JP2001315370A - Thermal printing head and its manufacturing method - Google Patents

Thermal printing head and its manufacturing method

Info

Publication number
JP2001315370A
JP2001315370A JP2000172758A JP2000172758A JP2001315370A JP 2001315370 A JP2001315370 A JP 2001315370A JP 2000172758 A JP2000172758 A JP 2000172758A JP 2000172758 A JP2000172758 A JP 2000172758A JP 2001315370 A JP2001315370 A JP 2001315370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
print head
substrate
thermal print
heating element
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000172758A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Heiji Imai
平治 今井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP2000172758A priority Critical patent/JP2001315370A/en
Publication of JP2001315370A publication Critical patent/JP2001315370A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal printing head mounted with high-density heating units which is more compact, operates with a lower power, has a higher resolution and is lower in cost than the prior art. SOLUTION: A plane and highly heatproof glass base material 21 with a metallic thin film 22 formed to one surface is used as a substrate 20 for manufacturing. This thermal printing head is manufactured through a first process of forming a protecting film 11 to a surface of the metallic thin film 22 with the substrate 20 being used as a base, a second process of setting a heating element 12 and a wiring electrode 13 to a surface of the protecting film 11, a third process of forming a glass substrate 14 of a small thermal conductivity and forming a plurality of vias 15 to the glass substrate 14, a fourth process of mounting a driver IC 17b with a solder bump 17a to the glass substrate 14, and a fifth process of melting the metallic thin film 22 by etching thereby separating the substrate 20 and the thermal printing head 10 from each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はサーマルプリントヘ
ッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermal print head.

【0002】[0002]

【従来の技術】サーマルプリントヘッドを使用したプリ
ンターは機構が簡単で騒音が無く、また記録素子である
発熱素子を多数有するものが簡単に製造できることか
ら、一度の記録範囲を大きくすることが可能なため、高
速印字を可能とし、業務用に広く用いられている。さら
にプリンターを小型・軽量にすることが可能なため携帯
用にもその用途が広がっている。
2. Description of the Related Art A printer using a thermal print head has a simple mechanism and has no noise, and a printer having a large number of heating elements as recording elements can be easily manufactured. Therefore, high-speed printing is made possible and widely used for business use. Further, since the printer can be reduced in size and weight, its use has been expanded to portable use.

【0003】図7は従来のサーマルプリントヘッドの一
例を示す断面図である。このサーマルプリントヘッドは
セラミック基板の上部全面に蓄熱層のガラスをグレーズ
したものを基板とし、このガラス上に発熱素子、配線電
極を形成し、ドライバーIC(半導体集積回路)を搭載
したものである。円筒形のプラテンは印字媒体を供給す
るものであり、サーマルプリントヘッドの発熱体以外は
プラテンに接触しないように部品が配置されている。こ
のためドライバーICは発熱素子から遠く離れた場所に
配置される必要があり、これがガラスをグレーズしたセ
ラミック基板の形状を大きくし、コストアップの要因と
なっていた。
FIG. 7 is a sectional view showing an example of a conventional thermal print head. This thermal printhead is a substrate in which a heat storage layer glass is glazed on the entire upper surface of a ceramic substrate, a heating element and wiring electrodes are formed on the glass, and a driver IC (semiconductor integrated circuit) is mounted. The cylindrical platen supplies a print medium, and components other than the heating element of the thermal print head are arranged so as not to contact the platen. For this reason, the driver IC needs to be arranged at a place far away from the heat generating element, which increases the size of the glass-glazed ceramic substrate, which causes a cost increase.

【0004】近年、プリンターの需要が増え、特に民生
用小型カラープリンターの市場の伸びが著しい。この分
野の特徴として、印字品質の要求が高くかつ低価格の製
品が要求される。デジタルカメラの普及に伴って、デジ
タル写真のハードコピー用のプリンターとして、より小
型低価格でかつ高印字品質のカラープリンターの開発が
望まれている。
[0004] In recent years, demand for printers has increased, and the market for small color printers for consumer use has grown remarkably. As a feature of this field, a product with high printing quality and a low price is required. 2. Description of the Related Art With the spread of digital cameras, there has been a demand for the development of smaller, lower-priced, high-print-quality color printers as digital photo hard copy printers.

【0005】サーマルプリンター以外のプリンターでは
さらに高密度化が進んできており、インクジェットプリ
ンターでは1インチ当り600素子を実現し、さらにレ
ーザプリンターでは2400素子/インチを実現してい
る。しかしながらサーマルプリントヘッドではドライバ
ーICの出力端子ピッチが75μmのものが最小で、こ
れ以下のものでは容易に端子を接続することができな
い。よってこれが限界となり、一般的には300素子/
インチの密度のサーマルプリントヘッドが量産できる限
界となっている。特殊なものとしてドライバーICを発
熱素子の両側に配置することにより、倍密度の600d
piのサーマルプリントヘッドも開発されているが、上
述したようにガラスグレーズしたセラミック基板が通常
の倍以上の寸法となって大幅にコスト上昇となり、特殊
な用途に限定されている。最近になって、600dpi
対応のドライバーICが開発されているが、その出力端
子ピッチが狭小となることから配線の歩留まりが悪く、
高精細のパターニングが困難であることもあって、実用
化の障害となっている。
[0005] Printers other than thermal printers have been further densified, and ink jet printers have realized 600 elements per inch, and laser printers have realized 2400 elements / inch. However, in the thermal print head, the output terminal pitch of the driver IC is 75 μm, which is the minimum, and if it is less than this, the terminals cannot be easily connected. Therefore, this is the limit, and generally 300 elements /
It is at the limit where thermal printheads with inch density can be mass-produced. By placing driver ICs on both sides of the heating element as a special one, double density 600d
A pi thermal printhead has also been developed, but as described above, the size of a glass-glazed ceramic substrate is twice or more the size of a normal glass substrate, which significantly increases the cost and is limited to special applications. Recently, 600 dpi
Compatible driver ICs have been developed, but the output terminal pitch is narrow, resulting in poor wiring yield.
The difficulty in high-definition patterning is an obstacle to practical application.

