JP2001307624A - シャドウマスクの洗浄方法、シャドウマスクの洗浄装置、シャドウマスク、および陰極線管 - Google Patents

シャドウマスクの洗浄方法、シャドウマスクの洗浄装置、シャドウマスク、および陰極線管

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JP2001307624A
JP2001307624A JP2000117035A JP2000117035A JP2001307624A JP 2001307624 A JP2001307624 A JP 2001307624A JP 2000117035 A JP2000117035 A JP 2000117035A JP 2000117035 A JP2000117035 A JP 2000117035A JP 2001307624 A JP2001307624 A JP 2001307624A
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Yoshiaki Sawada
義昭 沢田
Kazunari Hirayama
和成 平山
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    • H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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    • H01J2229/07—Shadow masks

Abstract

(57)【要約】 【課題】 超音波32を有効利用し、超音波32が直接的に
照射されにくいシャドウマスク３の周辺部3cにも超音波
32を十分に照射し、シャドウマスク３を確実に洗浄す
る。 【解決手段】 超音波発振手段31からシャドウマスク３
ヘ向けて超音波32を発振し、超音波32によってシャドウ
マスク３に付着した異物を除去し、シャドウマスク３を
洗浄する。超音波発振手段31からシャドウマスク３へ向
けて発振した超音波32の一部を、超音波反射手段に31よ
りシャドウマスク３の周辺部3cヘ向けて反射させ、超音
波32を有効利用する。超音波発振手段31からの超音波32
が直接的に照射されにくいシャドウマスク３の周辺部3c
にも超音波32を十分に照射し、シャドウマスク３を確実
に洗浄できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シャドウマスクを
超音波洗浄するシャドウマスクの洗浄方法、シャドウマ
スクの洗浄装置、これらシャドウマスクの洗浄方法およ
びその装置により洗浄されたシャドウマスク、およびこ
のシャドウマスクを備えた陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】図９に陰極線管のパネル１にシャドウマ
スク構造体２を組み込んだ断面図、図１０にシャドウマ
スク構造体２の一部の斜視図を示し、シャドウマスク構
造体２は、シャドウマスク３およびこのシャドウマスク
３を保持するフレーム４を有している。そして、一般
に、シャドウマスク３とフレーム４との組立工程では、
シャドウマスク３をプレス成形し、洗浄した後、黒化処
理にてシャドウマスク３の表面に錆びの防止や反射防止
の役目をする黒化膜の被覆を形成し、一方、フレーム４
をプレス成形し、洗浄した後、黒化処理にてフレーム４
の表面に錆びの防止や反射防止の役目をする黒化膜の被
覆を形成し、フレーム４のコーナー部や辺上部に、パネ
ル１のパネルピン1aと嵌合するホルダ５を溶接する。こ
れらシャドウマスク３とフレーム４とを組み合わせ、シ
ャドウマスク３とフレーム４とを複数箇所の溶接点６に
て溶接する。そして、パネル１のパネルピン1aにフレー
ム４のホルダ５を嵌合して、パネル１とシャドウマスク
構造体２とを組み合わせ、パネル１とシャドウマスク構
造体２とが所望の組立精度を保つように保持する。
【０００３】図１１にシャドウマスク３とフレーム４と
を溶接する説明図を示し、一般に、シャドウマスク３に
は鉄やアンバー材が、フレーム４には鉄が使われてお
り、これらシャドウマスク３とフレーム４との接合には
抵抗溶接によるスポット溶接を用いている。このスポッ
ト溶接では、電極11とバック電極12との間にシャドウマ
スク３とフレーム４とを挟み込み、電極11とバック電極
12との間に溶接電流を流すことにより、シャドウマスク
３とフレーム４との接合部分を溶着させて溶着部13を形
