JP2001318279A - Package for semiconductor laser module, and method for manufacturing the same - Google Patents

Package for semiconductor laser module, and method for manufacturing the same

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JP2001318279A
JP2001318279A JP2000137750A JP2000137750A JP2001318279A JP 2001318279 A JP2001318279 A JP 2001318279A JP 2000137750 A JP2000137750 A JP 2000137750A JP 2000137750 A JP2000137750 A JP 2000137750A JP 2001318279 A JP2001318279 A JP 2001318279A
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JP
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bottom plate
frame
semiconductor laser
package
laser module
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JP2000137750A
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Katsunori Suzuki
克典 鈴木
Takuo Aoshima
拓男 青島
Katsuhiko Kosugi
勝彦 小杉
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Original Assignee
Yamaha Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To decrease changes in the optical characteristics of the semiconductor laser module owing to changes in the ambient temperature. By improving the airtightness of a package for a semiconductor laser module. SOLUTION: A bottom plate 16 and a frame 11, constituting the package for a semiconductor laser module, are made of a copper-tungsten alloy or a copper-molybdenum ally. The surface of these parts are subjected to electroless nickel plating and then jointed by using a brazing material or through direct heating.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信装置などに
使用する高出力半導体レーザ素子と光ファイバとの結合
器である高出力の半導体レーザモジュールを収容するパ
ッケージに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a package for accommodating a high-power semiconductor laser module which is a coupler between an optical fiber and a high-power semiconductor laser device used in an optical communication device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光信号を直接増幅する光増幅器が
開発され、特にエルビウム光ファイバを用いた光増幅器
が注目されている。この光増幅器は、エルビウム元素の
ドープされた光ファイバにレーザ光を注入すると、信号
光が増幅されるという原理により、その増幅度は注入す
るレーザ光の出力の大きさによる。このような光増幅器
のレーザ光源としては、半導体レーザ素子が用いられ、
この半導体レーザ素子とレンズなどをパッケージ内に一
体的に収容して半導体レーザモジュールを構成し、この
半導体レーザモジュールを光ファイバに結合するように
なされている。
2. Description of the Related Art In recent years, optical amplifiers for directly amplifying optical signals have been developed. In particular, optical amplifiers using erbium optical fibers have attracted attention. This optical amplifier is based on the principle that when laser light is injected into an optical fiber doped with an erbium element, signal light is amplified, and the degree of amplification depends on the output power of the injected laser light. As a laser light source of such an optical amplifier, a semiconductor laser element is used,
The semiconductor laser element and the lens are integrally accommodated in a package to form a semiconductor laser module, and the semiconductor laser module is connected to an optical fiber.

【0003】このような半導体レーザモジュールにおい
て、レーザ光源として用いられる半導体レーザ素子は、
非常に高出力が要求され、数百mAの駆動電流を必要と
するため、半導体レーザ素子の発熱による光出力の低下
や寿命の低下を招くおそれがある。また、半導体レーザ
素子はその雰囲気温度が変化すると波長が変化するなど
の光特性が変わるため、光ファイバと結合する半導体レ
ーザモジュールの構成体内にペルチェ素子を備えて、半
導体レーザ素子を冷却して使用するようにしている。
[0003] In such a semiconductor laser module, a semiconductor laser element used as a laser light source includes:
Since a very high output is required and a driving current of several hundred mA is required, there is a possibility that the heat output of the semiconductor laser device causes a decrease in optical output and a shortened life. In addition, since the semiconductor laser element changes its optical characteristics such as a change in wavelength when its ambient temperature changes, a Peltier element is provided in the structure of the semiconductor laser module that is coupled to the optical fiber, and the semiconductor laser element is cooled and used. I am trying to do it.

【0004】このような半導体レーザモジュールは、例
えば、図7に示すように、図示しない一対の側壁にリー
ド線をハーメチックシールで設けた、バタフライ型やD
IP型のパッケージを構成する金属製パッケージ本体
(枠体)61を備えており、この枠体61の1つの側壁
62に光取出し窓62a設けている。また、枠体61の
下部に金属製底板70が蝋付けにより枠体61の下部に
固着されており、枠体61の上部には気密用のカバー6
3が取り付けられている。ここで、枠体61内には、一
対の絶縁板71a、71bの間に複数個のP型半導体化
合物素子とN型半導体化合物素子とからなるペルチェ素
子72を挟み込み、図示しない電極により複数のP型素
子と複数のN型素子とがP、N、P、Nの順に電気的に
直列に接続され、さらに、端部のP型素子およびN型素
子を接合した電極にそれぞれ図示しないリード線を接続
して構成される。
[0004] Such a semiconductor laser module is, for example, a butterfly type or a D type having a lead wire provided on a pair of side walls (not shown) with a hermetic seal as shown in FIG.
A metal package body (frame) 61 constituting an IP type package is provided, and a light extraction window 62 a is provided on one side wall 62 of the frame 61. Further, a metal bottom plate 70 is fixed to the lower portion of the frame body 61 at the lower portion of the frame body 61 by brazing, and an airtight cover 6 is provided on the upper portion of the frame body 61.
3 is attached. Here, in the frame 61, a Peltier device 72 composed of a plurality of P-type semiconductor compound elements and an N-type semiconductor compound element is sandwiched between a pair of insulating plates 71a and 71b, and a plurality of P-type The P-type element and the plurality of N-type elements are electrically connected in series in the order of P, N, P, N, and further, lead wires (not shown) are respectively connected to the electrodes to which the P-type element and the N-type element at the end are joined. Connected and configured.

【0005】なお、絶縁板71a、71bはアルミナな
どから形成されており、この上にペルチェ素子72の電
極と固定を兼ねた金属導体パターン(電極パターン)が
薄膜や厚膜で形成されている。絶縁板71a側には半導
体レーザ素子74、レンズ78および受光素子77など
を搭載したベース板73が固定され、絶縁板71bは底
板70の上面に固定されている。半導体レーザ素子74
はヒートシンク75に搭載されており、このヒートシン
ク75は半導体レーザ素子74の放熱を行うとともに、
半導体レーザ素子74とほぼ同じ熱膨張率を有する材料
(例えばダイヤモンド、SiC、シリコンなど)を使用
して熱応力による故障を防止している。
The insulating plates 71a and 71b are formed of alumina or the like, and a metal conductor pattern (electrode pattern) which also serves as an electrode of the Peltier element 72 is formed as a thin film or a thick film thereon. On the insulating plate 71a side, a base plate 73 on which a semiconductor laser element 74, a lens 78, a light receiving element 77 and the like are mounted is fixed, and the insulating plate 71b is fixed on the upper surface of the bottom plate 70. Semiconductor laser element 74
Is mounted on a heat sink 75, which dissipates heat from the semiconductor laser element 74,
A material (for example, diamond, SiC, silicon, etc.) having substantially the same coefficient of thermal expansion as the semiconductor laser element 74 is used to prevent failure due to thermal stress.

