JP2001337322A - Reflection plate for reflection type liquid crystal display device, and method for manufacturing the same - Google Patents

Reflection plate for reflection type liquid crystal display device, and method for manufacturing the same

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JP2001337322A
JP2001337322A JP2000157833A JP2000157833A JP2001337322A JP 2001337322 A JP2001337322 A JP 2001337322A JP 2000157833 A JP2000157833 A JP 2000157833A JP 2000157833 A JP2000157833 A JP 2000157833A JP 2001337322 A JP2001337322 A JP 2001337322A
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Japan
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layer
liquid crystal
reflector
reflection
stepped
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Inventor
Shinji Kawabuchi
真嗣 川渕
Yasushi Orita
泰 折田
Arisuke Yamagata
有輔 山縣
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily obtain a form of reflection plate with good controlling property such that the reflected light concentrated in a specified angle direction can be obtained in a reflection type liquid crystal display device. SOLUTION: The reflection plate is manufactured by forming a step-like layer having a cross section with a plurality of trapezoids or rectangles stacked one another on a substrate and coating the surface of the step-like layer with a reflection layer consisting of a reflective material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置の反射板およびその作製方法に関するものである。ま
た、携帯電話機、携帯情報端末や電子手帳などの携帯機
器に搭載する反射型液晶表示装置に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a reflection plate of a reflection type liquid crystal display device and a method of manufacturing the same. The present invention also relates to a reflection type liquid crystal display device mounted on a portable device such as a mobile phone, a portable information terminal, and an electronic organizer.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射型液晶表示装置は、低消費電力で明
るい画像表示が求められる携帯情報端末や携帯電話など
の表示装置として搭載されており、近年更に高性能なも
のが要求されている。
2. Description of the Related Art A reflection type liquid crystal display device is mounted as a display device such as a portable information terminal or a portable telephone which requires a low power consumption and a bright image display.

【0003】反射型液晶表示装置のこれまでの課題とし
ては、液晶表示装置表面から視認方向への正反射など意
図しない反射成分の影響で、本来の映像が見えにくい、
表示画像が暗いという点があった。前者の課題を改善す
る方法として、反射板の表面にランダムな凹凸を作成
し、入射光の反射方向を広い角度に分布させる方法が知
られているが、この方法では後者の課題を改善すること
は難しいことが知られていた。後者の課題を改善する方
法としては非対称形状をもつ反射板を形成すれば良いこ
とが知られている。
[0003] The problem of the reflection type liquid crystal display device so far is that the original image is difficult to see due to unintended reflection components such as specular reflection from the surface of the liquid crystal display device in the viewing direction.
There was a point that the displayed image was dark. As a method of improving the former problem, a method of creating random irregularities on the surface of the reflector and distributing the reflection direction of incident light at a wide angle is known, but this method improves the latter problem. Was known to be difficult. It is known that as a method of improving the latter problem, a reflector having an asymmetric shape may be formed.

【0004】図14は特開平9−80426号公報明細
書に開示された、従来の反射板の形状を示した図であ
る。図14(b)がパネルの表面を表わし、図14
(a)は断面を表わしている。図14において、101
は反射板、101aは凸部、102は基板、αは使用状
態でパネル上側となる突部傾斜面の傾斜角度、βは使用
状態でパネル下側となる突部傾斜面の傾斜角度である。
FIG. 14 is a view showing the shape of a conventional reflector disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-80426. FIG. 14B shows the surface of the panel.
(A) shows a cross section. In FIG. 14, 101
Is a reflection plate, 101a is a convex portion, 102 is a substrate, α is the inclination angle of the projection inclined surface which is on the upper side of the panel in use, and β is the inclination angle of the projection inclined surface which is on the lower side of the panel in use.

【0005】図14(b)に示すように、この反射板1
01の表面には、多数の扇形状の凸部101aが形成さ
れている。図14(a)に示すように、凸部101aの
頂点は使用状態でパネル下方に偏在しかつその上下両側
面は傾斜している。使用状態においてパネル上側となる
傾斜面の傾斜角度αはパネル下側となる傾斜面の傾斜角
度βよりも小さく、前記パネル上側となる傾斜面はパネ
ル下側となる傾斜面よりも緩やかに傾斜している。
[0005] As shown in FIG.
A large number of fan-shaped convex portions 101a are formed on the surface of the surface 01. As shown in FIG. 14 (a), the apex of the convex portion 101a is unevenly distributed below the panel in use and the upper and lower sides are inclined. In use, the inclination angle α of the inclined surface on the upper side of the panel is smaller than the inclination angle β of the inclined surface on the lower side of the panel, and the inclined surface on the upper side of the panel is more gradually inclined than the inclined surface on the lower side of the panel. ing.

【0006】特開平9−80426号公報明細書には、
図14(a)の断面を有するストライプ状の凸部101
aを、使用状態でパネル左右に平行に延びるように形成
した反射板も開示されている。
[0006] Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-80426 discloses that
A stripe-shaped convex portion 101 having a cross section shown in FIG.
There is also disclosed a reflector in which a is formed so as to extend parallel to the left and right of the panel in use.

【0007】これらの反射板は、反射光の方向をある特
定の方向に集中させ、明るい画像を表示することのでき
る反射型液晶表示装置を作製することができる。
With these reflectors, the direction of reflected light can be concentrated in a specific direction, and a reflection type liquid crystal display device capable of displaying a bright image can be manufactured.

【0008】これらの反射板の製造方法を図15により
説明する。図15は、特開平10−177106号公報
明細書に開示された、従来の反射板の製造方法を示す図
である。図15において、115は反射板を表わし、1
11はガラス基板、112はレジスト膜、112aは凸
部、113はフォトマスク、114は金属薄膜、Qは光
による露光を表わしている。
[0008] A method of manufacturing these reflectors will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a diagram showing a conventional method for manufacturing a reflector, disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-177106. In FIG. 15, reference numeral 115 denotes a reflection plate,
Reference numeral 11 denotes a glass substrate, 112 denotes a resist film, 112a denotes a projection, 113 denotes a photomask, 114 denotes a metal thin film, and Q denotes light exposure.

【0009】図15(a)で、ガラス基板111上にレ
ジスト膜112を形成する。つぎに、図15(b)に示
すようにフォトマスク113をセットし、露光および現
像をおこない、図15(c)に示すストライプ状のレジ
スト膜112とした。そののち、図15(d)に示すよ
うにガラス基板111を傾け、加熱処理をおこなう。加
熱処理により、図15(e)に示すような、滑らかなか
つ傾斜角の分布に偏りを有する非対称の凸部112aが
得られる。図15(f)で表面に金属薄膜114を形成
し、反射板115とした。
In FIG. 15A, a resist film 112 is formed on a glass substrate 111. Next, as shown in FIG. 15B, a photomask 113 was set, and exposure and development were performed to obtain a striped resist film 112 shown in FIG. 15C. After that, as shown in FIG. 15D, the glass substrate 111 is tilted and heat treatment is performed. By the heat treatment, an asymmetric convex portion 112a having a smooth and biased distribution of the inclination angle is obtained as shown in FIG. In FIG. 15F, a metal thin film 114 was formed on the surface to form a reflector 115.

