシートを所定形状に打
ち抜いた上、高温(約1600℃)で焼成することによ
り製作される。
When the substrate 1 is made of, for example, alumina ceramics, an appropriate organic solvent and a suitable solvent are added to and mixed with a ceramic raw material powder of alumina, silica, magnesia or the like to form a slurry. A ceramic green sheet (ceramic green sheet) is obtained by employing a blade method, a calender roll method, or the like, and thereafter, the green sheet is punched into a predetermined shape and fired at a high temperature (about 1600 ° C.). You.

【0020】また前記突起2は、例えば鉛含有ガラスの
粉末に適当な有機溶剤を添加・混合して得た所定のガラ
スペーストを、前記基板1の上面に従来周知のスクリー
ン印刷を採用することによって部分的に印刷し、これを
高温(500℃〜800℃)で焼成することによって5
μm〜15μmの厚みに形成される。このとき、突起2
の断面形状を略台形状となすには、ガラスペーストの粘
度及び印刷厚みを所定の範囲内に制御することが重要で
あり、例えば鉛含有ガラスを主成分とするガラスペース
トを用いる場合、その粘度を例えば200Pasに調整
し、印刷厚みを例えば25μmに設定する。
The projections 2 are formed, for example, by applying a well-known screen printing on a top surface of the substrate 1 with a predetermined glass paste obtained by adding and mixing an appropriate organic solvent to, for example, lead-containing glass powder. By partially printing and firing it at a high temperature (500 ° C. to 800 ° C.)
It is formed to a thickness of from 15 μm to 15 μm. At this time, protrusion 2
It is important to control the viscosity and printing thickness of the glass paste within a predetermined range in order to make the cross-sectional shape of a substantially trapezoidal shape. For example, when using a glass paste mainly containing lead-containing glass, Is adjusted to, for example, 200 Pas, and the print thickness is set to, for example, 25 μm.

【0021】これら突起2の高さは、後述する絶縁層4
の厚みに対して30%〜60%の高さに設定するのが好
ましい。 (2)次に図2(b)に示す如く、前記基板1上に、一
部を前記突起2上に配した第1配線層3を形成する。
The height of these projections 2 is determined by the insulating layer 4 described later.
Is preferably set to a height of 30% to 60% with respect to the thickness. (2) Next, as shown in FIG. 2B, a first wiring layer 3 having a part disposed on the protrusion 2 is formed on the substrate 1.

【0022】前記第1配線層3は、例えば粒径1μm以
下の銀粉末に適当な有機溶剤、有機バインダー、ガラス
フリット等を添加・混合して得た所定の導電ペーストを
従来周知のスクリーン印刷によって基板1の上面に所定
パターンに印刷し、これを高温(350℃〜800℃)
で焼成することによって形成される。
The first wiring layer 3 is formed by adding a suitable organic solvent, an organic binder, a glass frit or the like to silver powder having a particle diameter of 1 μm or less and mixing the conductive paste with a conventionally known screen printing. A predetermined pattern is printed on the upper surface of the substrate 1 and is printed at a high temperature (350 ° C to 800 ° C).
Formed by baking.

【0023】このとき、第1配線層形成用のスクリーン
版は、穴あけされたパターンの一部が突起2上に位置す
るようにして基板1に対し位置合わせされる。
At this time, the screen plate for forming the first wiring layer is positioned with respect to the substrate 1 so that a part of the perforated pattern is located on the projection 2.

【0024】またこのとき、第1配線層3を基板1の上
面から突起2上にかけて良好な連続膜として形成するに
は、断面台形状に形成されている突起2の斜面の傾斜角
度を基板1の上面に対して50度以下の角度に設定して
おくことが好ましい (3)次に図2(c)に示す如く、前記基板1上に、複
数個の貫通孔6を有した絶縁層4を形成する。
At this time, in order to form the first wiring layer 3 as a good continuous film from the upper surface of the substrate 1 to the projection 2, the inclination angle of the slope of the projection 2 having a trapezoidal cross section should be adjusted. (3) Next, as shown in FIG. 2 (c), the insulating layer 4 having a plurality of through holes 6 on the substrate 1 is preferably formed. To form