【0006】また、ヒートシンク75はヘッダ76に搭
載され、このヘッダ76は半導体レーザ素子74の電極
用の端子を有している。ヘッダ76の後部にはモニタ用
の受光素子77が設けられており、この受光素子77は
半導体レーザ素子74の温度変化などによる光出力の変
化を監視し、その光出力が常に一定になるように駆動回
路にフィードバックをかけている。レンズ78はレンズ
ホルダ79により固定されている。
The heat sink 75 is mounted on a header 76, which has terminals for electrodes of the semiconductor laser element 74. A light receiving element 77 for monitoring is provided at the rear of the header 76. The light receiving element 77 monitors a change in optical output due to a temperature change of the semiconductor laser element 74 and the like so that the optical output is always constant. Feedback is being applied to the drive circuit. The lens 78 is fixed by a lens holder 79.

【0007】なお、レンズホルダ79は、半導体レーザ
素子74から出射され広がったレーザ光がレンズ78に
より平行光になるように光軸調整後、ベース73にYA
Gレーザで固定されている。これにより、半導体レーザ
素子74から出射されたレーザ光はレンズ78で平行光
に変換され、この平行光が光取出し窓62aを通過する
ようになる。
The lens holder 79 adjusts the optical axis so that the spread laser light emitted from the semiconductor laser element 74 becomes parallel light by the lens 78, and then the YA is attached to the base 73.
It is fixed with a G laser. Thereby, the laser light emitted from the semiconductor laser element 74 is converted into parallel light by the lens 78, and the parallel light passes through the light extraction window 62a.

【0008】レンズ78の前方には、スリーブ82が配
置され、このスリーブ82にフェルール83を介してレ
ンズ81が固定されている。ここで、半導体レーザ素子
74から出射され光取出し窓62aを通過したレーザ光
がレンズ81で光ファイバ84に効率よく入射するよう
に光軸調整した後、スリーブ82のA、B部でYAGレ
ーザ溶接で固定している。これにより、半導体レーザ素
子74から出射された光はレンズ78とレンズ81とに
よって、光ファイバ84に効率よく結合される。このよ
うな半導体レーザモジュールが高出力可能なのはペルチ
ェ素子72で半導体レーザ素子74を常時冷却し、半導
体レーザ素子74の発熱を低減しているためである。な
お、半導体レーザ素子74とペルチェ素子72の発熱は
底板70の下面に取り付けた図示しないヒートシンクで
外部に放熱される。
A sleeve 82 is disposed in front of the lens 78, and a lens 81 is fixed to the sleeve 82 via a ferrule 83. Here, after adjusting the optical axis so that the laser light emitted from the semiconductor laser element 74 and passing through the light extraction window 62a is efficiently incident on the optical fiber 84 by the lens 81, YAG laser welding is performed on the A and B portions of the sleeve 82. It is fixed with. Thus, the light emitted from the semiconductor laser element 74 is efficiently coupled to the optical fiber 84 by the lenses 78 and 81. Such a semiconductor laser module can output high power because the Peltier element 72 constantly cools the semiconductor laser element 74 to reduce heat generation of the semiconductor laser element 74. Heat generated by the semiconductor laser element 74 and the Peltier element 72 is radiated to the outside by a heat sink (not shown) attached to the lower surface of the bottom plate 70.

【0009】上記構成による半導体レーザモジュールの
パッケージにおいて、金属製枠体60は、鉄−ニッケル
−コバルト合金(以下、コバールと略す)で構成され、
内部部品の格納、端子や光ファイバを接合する基材とし
ての役割を有している。また、金属製底板70は、内部
で発生した熱を効率よく外部へ放熱する機能を有してい
る。この機能は、搭載する半導体レーザ素子74の特性
が温度依存性を保つため、半導体レーザ素子74を一定
の温度に保つ必要があるので極めて重要であり、通常、
放熱性(熱伝導性)のよい銅−タングステン材料で構成
されている。
In the package of the semiconductor laser module having the above configuration, the metal frame 60 is made of an iron-nickel-cobalt alloy (hereinafter abbreviated as Kovar).
It has a role as a base for storing internal components and joining terminals and optical fibers. Further, the metal bottom plate 70 has a function of efficiently radiating heat generated inside to the outside. This function is extremely important because the characteristics of the semiconductor laser element 74 to be mounted maintain the temperature dependence, and it is necessary to maintain the semiconductor laser element 74 at a constant temperature.
It is made of a copper-tungsten material having good heat dissipation (thermal conductivity).

