JP2001334192A - Lubricant coat processing device, lubricant coat processing method and lubricant applying method on magnetic disk medium - Google Patents

Lubricant coat processing device, lubricant coat processing method and lubricant applying method on magnetic disk medium

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JP2001334192A
JP2001334192A JP2000157836A JP2000157836A JP2001334192A JP 2001334192 A JP2001334192 A JP 2001334192A JP 2000157836 A JP2000157836 A JP 2000157836A JP 2000157836 A JP2000157836 A JP 2000157836A JP 2001334192 A JP2001334192 A JP 2001334192A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the increase of particles and the waviness of liquid surface without reducing the flow rate of circulating filtration in a lubricant coat processing device, a lubricant coat processing method and a lubricant applying method on a magnetic disk medium. SOLUTION: A processing liquid 2 for applying a lubricant on the surface of a substrate 3 is supplied from a part below the liquid level, where is free from affecting the liquid surface, and circulated and filtered by a down flow system.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は潤滑剤塗布処理装
置、潤滑剤塗布処理方法、及び、磁気ディスク媒体への
潤滑剤塗布方法に関するものであり、特に、HDD(ハ
ードディスクドライブ)装置を構成するハードディスク
等の磁気ディスク媒体表面に設けたDLC(ダイアモン
ドライクカーボン)等の保護膜上に潤滑剤層を塗布する
際に、パーティクルの再付着を防止するための潤滑剤塗
布処理槽の構造及び潤滑剤塗布溶液の循環方式に特徴の
ある潤滑剤塗布処理装置、潤滑剤塗布処理方法、及び、
磁気ディスク媒体への潤滑剤塗布方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lubricant applying apparatus, a lubricant applying method, and a method of applying a lubricant to a magnetic disk medium, and more particularly to a hard disk constituting a hard disk drive (HDD) device. When applying a lubricant layer on a protective film such as DLC (diamond-like carbon) provided on the surface of a magnetic disk medium such as a magnetic disk, the structure of a lubricant application tank for preventing particles from re-adhering and applying the lubricant A lubricant application processing apparatus characterized by a solution circulation method, a lubricant application processing method, and
The present invention relates to a method for applying a lubricant to a magnetic disk medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、外部記憶装置等に用いるハードデ
ィスク装置は、CSS(Contact Start
Stop)方式に代表されるように起動時には磁気ディ
スク媒体と磁気ヘッドとが接触しており、起動後も外部
からの振動等により磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との
間欠的な接触がある。
2. Description of the Related Art Currently, a hard disk drive used for an external storage device or the like is a CSS (Contact Start).
As typified by the Stop method, the magnetic disk medium and the magnetic head are in contact at the time of startup, and after the startup, there is intermittent contact between the magnetic head and the magnetic disk medium due to external vibration or the like.

【0003】この様な磁気記録装置に用いる磁気ディス
ク媒体を構成する磁性層自体は潤滑性を有さず、或い
は、潤滑性が極めて低いため長時間の接触が起こると、
磁気ヘッド或いは磁気ディスク媒体の磁性膜が摩耗し
て、所謂ヘッド目詰まり或いはヘッドクラッシュが生ず
るという問題がある。
[0003] When a magnetic layer constituting a magnetic disk medium used in such a magnetic recording device does not have lubricity or has a very low lubricity, a long-time contact occurs.
There is a problem that the magnetic film of the magnetic head or the magnetic disk medium is worn, so-called head clogging or head crash occurs.

【0004】そこで、一般には、磁気ディスク媒体等の
磁気記録媒体を構成する磁性層を保護するために、磁性
層上に保護潤滑層として、PVD法或いはCVD法を用
いて厚さが5〜50nm程度のアモルファス状態のDL
C膜等を成膜して保護層とし、次いで、保護層上に10
〜90Å程度の極めて薄い潤滑剤層を形成している。
Therefore, in general, in order to protect a magnetic layer constituting a magnetic recording medium such as a magnetic disk medium, a protective lubricating layer having a thickness of 5 to 50 nm is formed on the magnetic layer by a PVD method or a CVD method. DL in amorphous state
C film or the like is formed as a protective layer.
An extremely thin lubricant layer of about 90 ° is formed.

【0005】この保護層は磁性層からなる記録層に記録
された情報を保護するとともに、磁気ヘッドの摺動性を
高める効果を発揮しているが、保護層を設けただけでは
磁気記録媒体の耐久性が劣るために、上述のように、保
護層の表面に厚さが10〜90Å程度の潤滑剤を塗布し
て保護層の耐久性を改善する方法が広く採用されてい
る。
The protective layer protects information recorded on the recording layer composed of the magnetic layer and has the effect of enhancing the slidability of the magnetic head. Due to the poor durability, as described above, a method of applying a lubricant having a thickness of about 10 to 90 ° on the surface of the protective layer to improve the durability of the protective layer has been widely adopted.

【0006】この様な潤滑剤としては、パーフルオロポ
リエーテル系潤滑剤や脂肪族炭化水素系潤滑剤が知られ
ており、この様な潤滑剤の主な役割は、保護層の表面に
吸着して磁気ヘッドスライダが保護層と直接接触するの
を防止するとともに、磁気記録媒体上を摺動する磁気ヘ
ッドスライダの摩擦力を著しく低減させることにある。
As such lubricants, perfluoropolyether lubricants and aliphatic hydrocarbon lubricants are known, and the main role of such lubricants is that they are adsorbed on the surface of the protective layer. To prevent the magnetic head slider from directly contacting the protective layer, and to significantly reduce the frictional force of the magnetic head slider sliding on the magnetic recording medium.