成する。
【０００４】この溶接時においては、シャドウマスク３
およびフレーム４の表面に形成された導電性の悪い黒化
膜14が電極11およびバック電極12との間に介在するた
め、黒化膜14が破壊されるときや、金属同士が溶着する
ときにスプラッシュ15が発生する。
【０００５】図１２(a)にシャドウマスク３の断面図、
図１２(b)にシャドウマスク３の拡大断面図を示し、シ
ャドウマスク３の板厚は０．１〜０．２５ｍｍで、シャ
ドウマスク３のマスク部3aには、大きさが１００μｍか
ら２００μｍ程度のすり鉢状の円孔や矩形孔などの複数
個のマスク孔21が表裏に形成されており、このマスク孔
21のパネル１と対向する外面側が大径孔22で、電子銃と
対向する内面側が小径孔23に形成されている。シャドウ
マスク３のマスク孔21を介してパネル１の蛍光面を露光
し、所望の蛍光面を得ており、つまり、マスク孔21の１
つに対して青、赤、緑の３色の蛍光体を露光するので、
マスク孔21の１つでもスプラッシュ15やごみなどの異物
24によって塞がれると、欠陥を有する蛍光面になってし
まう。
【０００６】したがって、シャドウマスク３のプレス成
形によって折り曲げたスカート部3bとフレーム４とを溶
接する際、フレーム４の内側にシャドウマスク３を溶接
する場合には、溶接時にシャドウマスク３から飛散する
スプラッシュ15がシャドウマスク３の内面に飛散し、一
方、フレーム４の外側にシャドウマスク３を溶接する場
合には、溶接時にフレーム４から飛散するスプラッシュ
15がシャドウマスク３の内面に飛散する。そして、スプ
ラッシュ15が発生すると、シャドウマスク３の内面の小
径孔23にスプラッシュ15が入りやすく、孔詰まりの原因
になる。特に、溶接点がシャドウマスク３の周辺部であ
るため、スプラッシュ15による孔詰まりはシャドウマス
ク３の周辺部に発生しやすく、また、スプラッシュ15な
どの異物24は、シャドウマスク３とフレーム４との間に
溜まりやすい。
【０００７】そこで、従来、シャドウマスク３の洗浄処
理を施して異物24を除去するようにしており、この洗浄
処理には、一般に水中における超音波洗浄を用いてい
る。図１３に洗浄装置の概略図を示し、水中でシャドウ
マスク３を水平、もしくは垂直に保持し、このシャドウ
マスク３に対して超音波発振器31から発振した超音波32
を照射し、異物24を除去する。例えば、シャドウマスク
３のフレーム４側から、つまりシャドウマスク３の内面
の小径孔23側から超音波32を照射した場合、小径孔23を
通過した超音波32によって大径孔22に詰まった異物24を
除去する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように、超音波発振器31からシャドウマスク３ヘ向けて
超音波32を発振するだけでは、シャドウマスク３を通過
したり、シャドウマスク３の外側を通過した超音波32を
有効利用しておらず、シャドウマスク３に超音波32の照
射されにくい箇所に対して超音波32を有効に照射させる
ことができず、シャドウマスク３を十分に洗浄できない
問題がある。
【０００９】特に、図１３および図１４に示すように、
シャドウマスク３のフレーム４側から、つまりシャドウ
マスク３の内面の小径孔23側から超音波32を照射した場
合、シャドウマスク３の周辺部3cは、フレーム４が邪魔
をして超音波32が照射されにくいため、十分に洗浄でき
ない問題がある。
【００１０】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、超音波発振手段から発振した超音波を有効利用
し、例えば超音波発振手段からの超音波が直接的に照射
されにくいシャドウマスクの周辺部にも超音波を十分に
照射し、シャドウマスクを確実に洗浄できるシャドウマ
スクの洗浄方法、シャドウマスクの洗浄装置、これらシ
ャドウマスクの洗浄方法およびその装置により洗浄され
たシャドウマスク、およびこのシャドウマスクを備えた
陰極線管を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明のシャドウマスク
の洗浄方法は、超音波発振手段からシャドウマスクヘ向
けて超音波を発振する工程と、超音波発振手段から発振
した超音波の一部を超音波反射手段によりシャドウマス
クヘ向けて反射させる工程とを具備しているものであ
る。
【００１２】本発明のシャドウマスクの洗浄装置は、シ
ャドウマスクヘ向けて超音波を発振する超音波発振手段
と、この超音発振手段から発振した超音波の一部をシャ
ドウマスクヘ向けて反射させる超音波反射手段とを具備