【0010】この方法を用いれば、比較的容易に非対称
な傾斜角度分布をもつ反射板を作製することができる。
By using this method, it is possible to relatively easily produce a reflector having an asymmetrical inclination angle distribution.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかし、以上説明した
従来の反射板の製造方法では、レジスト膜を塗布したの
ちに傾斜させ、膜の流動を生じさせることによって任意
の傾斜角度を得ているため、形状の制御が難しく最適な
反射板形状が得られないという問題点があった。
However, in the above-described conventional method of manufacturing a reflector, an arbitrary tilt angle is obtained by applying a resist film and then tilting the film to cause the film to flow. In addition, there is a problem that it is difficult to control the shape, and an optimum reflector shape cannot be obtained.

【0012】この発明は、前記の問題点を解決するため
になされたものであり、所望の形状を有する反射板を、
容易にかつ形状制御性よく得ることを目的とするもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a reflection plate having a desired shape is provided.
It is an object to obtain the shape easily and with good controllability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明による反射型液晶
装置の反射板は、反射板の断面形状を、複数の台形もし
くは長方形形状が重なった階段層から構成し、階段層の
上に反射材料からなる反射層を設けたことを特徴とす
る。
The reflection plate of the reflection type liquid crystal device according to the present invention has a cross section of the reflection plate formed of a plurality of stepped layers in which a plurality of trapezoidal or rectangular shapes overlap, and a reflective material is provided on the stepped layer. A reflective layer comprising:

【0014】さらに階段層を、2段あるいは3段の階段
形状としたことを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the step layer has a two-step or three-step shape.

【0015】また、階段層の一部あるいは全てを金属材
料によって形成し、画素電極と電気的に接続したことを
特徴とする。
Further, a part or all of the step layer is formed of a metal material and is electrically connected to the pixel electrode.

【0016】また、反射層そのものを液晶に電圧を印加
するための電極としたことを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the reflection layer itself is an electrode for applying a voltage to the liquid crystal.

【0017】また、反射層の上に平坦化層を形成し、平
坦化層の上に液晶に電圧を印加するための電極を設けた
ことを特徴とする。
A flattening layer is formed on the reflective layer, and an electrode for applying a voltage to the liquid crystal is provided on the flattening layer.

【0018】また、階段層の上に平滑化層を形成し、表
面形状をなめらかにしたことを特徴とする。
Further, a smoothing layer is formed on the stepped layer to smooth the surface shape.

【0019】さらに、平滑化層は、平滑化層を一様に塗
布したのちに、傾斜させた状態で高温焼成して固化させ
て形成されることを特徴とする。
Further, the smoothing layer is formed by uniformly applying the smoothing layer, followed by baking at a high temperature in an inclined state and solidifying it.

【0020】また、平滑化層が、平滑化層を一様に塗布
したのちに、写真製版を用いて平滑化層の一部を除去
し、そののち高温焼成して固化させることにより形成さ
れることを特徴とする。
Further, the smoothing layer is formed by uniformly applying the smoothing layer, removing a part of the smoothing layer using photolithography, and then baking at a high temperature to solidify. It is characterized by the following.

【0021】また、階段層を構成している階段層各層の
一部あるいは全てを、信号配線もしくはスイッチング素
子と同時に形成することを特徴とする。
Further, a part or all of each layer of the staircase layer constituting the staircase layer is formed simultaneously with the signal wiring or the switching element.

【0022】また、階段層の一部の材料が金属材料から
なる場合に、その階段層と画素電極とを電気的に接続し
たことを特徴とする。
Further, when a part of the material of the stepped layer is made of a metal material, the stepped layer is electrically connected to the pixel electrode.

【0023】さらに、階段層を有する反射板を用いた反
射型液晶表示装置を、携帯機器に搭載したことを特徴と
する。
Further, a reflection type liquid crystal display device using a reflection plate having a stepped layer is mounted on a portable device.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】実施の形態1 図1は、この発明の実施の形態1による反射板の形状を
説明するための断面図である。液晶パネルに組み込まれ
て実際に視認される場合において、図1の左側が液晶パ
ネルの上側に、右側が液晶パネルの下側に位置する。
Embodiment 1 FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a shape of a reflector according to Embodiment 1 of the present invention. In the case where the liquid crystal panel is actually visually recognized by being incorporated in the liquid crystal panel, the left side of FIG.

【0025】図1において、ガラス基板20上に階段層
12が形成され、階段層12の表面を反射層11でおお
うことにより階段部が構成されている。階段部の左側は
複数の斜面および複数の平坦部からなる段々形状とさ
れ、階段部の右側は平坦部を持たない急斜面とされてい
る。
In FIG. 1, a stepped layer 12 is formed on a glass substrate 20, and a stepped portion is formed by covering the surface of the stepped layer 12 with a reflective layer 11. The left side of the step portion has a stepped shape including a plurality of slopes and a plurality of flat portions, and the right side of the step portion has a steep slope having no flat portion.

【0026】このような形状の反射板に、図1の左上方
向から光が入射する場合、階段部右側の急斜面部分には
光が入射せず、階段部左側の段々形状となっている平坦
部および斜面に光が入射し、反射層11によって反射さ
れる。このとき平坦部に入射した光の反射方向は、液晶
パネル表面で反射される反射光の方向とほぼ等しいが、
斜面に入射した光の反射方向は、液晶パネル表面からの
反射光とは異なる方向に反射する。したがって、階段部
によって反射される反射光の方向は、全体としてみる
と、液晶パネル表面からの反射光とは異なる方向となる
ため、視認性が向上する。
When light is incident on the reflector having such a shape from the upper left direction in FIG. 1, no light is incident on the steep slope portion on the right side of the step portion, and the flat portion having the step shape on the left side of the step portion is not formed. Light enters the slope and is reflected by the reflective layer 11. At this time, the reflection direction of the light incident on the flat portion is almost equal to the direction of the reflected light reflected on the liquid crystal panel surface,
The light incident on the slope is reflected in a different direction from the light reflected from the liquid crystal panel surface. Therefore, the direction of the reflected light reflected by the step portion is different from the direction of the reflected light from the liquid crystal panel surface as a whole, and thus the visibility is improved.

【0027】つまり、反射板に図1に示したような階段
部を設けることで、液晶パネル表面からの反射光の方向
と異なるある特定の方向に光を反射させることができ
る。階段部は、厚さがほぼ一様で緩やかな傾斜面を有さ
ない長方形や台形を複数重ねた形状であるため、いわゆ
る薄膜プロセス技術により容易に形成することができ
る。
That is, by providing the reflecting plate with the stepped portion as shown in FIG. 1, light can be reflected in a specific direction different from the direction of the reflected light from the liquid crystal panel surface. Since the step portion has a shape in which a plurality of rectangles or trapezoids having substantially uniform thickness and no gentle slope are stacked, they can be easily formed by a so-called thin film process technique.

