JP2001337340A - Liquid crystal display device, method of manufacture thereof, anisotropic conductive film, and external circuit mounting method - Google Patents

Liquid crystal display device, method of manufacture thereof, anisotropic conductive film, and external circuit mounting method

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JP2001337340A
JP2001337340A JP2000153721A JP2000153721A JP2001337340A JP 2001337340 A JP2001337340 A JP 2001337340A JP 2000153721 A JP2000153721 A JP 2000153721A JP 2000153721 A JP2000153721 A JP 2000153721A JP 2001337340 A JP2001337340 A JP 2001337340A
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JP
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conductive particles
liquid crystal
external circuit
load
conductive film
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Junichi Yamada
淳一 山田
Seiji Muraoka
盛司 村岡
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Sharp Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device in which disconnections are reduced and which can perform stable liquid crystal display by reducing the crack of a connecting terminal due to conductive particles in an anisotropic conductive film when an external circuit is press-connected with the connecting terminal at the time of press-connection of the external circuit with the connecting terminal, such as an ITO connecting terminal, formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate where the anisotropic conductive film is used for press-connection. SOLUTION: The liquid crystal display device is manufactured by press- connecting the ITO connecting terminal 32 of the liquid crystal panel formed by using the plastic substrate 31 and a flexible substrate 33 via the anisotropic conductive film 21 formed by dispersing the conductive particles 11 each having a metal thin layer into an adhesive resin 12, where each conductive particle has <=73.0 MPa metal thin layer breaking stress, on a base material surface, by loading the one conductive particle with the breaking load of the metal thin layer or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック基板
を用いた液晶表示パネル上に形成された接続端子に、外
部回路としての、LSI等を実装したフレキシブル基板
上の接続端子を、異方性導電フィルムを用いて電気的に
接続(実装)してなる液晶表示装置およびその製造方法
並びにその製造に使用する異方性導電フィルムおよび外
部回路実装方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a connecting terminal formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate and a connecting terminal on a flexible substrate on which an LSI or the like is mounted as an external circuit. The present invention relates to a liquid crystal display device which is electrically connected (mounted) using a film, a method for manufacturing the same, an anisotropic conductive film used for the manufacture thereof, and a method for mounting an external circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えば、プラスチック基板を
用いた液晶表示パネル上に形成されたITO(indium ti
n oxide:インジウム錫酸化物) からなる接続端子と、L
SI(large scale integration) 等を実装したフレキシ
ブル基板等の集積回路基板等の外部回路とを電気的に接
続する方法として、異方性導電フィルムを用いた圧着が
行われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, indium tin oxide (ITO) formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate has been used.
n oxide: indium tin oxide) and L
As a method for electrically connecting an external circuit such as an integrated circuit board such as a flexible board on which SI (large scale integration) or the like is mounted, pressure bonding using an anisotropic conductive film is performed.

【0003】上記異方性導電フィルムとは、接着性を有
する絶縁材料(バインダー)中に導電粒子が分散された
ものであり、例えば、絶縁性のエポキシ系熱硬化性接着
剤中に導電粒子が分散されたものが知られている。
[0003] The anisotropic conductive film is a film in which conductive particles are dispersed in an insulating material (binder) having adhesive properties. For example, the conductive particles are contained in an insulating epoxy-based thermosetting adhesive. Dispersions are known.

【0004】上記導電粒子としては、例えば、ポリスチ
レン架橋体からなる基材を核体として、その表面に、ニ
ッケル−金めっきを施したものが知られている。例え
ば、特開平9−199206号公報には、樹脂粒子表面
に、金/ニッケルを0.03μm/0.1μmの厚みで
めっきしてなる、10%圧縮変位時の圧縮強度が68.
6MPa以下、圧縮変位時の回復率が10%以上である
導電粒子を用いた異方性導電フィルムが記載されてい
る。また、特開平7−220539号公報には、樹脂粒
子表面に、金/ニッケルを、0.02μm/0.2μm
の厚みでめっきしてなる導電粒子を用いた異方性導電フ
ィルムが記載されている。
[0004] As the above-mentioned conductive particles, for example, those in which a substrate made of a cross-linked polystyrene is used as a core and its surface is plated with nickel-gold are known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-199206 discloses that a resin particle surface is plated with gold / nickel to a thickness of 0.03 μm / 0.1 μm and has a compressive strength at a 10% compression displacement of 68.
An anisotropic conductive film using conductive particles of 6 MPa or less and a recovery rate at the time of compressive displacement of 10% or more is described. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-220439 discloses that gold / nickel is coated on a resin particle surface at 0.02 μm / 0.2 μm.
Anisotropic conductive films using conductive particles plated with a thickness of 3 mm are described.

【0005】上記異方性導電フィルムを用いた液晶表示
装置の製造において、上記液晶表示パネルへの外部回路
の実装は、異方性導電フィルムを挟んだ状態で、液晶表
示パネルにおけるプラスチック基板上の接続端子と外部
回路としてのフレキシブル基板上の接続端子との位置を
合わせて加熱し、加圧することによって行われる。これ
により、導電粒子がバインダーを排除して両接続端子に
接触し、両接続端子間の電気的接続が行われる。
[0005] In manufacturing a liquid crystal display device using the anisotropic conductive film, mounting of an external circuit on the liquid crystal display panel is performed by sandwiching the anisotropic conductive film on a plastic substrate of the liquid crystal display panel. Heating and pressurization are performed by aligning the positions of the connection terminals and the connection terminals on the flexible substrate as an external circuit. As a result, the conductive particles remove the binder and come into contact with both connection terminals, so that electrical connection between both connection terminals is performed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記液
晶表示パネルとしてプラスチック基板を用いた場合、上
記従来の方法では、圧着時に、該プラスチック基板上に
形成されたITO接続端子に、異方性導電フィルム中に
含まれる導電粒子によってクラック等のキズが入り易
く、断線等の不良が生じるという問題や、液晶の表示が
安定しないという問題が生じる。
However, when a plastic substrate is used as the liquid crystal display panel, in the conventional method, an anisotropic conductive film is attached to the ITO connection terminal formed on the plastic substrate at the time of pressure bonding. The conductive particles contained therein tend to cause scratches such as cracks, causing problems such as disconnection and the like, and problems such as unstable display of liquid crystal.

【0007】なお、上記特開平7−220539号公
報、特開平9−199206号公報には、プラスチック
基板を用いた場合の端子接続についての課題については
特に開示されていない。
The above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 7-220439 and Hei 9-199206 do not specifically disclose the problem of terminal connection when a plastic substrate is used.

【0008】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
であり、その目的は、特に、プラスチック基板を用いた
液晶表示パネル上に形成された、ITO接続端子等の接
続端子への、異方性導電フィルムを用いた外部回路の圧
着において、圧着時における異方性導電フィルム中の導
電粒子による接続端子のクラックを減少させることで断
線が低減され、かつ、安定した液晶の表示を行うことが
できる液晶表示装置およびその製造方法を提供すること
にある。また、本発明の目的は、上記液晶表示装置の製
造に使用され、上記圧着時における異方性導電フィルム
中の導電粒子による接続端子のクラックを減少させるこ
とができる異方性導電フィルムを提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、上記液晶表示装置の製
造に好適に使用される外部回路の実装方法を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide, in particular, an anisotropic connection to a connection terminal such as an ITO connection terminal formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate. In the crimping of an external circuit using a conductive conductive film, disconnection is reduced by reducing cracks in connection terminals due to conductive particles in the anisotropic conductive film during crimping, and stable liquid crystal display can be performed. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof. Another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film which is used for manufacturing the liquid crystal display device and can reduce cracks of connection terminals due to conductive particles in the anisotropic conductive film at the time of pressing. It is in.
A further object of the present invention is to provide a method of mounting an external circuit suitably used for manufacturing the liquid crystal display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願発明者等は、上記目
的を達成するために鋭意検討した結果、従来の実装にお
いては、圧着時に、導電粒子がバインダーを排除した
後、偏平し、ITO接続端子等の接続端子にめりこむこ
とで、該接続端子へのダメージが大きいと、プラスチッ
ク基板上に形成された接続端子にクラックが発生し、断
線等の不良が生じることを見出すと共に、圧着時に、導
電粒子を壊さずに単に圧縮偏平させた状態で外部回路の
圧着を行った場合、電気的接続の問題から液晶の表示が
不安定となることを見出し、基材表面に金属薄層を有
し、金属薄層破壊応力が73.0MPa以下の導電粒子
を、接着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方性
導電フィルムを介して、プラスチック基板を用いた液晶
パネルの接続端子と外部回路とを、上記導電粒子1個当
たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて、上記
導電粒子の金属薄層が破壊される荷重条件下で圧着する
ことにより、接続端子へのダメージを抑えてクラックを
低減し、断線を減少させることができると共に、圧着時
に導電粒子表面の金属薄層を破壊することで電気的接続
を良好にすることができ、この結果、液晶の表示を安定
させることができることを見出して本発明を完成させる
に至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to achieve the above-mentioned object. As a result, in the conventional mounting, the conductive particles were flattened after the binder was removed at the time of crimping, and the flattening was performed. It is found that if the connection terminal such as a terminal is seriously damaged, the connection terminal formed on the plastic substrate will be cracked if the damage to the connection terminal is large, causing a defect such as disconnection. When crimping an external circuit in the state of simply compressing and flattening without breaking the particles, we found that the display of the liquid crystal was unstable due to the problem of electrical connection, and had a thin metal layer on the surface of the base material, Through an anisotropic conductive film obtained by dispersing conductive particles having a metal thin-layer breaking stress of 73.0 MPa or less in an insulating material having an adhesive property, the conductive particles are connected to connection terminals of a liquid crystal panel using a plastic substrate. By applying a load equal to or more than the load for breaking the thin metal layer per conductive particle per one of the conductive particles and crimping the circuit under a load condition under which the thin metal layer of the conductive particles is broken, damage to the connection terminal is reduced. In addition to suppressing cracks and reducing breaks, electrical connection can be improved by breaking the thin metal layer on the surface of the conductive particles at the time of pressing, thereby stabilizing the display of the liquid crystal. The inventors have found that the present invention can be performed, and have completed the present invention.