【0007】ここで、図5及び図6を参照して、従来の
潤滑剤塗布処理装置を説明する。 図5参照 図5は、従来の潤滑剤塗布処理装置の概念的斜視図であ
り、磁気ディスク基板23に潤滑剤塗布溶液22を薄く
塗布して潤滑剤層を形成する場合、複数枚の磁気ディス
ク基板23をディスク保持アーム24で保持し、ディス
ク保持アーム24を下降させて磁気ディスク基板23を
潤滑剤塗布処理槽21に収容された潤滑剤塗布溶液22
中に浸漬したのち、ゆっくり引き上げることによって行
われている。
Here, a conventional lubricant coating apparatus will be described with reference to FIGS. 5 and 6. FIG. FIG. 5 is a conceptual perspective view of a conventional lubricant coating apparatus. When a lubricant coating solution 22 is thinly applied to a magnetic disk substrate 23 to form a lubricant layer, a plurality of magnetic disks are formed. The substrate 23 is held by the disk holding arm 24, and the disk holding arm 24 is lowered to move the magnetic disk substrate 23 into the lubricant application solution 22 stored in the lubricant application processing tank 21.
It is performed by immersing it and then slowly pulling it up.

【0008】この場合、引上げ機構(図示を省略)を用
いてディスク保持アーム24を、例えば、1.0mm/
秒の一定の引上げ速度でゆっくりと引き上げることによ
って、磁気ディスク基板23の表面に残った溶媒を蒸発
させて、厚さが、10〜90Å程度の潤滑剤層を形成し
ていた。
In this case, the disk holding arm 24 is moved to, for example, 1.0 mm / mm by using a pulling mechanism (not shown).
The solvent remaining on the surface of the magnetic disk substrate 23 was evaporated by slowly pulling it up at a constant pulling speed of seconds to form a lubricant layer having a thickness of about 10 to 90 °.

【0009】この様な潤滑剤塗布工程は、複数枚の磁気
ディスク基板23を一括処理するとともに、この様な処
理を同じ潤滑剤塗布溶液22を用いて複数回処理するの
が通常である。
In such a lubricant application step, a plurality of magnetic disk substrates 23 are generally processed at one time, and such processing is generally performed a plurality of times using the same lubricant application solution 22.

【0010】一方、潤滑剤塗布工程の前工程は磁性膜や
保護膜のスパッタ工程等の成膜工程や、成膜工程に伴う
基板表面の異常突起等を除去するためのポリッシング工
程、或いは、砥粒を付着したテープによるポリッシング
工程等であり、この工程において、磁気ディスク基板2
3の表面上に異物が付着しやすくなるが、近年の磁気記
録媒体の高記録密度化に伴って、サブミクロンオーダー
のパーティクルの付着が問題となってきている。
On the other hand, a pre-process before the lubricant application process is a film forming process such as a sputtering process of a magnetic film or a protective film, a polishing process for removing abnormal projections and the like on the substrate surface accompanying the film forming process, or a polishing process. A polishing process using a tape with particles attached thereto. In this process, the magnetic disk substrate 2
Foreign matter tends to adhere to the surface of the magnetic recording medium 3, but with the recent increase in the recording density of magnetic recording media, the adhesion of submicron-order particles has become a problem.

【0011】この様に磁気ディスク基板23の表面に付
着したパーティクルは、潤滑剤塗布工程にそのまま持ち
込まれて、潤滑剤塗布溶液22に磁気ディスク基板23
が浸漬されるとパーティクルは潤滑剤塗布溶液22内に
分散するとともに、その一部は液面へ行き、磁気ディス
ク基板23が液面から引き上げられる際に、再付着する
可能性があり、パーティクルが付着すると製造歩留りが
低下するという問題がある。
The particles adhering to the surface of the magnetic disk substrate 23 are brought into the lubricant applying step as they are and are added to the lubricant applying solution 22 by the magnetic disk substrate 23.
Is immersed, the particles are dispersed in the lubricant application solution 22, and a part of the particles goes to the liquid surface, and when the magnetic disk substrate 23 is pulled up from the liquid surface, there is a possibility that the particles will be re-attached, If attached, there is a problem that the production yield is reduced.

【0012】この様な潤滑剤塗布溶液22内に持ち込ま
れたパーティクルは、塗布処理回数を増す毎に槽内に蓄
積していき、徐々に磁気ディスク基板23に再付着する
パーティクル数は増加する傾向となる。この様な潤滑剤
塗布処理槽21内のパーティクルの再付着の問題に関し
ては、潤滑剤塗布処理槽21内の潤滑剤塗布溶液22を
循環濾過することで対処してるのが現状であるので、こ
こで、図6を参照して従来の循環濾過方法を説明する。
The particles brought into the lubricant application solution 22 accumulate in the tank each time the number of times of the application processing increases, and the number of particles re-adhering to the magnetic disk substrate 23 gradually increases. Becomes At present, the problem of reattachment of particles in the lubricant coating tank 21 is dealt with by circulating and filtering the lubricant coating solution 22 in the lubricant coating tank 21. Now, a conventional circulation filtration method will be described with reference to FIG.