しているものである。
【００１３】そして、超音波発振手段からシャドウマス
クヘ向けて超音波を発振し、超音波によってシャドウマ
スクに付着した異物を除去するなどして、シャドウマス
クを洗浄する。超音波発振手段から発振した超音波の一
部を超音波反射手段によりシャドウマスクヘ向けて反射
させ、超音波を有効利用し、シャドウマスクを確実に洗
浄する。
【００１４】また、超音波反射手段は、超音波発振手段
から発振した超音波の一部をシャドウマスクの周辺部ヘ
向けて反射させることにより、超音波発振手段からの超
音波が直接的に照射されにくいシャドウマスクの周辺部
にも超音波を十分に照射し、シャドウマスクを確実に洗
浄する。
【００１５】また、超音波反射手段は、シャドウマスク
を通過した超音波を反射させることにより、シャドウマ
スクを通過した超音波を有効に利用可能とする。
【００１６】また、超音波反射手段は、超音波発振手段
と直接対向して超音波を反射させることにより、すなわ
ち超音波発振手段から発振した超音波の一部を直接反射
させることにより、シャドウマスクに直接照射されない
超音波などを有効利用する。
【００１７】また、シャドウマスクと超音波反射手段と
の位置を相対的に変化させ、超音波反射手段で反射する
超音波のシャドウマスクに対する照射位置を変化させる
ことにより、シャドウマスクの広い範囲に対して超音波
を照射したり、超音波の照射に強弱をつけ、洗浄効果を
向上可能とする。
【００１８】本発明のシャドウマスクは、本発明のシャ
ドウマスクの洗浄方法またはシャドウマスクの洗浄装置
により洗浄されたものであるため、品質のよいシャドウ
マスクを提供可能とする。
【００１９】本発明の陰極線管は、本発明のシャドウマ
スクの洗浄方法またはシャドウマスクの洗浄装置により
洗浄されたシャドウマスクを備えたものであるため、品
質のよい陰極線管を提供可能とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を参照して説明する。
【００２１】なお、従来の技術で説明した構成と同一構
成については同一符号を用いて説明する。
【００２２】図１および図２に第１の実施の形態を示
し、図１はシャドウマスクの洗浄装置の断面図、図２は
超音波発振手段が発振する超音波の各例(a)(b)(c)に示
す波形図である。図１において、41は処理槽で、この処
理槽41内に貯留された水などの液体42中でシャドウマス
ク３（シャドウマスク３およびフレーム４を有するシャ
ドウマスク構造体２）の超音波洗浄処理がなされる。
【００２３】43は搬送手段で、この搬送手段43は、シャ
ドウマスク３を吊り下げ状態に支持して各処理工程をバ
ッチ処理に応じて搬送するもので、超音波洗浄処理工程
では、シャドウマスク３を処理槽41の外部から処理槽41
の液体42中に浸漬させて超音波洗浄処理させるとともに
処理後に処理槽41の液体42中から外部に出して搬送する
ようにしている。この搬送手段43では、吊り下げ状態に
支持するシャドウマスク３の上端側を基準として大きさ
の異なる各種のシャドウマスク３を支持して処理可能と
している。なお、図１には２種類の大きさのシャドウマ
スクを示している。
【００２４】処理槽41内の液体42中の一側、つまり処理
槽41内におけるシャドウマスク３の搬送域の一側には、
シャドウマスク３へ向けて超音波32を発振する超音波発
生手段としての超音波発生器31が支持部33によって設置
されている。この超音波発生器31は、シャドウマスク３
の外形よりも大きな発振面34を有し、この発振面34から
発振された超音波32が、液体42を媒体として、シャドウ
マスク３の内面側、つまりマスク孔21の小径孔23側に直
接的に照射される。超音波32の種類としては、図２(a)
に示す単一の周波数の超音波32、図２(b)に示す高い周
波数と低い周波数とに交互に変化させた超音波32、図２
(c)に示す出力を増減させた超音波32などを利用でき
る。
【００２５】処理槽41内の液体42中の他側、つまり処理
槽41内におけるシャドウマスク３の搬送域の他側には、
超音波発振器31からシャドウマスク３へ向けて発振され
た超音波32をシャドウマスク３の周辺部3cへ向けて反射
させる超音波反射手段51が設置されている。この超音波
反射手段51は、例えばステンレス製などの反射板52を有
し、この反射板52が支持部53を介して処理槽41に取り付
けられている。反射板52は、全体的には搬送手段43に吊
り下げ支持されたシャドウマスク３の外形と相似形とさ
れ、複数の反射面54を有し、これら複数の反射面54によ