【0025】前記絶縁層4は、非晶質ガラスの粉末に適
当な有機溶剤を添加・混合して得た所定のガラスペース
トを従来周知のスクリーン印刷によって、貫通孔6の形
成箇所を除く基板1の上面全域にわたって印刷・塗布
し、これを高温(400℃〜500℃)で焼き付けるこ
とにより形成される。
The insulating layer 4 is formed by adding a suitable organic solvent to an amorphous glass powder and mixing the glass paste with a predetermined glass paste by well-known screen printing. Is formed by printing and applying over the entire upper surface of the substrate and baking it at a high temperature (400 ° C. to 500 ° C.).

【0026】このとき、絶縁層形成用のスクリーン版
は、貫通孔6の形成箇所がマスクされており、この部分
を対応する突起2の位置と合致させることによりスクリ
ーン版が基板1に対して高精度に位置合わせされる。従
って、貫通孔6の径が極めて小さい場合であっても、ス
クリーン版を短時間で正確に位置合わせしてスクリーン
印刷の作業性を良好となすことができ、多層配線基板の
生産性が向上される。
At this time, the screen plate for forming the insulating layer is masked at the position where the through hole 6 is formed, and the screen plate is raised with respect to the substrate 1 by matching this portion with the position of the corresponding projection 2. Aligned to accuracy. Therefore, even when the diameter of the through-hole 6 is extremely small, the screen plate can be accurately positioned in a short time to improve the workability of the screen printing, and the productivity of the multilayer wiring board is improved. You.

【0027】またこの場合、貫通孔6の形成箇所には突
起2が形成されているため、ガラスペーストを印刷した
際にその一部が貫通孔6内に流れ込もうとするのを突起
2でくい止め、ガラスが焼成されるまでの間、貫通孔6
を開口させておくことができる。
In this case, since the projections 2 are formed at the positions where the through holes 6 are formed, the projections 2 prevent a part of the glass paste from flowing into the through holes 6 when the glass paste is printed. Until the glass is fired, the through holes 6
Can be left open.

【0028】尚、上述したガラスペーストの流れ込みを
より確実に防止するには、突起2の斜面の傾斜角度を基
板1の上面に対して20度以上に設定しておくことが好
ましい。 (4)次に図2(d)に示す如く、前記絶縁層4の貫通
孔6内に接続導体7を充填する。
In order to prevent the above-mentioned flow of the glass paste more reliably, it is preferable to set the inclination angle of the slope of the projection 2 to 20 degrees or more with respect to the upper surface of the substrate 1. (4) Next, as shown in FIG. 2D, the connection conductor 7 is filled in the through hole 6 of the insulating layer 4.

【0029】前記接続導体7は、例えば粒径1μm以下
の多数の金属微粒子、有機溶剤、有機バインダー、ガラ
スフリット等を所定量ずつ添加・混合して得た所定の導
電ペーストを従来周知のスクリーン印刷によって、一部
が貫通孔6内の第1配線層3と接するようにして貫通孔
6内に印刷し、これを高温(400℃〜600℃)で焼
成することによって貫通孔6の内部に充填され、これに
よって絶縁層4中にビアホールが形成される。
The connection conductor 7 is formed by adding a predetermined amount of metal fine particles having a particle size of 1 μm or less, an organic solvent, an organic binder, a glass frit, and the like in predetermined amounts and mixing the conductive paste. Is printed in the through-hole 6 so that a part thereof is in contact with the first wiring layer 3 in the through-hole 6, and is fired at a high temperature (400 ° C. to 600 ° C.) to fill the inside of the through-hole 6. Thereby, a via hole is formed in the insulating layer 4.

【0030】このとき、接続導体形成用のスクリーン版
は、接続導体7の形成箇所に穴あけがなされており、こ
れらのパターン穴を対応する突起2の位置と合致させる
ことによりスクリーン版が基板1に対して高精度に位置
合わせされる。従って、貫通孔6の径が極めて小さい場
合であっても、スクリーン版を短時間で正確に位置合わ
せしてスクリーン印刷の作業性を良好となすことがで
き、多層配線基板の生産性が向上される。
At this time, in the screen plate for forming the connection conductor, holes are formed in the portions where the connection conductors 7 are formed, and the screen plate is formed on the substrate 1 by aligning these pattern holes with the positions of the corresponding projections 2. Alignment with high accuracy. Therefore, even when the diameter of the through-hole 6 is extremely small, the screen plate can be accurately positioned in a short time to improve the workability of the screen printing, and the productivity of the multilayer wiring board is improved. You.