【0013】図6参照 図6は、従来の潤滑剤塗布処理装置の概念的構成図であ
り、潤滑剤塗布処理槽21は、主塗布処理槽25と循環
用槽26とによって構成されており、主塗布処理槽25
からオーバーフローした潤滑剤塗布溶液22は循環用槽
26に流れ込み、循環用槽26の底部に設けた槽内排出
口27から排出し、フィルタ28で濾過したのち循環ポ
ンプ29によって主塗布処理槽25の底部に設けた供給
口30から主塗布処理槽25に供給することによって、
潤滑剤塗布溶液22を循環させている。
FIG. 6 is a conceptual configuration diagram of a conventional lubricant application processing apparatus. The lubricant application processing tank 21 includes a main coating processing tank 25 and a circulation tank 26. Main coating tank 25
The lubricant application solution 22 overflowing from the tank flows into the circulation tank 26, is discharged from the tank outlet 27 provided at the bottom of the circulation tank 26, is filtered by the filter 28, and is filtered by the circulation pump 29 into the main coating tank 25. By supplying to the main coating tank 25 from the supply port 30 provided at the bottom,
The lubricant application solution 22 is circulated.

【0014】この場合、磁気ディスク基板23によって
持ち込まれたパーティクル31は底部に設けられた供給
口30供給された潤滑剤塗布溶液22の液流によって液
面付近に移動し、主塗布処理槽25からオーバーフロー
する潤滑剤塗布溶液22とともに循環用槽26に流れ込
み、フィルタ28で濾過されることになる。
In this case, the particles 31 carried by the magnetic disk substrate 23 move near the liquid surface by the flow of the lubricant application solution 22 supplied to the supply port 30 provided at the bottom, and are moved from the main application tank 25. It flows into the circulation tank 26 together with the overflowing lubricant application solution 22, and is filtered by the filter 28.

【0015】この場合、主塗布処理槽25の槽容量に対
して適度な循環濾過流量を取れば、連続処理を行っても
槽内のパーティクル数はほぼ一定で安定することにな
る。例えば、この様な循環濾過型の潤滑剤塗布処理装置
における1μm以上のパーティクルのパーティクル数の
増減は±10個以内であった。
In this case, if an appropriate circulation filtration flow rate is set with respect to the tank capacity of the main coating tank 25, the number of particles in the tank becomes almost constant and stable even if continuous processing is performed. For example, in such a circulation filtration type lubricant coating apparatus, the increase or decrease in the number of particles of 1 μm or more was within ± 10.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかし、潤滑剤層の膜
厚を一定値にするためには、磁気ディスク基板23を液
面から一定の速度で引き上げる必要があるが、噴流型の
潤滑剤塗布処理装置においては、潤滑剤塗布溶液をオー
バーフローさせる必要から液面が波立ってしまい、この
液面の波立ちが潤滑剤層の膜厚に影響を与えるという問
題がある。特に、磁気記録媒体の高記録密度化に伴って
潤滑剤層の膜厚が10Å程度に薄層化した場合には、許
容される膜厚の分布は±2Å程度となり、液面の波立ち
が問題となる。
However, in order to make the thickness of the lubricant layer constant, it is necessary to pull up the magnetic disk substrate 23 from the liquid surface at a constant speed. In the processing apparatus, there is a problem in that the liquid surface undulates because the lubricant application solution needs to overflow, and the undulation of the liquid surface affects the thickness of the lubricant layer. In particular, when the thickness of the lubricant layer is reduced to about 10 mm with the increase in the recording density of the magnetic recording medium, the allowable thickness distribution becomes about ± 2 mm, and the liquid surface has a problem of waviness. Becomes

【0017】この様な液面の波立ちの問題を解決するた
めには、循環濾過流量を少なくすれば良く、例えば、槽
容量が10リットルの場合、循環濾過流量を1リットル
/分以下に設定した場合には、液面状態は潤滑剤層の膜
厚にほとんど影響を与えることがない。
In order to solve such a problem of the liquid surface waving, the circulation filtration flow rate may be reduced. For example, when the tank capacity is 10 liters, the circulation filtration flow rate is set to 1 liter / min or less. In this case, the liquid surface state hardly affects the thickness of the lubricant layer.

【0018】しかし、この様な循環濾過流量は、量産時
に適用した場合には、適正値よりも低くなり、この程度
の循環濾過流量でパーティクルの増加を抑えるのは不十
分であり、槽内のパーティクル数は連続処理回数に比例
して増加するという問題がある。
However, such a circulating filtration flow rate is lower than an appropriate value when applied during mass production, and it is not sufficient to suppress the increase of particles at such a circulating filtration flow rate. There is a problem that the number of particles increases in proportion to the number of continuous processes.

【0019】なお、塗布工程前の磁気ディスク基板23
の表面に付着したパーティクルを除去するためには、塗
布工程前に磁気ディスク基板23の表面を洗浄処理すれ
ば良いが、そうすると、製造工程が増加するという問題
があり、さらに、洗浄液を用いた場合には、磁気ディス
ク基板23の表面に所謂ウォータマークができ製造歩留
りに影響を与えるという問題がある。
The magnetic disk substrate 23 before the coating step
In order to remove the particles attached to the surface of the magnetic disk substrate 23, the surface of the magnetic disk substrate 23 may be cleaned before the coating step. However, there is a problem that the number of manufacturing steps is increased. However, there is a problem that a so-called watermark is formed on the surface of the magnetic disk substrate 23 and affects the manufacturing yield.

