JP2001343539A - Optical waveguide element - Google Patents

Optical waveguide element

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JP2001343539A
JP2001343539A JP2000165296A JP2000165296A JP2001343539A JP 2001343539 A JP2001343539 A JP 2001343539A JP 2000165296 A JP2000165296 A JP 2000165296A JP 2000165296 A JP2000165296 A JP 2000165296A JP 2001343539 A JP2001343539 A JP 2001343539A
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reactive
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clad
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Akira Tomaru
曉 都丸
Toru Maruno
透 丸野
Kouji Enbutsu
晃次 圓佛
Norio Murata
則夫 村田
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NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical waveguide element which has low loss, high performance and high reliability by using a reactive oligomer described hereunder. SOLUTION: The material hardened by polymerizing the reactive ligomer which is expressed by a general structural formula described hereunder (a), therein, R1, R2 are substituents such as alkyl group, or a mixture containing the said reactive oligomer and a reactive oligomer having an epoxy ring are used for core and clad. As the optical waveguide element of high quality is conveniently provided, various optical transmission systems which are used in the field of general optics and micro optics and, further, in the field of light communication and optical information processing are inexpensively introduced by using this element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光導波路素子、さらに詳
細には一般光学や微小光学分野で、また、光通信や光情
報処理の分野で用いられる種々の光集積回路又は光配線
板等に利用できる光導波路素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide device, more particularly, to various optical integrated circuits or optical wiring boards used in the fields of general optics and micro-optics, and in the fields of optical communication and optical information processing. The present invention relates to an optical waveguide device that can be used.

【0002】[0002]

【従来の技術】光情報処理、光通信分野で用いる光導波
路は集積化、微小化、高機能化、低価格化を目指して近
年検討が盛んになってきている。実際に石英系光導波路
素子が光通信分野の一部では実用化されるに至ってい
る。(文献:河内正夫、NTTR&D vol.43
No.11 p.101(1994))。また、安価な
材料を用いて、簡便な作製法が選択できる高分子導波路
の検討も盛んである。
2. Description of the Related Art Optical waveguides used in the field of optical information processing and optical communication have been actively studied in recent years with the aim of integration, miniaturization, high functionality, and low cost. Actually, silica-based optical waveguide devices have been put to practical use in a part of the optical communication field. (Literature: Masao Kawachi, NTTR & D vol.43
No. 11 p. 101 (1994)). In addition, studies are being actively conducted on a polymer waveguide in which a simple manufacturing method can be selected using an inexpensive material.

【0003】高分子材料からなる光導波路の作製方法と
しては、高分子材料の中にモノマーを含ませ、光照射に
よりモノマーと反応させ非照射部分との屈折率差を作る
フォトロッキングあるいは選択光重合法(黒川ら、アプ
ライドオプティックス17巻646ページ、1978
年)、リソグラフィやエッチングなど半導体加工に用い
る方法の適用(今村ら、エレクトロニクスレター、27
巻1342ページ、1991年)、重合性高分子あるい
はレジストを用いた方法(トレウェラら、SPIE11
77巻379ページ、1989年)がある。
As a method of manufacturing an optical waveguide made of a polymer material, a photo-locking method or a selective light weight method in which a monomer is included in a polymer material and reacted with the monomer by light irradiation to produce a refractive index difference from a non-irradiated portion. Legal (Kurokawa et al., Applied Optics, Vol. 17, p. 646, 1978)
), Application of methods used in semiconductor processing such as lithography and etching (Imamura et al., Electronics Letter, 27
Vol. 1342, 1991), a method using a polymerizable polymer or a resist (Trewela et al., SPIE11).
77, p. 379, 1989).

【0004】特に重合性高分子を用いコアリッジを形成
して導波路を形成する方法はその作製方法が簡便で低価
格化には適しているが、重合性高分子の場合、作製され
るコアリッジ形状の均一性、再現性に問題が起こった
り、重合反応後に吸収損失を大きくする置換基、例えば
OH基が残り損失が悪くなったり、吸水率が高くなって
信頼性が不十分であったりする問題点があり、その導波
路特性が石英系光導波路素子と同程度の光学特性、信頼
性を有する光導波路は作製されていなかった。
[0004] In particular, a method of forming a core ridge using a polymerizable polymer to form a waveguide is simple and suitable for cost reduction. Problems such as poor uniformity and reproducibility, substituents that increase absorption loss after the polymerization reaction, for example, OH groups remain, resulting in poor loss, and high water absorption, resulting in insufficient reliability. There is a point, and an optical waveguide having optical characteristics and reliability comparable to those of a silica-based optical waveguide device has not been manufactured.

【0005】本発明はこのような現状に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、高分子材料を用いて低価格化
と高性能化、高信頼性を同時に満足する光導波路素子を
実現することにある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to realize an optical waveguide device which simultaneously satisfies low cost, high performance, and high reliability by using a polymer material. It is in.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明はこれらの欠点を
下記の一般構造式(a)を有する反応性オリゴマーを用
いることによって低損失で高性能かつ高信頼性を有する
光導波路素子を実現することによって解決するものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention overcomes these disadvantages by using a reactive oligomer having the following general structural formula (a) to realize an optical waveguide device having low loss, high performance and high reliability. This is the solution.

【0007】一般構造式(a) General structural formula (a)

【0008】(但し、R1,R2はアルキル基、アルコ
キシ基、エーテル基、カルボキシル基、アミノ基、アル
デヒド基、エポキシ環、芳香環、複素環、オキセタン
環、フルオロハイドロカーボン基、フロロハイドロカー
ボン基、カルボニル基、チオカルボニル基のいずれか一
つあるいは複数以上を含む置換基である)
(Where R1 and R2 are an alkyl group, an alkoxy group, an ether group, a carboxyl group, an amino group, an aldehyde group, an epoxy ring, an aromatic ring, a heterocyclic ring, an oxetane ring, a fluorohydrocarbon group, a fluorohydrocarbon group, A substituent containing one or more of a carbonyl group and a thiocarbonyl group)

【0009】で表される反応性オリゴマーを少なくとも
1種以上含む混合物と、この混合物を熱あるいは光で重
合を開始させることができる重合開始剤とから構成され
る重合性混合物を硬化させて得られる高分子膜をコア及
びクラッド部のいずれかあるいは両方に用いることを特
徴とする。
Is obtained by curing a polymerizable mixture composed of a mixture containing at least one or more reactive oligomers represented by the formula (I) and a polymerization initiator capable of initiating polymerization of the mixture by heat or light. It is characterized in that a polymer film is used for one or both of a core and a clad.