【0028】具体的な傾斜角度の目標値について、図2
を用いて説明する。図2(a)は液晶パネルの断面を模
式的に表わした図であり、図2(b)はそのX部の拡大
図である。
FIG. 2 shows a specific target value of the inclination angle.
This will be described with reference to FIG. FIG. 2A is a diagram schematically illustrating a cross section of the liquid crystal panel, and FIG. 2B is an enlarged view of a portion X thereof.

【0029】図2に示すように、入射光60の方向Rが
30°であるとき、反射光B61を液晶パネルの正面で
ある0°の方向に向けるためには、偏光板および位相差
板54、表側ガラス基板53、液晶層52の屈折率を全
て1.52で等方的であると近似してスネルの法則を用
いて計算すると、非対称反射面51の傾斜角度γの最適
値は10°となる。
As shown in FIG. 2, when the direction R of the incident light 60 is 30 °, in order to direct the reflected light B61 in the direction of 0 ° which is the front of the liquid crystal panel, a polarizing plate and a retardation plate 54 are required. When the refractive index of the front glass substrate 53 and the refractive index of the liquid crystal layer 52 are all approximated to be 1.52 and isotropic and calculated using Snell's law, the optimum value of the inclination angle γ of the asymmetric reflection surface 51 is 10 °. Becomes

【0030】このとき、液晶パネル表面からの反射光A
62の方向と、非対称反射面51からの反射光B61の
方向は異なっているため、視認性が向上する。傾斜角度
に任意の幅の分布をもたせることができれば、視認方向
にも任意の許容幅をもたせることができるので、傾斜角
度は10度を中心としてある程度の角度分布をもつこと
が望ましい。なお、非対称反射面51が対称形状である
と反対側は無効な反射面となり望ましくないので、反対
側が鉛直に切り立った三角形形状となる非対称形状が望
ましい。
At this time, the reflected light A from the liquid crystal panel surface
Since the direction of 62 and the direction of the reflected light B61 from the asymmetric reflection surface 51 are different, the visibility is improved. If the inclination angle can have an arbitrary width distribution, the viewing direction can also have an arbitrary allowable width. Therefore, it is desirable that the inclination angle has a certain degree of angle distribution centering on 10 degrees. If the asymmetric reflection surface 51 has a symmetric shape, the opposite side becomes an invalid reflection surface, which is not desirable. Therefore, an asymmetric shape in which the opposite side has a vertically steep triangular shape is desirable.

【0031】図2(c)に示すように、階段形状によっ
て非対称反射面51を形成し、傾斜角度γが平均して1
0°になるようにするためには、階段形状を構成する各
階段のピッチPおよび高さDを、たとえば、ピッチPが
5μmのときは高さを0.88μmに、ピッチPが10
μmのときには高さDが1.76μmとなるようにすれ
ば良い。ただし、ピッチPが小さすぎるもしくは大きす
ぎると薄膜プロセスでは形成が難しくなることから、ピ
ッチPは5〜15μm程度が望ましい。
As shown in FIG. 2C, the asymmetrical reflection surface 51 is formed in a step shape, and the inclination angle γ is 1 on average.
In order to make it 0 °, the pitch P and the height D of each step forming the step shape are set to, for example, when the pitch P is 5 μm, the height is set to 0.88 μm, and the pitch P is set to 10
In the case of μm, the height D may be set to 1.76 μm. However, if the pitch P is too small or too large, it is difficult to form the film by a thin film process. Therefore, the pitch P is preferably about 5 to 15 μm.

【0032】実施の形態2 図3は、この発明の実施の形態2による反射板の形状を
説明するための断面図である。
Embodiment 2 FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a shape of a reflector according to Embodiment 2 of the present invention.

【0033】図3において、13は階段層12による凹
凸を滑らかな形状にするために用いた平滑化層である。
平滑化層13を設けることにより、反射層11の表面形
状は、実施の形態1と比較して、より凹凸が小さく、な
めらかになっている。したがって、反射層11の傾斜角
度の分布は目標角度の近辺に集中したものとなり、反射
光の強度分布が視認方向に集中するため視認性が向上す
る。
In FIG. 3, reference numeral 13 denotes a smoothing layer used to make the unevenness of the step layer 12 smooth.
By providing the smoothing layer 13, the surface shape of the reflective layer 11 is smaller in unevenness and smoother than in the first embodiment. Therefore, the distribution of the inclination angle of the reflection layer 11 is concentrated near the target angle, and the visibility is improved because the intensity distribution of the reflected light is concentrated in the viewing direction.

【0034】実施の形態3 図4は、この発明の実施の形態3による平滑化層の形成
法を説明するための図である。なお説明を簡単にするた
めに、階段層12は、階段層第1層12aおよび階段層
第2層12bからなる2層構造としている。
Third Embodiment FIG. 4 is a diagram for explaining a method of forming a smoothing layer according to a third embodiment of the present invention. In order to simplify the description, the staircase layer 12 has a two-layer structure including a first staircase layer 12a and a second staircase layer 12b.

【0035】まず、ガラス基板20上に階段層第1層1
2aおよび階段層第2層12bを形成する(図4
(a))。
First, the first layer 1 of the staircase layer is formed on the glass substrate 20.
2a and the staircase layer second layer 12b (FIG. 4)
(A)).

【0036】つぎに、階段層12上に平滑化層13を一
様に塗布する。液状の平滑化層13をスピンコート法な
どで塗布すると階段層の底の部分に溶液が溜まり、階段
層の上部には殆ど膜が付着しない(図4(b))。
Next, a smoothing layer 13 is applied uniformly on the step layer 12. When the liquid smoothing layer 13 is applied by a spin coating method or the like, the solution accumulates at the bottom of the stepped layer, and almost no film adheres to the upper part of the stepped layer (FIG. 4B).

【0037】こののち全体を傾斜させて高温で焼成させ
る(図4(c))ことで、平滑化層13が図の右側に流
れるようにしながら固化し、なめらかな角度分布をもつ
傾斜面が形成できる。(図4(d))。
Thereafter, the whole is inclined and fired at a high temperature (FIG. 4 (c)), so that the smoothing layer 13 is solidified while flowing to the right side of the figure, and an inclined surface having a smooth angular distribution is formed. it can. (FIG. 4D).

【0038】ここで、各構成材料の具体的な例について
説明する。隣りあう階段層12間のピッチを5μmと
し、階段層第1層12aはSiNを用いてドライエッチ
ング法で形成し厚さ0.4μm、幅が3.0μmとす
る。階段層第2層12bはCrを用いてウェットエッチ
ング法で形成し厚さ0.4μm、幅1.0μmとする。
平滑化層13はフォトレジスト(たとえば東京応化製T
FR−B)を膜厚0.3μmに塗布し、温度200℃、
傾斜角30度で1時間高温焼成する。これにより平均の
傾斜角度が10°前後の傾斜面を得ることが可能とな
る。なお平滑化層13の膜厚の範囲についてであるが、
階段層各層の厚さと同等もしくはそれより厚いと全体が
平均化されてしまって反射光の方向が集中しすぎ、階段
層各層よりも薄すぎると平滑化の効果が得られないこと
が明らかなので、たとえば前記の例の場合には0.2〜
0.6μmの範囲が目安となる。
Here, specific examples of each constituent material will be described. The pitch between adjacent step layers 12 is 5 μm, and the first step layer 12 a is formed by dry etching using SiN to have a thickness of 0.4 μm and a width of 3.0 μm. The stepped layer second layer 12b is formed by wet etching using Cr and has a thickness of 0.4 μm and a width of 1.0 μm.
The smoothing layer 13 is made of a photoresist (for example, T
FR-B) was applied to a thickness of 0.3 μm, and the temperature was 200 ° C.
High-temperature baking is performed at an inclination angle of 30 degrees for 1 hour. This makes it possible to obtain an inclined surface having an average inclination angle of about 10 °. As for the range of the thickness of the smoothing layer 13,
If it is equal to or greater than the thickness of each step layer, the whole will be averaged and the direction of reflected light will be concentrated too much, and if it is too thin than each layer of the step layer, it will be clear that the effect of smoothing will not be obtained, For example, in the case of the above example, 0.2 to
The range of 0.6 μm is a guide.