って、シャドウマスク３のマスク孔21を通過した超音波
32、およびシャドウマスク３の外側を通過した超音波32
をシャドウマスク３の周辺部3cヘ向けて反射するように
構成されている。そして、超音波反射手段51で超音波32
の反射方向を変えることにより、超音波発振器31から発
振された超音波32と反射した超音波32とが互いに打ち消
し合って減衰するのを防止できる。
【００２６】なお、搬送手段43に吊り下げ支持されたシ
ャドウマスク３の下端位置はシャドウマスク３の大きさ
によって異なるが、超音波反射手段51中間付近に向けて
超音波32を反射させることにより、各大きさのシャドウ
マスク３の周辺部3cに対して超音波32を十分に照射でき
る。
【００２７】そして、シャドウマスク３の超音波洗浄処
理の工程では、搬送手段43によってシャドウマスク３を
処理槽41の液体42中の超音波発振器31と超音波反射手段
51との間に供給し、超音波発振器31からシャドウマスク
３へ向けて超音波32を発振する。
【００２８】超音波発振器31から発振された超音波32
は、シャドウマスク３の内面側、つまりマスク孔21の小
径孔23側に直接的に照射されて、小径孔23から大径孔22
に通過する。このとき、大径孔22に異物24が詰まってい
た場合には、超音波32によって大径孔22から異物24を除
去できる。
【００２９】シャドウマスク３のマスク孔21を通過した
超音波32、およびシャドウマスク３の外側を通過した超
音波32は、超音波反射手段51によりシャドウマスク３の
周辺部3cヘ向けて反射されて、大径孔22から小径孔23に
通過する。このとき、小径孔23に異物24が詰まっていた
場合には、超音波32によって小径孔23から異物24を除去
できる。しかも、フレーム４との間などのシャドウマス
ク３の周辺部3cにある異物24なども除去できる。なお、
反射面54に照射される超音波32は、照射されたときと略
同じ出力を保ったまま反射し、シャドウマスク３に直接
照射される超音波32と同様の洗浄効果を得られる。
【００３０】また、処理槽41内で、図１に示すように一
側に超音波発生器31、他側に超音波反射手段51を配設し
た第１の超音波洗浄処理工程の位置に隣接して、超音波
発生器31と超音波反射手段51とを反対に配設した、つま
り他側に超音波発生器31、一側に超音波反射手段51を配
設した第２の超音波洗浄処理工程の位置を設置する。
【００３１】この第２の超音波洗浄処理工程の位置で
は、超音波発振器31から発振された超音波32は、シャド
ウマスク３の外面側、つまりマスク孔21の大径孔22側に
直接的に照射されて、大径孔22から小径孔23に通過す
る。このとき、小径孔23に異物24が詰まっていた場合に
は、超音波32によって小径孔23から異物24を除去でき
る。
【００３２】シャドウマスク３のマスク孔21を通過した
超音波32、およびシャドウマスク３の外側を通過した超
音波32は、超音波反射手段51によりシャドウマスク３の
周辺部3cヘ向けて反射されて、小径孔23から大径孔22に
通過する。このとき、大径孔22に異物24が詰まっていた
場合には、超音波32によって大径孔22から異物24を除去
できる。しかも、フレーム４との間などのシャドウマス
ク３の周辺部3cにある異物24なども除去できる。
【００３３】このように、超音波発振器31からシャドウ
マスク３へ向けて発振した超音波32の一部をシャドウマ
スク３の周辺部3cヘ向けて反射させるので、超音波32を
有効利用し、フレーム４があるために超音波発振器31か
らの超音波32が直接的に照射されにくいシャドウマスク
３の周辺部3cにも超音波32を十分に照射でき、そのシャ
ドウマスク３の周辺部3cの異物24を容易に除去でき、し
たがって、シャドウマスク３を確実に洗浄でき、シャド
ウマスク３の歩留を向上できる。
【００３４】しかも、シャドウマスク３の周辺部3cにも
超音波32を十分に照射できて、周辺部3cの異物24を容易
に除去できるので、洗浄処理にかかる時間を短くでき、
超音波発振器31の超音波32の出力を小さくしても確実に
洗浄できる。
【００３５】また、超音波32として、周波数を変化させ
たり、出力を増減させることにより、シャドウマスク３
に付着した異物24などを容易に除去でき、洗浄効果を向
上できる。
【００３６】次に、図３および図４に第２の実施の形態
を示し、図３はシャドウマスクの洗浄装置の概略図、図
４は超音波反射手段の正面図である。
【００３７】シャドウマスク３の外面側つまり大径孔22
に対向するように超音波発振器31が配設され、内面側つ