【0006】さらに、最近ではコンピュータ機器のモバ
イル化に伴い、携帯用プリンタの需要が増え、このため
バッテリーの低消費化が要求されている。図7に示した
ような従来のサーマルプリントヘッドでは、発熱素子近
傍のガラスに残った熱はセラミック基板に熱放散され、
さらにアルミの放熱器に逃がされるため、この熱が無効
エネルギーとなっている。これを改善するため、ガラス
を厚くし、セラミック基板に熱が逃げるのを減らしてい
る。さらには基板そのものをガラスにしたサーマルプリ
ントヘッドが商品化されているが、発熱素子近傍に溜ま
った熱が次の印字サイクルに影響して印字品質を損なう
ことことから、十分な印字品質を確保できていない。
[0006] Further, recently, as computer devices have become mobile, demand for portable printers has increased, and therefore, there has been a demand for lower battery consumption. In the conventional thermal print head as shown in FIG. 7, the heat remaining in the glass near the heating element is dissipated to the ceramic substrate.
Furthermore, this heat becomes reactive energy because it is released to the aluminum radiator. To remedy this, the glass is made thicker to reduce the escape of heat to the ceramic substrate. Furthermore, thermal print heads using glass as the substrate itself have been commercialized, but since the heat accumulated near the heating elements affects the next print cycle and impairs the print quality, sufficient print quality can be secured. Not.

【0007】このような問題点を解決するため、既に本
願発明者は図8に示すようなサーマルプリントヘッドを
開発している(特願平11−346614)。図9は、
図8のサーマルプリントヘッドに用いられる多層ガラス
基板に形成した発熱素子の周辺を示す拡大断面図であ
る。図9に示すように、多層ガラス基板に発熱素子、電
極を形成し、かつ電極の表面に絶縁層を設け、その絶縁
層に更に共通電極を設けて発熱素子近傍に電極の2層構
造の回路を構成している。
In order to solve such a problem, the present inventor has already developed a thermal print head as shown in FIG. 8 (Japanese Patent Application No. 11-346614). FIG.
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view illustrating a periphery of a heating element formed on a multilayer glass substrate used in the thermal print head of FIG. 8. As shown in FIG. 9, a heating element and an electrode are formed on a multilayer glass substrate, an insulating layer is provided on the surface of the electrode, and a common electrode is further provided on the insulating layer. Is composed.

【0008】このサーマルプリントヘッドでは、厚みが
0.05mm以下のガラス基板を保護膜として機能させ
ることにより発熱素子近傍に2層構造の回路を設けるこ
とを可能とさせ、ガラス基板から外部に接続させるため
の端子のピッチを広くすることを可能とし、外部との接
続を容易にしている。また、ガラス基板の幅は印字長に
より決まるが、高さは5mmを実現している。
In this thermal print head, a glass substrate having a thickness of 0.05 mm or less functions as a protective film, thereby enabling a two-layer circuit to be provided in the vicinity of the heating element, and connecting the glass substrate to the outside. Terminal pitch can be widened, and connection with the outside is facilitated. The width of the glass substrate is determined by the printing length, but the height is 5 mm.

【0009】図8に示すように、発熱素子及び電極回路
を形成した多層ガラス基板は熱絶縁用のガラスに保持さ
れて支柱に取り付けられ、支柱の凹部の空隙が発熱素子
を取り囲むように構成されている。このようにして空隙
にて熱絶縁をおこなうことにより、サーマルプリントヘ
ッドの熱容量を小さくし、従来の図7に示す構造のサー
マルプリントヘッドと比較して1/3の発熱エネルギー
で同等の印字濃度を実現している。
As shown in FIG. 8, the multi-layer glass substrate on which the heating element and the electrode circuit are formed is held on glass for heat insulation and attached to a support, and the recess of the support surrounds the heating element. ing. By performing thermal insulation in the air gap in this manner, the heat capacity of the thermal print head is reduced, and a print density equivalent to one-third of the heat generation energy is obtained as compared with the conventional thermal print head having the structure shown in FIG. Has been realized.

【0010】また、高解像度を維持しつつ高印字濃度を
得るために、図10に示すような、1画素を構成する1
つの発熱抵抗体を2つに分割して主走査方向に並んだ2
つの電流路を形成し、2つの電流路それぞれに、副走査
方向の互いに異なる位置に幅狭部を形成することによ
り、1画素内に2つの発熱部を形成したサーマルヘッド
が提案されている(特開平10−181061)。同図
(A)は電極及び発熱素子の配列パターンを示す一部拡
大平面図であり、同図(B)は各発熱素子の印字ドット
の状態を示している。
Further, in order to obtain high print density while maintaining high resolution, one pixel constituting one pixel as shown in FIG.
Two heating resistors divided into two and arranged in the main scanning direction
A thermal head has been proposed in which two current paths are formed, and narrow portions are formed at different positions in the sub-scanning direction in each of the two current paths, thereby forming two heat-generating portions in one pixel. JP-A-10-181061). FIG. 3A is a partially enlarged plan view showing an arrangement pattern of electrodes and heating elements, and FIG. 3B shows a state of print dots of each heating element.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8の
サーマルプリントヘッドでは、多層ガラス基板の絶縁層
として加工し易いエポキシ樹脂又はポリイミドが主に用
いられ、印字のときに必要な機械強度は保護膜としても
機能するガラス基板の強度に依存している。また、薄い
ガラス基板の加工は困難であることから、ガラス基板は
0.7mm程度の厚みで加工を進め、図8の構造に組み
上げた後、多層ガラス基板のガラス面を研磨して必要な
厚さに仕上げている。これらの事情により完成されたサ
ーマルプリントヘッドの保護膜として機能するガラス基
板の厚みは0.03〜0.05mm程度になっている。
このため、保護膜の厚みが5〜10μmのサーマルプリ
ントヘッドと比較し、同じ印字濃度を得るために発熱エ
ネルギーをより多く必要とする。また、多層ガラス基板
とドライバーICを搭載したフレキシブル基板を備えた
構造により、サーマルプリントヘッドの小型化は、印字
長4インチのもので5mm×120mm×10mm程度
を実現しているが、デジタルカメラ、携帯電話等さらに
は腕時計構造のものに内蔵させるためには、更なる小型
化・低電力化が要求されている。
However, in the thermal print head of FIG. 8, an epoxy resin or polyimide which is easy to process is mainly used as an insulating layer of a multilayer glass substrate, and the mechanical strength required for printing is a protective film. It also depends on the strength of the glass substrate that functions. Further, since it is difficult to process a thin glass substrate, the glass substrate is processed with a thickness of about 0.7 mm, and after assembling into the structure of FIG. 8, the glass surface of the multilayer glass substrate is polished to a required thickness. Finished. Under these circumstances, the thickness of the glass substrate functioning as a protective film of the completed thermal print head is about 0.03 to 0.05 mm.
Therefore, in comparison with a thermal print head having a protective film having a thickness of 5 to 10 μm, more heat energy is required to obtain the same print density. In addition, due to the structure with a multilayer glass substrate and a flexible substrate on which a driver IC is mounted, miniaturization of the thermal print head has achieved a size of about 5 mm x 120 mm x 10 mm with a print length of 4 inches. In order to be built in a cellular phone or the like or a wristwatch structure, further reduction in size and power consumption is required.