【0010】上記のような半導体レーザモジュール用パ
ッケージ60は、あらかじめ枠体61と底板70とにそ
れぞれ形成され、これらの枠体61と底板70とが、蝋
材で蝋付けされて、一体化される。しかし、部品を蝋付
けするだけではパッケージの気密性は不十分であり、こ
の結果、パッケージ内に水分が侵入して結露が発生し、
半導体レーザ素子74の劣化、ペルチェ素子72の特性
が低下するなどの問題がある。
The semiconductor laser module package 60 as described above is formed on a frame 61 and a bottom plate 70 in advance, and the frame 61 and the bottom plate 70 are integrated by brazing with a brazing material. You. However, the airtightness of the package is not enough just by brazing the parts, and as a result, moisture enters the package and dew condensation occurs,
There are problems such as deterioration of the semiconductor laser element 74 and deterioration of the characteristics of the Peltier element 72.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】よって、本発明におけ
る課題は、半導体レーザモジュール用パッケージの気密
性を向上し、半導体レーザモジュールの雰囲気温度の変
化による光学特性の変化を低減することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to improve the hermeticity of a package for a semiconductor laser module and to reduce a change in optical characteristics due to a change in an ambient temperature of the semiconductor laser module.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の請求項1記載の半導体レーザモジュール用
パッケージは、半導体レーザ素子を載置する底板と、こ
の底板に接合される枠体とからなる半導体レーザモジュ
ール用パッケージであって、前記底板および枠体が、銅
とタングステンまたは、銅とモリブデンからなる材料で
構成され、前記底板および/または枠体の表面が無電解
ニッケルめっきを施され、前記底板と前記枠体とが蝋材
を用いて、直接またはシールリングを介して一体的に形
成されているものである。また、本発明の請求項2記載
の半導体レーザモジュール用パッケージは、前記無電解
ニッケルめっきが、無電解ニッケル−リンめっき、無電
解ニッケル−ホウ素めっき、または無電解ニッケルめっ
きと電解銅めっきまたは無電解銅めっきの混合めっきの
いずれかであるものである。また、本発明の請求項3記
載の半導体レーザモジュール用パッケージは、前記底板
および/または枠体が、溶浸法または金属粉末射出成形
により形成されるものである。また、本発明の請求項4
記載の半導体レーザモジュール用パッケージの製造方法
は、半導体レーザ素子を冷却素子を介して載置する底板
と、この底板に接合される枠体とからなる半導体レーザ
モジュール用パッケージの製造方法であって、銅粉末と
タングステン粉末または、銅粉末とモリブデン粉末を溶
浸法または金属粉末射出成形により所定の底板形状およ
び所定の枠体形状に成形した後、該成形体を燒結する底
板形成工程および枠体成形工程と、前記底板および/ま
たは枠体の表面に無電解ニッケルめっきを施すめっき工
程と、前記底板成形工程により形成された底板と、前記
枠体成形工程により形成された枠体とを蝋付けにより、
直接またはシールリングを介して、一体的に接合する固
着工程とを備えたものである。また、本発明の請求項5
記載の半導体レーザモジュール用パッケージの製造方法
は、半導体レーザ素子を冷却素子を介して載置する底板
と、この底板に接合される枠体とからなる半導体レーザ
モジュール用パッケージの製造方法であって、銅粉末と
タングステン粉末または、銅粉末とモリブデン粉末を溶
浸法または金属粉末射出成形により所定の底板形状およ
び所定の枠体形状に成形した後、該成形体を燒結する底
板形成工程および枠体成形工程と、前記底板および/ま
たは枠体の表面が無電解ニッケルめっきを施すめっき工
程と、前記底板および枠体成形工程により形成された底
板と枠体とを蝋付けにより、直接またはシールリングを
介して、一体的に接合する固着工程と、前記枠体にセラ
ミックターミナルとリード線からなる部材を蝋付けする
工程とを備えたものである。そして、本発明の請求項6
記載の半導体レーザモジュール用パッケージの製造方法
は、半導体レーザ素子を載置する底板と、この底板に接
合される枠体とからなる半導体レーザモジュール用パッ
ケージの製造方法であって、銅粉末とタングステン粉末
または、銅粉末とモリブデン粉末を溶浸法または金属粉
末射出成形により所定の底板形状に成形した後、該成形
体を燒結する底板形成工程と、鉄−ニッケル−コバルト
合金粉末にバインダーを添加した混合材料を金属粉末射
出成形により所定の枠体形状に成形した後、該成形体を
燒結する枠体成形工程と、前記底板表面に無電解ニッケ
ルめっきを施すめっき工程と、前記底板にリード線を蝋
付けする工程と、前記底板成形工程により形成された底
板と、前記枠体形成工程により形成された枠体とを蝋付
けにより、直接またはシールリングを介して、一体的に
接合する固着工程とを備えたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a package for a semiconductor laser module, comprising: a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted; and a frame joined to the bottom plate. Wherein the bottom plate and the frame are made of a material consisting of copper and tungsten or copper and molybdenum, and the surface of the bottom plate and / or the frame is plated with electroless nickel. The bottom plate and the frame are integrally formed using a brazing material, either directly or via a seal ring. Further, in the package for a semiconductor laser module according to claim 2 of the present invention, the electroless nickel plating is performed by electroless nickel-phosphorus plating, electroless nickel-boron plating, or electroless nickel plating and electrolytic copper plating or electroless plating. It is one of mixed plating of copper plating. In the package for a semiconductor laser module according to a third aspect of the present invention, the bottom plate and / or the frame are formed by an infiltration method or a metal powder injection molding. Also, claim 4 of the present invention
The method for manufacturing a package for a semiconductor laser module according to the present invention is a method for manufacturing a package for a semiconductor laser module including a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted via a cooling element and a frame joined to the bottom plate. After forming copper powder and tungsten powder or copper powder and molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape and a predetermined frame shape by infiltration method or metal powder injection molding, a bottom plate forming step of sintering the formed body and frame forming A plating step of performing electroless nickel plating on the surface of the bottom plate and / or the frame, and brazing the bottom plate formed in the bottom plate forming step and the frame formed in the frame forming step. ,
And a fixing step of integrally joining them directly or via a seal ring. Also, claim 5 of the present invention
The method for manufacturing a package for a semiconductor laser module according to the present invention is a method for manufacturing a package for a semiconductor laser module including a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted via a cooling element and a frame joined to the bottom plate. After forming copper powder and tungsten powder or copper powder and molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape and a predetermined frame shape by infiltration method or metal powder injection molding, a bottom plate forming step of sintering the formed body and frame forming A step of plating the surface of the bottom plate and / or the frame by electroless nickel plating, and brazing the bottom plate and the frame formed by the bottom plate and the frame forming process directly or through a seal ring. And a step of brazing a member comprising a ceramic terminal and a lead wire to the frame body. It is. And claim 6 of the present invention
The method for manufacturing a package for a semiconductor laser module according to the present invention is a method for manufacturing a package for a semiconductor laser module comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted and a frame joined to the bottom plate, comprising copper powder and tungsten powder. Alternatively, after forming copper powder and molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape by infiltration method or metal powder injection molding, a bottom plate forming step of sintering the formed body, and mixing of iron-nickel-cobalt alloy powder with a binder added thereto After molding the material into a predetermined frame shape by metal powder injection molding, a frame forming step of sintering the formed body, a plating step of applying electroless nickel plating to the bottom plate surface, and brazing a lead wire to the bottom plate. Attaching the bottom plate formed in the bottom plate forming step and the frame formed in the frame forming step directly by brazing. Through the seal ring is one that includes a fixing step of integrally bonded.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
図1および図2は、本発明の半導体レーザモジュール用
パッケージのバタフライ型のパッケージを示す図であ
る。この例の半導体レーザモジュール用パッケージ10
は、銅−タングステン合金からなる枠体11の一対の上
端部に、切り欠き部12が形成されており、他の側壁の
一方には光取りだし窓14が形成されており、かつ枠体
11の下端の周縁部には畝状の突起部15が形成されて
いる。この突起部15は、底板16に形成された溝部1
7に嵌合するように形成されている。底板16の両端部
にはそれぞれ取り付け部18、18が形成されており、
これらにはねじ穴19、19が形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
1 and 2 are views showing a butterfly type package of a semiconductor laser module package according to the present invention. Semiconductor laser module package 10 of this example
Has a notch 12 formed at a pair of upper ends of a frame 11 made of a copper-tungsten alloy, and a light extraction window 14 formed at one of the other side walls. A ridge-shaped projection 15 is formed on the peripheral edge at the lower end. The protrusions 15 are formed in the grooves 1 formed in the bottom plate 16.
7. At both ends of the bottom plate 16, mounting portions 18, 18 are formed, respectively.
These are formed with screw holes 19,19.