【0031】またこの場合、貫通孔6の内部には突起2
が設けられており、導電ペーストが充填される空間は狭
くなっていることから、その充填量は比較的少く、該導
電ペースト中に含まれている金属微粒子等の個数も少な
くなる。従って、接続導体7の形成時、導電ペースト中
に含まれている金属微粒子同士の焼結に伴う導電ペース
トの収縮は小さく抑えられ、接続導体7にクラックが形
成されるのを有効に防止することができる。
In this case, the projection 2 is provided inside the through hole 6.
Since the space filled with the conductive paste is narrow, the filling amount is relatively small, and the number of metal fine particles and the like contained in the conductive paste is also reduced. Accordingly, when the connection conductor 7 is formed, shrinkage of the conductive paste due to sintering of the metal fine particles contained in the conductive paste is suppressed to a small extent, and cracks are not effectively formed in the connection conductor 7. Can be.

【0032】尚、前記貫通孔6は前述した如く良好に開
口しており、導電ペーストは貫通孔6の内部に良好に充
填されるようになっている。 (5)そして最後に、図2(e)に示す如く、前記絶縁
層4上に、第2配線層5を形成する。
The through-hole 6 is satisfactorily opened as described above, so that the conductive paste fills the inside of the through-hole 6 well. (5) Finally, a second wiring layer 5 is formed on the insulating layer 4 as shown in FIG.

【0033】前記第2配線層5は、その一部が突起2上
に設けられている接続導体7上を通過するように形成さ
れ、先に述べた第1配線層3と同様の方法によって形成
される。即ち、粒径1μm以下の銀粉末に適当な有機溶
剤、有機バインダー、ガラスフリット等を添加・混合し
て得た所定の導電ペーストを従来周知のスクリーン印刷
によって絶縁層4の上面に所定パターンに印刷し、これ
を高温(350℃〜800℃)で焼成することによって
第2配線層5が形成され、これによって製品としての多
層配線基板が完成する。
The second wiring layer 5 is formed so that a part thereof passes over the connection conductor 7 provided on the projection 2 and is formed by the same method as the first wiring layer 3 described above. Is done. That is, a predetermined conductive paste obtained by adding and mixing an appropriate organic solvent, an organic binder, a glass frit, and the like to silver powder having a particle size of 1 μm or less is printed in a predetermined pattern on the upper surface of the insulating layer 4 by conventionally well-known screen printing. Then, by firing this at a high temperature (350 ° C. to 800 ° C.), the second wiring layer 5 is formed, thereby completing a multilayer wiring board as a product.

【0034】この場合、第1配線層3と第2配線層5と
を貫通孔6内の接続導体7を介して確実に接続すること
ができ、多層配線基板の製造歩留りが向上される。
In this case, the first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 can be reliably connected via the connection conductor 7 in the through hole 6, and the production yield of the multilayer wiring board is improved.

【0035】尚、本発明は上述の形態に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々
の変更、改良等が可能である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the gist of the present invention.

【0036】例えば上述の形態では配線層を2層積層さ
せた多層配線基板について説明したが、本発明は配線層
を3層以上積層させた多層配線基板にも適用が可能であ
る。
For example, in the above embodiment, a multilayer wiring board in which two wiring layers are stacked has been described. However, the present invention is also applicable to a multilayer wiring board in which three or more wiring layers are stacked.

【0037】また上述の形態において配線層3,5や絶
縁層4,接続導体7の焼成は同時に行っても、別々に行
っても、いずれでも良く、同時に行う場合には、その
分、製造プロセスが簡略化される利点もある。
In the above-described embodiment, the firing of the wiring layers 3 and 5, the insulating layer 4 and the connection conductor 7 may be performed simultaneously or separately, and the firing may be performed simultaneously. Is also simplified.