【0012】また、発熱体を高密度に実装するため、図
10に示すような発熱体を形成した場合、発熱体の細長
い形状から印字ドットも細長いものとなり、さらに、各
電流路の発熱体に幅広部と幅狭部を設けたことから、高
電圧パルスによりトリミングする際幅狭部に電流が集中
して断線破壊を起こしやすいという問題があった。
In order to mount the heating elements at a high density, when the heating elements as shown in FIG. 10 are formed, the printing dots become elongated due to the elongated shape of the heating elements. Since the wide portion and the narrow portion are provided, there is a problem that when trimming by a high voltage pulse, current is concentrated on the narrow portion and disconnection is likely to occur.

【0013】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたもので、従来以上の小型低電力化を実現し、
かつ低価格で高密度のサーマルプリントヘッドを提供す
ることを技術的課題とする。
The present invention has been made in view of such a conventional problem, and realizes a more compact and lower power than before.
Another object of the present invention is to provide a low-cost, high-density thermal printhead.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のサーマルプリントヘッドは、一方の表面に
金属薄膜を備えた高耐熱のガラス基板を製造用基板と
し、その製造用基板の金属薄膜面に順次、保護膜、発熱
素子、電極、ガラス基板を形成して製造用基板の上面に
サーマルプリントヘッドを形成した後、金属薄膜をエッ
チングにより溶解して、製造用基板とサーマルプリント
ヘッドとを分離させる手段を講じたものである。また、
ガラス基板に発熱素子と発熱素子を電気駆動するドライ
バーICとを接続するビアを形成し、かつビアに硬い金
属を充填することにより、ドライバーICを基板上に搭
載するとともに、サーマルプリントヘッド全体の強度を
補強する手段を講じたものである。また、保護膜の上面
部に発熱素子を形成し、さらに発熱素子の上面部に電極
を形成することにより、発熱素子を電極より保護膜側に
配設する手段を講じたものである。さらに、一つの配線
電極を発熱体近傍にて二つに分岐電極に枝分かれさせ、
その2つの分岐電極に1画素を構成する2つの発熱素子
を副走査方向に位置をずらせて配置し、主走査方向には
2列となるよう発熱素子を等間隔に連続して多数配列す
るとともに、各発熱素子の形状を矩形状に形成する手段
を講じたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a thermal print head of the present invention uses a highly heat-resistant glass substrate provided with a metal thin film on one surface as a manufacturing substrate, and uses the glass substrate for manufacturing. A protective film, a heating element, an electrode, and a glass substrate are sequentially formed on the metal thin film surface, and a thermal print head is formed on the upper surface of the manufacturing substrate. Then, the metal thin film is dissolved by etching, and the manufacturing substrate and the thermal print head are formed. And means for separating them from each other. Also,
A via is formed on the glass substrate to connect the heating element and the driver IC that electrically drives the heating element, and the via is filled with hard metal, so that the driver IC is mounted on the substrate and the overall strength of the thermal print head is increased. Measures to reinforce it. In addition, a heating element is formed on the upper surface of the protective film, and an electrode is formed on the upper surface of the heating element, so that a means is provided for disposing the heating element closer to the protective film than the electrode. Furthermore, one wiring electrode is branched into two branch electrodes near the heating element,
Two heating elements constituting one pixel are arranged on the two branch electrodes so as to be shifted in the sub-scanning direction, and a large number of heating elements are continuously arranged at equal intervals in two rows in the main scanning direction. Means is provided for forming the shape of each heating element into a rectangular shape.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明のサーマルプリントヘッド
は、平面状でその一方の表面に金属薄膜22を備えた高
耐熱のガラス基材21を製造用基板20として用い、そ
の製造用基板20を基台として、金属薄膜22の表面に
保護膜11を形成する第1工程と、保護膜11の表面に
発熱素子12と配線電極13を設ける第2工程と、熱伝
導率の小さいガラス基板14を形成するとともにガラス
基板14に複数のビア15を形成する第3工程と、ガラ
ス基板14にハンダバンプ17aを備えたドライバーI
C17bを搭載する第4工程と、金属薄膜22をエッチ
ングにより溶解して製造用基板20とサーマルプリント
ヘッド10とを分離する第5工程を経て製造されるもの
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A thermal print head of the present invention uses a highly heat-resistant glass substrate 21 having a flat surface and a metal thin film 22 on one surface thereof as a manufacturing substrate 20, and using the manufacturing substrate 20 as a substrate. As a base, a first step of forming the protective film 11 on the surface of the metal thin film 22, a second step of providing the heating element 12 and the wiring electrode 13 on the surface of the protective film 11, and a glass substrate 14 having a small thermal conductivity A third step of forming and forming a plurality of vias 15 in the glass substrate 14, and a driver I having a solder bump 17a in the glass substrate 14;
It is manufactured through a fourth step of mounting the C17b and a fifth step of separating the manufacturing substrate 20 and the thermal print head 10 by dissolving the metal thin film 22 by etching.