【0010】すなわち、本発明にかかる液晶表示装置
は、上記の課題を解決するために、プラスチック基板を
用いた液晶パネルの接続端子(たとえばITO接続端
子)と外部回路(例えばフレキシブル基板であり、接続
(圧着)には、その接続端子が用いられる)とを、基材
表面に金属薄層(例えばめっき層)を有する導電粒子を
接着性を有する絶縁材料(例えば絶縁性のバインダー)
中に分散させてなり、上記導電粒子の金属薄層破壊応力
(例えばめっき破壊応力)が73.0MPa以下である
異方性導電フィルムを介して、上記導電粒子1個当た
り、その金属薄層破壊荷重(例えばめっき破壊荷重)以
上の荷重をかけて圧着してなることを特徴としている。
That is, in order to solve the above-mentioned problems, the liquid crystal display device according to the present invention has a connection terminal (for example, an ITO connection terminal) of a liquid crystal panel using a plastic substrate and an external circuit (for example, a flexible substrate. (For crimping, the connection terminals are used) and an insulating material (for example, an insulating binder) having an adhesive property with conductive particles having a thin metal layer (for example, a plating layer) on the surface of the substrate.
Through the anisotropic conductive film in which the conductive particles have a metal thin layer breaking stress (for example, plating breaking stress) of 73.0 MPa or less. It is characterized in that it is crimped by applying a load greater than a load (for example, a plating breaking load).

【0011】本発明において、上記導電粒子の金属薄層
破壊荷重とは、上記導電粒子に荷重をかけて圧縮したと
きに、上記導電粒子の金属薄層が破壊されるときの荷重
であり、上記導電粒子の金属薄層破壊応力とは、粒径d
の導電粒子1個の金属薄層破壊荷重をπ(d/2)2
割った値を示す。
In the present invention, the metal thin layer breaking load of the conductive particles is a load at which the thin metal layer of the conductive particles is broken when a load is applied to the conductive particles and compressed. The thin metal layer breaking stress of the conductive particles is the particle size d
The value obtained by dividing the metal thin layer breaking load of one conductive particle by π (d / 2) 2 .

【0012】上記の構成によれば、プラスチック基板を
用いた液晶パネルの接続端子への外部回路の圧着に際
し、基材表面に金属薄層を有する導電粒子を使用し、圧
着時に、該導電粒子1個当たり、その金属薄層破壊荷重
以上の荷重をかけてその金属薄層を破壊することによ
り、電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を
安定させることができる。
According to the above-described structure, when the external circuit is crimped to the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the thin metal layer by applying a load equal to or more than the load for breaking the thin metal layer per unit, it is possible to improve the electrical connection and to stabilize the display of the liquid crystal.

【0013】そして、上記の構成によれば、導電粒子の
金属薄層破壊応力を73.0MPa以下とすることで、
圧着時に、接続端子へのダメージが小さな荷重で上記導
電粒子における金属薄層を破壊することができ、特にプ
ラスチック基板上に形成されたITO接続端子等の接続
端子へのダメージを軽減することができるので、上記導
電粒子による上記接続端子のクラックを減少させること
ができ、上記接続端子のクラックに起因する断線等を低
減することができる。
According to the above configuration, the metal thin layer breaking stress of the conductive particles is set to 73.0 MPa or less.
At the time of crimping, damage to the connection terminal can break the thin metal layer in the conductive particles with a small load, and particularly damage to the connection terminal such as an ITO connection terminal formed on a plastic substrate can be reduced. Therefore, cracks in the connection terminals due to the conductive particles can be reduced, and disconnection or the like due to cracks in the connection terminals can be reduced.

【0014】従って、上記の構成によれば、プラスチッ
ク基板を用いた液晶表示パネル上に形成された接続端子
への、異方性導電フィルムを用いた外部回路の圧着にお
いて、圧着時における異方性導電フィルム中の導電粒子
による接続端子のクラックを減少させ、該クラックに起
因する断線不良の発生率が低減され、かつ、安定した液
晶の表示を行うことができる液晶表示装置を提供するこ
とができる。
Therefore, according to the above configuration, in the crimping of the external circuit using the anisotropic conductive film to the connection terminal formed on the liquid crystal display panel using the plastic substrate, It is possible to provide a liquid crystal display device capable of reducing cracks in connection terminals due to conductive particles in a conductive film, reducing the incidence of disconnection failure caused by the cracks, and performing stable liquid crystal display. .

【0015】また、本発明にかかる液晶表示装置の製造
方法は、上記の課題を解決するために、基材表面に金属
薄層(例えばめっき層)を有する導電粒子を、接着性を
有する絶縁材料(例えば絶縁性を有するバインダー)中
に分散させてなる異方性導電フィルムを介して、プラス
チック基板を用いた液晶パネルの接続端子(例えばIT
O接続端子)と外部回路(例えばフレキシブル基板であ
り、接続(圧着)には、その接続端子が用いられる)と
を圧着する液晶表示装置の製造方法であって、上記導電
粒子の金属薄層破壊応力(例えばめっき破壊応力)が7
3.0MPa以下であり、該導電粒子1個当たり、その
金属薄層破壊荷重(例えばめっき破壊荷重)以上の荷重
をかけて上記圧着を行うことを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of: bonding conductive particles having a thin metal layer (eg, a plating layer) on a substrate surface to an insulating material having an adhesive property; (E.g., an IT-based connection terminal of a liquid crystal panel using a plastic substrate via an anisotropic conductive film dispersed in an insulating binder).
A method for manufacturing a liquid crystal display device in which an O connection terminal) and an external circuit (for example, a flexible substrate, and the connection terminal is used for connection (crimping)) are used, wherein the metal thin layer of the conductive particles is broken. Stress (for example, plating breaking stress) is 7
The compression bonding is performed by applying a load equal to or less than 3.0 MPa and equal to or more than a metal thin layer breaking load (for example, a plating breaking load) to each conductive particle.

【0016】上記の方法によれば、プラスチック基板を
用いた液晶パネルの接続端子への外部回路の圧着に際
し、基材表面に金属薄層を有する導電粒子を使用し、圧
着時に、該導電粒子1個当たり、その金属薄層破壊荷重
以上の荷重をかけてその金属薄層を破壊することによ
り、電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を
安定させることができる。
According to the above method, when the external circuit is pressed against the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the thin metal layer by applying a load equal to or more than the load for breaking the thin metal layer per unit, it is possible to improve the electrical connection and to stabilize the display of the liquid crystal.

【0017】そして、上記の方法によれば、導電粒子の
金属薄層破壊応力を73.0MPa以下とすることで、
圧着時に、接続端子へのダメージが小さな荷重で上記導
電粒子における金属薄層を破壊することができ、特にプ
ラスチック基板上に形成されたITO接続端子等の接続
端子へのダメージを軽減することができるので、上記導
電粒子による上記接続端子のクラックを減少させること
ができ、上記接続端子のクラックに起因する断線等を低
減することができる。
According to the above method, by setting the metal thin layer breaking stress of the conductive particles to 73.0 MPa or less,
At the time of crimping, damage to the connection terminal can break the thin metal layer in the conductive particles with a small load, and particularly damage to the connection terminal such as an ITO connection terminal formed on a plastic substrate can be reduced. Therefore, cracks in the connection terminals due to the conductive particles can be reduced, and disconnection or the like due to cracks in the connection terminals can be reduced.

【0018】従って、上記の方法によれば、プラスチッ
ク基板を用いた液晶表示パネル上に形成された接続端子
への、異方性導電フィルムを用いた外部回路の圧着にお
いて、圧着時における異方性導電フィルム中の導電粒子
による接続端子のクラックを減少させ、該クラックに起
因する断線不良の発生率が低減され、かつ、安定した液
晶の表示を行うことができる液晶表示装置を得ることが
できる。
Therefore, according to the above method, in the press-fitting of an external circuit using an anisotropic conductive film to a connection terminal formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate, It is possible to obtain a liquid crystal display device in which cracks in the connection terminals due to conductive particles in the conductive film are reduced, the rate of occurrence of disconnection failure due to the cracks is reduced, and stable liquid crystal display can be performed.

【0019】さらに、本発明にかかる異方性導電フィル
ムは、上記の課題を解決するために、基材表面に金属薄
層(例えばめっき層)を有する導電粒子を、接着性を有
する絶縁材料(例えば絶縁性を有するバインダー)中に
分散させてなる異方性導電フィルムであって、上記導電
粒子の金属薄層破壊応力(例えばめっき破壊応力)が7
3.0MPa以下であることを特徴としている。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, the anisotropic conductive film according to the present invention is characterized in that conductive particles having a thin metal layer (for example, a plating layer) on the surface of a substrate are coated with an insulating material ( An anisotropic conductive film dispersed in an insulating binder, for example, wherein the conductive particles have a thin metal layer breaking stress (for example, plating breaking stress) of 7;
It is characterized by being 3.0 MPa or less.

【0020】上記の構成によれば、導電粒子の金属薄層
破壊応力を73.0MPa以下とすることで、上記液晶
表示装置の製造に使用した場合、圧着時に、接続端子へ
のダメージが小さな荷重で上記導電粒子における金属薄
層を破壊することができ、特にプラスチック基板上に形
成されたITO接続端子等の接続端子へのダメージを軽
減することができ、上記導電粒子による上記接続端子の
クラックを減少させることができ、上記接続端子のクラ
ックに起因する断線等を低減することができる。
According to the above structure, when the conductive particles have a metal thin layer breaking stress of 73.0 MPa or less, when used in the production of the liquid crystal display device, the damage to the connection terminals during crimping is small. The thin metal layer in the conductive particles can be broken by, and damage to connection terminals such as ITO connection terminals formed on a plastic substrate can be reduced, and cracks in the connection terminals due to the conductive particles can be reduced. It is possible to reduce disconnection and the like due to cracks in the connection terminals.

【0021】また、本発明にかかる異方性導電フィルム
は、上記の課題を解決するために、上記導電粒子が基材
表面にニッケル−金めっきを施してなり、上記ニッケル
層の厚みが0.17μm未満であることを特徴としてい
る。
The anisotropic conductive film according to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, has a structure in which the conductive particles are subjected to nickel-gold plating on the surface of a base material, and the nickel layer has a thickness of 0.1 mm. It is characterized by being less than 17 μm.