【0010】本発明によれば高品質な光導波路素子が簡
便に実現され、本発明の素子を用いることによって、一
般光学や微小光学分野で、また、光通信や光情報処理の
分野で用いられる種々の光伝送システムを安価に導入で
きる。
According to the present invention, a high-quality optical waveguide device can be easily realized, and by using the device of the present invention, it can be used in the fields of general optics and micro optics, and in the fields of optical communication and optical information processing. Various optical transmission systems can be introduced at low cost.

【0011】本発明をさらに詳しく説明すると、本発明
は上述のように一般構造式(a)の反応性オリゴマーを
使用する。
The present invention will be described in more detail. The present invention uses the reactive oligomer of the general structural formula (a) as described above.

【0012】一般構造式(a) General structural formula (a)

【0013】(但し、R1,R2はアルキル基、アルコ
キシ基、エーテル基、カルボキシル基、アミノ基、アル
デヒド基、エポキシ環、芳香環、複素環、オキセタン
環、フルオロハイドロカーボン基、フロロハイドロカー
ボン基、カルボニル基、チオカルボニル基のいずれか一
つあるいは複数以上を含む置換基である)
(Where R1 and R2 are an alkyl group, an alkoxy group, an ether group, a carboxyl group, an amino group, an aldehyde group, an epoxy ring, an aromatic ring, a heterocyclic ring, an oxetane ring, a fluorohydrocarbon group, a fluorohydrocarbon group, A substituent containing one or more of a carbonyl group and a thiocarbonyl group)

【0014】一般構造式(a)の化合物を一般的にはオ
キセタン類と呼ぶが、具体的には3−エチル−3−ヒド
ロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキ
シメチル)オキセタン、1,4−ビス((3Å、エチル
−3−オキセタニル)メトキシ)メチル)ベンゼン、ジ
(1−エチル(3−オキセタニル))メチルエーテル、
3−エチル−3−(2−エチルヘキシロメチル)オキセ
タン等の反応性オリゴマーが挙げられる。
The compounds of the general structural formula (a) are generally called oxetanes, and specifically, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, 4-bis ((3Å, ethyl-3-oxetanyl) methoxy) methyl) benzene, di (1-ethyl (3-oxetanyl)) methyl ether,
Reactive oligomers such as 3-ethyl-3- (2-ethylhexylomethyl) oxetane are exemplified.

【0015】なお、本発明の光導波路に用いる反応性オ
リゴマーの高分子化は、成分中に含まれる反応基間の光
による反応によって重合することで行われる。反応を効
率よく十分に起こさせるために光重合開始剤を添加す
る。光重合開始剤としては一般に光重合開始剤として用
いられているものであればよく、ジアゾニウム塩、スル
ホニウム塩、ヨードニウム塩、セレニウム塩などエポキ
シ樹脂に有効性が知られている公知の化合物を任意に選
択して使用することができる。
The reactive oligomer used for the optical waveguide of the present invention is polymerized by polymerizing by a reaction between the reactive groups contained in the components. A photopolymerization initiator is added in order to cause the reaction to occur efficiently and sufficiently. Any photopolymerization initiator may be used as long as it is generally used as a photopolymerization initiator.A known compound known to be effective for epoxy resins such as diazonium salts, sulfonium salts, iodonium salts, and selenium salts may be used. Can be selected and used.

【0016】ジアゾニウム塩はAr−N2+X−で表わ
すことができる。Arとしては例えば、オルト、メタ、
パラの各ニトロフェニル、メトキシフェニル、2,5−
ジクロロフェニル、p−(n−モルホリノ)フェニル、
2,5−ジエトキシ−4−(p−トリメルカプト〕フェ
ニル等の基を示すことができる。X−はアニオンを表
し、例えばBF4−、FeCl4−、PF6−、AsF
6−、SbF6−等を示すことができる。
The diazonium salt can be represented by Ar-N2 + X-. As Ar, for example, ortho, meta,
Para nitrophenyl, methoxyphenyl, 2,5-
Dichlorophenyl, p- (n-morpholino) phenyl,
X- represents an anion, for example, BF4-, FeCl4-, PF6-, AsF.
6-, SbF6- and the like.

【0017】スルホニウム塩としては、例えばビス[4
−(ジフェニルスルホニウム)フェニル]スルフィド−
ビス−ヘキサフルオロホスフェート、ビス−[4−(ジ
フェニルスルホニル)フェニル]スルフィド−ビス−ヘ
キサフルオロアンチモネート等の他に特公昭59−42
688号公報の同15頁第24行目から同第18頁第1
行目に記載されている化合物を用いることができる。
As the sulfonium salt, for example, bis [4
-(Diphenylsulfonium) phenyl] sulfide-
Bis-hexafluorophosphate, bis- [4- (diphenylsulfonyl) phenyl] sulfide-bis-hexafluoroantimonate, etc.
No. 688, page 15, line 24 to page 18, line 1
The compounds described in the line can be used.

【0018】ヨードニウム塩としては例えばジ−(4−
tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオ
ロフォスフェート、ジ−(4−tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等の他
に特公昭59−42688号公報の同11頁第28行目
から同第12頁第30行目に記載されている化合物を用
いることができる。
As the iodonium salt, for example, di- (4-
In addition to tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di- (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate and the like, JP-B-59-42688, page 11, line 28 to page 12 The compounds described in line 30 can be used.