【0016】上記のように構成することにより、第1工
程では金属薄膜22の表面に任意の厚さのガラス等の保
護膜11を高精度に形成することができる。次に、第2
工程では薄膜技術により、保護膜11の表面に発熱素子
12及び配線電極13を高密度に形成することができ
る。次に、第3工程においてガラス基板14に複数のビ
ア15を設けて各ビアにニッケル等の硬い金属を充填し
たことにより、サーマルプリントヘッド全体の強度を強
化することができる。次に、第4工程ではハンダバンプ
を備えたドライバーICをビア上に直接搭載することに
より、部品エリアを最小とし高集積化を可能とした。次
に、第5工程では金属薄膜22をエッチングにより溶解
して製造用基板20とサーマルプリントヘッド10とを
分離することにより、サーマルプリントヘッドを完成さ
せるとともに製造用基板20の再利用が可能となる。
With the above configuration, in the first step, the protective film 11 of glass or the like having an arbitrary thickness can be formed on the surface of the metal thin film 22 with high precision. Next, the second
In the process, the heating elements 12 and the wiring electrodes 13 can be formed at a high density on the surface of the protective film 11 by a thin film technique. Next, in the third step, a plurality of vias 15 are provided in the glass substrate 14 and each via is filled with a hard metal such as nickel, so that the strength of the entire thermal print head can be enhanced. Next, in the fourth step, a driver IC having solder bumps was directly mounted on the via, thereby minimizing the component area and enabling high integration. Next, in a fifth step, the metal thin film 22 is melted by etching to separate the manufacturing substrate 20 and the thermal print head 10, thereby completing the thermal print head and reusing the manufacturing substrate 20. .

【0017】上述のように製造用基板上に順次、保護
膜、発熱素子、電極、ガラス基板を形成してサーマルプ
リントヘッドを形成した後、金属薄膜をエッチングによ
り溶解して、製造用基板とサーマルプリントヘッドとを
分離させることにより、5μm程度の薄い保護膜を備え
ながら、強固な構造のサーマルプリントヘッドが製造さ
れる。
As described above, a protective film, a heating element, an electrode, and a glass substrate are sequentially formed on a manufacturing substrate to form a thermal print head. By separating the print head from the print head, a thermal print head having a strong structure while having a thin protective film of about 5 μm is manufactured.

【0018】また、保護膜に接して発熱素子が配設され
ているので、薄い保護膜を通して発熱素子から印字媒体
への熱伝導が極めて良好となる。さらに、保護膜を形成
した後に保護膜の表面に発熱素子と電極を形成すること
から、保護膜自体は発熱素子及び電極のパターンの凹凸
に影響を受けず、第5工程を経て分離されたサーマルプ
リントヘッドの保護膜の外側表面は極めて平坦である。
また、発熱体近傍で一つの配線電極を二つに分岐し各分
岐電極に発熱素子を副走査方向にずらせて配設して2個
の発熱体により1画素を構成させ、かつ主走査方向には
2列となるように発熱素子を等間隔に連続して多数配列
したことにより、発熱素子を高密度に配設できる。ま
た、各発熱素子の形状を矩形状に形成したことにより発
熱素子による印字ドットの形状はほぼ丸点状となり、主
走査及び副走査の何れの方向にも印字ドットが均等化さ
れる。
Further, since the heating element is provided in contact with the protective film, heat conduction from the heating element to the printing medium through the thin protective film is extremely good. Furthermore, since the heating element and the electrode are formed on the surface of the protection film after the formation of the protection film, the protection film itself is not affected by the unevenness of the pattern of the heating element and the electrode. The outer surface of the protective film of the print head is extremely flat.
In addition, one wiring electrode is branched into two in the vicinity of the heating element, and a heating element is arranged at each branch electrode so as to be shifted in the sub-scanning direction, so that one pixel is constituted by the two heating elements, and in the main scanning direction. By arranging a large number of heating elements continuously at equal intervals in two rows, the heating elements can be arranged at a high density. In addition, since the shape of each heating element is formed in a rectangular shape, the shape of the printing dot by the heating element becomes substantially a round dot, and the printing dot is equalized in both the main scanning direction and the sub-scanning direction.

【0019】[0019]

【実施例】本発明の代表的な実施例として、発熱ドット
密度が800ドット/インチ、印字長が2インチのカラ
ービデオプリンター用サーマルプリントヘッドについ
て、図を参照して説明する。図1は、本発明のサーマル
プリントヘッドの構造を示す断面図である。図1におい
てサーマルプリントヘッド10は、保護膜11の上部に
発熱素子12を形成し、発熱素子12の上部に電極13
を形成し、配線電極13の上部に耐熱性の絶縁薄膜19
を形成し、絶縁薄膜19の上部にガラス基板14及びビ
ア15及び共通電極16から成る積層回路を形成してい
る。ビア15は絶縁薄膜19及びガラス基板14に孔加
工を施し、ニッケル及び金メッキにて充填されている。
そして、ドライバーIC17aをビア15とハンダバン
プ17bの位置を合わせて搭載し、ケース18を搭載し
て、サーマルプリントヘッド10は上記のように製作さ
れる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a typical embodiment of the present invention, a thermal print head for a color video printer having a heating dot density of 800 dots / inch and a printing length of 2 inches will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing the structure of the thermal print head of the present invention. In FIG. 1, a thermal print head 10 has a heating element 12 formed on a protective film 11 and an electrode 13 formed on the heating element 12.
Is formed, and a heat-resistant insulating thin film 19 is formed on the wiring electrode 13.
Is formed on the insulating thin film 19 to form a laminated circuit including the glass substrate 14, the via 15, and the common electrode 16. The via 15 is formed by subjecting the insulating thin film 19 and the glass substrate 14 to a hole process, and is filled with nickel and gold plating.
Then, the driver IC 17a is mounted with the positions of the via 15 and the solder bump 17b aligned, and the case 18 is mounted. The thermal print head 10 is manufactured as described above.

【0020】図2(A)はサーマルプリントヘッドを製
作するときに使用する製造用基板20の断面図である。
製造用基板20は平面状の耐熱性の高いガラス基材21
の一方の面の全面に金属薄膜22を形成したものであ
り、金属薄膜22は高耐熱性でエッチングし易い材質に
て形成する。本実施例では、金属薄膜22はニッケル1
0%・タングステン90%の合金をメッキにて1μm厚
に形成したものである。なお、本実施例では製造用基板
20にガラス基板21を使用した例を示したが、強度及
び耐熱性の点から、同図(B)に示したようにセラミッ
ク基材23にガラス24をグレーズしたものを使用して
もよい。
FIG. 2A is a sectional view of a manufacturing substrate 20 used when manufacturing a thermal print head.
The manufacturing substrate 20 is a flat glass substrate 21 having high heat resistance.
The metal thin film 22 is formed on the entire surface of one of the surfaces. The metal thin film 22 is formed of a material having high heat resistance and easy to be etched. In this embodiment, the metal thin film 22 is made of nickel 1
An alloy of 0% and 90% tungsten is formed to a thickness of 1 μm by plating. In this embodiment, an example in which the glass substrate 21 is used as the manufacturing substrate 20 is shown. However, from the viewpoint of strength and heat resistance, as shown in FIG. You may use what was done.