【0022】上記導電粒子が基材表面にニッケル−金め
っきを施してなる場合、金は、延性があり、軟らかいた
め、ITO接続端子等の接続端子に対するダメージは少
ないが、ニッケルは硬いため、このニッケル層を薄くす
ることによって、金属薄層破壊応力を小さくし、上記接
続端子へのダメージを軽減させることができ、接続端子
へのクラックの発生を低減させることができる。
When the conductive particles are formed by plating the surface of a base material with nickel-gold, gold is ductile and soft, so that there is little damage to connection terminals such as ITO connection terminals. By reducing the thickness of the nickel layer, the thin metal layer breaking stress can be reduced, the damage to the connection terminal can be reduced, and the occurrence of cracks in the connection terminal can be reduced.

【0023】さらに、本発明にかかる外部回路実装方法
は、上記の課題を解決するために、基材表面に金属薄層
(例えばめっき層)を有する導電粒子を、接着性を有す
る絶縁材料(例えば絶縁性を有するバインダー)中に分
散させてなる異方性導電フィルムを介して、プラスチッ
ク基板(例えば液晶パネルに用いられるプラスチック基
板)上の接続端子(例えばITO接続端子)に外部回路
(例えばフレキシブル基板であり、接続(圧着)には、
その接続端子が用いられる)を圧着する外部回路実装方
法において、上記異方性導電フィルムに、上記導電粒子
1個当たり、その金属薄層破壊荷重(例えばめっき破壊
荷重)以上の荷重をかけて上記圧着を行うことを特徴と
している。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, the method for mounting an external circuit according to the present invention comprises the steps of: bonding conductive particles having a thin metal layer (for example, a plating layer) on the surface of a substrate to an insulating material having an adhesive property (for example, An external circuit (for example, a flexible substrate) is connected to a connection terminal (for example, an ITO connection terminal) on a plastic substrate (for example, a plastic substrate used for a liquid crystal panel) via an anisotropic conductive film dispersed in an insulating binder. And the connection (crimping)
In the external circuit mounting method of crimping the connection terminal, the above-mentioned anisotropic conductive film is subjected to a load equal to or more than a metal layer breaking load (for example, plating breaking load) per conductive particle. It is characterized by performing pressure bonding.

【0024】上記の方法によれば、プラスチック基板上
の接続端子への外部回路の圧着に際し、基材表面に金属
薄層を有する導電粒子を使用し、圧着時に、該導電粒子
1個当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて
その金属薄層を破壊することにより、プラスチック基板
上の接続端子と外部回路(外部回路の接続端子)との電
気的接続を良好にすることができる。従って、上記液晶
表示装置の製造に際し、プラスチック基板を用いた液晶
パネルの接続端子への外部回路の圧着(実装)に上記の
方法を使用することで、プラスチック基板を用いた液晶
パネルの接続端子と外部回路(外部回路の接続端子)と
の電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を安
定させることができる。
According to the above method, when the external circuit is crimped to the connection terminal on the plastic substrate, conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the metal thin layer by applying a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load, the electrical connection between the connection terminal on the plastic substrate and the external circuit (connection terminal of the external circuit) can be improved. Therefore, in the manufacture of the liquid crystal display device, by using the above-described method for crimping (mounting) the external circuit to the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate can be used. The electrical connection with an external circuit (connection terminal of the external circuit) can be improved, and the display of the liquid crystal can be stabilized.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】〔実施の形態1〕本発明に係る実
施の形態について、図1(a)・(b)〜図6に基づい
て説明すれば、以下の通りである。図3は、本実施の形
態において用いられる異方性導電フィルムの概略構成を
示している。また、図4は、図3に示す異方性導電フィ
ルム中に分散されている導電粒子の概略構成を示す断面
図である。
[Embodiment 1] An embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 (a) and (b) to FIG. FIG. 3 shows a schematic configuration of the anisotropic conductive film used in the present embodiment. FIG. 4 is a sectional view showing a schematic configuration of the conductive particles dispersed in the anisotropic conductive film shown in FIG.

【0026】図3に示すように、本実施の形態で用いら
れる異方性導電フィルム21は、導電粒子11を、接着
性を有する絶縁材料としての接着剤樹脂12(バインダ
ー)中に分散させてなる構成を有している。上記接着剤
樹脂12としては、例えばエポキシ系の熱硬化性接着剤
が好適に用いられる。
As shown in FIG. 3, the anisotropic conductive film 21 used in the present embodiment is obtained by dispersing conductive particles 11 in an adhesive resin 12 (binder) as an insulating material having adhesiveness. Has the following configuration. As the adhesive resin 12, for example, an epoxy-based thermosetting adhesive is preferably used.

【0027】上記導電粒子11は、図4に示すように、
核体となる基材1表面に、例えばニッケル−金めっきを
施すことにより、金属薄層として、例えばニッケル層2
a(Niめっき層)および金層2b(Auめっき層)か
らなるめっき層2を有している。
The conductive particles 11 are, as shown in FIG.
For example, a nickel-gold plating is applied to the surface of the base material 1 serving as a core, so that a nickel layer 2 is formed as a thin metal layer.
a (Ni plating layer) and a gold layer 2b (Au plating layer).

【0028】上記核体となる基材1としては、例えば、
アクリレート系樹脂、ポリスチレン架橋体等のポリスチ
レン系樹脂、スチレン−アクリル共重合樹脂、ウレタン
系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂が好適に
用いられる。
As the substrate 1 serving as the core, for example,
Acrylic resins, polystyrene resins such as cross-linked polystyrene, styrene-acrylic copolymer resins, urethane resins, epoxy resins, and polyester resins are preferably used.

【0029】上記接着剤樹脂12に対する上記導電粒子
11の配合割合は、実装に用いられるプラスチック基板
における接続端子と外部回路の接続端子との接続ピッ
チ、つまり、各接続端子間の間隔や、接続端子の面積等
に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものでは
ない。
The mixing ratio of the conductive particles 11 to the adhesive resin 12 is determined by the connection pitch between the connection terminals on the plastic substrate used for mounting and the connection terminals of the external circuit, that is, the distance between the connection terminals and the connection terminals. May be appropriately set according to the area of the device, etc., and is not particularly limited.

【0030】また、上記異方性導電フィルム21の平均
厚み、導電粒子11の平均粒径、上記めっき層2(金属
薄層)の層厚等も特に限定されるものではないが、プラ
スチック基板からなる液晶パネルを用いて、LSI等を
実装したフレキシブル基板等の、外部回路の実装を行う
場合、上記導電粒子11としては、10μm±2μmの
範囲内、通常、10μmの平均粒径を有する導電粒子1
1が使用される。
The average thickness of the anisotropic conductive film 21, the average particle size of the conductive particles 11, the thickness of the plating layer 2 (thin metal layer) are not particularly limited. When mounting an external circuit such as a flexible board on which an LSI or the like is mounted using a liquid crystal panel, the conductive particles 11 are conductive particles having an average particle diameter of 10 μm ± 2 μm, usually 10 μm. 1
1 is used.

【0031】本実施の形態において用いられる上記異方
性導電フィルム21としては、該異方性導電フィルム2
1中に分散されている上記導電粒子11の金属薄層破壊
応力、つまり、めっき破壊応力が、73.0MPa以下
の異方性導電フィルムである。本実施の形態において、
上記導電粒子11のめっき破壊応力(金属薄層破壊応
力)とは、粒径dの導電粒子11のめっき破壊荷重(金
属薄層破壊荷重)をπ(d/2)2 で割った値を示す。
また、上記導電粒子11のめっき破壊荷重(金属薄層破
壊荷重)とは、上記導電粒子11に荷重をかけて圧縮し
たときに、上記導電粒子11のめっき層2(金属薄層)
が破壊されるときの荷重を示す。上記導電粒子11のめ
っき破壊応力(金属薄層破壊応力)を73.0MPa以
下とすることで、特に、プラスチック基板を用いた液晶
パネル(プラスチック液晶パネル)上のITO接続端子
等の接続端子と、外部回路の接続端子とを接続する異方
性導電フィルムにおいて、接続信頼性を確保できる範囲
で導電粒子11の硬さ(金属薄層破壊応力)を低減さ
せ、プラスチック基板上に形成された接続端子へのクラ
ックの発生を減少させることができる。
The anisotropic conductive film 21 used in the present embodiment includes the anisotropic conductive film 2
This is an anisotropic conductive film in which the metal thin-layer breaking stress of the conductive particles 11 dispersed in 1, that is, the plating breaking stress is 73.0 MPa or less. In the present embodiment,
The plating fracture stress (metal thin layer fracture stress) of the conductive particles 11 is a value obtained by dividing the plating fracture load (metal thin layer fracture load) of the conductive particles 11 having a particle diameter d by π (d / 2) 2. .
The plating breaking load of the conductive particles 11 (metal thin layer breaking load) refers to the plating layer 2 (metal thin layer) of the conductive particles 11 when a load is applied to the conductive particles 11 and compressed.
Shows the load at which is destroyed. By setting the plating breaking stress (metal thin layer breaking stress) of the conductive particles 11 to 73.0 MPa or less, particularly, a connection terminal such as an ITO connection terminal on a liquid crystal panel (plastic liquid crystal panel) using a plastic substrate, In an anisotropic conductive film for connecting to a connection terminal of an external circuit, the hardness (metal thin layer breaking stress) of the conductive particles 11 is reduced as long as connection reliability can be ensured, and the connection terminal formed on a plastic substrate The occurrence of cracks on the surface can be reduced.

【0032】以下に、上記導電粒子11のめっき破壊荷
重(金属薄層破壊荷重)を測定する方法について、図5
を参照して説明する。
The method of measuring the plating breaking load (metal thin layer breaking load) of the conductive particles 11 will be described below with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0033】図5に示すように、上記導電粒子11のめ
っき破壊荷重(金属薄層破壊荷重)の測定は、粒径dの
導電粒子11を1個、金属製のツール41で挟み、圧縮
荷重を加え、このときの荷重と導電粒子11の圧縮変位
との関係を調べることにより行なう。
As shown in FIG. 5, the measurement of the plating breaking load (metal thin layer breaking load) of the conductive particles 11 is performed by sandwiching one conductive particle 11 having a particle diameter d with a metal tool 41 and compressing the conductive load. Is performed by examining the relationship between the load at this time and the compression displacement of the conductive particles 11.