【0014】畝状の突起部15と溝部17の表面には、
無電解ニッケルめっきが施されており、突起部15を溝
部17に嵌合させた後、この嵌合部が蝋材により、蝋付
けされている。切り欠き部12にも無電解ニッケルめっ
きが施され、コバールからなるリード線20が、銀蝋に
より蝋付けされたセラミックターミナル21が、この切
り欠き部12に銀蝋により蝋付けされている。ついで、
コバールからなるリング22と気密用カバー23が蝋付
けされて、バタフライ型の半導体レーザモジュール用パ
ッケージ10となっている。
On the surfaces of the ridge-shaped protrusions 15 and the grooves 17,
Electroless nickel plating is applied, and after fitting the protrusion 15 to the groove 17, the fitting portion is brazed with a brazing material. The notch 12 is also electrolessly nickel-plated, and a ceramic terminal 21 in which a lead wire 20 made of Kovar is brazed with silver wax is brazed to the notch 12 with silver wax. Then
A ring 22 made of Kovar and an airtight cover 23 are brazed to form a butterfly-type semiconductor laser module package 10.

【0015】銅−タングステン合金からなる枠体11お
よび底板16は、以下のような方法で成形される。ま
ず、粒径25μm以下(平均粒径5μm)の球状の銅粉
末20重量部と、粒径25μm以下(平均粒径5μm)
の球状のタングステン粉末80重量部との混合粉末に対
して、バインダーを45容量%を加え、加圧ニーダーを
用いて165℃で、1時間混練して、成形用組成物を得
る。バインダー成分としては、ポリスチレン、アクリル
樹脂、APP、ポリプロピレン、ポリアセタール、パラ
フィンワックスなどを、滑剤としてはステアリン酸を適
宜加えて調製する。ついで、この成形用組成物をダイス
温度150℃でペレット化し、これを射出温度160
℃、金型温度40℃で射出成形した後、グリーン体から
なる成形体を作製する。
The frame 11 and the bottom plate 16 made of a copper-tungsten alloy are formed by the following method. First, 20 parts by weight of a spherical copper powder having a particle size of 25 μm or less (average particle size of 5 μm) and a particle size of 25 μm or less (average particle size of 5 μm)
45 parts by volume of a binder is added to the mixed powder of 80 parts by weight of the spherical tungsten powder described above, and the mixture is kneaded at 165 ° C. for 1 hour using a pressure kneader to obtain a molding composition. The binder component is prepared by appropriately adding polystyrene, an acrylic resin, APP, polypropylene, polyacetal, paraffin wax and the like, and the lubricant is appropriately added with stearic acid. Next, the molding composition was pelletized at a die temperature of 150 ° C.
After injection molding at 40 ° C. and a mold temperature of 40 ° C., a green body is formed.

【0016】ついで、このグリーン体を、1l/分で窒
素を流している雰囲気中に配置し、1atm(常圧)の
圧力下で、昇温速度が0.5℃/分で、常温から400
℃まで加熱して、脱バインダ化してブラウン体とする。
このブラウン体を焼結炉に入れ、昇温速度が5℃/分
で、1200〜1500℃まで昇温した後、この温度を
2時間保持することにより焼結して、焼結体とする。こ
のときの雰囲気は、アルゴン−水素雰囲気で、水素濃度
は0.1〜100体積%とし、1l/分でこの混合気体
を流しながら焼結を行う。
Next, the green body is placed in an atmosphere in which nitrogen is flowing at a rate of 1 l / min, and under a pressure of 1 atm (normal pressure) at a rate of temperature increase of 0.5 ° C./min.
Heat to ° C. to remove the binder to give a brown body.
The brown body is placed in a sintering furnace, heated at a heating rate of 5 ° C./min to 1200 to 1500 ° C., and then sintered at this temperature for 2 hours to obtain a sintered body. The atmosphere at this time is an argon-hydrogen atmosphere with a hydrogen concentration of 0.1 to 100% by volume and sintering while flowing this mixed gas at 1 l / min.

【0017】つぎに、上記のように形成された枠体11
の切り欠き部12、突起部15、底板16の溝部17
に、無電解めっきを施すための前処理を行う。前処理の
方法は、めっきを施す面に対して、溶剤による脱脂、洗
浄、またはヘリウム還元処理などである。
Next, the frame 11 formed as described above is used.
Notch 12, protrusion 15, groove 17 of bottom plate 16
Then, a pretreatment for performing electroless plating is performed. The method of the pretreatment includes degreasing with a solvent, washing, or helium reduction treatment on the surface to be plated.

【0018】つぎに、前処理を施された切り欠き部1
2、突起部15、溝部17に、無電解ニッケルめっきを
施す。この例で用いられる無電解ニッケルめっきは、無
電解ニッケル−リンめっき、無電解ニッケル−ホウ素め
っき、または無電解ニッケルめっきと電解銅めっきまた
は無電解銅めっきの混合めっきであり、めっきの厚さ
は、0.5〜3μmが好ましい。めっきの厚さが0.5
μm未満では、熱処理をすると、めっきが銅−タングス
テン合金内に固溶し、蝋付けの際に、蝋材が固着しな
い。一方、3μmを超えると、めっきの熱膨張が大きく
なり、接合部の気密性が低下する。
Next, the notched portion 1 which has been subjected to the pre-processing
2. Electroless nickel plating is applied to the protrusion 15 and the groove 17. The electroless nickel plating used in this example is electroless nickel-phosphorus plating, electroless nickel-boron plating, or a mixed plating of electroless nickel plating and electrolytic copper plating or electroless copper plating, and the plating thickness is , 0.5 to 3 μm is preferred. Plating thickness is 0.5
If the thickness is less than μm, the plating will form a solid solution in the copper-tungsten alloy upon heat treatment, and the brazing material will not adhere during brazing. On the other hand, if it exceeds 3 μm, the thermal expansion of the plating increases, and the airtightness of the joint decreases.