【0039】なお、材料についてはここに述べたものだ
けでなく、たとえば階段層の各層にはSiO2やAlな
どを用いても良いし、平滑化層13には感光性を持たな
い樹脂膜を使用することが可能である。また隣りあう階
段相間のピッチや階段層各層の幅についても、ここに記
載したとおりに形成する必要は無い。
The materials are not limited to those described here. For example, SiO 2 or Al may be used for each layer of the step layer, and a resin film having no photosensitivity may be used for the smoothing layer 13. It is possible to use. Also, the pitch between adjacent step phases and the width of each step layer need not be formed as described herein.

【0040】実施の形態4 図5はこの発明の実施の形態4による平滑化層の形成法
を説明するための図である。なお説明を簡単にするため
に、階段層12は、階段層第1層12aおよび階段層第
2層12bからなる2層構造としている。
Fourth Embodiment FIG. 5 is a diagram for explaining a method of forming a smoothing layer according to a fourth embodiment of the present invention. In order to simplify the description, the staircase layer 12 has a two-layer structure including a first staircase layer 12a and a second staircase layer 12b.

【0041】まず、ガラス基板20上に階段層第1層1
2aおよび階段層第2層12bを形成する(図5
(a))。
First, the first layer 1 of the staircase layer is formed on the glass substrate 20.
2a and the second step layer 12b are formed (FIG. 5).
(A)).

【0042】つぎに、階段層12上に平滑化層13を一
様に塗布する。液状の平滑化層13をスピンコート法な
どで塗布すると階段層の底の部分に溶液が溜まり、階段
層の上部には殆ど膜が付着しない(図5(b))。
Next, a smoothing layer 13 is applied uniformly on the step layer 12. When the liquid smoothing layer 13 is applied by a spin coating method or the like, the solution accumulates at the bottom of the step layer, and almost no film adheres to the top of the step layer (FIG. 5B).

【0043】そののち、平滑化層13の一部を選択的に
除去する。具体的には、平滑化層13を塗布後、予備乾
燥を行ない、写真製版処理により階段部の底に溜まった
溶液を選択的に除去する(図5(c))。
After that, a part of the smoothing layer 13 is selectively removed. Specifically, after the smoothing layer 13 is applied, preliminary drying is performed, and the solution accumulated at the bottom of the step portion is selectively removed by photolithography (FIG. 5C).

【0044】引き続いて高温焼成をおこない、平滑化層
13の形成は完了する。写真製版処理の直後はやや鋭角
的な形状となっているが、高温焼成で形状をやや変化さ
せることでなめらかな角度分布をもつ傾斜面が形成でき
る(図5(d))。
Subsequently, high-temperature baking is performed to complete the formation of the smoothing layer 13. Immediately after the photoengraving process, the shape is slightly sharp, but an inclined surface having a smooth angular distribution can be formed by slightly changing the shape by high-temperature baking (FIG. 5D).

【0045】ここで、各構成材料の具体的な例について
説明する。隣りあう階段層12間のピッチを5μmと
し、階段層第1層12aはSiNを用いてドライエッチ
ング法で形成し厚さ0.4μm、幅が3.0μmとす
る。階段層第2層12bはCrを用いてウェットエッチ
ング法で形成し厚さ0.4μm、幅1.0μmとする。
平滑化層13は感光性のアクリル系膜(たとえばJSR
製PC−335)を膜厚0.3μm塗布し、幅1.0μ
mを露光現像処理により除去する。そののち220℃で
1時間高温焼成する。なおこのとき、実施の形態3で示
したように傾斜させながら高温焼成しても良い。これに
より平均傾斜角度が10°前後の傾斜面を得ることが可
能となる。なお平滑化層の膜厚の範囲についてである
が、実施の形態3の場合と同様に、たとえば前記の例の
場合には0.2〜0.6μmの範囲が目安となる。
Here, specific examples of each constituent material will be described. The pitch between adjacent step layers 12 is 5 μm, and the first step layer 12 a is formed by dry etching using SiN to have a thickness of 0.4 μm and a width of 3.0 μm. The stepped layer second layer 12b is formed by wet etching using Cr and has a thickness of 0.4 μm and a width of 1.0 μm.
The smoothing layer 13 is made of a photosensitive acrylic film (for example, JSR
PC-335) is applied to a thickness of 0.3 μm and the width is 1.0 μm.
m is removed by exposure and development. Thereafter, high-temperature baking is performed at 220 ° C. for 1 hour. At this time, high-temperature firing may be performed while being inclined as described in the third embodiment. This makes it possible to obtain an inclined surface having an average inclination angle of about 10 °. As for the range of the thickness of the smoothing layer, as in the case of the third embodiment, for example, in the case of the above example, the range of 0.2 to 0.6 μm is a standard.

【0046】なお、材料についてはここに述べたものだ
けでなく、たとえば階段層にはSiO2やAlなどを用
いても良いし、平滑化層には感光性を持たない樹脂膜を
使用し、フォトレジストを用いてマスキングしてエッチ
ングするという方法を用いても良い。また隣りあう階段
相間のピッチや階段層各層の幅についても、ここに記載
したとおりに形成する必要は無い。
The materials are not limited to those described above. For example, SiO 2 or Al may be used for the step layer, and a resin film having no photosensitivity may be used for the smoothing layer. A method of masking and etching using a photoresist may be used. Also, the pitch between adjacent step phases and the width of each step layer need not be formed as described herein.

【0047】実施の形態5 図6は、この発明の実施の形態5による反射板の形状を
説明するための断面図である。
Embodiment 5 FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the shape of a reflector according to Embodiment 5 of the present invention.

【0048】図6において、12aは階段層第1層を、
12bは階段層第2層を示している。階段層12を2層
構成とすることで容易に形状を作製することが可能とな
る。さらに図6(b)に示すように、平滑化層13を設
けて平滑化を行なうことで傾斜角度の分布が目標とする
角度に集中した形状を作製することが容易となる。
In FIG. 6, reference numeral 12a denotes a first step layer,
Reference numeral 12b denotes a second step layer. By forming the staircase layer 12 in a two-layer configuration, it is possible to easily form the shape. Further, as shown in FIG. 6B, by providing the smoothing layer 13 and performing smoothing, it becomes easy to produce a shape in which the distribution of the inclination angles is concentrated at the target angle.