【0021】図3は、製造用基板20にサーマルプリン
トヘッド10を形成したときの断面図である。サーマル
プリントヘッド製造の第1工程として、製造用基板20
の金属薄膜22の表面に5〜10μmの保護膜11を形
成する。保護膜11の厚さは、耐磨耗性が重視される産
業用のカード印字用途の場合は厚く、逆にビデオプリン
ターのように印字媒体が滑らかで保護膜の摩耗が少な
く、また、印字品質が要求される場合は薄くする。本実
施例の場合はビデオプリンター用であるので、ガラスペ
ーストを塗布し焼成して、5μm厚のガラス膜を形成し
た。
FIG. 3 is a sectional view when the thermal print head 10 is formed on the manufacturing substrate 20. As a first step of manufacturing a thermal print head, a manufacturing substrate 20 is used.
The protective film 11 of 5 to 10 μm is formed on the surface of the metal thin film 22 of FIG. The thickness of the protective film 11 is large in the case of an industrial card printing application in which abrasion resistance is important, and conversely, the printing medium is smooth and the protective film is less worn like a video printer. If it is required, make it thinner. Since this embodiment is for a video printer, a glass paste is applied and baked to form a glass film having a thickness of 5 μm.

【0022】第2工程では、保護膜11の表面に発熱素
子12及び配線電極13を形成する。本実施例では、高
密度を実現するために薄膜技術により発熱素子12及び
配線電極13を作成した。図5(A)は発熱素子12及
び電極13のパターンの一部拡大平面図である。配線電
極13は発熱素子の直近で分岐電極93と分岐電極94
に枝分かれし、副走査方向に位置をずらして配置した発
熱素子91と発熱素子92にそれぞれ接続されている。
そして、図のように各分岐電極に副走査方向に位置をず
らした2個の発熱素子を、主走査方向には2列となるよ
うに多数個配列し、配線電極13は63.5μmのピッ
チとなり、各発熱素子のピッチは31.75μmと倍密
度になっている。また、各発熱素子の形状を矩形に形成
したため、図5(B)に示したように印字ドットがほぼ
丸点状となり高精細の画像印字を得ることができるとと
もに、発熱素子の幅が一定であるのでトリミングに際し
て発熱素子の一部に電流が集中して断線破壊することが
ない。本実施例のサーマルプリントヘッドでは、一つの
大きさが約0.025mm×0.035mmの矩形の発
熱素子を主走査方向に2列に合計1536個を配列し、
5μm程度の薄い保護膜を通して印字したことにより、
一つの発熱素子による印字ドットの大きさは直径約0.
03mmの略円形の印字結果が得られた。
In the second step, a heating element 12 and a wiring electrode 13 are formed on the surface of the protective film 11. In this embodiment, the heating element 12 and the wiring electrode 13 were formed by a thin film technique in order to realize a high density. FIG. 5A is a partially enlarged plan view of the pattern of the heating element 12 and the electrode 13. The wiring electrode 13 has a branch electrode 93 and a branch electrode 94 immediately adjacent to the heating element.
, And are connected to a heating element 91 and a heating element 92, respectively, which are displaced in the sub-scanning direction.
As shown in the figure, a large number of two heating elements, which are displaced in the sub-scanning direction, are arranged on each branch electrode in two rows in the main scanning direction, and the wiring electrodes 13 have a pitch of 63.5 μm. The pitch of each heating element is 31.75 μm, which is a double density. Further, since the shape of each heating element is formed in a rectangular shape, as shown in FIG. 5 (B), the printing dots become substantially round dots, so that high-definition image printing can be obtained, and the width of the heating element is constant. Therefore, the current does not concentrate on a part of the heating element during the trimming, and there is no breakage of the wire. In the thermal print head of this embodiment, a total of 1536 rectangular heating elements each having a size of about 0.025 mm × 0.035 mm are arranged in two rows in the main scanning direction.
By printing through a thin protective film of about 5 μm,
The size of the printing dot by one heating element is about 0.
A substantially circular print result of 03 mm was obtained.

【0023】第3工程では、サーマルプリントヘッド基
板として、ビアを備えたガラス基板14を形成する。ビ
ア15は、ガラス基板14の両面に別れて配設された配
線電極13とドライバーIC17aを電気接続するとと
もに、プリントヘッド全体としての強度を高く維持する
よう作用する。まず、発熱素子及び電極の表面に薄膜技
術にて絶縁薄膜19を形成し、この絶縁薄膜19の表面
にガラスペーストを塗布し、ビア15を加工した後60
0℃程度にて燒結してガラス基板14を形成する。その
後、ドライエッチングにて絶縁薄膜19のビア15に当
接する部位に孔加工をおこない配線電極13の表面を露
出させる。絶縁薄膜19を先に形成したのは、高温で焼
成する際に発熱素子や電極の酸化を防止するためであ
る。絶縁薄膜19は、本実施例では薄膜技術によりSi
を2μmの厚さに形成した。次に、ビア15をメッ
キにてニッケルを充填させ、表面に金をメッキした。そ
して、共通電極としてガラス基板14上に導体ペースト
を塗布し、150℃にて乾燥させ共通電極14を形成し
た。上記のように形成したことにより、本実施例ではガ
ラス基板14の厚みは約0.10mm、ビア15は約
0.15mmの間隔で約4百個を実装している。
In the third step, a glass substrate 14 having vias is formed as a thermal print head substrate. The vias 15 serve to electrically connect the wiring electrodes 13 separately provided on both surfaces of the glass substrate 14 and the driver IC 17a, and to maintain the strength of the entire print head at a high level. First, an insulating thin film 19 is formed on the surfaces of the heating element and the electrodes by a thin film technique, a glass paste is applied to the surface of the insulating thin film 19, and the via 15 is processed.
The glass substrate 14 is formed by sintering at about 0 ° C. Thereafter, a hole is formed in a portion of the insulating thin film 19 that contacts the via 15 by dry etching, so that the surface of the wiring electrode 13 is exposed. The reason why the insulating thin film 19 is formed first is to prevent the heating elements and the electrodes from being oxidized when firing at a high temperature. In this embodiment, the insulating thin film 19 is made of Si by thin film technology.
O 2 was formed to a thickness of 2 μm. Next, the via 15 was filled with nickel by plating, and the surface was plated with gold. Then, a conductive paste was applied on the glass substrate 14 as a common electrode, and dried at 150 ° C. to form the common electrode 14. In this embodiment, the thickness of the glass substrate 14 is about 0.10 mm, and about four hundred vias 15 are mounted at intervals of about 0.15 mm.