【0019】ここで、前記めっき法に用いられるめっき
浴の組成の一例を以下に示す。無電解ニッケル−りんめ
っきの組成は、りん含有率3〜15重量%、硫酸ニッケ
ル、次亜りん酸ナトリウムおよびクエン酸ナトリウム、
酢酸ナトリウム、塩化アンモニウムなどからなるもので
ある。無電解ニッケル−ホウ素めっきの組成は、ホウ素
含有率3〜15重量%、塩化ニッケル、水酸化ホウ素化
合物(水酸化ホウ素ナトリウム、ジエチルアミンボラ
ン、ジエチルボラザンなど)、pH調整剤(水酸化ナト
リウム、アンモニア水)、錯化剤(エチレンジアミン、
クエン酸、酒石酸などで、水酸化ニッケルの白色沈殿を
防止する)などからなるものである。なお、本発明の半
導体レーザモジュール用パッケージに用いられるめっき
法としては、スパッタ法でもよい。また、リング22お
よび気密用カバー23が枠体11と接合する面13にめ
っきを施してもよい。
Here, an example of the composition of the plating bath used in the plating method is shown below. The composition of the electroless nickel-phosphorus plating is as follows: phosphorus content: 3 to 15% by weight, nickel sulfate, sodium hypophosphite and sodium citrate;
It is composed of sodium acetate, ammonium chloride and the like. The composition of the electroless nickel-boron plating includes a boron content of 3 to 15% by weight, nickel chloride, a boron hydroxide compound (sodium borohydride, diethylamine borane, diethylborazane, etc.), a pH adjuster (sodium hydroxide, ammonia Water), complexing agent (ethylenediamine,
Citric acid, tartaric acid, and the like to prevent white precipitation of nickel hydroxide). The plating method used for the semiconductor laser module package of the present invention may be a sputtering method. Further, the surface 13 where the ring 22 and the airtight cover 23 are joined to the frame 11 may be plated.

【0020】コバールからなるリング22と気密用カバ
ー23は、以下のような方法で成形される。リング22
は、コバールを打抜法、切削法などにより成形加工さ
れ、気密用カバー23は、しぼり成形法、切削法などに
より成形加工される。
The ring 22 made of Kovar and the airtight cover 23 are formed by the following method. Ring 22
Is formed by punching or cutting Kovar, and the airtight cover 23 is formed by squeezing or cutting.

【0021】つぎに、上記のようにして作製した、バタ
フライ型の半導体レーザモジュール用パッケージ10の
気密性試験を行った。図6を用いて、気密性試験を説明
する。気密性試験用チャンバー50の2室に分かれたチ
ャンバーを隔てる壁51に、貫通孔52を設ける。気密
性を測定する半導体レーザモジュール用パッケージ10
を、この貫通孔52に、Oリング53を介して密閉する
ように置き、チャンバ室54を一旦真空引きする。チャ
ンバ室55にヘリウムを導入し、チャンバ室54に漏れ
出たヘリウムの量を測定した。結果を表1に示す。
Next, an airtightness test was performed on the butterfly type semiconductor laser module package 10 manufactured as described above. The airtightness test will be described with reference to FIG. A through hole 52 is provided in a wall 51 separating the two chambers of the airtightness test chamber 50. Semiconductor laser module package 10 for measuring airtightness
Is placed in the through hole 52 so as to be sealed via an O-ring 53, and the chamber 54 is once evacuated. Helium was introduced into the chamber 55, and the amount of helium leaked into the chamber 54 was measured. Table 1 shows the results.

【0022】図3は、半導体レーザモジュール用パッケ
ージの他の例を示すものである。この型のパッケージ3
0と、図1、図2に示すバタフライ型のパッケージ10
との差異は、底板35に未成形部36を備えている点で
ある。この未成形部36は中子方式により形成され、こ
の部分にペルチェ素子を載置し、内部で発生する熱を効
率よく外部へ放熱する機能を有している。また、未成形
部36に嵌め込まれる中子39は、上述のようなバタフ
ライ型のパッケージ10の枠体11および底板16と同
様に、金属粉末射出成形、焼結により成形されている。
FIG. 3 shows another example of a package for a semiconductor laser module. Package 3 of this type
0 and a butterfly type package 10 shown in FIGS.
Is that the bottom plate 35 is provided with an unformed portion 36. The unformed portion 36 is formed by a core method, and has a function of placing a Peltier element on this portion and efficiently radiating heat generated inside to the outside. The core 39 fitted into the unformed portion 36 is formed by metal powder injection molding and sintering, like the frame 11 and the bottom plate 16 of the butterfly package 10 described above.

【0023】この例のパッケージの枠体31と底板35
の成形も、先の例と同様にして行われる。そして、枠体
31と底板35の接合部の表面、切り欠き部32、底板
35の未成形部36の側壁、中子39が未成形部36の
側壁と接合する部分に、めっきを施すための前処理が行
われる。ついで、前処理を施した部分に、無電解ニッケ
ルめっきを施し、気密用カバーをして、各接合部を蝋材
により蝋付けし、半導体レーザモジュール用パッケージ
30を作製する。
The frame 31 and the bottom plate 35 of the package of this example
Is formed in the same manner as in the previous example. Then, plating is performed on the surface of the joint between the frame body 31 and the bottom plate 35, the notch 32, the side wall of the unformed portion 36 of the bottom plate 35, and the portion where the core 39 is joined to the side wall of the unformed portion 36. Preprocessing is performed. Next, electroless nickel plating is applied to the pre-processed portion, an airtight cover is provided, and each joint is brazed with a brazing material to produce a semiconductor laser module package 30.

【0024】つぎに、上記のようにして作製した、半導
体レーザモジュール用パッケージ30の気密性試験を行
った。気密性試験は、バタフライ型と同様に、図6に示
す方法で行った。結果を表1に示す。
Next, an airtightness test was performed on the semiconductor laser module package 30 manufactured as described above. The airtightness test was performed by the method shown in FIG. 6 similarly to the butterfly type. Table 1 shows the results.

【0025】図4、図5は、ステム型の半導体レーザモ
ジュール用パッケージを示すものである。ステム41
は、バタフライ型の底板に相当するもので、バタフライ
型のパッケージの枠体11および底板16と同様に、金
属粉末射出成形、焼結により成形されている。
4 and 5 show a stem type semiconductor laser module package. Stem 41
Is equivalent to a butterfly-type bottom plate, and is formed by metal powder injection molding and sintering, like the frame 11 and the bottom plate 16 of the butterfly-type package.