【0049】また階段層は2層が連続して存在している
必要性は無い。図6(c)に示すように、階段層第1層
12aの上に中間層14を介して階段層第2層12bが
存在するような形状でも同様の効果が得られる。
Further, it is not necessary that two step layers are present continuously. As shown in FIG. 6C, the same effect can be obtained even when the stepped layer second layer 12b is present on the stepped layer first layer 12a via the intermediate layer 14.

【0050】さらに図6(d)に示すように、階段層1
2の上に階段保護層15を形成したのちに、平滑化層1
3および反射層11を形成しても同様の効果が得られ
る。このような構成とする場合としては、階段層12の
少なくとも一部および反射層11がそれぞれ導電性材料
からなり、両者の間で電気的絶縁を確保する必要がある
場合などがある。
Further, as shown in FIG.
After forming the staircase protection layer 15 on the smoothing layer 1
The same effect can be obtained by forming the reflective layer 3 and the reflective layer 11. In such a configuration, there is a case where at least a part of the staircase layer 12 and the reflective layer 11 are each made of a conductive material, and it is necessary to secure electrical insulation between the two.

【0051】実施の形態6 図7は、この発明の実施の形態6による反射板の形状を
説明するための図である。
Sixth Embodiment FIG. 7 is a view for explaining a shape of a reflector according to a sixth embodiment of the present invention.

【0052】図7において、12aは階段層第1層を、
12bは階段層第2層を、12cは階段層第3層を示し
ている。図7(a)に示すように、階段層12を3層構
成とすることで容易に形状を作製することが可能とな
る。
In FIG. 7, reference numeral 12a denotes a first step layer,
Reference numeral 12b denotes a stepped layer second layer, and 12c denotes a stepped layer third layer. As shown in FIG. 7A, by forming the staircase layer 12 in a three-layer configuration, the shape can be easily manufactured.

【0053】また図7(b)に示すように、実施の形態
5と同様に、平滑化層13を設けて平滑化を行なうこと
で、傾斜角度の分布が目標とする角度に集中した形状を
作製することが容易となる。また、実施の形態5におけ
る図6(c)と同様、階段層12は連続である必要はな
く、各階段層のあいだに中間層が存在してもよい。さら
に、実施の形態5における図6(d)と同様、階段層1
2の上に階段保護層15を形成したのちに、平滑化層1
3および反射層11を形成してもよい。
Further, as shown in FIG. 7B, by providing the smoothing layer 13 and performing smoothing as in the fifth embodiment, the shape in which the distribution of the inclination angles is concentrated at the target angle is obtained. It is easy to manufacture. Further, similarly to FIG. 6C in the fifth embodiment, the step layer 12 does not need to be continuous, and an intermediate layer may exist between the step layers. Further, as in FIG. 6D in the fifth embodiment, the staircase layer 1
After forming the staircase protection layer 15 on the smoothing layer 1
3 and the reflective layer 11 may be formed.

【0054】実施の形態7 図8および図9は、この発明の実施の形態7による、液
晶を駆動するTFT素子と階段層とを同時に形成する方
法を説明するための図である。図8は、図9の反射板の
I−I断面を表わしている。
Seventh Embodiment FIGS. 8 and 9 are views for explaining a method for simultaneously forming a TFT element for driving liquid crystal and a step layer according to a seventh embodiment of the present invention. FIG. 8 shows a II cross section of the reflector of FIG.

【0055】図8および図9において、20はガラス基
板、21はゲート電極、22はゲート絶縁膜、23はア
モルファスシリコン、24はソース/ドレイン電極、2
5はTFT保護膜、26は反射層である。
8 and 9, 20 is a glass substrate, 21 is a gate electrode, 22 is a gate insulating film, 23 is amorphous silicon, 24 is a source / drain electrode, 2
5 is a TFT protective film, and 26 is a reflective layer.

【0056】図9に示した反射板を作製する工程を、図
8を用いて説明する。
A process for manufacturing the reflection plate shown in FIG. 9 will be described with reference to FIG.

【0057】最初に、図8(a)に示すように、ガラス
基板20上にゲート電極21を形成する。このとき同時
に、ゲート電極21と同一材料で階段層第1層12aも
形成する。
First, as shown in FIG. 8A, a gate electrode 21 is formed on a glass substrate 20. At this time, the step layer first layer 12a is also formed at the same time using the same material as the gate electrode 21.

【0058】つぎに、図8(b)に示すように、ゲート
絶縁膜22を全面に形成する。このとき、階段層第1層
12aの全面がゲート絶縁膜22に覆われる様にする。
Next, as shown in FIG. 8B, a gate insulating film 22 is formed on the entire surface. At this time, the entire surface of the step layer first layer 12a is covered with the gate insulating film 22.

【0059】つぎに、図8(c)に示すように、アモル
ファスシリコン層23を形成する。ここではアモルファ
スシリコン層23は階段層とは関係無いようにしてい
る。
Next, as shown in FIG. 8C, an amorphous silicon layer 23 is formed. Here, the amorphous silicon layer 23 is not related to the step layer.

【0060】つぎに、図8(d)に示すようにソース/
ドレイン電極24を形成する。このとき同時に、階段層
第2層12bも形成する。
Next, as shown in FIG.
A drain electrode 24 is formed. At this time, the staircase layer second layer 12b is also formed at the same time.

【0061】つぎに、図8(e)に示すように、TFT
素子の絶縁を確保するための保護層25を形成する。こ
のとき保護層25は階段層上にも形成され、階段部の平
滑化層としての役割を果たす。したがって、保護層25
の膜厚および材料は、平滑化層と同一にすればよい。平
滑化層と同一の膜厚および材料では充分な絶縁能力が得
られない場合には、最初に高い絶縁能力をもつ膜を薄く
全面に形成し、つぎに平滑化層を任意の形状寸法で形成
すればよい。
Next, as shown in FIG.
A protective layer 25 for ensuring element insulation is formed. At this time, the protective layer 25 is also formed on the stepped layer and plays a role as a smoothing layer in the stepped portion. Therefore, the protective layer 25
May be the same as the thickness and material of the smoothing layer. If sufficient insulating ability cannot be obtained with the same film thickness and material as the smoothing layer, first a thin film with high insulating ability is formed thinly over the entire surface, and then the smoothing layer is formed with an arbitrary shape and size. do it.

【0062】最後に、図8(f)に示すように、反射層
26を形成し、図9の反射板は完成する。
Finally, as shown in FIG. 8F, a reflection layer 26 is formed, and the reflection plate of FIG. 9 is completed.

【0063】以上のような工程を用いることで、TFT
素子の形成と同時に階段層を形成することが可能となる
ので、工程数を増やすことなく階段層を有する反射板を
形成することが可能となる。
By using the above steps, the TFT
Since a stepped layer can be formed at the same time as the formation of the element, a reflector having a stepped layer can be formed without increasing the number of steps.

