JP2001305531A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

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JP2001305531A
JP2001305531A JP2000121453A JP2000121453A JP2001305531A JP 2001305531 A JP2001305531 A JP 2001305531A JP 2000121453 A JP2000121453 A JP 2000121453A JP 2000121453 A JP2000121453 A JP 2000121453A JP 2001305531 A JP2001305531 A JP 2001305531A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
film
crystal display
display device
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JP2000121453A
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Shuichi Imai
秀一 今井
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the device in which deterioration in the display characteristics due to the irregularity of the cell gap can be suppressed even when a reflection film having a scattering structure (rugged pattern) is formed on a substrate. SOLUTION: The liquid crystal display device has a liquid crystal held between a front substrate and a back substrate facing each other. The surface of the back substrate opposite to the liquid crystal is formed into a rugged pattern, and a protective film is formed on the surface having the rugged pattern, and further, a protective film to cover the reflection film is formed. Since the diffusing reflection face is formed on the opposite surface of the back substrate to the liquid crystal, a flattening film is not required on the opposite face to the liquid crystal. Therefore, the structure is advantageous for that an irregular cell gap due to a flattening film can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
びその製造方法に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より広く普及している反射型の液晶
表示装置は、図6に例示するように、シール材(図示
略)を介して対向する前面基板6および背面基板7と、
両基板間に挟持された液晶8とを含んで構成される。そ
して、前面基板6は、所定の方向に延在する複数の透明
電極61と有機薄膜たる配向膜62とを有する一方、背
面基板7は、前記透明電極61に交差する方向に延在す
る複数の反射電極71と、平坦化膜72および配向膜7
3とを有している。各反射電極71は、図6に示すよう
に、背面基板7の内側表面に形成された多数の微細な凹
凸上に薄膜状に形成されるため、その表面にはこれらの
凹凸を反映した凹凸が形成されることとなる。かかる構
成により、前面基板6側から入射して反射電極71によ
って反射された光は適度に散乱して前面基板6側から出
射することとなるから、観察者が視認する画像に背景や
室内照明等が映り込んだりする事態を回避することがで
きる。さらに、これらの反射電極71が形成された背面
基板7の表面は、当該反射電極71表面の凹凸を平坦化
するための平坦化膜72によって覆われている。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 6, a reflection type liquid crystal display device, which has been widely used, has a front substrate 6 and a rear substrate 7 which face each other via a sealing material (not shown).
And a liquid crystal 8 sandwiched between the two substrates. The front substrate 6 has a plurality of transparent electrodes 61 extending in a predetermined direction and an alignment film 62 serving as an organic thin film, while the back substrate 7 has a plurality of transparent electrodes 61 extending in a direction intersecting the transparent electrodes 61. Reflecting electrode 71, planarizing film 72 and alignment film 7
And 3. As shown in FIG. 6, each of the reflective electrodes 71 is formed in a thin film shape on a large number of fine irregularities formed on the inner surface of the rear substrate 7, and the surface has irregularities reflecting these irregularities. Will be formed. With this configuration, the light incident from the front substrate 6 side and reflected by the reflective electrode 71 is appropriately scattered and emitted from the front substrate 6 side. Can be avoided. Further, the surface of the rear substrate 7 on which the reflective electrodes 71 are formed is covered with a flattening film 72 for flattening irregularities on the surface of the reflective electrodes 71.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この平
坦化膜72は樹脂材料等によって形成されるものである
から、その硬度は比較的低く、このため、両基板間に液
晶8とともに挟持される粒状のスペーサ9が平坦化膜7
2の表面にめり込んでしまうという現象が発生し得る。
そして、かかるスペーサ9のめり込みが発生した部分の
近傍においては、他の部分と比較してセルギャップが狭
くなってしまい、結局、セルギャップの均一化を図るの
には限界があるのが現状であった。
However, since the flattening film 72 is formed of a resin material or the like, its hardness is relatively low, and therefore, the granular film 72 sandwiched between the two substrates together with the liquid crystal 8 is used. Spacer 9 is a flattening film 7
2 may be sunk into the surface.
In the vicinity of the portion where the spacer 9 has been entrapped, the cell gap becomes narrower than in other portions, and as a result, there is a limit in achieving the uniform cell gap. Was.

【0004】さらに、薄い平坦化膜72では、その表面
に背面基板7上の凹凸を反映した凹凸が形成されてしま
うため、背面基板7上の凹凸を完全に平坦化できる程度
の厚さの平坦化膜72を形成する必要がある。しかしな
がら、このような厚い平坦化膜72を形成して熱処理
(例えば背面基板7を覆う配向膜73の焼成等)を行っ
た場合、当該平坦化膜72の熱膨張係数の相違に起因し
てその表面に波面状の凹凸が形成されてしまうため、結
局、セルギャップを均一にするのは困難である。
[0004] Further, in the thin planarizing film 72, irregularities reflecting the irregularities on the rear substrate 7 are formed on the surface thereof. Therefore, the flattening film 72 is thin enough to completely planarize the irregularities on the rear substrate 7. It is necessary to form the oxide film 72. However, when such a thick flattening film 72 is formed and subjected to heat treatment (for example, baking of the alignment film 73 covering the back substrate 7), the heat treatment is performed due to a difference in the thermal expansion coefficient of the flattening film 72. Since a wavefront-like unevenness is formed on the surface, it is difficult to make the cell gap uniform after all.