【0026】ついで、ステム41にめっきの前処理を行
うために、酸などにより洗浄を行う。ついで、ステム4
1に熱処理を施し、ステム41表面に銅リッチ層を形成
し、電解ニッケルめっきを、めっきの厚さが1〜2μm
になるように施す。さらに、ニッケルをステム41の銅
−タングステン合金内部へ拡散させるために、熱処理を
行う。この時に、めっき不良がある場合は、めっきの膨
れなどが生じる。つぎに、リード線42をハーメチック
シールにより、アース線43を銀蝋により、ステム41
に固定する。さらに、半導体レーザ素子44と受光素子
45を金−錫はんだで、はんだ付けする。そして、図5
に示すように、コバールからなるシームリング46を、
銀蝋により、ステム41に蝋付けする。そして、コバー
ルからなるキャップ47を抵抗溶接により溶接し、ステ
ム型の半導体レーザモジュール用パッケージ40を作製
する。
Next, the stem 41 is washed with an acid or the like in order to perform a pretreatment for plating. Then stem 4
1 is subjected to a heat treatment to form a copper-rich layer on the surface of the stem 41, and electrolytic nickel plating is performed to a plating thickness of 1 to 2 μm.
Apply so that Further, a heat treatment is performed to diffuse nickel into the copper-tungsten alloy of the stem 41. At this time, if there is a plating defect, plating swelling or the like occurs. Next, the lead wire 42 is formed by a hermetic seal, the ground wire 43 is formed by a silver wax, and the stem 41 is formed.
Fixed to. Further, the semiconductor laser element 44 and the light receiving element 45 are soldered with gold-tin solder. And FIG.
As shown in the figure, a seam ring 46 made of Kovar is
The stem 41 is brazed with silver wax. Then, the cap 47 made of Kovar is welded by resistance welding to produce a stem type semiconductor laser module package 40.

【0027】つぎに、上記のように作製したステム型の
半導体レーザモジュール用パッケージの気密性試験を行
った。気密性試験は、バタフライ型と同様に、図6に示
す方法で行った。結果を表1に示す。
Next, an air tightness test was performed on the stem type semiconductor laser module package manufactured as described above. The airtightness test was performed by the method shown in FIG. 6 similarly to the butterfly type. Table 1 shows the results.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】表1の結果から、半導体レーザモジュール
用パッケージ10、30および40は、各蝋付け部に無
電解ニッケルめっきを施すことにより、気密性試験にお
いて、ヘリウムが漏れ出す量が、10-8atm・cc/
秒未満となることが確認された。
From the results shown in Table 1, the semiconductor laser module packages 10, 30, and 40 were subjected to electroless nickel plating on their brazed portions, so that the amount of helium leaking out in the airtightness test was 10 -8. atm · cc /
It was confirmed to be less than a second.

【0030】このように、この例の半導体レーザモジュ
ール用パッケージにおいては、以下のような効果が得ら
れる。半導体レーザモジュール用パッケージを構成する
各部材の蝋付け部の表面に無電解ニッケルめっきを施し
た後、蝋付けを行うことにより、気密性が良好なパッケ
ージが得られるようになる。したがって、これらのパッ
ケージ内に載置されている半導体レーザモジュールは、
雰囲気温度の変化により、光学特性が低下することがな
くなる。
As described above, the following effects can be obtained in the semiconductor laser module package of this embodiment. After electroless nickel plating is applied to the surface of the brazing portion of each member constituting the package for the semiconductor laser module, and then brazing is performed, a package with good airtightness can be obtained. Therefore, the semiconductor laser modules mounted in these packages are:
Optical characteristics do not deteriorate due to changes in the ambient temperature.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体レ
ーザモジュール用パッケージは、半導体レーザ素子を載
置する底板と、この底板に接合される枠体とからなる半
導体レーザモジュール用パッケージであって、底板およ
び枠体が、銅とタングステンまたは、銅とモリブデンか
らなる材料で構成され、底板および/または枠体の表面
が無電解ニッケルめっきを施され、底板と前記枠体とが
蝋材を用いて、直接またはシールリングを介して一体的
に形成されているものであるから、製造が容易で、安価
な半導体レーザモジュール用パッケージを得ることがで
きる。
As described above, the package for a semiconductor laser module according to the present invention is a package for a semiconductor laser module comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted and a frame joined to the bottom plate. The bottom plate and the frame are made of a material made of copper and tungsten or copper and molybdenum; the surface of the bottom plate and / or the frame is plated with electroless nickel; and the bottom plate and the frame are made of a brazing material. Therefore, since it is formed integrally directly or via a seal ring, a package for a semiconductor laser module which is easy to manufacture and inexpensive can be obtained.

【0032】また、本発明の半導体レーザモジュール用
パッケージは、無電解ニッケルめっきが、無電解ニッケ
ル−リンめっき、無電解ニッケル−ホウ素めっき、また
は無電解ニッケルめっきと電解銅めっきまたは無電解銅
めっきの混合めっきのいずれかであるから、各部材の接
合に用いる蝋材の密着性が向上する。
The package for a semiconductor laser module according to the present invention is characterized in that the electroless nickel plating is formed by electroless nickel-phosphorus plating, electroless nickel-boron plating, electroless nickel plating and electrolytic copper plating or electroless copper plating. Since it is one of the mixed plating, the adhesion of the brazing material used for joining the members is improved.

【0033】また、本発明の半導体レーザモジュール用
パッケージは、前記底板および/または枠体が、溶浸法
または金属粉末射出成形により形成されるものであるか
ら、これらの成形体の製造が容易になる。
In the package for a semiconductor laser module according to the present invention, since the bottom plate and / or the frame is formed by infiltration or metal powder injection molding, it is easy to manufacture these molded products. Become.

【0034】また、本発明の半導体レーザモジュール用
パッケージの製造方法は、半導体レーザ素子を冷却素子
を介して載置する底板と、この底板に接合される枠体と
からなる半導体レーザモジュール用パッケージの製造方
法であって、銅粉末とタングステン粉末または、銅粉末
とモリブデン粉末を溶浸法または金属粉末射出成形によ
り所定の底板形状および所定の枠体形状に成形した後、
該成形体を焼結する底板形成工程および枠体成形工程
と、底板および/または枠体の表面に無電解ニッケルめ
っきを施すめっき工程と、底板成形工程により形成され
た底板と、枠体成形工程により形成された枠体とを蝋付
けにより、直接またはシールリングを介して、一体的に
接合する固着工程とを備えたものであるから、気密性が
良好な半導体レーザモジュール用パッケージが得られ
る。
The method of manufacturing a semiconductor laser module package according to the present invention is directed to a semiconductor laser module package comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted via a cooling element, and a frame joined to the bottom plate. A manufacturing method, after forming a copper powder and a tungsten powder or a copper powder and a molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape and a predetermined frame shape by infiltration method or metal powder injection molding,
A bottom plate forming step and a frame forming step of sintering the formed body, a plating step of applying electroless nickel plating to the surface of the bottom plate and / or the frame, a bottom plate formed by the bottom plate forming step, and a frame forming step And a fixing step of integrally joining the frame formed by the method directly or through a seal ring by brazing, so that a semiconductor laser module package having good airtightness can be obtained.