【0019】セレニウム塩としてはトリフェニルセレニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、4−tert−ブ
チルフェニルジフェニルテトラフルオロボレート、2,
3−ジメチルフェニルジフェニルアンチモネート等が挙
げられる。
The selenium salts include triphenylselenium hexafluoroantimonate, 4-tert-butylphenyldiphenyltetrafluoroborate,
3-dimethylphenyldiphenylantimonate and the like.

【0020】一般構造式(a)で表される化合物と混合
して使用される化合物としては同種のオキセタン類以外
にエポキシ環を含む化合物を挙げることができ、エポキ
シ環を含む化合物と混合して光硬化させることにより、
耐熱性、耐湿性に優れた硬化物を得ることができる。
Examples of the compound used by mixing with the compound represented by the general structural formula (a) include compounds containing an epoxy ring in addition to oxetanes of the same kind. By light curing
A cured product excellent in heat resistance and moisture resistance can be obtained.

【0021】エボキシ環を含む化合物の例としては、
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキ
シシクロヘキシルエチル−8,4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシ
ド、アリルシクロヘキセンジオキシド、8,4−エポキ
シ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシ
ド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオ
キサン、ビス(3,4−エボキシシクロヘキシル)アジ
ペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル
メチル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)ジエチルシロキサン等の脂肪族環状エポキシ化合
物、ポリブタジエンジグリシジルエーテル、ポリ−1,
4−(2,3−エポキシブタン)−CO−1,2−
(8,4−エポキシ)−CO−1,4−ブタジエンジオ
ール、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、ジブロモネオペ
ンチルグリコールジグリシジルエーテル、o−フタル酸
グリシジルエステル、トリメチロールプロパンポリグリ
シジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテ
ル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビ
トールポリグリシジルエーテル、アリルグリシジルエー
テル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニ
ルグリシジルエーテル、フェノールペンタ(オキシエチ
レン)グリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェ
ニルグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジル
エーテル、ラウリルアルコールペンタデカ(オキシエチ
レン)グリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジル
エーテル、ペンタエリスリ4トールポリグリシジルエー
テル、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)
イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、
ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、
アジピン酸ジグリシジルエステル、ヒドロキノンジグリ
シジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテ
ル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、グリシジルフ
タルイミド、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジ
ブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
セチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエー
テル、p−オクチルフェニルグリシジルエーテル、p−
フェニルフェニルグリシジルエーテル、グリシジルベン
ゾエート、グリシジルアセテート、グリシジルブチレー
ト、スピログリコールジグリシジルエーテル、還元マル
ト−スポリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグ
リシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジル
エーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビ
スフェノールGジグリシジルエーテル、テトラメチルビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノール
ヘキサフルオロアセトンジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールCジグリシジルエーテル、1,3−ビス(1−
(2,3−エポキシプロポキシ)−1−トリフルオロメ
チル−2,2,2−トリフルオロエチル)ベンゼン、
1,4−ビス(1−(2,3−エポキシプロパキシ)−
1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエ
チル)ベンゼン、4,4’−ビス(2,3−エポキシプ
ロポキシ)オクタフルオロビフェニル、テトラグリシジ
ル−m−キシリレンジアミン、テトラグリシジルジアミ
ノジフェニルメタン、トリグリシジル−パラアミノフェ
ノール、トリグリシジル−メタアミノフェノール、ジグ
リシジルアニリン、ジグリシジルトリブロムアニリン、
テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン、テ
トラフルオロプロピルグリシジルエーテル、オクタフル
オロペンチルグリシジルエーテル、ドデカフルオロオク
チルジグリシジルエーテル、スチレンオキシド、リモネ
ンジエポキシド、リモネンモノオキシド、α−ピネンエ
ポキシド、β−ピネンエポキシド等のエポキシ化合物が
挙げられる。
Examples of compounds containing an ethoxy ring include:
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylethyl-8,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide, allylcyclohexene dioxide, 8,4-epoxy- 4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-
Spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) ether, bis (3 Aliphatic cyclic epoxy compounds such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether and bis (3,4-epoxycyclohexyl) diethylsiloxane, polybutadiene diglycidyl ether, poly-1,
4- (2,3-epoxybutane) -CO-1,2-
(8,4-epoxy) -CO-1,4-butadienediol, neopentyl glycol diglycidyl ether,
1,6-hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, glycidyl o-phthalate, trimethylolpropane polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, Polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, phenol penta (oxyethylene) glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, dibromophenyl glycidyl ether, lauryl alcohol Pentadeca (oxyethylene) glycidyl Ether, sorbitan polyglycidyl ether, Pentaerisuri 4 Torr polyglycidyl ether, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl)
Isocyanurate, resorcin diglycidyl ether,
Polytetramethylene glycol diglycidyl ether,
Adipic acid diglycidyl ester, hydroquinone diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, terephthalic acid diglycidyl ester, glycidyl phthalimide, dibromophenyl glycidyl ether, dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether,
Cetyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, p-octylphenyl glycidyl ether, p-
Phenyl phenyl glycidyl ether, glycidyl benzoate, glycidyl acetate, glycidyl butyrate, spiro glycol diglycidyl ether, reduced malto-s-polyglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol G diglycidyl ether, tetramethylbisphenol A diglycidyl ether, bisphenol hexafluoroacetone diglycidyl ether, bisphenol C diglycidyl ether, 1,3-bis (1-
(2,3-epoxypropoxy) -1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl) benzene,
1,4-bis (1- (2,3-epoxypropoxy)-
1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl) benzene, 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) octafluorobiphenyl, tetraglycidyl-m-xylylenediamine, tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, Triglycidyl-paraaminophenol, triglycidyl-metaaminophenol, diglycidylaniline, diglycidyltribromoaniline,
Epoxy compounds such as tetraglycidyl bisaminomethylcyclohexane, tetrafluoropropyl glycidyl ether, octafluoropentyl glycidyl ether, dodecafluorooctyl diglycidyl ether, styrene oxide, limonene diepoxide, limonene monoxide, α-pinene epoxide, β-pinene epoxide Is mentioned.