【0034】測定条件は、常温下、0.4462mN/
sの割合で荷重を増加させて圧縮するものとし、上記測
定には、島津製作所製の島津微小圧縮試験機(型名:M
CTM−500PC)を使用した。
The measurement conditions were as follows: room temperature, 0.4462 mN /
The load is increased at the rate of s and compression is performed. For the above measurement, a Shimadzu micro compression tester (model name: M
CTM-500PC) was used.

【0035】図6に、上記の方法により測定した、荷重
(圧縮荷重)と導電粒子11の圧縮変位との関係を示
す。図6に示すように、導電粒子11が圧縮されていく
と、圧縮に伴って圧縮荷重は増加するが、途中で一旦、
一定となる。このときの荷重がめっき破壊荷重(金属薄
層破壊荷重)であり、導電粒子11のめっき層12(金
属薄層)が破壊が生じたときの荷重を示す。
FIG. 6 shows the relationship between the load (compression load) and the compression displacement of the conductive particles 11 measured by the above method. As shown in FIG. 6, when the conductive particles 11 are compressed, the compression load increases with the compression.
It will be constant. The load at this time is a plating breaking load (metal thin layer breaking load), and indicates a load when the plating layer 12 (metal thin layer) of the conductive particles 11 is broken.

【0036】めっき破壊荷重(金属薄層破壊荷重)は、
導電粒子11の粒子径、より具体的には、核体となる樹
脂(つまり、基材1)の粒子径や、めっき層2(金属薄
層)の層厚、めっき層2(金属薄層)を構成する金属の
種類や組み合わせ等により各々異なり、めっき層2(金
属薄層)の破壊が生じるときの導電粒子の圧縮変位や圧
縮率も上記した各種条件に応じてそれぞれ異なるが、例
えば、ニッケル−金めっきを施した粒径10μmの導電
粒子11を使用した場合、該導電粒子11が、20%程
度、より具体的には、1.3μm〜2.6μm圧縮され
た時点でめっき層2の破壊が生じる。
The plating breaking load (metal thin layer breaking load) is
The particle diameter of the conductive particles 11, more specifically, the particle diameter of the resin (that is, the base material 1) serving as the core, the layer thickness of the plating layer 2 (thin metal layer), and the plating layer 2 (thin metal layer) The compression displacement and the compression ratio of the conductive particles when the plating layer 2 (thin metal layer) is destroyed also differ according to the various conditions described above. -When the conductive particles 11 having a particle size of 10 μm subjected to gold plating are used, when the conductive particles 11 are compressed by about 20%, more specifically, when the conductive particles 11 are compressed to 1.3 μm to 2.6 μm, Destruction occurs.

【0037】上記のようにして測定しためっき破壊荷重
(金属薄層破壊荷重)を、導電粒子11の断面積(π
(d/2)2 ;dは導電粒子11の粒径)で割った値が
めっき破壊応力(金属薄層破壊応力)であり、偏平(破
壊)し易さ、さらには、破壊に必要な圧力(荷重)の指
標となる。つまり、上記めっき破壊荷重(金属薄層破壊
荷重)、めっき破壊応力(金属薄層破壊応力)を測定す
ることで、導電粒子11の偏平(破壊)のし易さを測定
することができ、このめっき破壊荷重(金属薄層破壊荷
重)、めっき破壊応力(金属薄層破壊応力)が小さいほ
ど偏平し易く、低い圧力(荷重)で壊れ易く、圧着時に
おける、ITO接続端子等の、プラスチック基板上に形
成された接続端子へのダメージが小さい。
The plating breaking load (metal thin layer breaking load) measured as described above was changed to the cross-sectional area (π
(D / 2) 2 ; The value obtained by dividing by d is the particle size of the conductive particles 11 is the plating breaking stress (metal thin layer breaking stress), which is easy to flatten (break), and furthermore, the pressure required for breaking. (Load) is an index. That is, by measuring the plating breaking load (metal thin layer breaking load) and the plating breaking stress (metal thin layer breaking stress), it is possible to measure the ease of flattening (breaking) of the conductive particles 11. The smaller the plating breaking load (metal thin layer breaking load) and plating breaking stress (metal thin layer breaking stress), the easier it is to flatten, the easier it is to break under low pressure (load), and on the plastic substrate such as ITO connection terminals during crimping. Damage to the connection terminals formed on the substrate is small.

【0038】上記導電粒子11のめっき破壊荷重、めっ
き破壊応力を小さくする手段としては、例えば、上記導
電粒子11が、図4に示したようにニッケル−金めっき
によるめっき層2を備えている場合、ニッケル層2aの
めっき厚みを減少させる方法が挙げられる。
As means for reducing the plating breaking load and the plating breaking stress of the conductive particles 11, for example, the conductive particles 11 may be provided with a plating layer 2 of nickel-gold plating as shown in FIG. And a method of reducing the plating thickness of the nickel layer 2a.

【0039】図4に示す導電粒子11は、基材1にニッ
ケルめっきを施した後、金めっきを行っている。これら
金属のうち、金は、延性があり、軟らかいため、ITO
接続端子等の接続端子に対するダメージは少ない。しか
しながら、ニッケルは硬いため、このニッケル層2aを
薄くすることによって、上記接続端子へのダメージを軽
減させる効果が得られる。実際、ニッケルめっき厚みが
薄いほど、めっき破壊荷重(金属薄層破壊荷重)、ひい
てはめっき破壊応力(金属薄層破壊応力)は小さくなっ
ている。したがって、ニッケルめっき厚みを薄くするほ
どITO接続端子等の接続端子へのダメージは軽減さ
れ、該接続端子におけるクラックの発生を減少させるこ
とができる。
The conductive particles 11 shown in FIG. 4 are obtained by plating the substrate 1 with nickel and then gold. Of these metals, gold is ductile and soft, so ITO
There is little damage to connection terminals such as connection terminals. However, since nickel is hard, reducing the thickness of the nickel layer 2a has the effect of reducing damage to the connection terminals. In fact, the thinner the nickel plating thickness, the smaller the plating breaking load (metal thin layer breaking load) and thus the plating breaking stress (metal thin layer breaking stress). Therefore, as the nickel plating thickness is reduced, damage to connection terminals such as ITO connection terminals is reduced, and the occurrence of cracks in the connection terminals can be reduced.

【0040】プラスチック基板からなる液晶パネルのI
TO接続端子等の接続端子に、LSI等を実装したフレ
キシブル基板等の外部回路を実装する場合に、上記導電
粒子11として、図4に示すように基材1表面にニッケ
ル−金めっきを施してなる導電粒子11を使用する場
合、上記ニッケル層2aの厚みは、0.17μm未満
(つまり、0を超えて0.17μm未満)であること
が、ITO接続端子等の接続端子へのダメージを軽減
し、該接続端子におけるクラックの発生を抑制する上で
好ましく、0.167μm以下であることがより好まし
い。また、上記導電粒子11として、例えば平均粒径1
0μmの導電粒子11を使用した場合、上記ニッケル層
2aの層厚は、0.15μm以上、0.17μm未満の
範囲内であることがより好ましい。上記ニッケル層2a
の層厚を0.15μm以上とすることで、例えば、高温
高湿試験(60℃、95%RH)、ヒートショック試験
(−30℃/80℃、各1時間)において、不良が発生
することがなく、安定した結果を得ることができる。
I of a liquid crystal panel made of a plastic substrate
When mounting an external circuit such as a flexible board on which an LSI or the like is mounted on a connection terminal such as a TO connection terminal, the surface of the base material 1 is plated with nickel-gold as the conductive particles 11 as shown in FIG. When the conductive particles 11 are used, the thickness of the nickel layer 2a is less than 0.17 μm (that is, more than 0 and less than 0.17 μm), which reduces damage to connection terminals such as ITO connection terminals. However, it is preferable in terms of suppressing the occurrence of cracks in the connection terminal, and more preferably 0.167 μm or less. As the conductive particles 11, for example, an average particle size of 1
When the conductive particles 11 having a thickness of 0 μm are used, the thickness of the nickel layer 2a is more preferably in the range of 0.15 μm or more and less than 0.17 μm. The nickel layer 2a
By setting the layer thickness to 0.15 μm or more, failure occurs in, for example, a high-temperature and high-humidity test (60 ° C., 95% RH) and a heat shock test (−30 ° C./80° C., 1 hour each). And stable results can be obtained.

【0041】また、上記導電粒子11のめっき破壊応力
(金属薄層破壊応力)を73.0MPa以下(但し、0
ではない)とすることでプラスチック基板上に形成され
た接続端子へのクラックの発生を減少させることができ
るが、上記導電粒子11として、例えば平均粒径10μ
mの導電粒子11を使用した場合、上記導電粒子11の
めっき破壊応力(金属薄層破壊応力)を、53.0MP
a以上とすることで、例えば、高温高湿試験(60℃、
95%RH)、ヒートショック試験(−30℃/80
℃、各1時間)において、不良が発生することがなく、
安定した結果を得ることができる。したがって、この場
合、上記導電粒子11のめっき破壊応力(金属薄層破壊
応力)は、53.0MPa以上、73.0MPa以下と
することがより好ましい。
Further, the plating fracture stress (metal thin layer fracture stress) of the conductive particles 11 is 73.0 MPa or less (however, 0
However, it is possible to reduce the occurrence of cracks in the connection terminals formed on the plastic substrate.
When the conductive particles 11 of m are used, the plating breaking stress (metal thin layer breaking stress) of the conductive particles 11 is 53.0 MP.
a or more, for example, a high temperature and high humidity test (60 ° C.,
95% RH), heat shock test (−30 ° C./80)
° C, 1 hour each)
A stable result can be obtained. Therefore, in this case, the plating fracture stress (metal thin layer fracture stress) of the conductive particles 11 is more preferably 53.0 MPa or more and 73.0 MPa or less.

【0042】次に、図1(a)・(b)および図2を参
照して、上記異方性導電フィルムを用いて、プラスチッ
ク基板を用いた液晶表示パネル上に形成された接続端子
と、外部回路としての、LSI等を実装したフレキシブ
ル基板上に形成された接続端子とを電気的に接続(実
装)する方法について以下に説明する。
Next, referring to FIGS. 1A and 1B and FIG. 2, a connection terminal formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate by using the anisotropic conductive film, A method of electrically connecting (mounting) connection terminals formed on a flexible substrate on which an LSI or the like is mounted as an external circuit will be described below.