【0005】このように、反射膜に散乱構造を形成する
ための凹凸を備えた液晶表示装置においては、セルギャ
ップを均一に保つのが困難であり、この結果、基板の全
面にわたって表示特性の均一化を図るのには限界があっ
た。一方、上記のように反射板と電極の機能を兼ね備え
た反射電極を有する液晶表示装置のほか、背面基板の内
側表面に反射板が形成されるとともに、この反射板を覆
う平坦化膜の表面に、反射板とは別個に透明電極が形成
された構成の反射型液晶表示装置も提案されているが、
かかる液晶表示装置においても上記と同様の問題が生じ
得る。
As described above, it is difficult to maintain a uniform cell gap in a liquid crystal display device having unevenness for forming a scattering structure on a reflective film. As a result, uniform display characteristics are obtained over the entire surface of the substrate. There were limits to achieving this. On the other hand, in addition to the liquid crystal display device having the reflection electrode having the functions of the reflection plate and the electrode as described above, the reflection plate is formed on the inner surface of the back substrate, and the surface of the flattening film covering the reflection plate is formed on the surface. A reflection type liquid crystal display device having a configuration in which a transparent electrode is formed separately from a reflection plate has also been proposed.
The same problem as described above may occur in such a liquid crystal display device.

【0006】本発明は、以上説明した事情に鑑みてなさ
れたものであり、散乱構造(凹凸)を有する反射膜を基
板に形成した場合であっても、セルギャップの不均一に
起因する表示特性の劣化を抑えることができる液晶表示
装置およびその製造方法を提供することを目的としてい
る。
The present invention has been made in view of the circumstances described above, and even when a reflective film having a scattering structure (unevenness) is formed on a substrate, display characteristics caused by non-uniform cell gaps. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of suppressing deterioration of a liquid crystal display and a method for manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、本発明は、相互に対向する一対の基板間に液晶を
挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板の
うちの一方の基板における前記液晶と反対側には凹凸が
形成され、前記一方の基板の前記凹凸が形成された側に
は反射膜が形成されてなり、前記反射膜における前記一
方の基板側には、当該基板に形成された凹凸に対応した
凹凸が形成されていることを特徴とする液晶表示装置を
提供するものである。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising a pair of substrates facing each other, wherein a liquid crystal is sandwiched between the pair of substrates. Irregularities are formed on the side of the one substrate opposite to the liquid crystal, a reflective film is formed on the side of the one substrate where the irregularities are formed, and on the one substrate side of the reflective film, An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which unevenness corresponding to the unevenness formed on the substrate is formed.

【0008】かかる液晶表示装置によれば、前記一方の
基板のうち、液晶とは反対側に散乱反射面が形成される
ので、液晶との対向面には平坦化膜を形成する必要がな
い。このため、平坦化膜に起因して、セルギャップが不
均一となる事態を未然に防止できるという利点がある。
According to such a liquid crystal display device, since the scattering reflection surface is formed on the one substrate opposite to the liquid crystal, it is not necessary to form a flattening film on the surface facing the liquid crystal. For this reason, there is an advantage that a situation where the cell gap becomes non-uniform due to the flattening film can be prevented.

【0009】ここで、上記発明においては、前記反射膜
に対して前記一方の基板と反対側に、有機材料または無
機材料からなる層を具備する構成としてもよい。かかる
構成とすれば、前記層によって反射膜を保護することが
できるとともに、反射膜の前記一方の基板とは反対側
に、当該基板の凹凸を反映して形成され得る凹凸を平坦
化することができるという利点がある。
Here, in the above invention, a configuration may be adopted in which a layer made of an organic material or an inorganic material is provided on the side opposite to the one substrate with respect to the reflection film. With this configuration, the reflective film can be protected by the layer, and the unevenness that can be formed by reflecting the unevenness of the substrate can be flattened on the opposite side of the reflective film from the one substrate. There is an advantage that you can.

【0010】なお、本発明の発明者による実験によれ
ば、前記一方の基板の凹凸において、各凸部の頂上部か
ら当該凸部に隣接する他の凸部の頂上部までの距離を1
μm以上500μm以下とするとともに、前記凹凸の高
さを0.1μm以上10μm以下とした場合に、反射膜
における良好な散乱特性が得られることが確認された。
従って、背面基板の凹凸は、かかる形状とすることが望
ましい。
According to an experiment conducted by the inventor of the present invention, in the unevenness of the one substrate, the distance from the top of each projection to the top of another projection adjacent to the projection is one.
It was confirmed that when the height of the unevenness was 0.1 μm or more and 500 μm or less and the height of the unevenness was 0.1 μm or more and 10 μm or less, good scattering characteristics in the reflective film were obtained.
Therefore, it is desirable that the irregularities on the rear substrate have such a shape.

