JP2001339180A - 通電回路 - Google Patents
通電回路Info
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- JP2001339180A JP2001339180A JP2000158756A JP2000158756A JP2001339180A JP 2001339180 A JP2001339180 A JP 2001339180A JP 2000158756 A JP2000158756 A JP 2000158756A JP 2000158756 A JP2000158756 A JP 2000158756A JP 2001339180 A JP2001339180 A JP 2001339180A
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- Japan
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- container
- energizing
- electric heater
- lines
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 容器内の配線数を少なくすることができ、こ
れにより容器内の処置に際して配線が邪魔になる不具合
を解消できるとともに容器内の空間を有効活用すること
ができる通電回路を提供する。 【解決手段】 真空容器１１内において、電気ヒータ２
１に対する通電用および電気ヒータ２２に対する通電用
として共通の通電ラインＬｂを設け、さらに電気ヒータ
２２に対する通電用および電気ヒータ２３に対する通電
用として共通の通電ラインＬｃを設ける。
れにより容器内の処置に際して配線が邪魔になる不具合
を解消できるとともに容器内の空間を有効活用すること
ができる通電回路を提供する。 【解決手段】 真空容器１１内において、電気ヒータ２
１に対する通電用および電気ヒータ２２に対する通電用
として共通の通電ラインＬｂを設け、さらに電気ヒータ
２２に対する通電用および電気ヒータ２３に対する通電
用として共通の通電ラインＬｃを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、たとえば半導体
製造に使用される真空容器のための通電回路に関する。
製造に使用される真空容器のための通電回路に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造等の処置に際し、余計な気体
分子や埃による処置対象物への悪影響を防ぐため、処置
対象物をガス挿入等の給気口と容器内を排気する手段を
備えた真空容器に収容し、その真空容器の中で必要な処
置を行うことがある。この真空容器の一例を図４に示し
ている。
分子や埃による処置対象物への悪影響を防ぐため、処置
対象物をガス挿入等の給気口と容器内を排気する手段を
備えた真空容器に収容し、その真空容器の中で必要な処
置を行うことがある。この真空容器の一例を図４に示し
ている。
【０００３】１は真空容器で、内部が真空状態に保たれ
ている。この真空容器１内に処置対象物たとえばウエハ
ーを載置するためのテーブル２が収容され、そのテーブ
ル２に複数の電気ヒータ３，４，５が装着されている。
ている。この真空容器１内に処置対象物たとえばウエハ
ーを載置するためのテーブル２が収容され、そのテーブ
ル２に複数の電気ヒータ３，４，５が装着されている。
【０００４】真空容器１の底周面の所定個所には、容器
内配線と容器外配線とを中継するための複数の端子６
ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ，６ｆが設けられている。
そして、真空容器１の内側において、端子６ａ，６ｂに
電気ヒータ３の両端、端子６ｃ，６ｄに電気ヒータ４の
両端、端子６ｅ，６ｆに電気ヒータ５の両端がそれぞれ
接続されている。真空容器１の外側では、端子６ａ，６
ｂ、端子６ｃ，６ｄ、端子６ｅ，６ｆにそれぞれ動作用
電力を供給するための配線が設けられている。
内配線と容器外配線とを中継するための複数の端子６
ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ，６ｆが設けられている。
そして、真空容器１の内側において、端子６ａ，６ｂに
電気ヒータ３の両端、端子６ｃ，６ｄに電気ヒータ４の
両端、端子６ｅ，６ｆに電気ヒータ５の両端がそれぞれ
接続されている。真空容器１の外側では、端子６ａ，６
ｂ、端子６ｃ，６ｄ、端子６ｅ，６ｆにそれぞれ動作用
電力を供給するための配線が設けられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】真空容器１内の配線数
は、電気ヒータの個数に対応する。電気ヒータの個数が
多くなると、それに伴って真空容器１内の配線数が増加
し、処置の邪魔になることがある。
は、電気ヒータの個数に対応する。電気ヒータの個数が
多くなると、それに伴って真空容器１内の配線数が増加