【0024】第4工程として、金メッキを施したビア1
5にドライバーIC17aのハンダバンプ17bの位置
を合わせ、高濃度のフラックスで仮固定して半田付けす
る。このようにして積層回路を構成し、また、配線エリ
アを必要としないハンダバンプ17bを備えたドライバ
ーIC17aを採用することにより高集積化を図ったこ
とにより、本実施例のサーマルプリントヘッドは、厚み
3mm、印字方向の幅55mm及び高さ1mmと従来の
ものと比べると飛躍的に小型化を実現した。
As a fourth step, the gold-plated via 1
The solder bump 17b of the driver IC 17a is aligned with 5 and temporarily fixed with a high-concentration flux and soldered. In this way, the thermal print head of this embodiment has a thickness of 3 mm by forming a laminated circuit and employing a driver IC 17a having a solder bump 17b which does not require a wiring area to achieve high integration. With a width of 55 mm and a height of 1 mm in the printing direction, the size was dramatically reduced as compared with the conventional one.

【0025】第5工程として、金属薄膜22をエッチン
グにより溶解して製造用基板20からサーマルプリント
ヘッド10を分離し、サーマルプリントヘッド10を完
成させる。本実施例のニッケル・タングステン合金によ
る金属薄膜に対しては、カセイソーダと過酸化水素水の
混合液をエッチング液として使用した。図4は、エッチ
ングにより金属薄膜22が溶解して取り除かれた後の、
サーマルプリントヘッド10と製造用基板20が分離さ
れた状態を示す断面図である。このとき分離された製造
用基板は再度金属薄膜を形成することにより、本発明の
サーマルプリントヘッドの製造用基板20として繰り返
し使用することができる。
In a fifth step, the thermal print head 10 is separated from the manufacturing substrate 20 by dissolving the metal thin film 22 by etching, and the thermal print head 10 is completed. For the metal thin film made of the nickel-tungsten alloy of this embodiment, a mixed solution of caustic soda and hydrogen peroxide was used as an etching solution. FIG. 4 shows the state after the metal thin film 22 is dissolved and removed by etching.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where a thermal print head 10 and a manufacturing substrate 20 are separated. The manufacturing substrate separated at this time can be repeatedly used as the manufacturing substrate 20 of the thermal print head of the present invention by forming a metal thin film again.

【0026】上記実施例では、配線電極13を薄膜で形
成しており、ガラス基板を作成するときガラスペースト
を600℃の高温で焼結する際に薄膜の配線電極13が
酸化しないよう、配線電極13とガラス基板14の間に
絶縁薄膜19を設けた例を示したが、電極を厚膜で形成
し、600℃以上の高温で焼結した場合は絶縁薄膜19
は不要となる。また、上記実施例の保護膜11は厚膜ガ
ラスにより形成した場合を示したが、薄膜技術にて無機
膜を形成してもよい。同様に、製造用基板20の金属薄
膜22に代えて、高耐熱性でエッチング性のよい窒化シ
リコン等の無機膜を形成してもよい。
In the above embodiment, the wiring electrode 13 is formed of a thin film. When the glass paste is sintered at a high temperature of 600 ° C. when forming a glass substrate, the wiring electrode 13 is formed so as not to be oxidized. Although the example in which the insulating thin film 19 is provided between the substrate 13 and the glass substrate 14 is shown, when the electrode is formed as a thick film and sintered at a high temperature of 600 ° C. or more, the insulating thin film 19 is formed.
Becomes unnecessary. In addition, although the case where the protective film 11 of the above embodiment is formed of thick glass is shown, an inorganic film may be formed by a thin film technique. Similarly, instead of the metal thin film 22 of the manufacturing substrate 20, an inorganic film such as silicon nitride having high heat resistance and good etching properties may be formed.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明によれば、予め金属薄膜をコーテ
ィングした高耐熱性のガラス基材をサーマルプリントヘ
ッドの製造用基板として用いたことにより、任意の厚さ
の保護膜を金属薄膜上に形成することができるので、保
護膜の厚さを5μm程度まで薄くすることができた。そ
のため、発熱体から薄い保護膜を通して印字媒体への熱
伝導が良く、エネルギー効率の良いサーマルプリントヘ
ッドを実現した。
According to the present invention, a protective film having an arbitrary thickness can be formed on a metal thin film by using a high heat-resistant glass substrate previously coated with a metal thin film as a substrate for manufacturing a thermal print head. As a result, the thickness of the protective film could be reduced to about 5 μm. Therefore, heat conduction from the heating element to the print medium through the thin protective film is good, and a thermal print head with high energy efficiency is realized.

【0028】また、予め金属薄膜をコーティングした製
造用基板上にサーマルプリントヘッドを保護膜から順次
組み上げていく各工程において、金属薄膜が製造用基板
のガラス基材とサーマルプリントヘッド部との接着部材
として有効に作用し、高精度高密度のサーマルプリント
ヘッドの作成を可能にした。さらに、サーマルプリント
ヘッドを製造用基板上に作成した後、金属薄膜をエッチ
ングにより溶解して製造用基板とサーマルプリンタヘッ
ド部とを分離することにより、製造用基板のガラス基材
を再利用可能にした。
Further, in each step of sequentially assembling a thermal print head from a protective film on a manufacturing substrate coated with a metal thin film in advance, an adhesive member between the glass substrate of the manufacturing substrate and the thermal print head portion. And effectively produced a high-precision, high-density thermal printhead. Furthermore, after creating a thermal print head on a manufacturing substrate, the thin metal film is melted by etching to separate the manufacturing substrate from the thermal printer head, making the glass substrate of the manufacturing substrate reusable. did.