【0011】また、上記発明における反射膜は、反射性
を有する金属、例えばアルミニウムまたは銀の単体金
属、もしくはアルミニウムまたは銀を主成分とする合金
によって形成することが考えられる。さらに、前記保護
膜は、例えば二酸化珪素や珪素を含む無機材料や、アク
リル系、エポキシ系またはポリイミド系の有機材料によ
って形成することが考えられる。
It is also conceivable that the reflective film in the above invention is formed of a reflective metal, for example, a single metal of aluminum or silver, or an alloy containing aluminum or silver as a main component. Furthermore, it is conceivable that the protective film is formed of, for example, silicon dioxide, an inorganic material containing silicon, or an acrylic, epoxy, or polyimide organic material.

【0012】さらに、本発明の発明者による実験の結
果、前記一方の基板の厚さを0.4mm以下とした場合
には、この厚さにより生じる光路差に起因した表示画像
の視差が、観察者の目に認識できない程度に抑えられる
ことが確認された。従って、当該一方の基板の厚さは
0.4mm以下とすることが望ましい。
Further, as a result of an experiment conducted by the inventor of the present invention, when the thickness of the one substrate is set to 0.4 mm or less, the parallax of a display image caused by an optical path difference caused by this thickness is observed. It was confirmed that it could be suppressed to the extent that it could not be recognized by the eyes of the elderly. Therefore, it is desirable that the thickness of the one substrate be 0.4 mm or less.

【0013】また、本発明は、相互に対向する一対の基
板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造方法であ
って、前記一対の基板のうちの一方の基板に凹凸を形成
する工程と、前記一方の基板の前記凹凸が形成された側
に反射膜を形成する工程と、前記一対の基板の凹凸が形
成された側とは反対側が他方の基板と対向するように、
前記一対の基板を接合する工程とを有することを特徴と
する液晶表示装置の製造方法を提供するものである。
The present invention also relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other, wherein a step of forming irregularities on one of the pair of substrates is provided. And a step of forming a reflective film on the side of the one substrate on which the irregularities are formed, so that the side opposite to the side on which the irregularities of the pair of substrates are formed faces the other substrate,
Bonding the pair of substrates to each other.

【0014】かかる製造方法の実施によって得られる液
晶表示装置によれば、前記一方の基板のうちの液晶とは
反対側に凹凸が形成されており、当該一方の基板の液晶
と対向する側には凹凸を形成する必要がない。従って、
液晶との対向面に凹凸を平坦化するための平坦化膜を必
要としないため、平坦化膜に起因してセルギャップが不
均一となる事態を回避することができ、ひいては基板の
前面にわたって均一な表示特性を得ることができる。
According to the liquid crystal display device obtained by carrying out such a manufacturing method, the unevenness is formed on the side of the one substrate opposite to the liquid crystal, and the unevenness is formed on the side of the one substrate facing the liquid crystal. There is no need to form irregularities. Therefore,
Since a flattening film for flattening irregularities is not required on the surface facing the liquid crystal, it is possible to avoid a situation in which the cell gap becomes non-uniform due to the flattening film, and thus, the uniformity over the front surface of the substrate. Display characteristics can be obtained.

【0015】なお、上記発明においては、前記反射膜に
対して前記一方の基板とは反対側に、有機材料または無
機材料からなる層を形成する工程を有することが望まし
い。このような層を設けることにより、前記反射膜を保
護することができるとともに、当該反射膜の前記一方の
基板側に、当該基板の凹凸を反映して形成され得る凹凸
を平坦化することができるという利点がある。
In the above invention, it is preferable that the method further includes a step of forming a layer made of an organic material or an inorganic material on a side opposite to the one substrate with respect to the reflection film. By providing such a layer, the reflective film can be protected, and the unevenness that can be formed on the one substrate side of the reflective film by reflecting the unevenness of the substrate can be flattened. There is an advantage.

【0016】なお、上記製造方法の各工程のうち、一方
の基板に凹凸を形成する工程においては、ケミカルエッ
チング法を用いて前記凹凸を形成することが考えられ
る。さらにこの場合には、弗酸系のエッチング液を用い
ることができる。また、前記反射膜形成工程において
は、スパッタ法、蒸着法またはイオンプレーティング法
を用いて前記反射膜を形成することが考えられる。さら
に、前記保護膜形成工程においては、スピンコート法、
印刷法、バーコート法、ディッピング法、吐出塗布法ま
たはゾルゲル法を用いて前記保護膜を形成することが好
ましい。
In each of the steps of the above-described manufacturing method, in the step of forming irregularities on one substrate, the irregularities may be formed by using a chemical etching method. Further, in this case, a hydrofluoric acid-based etchant can be used. In the reflection film forming step, the reflection film may be formed by using a sputtering method, an evaporation method, or an ion plating method. Further, in the protective film forming step, a spin coating method,
The protective film is preferably formed by a printing method, a bar coating method, a dipping method, a discharge coating method, or a sol-gel method.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施形態について説明する。かかる実施の形態は、本発
明の一態様を示すものであり、この発明を限定するもの
ではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Such an embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.