【0043】図1(a)は、本実施の形態にかかる液晶
表示装置における液晶表示パネルと外部回路との接続部
の構成を概略的に示す断面図であり、図1(b)は上記
図1(a)のA−A’線矢視断面図である。図2は、図
1(a)・(b)に示す液晶表示パネルへの、異方性導
電フィルムを用いた上記外部回路の実装方法を示す説明
図である。
FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a connection portion between a liquid crystal display panel and an external circuit in a liquid crystal display device according to the present embodiment, and FIG. FIG. 1A is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. FIG. 2 is an explanatory view showing a method of mounting the external circuit using an anisotropic conductive film on the liquid crystal display panel shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b).

【0044】先ず、図2に示すように、異方性導電フィ
ルム21を挟んだ状態で、液晶表示パネルに用いられて
いるプラスチック基板31上に形成されたITO接続端
子32(接続端子)と、フレキシブル基板33上に形成
された銅接続端子34とを位置あわせする。
First, as shown in FIG. 2, an ITO connection terminal 32 (connection terminal) formed on a plastic substrate 31 used for a liquid crystal display panel with an anisotropic conductive film 21 interposed therebetween, The copper connection terminals 34 formed on the flexible substrate 33 are aligned.

【0045】次に、上記プラスチック基板31とフレキ
シブル基板33との接続部、つまり、上記異方性導電フ
ィルム21を介して対向配置された、両基板の接続端子
同士の接着部を圧縮方向に加圧しながら加熱することに
よって、両基板を圧着させる。このとき、上記圧着は、
導電粒子(導電粒子11)1個当たりに対し、上記異方
性導電フィルム21中に分散されている導電粒子11の
金属薄層破壊荷重以上の荷重下、好ましくは、導電粒子
11の金属薄層破壊荷重以上の、導電粒子11のめっき
層2が破壊される条件下でできるだけ小さい圧力(荷
重)をかけることで行われる。つまり、上記圧着に際し
ては、導電粒子11のめっき層2をできるだけ小さな圧
力(荷重)の下で破壊することが望ましく、好適には、
導電粒子(導電粒子11)1個当たり、導電粒子11の
金属薄層破壊荷重をかけることで行われる。
Next, the connecting portion between the plastic substrate 31 and the flexible substrate 33, that is, the bonding portion between the connecting terminals of the two substrates, which are disposed to face each other with the anisotropic conductive film 21 interposed therebetween, is added in the compression direction. By heating while pressing, both substrates are pressed. At this time, the crimping is
For each conductive particle (conductive particles 11), a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load of the conductive particles 11 dispersed in the anisotropic conductive film 21 is preferable. This is performed by applying a pressure (load) as small as possible under the condition that the plating layer 2 of the conductive particles 11 is broken, which is equal to or larger than the breaking load. That is, at the time of the pressure bonding, it is desirable to break the plating layer 2 of the conductive particles 11 under a pressure (load) as small as possible.
This is performed by applying a metal thin layer breaking load of the conductive particles 11 per conductive particle (conductive particles 11).

【0046】上記プラスチック基板31とフレキシブル
基板33との接続部を圧縮方向に加圧しながら加熱する
と、図1(a)に示すように、上記異方性導電フィルム
21中の導電粒子11は、接着剤樹脂12を排除し、該
異方性導電フィルム21を挟んで対向配置された両接続
端子(図1(a)および図2中、上下の接続端子)に接
触する。この状態で上記接着剤樹脂12が硬化すること
で、両接続端子間の電気的な接続を保つと共に、上記プ
ラスチック基板31とフレキシブル基板33とを接着す
ることができる。
When the connection between the plastic substrate 31 and the flexible substrate 33 is heated while being pressed in the compression direction, the conductive particles 11 in the anisotropic conductive film 21 are bonded as shown in FIG. The agent resin 12 is removed, and the two contact terminals (the upper and lower connection terminals in FIG. 1A and FIG. 2) arranged opposite to each other with the anisotropic conductive film 21 interposed therebetween are brought into contact. By curing the adhesive resin 12 in this state, the electrical connection between the two connection terminals can be maintained, and the plastic substrate 31 and the flexible substrate 33 can be bonded.

【0047】図1(a)は、上記プラスチック基板31
とフレキシブル基板33とを以上のように圧着した後の
上記接続部の構成を示している。また、図1(b)は、
上記プラスチック基板31とフレキシブル基板33とを
以上のように圧着した後の上記接続部を図1(a)のA
−A’線矢視断面にて見たときの、要部の導電粒子11
の状態を示している。本実施の形態において、上記異方
性導電フィルム21中の導電粒子11は、図1(a)に
示すように、上記接着部において加圧されることで、接
着剤樹脂12を排除し、ITO接続端子32と銅接続端
子34とにそれぞれ接触した状態で偏平するが、上記圧
着に際し、上記導電粒子11に、該導電粒子11の金属
薄層破壊荷重以上の荷重をかけることで、図1(b)に
示すように、上記ITO接続端子32と銅接続端子34
とで挟まれ、これら接続端子に接触する導電粒子11の
めっき層2が破壊されている。図1(b)において、上
記ITO接続端子32と銅接続端子34とで挟まれ、こ
れら接続端子に接触する導電粒子11(すなわち、図1
(b)中、銅接続端子34に接触している導電粒子1
1)は、該導電粒子11の金属薄層破壊荷重以上の荷重
がかけられることで、圧縮されて偏平し、核体が割れて
開き、めっき層2にひび割れが生じている。
FIG. 1A shows the plastic substrate 31.
The structure of the connection portion after the above and the flexible substrate 33 are crimped as described above is shown. FIG. 1 (b)
The connection portion after the plastic substrate 31 and the flexible substrate 33 are pressure-bonded as described above is denoted by A in FIG.
-Conductive particles 11 of a main part when viewed in a cross section taken along line -A '
The state of is shown. In the present embodiment, as shown in FIG. 1A, the conductive particles 11 in the anisotropic conductive film 21 are pressed at the bonding portion, thereby excluding the adhesive resin 12 and the ITO. The flattening occurs in a state of contacting the connection terminal 32 and the copper connection terminal 34, respectively. However, during the above-described crimping, the conductive particles 11 are subjected to a load equal to or greater than the metal layer destruction load of the conductive particles 11 so that FIG. As shown in b), the ITO connection terminal 32 and the copper connection terminal 34
, And the plating layer 2 of the conductive particles 11 contacting these connection terminals is broken. In FIG. 1B, the conductive particles 11 sandwiched between the ITO connection terminal 32 and the copper connection terminal 34 and in contact with these connection terminals (that is, FIG.
(B) Inside, conductive particles 1 in contact with copper connection terminal 34
In 1), when a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load of the conductive particles 11 is applied, the conductive particles 11 are compressed and flattened, the nucleus is cracked and opened, and the plating layer 2 is cracked.

【0048】このように、プラスチック基板31上に形
成されたITO接続端子32へのフレキシブル基板33
の圧着に際し、基材1表面にめっき層2を有する導電粒
子11を使用し、圧着時に、導電粒子(導電粒子11)
1個当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて
そのめっき層2を破壊することにより、電気的接続を良
好にすることができる。この結果、液晶の表示を安定さ
せることができる。
As described above, the flexible substrate 33 is connected to the ITO connection terminals 32 formed on the plastic substrate 31.
In the pressure bonding, conductive particles 11 having a plating layer 2 on the surface of the substrate 1 are used.
The electrical connection can be improved by breaking the plating layer 2 by applying a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load per piece. As a result, the display of the liquid crystal can be stabilized.

【0049】また、従来の実装においては、圧着時に、
導電粒子がバインダーを排除した後、偏平し、ITO接
続端子等の接続端子にめりこむことで、該接続端子への
ダメージが大きくなり、プラスチック基板上に形成され
た接続端子にクラックが発生し、断線等の不良が生じる
場合があった。
Further, in the conventional mounting, at the time of crimping,
After the conductive particles have removed the binder, they flatten out and sink into the connection terminals such as the ITO connection terminals, thereby increasing the damage to the connection terminals and causing cracks in the connection terminals formed on the plastic substrate, resulting in disconnection. In some cases.

【0050】しかしながら、本実施の形態では、上記導
電粒子11の金属薄層破壊応力を73.0MPa以下と
することで、導電粒子11を偏平し易くし、圧着時に、
ITO接続端子32等の接続端子へのダメージが小さな
荷重で導電粒子11のめっき層2を破壊することができ
る。この結果、ITO接続端子32等の接続端子へのダ
メージを軽減させることができ、上記導電粒子11によ
る上記ITO接続端子32等の接続端子のクラックを減
少させることができ、上記接続端子のクラックに起因す
る断線等を低減することができる。
However, in the present embodiment, the conductive particles 11 are easily flattened by setting the thin metal layer breaking stress of the conductive particles 11 to 73.0 MPa or less.
Damage to the connection terminals such as the ITO connection terminals 32 can destroy the plating layer 2 of the conductive particles 11 with a small load. As a result, damage to the connection terminals such as the ITO connection terminals 32 can be reduced, and cracks in the connection terminals such as the ITO connection terminals 32 due to the conductive particles 11 can be reduced. It is possible to reduce the disconnection or the like caused by the disconnection.

【0051】以上のように、本実施の形態にかかる液晶
表示装置は、プラスチック基板を用いた液晶パネルの接
続端子と外部回路とを、基材表面に、例えばめっき層等
の金属薄層を有する導電粒子を接着性を有する絶縁材料
(バインダー)中に分散させてなり、上記導電粒子の金
属薄層破壊応力が73.0MPa以下である異方性導電
フィルムを介して上記導電粒子1個当たり、その金属薄
層破壊荷重以上の荷重をかけて圧着してなる構成を有し
ている。
As described above, the liquid crystal display device according to the present embodiment has a connection terminal and an external circuit of a liquid crystal panel using a plastic substrate and a thin metal layer such as a plating layer on the surface of the base material. The conductive particles are dispersed in an insulating material (binder) having adhesiveness, and the conductive particles have a thin metal layer breaking stress of 73.0 MPa or less. It has a configuration in which a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load is applied and pressed.