し、処置の邪魔になることがある。
【０００６】この発明は上記の事情を考慮したもので、
その目的とするところは、容器内の配線数を少なくする
ことができ、これにより容器内の処置に際して配線が邪
魔になる不具合を解消できるとともに容器内の空間を有
効活用することができる通電回路を提供することにあ
る。
その目的とするところは、容器内の配線数を少なくする
ことができ、これにより容器内の処置に際して配線が邪
魔になる不具合を解消できるとともに容器内の空間を有
効活用することができる通電回路を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の通
電回路は、容器内の各電気負荷のうち、第１の電気負荷
に対する一対の通電ラインの片側と、第２の電気負荷に
対する一対の通電ラインの片側とを、容器内で共通化し
ている。
電回路は、容器内の各電気負荷のうち、第１の電気負荷
に対する一対の通電ラインの片側と、第２の電気負荷に
対する一対の通電ラインの片側とを、容器内で共通化し
ている。
【０００８】請求項２に係る発明の通電回路は、請求項
１に係る発明において、さらに、容器外に設けられ各電
気負荷に対する動作用電力を出力する電源回路と、容器
外に設けられ上記電源回路の出力を各通電ラインに導く
ための複数の電源ラインと、これら電源ラインにそれぞ
れ介挿された絶縁トランスと、を備えている。
１に係る発明において、さらに、容器外に設けられ各電
気負荷に対する動作用電力を出力する電源回路と、容器
外に設けられ上記電源回路の出力を各通電ラインに導く
ための複数の電源ラインと、これら電源ラインにそれぞ
れ介挿された絶縁トランスと、を備えている。
【０００９】請求項３に係る発明の通電回路は、請求項
２に係る発明において、さらに、各電源ラインに設けら
れた通電量可変手段と、各電源ラインの通電量を検出す
る検出手段と、この検出手段の検出結果が設定値一定と
なるよう上記各通電量可変手段を制御する制御手段と、
を備えている。
２に係る発明において、さらに、各電源ラインに設けら
れた通電量可変手段と、各電源ラインの通電量を検出す
る検出手段と、この検出手段の検出結果が設定値一定と
なるよう上記各通電量可変手段を制御する制御手段と、
を備えている。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態につ
いて図面を参照して説明する。
いて図面を参照して説明する。
【００１１】図１において、１１はガス挿入等の給気口
と容器内を排気する手段を備えた真空容器で、内部が真
空状態に保たれている。この真空容器１１内に処置対象
物たとえばウエハーを載置するためのテーブル１２が収
容され、そのテーブル１２に複数の電気負荷たとえば電
気ヒータ２１，２２，２３が装着されている。この装着
例を図２および図３にそれぞれ示している。
と容器内を排気する手段を備えた真空容器で、内部が真
空状態に保たれている。この真空容器１１内に処置対象
物たとえばウエハーを載置するためのテーブル１２が収
容され、そのテーブル１２に複数の電気負荷たとえば電
気ヒータ２１，２２，２３が装着されている。この装着
例を図２および図３にそれぞれ示している。
【００１２】図２、図３において、Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，
Ｔ４は接続用タップで、テーブル１２の下面に分散して
設けられている。そして、接続用タップＴ１，Ｔ２間に
電気ヒータ２１、接続用タップＴ２，Ｔ３間に電気ヒー
タ２２、接続用タップＴ３，Ｔ４間に電気ヒータ２３が
それぞれ配設され、各電気ヒータが互いに直列接続され
てテーブル１２の下面の略全域を覆うように屈曲形成ま
たは螺旋形成されている。
Ｔ４は接続用タップで、テーブル１２の下面に分散して
設けられている。そして、接続用タップＴ１，Ｔ２間に
電気ヒータ２１、接続用タップＴ２，Ｔ３間に電気ヒー
タ２２、接続用タップＴ３，Ｔ４間に電気ヒータ２３が
それぞれ配設され、各電気ヒータが互いに直列接続され
てテーブル１２の下面の略全域を覆うように屈曲形成ま
たは螺旋形成されている。
【００１３】真空容器１１の底周面には、その所定個所
に、容器内配線と容器外配線とを中継するための複数の
端子２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄが設けられてい
る。端子２４ａ，２４ｂには、一対の通電ラインＬａ，
Ｌｂを介して接続用タップＴ１，Ｔ２（電気ヒータ２１
の両端）が接続されている。端子２４ｂ，２４ｃには、
一対の通電ラインＬｂ，Ｌｃを介して接続用タップＴ
２，Ｔ３（電気ヒータ２２の両端）が接続されている。
端子２４ｃ，２４ｄには、一対の通電ラインLｃ，Ｌｄ
を介して接続用タップＴ３，Ｔ４（電気ヒータ２３の両
端）が接続されている。
に、容器内配線と容器外配線とを中継するための複数の
端子２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄが設けられてい