【0035】また、本発明の半導体レーザモジュール用
パッケージの製造方法は、半導体レーザ素子を冷却素子
を介して載置する底板と、この底板に接合される枠体と
からなる半導体レーザモジュール用パッケージの製造方
法であって、銅粉末とタングステン粉末または、銅粉末
とモリブデン粉末を溶浸法または金属粉末射出成形によ
り所定の底板形状および所定の枠体形状に成形した後、
該成形体を焼結する底板形成工程および枠体成形工程
と、底板および/または枠体の表面が無電解ニッケルめ
っきを施すめっき工程と、底板および枠体成形工程によ
り形成された底板と枠体とを蝋付けにより、直接または
シールリングを介して、一体的に接合する固着工程と、
枠体にセラミックターミナルとリード線からなる部材を
蝋付けする工程とを備えたものであるから、リード線の
蝋付けが容易となり、かつ、半導体レーザモジュール用
パッケージの良好な気密性を保つことができる。
The method of manufacturing a semiconductor laser module package according to the present invention is directed to a semiconductor laser module package comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted via a cooling element, and a frame joined to the bottom plate. A manufacturing method, after forming a copper powder and a tungsten powder or a copper powder and a molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape and a predetermined frame shape by infiltration method or metal powder injection molding,
A bottom plate forming step and a frame forming step of sintering the formed body, a plating step of subjecting the surface of the bottom plate and / or the frame to electroless nickel plating, and a bottom plate and a frame formed by the bottom plate and the frame forming step And a bonding step of integrally joining, directly or via a seal ring, by brazing,
A step of brazing a member comprising a ceramic terminal and a lead wire to the frame body, so that the lead wire can be easily brazed and the semiconductor laser module package can maintain good airtightness. it can.

【0036】そして、本発明の半導体レーザモジュール
用パッケージの製造方法は、半導体レーザ素子を載置す
る底板と、この底板に接合される枠体とからなる半導体
レーザモジュール用パッケージの製造方法であって、銅
粉末とタングステン粉末または、銅粉末とモリブデン粉
末を溶浸法または金属粉末射出成形により所定の底板形
状に成形した後、該成形体を焼結する底板形成工程と、
鉄−ニッケル−コバルト合金粉末にバインダーを添加し
た混合材料を金属粉末射出成形により所定の枠体形状に
成形した後、該成形体を焼結する枠体成形工程と、底板
表面に無電解ニッケルめっきを施すめっき工程と、底板
にリード線を蝋付けする工程と、底板成形工程により形
成された底板と、枠体形成工程により形成された枠体と
を蝋付けにより、直接またはシールリングを介して、一
体的に接合する固着工程とを備えたものであるから、材
質の異なる枠体と底板の密着性が向上し、気密性の高い
半導体レーザモジュール用パッケージ得ることができ
る。
The method of manufacturing a semiconductor laser module package according to the present invention is a method of manufacturing a semiconductor laser module package including a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted and a frame joined to the bottom plate. After forming copper powder and tungsten powder or copper powder and molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape by infiltration or metal powder injection molding, a bottom plate forming step of sintering the formed body;
After forming a mixed material obtained by adding a binder to iron-nickel-cobalt alloy powder into a predetermined frame shape by metal powder injection molding, a frame forming step of sintering the formed body, and electroless nickel plating on the bottom plate surface Plating step, a step of brazing a lead wire to the bottom plate, a bottom plate formed by the bottom plate forming step, and a frame formed by the frame forming step by brazing, directly or through a seal ring. Since it is provided with the fixing step of integrally joining, the adhesion between the frame and the bottom plate made of different materials is improved, and a semiconductor laser module package with high airtightness can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の半導体レーザモジュール用パッケー
ジの一例を示す図である。
FIG. 1 is a view showing an example of a package for a semiconductor laser module of the present invention.

【図2】 本発明の半導体レーザモジュール用パッケー
ジの一例を示す図である。
FIG. 2 is a view showing an example of a package for a semiconductor laser module of the present invention.

【図3】 本発明の半導体レーザモジュール用パッケー
ジの他の例を示す図である。
FIG. 3 is a view showing another example of the semiconductor laser module package of the present invention.

【図4】 本発明の半導体レーザモジュール用パッケー
ジの他の例を示す図である。
FIG. 4 is a view showing another example of the semiconductor laser module package of the present invention.

【図5】 本発明の半導体レーザモジュール用パッケー
ジの他の例を示す図である。
FIG. 5 is a view showing another example of the semiconductor laser module package of the present invention.

【図6】 本発明の半導体レーザモジュール用パッケー
ジの気密性試験を示す概略図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing an airtightness test of a package for a semiconductor laser module of the present invention.

【図7】 従来の半導体レーザモジュール用パッケージ
を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor laser module package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、31・・・枠体、12、32・・・切り欠き部、14、
33・・・光取出し窓、15・・・突起部、16、35・・・底
板、17・・・溝部、20、42・・・リード線、21・・・セ
ラミックターミナル、22・・・リング、23・・・気密用カ
バー、36・・・未成形部、39・・・中子、41・・・ステ
ム、43・・・アース線、44・・・半導体レーザ素子、45
・・・受光素子、46・・・シームリング、47・・・キャッ
プ、52・・・貫通孔、53・・・Oリング
11, 31 ... frame, 12, 32 ... notch, 14,
33 ... light extraction window, 15 ... projection, 16, 35 ... bottom plate, 17 ... groove, 20, 42 ... lead wire, 21 ... ceramic terminal, 22 ... ring 23, airtight cover, 36, unformed part, 39, core, 41, stem, 43, ground wire, 44, semiconductor laser element, 45
... Light receiving element, 46 ... Seam ring, 47 ... Cap, 52 ... Through hole, 53 ... O-ring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小杉 勝彦 静岡県浜松市中沢町10番1号 ヤマハ株式 会社内 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA03 DA03 DA04 DA05 DA06 DA16 DA36 DA38 5F073 BA01 FA15 FA22 FA25 FA29 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Katsuhiko Kosugi Inventor F-term (reference) 2H037 AA01 BA03 DA03 DA04 DA05 DA06 DA16 DA36 DA38 5F073 BA01 FA15 FA22 FA25 FA29