【0029】サーマルプリントヘッドのガラス基板のビ
アを硬い金属にて充填したことによりガラス基板そのも
のを補強し、保護膜を薄くしながらサーマルプリントヘ
ッド全体の機械的強度を高めることができた。また、ガ
ラス基板にビアを備えたことにより、ガラス基板上にド
ライバーICを搭載することが可能となり、かつ、ハン
ダバンプを備えたドライバーICを採用することにより
配線エリアを不要として、サーマルプリントヘッドの寸
法を断面積にて3mm×1mmと小型化を実現した。こ
れは、定尺基板からの取り個数の増加になりコスト低減
に貢献している。
By filling the vias of the glass substrate of the thermal print head with hard metal, the glass substrate itself was reinforced and the mechanical strength of the entire thermal print head could be increased while the protective film was thinned. In addition, the provision of vias in the glass substrate makes it possible to mount a driver IC on the glass substrate, and the use of a driver IC with solder bumps eliminates the need for a wiring area, thus reducing the size of the thermal print head. Was reduced in size to 3 mm × 1 mm in cross-sectional area. This increases the number of pieces taken from a fixed-size substrate and contributes to cost reduction.

【0030】保護膜が薄く、かつ、保護膜に発熱体が直
接形成されているので、保護膜を通して印字媒体への熱
伝導が良く、エネルギー効率が高い。また、保護膜表面
の平坦性が良いためインクリボンのシワの発生を防止で
きることとなり、インクリボンの薄膜化も可能となっ
た。一例として、溶融型熱転写インクリボンでは従来ベ
ースフィルムの厚さ3.5μm・インクの厚さ1.2μ
mが最も薄かったが、それぞれ2.5μm、 0.5μ
m程度の薄膜化を実現し、より少ない発熱エネルギーで
の印字を可能にした。
Since the protective film is thin and the heating element is formed directly on the protective film, heat conduction to the print medium through the protective film is good, and energy efficiency is high. Further, since the flatness of the surface of the protective film is good, it is possible to prevent the occurrence of wrinkles of the ink ribbon, and it is possible to reduce the thickness of the ink ribbon. As an example, in a fusion type thermal transfer ink ribbon, the thickness of the conventional base film is 3.5 μm and the thickness of the ink is 1.2 μm.
m was the thinnest, but 2.5 μm and 0.5 μm, respectively.
m, which enables printing with less heat generation energy.

【0031】一つの電極を発熱体近傍で二つに分岐さ
せ、一電極あたり副走査方向に位置をずらせた二個の発
熱素子を設け、かつ主走査方向に連続して多数配列した
ことにより、発熱素子の高密度配置が可能となった。ま
た、発熱素子の形状を矩形に形成したことにより印字ド
ットを極めて小さな丸点状にするとともに、トリミング
の際の断線破壊の問題を解決することができた。このよ
うな発熱素子及び電極構造により、デジタル写真等に要
求される高品位高精細印刷を実現するとともに、電極間
隔は従来のドライバーICの端子ピッチに合わせること
ができるので、部品コスト、製造コストを低く抑えるこ
とを可能にした。
One electrode is branched into two in the vicinity of the heating element, and two heating elements are shifted from each other in the sub-scanning direction per electrode, and a large number of elements are continuously arranged in the main scanning direction. High-density arrangement of heating elements is now possible. In addition, since the heating element was formed in a rectangular shape, the print dots were formed into extremely small round dots, and the problem of disconnection breakage during trimming could be solved. With such a heating element and electrode structure, high-quality and high-definition printing required for digital photography and the like can be realized, and the electrode spacing can be matched to the terminal pitch of the conventional driver IC, so that component costs and manufacturing costs are reduced. Made it possible to keep it low.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のサーマルプリントヘッドの構造を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a thermal print head of the present invention.

【図2】(A)はサーマルプリントヘッドの製造用基板
の構造を示す断面図である。(B)は請求項2記載の製
造用基板の構造を示す断面図である。
FIG. 2A is a cross-sectional view illustrating a structure of a substrate for manufacturing a thermal print head. (B) is a sectional view showing the structure of the manufacturing substrate according to claim 2.

【図3】製造用基板上にサーマルプリントヘッドを形成
した状態を示す断面図である
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a thermal print head is formed on a manufacturing substrate.

【図4】サーマルプリントヘッドと製造用基板を分離し
た状態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where a thermal print head and a manufacturing substrate are separated.

【図5】(A)は発熱素子及び電極のパターンを示す拡
大平面図である。(B)は各発熱素子の印字ドットの状
態を示す図である。
FIG. 5A is an enlarged plan view showing a pattern of a heating element and an electrode. (B) is a diagram showing a state of a print dot of each heating element.

【図6】本発明の発熱素子と電極の電気接続を示す回路
図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing electrical connection between a heating element and electrodes according to the present invention.

【図7】従来のサーマルプリントヘッドの構造の一例を
示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing an example of the structure of a conventional thermal print head.

【図8】改良されたサーマルプリントヘッドの構造の一
例を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing an example of the structure of an improved thermal print head.

【図9】図8のサーマルプリントヘッドの発熱素子周辺
を示す拡大断面図である
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of a heating element of the thermal print head of FIG.

【図10】(A)は従来のサーマルヘッドの発熱素子の
配列を示す拡大平面図である。(B)は各発熱素子の印
字ドットの状態を示す図である。
FIG. 10A is an enlarged plan view showing an arrangement of heating elements of a conventional thermal head. (B) is a diagram showing a state of a print dot of each heating element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…サーマルプリントヘッド 11…保護膜 12…発熱素子 13…配線電極 14…ガラス基板 15…ビア 16…共通電極(導体ペースト) 17a…ドライバーIC 17b…ハンダバンプ 18…ケース 19…絶縁薄膜 20…製造用基板 21…ガラス基材 22…金属薄膜 23…セラミック基材 24…ガラス 91,92…分岐電極 93,94…発熱素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Thermal print head 11 ... Protective film 12 ... Heating element 13 ... Wiring electrode 14 ... Glass substrate 15 ... Via 16 ... Common electrode (conductor paste) 17a ... Driver IC 17b ... Solder bump 18 ... Case 19 ... Insulating thin film 20 ... Manufacturing Substrate 21 ... Glass base material 22 ... Metal thin film 23 ... Ceramic base material 24 ... Glass 91,92 ... Branch electrode 93,94 ... Heating element