【0020】したがって、本発明は、循環濾過流量を低
減することなく、パーティクル数の増加を防止するとと
もに、液面の波立ちを防止することを目的とする。
Accordingly, it is an object of the present invention to prevent the number of particles from increasing and to prevent the liquid surface from waving without reducing the circulation filtration flow rate.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理的構
成の説明図であり、この図1を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明する。 図1参照 上述の課題を解決するために、本発明においては、基板
3、特に、磁気ディスク媒体の表面に潤滑剤を塗布する
場合、潤滑剤を塗布するための処理液2を液面に影響を
与えない液面下部から供給してダウンフロー方式で循環
濾過させることを特徴とする。
FIG. 1 is an explanatory view of the principle configuration of the present invention. Referring to FIG. 1, means for solving the problems in the present invention will be described. See FIG. 1 In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, when a lubricant is applied to the surface of the substrate 3, especially the surface of the magnetic disk medium, the processing liquid 2 for applying the lubricant affects the liquid level. And is supplied from the lower part of the liquid surface where the water is not supplied, and is circulated and filtered by a down flow method.

【0022】この様に、処理液2を循環用ポンプ9を用
いてダウンフロー方式で循環濾過させることによって、
基板3から遊離したパーティクル5は処理液2の流れに
巻き込まれて底部に設けた槽内排出口6側に向かい、上
方の液面に到達する可能性が高くなり、基板3の引上げ
時にパーティクル5が基板3に再付着することが低減さ
れる。また、処理液2の供給口7を液面に影響を与えな
い液面下部、例えば、液面から10〜20mm程度下方
に設けているので、液面が波立つことがなく、したがっ
て、潤滑剤層の膜厚を均一にすることができる。
As described above, the processing liquid 2 is circulated and filtered by the down-flow method using the circulating pump 9, whereby
The particles 5 released from the substrate 3 are likely to be entrained in the flow of the processing liquid 2 toward the discharge port 6 in the bottom provided at the bottom and reach the upper liquid level. Is reduced on the substrate 3. In addition, since the supply port 7 of the processing liquid 2 is provided below the liquid surface that does not affect the liquid surface, for example, about 10 to 20 mm below the liquid surface, the liquid surface does not undulate, and therefore, the lubricant The thickness of the layer can be made uniform.

【0023】また、本発明においては、潤滑剤塗布処理
槽1内に、超音波発信機構を設けることを特徴とし、特
に、併せて、基板3の揺動機構を設けたことを特徴とす
る。
Further, the present invention is characterized in that an ultrasonic wave transmitting mechanism is provided in the lubricant coating tank 1, and in particular, a swinging mechanism of the substrate 3 is provided.

【0024】この様に、潤滑剤塗布処理槽1内に超音波
発信機構を設けることによって、パーティクル5の基板
3からの遊離が促進されるので、フィルタ8によるパー
ティクル除去効果をより大きくすることができる。
As described above, the provision of the ultrasonic wave transmitting mechanism in the lubricant coating tank 1 promotes the separation of the particles 5 from the substrate 3, so that the effect of removing the particles by the filter 8 can be further enhanced. it can.

【0025】また、超音波が定在波となった場合には、
部分的にパーティクル5が遊離しずらくなるので、基板
保持具4を上下動させて基板3を揺動することによっ
て、超音波によるパーティクル5の遊離効果が顕著に発
揮されることになる。
When the ultrasonic wave becomes a standing wave,
Since the particles 5 are hard to be partially released, the effect of releasing the particles 5 by the ultrasonic waves is remarkably exhibited by vertically moving the substrate holder 4 and swinging the substrate 3.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】ここで、図2を参照して、本発明
の第1の実施の形態を説明する。 図2参照 図2は、本発明の第1の実施の形態の潤滑剤塗布処理装
置の概念的構成図であり、潤滑剤塗布処理装置は、潤滑
剤塗布溶液12を収容するとともに槽内排出口15及び
供給口18を備えた潤滑剤塗布処理槽11、槽内排出口
15から排出された潤滑剤塗布溶液12を濾過するフィ
ルタ16、潤滑剤塗布溶液12を供給口18から供給し
て循環させる循環用ポンプ17、磁気ディスク基板13
を保持するとともに、上下動して磁気ディスク基板13
の潤滑剤塗布溶液12への浸漬、引上げを行うディスク
保持アーム14を備えている。なお、供給口18の位置
が、液面より10〜20mm下方になるように、潤滑剤
塗布溶液12を潤滑剤塗布処理槽11に収容すれば良
く、また、この場合の循環濾過流量は、例えば、1リッ
トル/分とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Here, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a conceptual configuration diagram of a lubricant application processing apparatus according to the first embodiment of the present invention. The lubricant application processing apparatus accommodates a lubricant application solution 12 and a discharge port in a tank. A lubricant application tank 11 having a supply port 15 and a supply port 18, a filter 16 for filtering the lubricant application solution 12 discharged from the discharge port 15 in the tank, and a supply and circulation of the lubricant application solution 12 from the supply port 18. Circulation pump 17, magnetic disk substrate 13
While moving up and down to move the magnetic disk substrate 13
A disk holding arm 14 is provided for dipping in the lubricant application solution 12 and pulling it up. The lubricant application solution 12 may be accommodated in the lubricant application tank 11 so that the position of the supply port 18 is 10 to 20 mm below the liquid level. In this case, the circulating filtration flow rate is, for example, 1 l / min.