【0018】A;第1実施形態 A−1;第1実施形態の構成 まず、本発明をパッシブマトリクス方式の反射型液晶表
示装置に適用した第1実施形態について説明する。図1
は、この液晶表示装置1の構成を表す断面図である。な
お、この図1および以下に示す各図においては、各層や
各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、
各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
A: First Embodiment A-1: Configuration of First Embodiment First, a first embodiment in which the present invention is applied to a passive-matrix reflective liquid crystal display device will be described. FIG.
1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the liquid crystal display device 1. In addition, in FIG. 1 and each of the drawings shown below, in order to make each layer and each member a size that can be recognized on the drawing,
The scale is different for each layer and each member.

【0019】図1に示すように、この液晶表示装置1
は、各々電極等が形成された前面基板10および背面基
板20をシール材30を介して貼り合わせ、両基板とシ
ール材30とによって囲まれた領域に、両基板の間隙
(セルギャップ)を均一化するための多数の粒状のスペ
ーサ40と液晶50とを封入して構成される。なお、図
1に示す各部のうち、背面基板20は特許請求の範囲に
おける「一方の基板」に相当し、前面基板10は特許請
求の範囲における「他方の基板」に相当するものであ
る。
As shown in FIG. 1, this liquid crystal display 1
In this method, a front substrate 10 and a rear substrate 20 each having electrodes and the like formed thereon are bonded together via a sealing material 30, and a gap (cell gap) between the two substrates is made uniform in a region surrounded by the both substrates and the sealing material 30. A large number of granular spacers 40 and liquid crystals 50 for sealing are sealed. In addition, among the components shown in FIG. 1, the back substrate 20 corresponds to “one substrate” in the claims, and the front substrate 10 corresponds to “the other substrate” in the claims.

【0020】前面基板10は、ガラスや石英、プラステ
ィック等の板状部材である。この前面基板10の内側
(液晶50側)表面には、複数の帯状の透明電極101
が、図1における左右方向に延在して形成されている。
各透明電極101は、例えば透明導電材料であるITO
(Indium Tin Oxide)等によって形成される。さらに、
複数の透明電極101が形成された前面基板10の表面
(液晶50側の表面)は、配向膜102によって覆われ
ている。この配向膜102は、ポリイミド等の有機薄膜
であり、電圧が印加されていないときの液晶50の配向
方向を規定するための一軸配向処理(例えばラビング処
理)が施されている。なお、前面基板10の外側(液晶
50とは反対側)には、入射光を所定方向に偏光させる
ための偏光板や位相差板等が貼着されるが、本発明とは
直接の関係がないため、その説明および図示を省略す
る。
The front substrate 10 is a plate-like member made of glass, quartz, plastic, or the like. A plurality of strip-shaped transparent electrodes 101 are provided on the inner surface (the liquid crystal 50 side) of the front substrate 10.
Are formed extending in the left-right direction in FIG.
Each transparent electrode 101 is made of, for example, ITO which is a transparent conductive material.
(Indium Tin Oxide) or the like. further,
The surface of the front substrate 10 on which the plurality of transparent electrodes 101 are formed (the surface on the liquid crystal 50 side) is covered with an alignment film 102. The alignment film 102 is an organic thin film such as polyimide, and has been subjected to a uniaxial alignment process (for example, a rubbing process) for defining the alignment direction of the liquid crystal 50 when no voltage is applied. Note that a polarizing plate, a retardation plate, or the like for polarizing incident light in a predetermined direction is attached to the outside of the front substrate 10 (the side opposite to the liquid crystal 50), but it has a direct relationship with the present invention. Therefore, description and illustration are omitted.

【0021】一方、背面基板20は、ガラスや石英、プ
ラスティック等の板状部材である。この背面基板20の
内側(液晶50側)の表面には、上記前面基板10と同
様に、複数の帯状の透明電極201と配向膜202とが
形成されている。ただし、この透明電極201は、上記
透明電極101が延在する方向と交差する方向に延在し
て形成される。かかる構成の下、前面基板10および背
面基板20によって挟まれた液晶50は、各透明電極1
01と各透明電極201との間に電圧が印加されること
によってその配向方向が変化する。すなわち、各透明電
極101と各透明電極201とが交差する領域が画素と
して機能するのである。
On the other hand, the back substrate 20 is a plate-like member such as glass, quartz, and plastic. A plurality of strip-shaped transparent electrodes 201 and an alignment film 202 are formed on the inner surface (the liquid crystal 50 side) of the back substrate 20, similarly to the front substrate 10. However, the transparent electrode 201 is formed to extend in a direction intersecting the direction in which the transparent electrode 101 extends. Under such a configuration, the liquid crystal 50 sandwiched between the front substrate 10 and the rear substrate 20 has the transparent electrodes 1
When a voltage is applied between the transparent electrode 201 and each of the transparent electrodes 201, the alignment direction changes. That is, the region where each transparent electrode 101 and each transparent electrode 201 intersect functions as a pixel.