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の表面に金属薄膜(22)を備えた
平面状のガラス基材(21)からなる製造用基板(2
0)の金属薄膜(22)の表面に保護膜(11)を形成
し、保護膜(11)の表面にサーマルプリントヘッド
(10)を組み上げた後に金属薄膜(22)をエッチン
グにより溶解して製造用基板(20)とサーマルプリン
トヘッド(10)とを分離すること特徴とするサーマル
プリントヘッドの製造方法。
1. A manufacturing substrate (2) comprising a flat glass substrate (21) having a metal thin film (22) on one surface.
0) A protective film (11) is formed on the surface of the metal thin film (22), a thermal print head (10) is assembled on the surface of the protective film (11), and then the metal thin film (22) is dissolved by etching. A method for manufacturing a thermal print head, comprising separating a substrate for use (20) and a thermal print head (10).
【請求項2】 製造用基板(20)は、平面状のセラミ
ック基材(23)の一方の表面にガラス(24)をグレ
ーズし、かつ、ガラス(24)の表面に金属薄膜(2
2)を形成したものであることを特徴とする請求項1記
載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
2. The manufacturing substrate (20) has a glass (24) glazed on one surface of a planar ceramic substrate (23) and a metal thin film (2) on a surface of the glass (24).
2. The method according to claim 1, wherein the method (2) is formed.
【請求項3】 請求項1又は2記載のサーマルプリント
ヘッドの製造方法であって、製造用基板(20)の金属
薄膜(22)の表面に保護膜(11)を形成する第1工
程と、保護膜(11)の表面に発熱素子(12)と配線
電極(13)を設ける第2工程と、ガラス基板(14)
を形成するとともにガラス基板(14)に複数のビア
(15)を形成する第3工程と、ガラス基板(14)に
ハンダバンプ(17b)を備えたドライバーIC(17
b)を搭載する第4工程と、金属薄膜(22)をエッチ
ングにより溶解して製造用基板(20)とサーマルプリ
ントヘッド(10)とを分離する第5工程とを備えたこ
と特徴とするサーマルプリントヘッドの製造方法。
3. A method for manufacturing a thermal print head according to claim 1, wherein a first step of forming a protective film (11) on a surface of the metal thin film (22) of the manufacturing substrate (20); A second step of providing a heating element (12) and a wiring electrode (13) on the surface of the protective film (11), and a glass substrate (14)
Forming a plurality of vias (15) in the glass substrate (14) and a driver IC (17) having solder bumps (17b) in the glass substrate (14).
b) mounting a thermal printhead, and a fifth step of dissolving the metal thin film (22) by etching to separate the manufacturing substrate (20) from the thermal print head (10). Manufacturing method of print head.
【請求項4】 1画素を構成する発熱素子を主走査方向
に等間隔に複数個連続して配設してなるサーマルプリン
トヘッドであって、1画素を構成する発熱素子が副走査
方向に位置をずらせて配置した二つの発熱素子(91,
92)からなり、かつ各発熱素子(91,92)は一つ
の配線電極(13)を発熱素子近傍で二つに分岐した分
岐電極(93,94)にそれぞれ接続されるとともに、
各発熱素子の形状を矩形状に形成したことを特徴とする
サーマルプリントヘッド。
4. A thermal print head in which a plurality of heating elements forming one pixel are continuously arranged at equal intervals in a main scanning direction, wherein the heating elements forming one pixel are positioned in a sub-scanning direction. Two heating elements (91,
92), and each heating element (91, 92) is connected to a branch electrode (93, 94) that branches one wiring electrode (13) into two near the heating element.
A thermal printhead, wherein each heating element is formed in a rectangular shape.
【請求項5】 発熱素子(12)と配線電極(13)と
ドライバーIC(17a)とガラス基板(14)を備え
て成るサーマルプリントヘッドであって、ガラス基板
(14)に複数のビア(15)を形成し、かつビア(1
5)の孔に硬い金属を充填したことを特徴とするサーマ
ルプリントヘッド。
5. A thermal print head comprising a heating element (12), a wiring electrode (13), a driver IC (17a) and a glass substrate (14), wherein a plurality of vias (15) are provided in the glass substrate (14). ) And vias (1)
5) A thermal print head, wherein the holes are filled with a hard metal.
【請求項6】請求項3記載の製造方法により製造された
ことを特徴とする、請求項4若しくは5記載のサーマル
プリントヘッド。
6. The thermal print head according to claim 4, wherein the thermal print head is manufactured by the manufacturing method according to claim 3.
JP2000172758A 2000-05-02 2000-05-02 Thermal printing head and its manufacturing method Pending JP2001315370A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000172758A JP2001315370A (en) 2000-05-02 2000-05-02 Thermal printing head and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000172758A JP2001315370A (en) 2000-05-02 2000-05-02 Thermal printing head and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001315370A true JP2001315370A (en) 2001-11-13

Family

ID=18675102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000172758A Pending JP2001315370A (en) 2000-05-02 2000-05-02 Thermal printing head and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001315370A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100418773C (en) * 2004-07-16 2008-09-17 佳能株式会社 Liquid ejection element and manufacturing method therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100418773C (en) * 2004-07-16 2008-09-17 佳能株式会社 Liquid ejection element and manufacturing method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4764659A (en) Thermal head
US7616223B2 (en) Thermal printhead
EP1834791B1 (en) Thermal head and printing device
EP1834793A2 (en) Thermal head and printing device
CN110509672B (en) Thermal print head
JP4458054B2 (en) Thermal head and printer device
JP2001315370A (en) Thermal printing head and its manufacturing method
JPH09272202A (en) Ink jet recording head
JP2007245671A (en) Thermal head and printer apparatus
CN115339245A (en) Thermal print head and method of manufacturing thermal print head
JP3707071B2 (en) Ink jet print head and manufacturing method thereof
JPH0825272B2 (en) Liquid jet recording head
JP2002067367A (en) Thermal head and its manufacturing method
JP3824246B2 (en) Manufacturing method of thermal head
JP6426528B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2000313133A (en) Small thermal print head
JP2019064134A (en) Thermal head and thermal printer
JP3844155B2 (en) Manufacturing method of thermal head
CN112721460B (en) Thermal print head with separated reverse structure
JPH05254164A (en) High density mounting functional device
JP2018167439A (en) Thermal head and thermal printer
JP2011025548A (en) Wiring board, method for manufacturing the same, recording head and recorder
JP2023165460A (en) thermal print head
JP2022055600A (en) Thermal print head
JP2024009569A (en) Thermal print head and manufacturing method for the same