【0027】この場合の磁気ディスク基板13は、例え
ば、スパッタリング方法を用いて、2.5インチ(≒
6.35cm)のガラス基板上にNiP下地層を介して
厚さが、例えば、20nmのCoCrPt磁気記録層を
設け、次いで、プラズマCVD法を用いて、CoCrP
t磁気記録層上に厚さが、例えば、6nmのDLC保護
層を堆積させたものである。
In this case, the magnetic disk substrate 13 is formed, for example, by 2.5 inches (≒
A CoCrPt magnetic recording layer having a thickness of, for example, 20 nm is provided on a 6.35 cm) glass substrate with a NiP underlayer interposed therebetween, and then a CoCrPt layer is formed by plasma CVD.
t A DLC protective layer having a thickness of, for example, 6 nm is deposited on the magnetic recording layer.

【0028】また、潤滑剤塗布溶液12としては、例え
ば、フッ素系の潤滑剤であるピペロニル基を末端に持つ
パーフルオロポリエーテル、具体的は、Fomblin
(商標名)AM3001(アウジモント社製商品名)
を、溶媒であるフロリナート(商標名)FC77(住友
3M社製商品名)に溶解させたものを用いた。
The lubricant coating solution 12 is, for example, a perfluoropolyether having a piperonyl group at a terminal, which is a fluorine-based lubricant, specifically, Fomblin.
(Trade name) AM3001 (trade name, manufactured by Ausimont)
Was dissolved in a solvent, Fluorinert (trade name) FC77 (trade name, manufactured by Sumitomo 3M).

【0029】この様な潤滑剤塗布処理装置において、潤
滑剤塗布溶液12をダウンフロー方式で循環濾過させな
がら、ディスク保持アーム14を下降させて磁気ディス
ク基板13を潤滑剤塗布処理槽11内に収容した潤滑剤
塗布溶液12中に、例えば、30秒間浸漬して、次い
で、例えば、1.0mm/秒の引上げ速度で引き上げる
ことによって、磁気ディスク基板13の表面を膜厚が、
例えば、5〜50Å、例えば10Åの潤滑剤層でコート
する。
In such a lubricant coating apparatus, the disk holding arm 14 is lowered to accommodate the magnetic disk substrate 13 in the lubricant coating tank 11 while circulating and filtering the lubricant coating solution 12 in a downflow manner. For example, by dipping in the lubricant application solution 12 for 30 seconds, and then pulling up at a pulling speed of, for example, 1.0 mm / sec, the film thickness of the surface of the magnetic disk substrate 13 becomes
For example, it is coated with a lubricant layer of 5 to 50 degrees, for example, 10 degrees.

【0030】この場合、磁気ディスク基板13によって
潤滑剤塗布溶液12中に持ち込まれたパーティクル19
は潤滑剤塗布溶液12の下向きの流れに巻き込まれて槽
内排出口15側に移動し、フィルタ16で濾過されるこ
とになる。因に、この潤滑剤塗布処理装置で循環濾過処
理を行った場合に、1μm以上のパーティクルの数の増
減は−20〜−40個であった。
In this case, the particles 19 brought into the lubricant application solution 12 by the magnetic disk substrate 13
Is trapped in the downward flow of the lubricant application solution 12, moves to the discharge port 15 in the tank, and is filtered by the filter 16. Incidentally, when the circulating filtration process was performed by this lubricant coating apparatus, the number of particles having a size of 1 μm or more increased or decreased by -20 to -40.

【0031】したがって、パーティクル19が液面へ拡
散移動する確率が小さくなるので、液面近傍におけるパ
ーティクル19の数は減少し、磁気ディスク基板13を
引き上げる際に、磁気ディスク基板13の表面にパーテ
ィクル19が再付着することを抑制することができる。
Therefore, the probability of the particles 19 diffusing and moving to the liquid surface decreases, so that the number of the particles 19 near the liquid surface decreases, and when the magnetic disk substrate 13 is lifted, the particles 19 adhere to the surface of the magnetic disk substrate 13. Can be prevented from re-adhering.

【0032】また、潤滑剤塗布溶液12の供給口18を
液面より10〜20mm下方にしているので、供給口1
8から流入した潤滑剤塗布溶液12によって液面が波立
つことがなく、したがって、磁気ディスク基板13に塗
布される潤滑剤層の膜厚を均一にすることができる。
Further, since the supply port 18 of the lubricant application solution 12 is located 10 to 20 mm below the liquid level, the supply port 1
The surface of the lubricant is not waved by the lubricant application solution 12 flowing from the nozzle 8, so that the thickness of the lubricant layer applied to the magnetic disk substrate 13 can be made uniform.

【0033】次に、図3を参照して、本発明の第2の実
施の形態を説明する。 図3参照 図3は、本発明の第2の実施の形態の潤滑剤塗布処理装
置の概念的構成図であり、上記の第1の実施の形態の潤
滑剤塗布処理装置の潤滑剤塗布処理槽11内に超音波発
振器20を設けたもので、その他の構成は上記の第1の
実施の形態の潤滑剤塗布処理装置と全く同様の構成であ
るので構成の説明は省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a conceptual configuration diagram of a lubricant application processing apparatus according to a second embodiment of the present invention. The lubricant application processing tank of the lubricant application processing apparatus according to the first embodiment described above. 11 is provided with an ultrasonic oscillator 20, and the other configuration is exactly the same as that of the lubricant application processing apparatus of the first embodiment, so that the description of the configuration is omitted.