【0064】また、ここでは、ゲート電極が下部に存在
する逆スタガ型のTFT素子を例として工程を示した
が、それ以外のスイッチング素子にも適用が可能であ
り、またダイオード型の駆動素子を作製する際に同時に
階段層を作製することも可能である。
In this embodiment, the steps are described by taking an example of an inverted staggered TFT element in which a gate electrode is present below. However, the present invention can be applied to other switching elements. It is also possible to produce a step layer at the same time as the production.

【0065】実施の形態8 図10は、この発明の実施の形態8による反射板を説明
するための図である。本実施の形態は、階段層の少なく
とも一部と画素電極とを電気的に接続したことを特徴と
している。
Eighth Embodiment FIG. 10 is a view for explaining a reflector according to an eighth embodiment of the present invention. This embodiment is characterized in that at least a part of the step layer is electrically connected to the pixel electrode.

【0066】本実施の形態の反射板は、図8と同様の工
程にて作製する。図10において、図8および図9と同
一の符号を付したものについては、同一又はこれに相当
するものであり説明を省略する。図10(b)は、図1
0(a)のII−II断面を表わすが、説明のために反射層
26が形成される前の状態としている。
The reflector of the present embodiment is manufactured by the same steps as in FIG. In FIG. 10, the components denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 8 and 9 are the same or equivalent, and the description is omitted. FIG. 10B shows FIG.
FIG. 2A shows a cross section taken along the line II-II of FIG. 1A, but shows a state before the reflective layer 26 is formed for the sake of explanation.

【0067】実施の形態7で説明したように、図8
(d)に示した工程で、ソース/ドレイン電極24と階
段層第2層12bは同時に形成される。そこで本実施の
形態では、ソース/ドレイン電極24と階段層第2層1
2bとを電気的に接続された状態に形成した。このよう
に構成することで、寄生容量の発生をなくし、液晶素子
を駆動させる際の信号遅延などの悪影響を防ぐことが可
能となる。
As described in the seventh embodiment, FIG.
In the step shown in FIG. 4D, the source / drain electrodes 24 and the second step layer 12b are formed simultaneously. Therefore, in the present embodiment, the source / drain electrode 24 and the stepped second layer 1
2b was formed in an electrically connected state. With this configuration, it is possible to eliminate the occurrence of parasitic capacitance and to prevent adverse effects such as signal delay when driving the liquid crystal element.

【0068】実施の形態9 図11はこの発明の実施の形態9による反射板を説明す
るための図である。本実施の形態は、反射層に直接電圧
が印加されている構造を特徴とする。
Ninth Embodiment FIG. 11 is a view for explaining a reflector according to a ninth embodiment of the present invention. This embodiment is characterized by a structure in which a voltage is directly applied to the reflective layer.

【0069】図11において、TFT素子のソース/ド
レイン電極24と反射層26とが、TFT保護膜25に
設けたコンタクトホールを介して電気的に接続されてお
り、その上に配向膜32、液晶層37、配向膜32、透
明電極34、カラーフィルター35、カラーフィルター
側ガラス基板31、位相差板38、偏光板39という構
成になっている。なお、液晶層37にゲストホスト型を
用いた場合には位相差板38、偏光板39は不要とな
る。
In FIG. 11, the source / drain electrodes 24 of the TFT element and the reflective layer 26 are electrically connected via a contact hole provided in the TFT protective film 25, and the alignment film 32 and the liquid crystal The structure includes a layer 37, an alignment film 32, a transparent electrode 34, a color filter 35, a color filter side glass substrate 31, a retardation plate 38, and a polarizing plate 39. When the guest-host type is used for the liquid crystal layer 37, the retardation plate 38 and the polarizing plate 39 are not required.

【0070】液晶に電圧を印加する際、反射層26とT
FT素子のソース/ドレイン電極24が直接電気的に接
続されているので、電圧ロスが生じず、低電圧で液晶を
駆動することが可能となる。
When a voltage is applied to the liquid crystal, the reflection layer 26 and T
Since the source / drain electrodes 24 of the FT element are directly electrically connected, no voltage loss occurs, and the liquid crystal can be driven at a low voltage.

【0071】実施の形態10 図12はこの発明の実施の形態10による反射板を説明
するための図である。本実施の形態は、反射層には直接
電圧が印加されないようにして、反射層上を平坦化した
のちに透明電極を配置し、透明電極間で液晶に電圧が印
加される構造を特徴とする。
Tenth Embodiment FIG. 12 is a view for explaining a reflector according to a tenth embodiment of the present invention. The present embodiment is characterized in that a voltage is applied to the liquid crystal between the transparent electrodes by disposing a transparent electrode after flattening the reflective layer so that no voltage is directly applied to the reflective layer. .

【0072】図12において、反射層26、平坦化膜3
6および透明電極34を除いては、図11にて説明した
実施の形態9と同じ配置となっている。
In FIG. 12, the reflection layer 26, the planarizing film 3
Except for the sixth and transparent electrodes 34, the arrangement is the same as that of the ninth embodiment described with reference to FIG.

【0073】反射層26の表面の平坦化を行なわないと
きに生じる問題点について考える。液晶層の層厚は一般
的には4μm程度であり、反射層26の高低差が1μm
とすると液晶の層厚は中心値プラスマイナス0.5μm
の分布をもつ。液晶層の薄い部分と厚い部分では同一の
電圧印加時でも明らかに液晶の光学特性が異なるので、
明るさに分布が生じ、たとえばコントラストの低下など
を引き起こす。これを改善するためには、図12に示す
ように反射膜26の表面を平坦化層36で平坦化したの
ちに電圧印加用の透明電極34を形成すれば良い。これ
により反射層の凹凸による光学的な悪影響を無くした反
射板を得ることができる。
Consider a problem that occurs when the surface of the reflective layer 26 is not flattened. The thickness of the liquid crystal layer is generally about 4 μm, and the height difference of the reflection layer 26 is 1 μm.
Then, the layer thickness of the liquid crystal is the center value plus or minus 0.5 μm
With a distribution of Since the optical characteristics of the liquid crystal are clearly different between the thin part and the thick part of the liquid crystal layer even when the same voltage is applied,
A distribution occurs in brightness, for example, causing a decrease in contrast. To improve this, the transparent electrode 34 for applying a voltage may be formed after the surface of the reflective film 26 is flattened by the flattening layer 36 as shown in FIG. As a result, it is possible to obtain a reflector in which the optical adverse effect due to the unevenness of the reflection layer is eliminated.

【0074】実施の形態11 図13はこの発明の実施の形態11を表わす図である。
前述の反射板を用いた反射型液晶表示装置を、携帯電話
機に搭載した状態を示した図である。
Eleventh Embodiment FIG. 13 shows an eleventh embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a diagram showing a state in which a reflection type liquid crystal display device using the above-mentioned reflection plate is mounted on a mobile phone.

【0075】図13において、41は携帯電話機、42
はテンキー、43は機能キー、44は液晶表示部であ
る。液晶表示部44には、本発明の実施の形態1、2、
3、4、5、6、7、8、9および10にて説明した、
階段層をもつ反射板を備えた反射型液晶表示装置が使用
されている。
In FIG. 13, reference numeral 41 denotes a portable telephone;
Is a numeric keypad, 43 is a function key, and 44 is a liquid crystal display. The liquid crystal display unit 44 includes the first and second embodiments of the present invention,
3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, and 10,
A reflection type liquid crystal display device having a reflection plate having a stepped layer is used.