【0038】更に上述の形態においては第1配線層3と
第2配線層5を貫通孔6内に充填した接続導体7を介し
て接続するようにしたが、これに代えて第2配線層5を
貫通孔6内で第1配線層3上に直に被着させて両者を電
気的に接続するようにしても良い。
Further, in the above-described embodiment, the first wiring layer 3 and the second wiring layer 5 are connected via the connection conductor 7 filled in the through-hole 6, but instead the second wiring layer 5 May be directly attached to the first wiring layer 3 in the through-hole 6 to electrically connect the two.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明によれば、貫通孔の形成箇所には
突起が設けられているため、絶縁層の形成にあたってガ
ラスペーストを基板上に印刷した際、その一部が貫通孔
内に流れ込もうとするのを突起でくい止め、ガラスが焼
成されるまでの間、貫通孔を開口させておくことができ
る。従って、絶縁層の上下に配される第1配線層及び第
2配線層を貫通孔内に充填される接続導体等を介して確
実に接続させることができ、多層配線基板の製造歩留り
が向上される。
According to the present invention, a projection is provided at a position where a through-hole is formed. Therefore, when a glass paste is printed on a substrate in forming an insulating layer, a part of the glass paste flows into the through-hole. The protrusion is blocked by a projection, and the through hole can be opened until the glass is fired. Therefore, the first wiring layer and the second wiring layer disposed above and below the insulating layer can be reliably connected via the connection conductor filled in the through hole, and the production yield of the multilayer wiring board is improved. You.

【0040】また本発明によれば、多層配線基板を構成
する各層の形成に使用されるスクリーン版を、基板上に
設けた複数個の突起を用いて基板に対し位置合わせする
ことができることから、スクリーン版を短時間で正確に
位置合わせしてスクリーン印刷の作業性を良好となすこ
とができ、これによって多層配線基板の生産性が向上さ
れる。
According to the present invention, the screen plate used for forming each layer constituting the multilayer wiring board can be aligned with the substrate by using a plurality of projections provided on the substrate. The screen plate can be accurately positioned in a short time to improve the workability of the screen printing, thereby improving the productivity of the multilayer wiring board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法によって製作した多層配線基
板の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a multilayer wiring board manufactured by a manufacturing method of the present invention.

【図2】(a)〜(e)は本発明の一形態に係る多層配
線基板の製造方法を説明するための工程毎の断面図であ
る。
FIGS. 2A to 2E are cross-sectional views for explaining steps of a method for manufacturing a multilayer wiring board according to one embodiment of the present invention.

【図3】従来の多層配線基板の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a conventional multilayer wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板、2・・・突起、3・・・第1配線層、4
・・・絶縁層、5・・・第2配線層、6・・・貫通孔、
7・・・接続導体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... board | substrate, 2 ... protrusion, 3 ... 1st wiring layer, 4
... an insulating layer, 5 ... a second wiring layer, 6 ... a through hole,
7 Connection conductor

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板の上面に断面台形状の突起を複数個形
成する工程と、 前記基板上に、一部が前記突起上に配された第1配線層
を、導電ペーストの印刷及び焼成によって形成する工程
と、 前記基板上に、貫通孔が前記突起上に設けられた絶縁層
を、ガラスペーストの印刷及び焼成によって形成する工
程と、 前記絶縁層上に、一部が前記突起上に配され、前記貫通
孔内で前記第1配線層に電気的に接続される第2配線層
を、導電ペーストの印刷及び焼成によって形成する工程
と、を含む多層配線基板の製造方法。
A step of forming a plurality of projections having a trapezoidal cross section on an upper surface of a substrate; and forming a first wiring layer partially disposed on the projections on the substrate by printing and firing a conductive paste. Forming an insulating layer having a through hole formed on the protrusion on the substrate by printing and baking a glass paste; and disposing a part of the insulating layer on the protrusion on the insulating layer. Forming a second wiring layer electrically connected to the first wiring layer in the through hole by printing and baking a conductive paste.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7776393B2 (en) * 2003-04-04 2010-08-17 Kobe Steel, Ltd. Methods of producing an alumina film mainly in alpha crystal structure and the multilayer film thereof

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