【0034】この第2の実施の形態においては、磁気デ
ィスク基板13を潤滑剤塗布溶液12に浸漬した状態で
超音波発振器20から超音波を磁気ディスク基板13に
向けて照射することによって、磁気ディスク基板13の
表面に付着したパーティクル19が遊離しやすくなり、
遊離したパーティクル19は下方向に向かう水流により
槽外に排出されてフィルタ16によてフィルタリング処
理されるので、パーティクル19の除去効果が高まる。
In the second embodiment, the ultrasonic wave is emitted from the ultrasonic oscillator 20 toward the magnetic disk substrate 13 while the magnetic disk substrate 13 is immersed in the lubricant application solution 12, so that the magnetic disk Particles 19 attached to the surface of the substrate 13 are easily released,
The separated particles 19 are discharged out of the tank by the downward water flow and are filtered by the filter 16, so that the effect of removing the particles 19 is enhanced.

【0035】この場合の超音波の出力及び周波数は、パ
ーティクル19のサイズによって変化させることが望ま
しく、例えば、パーティクル19のサイズが小さくなる
につれて、周波数は高くする方向に変化させれば良い。
なお、超音波によって液面が多少波立つ場合には、磁気
ディスク基板13の引上げ時に超音波発振器20を停止
すれば良い。
In this case, it is desirable that the output and frequency of the ultrasonic wave be changed depending on the size of the particle 19, for example, the frequency may be changed in a direction to increase as the size of the particle 19 decreases.
If the liquid surface is slightly waved by the ultrasonic waves, the ultrasonic oscillator 20 may be stopped when the magnetic disk substrate 13 is pulled up.

【0036】次に、図4を参照して、本発明の第3の実
施の形態を説明する。 図4参照 図4は、本発明の第3の実施の形態の潤滑剤塗布処理装
置の概念的構成図であり、上記の第2の実施の形態の潤
滑剤塗布処理装置のディスク保持アーム14の上下動機
構を用いて磁気ディスク基板13を上下に揺動するよう
にしたものであり、その他の構成は上記の第2の実施の
形態の潤滑剤塗布処理装置と全く同様の構成であるので
構成の説明は省略する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a conceptual configuration diagram of a lubricant application processing apparatus according to a third embodiment of the present invention. The disk holding arm 14 of the lubricant application processing apparatus according to the second embodiment described above. The vertical movement mechanism is used to swing the magnetic disk substrate 13 up and down, and the other configuration is exactly the same as that of the lubricant application processing apparatus of the second embodiment. Is omitted.

【0037】この第3の実施の形態においては、磁気デ
ィスク基板13を潤滑剤塗布溶液12に浸漬した状態で
超音波発振器20から超音波を磁気ディスク基板13に
向けて照射しながら、ディスク保持アーム14の上下動
機構を用いて磁気ディスク基板13を上下に、1〜2c
m/秒の速度で揺動するものである。
In the third embodiment, while the magnetic disk substrate 13 is immersed in the lubricant application solution 12 and the ultrasonic oscillator 20 irradiates the ultrasonic waves toward the magnetic disk substrate 13, the disk holding arm 14 to move the magnetic disk substrate 13 up and down by 1 to 2c.
It swings at a speed of m / sec.

【0038】即ち、超音波を磁気ディスク基板13に向
けて照射した場合、定在波が立つ場合があり、定在波が
立つと磁気ディスク基板13の一部の表面においてパー
ティクル19が遊離しにくくなるので、磁気ディスク基
板13を上下に揺動することによって定在波の発生を防
止し、それによって、磁気ディスク基板13の表面に付
着したパーティクル19がより遊離しやすくなる。
That is, when the ultrasonic wave is applied to the magnetic disk substrate 13, a standing wave may be generated. When the standing wave is generated, the particles 19 are hardly released on a part of the surface of the magnetic disk substrate 13. Therefore, the standing wave is prevented from being generated by swinging the magnetic disk substrate 13 up and down, whereby the particles 19 attached to the surface of the magnetic disk substrate 13 are more easily released.

【0039】以上、本発明の各実施の形態を説明してき
たが、本発明は各実施の形態に記載された構成・条件に
限られるものではなく、各種の変更が可能である。例え
ば、上記の各実施の形態においては、槽内排出口15を
潤滑剤塗布処理槽11の底部に設けているが、かならず
しも底部に限られるものではなく、潤滑剤塗布処理槽1
1の下部の側面に設けても良いものである。
The embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the configurations and conditions described in each embodiment, and various modifications are possible. For example, in each of the above-described embodiments, the in-tank discharge port 15 is provided at the bottom of the lubricant coating tank 11, but is not necessarily limited to the bottom.
1 may be provided on the lower side surface.

【0040】また、上記の各実施の形態においては、槽
内排出口15から排出された潤滑剤塗布溶液12を直接
循環させてフィルタ16によってフィルタリング処理さ
せているが、一旦、温度制御機構を備えた潤滑剤塗布溶
液タンクに排出し、潤滑剤塗布溶液タンクにおいて温度
制御したのち、循環させてフィルタ16によってフィル
タリング処理させても良いものである。
Further, in each of the above embodiments, the lubricant application solution 12 discharged from the discharge port 15 in the tank is directly circulated and subjected to the filtering process by the filter 16, but the temperature control mechanism is once provided. After being discharged to the lubricant application solution tank, the temperature is controlled in the lubricant application solution tank, and then circulated to be filtered by the filter 16.

【0041】また、上記の各実施の形態においては、潤
滑剤の塗布対象が磁気ディスク基板であるが、必ずしも
磁気ディスク基板に限られるものではなく、薄い板状基
板の表面に薄い潤滑剤を塗布する場合に適用されるもの
である。
In each of the above embodiments, the lubricant is applied to the magnetic disk substrate. However, the present invention is not limited to the magnetic disk substrate, and a thin lubricant may be applied to the surface of a thin plate-shaped substrate. It is applied when it does.