【0052】上記液晶表示装置は、例えば、上述した異
方性導電フィルムを介して、プラスチック基板を用いた
液晶パネルの接続端子とフレキシブル基板上の接続端子
とを接続してなる。
In the liquid crystal display device, for example, connection terminals of a liquid crystal panel using a plastic substrate and connection terminals on a flexible substrate are connected via the anisotropic conductive film described above.

【0053】上記液晶表示装置は、上記プラスチック基
板を用いた液晶パネルの接続端子とフレキシブル基板等
の外部回路の接続端子とで挟まれ、これら接続端子に接
触する導電粒子が、該導電粒子1個当たり、その金属薄
層破壊荷重以上の荷重で加圧されることにより、その金
属薄層が破壊されている構成を有している。
The above-mentioned liquid crystal display device has a structure in which one conductive particle is sandwiched between a connection terminal of a liquid crystal panel using the plastic substrate and a connection terminal of an external circuit such as a flexible substrate. In this case, the metal thin layer is broken by being pressed with a load equal to or more than the metal thin layer breaking load.

【0054】また、上記液晶表示装置を得るべく、本実
施の形態にかかる液晶表示装置の製造方法は、基材表面
に、例えばめっき層等の金属薄層を有する導電粒子を、
接着性を有する絶縁材料(バインダー)中に分散させて
なる異方性導電フィルムを介して、プラスチック基板を
用いた液晶パネルの接続端子と外部回路とを圧着する際
に、金属薄層破壊応力が73.0MPa以下の導電粒子
を使用し、導電粒子1個当たり、その金属薄層破壊荷重
以上の荷重をかけて上記圧着を行っている。
Further, in order to obtain the above-mentioned liquid crystal display device, the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present embodiment is characterized in that the conductive particles having a thin metal layer such as a plating layer are
When a connection terminal of a liquid crystal panel using a plastic substrate is crimped to an external circuit via an anisotropic conductive film dispersed in an insulating material (binder) having an adhesive property, a metal thin layer breaking stress is reduced. The above pressure bonding is performed using conductive particles of 73.0 MPa or less and applying a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load per conductive particle.

【0055】以上のように、本実施の形態によれば、上
記導電粒子の金属薄層破壊応力を73.0MPa以下と
することで、圧着時に、接続端子へのダメージが小さな
荷重で上記導電粒子における金属薄層を破壊することが
でき、特にプラスチック基板上に形成されたITO接続
端子等の接続端子へのダメージを軽減することができ、
上記導電粒子による上記接続端子のクラックを減少させ
ることができ、上記接続端子のクラックに起因する断線
等を低減することができる。
As described above, according to the present embodiment, the metal thin layer breaking stress of the conductive particles is set to 73.0 MPa or less, so that the conductive particles are subjected to a small load during crimping with a small load. The thin metal layer can be destroyed, and damage to connection terminals such as ITO connection terminals formed on a plastic substrate can be reduced,
Cracks in the connection terminal due to the conductive particles can be reduced, and disconnection or the like due to cracks in the connection terminal can be reduced.

【0056】また、プラスチック基板を用いた液晶パネ
ルの接続端子への外部回路の圧着に際し、基材表面に金
属薄層を有する導電粒子を使用し、圧着時に、導電粒子
1個当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて
その金属薄層を破壊することにより、電気的接続を良好
にすることができ、液晶の表示を安定させることができ
る。
When the external circuit is crimped to the connection terminals of the liquid crystal panel using the plastic substrate, conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the thin metal layer by applying a load equal to or greater than the layer breaking load, the electrical connection can be improved and the display of the liquid crystal can be stabilized.

【0057】また、以上のように、本実施の形態におい
て使用される異方性導電フィルムは、基材表面に、例え
ばめっき層等の金属薄層を有する導電粒子を、接着性を
有する絶縁材料(バインダー)中に分散させてなり、上
記導電粒子の金属薄層破壊応力(例えばめっき破壊応
力)が73.0MPa以下である構成を有している。
As described above, the anisotropic conductive film used in the present embodiment is obtained by bonding conductive particles having a thin metal layer such as a plating layer on the surface of a base material to an insulating material having an adhesive property. (A binder), and the conductive particles have a metal thin layer breaking stress (for example, plating breaking stress) of 73.0 MPa or less.

【0058】このため、上記異方性導電フィルムを上記
液晶表示装置の製造に使用した場合、圧着時に、接続端
子へのダメージが小さな荷重で上記導電粒子における金
属薄層を破壊することができ、特にプラスチック基板上
に形成されたITO接続端子等の接続端子へのダメージ
を軽減することができ、上記導電粒子による上記接続端
子のクラックを減少させることができ、上記接続端子の
クラックに起因する断線等を低減することができる。
For this reason, when the anisotropic conductive film is used for manufacturing the liquid crystal display device, the thin metal layer of the conductive particles can be destroyed by a small load at the time of pressure bonding so that damage to the connection terminal is small. In particular, damage to connection terminals such as ITO connection terminals formed on a plastic substrate can be reduced, cracks in the connection terminals due to the conductive particles can be reduced, and disconnection due to cracks in the connection terminals can be reduced. Etc. can be reduced.

【0059】また、本実施の形態にかかる外部回路実装
方法は、以上のように、基材表面に、例えばめっき層等
の金属薄層を有する導電粒子を、接着性を有する絶縁材
料(バインダー)中に分散させてなる異方性導電フィル
ムを介して、プラスチック基板(例えば液晶パネルに用
いられるプラスチック基板)上の接続端子に外部回路を
圧着する際に、上記異方性導電フィルムに、上記導電粒
子1個当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけ
て上記圧着を行う方法である。
Further, as described above, the method of mounting an external circuit according to the present embodiment uses the conductive particles having a thin metal layer such as a plating layer on the surface of a base material to form an insulating material (binder) having an adhesive property. When an external circuit is crimped to a connection terminal on a plastic substrate (for example, a plastic substrate used for a liquid crystal panel) via an anisotropic conductive film dispersed therein, the conductive film is applied to the anisotropic conductive film. This is a method in which the above-mentioned pressure bonding is performed by applying a load equal to or more than the metal thin layer breaking load per particle.

【0060】上記の方法によれば、プラスチック基板上
の接続端子への外部回路の圧着に際し、基材表面に金属
薄層を有する導電粒子を使用し、圧着時に、導電粒子1
個当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけてそ
の金属薄層を破壊することにより、プラスチック基板上
の接続端子と外部回路(外部回路の接続端子)との電気
的接続を良好にすることができる。従って、上記液晶表
示装置の製造に際し、プラスチック基板を用いた液晶パ
ネルの接続端子への外部回路の圧着(実装)に上記の方
法を使用することで、プラスチック基板を用いた液晶パ
ネルの接続端子と外部回路(外部回路の接続端子)との
電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を安定
させることができる。
According to the above method, when the external circuit is crimped to the connection terminal on the plastic substrate, the conductive particles having a thin metal layer on the base material surface are used.
The electrical connection between the connection terminal on the plastic substrate and the external circuit (connection terminal of the external circuit) is improved by breaking the metal thin layer by applying a load equal to or more than the metal thin layer breaking load per piece. be able to. Therefore, in the manufacture of the liquid crystal display device, by using the above-described method for crimping (mounting) the external circuit to the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate can be used. The electrical connection with an external circuit (connection terminal of the external circuit) can be improved, and the display of the liquid crystal can be stabilized.

【0061】なお、上記の説明では、上記導電粒子11
が、上記めっき層2として、ニッケル−金めっきによる
ニッケル層2aおよび金層2bを備えている場合を例に
挙げて説明したが、上記導電粒子11の基材1表面に形
成されるめっき層2(金属薄層)としては、これに限定
されるものではなく、ニッケル/金以外の組み合わせを
使用してもよいことは言うまでもない。また、上記導電
粒子11の基材1表面に形成される金属薄層の形成方法
としては、無電解めっき法が好適に用いられるが、上記
導電粒子11の基材1表面に金属薄層を形成することが
できれば、特に限定されるものではなく、例えば種々の
めっき法を使用することができる。
In the above description, the conductive particles 11
Has been described as an example in which the plating layer 2 includes a nickel layer 2a and a gold layer 2b formed by nickel-gold plating, but the plating layer 2 formed on the surface of the base material 1 of the conductive particles 11 is described. The (metal thin layer) is not limited to this, and it goes without saying that a combination other than nickel / gold may be used. As a method for forming a thin metal layer formed on the surface of the base material 1 of the conductive particles 11, an electroless plating method is suitably used. There is no particular limitation as long as the plating can be performed. For example, various plating methods can be used.

【0062】[0062]

【実施例】以下、実施例および比較例により、本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限
定されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0063】〔実施例1〜3、比較例1・2〕先ず、ポ
リスチレン架橋体を基材とし、該基材表面に、Niめっ
き層の厚みを種々変化させてニッケル−金めっきを施す
ことにより、Niめっき層の厚み(以下、Niめっき厚
みと記す)が異なる粒径10μmの導電粒子をそれぞれ
作製した。Auめっき層の平均厚みは0.05μmとし
た。上記導電粒子のNiめっき厚みを変化させたときの
上記導電粒子のめっき破壊荷重(金属薄層破壊荷重)お
よびめっき破壊応力(金属薄層破壊応力)を、図5およ
び図6に基づいて測定した。
[Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2] First, a crosslinked polystyrene was used as a base material, and the surface of the base material was subjected to nickel-gold plating by varying the thickness of a Ni plating layer. In addition, conductive particles having a particle diameter of 10 μm with different thicknesses of the Ni plating layer (hereinafter referred to as Ni plating thickness) were prepared. The average thickness of the Au plating layer was 0.05 μm. The plating breaking load (metal thin layer breaking load) and the plating breaking stress (metal thin layer breaking stress) of the conductive particles when the Ni plating thickness of the conductive particles was changed were measured based on FIGS. 5 and 6. .

【0064】このようにして得られた導電粒子を、所定
の割合でエポキシ系熱硬化性接着剤に分散させることに
より、Niめっき厚みがそれぞれ異なる導電粒子を用い
た異方性導電フィルムをそれぞれ作製した。上記異方性
導電フィルムの平均厚みは17μmとした。
By dispersing the conductive particles thus obtained in a predetermined ratio in an epoxy-based thermosetting adhesive, anisotropic conductive films using conductive particles having different Ni plating thicknesses were prepared. did. The average thickness of the anisotropic conductive film was 17 μm.