【0022】ここで、背面基板20の液晶50とは反対
側の表面には、複数の微細な凹凸が形成されている。そ
して、この凹凸が形成された面には、反射性を有する金
属(例えばアルミニウム)によって反射膜21が形成さ
れている。前面基板10側からの入射光は、この反射膜
21の表面(背面基板20に接する方の表面)において
反射して前面基板10側に出射する。具体的には、太陽
光や室内照明等の外光が前面基板10側から入射し、偏
光板(図示略)→前面基板10→透明電極101→配向
膜102→液晶50→配向膜202→透明電極201→
背面基板20→反射膜21という経路で反射膜21に達
し、この反射膜20の表面で反射した後、上記経路を逆
に辿って前面基板10側から出射される。
Here, a plurality of fine irregularities are formed on the surface of the back substrate 20 opposite to the liquid crystal 50. The reflection film 21 is formed of a metal having a reflectivity (for example, aluminum) on the surface on which the unevenness is formed. The incident light from the front substrate 10 is reflected on the surface of the reflective film 21 (the surface in contact with the rear substrate 20) and emitted to the front substrate 10 side. Specifically, external light such as sunlight or indoor lighting enters from the front substrate 10 side, and a polarizing plate (not shown) → the front substrate 10 → the transparent electrode 101 → the alignment film 102 → the liquid crystal 50 → the alignment film 202 → transparent. Electrode 201 →
The light reaches the reflection film 21 through a path of the rear substrate 20 → the reflection film 21, is reflected on the surface of the reflection film 20, and is emitted from the front substrate 10 side by following the above path in reverse.

【0023】ここで、反射膜21は、背面基板20表面
の凹凸が形成された領域に形成されるため、反射膜21
の背面基板20側の表面には当該凹凸に沿った凹凸が形
成されることとなる。この結果、前面基板10側からの
入射光は、この反射膜21の凹凸によって適度に散乱さ
れた後に前面基板10側から出射するから、観察者によ
って視認される画像に背景が映り込んだり、室内照明か
らの光が反射するといった事態を回避することができ
る。
Here, since the reflection film 21 is formed in the region of the surface of the rear substrate 20 where the irregularities are formed, the reflection film 21 is formed.
Irregularities along the irregularities are formed on the surface on the side of the rear substrate 20. As a result, the incident light from the front substrate 10 is emitted from the front substrate 10 after being appropriately scattered by the unevenness of the reflection film 21, so that the background is reflected in an image visually recognized by an observer, It is possible to avoid a situation in which light from illumination is reflected.

【0024】また、保護膜22は、反射膜21が形成さ
れた背面基板20の表面を覆う膜であり、例えばポリイ
ミド系の樹脂によって形成される。この保護膜22は、
背面基板20および反射膜21を保護するとともに、反
射膜21の表面に形成された凹凸を平坦化するための役
割を担っている。
The protective film 22 is a film that covers the surface of the rear substrate 20 on which the reflective film 21 is formed, and is formed of, for example, a polyimide resin. This protective film 22
In addition to protecting the rear substrate 20 and the reflection film 21, the surface plays a role of flattening the irregularities formed on the surface of the reflection film 21.

【0025】A−2;液晶表示装置1の製造方法 次に、図2を参照して、液晶表示装置1の製造方法を説
明する。なお、図2において、(a1)乃至(a7)は
背面基板20に関する製造工程を示し、(b1)乃至
(b3)は前面基板10に関する製造工程を示してい
る。
A-2: Method of Manufacturing Liquid Crystal Display 1 Next, a method of manufacturing the liquid crystal display 1 will be described with reference to FIG. In FIG. 2, (a1) to (a7) show the manufacturing steps for the rear substrate 20, and (b1) to (b3) show the manufacturing steps for the front substrate 10.