る。端子２４ａ，２４ｂには、一対の通電ラインＬａ，
Ｌｂを介して接続用タップＴ１，Ｔ２（電気ヒータ２１
の両端）が接続されている。端子２４ｂ，２４ｃには、
一対の通電ラインＬｂ，Ｌｃを介して接続用タップＴ
２，Ｔ３（電気ヒータ２２の両端）が接続されている。
端子２４ｃ，２４ｄには、一対の通電ラインLｃ，Ｌｄ
を介して接続用タップＴ３，Ｔ４（電気ヒータ２３の両
端）が接続されている。
【００１４】とくに、電気ヒータ２１に対する通電ライ
ンＬａ，Ｌｂ、および電気ヒータ２２に対する通電ライ
ンＬｂ，Ｌｃに関しては、共通の電源ラインLｂが採用
されている。また、電気ヒータ２２に対する電源ライン
Ｌｂ，Ｌｃ、および電気ヒータ２３に対する電源ライン
Ｌｃ，Ｌｄに関しては、共通の電源ラインLｃが採用さ
れている。
ンＬａ，Ｌｂ、および電気ヒータ２２に対する通電ライ
ンＬｂ，Ｌｃに関しては、共通の電源ラインLｂが採用
されている。また、電気ヒータ２２に対する電源ライン
Ｌｂ，Ｌｃ、および電気ヒータ２３に対する電源ライン
Ｌｃ，Ｌｄに関しては、共通の電源ラインLｃが採用さ
れている。
【００１５】一方、真空容器１１の外側には電源回路３
０が設けられている。電源回路３０は、電気ヒータ２
１，２２，２３に対する動作用電力を出力する。この出
力が、電源ライン２５により端子２４ａ，２４ｂ間に導
かれ、電源ライン２６により端子２４ｂ，２４ｃ間に導
かれ、電源ライン２７により端子２４ｃ，２４ｄ間に導
かれる。
０が設けられている。電源回路３０は、電気ヒータ２
１，２２，２３に対する動作用電力を出力する。この出
力が、電源ライン２５により端子２４ａ，２４ｂ間に導
かれ、電源ライン２６により端子２４ｂ，２４ｃ間に導
かれ、電源ライン２７により端子２４ｃ，２４ｄ間に導
かれる。
【００１６】さらに、電源ライン２５に絶縁トランス３
１が介挿され、その絶縁トランス３１の一次側に通電量
可変手段として双方向性サイリスタ４１が挿接されてい
る。電源ライン２６には絶縁トランス３２が介挿され、
その絶縁トランス３２の一次側に通電量可変手段として
双方向性サイリスタ４２が挿接されている。電源ライン
２７には絶縁トランス３３が介挿され、その絶縁トラン
ス３３の一次側に通電量可変手段として双方向性サイリ
スタ４３が挿接されている。
１が介挿され、その絶縁トランス３１の一次側に通電量
可変手段として双方向性サイリスタ４１が挿接されてい
る。電源ライン２６には絶縁トランス３２が介挿され、
その絶縁トランス３２の一次側に通電量可変手段として
双方向性サイリスタ４２が挿接されている。電源ライン
２７には絶縁トランス３３が介挿され、その絶縁トラン
ス３３の一次側に通電量可変手段として双方向性サイリ
スタ４３が挿接されている。
【００１７】また、電源ライン２５において、絶縁トラ
ンス３１の二次側に電圧検出器５１および電流検出器６
１が設けられている。電源ライン２６には、絶縁トラン
ス３２の二次側に電圧検出器５２および電流検出器６２
が設けられている。電源ライン２７には、絶縁トランス
３３の二次側に電圧検出器５３および電流検出器６３が
設けられている。これら検出器の検出結果が制御部７０
に供給される。
ンス３１の二次側に電圧検出器５１および電流検出器６
１が設けられている。電源ライン２６には、絶縁トラン
ス３２の二次側に電圧検出器５２および電流検出器６２
が設けられている。電源ライン２７には、絶縁トランス
３３の二次側に電圧検出器５３および電流検出器６３が
設けられている。これら検出器の検出結果が制御部７０
に供給される。
【００１８】制御部７０は、主要な機能として次の
［１］〜［６］を備えている。 ［１］電圧検出器５１の検出電圧および電流検出器６１
の検出電流に基づいて電源ライン２５の通電量（電気ヒ
ータ２１への供給電力）を検出する第１の検出手段。 ［２］第１の検出手段の検出結果が設定値一定となるよ
う双方向性サイリスタ４１を制御する制御手段。 ［３］電圧検出器５２の検出電圧および電流検出器６２
の検出電流に基づいて電源ライン２６の通電量（電気ヒ
ータ２２への供給電力）を検出する第２の検出手段。 ［４］第２の検出手段の検出結果が設定値一定となるよ
う双方向性サイリスタ４２を制御する制御手段。 ［５］電圧検出器５３の検出電圧および電流検出器６３
の検出電流に基づいて電源ライン２７の通電量（電気ヒ
ータ２３への供給電力）を検出する第３の検出手段。 ［６］第３の検出手段の検出結果が設定値一定となるよ
う双方向性サイリスタ４３を制御する制御手段。
［１］〜［６］を備えている。 ［１］電圧検出器５１の検出電圧および電流検出器６１
の検出電流に基づいて電源ライン２５の通電量（電気ヒ
ータ２１への供給電力）を検出する第１の検出手段。 ［２］第１の検出手段の検出結果が設定値一定となるよ
う双方向性サイリスタ４１を制御する制御手段。 ［３］電圧検出器５２の検出電圧および電流検出器６２
の検出電流に基づいて電源ライン２６の通電量（電気ヒ
ータ２２への供給電力）を検出する第２の検出手段。 ［４］第２の検出手段の検出結果が設定値一定となるよ