【0065】次に、それぞれの異方性導電フィルムを用
いて、上記導電粒子1個当たり、そのめっき破壊荷重以
上の荷重をかけて、プラスチック基板を用いた液晶パネ
ルのITO接続端子とフレキシブル基板の銅接続端子と
を圧着してプラスチック液晶モジュールを作製したとき
のITO接続端子上のクラック(ITOクラック)を確
認した結果について評価した。各異方性導電フィルムを
用いた圧着は、何れの場合も同様の条件下にて行った。
上記クラックの確認は、上記プラスチック液晶モジュー
ルを作製した後、フレキシブル基板を剥離することによ
り、ITO接続基板上に生じたクラックを顕微鏡で観察
することにより行った。クラックの発生は、ITO接続
端子100本について確認を行い、クラックの発生が確
認されなかったものを「○」、クラックが確認されたが
20本未満であるものを「△」、クラックが20本以上
確認されたものを「×」とした。この結果を、上記導電
粒子のNiめっき厚みを変化させたときの上記導電粒子
のめっき破壊荷重およびめっき破壊応力と合わせて表1
に示す。表1では、Niめっき厚みとして、それぞれ、
0.20μmを100としたときの数値を併記してい
る。
Next, using the respective anisotropic conductive films, a load equal to or greater than the plating breaking load is applied to each of the conductive particles, and the ITO connection terminals of the liquid crystal panel using a plastic substrate and the flexible substrate are used. Cracks (ITO cracks) on the ITO connection terminals when a plastic liquid crystal module was produced by crimping the copper connection terminals were evaluated. Compression bonding using each anisotropic conductive film was performed under the same conditions in each case.
The cracks were confirmed by preparing the plastic liquid crystal module and then peeling off the flexible substrate, and observing cracks generated on the ITO connection substrate with a microscope. The occurrence of cracks was checked for 100 ITO connection terminals, and "」 "indicates that no crack was observed," △ "indicates that cracks were observed but less than 20," 20 ", and 20 cracks What was confirmed above was rated as "x". Table 1 shows the results together with the plating breaking load and plating breaking stress of the conductive particles when the Ni plating thickness of the conductive particles was changed.
Shown in In Table 1, as the Ni plating thickness,
Numerical values when 0.20 μm is set to 100 are also shown.

【0066】[0066]

【表1】 [Table 1]

【0067】表1から判るように、導電粒子のめっき破
壊応力が73.0MPaより高くなるとクラックが発生
することが確認された。
As can be seen from Table 1, it was confirmed that cracks occurred when the plating fracture stress of the conductive particles was higher than 73.0 MPa.

【0068】〔実施例4〕実施例1〜3と同様の方法に
より作製した液晶モジュールの液晶の表示の安定性を観
察した。この結果、何れも、液晶の表示は安定してい
た。
Example 4 The stability of the liquid crystal display of a liquid crystal module manufactured in the same manner as in Examples 1 to 3 was observed. As a result, in each case, the display of the liquid crystal was stable.

【0069】〔比較例3〕導電粒子1個当たり、その金
属薄膜破壊荷重未満の荷重をかけて、プラスチック基板
を用いた液晶パネルのITO接続端子とフレキシブル基
板の銅接続端子とを圧着した以外は、実施例1〜3およ
び比較例1・2と同様にしてプラスチック液晶モジュー
ルを作製し、その液晶の表示の安定性を観察した。各異
方性導電フィルムを用いた圧着は、何れの場合も同様の
条件下にて行った。この結果、導電粒子1個当たりに対
する荷重をめっき破壊荷重未満として上記圧着を行った
場合、得られる液晶モジュールの液晶の表示は、何れの
場合も不安定になることが確認された。
[Comparative Example 3] Except that a load less than the metal thin film breaking load was applied per conductive particle and the ITO connection terminal of a liquid crystal panel using a plastic substrate and the copper connection terminal of a flexible substrate were crimped. A plastic liquid crystal module was manufactured in the same manner as in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, and the stability of the liquid crystal display was observed. Compression bonding using each anisotropic conductive film was performed under the same conditions in each case. As a result, it was confirmed that when the above pressure bonding was performed with the load per conductive particle being less than the plating breaking load, the liquid crystal display of the obtained liquid crystal module became unstable in any case.

【0070】[0070]

【発明の効果】本発明にかかる液晶表示装置は、以上の
ように、プラスチック基板を用いた液晶パネルの接続端
子と外部回路とを、基材表面に金属薄層を有する導電粒
子を接着性を有する絶縁材料中に分散させてなり、上記
導電粒子の金属薄層破壊応力が73.0MPa以下であ
る異方性導電フィルムを介して、上記導電粒子1個当た
り、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて圧着して
なる構成である。
As described above, the liquid crystal display device according to the present invention has an adhesive property between a connection terminal of a liquid crystal panel using a plastic substrate and an external circuit and a conductive particle having a thin metal layer on the surface of a base material. Through an anisotropic conductive film in which the conductive particles are dispersed in an insulating material having a metal thin layer breaking stress of 73.0 MPa or less. This is a configuration in which a load is applied and crimped.

【0071】上記の構成によれば、プラスチック基板を
用いた液晶パネルの接続端子への外部回路の圧着に際
し、基材表面に金属薄層を有する導電粒子を使用し、圧
着時に、該導電粒子1個当たり、その金属薄層破壊荷重
以上の荷重をかけてその金属薄層を破壊することによ
り、電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を
安定させることができる。
According to the above configuration, when the external circuit is pressed against the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the thin metal layer by applying a load equal to or more than the load for breaking the thin metal layer per unit, it is possible to improve the electrical connection and to stabilize the display of the liquid crystal.

【0072】また、上記の構成によれば、圧着時に、接
続端子へのダメージが小さな荷重で上記導電粒子におけ
る金属薄層を破壊することができ、特にプラスチック基
板上に形成されたITO接続端子等の接続端子へのダメ
ージを軽減することができる。このため、上記導電粒子
による上記接続端子のクラックを減少させることができ
るので、上記接続端子のクラックに起因する断線等を低
減することができる。
Further, according to the above configuration, the thin metal layer of the conductive particles can be destroyed with a small load at the time of crimping so that the connection terminal is not damaged. Damage to the connection terminal can be reduced. For this reason, cracks in the connection terminals due to the conductive particles can be reduced, so that disconnection and the like caused by cracks in the connection terminals can be reduced.

【0073】それゆえ、プラスチック基板を用いた液晶
表示パネル上に形成された接続端子への、異方性導電フ
ィルムを用いた外部回路の圧着において、圧着時におけ
る異方性導電フィルム中の導電粒子による接続端子のク
ラックを減少させ、該クラックに起因する断線不良の発
生率が低減され、かつ、安定した液晶の表示を行うこと
ができる液晶表示装置を提供することができるという効
果を奏する。
Therefore, in the pressure bonding of an external circuit using an anisotropic conductive film to a connection terminal formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate, conductive particles in the anisotropic conductive film at the time of pressure bonding. This leads to an effect that a liquid crystal display device capable of reducing the occurrence of disconnection defects due to the cracks and providing a stable liquid crystal display can be provided.

【0074】本発明にかかる液晶表示装置の製造方法
は、以上のように、基材表面に金属薄層を有する導電粒
子を、接着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方
性導電フィルムを介して、プラスチック基板を用いた液
晶パネルの接続端子と外部回路とを圧着する液晶表示装
置の製造方法であって、上記導電粒子の金属薄層破壊応
力が73.0MPa以下であり、該導電粒子1個当た
り、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて上記圧着
を行う方法である。
As described above, the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is an anisotropic conductive film obtained by dispersing conductive particles having a thin metal layer on the surface of a base material in an insulating material having an adhesive property. A method for manufacturing a liquid crystal display device in which a connection terminal of a liquid crystal panel and an external circuit using a plastic substrate are pressure-bonded through a plastic substrate, wherein the conductive particles have a metal thin layer breaking stress of 73.0 MPa or less, This is a method in which the above-mentioned pressure bonding is performed by applying a load equal to or more than the metal thin layer breaking load per particle.

【0075】上記の方法によれば、プラスチック基板を
用いた液晶パネルの接続端子への外部回路の圧着に際
し、基材表面に金属薄層を有する導電粒子を使用し、圧
着時に、該導電粒子1個当たり、その金属薄層破壊荷重
以上の荷重をかけてその金属薄層を破壊することによ
り、電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を
安定させることができる。
According to the above method, when the external circuit is pressed against the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the thin metal layer by applying a load equal to or more than the load for breaking the thin metal layer per unit, it is possible to improve the electrical connection and to stabilize the display of the liquid crystal.

【0076】また、上記の方法によれば、圧着時に、接
続端子へのダメージが小さな荷重で上記導電粒子におけ
る金属薄層を破壊することができ、特にプラスチック基
板上に形成されたITO接続端子等の接続端子へのダメ
ージを軽減することができる。このため、上記導電粒子
による上記接続端子のクラックを減少させることができ
るので、上記接続端子のクラックに起因する断線等を低
減することができる。
Further, according to the above method, the thin metal layer of the conductive particles can be destroyed with a small load at the time of crimping so that the connection terminal is not damaged. Damage to the connection terminal can be reduced. For this reason, cracks in the connection terminals due to the conductive particles can be reduced, so that disconnection and the like caused by cracks in the connection terminals can be reduced.

【0077】それゆえ、プラスチック基板を用いた液晶
表示パネル上に形成された接続端子への、異方性導電フ
ィルムを用いた外部回路の圧着において、圧着時におけ
る異方性導電フィルム中の導電粒子による接続端子のク
ラックを減少させ、該クラックに起因する断線不良の発
生率が低減され、かつ、安定した液晶の表示を行うこと
ができる液晶表示装置の製造方法を提供することができ
るという効果を奏する。
Therefore, in the pressure bonding of an external circuit using an anisotropic conductive film to a connection terminal formed on a liquid crystal display panel using a plastic substrate, conductive particles in the anisotropic conductive film at the time of pressure bonding. And the likelihood of providing a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of reducing the incidence of disconnection failure caused by the cracks and displaying a stable liquid crystal. Play.