【0022】本発明は上述の構造式(a)を有する反応
性オリゴマーを含んでいる重合性物質を光導波路のコア
及びクラッドのいずれかあるいは両方に用いる。
In the present invention, a polymerizable substance containing a reactive oligomer having the above structural formula (a) is used for one or both of a core and a clad of an optical waveguide.

【0023】(1)この重合性物質を硬化させてまずク
ラッドを形成し、そのクラッドより硬化した際に屈折率
が高くなる前記重合性物質を塗布し、これにマスクを通
してあるいは直接光を照射してパターン上に潜像を形成
し、その後未照射部を溶媒にて除去することによりパタ
ーンを形成しこの部分を光が通るコア部分とし、さらに
その上部に硬化した際にコア部より屈折率が低くなる重
合性物質を塗布して紫外線照射により上部クラッドを形
成する方法により光導波路を作製することが可能であ
る。
(1) This polymerizable substance is cured to form a clad first, and the polymerizable substance which has a higher refractive index when cured from the clad is applied, and this is irradiated with light through a mask or directly. A latent image is formed on the pattern by removing the unirradiated portion with a solvent to form a pattern, and this portion is used as a core portion through which light passes, and when it is further cured, the refractive index is higher than that of the core portion. An optical waveguide can be manufactured by a method of applying a polymerizable substance to be lowered and forming an upper clad by irradiating ultraviolet rays.

【0024】(2)これ以外の導波路形成方法としては
最初に下部クラッド層、コア層の平坦膜を積み重ねた
後、コア層をフォトレジスト工程によりパターン化した
後、反応性イオンエッチングによりコアリッジを形成
し、その後上部クラッドを被せて導波路構造とすること
も可能である。
(2) As another waveguide forming method, first, a lower clad layer and a flat film of a core layer are stacked, a core layer is patterned by a photoresist process, and a core ridge is formed by reactive ion etching. It is also possible to form and then cover the upper clad to form a waveguide structure.

【0025】本発明者らは、前記反応性オリゴマーを含
む重合性物質が、上記(1)に記述した方法におけるパ
ターン形成が可能であることを見い出し、しかも従来の
重合性物質に比較してパターン形成能が極めて優れるこ
とを利用して本発明を完成するに至った。
The present inventors have found that the polymerizable substance containing the reactive oligomer is capable of forming a pattern by the method described in the above (1), and that the polymerizable substance can be compared with a conventional polymerizable substance. The present invention has been completed by utilizing the extremely excellent formability.

【0026】すなわち、本発明は、光照射により膜を硬
化し適当な溶媒で現像することにより急峻で滑らかな壁
面を持つパターンを形成できることを基にしており、こ
のパターンを導波路のコアリッジに用いることにより本
発明の光導波路素子を実現するものである。また従来、
この種のリッジパターン形成法では厚膜形成が困難・加
工の再現性に乏しいのに対し、再現性よくパターン形成
が可能となった。
That is, the present invention is based on the fact that a pattern having steep and smooth wall surfaces can be formed by curing a film by light irradiation and developing with a suitable solvent, and this pattern is used for a core ridge of a waveguide. This realizes the optical waveguide device of the present invention. Conventionally,
With this type of ridge pattern forming method, it is difficult to form a thick film and poor reproducibility of processing, but it is possible to form a pattern with good reproducibility.

【0027】さらに上記(2)に記載の光導波路形成方
法、すなわち反応性イオンエッチングによりコアリッジ
を形成し、その後上部クラッドを被せて導波路構造とす
る方法においてもエッチング表面が滑らかな光導波路が
作製可能であることがわかった。
Further, in the method of forming an optical waveguide described in the above (2), that is, a method of forming a core ridge by reactive ion etching and then covering the upper clad to form a waveguide structure, an optical waveguide having a smooth etched surface is manufactured. It turned out to be possible.

【0028】以下に本発明における有効性を列挙する。The effectiveness of the present invention will be listed below.

【0029】(1)本発明における構造式(a)の反応
性オリゴマーを含む重合性物質は硬化する前の状態が液
体であり、均一性を高くできるので、紫外、可視域の光
透過特性に優れ、光照射により硬化する膜を得る場合に
も膜が厚くなっても十分な解像度を有し、散乱損失等の
少ない導波路を実現することが可能である。
(1) The polymerizable substance containing the reactive oligomer of the structural formula (a) in the present invention is a liquid before being cured and can have high uniformity. It is possible to realize a waveguide that has excellent resolution even when a film that is cured by light irradiation is obtained and has a sufficient resolution even when the film is thickened, and that has small scattering loss and the like.

【0030】(2)本発明における構造式(a)の反応
性オリゴマーを含む重合性物質は硬化する前の状態が液
体であるため、凹凸を有する部分があっても平坦化が可
能で、くまなく浸透し、様々な形状に対応した膜形成が
容易となり、多様な光導波路素子が作製可能である。
(2) Since the polymerizable substance containing the reactive oligomer of the structural formula (a) in the present invention is a liquid before being cured, it can be flattened even if it has uneven portions, Therefore, it is easy to form a film corresponding to various shapes, and various optical waveguide devices can be manufactured.

【0031】(3)本発明における一般構造式(a)の
重合性物質はオリゴマーがランダムに連結され硬化する
ため、複屈折性の小さい光導波路が実現可能である。
(3) Since the oligomer of the polymerizable substance of the general structural formula (a) in the present invention is randomly linked and cured, an optical waveguide having a small birefringence can be realized.