う双方向性サイリスタ４２を制御する制御手段。 ［５］電圧検出器５３の検出電圧および電流検出器６３
の検出電流に基づいて電源ライン２７の通電量（電気ヒ
ータ２３への供給電力）を検出する第３の検出手段。 ［６］第３の検出手段の検出結果が設定値一定となるよ
う双方向性サイリスタ４３を制御する制御手段。
【００１９】このような構成によれば、電気ヒータ２
１，２２，２３に供給される動作用電力が常に設定値一
定に維持される。これにより、テーブル１２の各部の温
度がそのテーブル１２上の処置対象物にとって最適な状
態に設定される。
１，２２，２３に供給される動作用電力が常に設定値一
定に維持される。これにより、テーブル１２の各部の温
度がそのテーブル１２上の処置対象物にとって最適な状
態に設定される。
【００２０】とくに、真空容器１１内において、電気ヒ
ータ２１（第１の電気負荷に相当）に対する通電用およ
び電気ヒータ２２（第２の電気負荷に相当）に対する通
電用として共通の通電ラインＬｂを設け、さらに電気ヒ
ータ２２（第１の電気負荷に相当）に対する通電用およ
び電気ヒータ２３（第２の電気負荷に相当）に対する通
電用として共通の通電ラインＬｃを設けているので、真
空容器１１内の配線数を従来に比べてはるかに少なくす
ることができる。この配線数の減少は、電気ヒータの個
数が多くなるほど顕著な効果となって現われる。
ータ２１（第１の電気負荷に相当）に対する通電用およ
び電気ヒータ２２（第２の電気負荷に相当）に対する通
電用として共通の通電ラインＬｂを設け、さらに電気ヒ
ータ２２（第１の電気負荷に相当）に対する通電用およ
び電気ヒータ２３（第２の電気負荷に相当）に対する通
電用として共通の通電ラインＬｃを設けているので、真
空容器１１内の配線数を従来に比べてはるかに少なくす
ることができる。この配線数の減少は、電気ヒータの個
数が多くなるほど顕著な効果となって現われる。
【００２１】こうして、真空容器１１内の配線数が少な
くなることにより、真空容器１１内での処置に際して配
線が邪魔になる不具合を解消できるとともに、真空容器
１１内の限られた空間を有効活用することができる。
くなることにより、真空容器１１内での処置に際して配
線が邪魔になる不具合を解消できるとともに、真空容器
１１内の限られた空間を有効活用することができる。
【００２２】しかも、電源ライン２５，２６，２７に絶
縁トランス３１，３２，３３を介挿しているので、電気
ヒータ２１，２２，２３の地絡を防止できるという効果
を奏する。
縁トランス３１，３２，３３を介挿しているので、電気
ヒータ２１，２２，２３の地絡を防止できるという効果
を奏する。
【００２３】なお、上記実施形態では、容器として真空
容器を例に説明したが、真空でない容器に対しても同様
に適用可能である。また、電気ヒータの個数およびそれ
に伴う配線数については適宜に変更可能である。その
他、この発明は上記実施形態に限定されるものではな
く、要旨を変えない範囲で種々変形実施可能である。
容器を例に説明したが、真空でない容器に対しても同様
に適用可能である。また、電気ヒータの個数およびそれ
に伴う配線数については適宜に変更可能である。その
他、この発明は上記実施形態に限定されるものではな
く、要旨を変えない範囲で種々変形実施可能である。
【００２４】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、容
器内の各電気負荷のうち、第１の電気負荷に対する一対
の通電ラインの片側と、第２の電気負荷に対する一対の
通電ラインの片側とを、容器内で共通化したので、容器
内の配線数を少なくすることができ、これにより容器内
の処置に際して配線が邪魔になる不具合を解消できると
ともに容器内の空間を有効活用することができる通電回
路を提供できる。
器内の各電気負荷のうち、第１の電気負荷に対する一対
の通電ラインの片側と、第２の電気負荷に対する一対の
通電ラインの片側とを、容器内で共通化したので、容器
内の配線数を少なくすることができ、これにより容器内
の処置に際して配線が邪魔になる不具合を解消できると
ともに容器内の空間を有効活用することができる通電回
路を提供できる。
【図１】一実施形態の構成を示す図。
【図２】同実施形態における各電気ヒータの配設状態の
一例を示す図。
一例を示す図。
【図３】同実施形態における各電気ヒータの配設状態を
示す図。
示す図。
【図４】従来の通電回路の構成を示す図。
１１…真空容器、１２…テーブル、Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，
Ｔ４…接続用タップ、２１，２２，２３…電気ヒータ
（電気負荷）、２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ…端
子、Ｌａ，Ｌｂ，Ｌｃ，Ｌｄ…通電ライン、２５，２
６，２７…電源ライン、３０…電源回路、３１，３２，
３３…絶縁トランス、４１，４２，４３…双方向性サイ
リスタ（通電量可変手段）、５１，５２，５３…電圧検
出器、６１，６２，６３…電流検出器、７０…制御部
Ｔ４…接続用タップ、２１，２２，２３…電気ヒータ