【0076】ここで用いた反射板は低消費電力で明るい
画像を得ることができ、内蔵式バッテリーで駆動する携
帯電話の長時間動作が可能となる。
The reflector used here can obtain a bright image with low power consumption, and enables a mobile phone driven by a built-in battery to operate for a long time.

【0077】また上述の例に示した携帯電話だけでな
く、携帯情報端末などの他の携帯機器に搭載したときに
も低消費電力で明るい表示を得ることができる。
In addition to the portable telephone shown in the above-described example, a bright display with low power consumption can be obtained when the portable telephone is mounted on another portable device such as a portable information terminal.

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明によれば、反射板の断面が複数の
台形もしくは長方形形状が重なった階段層からなるた
め、特定の方向に光を反射させることのできる反射板を
きわめて容易に作製することができる。
According to the present invention, since the cross section of the reflector is a stepped layer in which a plurality of trapezoidal or rectangular shapes overlap, a reflector capable of reflecting light in a specific direction can be manufactured very easily. be able to.

【0079】また本発明によれば、階段層の上に、平滑
化層を形成して表面形状をなめらかにすることにより、
反射層の傾斜角度の分布を目標角度の近辺に集中したも
のとすることができ、視認方向における反射光強度が向
上し表示品質が向上する。また本発明によれば、平滑化
層を一様に塗布したのちに、傾斜させた状態で高温焼成
して固化させているので、任意の傾斜角度分布をもつ形
状を容易に作製することができる。
Further, according to the present invention, by forming a smoothing layer on the step layer to smooth the surface shape,
The distribution of the inclination angle of the reflective layer can be concentrated near the target angle, so that the reflected light intensity in the viewing direction is improved and the display quality is improved. Further, according to the present invention, since the smoothing layer is uniformly applied and then baked at a high temperature and solidified in an inclined state, a shape having an arbitrary inclination angle distribution can be easily produced. .

【0080】また本発明によれば、平滑化層を一様に塗
布したのちに、写真製版を用いて平滑化層を一部除去
し、高温焼成して固化させているので、任意の傾斜角度
分布をもつ形状を容易に作製することができるまた本発
明によれば、階段層を信号配線もしくはスイッチング素
子と同時に形成するため、工程数を少なくすることがで
き、低コストで任意の反射特性をもつ反射板を作製する
ことが可能となる。
Further, according to the present invention, after the smoothing layer is uniformly applied, the smoothing layer is partially removed using photolithography and solidified by baking at a high temperature. According to the present invention, a staircase layer is formed simultaneously with a signal wiring or a switching element, so that the number of steps can be reduced, and any reflection characteristic can be obtained at low cost. It is possible to produce a reflecting plate having the same.

【0081】また本発明によれば、階段層が金属材料か
らなる場合に、階段層と画素電極とを電気的に接続して
いるので、寄生容量の発生を無くし、液晶素子を駆動さ
せる際の信号遅延などを防ぐことが可能となる。
According to the present invention, when the stepped layer is made of a metal material, the stepped layer and the pixel electrode are electrically connected to each other. Signal delay and the like can be prevented.

【0082】また本発明によれば、反射板がそのまま液
晶に電圧を印加する電極となっているので、電圧ロスが
生じず、低電圧で液晶を駆動することが可能となる。
According to the present invention, since the reflection plate is an electrode for directly applying a voltage to the liquid crystal, no voltage loss occurs and the liquid crystal can be driven at a low voltage.

【0083】また本発明によれば、反射層の上に平坦化
層を形成し、平坦化層上に液晶に電圧を印加するための
電極を形成しているので、反射層の凹凸による光学的な
悪影響をなくした反射板を得ることができる。
Further, according to the present invention, the flattening layer is formed on the reflective layer, and the electrode for applying a voltage to the liquid crystal is formed on the flattening layer. It is possible to obtain a reflector having no adverse effects.

【0084】また本発明によれば、階段層を有する反射
板を備えた反射型液晶表示装置を携帯機器に搭載してい
るので、低消費電力で明るい画像を得ることができ、内
蔵式バッテリーで長時間の動作が可能となる。
Further, according to the present invention, since a reflection type liquid crystal display device having a reflection plate having a stepped layer is mounted on a portable device, a bright image can be obtained with low power consumption, and a built-in battery can be used. Long-term operation is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1による反射板の形状を
説明するための断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a shape of a reflector according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明による反射板の傾斜角度と反射光との
関係を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating the relationship between the angle of inclination of a reflector and reflected light according to the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態2による反射板を説明す
るための断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a reflector according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態3による平滑化層の作製
方法を説明するための断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for describing a method for manufacturing a smoothing layer according to a third embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態4による平滑化層の作製
方法を説明するための断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for describing a method for manufacturing a smoothing layer according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態5による反射板を説明す
るための断面図である。
FIG. 6 is a sectional view illustrating a reflector according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態6による反射板を説明す
るための断面図である。
FIG. 7 is a sectional view illustrating a reflector according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の実施の形態7による、階段層各層と
TFT素子とを同時に形成する作製方法を説明する図で
ある。
FIG. 8 is a diagram illustrating a manufacturing method according to a seventh embodiment of the present invention for simultaneously forming each step layer and a TFT element.

【図9】 本発明の実施の形態7による、階段層各層と
TFT素子とを同時に形成する作製方法を説明するため
の図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a manufacturing method according to a seventh embodiment of the present invention for simultaneously forming each stepped layer and a TFT element.

【図10】 本発明の実施の形態8による反射板を説明
するための断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a reflector according to an eighth embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の実施の形態9による、反射層に直
接電圧が印加される反射板を説明するための液晶パネル
全体の断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view of an entire liquid crystal panel for explaining a reflector in which a voltage is directly applied to a reflection layer according to a ninth embodiment of the present invention.

【図12】 本発明の実施の形態10による、反射層上
に平坦化層が設けられ平坦化層上の透明電極に電圧が印
加される反射板を説明するための液晶パネル全体の断面
図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view of the entire liquid crystal panel for illustrating a reflector in which a flattening layer is provided on a reflective layer and a voltage is applied to a transparent electrode on the flattening layer according to the tenth embodiment of the present invention. is there.

【図13】 本発明の実施の形態11による、階段層を
有する反射板を備えた反射型液晶表示装置を携帯電話機
に搭載した状態を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a state in which a reflective liquid crystal display device including a reflector having a staircase layer according to an eleventh embodiment of the present invention is mounted on a mobile phone.

【図14】 従来技術による反射板を説明するための図
である。
FIG. 14 is a view for explaining a reflector according to the related art.