【0042】ここで、再び図1を参照して、本発明の付
記を説明する。 図1参照 (付記1) 基板3の表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗
布処理装置において、処理液2を循環濾過するための槽
内排出口6を潤滑剤塗布処理槽1の下部に設けるととも
に、供給口7を液面状態に影響を与えない液面下部に設
けたことを特徴とする潤滑剤塗布処理装置。 (付記2) 上記供給口7を、液面から10〜20mm
下に設けたことを特徴とする付記1記載の潤滑剤塗布処
理装置。 (付記3) 上記潤滑剤塗布処理槽1内に超音波発信機
構を設けたことを特徴とする付記1または2に記載の潤
滑剤塗布処理装置。 (付記4) 上記基板3を揺動する揺動機構を設けたこ
とを特徴とする付記3記載の潤滑剤塗布処理装置。 (付記5) 基板3の表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗
布処理方法において、液面状態に影響を与えない液面下
部に設けた供給口7から処理液2を供給するとともに、
潤滑剤塗布処理槽1の下部に設けた槽内排出口6から排
出して循環濾過しながら、前記潤滑剤塗布処理槽1に収
容した処理液2に基板3を浸漬したのち、前記基板3を
引き上げることを特徴とする潤滑剤塗布処理方法。 (付記6) 上記潤滑剤塗布処理槽1において上記処理
液2に超音波振動を与えた状態で、上記基板3を処理液
2内に浸漬することを特徴とする付記5記載の潤滑剤塗
布処理方法。 (付記7) 上記潤滑剤塗布処理槽1において上記処理
液2に超音波振動を与えた状態で、上記基板3を処理液
2内で揺動することを特徴とする付記6記載の潤滑剤塗
布処理方法。 (付記8) 磁気ディスク媒体の表面に潤滑剤を塗布す
る潤滑剤塗布方法において、液面状態に影響を与えない
液面下部に設けた供給口7から処理液2を供給するとと
もに、潤滑剤塗布処理槽1の下部に設けた槽内排出口6
から排出して循環濾過しながら、前記潤滑剤塗布処理槽
1に収容した処理液2に磁気ディスク媒体を浸漬したの
ち、前記磁気ディスク媒体を引き上げることを特徴とす
る磁気ディスク媒体への潤滑剤塗布方法。
Here, with reference to FIG. 1 again, additional notes of the present invention will be described. See FIG. 1 (Supplementary Note 1) In a lubricant application processing apparatus for applying a lubricant to the surface of the substrate 3, a discharge port 6 in the tank for circulating and filtering the processing liquid 2 is provided at a lower portion of the lubricant application processing tank 1. Wherein the supply port 7 is provided below the liquid surface which does not affect the liquid surface state. (Supplementary Note 2) The supply port 7 is set at 10 to 20 mm from the liquid level.
The lubricant coating apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is provided below. (Supplementary Note 3) The lubricant application processing apparatus according to Supplementary Note 1 or 2, wherein an ultrasonic transmission mechanism is provided in the lubricant application treatment tank 1. (Supplementary Note 4) The lubricant application processing device according to Supplementary Note 3, wherein a swing mechanism for swinging the substrate 3 is provided. (Supplementary Note 5) In the lubricant application processing method of applying a lubricant to the surface of the substrate 3, the processing liquid 2 is supplied from a supply port 7 provided at a lower portion of the liquid surface which does not affect the liquid surface state.
After the substrate 3 is immersed in the processing liquid 2 contained in the lubricant coating tank 1 while being circulated and filtered through the tank discharge port 6 provided in the lower part of the lubricant coating tank 1, the substrate 3 is removed. A method for applying a lubricant, wherein the method is applied. (Supplementary Note 6) The lubricant applying process according to Supplementary Note 5, wherein the substrate 3 is immersed in the treatment liquid 2 in a state where the treatment liquid 2 is subjected to ultrasonic vibration in the lubricant application treatment tank 1. Method. (Supplementary Note 7) The lubricant application according to Supplementary Note 6, wherein the substrate 3 is oscillated in the treatment liquid 2 in a state where the treatment liquid 2 is subjected to ultrasonic vibration in the lubricant application treatment tank 1. Processing method. (Supplementary Note 8) In a lubricant applying method for applying a lubricant to the surface of a magnetic disk medium, the processing liquid 2 is supplied from a supply port 7 provided at a lower portion of the liquid surface which does not affect the liquid surface state, and the lubricant is applied. Outlet 6 in the tank provided at the lower part of the processing tank 1
The magnetic disk medium is immersed in the processing liquid 2 contained in the lubricant application processing tank 1 while being circulated and filtered, and then the magnetic disk medium is pulled up. Method.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば、循環濾過型の潤滑剤塗
布処理装置をダウンフロー方式で構成しているので、循
環濾過流量を多くしても液面が波立つことがなく、それ
によって、磁気ディスク基板の引上げ時にパーティクル
が再付着することがなく、且つ、潤滑剤層の膜厚を均一
にすることができるので、磁気ディスク媒体の製造歩留
りを向上することができるとともに、ハードディスク装
置等の信頼性の向上に寄与するところが大きい。
According to the present invention, since the circulation filtration type lubricant coating apparatus is constituted by the down flow system, the liquid surface does not undulate even if the circulation filtration flow rate is increased. Since the particles do not adhere again when the magnetic disk substrate is pulled up and the thickness of the lubricant layer can be made uniform, the production yield of the magnetic disk medium can be improved, and the hard disk drive and the like can be improved. Greatly contributes to the improvement of the reliability of

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の原理的構成の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a basic configuration of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態の潤滑剤塗布処理装
置の概念的構成図である。
FIG. 2 is a conceptual configuration diagram of a lubricant application processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態の潤滑剤塗布処理装
置の概念的構成図である。
FIG. 3 is a conceptual configuration diagram of a lubricant application processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施の形態の潤滑剤塗布処理装
置の概念的構成図である。
FIG. 4 is a conceptual configuration diagram of a lubricant application processing device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】従来の潤滑剤塗布処理装置の概念的斜視図であ
る。
FIG. 5 is a conceptual perspective view of a conventional lubricant application processing apparatus.