（電気負荷）、２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ…端
子、Ｌａ，Ｌｂ，Ｌｃ，Ｌｄ…通電ライン、２５，２
６，２７…電源ライン、３０…電源回路、３１，３２，
３３…絶縁トランス、４１，４２，４３…双方向性サイ
リスタ（通電量可変手段）、５１，５２，５３…電圧検
出器、６１，６２，６３…電流検出器、７０…制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/324 Ｈ０１Ｌ 21/324 Ｋ
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の電気負荷を容器に収容したものに
おいて、 前記各電気負荷のうち、第１の電気負荷に対する一対の
通電ラインの片側と、第２の電気負荷に対する一対の通
電ラインの片側とを、前記容器内で共通化したことを特
徴とする通電回路。 - 【請求項２】 請求項１に記載の通電回路において、 前記容器外に設けられ、前記各電気負荷に対する動作用
電力を出力する電源回路と、 前記容器外に設けられ、前記電源回路の出力を前記各通
電ラインに導くための複数の電源ラインと、 これら電源ラインにそれぞれ介挿された絶縁トランス
と、 を備えたことを特徴とする通電回路。 - 【請求項３】 請求項２に記載の通電回路において、 前記各電源ラインに設けられた通電量可変手段と、 前記各電源ラインの通電量を検出する検出手段と、 この検出手段の検出結果が設定値一定となるよう前記各
通電量可変手段を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とする通電回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000158756A JP2001339180A (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 通電回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000158756A JP2001339180A (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 通電回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001339180A true JP2001339180A (ja) | 2001-12-07 |
Family
ID=18663183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000158756A Pending JP2001339180A (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 通電回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001339180A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008257104A (ja) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | 可変分散補償器 |
| JP2013118226A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Samco Inc | 化合物半導体気相成長装置 |
| JP2014150160A (ja) * | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置および試料台 |
| JP2015142050A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
-
2000
- 2000-05-29 JP JP2000158756A patent/JP2001339180A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008257104A (ja) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | 可変分散補償器 |
| JP2013118226A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Samco Inc | 化合物半導体気相成長装置 |
| JP2014150160A (ja) * | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置および試料台 |
| JP2015142050A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
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