【0032】(4)本発明における構造式(a)の反応
性オリゴマーを含む重合性物質は数種類のオリゴマー材
料を混合することにより調整されるため本発明の光導波
路素子を構成するコア、クラッドの屈折率を広範囲で制
御することが可能となるためマルチモード導波路からシ
ングルモード導波路まで多様な光導波路素子を得ること
ができる。
(4) Since the polymerizable substance containing the reactive oligomer of the structural formula (a) in the present invention is adjusted by mixing several kinds of oligomer materials, the core and the clad constituting the optical waveguide device of the present invention are prepared. Since the refractive index can be controlled in a wide range, various optical waveguide elements from a multi-mode waveguide to a single-mode waveguide can be obtained.

【0033】(5)本発明における一般構造式(a)の
反応性オリゴマーは開環反応を行う際OH基を生じない
ため、近赤外域(1.4μm付近)においてOH基の吸
収損失が少なく、本発明による光導波路は損失を少なく
することが可能である。
(5) Since the reactive oligomer of the general structural formula (a) in the present invention does not generate an OH group during the ring-opening reaction, the absorption loss of the OH group is small in the near infrared region (around 1.4 μm). The optical waveguide according to the present invention can reduce the loss.

【0034】(6)本発明における構造式(a)の反応
性オリゴマーは開環反応を行う際OH基を生じないので
疎水性に富むため、吸水率が低く恒温恒湿等の環境下に
おいても信頼性の高い光導波路素子を実現することが可
能となる。
(6) The reactive oligomer of the structural formula (a) in the present invention does not generate an OH group during the ring-opening reaction and is rich in hydrophobicity, so that it has a low water absorption and can be used in an environment such as constant temperature and humidity. It is possible to realize a highly reliable optical waveguide device.

【0035】[0035]

【実施例】本発明を実施例により更に具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0036】[0036]

【実施例1】以下に示した構造式(1)を有する反応性
オリゴマーを一成分(10wt%)、ビスフェノールA
ジグリシジルエーテル(30wt%)、4−エポキシ−
4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド
(40wt%)アリルグリシジルエーテル(18wt
%)からなる混合物と光重合開始剤2wt%を調整した
重合性樹脂を準備し、スピンコートにより塗布して光硬
化させ、下部クラッド10とした。(図1a参照)。こ
の硬化物の屈折率は波長0.85μmで1.53であっ
た。
Example 1 One component (10 wt%) of a reactive oligomer having the structural formula (1) shown below, bisphenol A
Diglycidyl ether (30 wt%), 4-epoxy-
4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (40 wt%) allyl glycidyl ether (18 wt
%) And a polymerizable resin prepared by adjusting 2% by weight of a photopolymerization initiator, prepared by spin coating, and photocured to obtain a lower clad 10. (See FIG. 1a). The refractive index of this cured product was 1.53 at a wavelength of 0.85 μm.

【0037】次に同じ構造を有する反応性オリゴマーを
一成分(10wt%)、ビスフェノールAジグリシジル
エーテル(40wt%)、4−エポキシ−4−メチルシ
クロヘキシル−2−プロピレンオキシド(30wt%)
アリルグリシジルエーテル(18wt%)からなる混合
物と光重合開始剤2wt%を含むコア用重合性樹脂12
を用意し、下部クラッド10上に塗布した(図1b参
照)。
Next, one component (10 wt%) of a reactive oligomer having the same structure, bisphenol A diglycidyl ether (40 wt%), 4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (30 wt%)
Polymerizable resin for core 12 containing a mixture of allyl glycidyl ether (18 wt%) and 2 wt% of photopolymerization initiator
Was prepared and applied on the lower clad 10 (see FIG. 1b).

【0038】その後、図1cに示したように導波路パタ
ーンを有するマスク13越しにUV光14を照射した。
照射量は2000mJ/cm2であった。その後、この
試料を有機溶剤で現像したところ、マスク13のパター
ンに従い、光照射部のみ液状の反応性オリゴマーの混合
物が硬化し、図1dに示すような形状のリッジパターン
15が作製できた。
Thereafter, as shown in FIG. 1C, UV light 14 was irradiated through a mask 13 having a waveguide pattern.
The irradiation amount was 2000 mJ / cm2. Thereafter, when this sample was developed with an organic solvent, the mixture of the liquid reactive oligomers was cured only in the light-irradiated portions according to the pattern of the mask 13, and a ridge pattern 15 having a shape as shown in FIG.

【0039】硬化後の屈折率は波長0.85μmで1.
545であった。その後、このリッジパターンに下部ク
ラッド形成時に用いたクラッド用重合性樹脂を塗布して
硬化しクラッド16を形成し、導波路を作製した。この
操作により屈折率1.52の樹脂からなるクラッド1
6、1.545の屈折率のUV硬化性樹脂からなるコア
17を有するマルチモードチャンネル導波路18が(深
さ40μm、幅40μm)作製できた(図1e参照)。
The refractive index after curing is 1. at a wavelength of 0.85 μm.
545. Thereafter, the polymerizable resin for cladding used in forming the lower clad was applied to the ridge pattern and cured to form the clad 16, thereby producing a waveguide. By this operation, the clad 1 made of resin having a refractive index of 1.52
A multi-mode channel waveguide 18 (40 μm in depth and 40 μm in width) having a core 17 made of a UV-curable resin having a refractive index of 6, 1.545 was produced (see FIG. 1 e).

【0040】この光導波路をダイシングソーによって5
cmの長さに切り出し、挿入損失を測定したところ、波
長0.85μmで0.5dB以下、1.3μmで1.5
dB以下であった。また、挿入損失の偏波依存性は波長
1.3μmでも0.1dB以下であった。
This optical waveguide is separated by a dicing saw into 5
cm, and the insertion loss was measured. The result was 0.5 dB or less at a wavelength of 0.85 μm and 1.5 dB at a wavelength of 1.3 μm.
dB or less. The polarization dependence of the insertion loss was 0.1 dB or less even at a wavelength of 1.3 μm.