まり小径孔23に対向するように超音波反射手段51の反射
ブロック61が配設される。この反射ブロック61は、例え
ば、ステンレス製などで、シャドウマスク３の外形と相
似形の四角錐台に形成され、この四角錐台の周囲の各面
にシャドウマスク３のマスク孔21を通過した超音波32を
シャドウマスク３の周辺部3cの内面ヘ向けて反射する反
射面62が形成されている。
【００３８】そして、超音波発振器31から発振された超
音波32は、シャドウマスク３の外面側、つまりマスク孔
21の大径孔22側に直接的に照射されて、大径孔22から小
径孔23に通過する。このとき、小径孔23に異物24が詰ま
っていた場合には、超音波32によって小径孔23から異物
24を除去できる。
【００３９】シャドウマスク３のマスク孔21を通過した
超音波32の一部は、反射ブロック61の反射面62によりシ
ャドウマスク３の周辺部3cの内面ヘ向けて反射されて、
小径孔23から大径孔22に通過する。このとき、大径孔22
に異物24が詰まっていた場合には、超音波32によって大
径孔22から異物24を除去できる。しかも、フレーム４と
の間などのシャドウマスク３の周辺部3cの内面にある異
物24なども除去でき、このとき、反射ブロック61から反
射した超音波32の一部は、シャドウマスク３の周辺部3c
の内面に対して略垂直に照射されるので、異物24を除去
しやすい。
【００４０】次に、図５および図６に第３の実施の形態
を示し、図５はシャドウマスクの洗浄装置の概略図、図
６はシャドウマスクの洗浄装置の拡大概略図である。
【００４１】シャドウマスク３の内面側つまり小径孔23
に対向するように超音波発振器31が配設され、シャドウ
マスク３と超音波発振器31との間に反射ブロック61が配
設される。この反射ブロック61は、底部および頂部の各
面に開口する開口部63を有する四角錐台の枠状に形成さ
れ、この四角錐台の周囲の各反射面62が超音波発振器31
に直接対向して、超音波発振器31から発振した超音波32
をシャドウマスク３の周辺部3cの内面ヘ向けて反射する
ように構成される。
【００４２】そして、超音波発振器31から発振された超
音波32は、シャドウマスク３の内面側、つまりマスク孔
21の小径孔23側に直接的に照射されて、小径孔23から大
径孔22に通過する。このとき、大径孔22に異物24が詰ま
っていた場合には、超音波32によって大径孔22から異物
24を除去できる。
【００４３】超音波発振器31から発振された超音波32の
一部は、反射ブロック61の反射面62により、フレーム４
の影となっているシャドウマスク３の周辺部3cの内面ヘ
向けて反射されて、小径孔23から大径孔22に通過する。
このとき、大径孔22に異物24が詰まっていた場合には、
超音波32によって大径孔22から異物24を除去できる。し
かも、フレーム４との間などのシャドウマスク３の周辺
部3cの内面にある異物24なども除去でき、このとき、反
射ブロック61から反射した超音波32の一部は、シャドウ
マスク３の周辺部3cの内面に対して略垂直に照射される
ので、異物24を除去しやすい。
【００４４】また、シャドウマスク３と超音波発振器31
との間で、反射ブロック61をシャドウマスク３の管軸方
向（矢印ａ方向）に往復移動させることにより、超音波
発振器31から発振した超音波32を、往復移動する反射ブ
ロック61の反射面62で反射させて、フレーム４の影とな
っているシャドウマスク３の周辺部3cの内面の広い範囲
に照射できる。特に、超音波32をシャドウマスク３のス
カート部3bに照射することにより、シャドウマスク３と
フレーム４との間に詰まったスプラッシュ15などの異物
24を確実に取り除くことができる。
【００４５】なお、反射ブロック61を移動させるように
したが、反射ブロック61を固定し、シャドウマスク３を
移動させても、あるいは反射ブロック61およびシャドウ
マスク３の両方を移動させても、同様の効果を得ること
ができる。
【００４６】また、反射ブロック61をシャドウマスク３
の管軸方向に対応した回転軸Ｏを中心として回転させ
て、反射ブロック61の各反射面62とスカート部3bとの距
離を変化させることにより、各反射面62で超音波32の強
弱を付けて照射することで、脱塵効果を向上できる。
【００４７】このように、シャドウマスク３と反射ブロ
ック61との位置を相対的を変化させ、反射ブロック61で
反射する超音波32のシャドウマスク３に対する照射位置
を変化させることにより、シャドウマスク３の広い範囲
に対して超音波32を照射したり、超音波32の照射に強弱
をつけ、洗浄効果を向上できる。