【図6】従来の潤滑剤塗布処理装置の概念的構成図であ
る。
FIG. 6 is a conceptual configuration diagram of a conventional lubricant application processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 潤滑剤塗布処理槽 2 処理液 3 基板 4 基板保持具 5 パーティクル 6 槽内排出口 7 供給口 8 フィルタ 9 循環用ポンプ 11 潤滑剤塗布処理槽 12 潤滑剤塗布溶液 13 磁気ディスク基板 14 ディスク保持アーム 15 槽内排出口 16 フィルタ 17 循環用ポンプ 18 供給口 19 パーティクル 20 超音波発振器 21 潤滑剤塗布処理槽 22 潤滑剤塗布溶液 23 磁気ディスク基板 24 ディスク保持アーム 25 主塗布処理槽 26 循環用槽 27 槽内排出口 28 フィルタ 29 循環用ポンプ 30 供給口 31 パーティクル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lubricant application processing tank 2 Processing liquid 3 Substrate 4 Substrate holder 5 Particle 6 Outlet in tank 7 Supply port 8 Filter 9 Circulation pump 11 Lubricant application processing tank 12 Lubricant application solution 13 Magnetic disk substrate 14 Disk holding arm Reference Signs List 15 Outlet in tank 16 Filter 17 Circulation pump 18 Supply port 19 Particle 20 Ultrasonic oscillator 21 Lubricant coating tank 22 Lubricant coating solution 23 Magnetic disk substrate 24 Disk holding arm 25 Main coating tank 26 Circulating tank 27 Tank Internal discharge port 28 Filter 29 Circulation pump 30 Supply port 31 Particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 5/84 G11B 5/84 B Fターム(参考) 4D075 AB02 AB12 AB36 AB41 CA47 DA06 DB14 DC22 DC28 EA37 4F040 AA12 AC02 BA47 CC02 CC08 CC10 CC16 4F042 AA08 CB20 CB25 CC07 CC22 5D112 AA07 AA24 BC01 CC01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11B 5/84 G11B 5/84 BF Term (Reference) 4D075 AB02 AB12 AB36 AB41 CA47 DA06 DB14 DC22 DC28 EA37 4F040 AA12 AC02 BA47 CC02 CC08 CC10 CC16 4F042 AA08 CB20 CB25 CC07 CC22 5D112 AA07 AA24 BC01 CC01

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗
布処理装置において、処理液を循環濾過するための槽内
排出口を潤滑剤塗布処理槽の下部に設けるとともに、供
給口を液面状態に影響を与えない液面下部に設けたこと
を特徴とする潤滑剤塗布処理装置。
In a lubricant coating apparatus for applying a lubricant to a surface of a substrate, an outlet in a tank for circulating and filtering a processing liquid is provided at a lower portion of the lubricant coating tank, and a supply port is provided at a liquid level. A lubricant application treatment device provided below a liquid surface which does not affect the state.
【請求項2】 基板の表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗
布処理方法において、液面状態に影響を与えない液面下
部に設けた供給口から処理液を供給するとともに、潤滑
剤塗布処理槽の下部に設けた槽内排出口から排出して循
環濾過しながら、前記潤滑剤塗布処理槽に収容した処理
液に基板を浸漬したのち、前記基板を引き上げることを
特徴とする潤滑剤塗布処理方法。
2. A method for applying a lubricant to a surface of a substrate, comprising: supplying a processing liquid from a supply port provided at a lower portion of the liquid surface which does not affect a liquid surface state; A lubricant application processing method, comprising: immersing a substrate in a processing liquid contained in the lubricant application processing tank while discharging and circulating filtration through a discharge port in a tank provided at a lower part of the tank; and then lifting the substrate. .
【請求項3】 磁気ディスク媒体の表面に潤滑剤を塗布
する潤滑剤塗布方法において、液面状態に影響を与えな
い液面下部に設けた供給口から処理液を供給するととも
に、潤滑剤塗布処理槽の下部に設けた槽内排出口から排
出して循環濾過しながら、前記潤滑剤塗布処理槽に収容
した処理液に磁気ディスク媒体を浸漬したのち、前記磁
気ディスク媒体を引き上げることを特徴とする磁気ディ
スク媒体への潤滑剤塗布方法。
3. A lubricant applying method for applying a lubricant to a surface of a magnetic disk medium, wherein a processing liquid is supplied from a supply port provided at a lower portion of the liquid surface which does not affect a liquid surface state, and a lubricant applying process is performed. The magnetic disk medium is immersed in the processing liquid contained in the lubricant application processing tank while being circulated and filtered through a discharge port in the tank provided at the lower part of the tank, and then the magnetic disk medium is pulled up. A method of applying a lubricant to a magnetic disk medium.
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