【0041】構造式(1) Structural formula (1)

【0042】[0042]

【実施例2】実施例1と同様な方法で構造式(1)を有
する反応性オリゴマーを一成分(10wt%)、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル(30wt%)、4−
エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレン
オキシド(40wt%)アリルグリシジルエーテル(1
8wt%)からなる混合物と光重合開始剤2wt%を調
整した重合性樹脂を準備し基板上に塗布して光硬化さ
せ、下部クラッドとした。この硬化物の屈折率は波長
1.3μmで1.525であった。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a reactive oligomer having the structural formula (1) was used as one component (10 wt%), bisphenol A diglycidyl ether (30 wt%),
Epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (40 wt%) allyl glycidyl ether (1
(8 wt%) and a polymerizable resin prepared by adjusting 2 wt% of a photopolymerization initiator, were applied to a substrate, and were photo-cured to form a lower clad. The refractive index of this cured product was 1.525 at a wavelength of 1.3 μm.

【0043】次に構造式(1)を有する反応性オリゴマ
ーを一成分(10wt%)、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル(35wt%)、4−エポキシ−4−メチ
ルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド(35wt
%)アリルグリシジルエーテル(18wt%)からなる
混合物と光重合開始剤2wt%を含む重合性樹脂をスピ
ンコートにより塗布した。その後、Y分岐導波路パター
ンを有するマスク越しにUV光を照射した。照射量は2
000mJ/cm2であった。その後、この試料を有機
溶剤で現像したところ、マスクパターンに従い、光照射
部のみ液状の反応性オリゴマーの混合物が硬化し、図2
に示すようなY分岐形状のリッジパターン20が作製で
きた。
Next, a reactive oligomer having the structural formula (1) was used as one component (10 wt%), bisphenol A diglycidyl ether (35 wt%), 4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (35 wt%).
%) A mixture of allyl glycidyl ether (18 wt%) and a polymerizable resin containing 2 wt% of a photopolymerization initiator were applied by spin coating. Thereafter, UV light was applied through a mask having a Y-branch waveguide pattern. The irradiation amount is 2
000 mJ / cm2. Then, when this sample was developed with an organic solvent, the mixture of the reactive oligomers in a liquid state was hardened only in the light-irradiated portion according to the mask pattern.
A ridge pattern 20 having a Y-branch shape as shown in FIG.

【0044】硬化後の屈折率は波長1.3μmで1.5
35であった。その後、このリッジパターンに下部クラ
ッドに用いた重合性樹脂を塗布して硬化し、導波路を作
製した。この操作により屈折率1.525の樹脂からな
るクラッド、1.535の屈折率のUV硬化性樹脂から
なるコアを有するシングルモードチャンネル導波路が
(深さ6μm、幅6μm)作製できた。
The refractive index after curing is 1.5 at a wavelength of 1.3 μm.
35. Thereafter, the polymerizable resin used for the lower clad was applied to the ridge pattern and cured to produce a waveguide. By this operation, a single mode channel waveguide (6 μm in depth and 6 μm in width) having a clad made of a resin having a refractive index of 1.525 and a core made of a UV curable resin having a refractive index of 1.535 was produced.

【0045】この光導波路をダイシングソーによって5
cmの長さに切り出し、挿入損失を測定したところ、波
長1.3μmで0.5dB以下、1.55μmで1.5
dB以下であった。また、挿入損失の偏波依存性は波長
1.3μmでも0.1dB以下であった。また150℃
の高温下でも顕著な損失増加はなく、十分な耐熱性があ
った。Y分岐についても作製できたが、過剰損失0.2
dB前後と良好な結果であった。
This optical waveguide is separated by a dicing saw into 5
cm at a wavelength of 1.3 μm and 1.5 dB or less at 1.55 μm.
dB or less. The polarization dependence of the insertion loss was 0.1 dB or less even at a wavelength of 1.3 μm. 150 ° C
There was no remarkable increase in loss even at a high temperature, and there was sufficient heat resistance. Y-branch could be manufactured, but excess loss 0.2
The result was as good as around dB.

【0046】[0046]

【実施例3】実施例1と同様な方法で構造式(2)を有
する反応性オリゴマーを一成分(10wt%)、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル(30wt%)、4−
エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレン
オキシド(40wt%)アリルグリシジルエーテル(1
8wt%)からなる混合物と光重合開始剤2wt%を調
整した重合性樹脂を準備し基板上に塗布して光硬化さ
せ、下部クラッドとした。この硬化物の屈折率は波長
1.3μmで1.535であった。
Example 3 In the same manner as in Example 1, the reactive oligomer having the structural formula (2) was used as one component (10 wt%), bisphenol A diglycidyl ether (30 wt%),
Epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (40 wt%) allyl glycidyl ether (1
(8 wt%) and a polymerizable resin prepared by adjusting 2 wt% of a photopolymerization initiator, were applied to a substrate, and were photo-cured to form a lower clad. The refractive index of this cured product was 1.535 at a wavelength of 1.3 μm.

【0047】次に構造式(2)を有する反応性オリゴマ
ーを一成分(10wt%)、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル(35wt%)、4−エポキシ−4−メチ
ルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド(35wt
%)アリルグリシジルエーテル(18wt%)からなる
混合物と光重合開始剤2wt%を含む重合性樹脂をスピ
ンコートにより塗布した。その後、Y分岐導波路パター
ンを有するマスク越しにUV光を照射した。照射量は2
000mJ/cm2であった。その後、この試料を有機
溶剤で現像したところ、マスクパターンに従い、光照射
部のみ液状の反応性オリゴマーの混合物が硬化し、Y分
岐形状のリッジパターンが作製できた。
Next, a reactive oligomer having the structural formula (2) was used as a component (10 wt%), bisphenol A diglycidyl ether (35 wt%), 4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (35 wt%).
%) A mixture of allyl glycidyl ether (18 wt%) and a polymerizable resin containing 2 wt% of a photopolymerization initiator were applied by spin coating. Thereafter, UV light was applied through a mask having a Y-branch waveguide pattern. The irradiation amount is 2
000 mJ / cm2. Thereafter, when this sample was developed with an organic solvent, the mixture of the reactive oligomers in the liquid state was cured only in the light-irradiated portions according to the mask pattern, and a Y-branched ridge pattern could be produced.