【００４８】なお、図３に示した第２の実施の形態の反
射ブロック61についても、シャドウマスク３との位置を
相対的に変化させることができ、同様の作用効果を得ら
れる。
【００４９】次に、図７に第４の実施の形態を示し、図
７はシャドウマスクの洗浄装置の概略図である。
【００５０】シャドウマスク３の内面側つまり小径孔23
に対向するように超音波発振器31が配設され、外面側つ
まり大径孔22に対向するように超音波反射手段51の反射
板71が配設される。この反射板71には、シャドウマスク
３のマスク孔21を通過した超音波32をシャドウマスク３
の周辺部3cヘ向けて反射する反射面72が形成されてい
る。
【００５１】そして、超音波発振器31から発振された超
音波32は、シャドウマスク３の内面側、つまりマスク孔
21の小径孔23側に直接的に照射されて、小径孔23から大
径孔22に通過する。このとき、大径孔22に異物24が詰ま
っていた場合には、超音波32によって大径孔22から異物
24を除去できる。
【００５２】シャドウマスク３のマスク孔21を通過した
超音波32の一部は、反射板71の反射面72により、フレー
ム４の影となっているシャドウマスク３の周辺部3cヘ向
けて反射されて、大径孔22から小径孔23に通過する。こ
のとき、小径孔23に異物24が詰まっていた場合には、超
音波32によって小径孔23から異物24を除去できる。しか
も、フレーム４との間などのシャドウマスク３の周辺部
3cにある異物24なども除去できる。
【００５３】次に、図８に第５の実施の形態を示し、図
８はシャドウマスクの洗浄装置の概略図である。
【００５４】シャドウマスク３の内面側つまり小径孔23
に対向するように超音波発振器31が配設され、外面側つ
まり大径孔22に対向するように超音波反射手段51の反射
板71が配設される。この反射板71には、シャドウマスク
３の外側を通過した超音波32をシャドウマスク３の周辺
部3cヘ向けて反射する反射面72が形成されている。
【００５５】そして、超音波発振器31から発振された超
音波32は、シャドウマスク３の内面側、つまりマスク孔
21の小径孔23側に直接的に照射されて、小径孔23から大
径孔22に通過する。このとき、大径孔22に異物24が詰ま
っていた場合には、超音波32によって大径孔22から異物
24を除去できる。
【００５６】シャドウマスク３の外側を通過した超音波
32の一部は、反射板71の反射面72により、フレーム４の
影となっているシャドウマスク３の周辺部3cヘ向けて反
射されて、大径孔22から小径孔23に通過する。このと
き、小径孔23に異物24が詰まっていた場合には、超音波
32によって小径孔23から異物24を除去できる。しかも、
フレーム４との間などのシャドウマスク３の周辺部3cに
ある異物24なども除去できる。
【００５７】なお、各実施の形態に示した超音波洗浄処
理を組み合わせることで、シャドウマスク３の洗浄効果
をより向上できる。例えば、反射ブロック61と反射板71
とを組み合わせることで、シャドウマスク３の洗浄効果
をより向上できる。
【００５８】このように、超音波発振器31からシャドウ
マスク３へ向けて発振した超音波32の一部をシャドウマ
スク３の周辺部3cヘ向けて反射させるので、フレーム４
があるために超音波発振器31からの超音波32が直接的に
照射されにくいシャドウマスク３の周辺部3cにも超音波
32を十分に照射でき、シャドウマスク３を確実に洗浄で
きる。したがって、品質のよいシャドウマスク３を提供
でき、このシャドウマスク３を使用することで品質のよ
い陰極線管を提供できる。
【００５９】なお、本実施の形態では、処理槽41の液体
42中での超音波洗浄処理について説明したが、空気中で
超音波洗浄処理した場合にも空気を媒体として同様の作
用効果が得られる。
【００６０】
【発明の効果】本発明によれば、超音波発振手段から発
振した超音波の一部をシャドウマスクヘ向けて反射させ
るので、例えば超音波発振手段からの超音波が直接的に
照射されにくいシャドウマスクの周辺部にも超音波を十
分に照射でき、超音波を有効利用でき、シャドウマスク
を確実に洗浄できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示すシャドウマス
クの洗浄装置の断面図である。
【図２】同上超音波発振手段が発振する超音波の各例
(a)(b)(c)に示す波形図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態を示すシャドウマス
クの洗浄装置の概略図である。