【図15】 従来技術による、非対称反射面を有する反
射板の作製方法を説明するための図である。
FIG. 15 is a view for explaining a method of manufacturing a reflector having an asymmetrical reflection surface according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 反射層、12 階段層、12a 階段層第1層、
12b 階段層第2層、12c 階段層第3層、13
平滑化層、14 中間層、15 階段保護層、20 ガ
ラス基板、21 ゲート電極、22 ゲート絶縁膜、2
3 アモルファスシリコン、24 ソース/ドレイン電
極、25 TFT保護膜、26 反射層、30 ガラス
基板、31 表側ガラス基板、32 配向膜、33 ブ
ラックマトリックス、34 透明電極、35 カラーフ
ィルター、36 平坦化膜、37 液晶層、38 位相
差板、39 偏光板、41 携帯電話機、42 テンキ
ー、43 機能キー、44 液晶表示部、50 裏側ガ
ラス基板、51 非対称反射面、52 液晶層、53
表側ガラス基板、54 偏光板+位相差板、60 入射
光、61 反射光B、62 反射光A、101 反射
板、101a凸部、102 基板、111 ガラス基
板、112 レジスト膜、112a凸部、113 フォ
トマスク、114 金属薄膜、115 反射板。
11 reflection layer, 12 staircase layer, 12a staircase layer first layer,
12b Stepped layer second layer, 12c Stepped layer third layer, 13
Smoothing layer, 14 intermediate layer, 15 step protection layer, 20 glass substrate, 21 gate electrode, 22 gate insulating film, 2
3 amorphous silicon, 24 source / drain electrodes, 25 TFT protective film, 26 reflective layer, 30 glass substrate, 31 front glass substrate, 32 alignment film, 33 black matrix, 34 transparent electrode, 35 color filter, 36 flattening film, 37 Liquid crystal layer, 38 retardation plate, 39 polarizing plate, 41 mobile phone, 42 numeric keypad, 43 function key, 44 liquid crystal display, 50 back glass substrate, 51 asymmetric reflection surface, 52 liquid crystal layer, 53
Front glass substrate, 54 polarizing plate + retardation plate, 60 incident light, 61 reflected light B, 62 reflected light A, 101 reflecting plate, 101a convex portion, 102 substrate, 111 glass substrate, 112 resist film, 112a convex portion, 113 Photomask, 114 metal thin film, 115 reflector.

フロントページの続き (72)発明者 山縣 有輔 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2H042 BA04 BA12 BA14 BA15 BA16 DA02 DA08 DA11 DB08 DB10 DC08 DE00 2H091 FA02Y FA07X FA11X FA14Y FC10 FC26 GA01 GA03 LA12 LA16 LA17 2H092 GA17 HA04 HA05 JA24 JB07 JB58 MA10 MA13 NA27 PA12 5C094 AA01 AA24 BA03 BA43 EB02 ED11 HA08 Continued on the front page (72) Inventor Yusuke Yamagata 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo F-term (reference) 2H042 BA04 BA12 BA14 BA15 BA16 DA02 DA08 DA11 DB08 DB10 DC08 DE00 2H091 FA02Y FA07X FA11X FA14Y FC10 FC26 GA01 GA03 LA12 LA16 LA17 2H092 GA17 HA04 HA05 JA24 JB07 JB58 MA10 MA13 NA27 PA12 5C094 AA01 AA24 BA03 BA43 EB02 ED11 HA08

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電極が設けられた一対の基板間に液晶層
が挟持され、反射板が観察時に裏側となる基板の液晶層
側に配置されており、該反射板の断面形状が非対称な凹
凸形状とされており反射光を特定の方向に指向させる反
射型液晶パネルの反射板において、断面が複数の台形も
しくは長方形形状が重なった階段層からなり、該階段層
の表面が反射材料からなる反射層におおわれていること
を特徴とする反射板。
1. A liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates provided with electrodes, and a reflector is disposed on a liquid crystal layer side of a substrate which is a back side at the time of observation. In a reflection plate of a reflection type liquid crystal panel which is shaped and directs reflected light in a specific direction, the cross section is composed of a stepped layer in which a plurality of trapezoidal or rectangular shapes are overlapped, and the surface of the stepped layer is made of a reflecting material. A reflector characterized by being covered with layers.
【請求項2】 前記階段層が2段階の階段形状からなる
ことを特徴とする請求項1記載の反射板。
2. The reflector according to claim 1, wherein the stepped layer has a two-stepped shape.
【請求項3】 前記階段層が3段階の階段形状からなる
ことを特徴とする請求項1記載の反射板。
3. The reflector according to claim 1, wherein the step layer has a three-step shape.
【請求項4】 前記階段層の少なくとも一部が金属材料
からなり、画素電極と電気的に接続されていることを特
徴とする請求項1、2または3記載の反射板。
4. The reflector according to claim 1, wherein at least a part of the step layer is made of a metal material and is electrically connected to a pixel electrode.
【請求項5】 前記反射層が液晶に電圧を印加する電極
であることを特徴とする請求項1、2、3または4記載
の反射板。
5. The reflection plate according to claim 1, wherein the reflection layer is an electrode for applying a voltage to a liquid crystal.
【請求項6】 前記反射層の上に平坦化層を形成し、該
平坦化層の上に液晶に電圧を印加する電極を形成したこ
とを特徴とする請求項1、2、3または4記載の反射
板。
6. A flattening layer is formed on the reflective layer, and an electrode for applying a voltage to a liquid crystal is formed on the flattening layer. Reflector.
【請求項7】 前記階段層の上に、平滑化層が設けられ
表面形状がなめらかにされていることを特徴とする請求
項1、2、3、4、5または6記載の反射板。
7. The reflector according to claim 1, wherein a smoothing layer is provided on the step layer to make the surface shape smooth.
【請求項8】 請求項7記載の反射板の作製方法であっ
て、前記平滑化層が、平滑化層を一様に塗布したのち
に、傾斜させた状態で高温焼成して固化させることによ
り形成されることを特徴とする反射板の作製方法。
8. The method of manufacturing a reflection plate according to claim 7, wherein the smoothing layer is formed by uniformly applying the smoothing layer, and then baking at a high temperature in an inclined state to solidify. A method for manufacturing a reflector, which is formed.
【請求項9】 請求項7記載の反射板の作製方法であっ
て、前記平滑化層が、平滑化層を一様に塗布したのち
に、写真製版を用いて平滑化層を一部除去し、高温焼成
して固化させることを特徴とする反射板の作製方法。
9. The method of manufacturing a reflection plate according to claim 7, wherein the smoothing layer is formed by uniformly applying the smoothing layer and then partially removing the smoothing layer using photolithography. And baking at a high temperature for solidification.
【請求項10】 請求項1、2、3、4、5、6または
7記載の反射板の作製方法であって、前記階段層の少な
くとも一部を信号配線もしくはスイッチング素子と同時
に形成することを特徴とする反射板の作製方法。
10. The method of manufacturing a reflection plate according to claim 1, wherein at least a part of the stepped layer is formed simultaneously with a signal wiring or a switching element. Characteristic method of manufacturing a reflector.
【請求項11】 請求項1、2、3、4、5、6または
7記載の反射板を備えた反射型液晶表示装置を搭載した
ことを特徴とする携帯機器。
11. A portable device equipped with a reflection type liquid crystal display device provided with the reflection plate according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, or 7.
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