【0048】硬化後の屈折率は波長1.3μmで1.5
45であった。その後、このリッジパターンに下部クラ
ッドに用いた重合性樹脂を塗布して硬化し、導波路を作
製した。この操作により屈折率1.535の樹脂からな
るクラッド、1.545の屈折率のUV硬化性樹脂から
なるコアを有するシングルモードチャンネル導波路が
(深さ6μm、幅6μm)作製できた。
The refractive index after curing is 1.5 at a wavelength of 1.3 μm.
45. Thereafter, the polymerizable resin used for the lower clad was applied to the ridge pattern and cured to produce a waveguide. By this operation, a single mode channel waveguide (6 μm in depth and 6 μm in width) having a cladding made of a resin having a refractive index of 1.535 and a core made of a UV curable resin having a refractive index of 1.545 was produced.

【0049】この光導波路をダイシングソーによって5
cmの長さに切り出し、挿入損失を測定したところ、波
長1.3μmで0.5dB以下、1.55μmで1.5
dB以下であった。また、挿入損失の偏波依存性は波長
1.3μmでも0.1dB以下であった。Y分岐の過剰
損失0.2dB前後と良好な結果であった。さらに15
0℃の高温下でも顕著な損失増加はなく、十分な耐熱性
があった。一方85℃、85%RHの恒温恒湿下でも顕
著な損失増加はなく、十分な対環境信頼性があった。
This optical waveguide is separated by a dicing saw into 5
cm at a wavelength of 1.3 μm and 1.5 dB or less at 1.55 μm.
dB or less. The polarization dependence of the insertion loss was 0.1 dB or less even at a wavelength of 1.3 μm. A good result was obtained with an excess loss of about 0.2 dB in the Y branch. Further 15
Even at a high temperature of 0 ° C., there was no remarkable increase in loss, and there was sufficient heat resistance. On the other hand, even under a constant temperature and constant humidity of 85 ° C. and 85% RH, there was no remarkable increase in loss, and there was sufficient environmental reliability.

【0050】構造式(2) Structural formula (2)

【0051】[0051]

【実施例4】実施例1と同様な方法で構造式(2)を有
する反応性オリゴマーを一成分(10wt%)、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル(30wt%)、4−
エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレン
オキシド(40wt%)アリルグリシジルエーテル(1
8wt%)からなる混合物と重合開始剤2wt%を調整
した重合性樹脂を準備し基板上に塗布して100℃で熱
硬化させ、下部クラッドとした。この硬化物の屈折率は
波長1.3μmで1.535であった。
Example 4 In the same manner as in Example 1, a reactive oligomer having the structural formula (2) was used as one component (10 wt%), bisphenol A diglycidyl ether (30 wt%),
Epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (40 wt%) allyl glycidyl ether (1
(8 wt%) and a polymerizable resin prepared by adjusting the polymerization initiator to 2 wt%, were applied to a substrate, and thermally cured at 100 ° C. to form a lower clad. The refractive index of this cured product was 1.535 at a wavelength of 1.3 μm.

【0052】次に構造式(2)を有する反応性オリゴマ
ーを一成分(10wt%)、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル(35wt%)、4−エポキシ−4−メチ
ルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド(35wt
%)アリルグリシジルエーテル(18wt%)からなる
混合物と光重合開始剤2wt%を含む重合性樹脂をスピ
ンコートにより塗布した。その後、同様に熱硬化させ
た。次にフォトレジストをパターン化し、そのレジスト
をマスクにして酸素ガスによるドライエッチング加工し
てY分岐導波路パターンを有するコアリッジを得た。作
製後の屈折率は波長1.3μmで1.545であった。
Next, one component (10 wt%) of the reactive oligomer having the structural formula (2), bisphenol A diglycidyl ether (35 wt%), 4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide (35 wt%)
%) A mixture of allyl glycidyl ether (18 wt%) and a polymerizable resin containing 2 wt% of a photopolymerization initiator were applied by spin coating. After that, it was similarly thermally cured. Next, the photoresist was patterned and dry-etched with oxygen gas using the resist as a mask to obtain a core ridge having a Y-branch waveguide pattern. The refractive index after fabrication was 1.545 at a wavelength of 1.3 μm.

【0053】その後、このリッジパターンに下部クラッ
ドに用いた重合性樹脂を塗布して100℃で硬化し、導
波路を作製した。この操作により屈折率1.535の樹
脂からなるクラッド、1.545の屈折率の樹脂からな
るコアを有するシングルモードチャンネル導波路が(深
さ6μm、幅6μm)作製できた。
Thereafter, the polymerizable resin used for the lower clad was applied to the ridge pattern and cured at 100 ° C. to produce a waveguide. By this operation, a single mode channel waveguide (6 μm in depth and 6 μm in width) having a cladding made of a resin having a refractive index of 1.535 and a core made of a resin having a refractive index of 1.545 was produced.

【0054】この光導波路をダイシングソーによって5
cmの長さに切り出し、挿入損失を測定したところ、波
長1.3μmで0.5dB以下、1.55μmで1.5
dB以下であった。また、挿入損失の偏波依存性は波長
1.3μmでも0.1dB以下であった。分岐について
も過剰損失0.2dB前後と良好な結果であった。
This optical waveguide is separated by a dicing saw into 5
cm at a wavelength of 1.3 μm and 1.5 dB or less at 1.55 μm.
dB or less. The polarization dependence of the insertion loss was 0.1 dB or less even at a wavelength of 1.3 μm. As for the branch, the excess loss was about 0.2 dB, which was a good result.

【0055】また150℃の高温下でも顕著な損失増加
はなく、十分な耐熱性があった。一方85℃、85%R
Hの恒温恒湿下でも顕著な損失増加はなく、十分な対環
境信頼性があった。
Further, even at a high temperature of 150 ° C., there was no remarkable increase in loss, and sufficient heat resistance was obtained. 85 ° C, 85% R
There was no remarkable increase in loss even under the constant temperature and humidity of H, and there was sufficient environmental reliability.