【図４】同上超音波反射手段の正面図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態を示すシャドウマス
クの洗浄装置の概略図である。
【図６】同上シャドウマスクの洗浄装置の拡大概略図で
ある。
【図７】本発明の第４の実施の形態を示すシャドウマス
クの洗浄装置の概略図である。
【図８】本発明の第５の実施の形態を示すシャドウマス
クの洗浄装置の概略図である。
【図９】陰極線管のパネルにシャドウマスク構造体を組
み込んだ断面図である。
【図１０】シャドウマスク構造体の一部の斜視図であ
る。
【図１１】シャドウマスクとフレームとを溶接する説明
図である。
【図１２】シャドウマスクを示し、(a)は断面図、(b)は
拡大断面図である。
【図１３】従来のシャドウマスクの洗浄装置の概略図で
ある。
【図１４】シャドウマスクの正面図である。
【符号の説明】
３ シャドウマスク 3c 周辺部 31 超音波発振手段としての超音波発振器 32 超音波 51 超音波反射手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B116 AA21 AB23 AB42 BB02 BB85 3B201 AB24 AB42 BB85 BB86 BB92 CB01 5C027 HH30

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 超音波発振手段からシャドウマスクヘ向
    けて超音波を発振する工程と、 超音波発振手段から発振した超音波の一部を超音波反射
    手段によりシャドウマスクヘ向けて反射させる工程とを
    具備していることを特徴とするシャドウマスクの洗浄方
    法。
  2. 【請求項２】 超音波反射手段により超音波発振手段か
    ら発振した超音波の一部をシャドウマスクの周辺部ヘ向
    けて反射させることを特徴とする請求項１記載のシャド
    ウマスクの洗浄方法。
  3. 【請求項３】 超音波反射手段によりシャドウマスクを
    通過した超音波を反射させることを特徴とする請求項１
    または２記載のシャドウマスクの洗浄方法。
  4. 【請求項４】 超音波反射手段により超音波発振手段か
    ら発振した超音波の一部を直接反射させることを特徴と
    する請求項１ないし３いずれか記載のシャドウマスクの
    洗浄方法。
  5. 【請求項５】 シャドウマスクと超音波反射手段との位
    置を相対的に変化させ、超音波反射手段で反射する超音
    波のシャドウマスクに対する照射位置を変化させること
    を特徴とする請求項１ないし４いずれか記載のシャドウ
    マスクの洗浄方法。
  6. 【請求項６】 シャドウマスクヘ向けて超音波を発振す
    る超音波発振手段と、 この超音発振手段から発振した超音波の一部をシャドウ
    マスクヘ向けて反射させる超音波反射手段とを具備して
    いることを特徴とするシャドウマスクの洗浄装置。
  7. 【請求項７】 超音波反射手段は、超音発振手段から発
    振した超音波の一部をシャドウマスクの周辺部ヘ向けて
    反射させることを特徴とする請求項６記載のシャドウマ
    スクの洗浄装置。
  8. 【請求項８】 超音波反射手段は、シャドウマスクを通
    過した超音波を反射させることを特徴とする請求項６ま
    たは７記載のシャドウマスクの洗浄装置。
  9. 【請求項９】 超音波反射手段は、超音波発振手段と直
    接対向して超音波を反射させることを特徴とする請求項
    ６ないし８いずれか記載のシャドウマスクの洗浄装置。
  10. 【請求項１０】 シャドウマスクと超音波反射手段との
    位置を相対的に変化させ、超音波反射手段で反射する超
    音波のシャドウマスクに対する照射位置を変化させるこ
    とを特徴とする請求項６ないし９いずれか記載のシャド
    ウマスクの洗浄装置。
  11. 【請求項１１】 請求項１ないし５記載のシャドウマス
    クの洗浄方法により洗浄されたことを特徴とするシャド
    ウマスク。
  12. 【請求項１２】 請求項６ないし１０いずれか記載のシ
    ャドウマスクの洗浄装置により洗浄されたことを特徴と
    するシャドウマスク。
  13. 【請求項１３】 請求項１１または１２記載のシャドウ
    マスクを備えたことを特徴とする陰極線管。
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