【0026】まず、背面基板20となる板状部材20a
(例えば厚さ0.2mm程度のガラス板)を用意し(図
2(a1))、この板状部材20aの一方の表面を研磨
剤によって粗面化する。その後、研磨された面に対して
弗化水素酸水溶液等をエッチャントとして用いたウェッ
トエッチングを施すことにより、当該面に凹凸が形成さ
れた背面基板20を作成することができる(図2(a
2))。なお、研磨の際に用いる研磨剤やエッチング時
間等を適当に選定することにより、背面基板20の表面
に形成される凹凸の形状(凹凸のピッチや傾斜角度等)
を所望の形状とすることが可能である。例えば、0.1
μm乃至10μm程度の深さ(凹部の最も窪んだ部分と
凸部の頂上部との距離)を有し、1μm乃至500μm
程度のピッチ(各凸部の頂上部から当該凸部に隣接する
他の凸部の頂上部までの距離)を有するものを形成する
ことが考えられる。
First, a plate-like member 20a to be the back substrate 20
(For example, a glass plate having a thickness of about 0.2 mm) is prepared (FIG. 2A1), and one surface of the plate member 20a is roughened with an abrasive. Thereafter, the polished surface is subjected to wet etching using an aqueous solution of hydrofluoric acid or the like as an etchant, so that the back substrate 20 having irregularities formed on the surface can be formed (FIG. 2A).
2)). In addition, by appropriately selecting an abrasive used for polishing, an etching time, and the like, the shape of the unevenness formed on the surface of the rear substrate 20 (eg, pitch and inclination angle of the unevenness).
Can have a desired shape. For example, 0.1
having a depth of about μm to 10 μm (the distance between the most depressed portion of the concave portion and the top of the convex portion), and having a depth of 1 μm to 500 μm
It is conceivable to form one having a pitch of the order (the distance from the top of each projection to the top of another projection adjacent to the projection).

【0027】次に、凹凸が形成された背面基板20の表
面に、アルミニウムの反射膜21を、例えば200nm
乃至500nm程度の厚さに形成する(図2(a
3))。この反射膜21は、例えばスパッタリング法、
電子ビーム蒸着法またはイオンプレーティング法等を用
いて形成することができる。上述したように、この反射
膜21のうちの背面基板20に接する面には、当該背面
基板20に形成された凹凸に沿った凹凸が形成されるこ
ととなる。
Next, a reflective film 21 made of aluminum, for example, having a thickness of 200 nm is formed on the surface of the
2 to 500 nm (FIG. 2A
3)). The reflection film 21 is formed by, for example, a sputtering method.
It can be formed using an electron beam evaporation method, an ion plating method, or the like. As described above, unevenness along the unevenness formed on the rear substrate 20 is formed on the surface of the reflective film 21 that is in contact with the rear substrate 20.

【0028】続いて、反射膜21が形成された背面基板
20の表面に、樹脂材料(例えばポリイミド系樹脂)を
例えば0.05mm乃至0.1mm程度の厚さに塗布
し、その後焼成して保護膜22を形成する(図2(a
4))。なお、この樹脂材料の塗布に際しては、例えば
スピンコート法、吐出塗布法、印刷法、バーコート法、
ディッピング法またはゾルゲル法などの各種方法を用い
ることができる。
Subsequently, a resin material (for example, a polyimide resin) is applied to a thickness of, for example, about 0.05 mm to 0.1 mm on the surface of the rear substrate 20 on which the reflection film 21 is formed, and then fired to protect the resin material. A film 22 is formed (see FIG.
4)). In applying the resin material, for example, a spin coating method, a discharge coating method, a printing method, a bar coating method,
Various methods such as a dipping method and a sol-gel method can be used.

【0029】次に、背面基板20の凹凸が形成されてい
ない方の表面に、スパッタリング法等によってITOの
薄膜を形成する。そして、この薄膜に対してエッチング
やフォトリソグラフィ等を施すことにより、複数の帯状
の透明電極201を形成する(図2(a5))。さら
に、これらの透明電極201が形成された背面基板20
の表面にポリイミド等を塗布・焼成して配向膜を形成し
た後、この配向膜に対して、用いる液晶のツイスト角に
応じた一軸配向処理(例えばラビング処理)を施す(図
2(a6))。
Next, an ITO thin film is formed by sputtering or the like on the surface of the back substrate 20 on which the unevenness is not formed. Then, a plurality of strip-shaped transparent electrodes 201 are formed by performing etching, photolithography, and the like on the thin film (FIG. 2 (a5)). Further, the back substrate 20 on which these transparent electrodes 201 are formed
After applying and baking a polyimide or the like on the surface of the substrate to form an alignment film, the alignment film is subjected to a uniaxial alignment process (for example, a rubbing process) according to a twist angle of a liquid crystal to be used (FIG. 2 (a6)). .

【0030】続いて、この背面基板20上に、当該背面
基板20の縁部を囲む形状のシール材30を印刷する
(図2(a7))。なお、このシール材30には、後に
液晶50を封入するための液晶封入口(図示略)が設け
られている。
Subsequently, a seal material 30 having a shape surrounding the edge of the rear substrate 20 is printed on the rear substrate 20 (FIG. 2 (a7)). The sealing member 30 is provided with a liquid crystal sealing port (not shown) for sealing the liquid crystal 50 later.