【0056】[0056]

【実施例5】実施例4と同じ材料を用いて熱硬化の替わ
りに光硬化を用いて同様な方法で屈折率1.535の樹
脂からなるクラッド、1.545の屈折率の樹脂からな
るコアを有するシングルモードチャンネル導波路が(深
さ6μm、幅6μm、長さ6cm)作製できた。波長
1.3μmで0.5dB以下、1.55μmで1.5d
B以下であった。
Fifth Embodiment A cladding made of a resin having a refractive index of 1.535 and a core made of a resin having a refractive index of 1.545 are formed in the same manner by using light curing instead of heat curing using the same materials as in the fourth embodiment. A single mode channel waveguide having a depth of 6 μm, a width of 6 μm, and a length of 6 cm having the following characteristics was produced. 0.5 dB or less at 1.3 μm wavelength, 1.5 d at 1.55 μm
B or less.

【0057】また、挿入損失の偏波依存性は波長1.3
μmでも0.1dB以下であった。Y分岐も作製でき過
剰損失0.2dB前後と良好な結果であった。また15
0℃の高温下でも顕著な損失増加はなく、十分な耐熱性
があった。
The polarization dependence of the insertion loss is 1.3 wavelength.
Even at μm, it was 0.1 dB or less. Y-branch could be produced, and the excess loss was about 0.2 dB, which was a good result. Also 15
Even at a high temperature of 0 ° C., there was no remarkable increase in loss, and there was sufficient heat resistance.

【0058】一方85℃、85%RHの恒温恒湿下でも
顕著な損失増加はなく、十分な対環境信頼性があった。
この他、光回路の基本回路である方向性結合器、スター
カップラー、光導波路型グレーティングリング共振器、
MXN合分岐等が作製可能であった。
On the other hand, even under a constant temperature and humidity condition of 85 ° C. and 85% RH, there was no remarkable increase in loss, and there was sufficient environmental reliability.
In addition, directional couplers, star couplers, optical waveguide type grating ring resonators, which are basic circuits of optical circuits,
MXN combined branching and the like could be produced.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば高
品質な光導波路素子が簡便に実現され、本発明の素子を
用いることによって、一般光学や微小光学分野で、ま
た、光通信や光情報処理の分野で用いられる種々の光伝
送システムを安価に導入できる。
As described above, according to the present invention, a high-quality optical waveguide device can be easily realized, and by using the device of the present invention, the optical waveguide device can be used in general optics and micro optics, and in optical communication and optical communication. Various optical transmission systems used in the field of optical information processing can be introduced at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一般的な作製例。FIG. 1 shows a general manufacturing example of the present invention.

【図2】本発明におけるY分岐のコアリッジ。FIG. 2 shows a Y-branch core ridge according to the present invention.

【符号の説明】 10 下部クラッド 11 基板 12 コア用重合性樹脂 13 マスク 14 UV光 15 リッジパターン 16 クラッド 17 コア 18 マルチモードチャンネル導波路 20 Y分岐形状のリッジパターンDESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Lower clad 11 Substrate 12 Polymerizable resin for core 13 Mask 14 UV light 15 Ridge pattern 16 Cladding 17 Core 18 Multi-mode channel waveguide 20 Ridge pattern of Y branch shape

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸野 透 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 圓佛 晃次 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 村田 則夫 東京都新宿区西新宿二丁目1番1号 エ ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株 式会社内 Fターム(参考) 2H047 QA05 TA42  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Toru Maruno 2-3-1 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Koji Enbutsu 2-3, Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo No. 1 Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Norio Murata Inventor F-term (reference) 2H047 QA05 TA42 in NTT Advanced Technology Co., Ltd. 2-1-1 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般構造式(a) (但し、R1,R2はアルキル基、アルコキシ基、エー
テル基、カルボキシル基、アミノ基、アルデヒド基、エ
ポキシ環、芳香環、複素環、オキセタン環、フルオロハ
イドロカーボン基、フロロハイドロカーボン基、カルボ
ニル基、チオカルボニル基のいずれか一つあるいは複数
以上を含む置換基である)で表される反応性オリゴマー
を少なくとも1種以上含む混合物と、この混合物を熱あ
るいは光で重合を開始させることができる重合開始剤と
から構成される重合性混合物を硬化させて得られる高分
子膜をコア及びクラッド部のいずれかあるいは両方に用
いることを特徴とする光導波路索子。
1. The following general structural formula (a) (However, R1 and R2 are an alkyl group, an alkoxy group, an ether group, a carboxyl group, an amino group, an aldehyde group, an epoxy ring, an aromatic ring, a heterocyclic ring, an oxetane ring, a fluorohydrocarbon group, a fluorohydrocarbon group, a carbonyl group, And a mixture containing at least one reactive oligomer represented by the formula (1), which is capable of initiating polymerization of the mixture by heat or light. An optical waveguide cable wherein a polymer film obtained by curing a polymerizable mixture composed of an agent and an agent is used for one or both of a core and a clad.
【請求項2】 前記反応性オリゴマーを少なくとも1種
以上と、エポキシ環を有する反応性オリゴマーを1種以
上を含む混合物と、これら反応性オリゴマーを熱あるい
は光で重合を開始させることができる重合開始剤とから
構成される重合性混合物を硬化させて得られる高分子膜
をコア及びクラッド部のいずれかあるいは両方に用いる
ことを特徴とする請求項1記載の光導波路素子。
2. A mixture containing at least one or more of the reactive oligomers and one or more of the reactive oligomers having an epoxy ring, and a polymerization initiator capable of initiating polymerization of these reactive oligomers by heat or light. 2. The optical waveguide device according to claim 1, wherein a polymer film obtained by curing a polymerizable mixture composed of an agent and one or both of the core and the clad is used.
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