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザ素子を載置する底板と、こ
の底板に接合される枠体とからなる半導体レーザモジュ
ール用パッケージであって、 前記底板および枠体が、銅とタングステンまたは、銅と
モリブデンからなる材料で構成され、 前記底板および/または枠体の表面が無電解ニッケルめ
っきを施され、 前記底板と前記枠体とが蝋材を用いて、直接またはシー
ルリングを介して一体的に形成されていることを特徴と
する半導体レーザモジュール用パッケージ。
1. A semiconductor laser module package comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted and a frame joined to the bottom plate, wherein the bottom plate and the frame are made of copper and tungsten or copper and molybdenum. The bottom plate and / or the surface of the frame are electrolessly nickel-plated, and the bottom plate and the frame are integrally formed using a brazing material, either directly or via a seal ring. A package for a semiconductor laser module, comprising:
【請求項2】 前記無電解ニッケルめっきが、「無電解
ニッケル−リンめっき」、「無電解ニッケル−ホウ素め
っき」、または「無電解ニッケルめっきと電解銅めっき
または無電解銅めっきの混合めっき」のいずれかである
ことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザモジュー
ル用パッケージ。
2. The method according to claim 1, wherein the electroless nickel plating is “electroless nickel-phosphorous plating”, “electroless nickel-boron plating”, or “mixed plating of electroless nickel plating and electrolytic copper plating or electroless copper plating”. 2. The package for a semiconductor laser module according to claim 1, wherein the package is any one of the above.
【請求項3】 前記底板および/または枠体が、溶浸法
または金属粉末射出成形により形成されることを特徴と
する請求項1または2記載の半導体レーザモジュール用
パッケージ。
3. The semiconductor laser module package according to claim 1, wherein said bottom plate and / or frame is formed by infiltration or metal powder injection molding.
【請求項4】 半導体レーザ素子を冷却素子を介して載
置する底板と、この底板に接合される枠体とからなる半
導体レーザモジュール用パッケージの製造方法であっ
て、 銅粉末とタングステン粉末または、銅粉末とモリブデン
粉末を溶浸法または金属粉末射出成形により所定の底板
形状および所定の枠体形状に成形した後、該成形体を焼
結する底板形成工程および枠体成形工程と、 前記底板および/または枠体の表面に無電解ニッケルめ
っきを施すめっき工程と、 前記底板成形工程により形成された底板と、前記枠体成
形工程により形成された枠体とを蝋付けにより、直接ま
たはシールリングを介して、一体的に接合する固着工程
とを備えたことを特徴とする半導体レーザモジュール用
パッケージの製造方法。
4. A method of manufacturing a semiconductor laser module package comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted via a cooling element, and a frame joined to the bottom plate, wherein copper powder and tungsten powder or After forming the copper powder and the molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape and a predetermined frame shape by infiltration or metal powder injection molding, a bottom plate forming step and a frame forming step of sintering the formed body; and A plating step of applying electroless nickel plating to the surface of the frame, and a bottom plate formed in the bottom plate forming step and a frame formed in the frame forming step, which are directly or sealed by brazing. And a fixing step of integrally joining the semiconductor laser module and the semiconductor laser module package.
【請求項5】 半導体レーザ素子を冷却素子を介して載
置する底板と、この底板に接合される枠体とからなる半
導体レーザモジュール用パッケージの製造方法であっ
て、 銅粉末とタングステン粉末または、銅粉末とモリブデン
粉末を溶浸法または金属粉末射出成形により所定の底板
形状および所定の枠体形状に成形した後、該成形体を焼
結する底板形成工程および枠体成形工程と、 前記底板および/または枠体の表面が無電解ニッケルめ
っきを施すめっき工程と、 前記底板および枠体成形工程により形成された底板と枠
体とを蝋付けにより、直接またはシールリングを介し
て、一体的に接合する固着工程と、 前記枠体にセラミックターミナルとリード線からなる部
材を蝋付けする工程とを備えたことを特徴とする半導体
レーザモジュール用パッケージの製造方法。
5. A method for manufacturing a package for a semiconductor laser module, comprising: a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted via a cooling element; and a frame joined to the bottom plate, wherein copper powder and tungsten powder or After forming the copper powder and the molybdenum powder into a predetermined bottom plate shape and a predetermined frame shape by infiltration or metal powder injection molding, a bottom plate forming step and a frame forming step of sintering the formed body; and And / or a plating step in which the surface of the frame body is subjected to electroless nickel plating; and the bottom plate and the frame formed in the frame body forming step and the frame body are integrally joined by brazing, directly or via a seal ring. And a step of brazing a member consisting of a ceramic terminal and a lead wire to the frame body. Method of manufacturing a package.
【請求項6】 半導体レーザ素子を載置する底板と、こ
の底板に接合される枠体とからなる半導体レーザモジュ
ール用パッケージの製造方法であって、 銅粉末とタングステン粉末または、銅粉末とモリブデン
粉末を溶浸法または金属粉末射出成形により所定の底板
形状に成形した後、該成形体を焼結する底板形成工程
と、 鉄−ニッケル−コバルト合金粉末にバインダーを添加し
た混合材料を金属粉末射出成形により所定の枠体形状に
成形した後、該成形体を焼結する枠体成形工程と、 前記底板表面に無電解ニッケルめっきを施すめっき工程
と、 前記底板にリード線を蝋付けする工程と、 前記底板成形工程により形成された底板と、前記枠体形
成工程により形成された枠体とを蝋付けにより、直接ま
たはシールリングを介して、一体的に接合する固着工程
とを備えたことを特徴とする半導体レーザモジュール用
パッケージの製造方法。
6. A method for manufacturing a package for a semiconductor laser module, comprising a bottom plate on which a semiconductor laser element is mounted and a frame joined to the bottom plate, comprising copper powder and tungsten powder, or copper powder and molybdenum powder. Forming a bottom plate shape by infiltration or metal powder injection molding and then sintering the formed body; metal powder injection molding of a mixed material obtained by adding a binder to iron-nickel-cobalt alloy powder After molding into a predetermined frame shape, a frame molding step of sintering the molded body, a plating step of applying electroless nickel plating to the bottom plate surface, and a step of brazing a lead wire to the bottom plate, The bottom plate formed in the bottom plate forming step and the frame formed in the frame forming step are integrally joined by brazing, directly or via a seal ring. Method of manufacturing a package for a semiconductor laser module is characterized in that a fixing step that.
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