【0031】一方、ガラス基板等の前面基板10の表面
には、上記背面基板20上の透明電極201および配向
膜202と同様の工程により、複数の透明電極101お
よび配向膜102が形成される(図2(b1)および
(b2))。さらに、これらの各部が形成された前面基
板10の表面には、ガラスやプラスティック等の粒であ
る多数のスペーサ40が散布される。
On the other hand, on the surface of the front substrate 10 such as a glass substrate, a plurality of transparent electrodes 101 and an alignment film 102 are formed by the same steps as those for the transparent electrode 201 and the alignment film 202 on the rear substrate 20 (see FIG. 1). FIG. 2 (b1) and (b2)). Further, on the surface of the front substrate 10 on which these parts are formed, a large number of spacers 40 made of particles such as glass and plastic are scattered.

【0032】次に、上述した工程により得られた背面基
板20および前面基板10を、電極が形成された面が対
向するようにシール材30を介して接合する。この後、
シール材30に設けられた液晶封入口から液晶50が注
入された後、当該液晶封入口が封止材(接着剤等)によ
って封止されて液晶表示装置1が完成する(図2
(c))。
Next, the rear substrate 20 and the front substrate 10 obtained by the above-described steps are joined via the sealing material 30 such that the surfaces on which the electrodes are formed face each other. After this,
After the liquid crystal 50 is injected from the liquid crystal filling port provided in the sealing material 30, the liquid crystal filling port is sealed with a sealing material (adhesive or the like) to complete the liquid crystal display device 1 (FIG. 2).
(C)).

【0033】以上が本実施形態に係る液晶表示装置1の
製造方法である。
The above is the method for manufacturing the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment.

【0034】以上説明した本実施形態によれば、反射光
を散乱させるための凹凸が、背面基板20のうちの液晶
50側の表面ではなく、液晶50とは反対側の面に形成
されているので、従来の技術のように、背面基板の液晶
に対向する面に平坦化膜を形成する必要がない。従っ
て、平坦化膜に起因してセルギャップが不均一になる事
態を回避することができ、ひいては、基板の全面にわた
って均一な表示特性を得ることができる。
According to the embodiment described above, the unevenness for scattering the reflected light is formed not on the surface of the rear substrate 20 on the liquid crystal 50 side but on the surface on the opposite side of the liquid crystal 50. Therefore, unlike the related art, it is not necessary to form a flattening film on the surface of the rear substrate facing the liquid crystal. Therefore, it is possible to avoid a situation where the cell gap becomes non-uniform due to the flattening film, and thus it is possible to obtain uniform display characteristics over the entire surface of the substrate.

【0035】具体的には、本実施形態によれば、背面基
板の内側表面に平坦化膜を設ける必要がないため、平坦
化膜の表面に発生しやすい凹凸に起因してセルギャップ
が不均一になることがない。さらに、背面基板20は、
例えばガラス板等によって形成されるため、液晶50に
接する表面は樹脂膜と比較して十分な硬度を有してい
る。従って、スペーサ40が背面基板20にめり込むと
いった、上記従来の技術において生じ得る問題を解消す
ることができる。従って、かかる作用によっても、セル
ギャップの均一化を図ることができる。
Specifically, according to the present embodiment, it is not necessary to provide a flattening film on the inner surface of the rear substrate, so that the cell gap is non-uniform due to irregularities that are likely to occur on the surface of the flattening film. Never be. Further, the rear substrate 20 is
For example, since it is formed of a glass plate or the like, the surface in contact with the liquid crystal 50 has a sufficient hardness as compared with the resin film. Therefore, it is possible to solve a problem that can occur in the above-described conventional technique, such as the spacer 40 being sunk into the rear substrate 20. Therefore, even with such an operation, the cell gap can be made uniform.

【0036】さらに、凹凸に起因したセルギャップの不
均一を考慮することなく、任意の形状の凹凸を形成する
ことができるから、例えば、良好な散乱特性を発揮し得
る任意の形状(深さ等)の散乱構造を作成することがで
きるという効果も得られる。
Furthermore, since irregularities of any shape can be formed without considering the non-uniformity of the cell gap caused by the irregularities, for example, any shape (depth etc.) that can exhibit good scattering characteristics can be obtained. The effect that the scattering structure of (1) can be created is also obtained.

【0037】B;第2実施形態 B−1;第2実施形態の構成 次に、本発明をアクティブマトリクス方式の反射型液晶
表示装置に適用した第2実施形態について説明する。図
3は、本実施形態に係る液晶表示装置2の構成を模式的
に表す断面図である。なお、図3に示す各部のうち、前
掲図1に示した液晶表示装置1と同様の部分については
同一の符号が付されている。同図に示すように、この液
晶表示装置2は、シール材30を介して対向する前面基
板10および背面基板20と、両基板に挟まれたスペー
サ40および液晶50とを含んで構成される。
B: Second Embodiment B-1: Configuration of Second Embodiment Next, a second embodiment in which the present invention is applied to an active matrix type reflection type liquid crystal display device will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of the liquid crystal display device 2 according to the present embodiment. Note that, among the units shown in FIG. 3, the same reference numerals are given to the same units as those of the liquid crystal display device 1 shown in FIG. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 2 includes a front substrate 10 and a rear substrate 20 opposed to each other with a sealing material 30 interposed therebetween, and a spacer 40 and a liquid crystal 50 sandwiched between the two substrates.