【0078】本発明にかかる異方性導電フィルムは、以
上のように、基材表面に金属薄層を有する導電粒子を、
接着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方性導電
フィルムであって、上記導電粒子の金属薄層破壊応力が
73.0MPa以下である方法である。
The anisotropic conductive film according to the present invention comprises, as described above, conductive particles having a thin metal layer on the surface of a substrate,
An anisotropic conductive film dispersed in an insulating material having adhesiveness, wherein the conductive particles have a metal thin layer breaking stress of 73.0 MPa or less.

【0079】それゆえ、上記液晶表示装置の製造に使用
した場合、圧着時に、接続端子へのダメージが小さな荷
重で上記導電粒子における金属薄層を破壊することがで
き、特にプラスチック基板上に形成されたITO接続端
子等の接続端子へのダメージを軽減することができるの
で、上記導電粒子による上記接続端子のクラックを減少
させることができ、上記接続端子のクラックに起因する
断線等を低減することができるという効果を奏する。
Therefore, when used in the manufacture of the above-mentioned liquid crystal display device, the thin metal layer of the conductive particles can be broken by a small load at the time of crimping so that the connection terminal is not damaged. It is possible to reduce damage to the connection terminals such as the ITO connection terminals, which can reduce cracks in the connection terminals due to the conductive particles, and reduce disconnection and the like caused by cracks in the connection terminals. It has the effect of being able to.

【0080】本発明にかかる異方性導電フィルムは、以
上のように、上記導電粒子が基材表面にニッケル−金め
っきを施してなり、上記ニッケル層の厚みが0.17μ
m未満である方法である。
As described above, the anisotropic conductive film according to the present invention is obtained by plating the above-mentioned conductive particles on the surface of the base material with nickel-gold, and the nickel layer has a thickness of 0.17 μm.
m.

【0081】上記導電粒子が基材表面にニッケル−金め
っきを施してなる場合、ニッケルは硬いため、このニッ
ケル層を薄くすることによって、金属薄層破壊応力を小
さくし、上記接続端子へのダメージを軽減させることが
できる。それゆえ、上記の構成によれば、接続端子への
クラックの発生を低減させることができる。
When the conductive particles are formed by plating the surface of a base material with nickel-gold, nickel is hard. Therefore, by thinning this nickel layer, the thin metal layer breaking stress is reduced, and the damage to the connection terminals is reduced. Can be reduced. Therefore, according to the above configuration, it is possible to reduce the occurrence of cracks in the connection terminals.

【0082】本発明にかかる外部回路実装方法は、以上
のように、基材表面に金属薄層を有する導電粒子を、接
着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方性導電フ
ィルムを介して、プラスチック基板上の接続端子に外部
回路を圧着する外部回路実装方法において、上記異方性
導電フィルムに、上記導電粒子1個当たり、その金属薄
層破壊荷重以上の荷重をかけて上記圧着を行う方法であ
る。
As described above, the external circuit mounting method according to the present invention uses an anisotropic conductive film formed by dispersing conductive particles having a thin metal layer on the surface of a base material in an insulating material having adhesiveness. And an external circuit mounting method for pressing an external circuit to a connection terminal on a plastic substrate, wherein the anisotropic conductive film is subjected to a pressure equal to or greater than a metal thin layer breaking load per conductive particle. How to do it.

【0083】上記の方法によれば、プラスチック基板上
の接続端子への外部回路の圧着に際し、基材表面に金属
薄層を有する導電粒子を使用し、圧着時に、該導電粒子
1個当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて
その金属薄層を破壊することにより、プラスチック基板
上の接続端子と外部回路(外部回路の接続端子)との電
気的接続を良好にすることができる。それゆえ、上記液
晶表示装置の製造に際し、プラスチック基板を用いた液
晶パネルの接続端子への外部回路の圧着(実装)に上記
の方法を使用することで、プラスチック基板を用いた液
晶パネルの接続端子と外部回路(外部回路の接続端子)
との電気的接続を良好にすることができ、液晶の表示を
安定させることができるという効果を奏する。
According to the above method, when the external circuit is crimped to the connection terminal on the plastic substrate, conductive particles having a thin metal layer on the surface of the base material are used. By breaking the metal thin layer by applying a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load, the electrical connection between the connection terminal on the plastic substrate and the external circuit (connection terminal of the external circuit) can be improved. Therefore, when manufacturing the liquid crystal display device, by using the above-described method for crimping (mounting) the external circuit to the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate, the connection terminal of the liquid crystal panel using the plastic substrate is used. And external circuit (connection terminal of external circuit)
This makes it possible to improve the electrical connection to the liquid crystal and stabilize the display of the liquid crystal.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明の一実施の形態にかかる液晶表
示装置における液晶表示パネルと外部回路との接続部の
構成を概略的に示す断面図であり、(b)は(a)のA
−A’線矢視断面図である。
FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a connection portion between a liquid crystal display panel and an external circuit in a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. A
FIG. 4 is a sectional view taken along line -A ′.

【図2】図1に示す液晶表示パネルへの異方性導電フィ
ルムを用いた外部回路の実装方法を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a method of mounting an external circuit using an anisotropic conductive film on the liquid crystal display panel shown in FIG.

【図3】本発明の一実施の形態において用いられる異方
性導電フィルムの概略構成を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an anisotropic conductive film used in one embodiment of the present invention.

【図4】図3に示す異方性導電フィルム中に分散されて
いる導電粒子の概略構成を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of conductive particles dispersed in the anisotropic conductive film shown in FIG.

【図5】図4に示す導電粒子のめっき破壊荷重を測定す
る方法を示す説明図である。
5 is an explanatory view showing a method for measuring a plating breaking load of the conductive particles shown in FIG.

【図6】図5に示す方法で測定した、荷重と導電粒子の
圧縮変位との関係を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the load and the compression displacement of the conductive particles measured by the method shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材 2 めっき層(金属薄層) 2a ニッケル層(金属薄層) 2b 金層(金属薄層) 11 導電粒子 12 接着剤樹脂(絶縁材料) 21 異方性導電フィルム 31 プラスチック基板 32 ITO接続端子(接続端子) 33 フレキシブル基板(外部回路) 34 銅接続端子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Plating layer (thin metal layer) 2a Nickel layer (thin metal layer) 2b Gold layer (thin metal layer) 11 Conductive particles 12 Adhesive resin (insulating material) 21 Anisotropic conductive film 31 Plastic substrate 32 ITO connection Terminal (connection terminal) 33 Flexible board (external circuit) 34 Copper connection terminal

フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 GA48 GA50 HA25 MA11 MA32 NA15 PA01 5E344 AA02 AA22 BB02 BB04 BB07 CD04 DD06 DD10 EE16 5G435 AA17 BB12 EE40 EE42 EE47 HH12 HH14 KK05 Continued on front page F term (reference) 2H092 GA48 GA50 HA25 MA11 MA32 NA15 PA01 5E344 AA02 AA22 BB02 BB04 BB07 CD04 DD06 DD10 EE16 5G435 AA17 BB12 EE40 EE42 EE47 HH12 HH14 KK05

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラスチック基板を用いた液晶パネルの接
続端子と外部回路とを、基材表面に金属薄層を有する導
電粒子を接着性を有する絶縁材料中に分散させてなり、
上記導電粒子の金属薄層破壊応力が73.0MPa以下
である異方性導電フィルムを介して、上記導電粒子1個
当たり、その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて圧着
してなることを特徴とする液晶表示装置。
1. A connection terminal and an external circuit of a liquid crystal panel using a plastic substrate, wherein conductive particles having a thin metal layer on the surface of a base material are dispersed in an insulating material having an adhesive property.
Through the anisotropic conductive film in which the thin metal layer breaking stress of the conductive particles is 73.0 MPa or less, it is required that the conductive particles be pressed and applied with a load equal to or more than the thin metal layer breaking load per conductive particle. Characteristic liquid crystal display device.
【請求項2】基材表面に金属薄層を有する導電粒子を、
接着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方性導電
フィルムを介して、プラスチック基板を用いた液晶パネ
ルの接続端子と外部回路とを圧着する液晶表示装置の製
造方法であって、 上記導電粒子の金属薄層破壊応力が73.0MPa以下
であり、該導電粒子1個当たり、その金属薄層破壊荷重
以上の荷重をかけて上記圧着を行うことを特徴とする液
晶表示装置の製造方法。
2. Conductive particles having a thin metal layer on the surface of a substrate,
A method for manufacturing a liquid crystal display device in which a connection terminal of a liquid crystal panel using a plastic substrate and an external circuit are pressure-bonded via an anisotropic conductive film dispersed in an insulating material having adhesiveness, A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the metal layer has a metal thin layer breaking stress of 73.0 MPa or less, and the above-mentioned press-bonding is performed with a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load per conductive particle.
【請求項3】基材表面に金属薄層を有する導電粒子を、
接着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方性導電
フィルムであって、 上記導電粒子の金属薄層破壊応力が73.0MPa以下
であることを特徴とする異方性導電フィルム。
3. Conductive particles having a thin metal layer on the surface of a substrate,
An anisotropic conductive film dispersed in an insulating material having an adhesive property, wherein the conductive particles have a metal thin-layer breaking stress of 73.0 MPa or less.
【請求項4】上記導電粒子が基材表面にニッケル−金め
っきを施してなり、上記ニッケル層の厚みが0.17μ
m未満であることを特徴とする請求項3記載の異方性導
電フイルム。
4. The method according to claim 1, wherein the conductive particles are formed by plating the surface of a substrate with nickel-gold, and the thickness of the nickel layer is 0.17 μm.
4. The anisotropic conductive film according to claim 3, wherein the thickness is less than m.
【請求項5】基材表面に金属薄層を有する導電粒子を、
接着性を有する絶縁材料中に分散させてなる異方性導電
フィルムを介して、プラスチック基板上の接続端子に外
部回路を圧着する外部回路実装方法において、 上記異方性導電フィルムに、上記導電粒子1個当たり、
その金属薄層破壊荷重以上の荷重をかけて上記圧着を行
うことを特徴とする外部回路実装方法。
5. Conductive particles having a thin metal layer on the surface of a substrate,
An external circuit mounting method in which an external circuit is pressure-bonded to a connection terminal on a plastic substrate via an anisotropic conductive film dispersed in an insulating material having an adhesive property. Per piece,
An external circuit mounting method, wherein the crimping is performed by applying a load equal to or greater than the metal thin layer breaking load.
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