【0038】前面基板10の内側(液晶50側)表面に
は、その全面にわたって対向電極103が形成されてい
る。この対向電極103は、透明導電材料であるITO
等の薄膜である。また、対向電極103が形成された前
面基板10の表面は、配向膜102によって覆われてい
る。
A counter electrode 103 is formed on the entire surface (on the liquid crystal 50 side) of the front substrate 10. The counter electrode 103 is made of ITO which is a transparent conductive material.
And the like. The surface of the front substrate 10 on which the counter electrode 103 is formed is covered with the alignment film 102.

【0039】また、本実施形態における背面基板20の
外側(液晶50とは反対側)の表面には、上記実施形態
における背面基板20と同様の凹凸が形成されている。
そして、かかる凹凸を有する背面基板20の表面には反
射膜21が形成されるとともに、当該反射膜21を覆う
保護膜22が形成されている。また、背面基板20の液
晶50側の表面(すなわち、凹凸が形成されていない方
の表面)には、所定の方向に延在する複数の走査線(図
示略)と、走査線と交差する方向に延在する複数のデー
タ線(図示略)と、走査線とデータ線との各交差に対応
して設けられたスイッチング素子203、画素電極20
4およびカラーフィルタ205とが形成されている。さ
らに、これらの各部が形成された背面基板20の表面は
配向膜202によって覆われている。ここで、各スイッ
チング素子203は、画素電極204に印加される電圧
をスイッチング制御するための手段であり、例えば薄膜
トランジスタ(TFT;Thin Film Transistor)等であ
る。また、各画素電極204は、ITO等の透明導電材
料によって形成される。カラーフィルタ205は、各画
素電極204の表面を覆う薄膜であり、染料や顔料によ
ってR(赤色)、G(緑色)およびB(青色)のいずれ
かに着色された樹脂材料によって形成される。
The outer surface of the rear substrate 20 (the side opposite to the liquid crystal 50) in the present embodiment has the same irregularities as the rear substrate 20 in the above embodiment.
A reflection film 21 is formed on the surface of the rear substrate 20 having such irregularities, and a protective film 22 that covers the reflection film 21 is formed. A plurality of scanning lines (not shown) extending in a predetermined direction and a direction intersecting the scanning lines are provided on the surface of the rear substrate 20 on the liquid crystal 50 side (that is, the surface on which the unevenness is not formed). A plurality of data lines (not shown) extending to the switching element 203 and the pixel electrode 20 provided corresponding to each intersection of the scanning line and the data line.
4 and a color filter 205 are formed. Further, the surface of the back substrate 20 on which these parts are formed is covered with an alignment film 202. Here, each switching element 203 is a means for performing switching control of a voltage applied to the pixel electrode 204, and is, for example, a thin film transistor (TFT). Each pixel electrode 204 is formed of a transparent conductive material such as ITO. The color filter 205 is a thin film that covers the surface of each pixel electrode 204, and is formed of a resin material colored R (red), G (green), or B (blue) with a dye or a pigment.

【0040】B−2;液晶表示装置2の製造方法 次に、図4を参照して、本実施形態に係る液晶表示装置
2の製造方法を説明する。まず、上記第1実施形態にお
いて説明した工程(図2(a1)〜(a4))と同様の
工程により、板状部材20aの一方の表面に凹凸を形成
して背面基板20を作成するとともに(図4(a1)お
よび(a2))、背面基板20当該表面を覆う反射膜2
1および保護膜22を形成する(図4(a3)および
(a4))。次に、こうして得られた背面基板20のう
ちの凹凸が形成されていない表面に、複数の走査線、複
数のデータ線および複数のスイッチング素子203(例
えば薄膜トランジスタ等)を形成する。これらの各部
は、公知の各種方法を用いて形成することができるため
その説明を省略する。続いて、複数の走査線およびデー
タ線ならびに複数のスイッチング素子203が形成され
た背面基板20の表面に、スパッタ法等を用いてITO
の薄膜を形成する。そして、この薄膜に対してエッチン
グやフォトリソグラフィ等を施して、走査線とデータ線
との交差に対応してマトリクス状に配列する複数の画素
電極204を形成する。さらに、これらの各部が形成さ
れた背面基板20の表面に、R、G、Bのうちのいずれ
かの色に着色された樹脂膜を形成するとともに、エッチ
ングやフォトリソグラフィ等を施して一部の画素電極2
04を覆うカラーフィルタ205を形成する。他の一部
の画素電極204を覆う、他の2色のカラーフィルタ2
05についても同様の工程によって形成することができ
る(図4(a5))。
B-2: Method of Manufacturing Liquid Crystal Display 2 Next, a method of manufacturing the liquid crystal display 2 according to this embodiment will be described with reference to FIG. First, in the same process as the process described in the first embodiment (FIGS. 2A1 to 2A4), irregularities are formed on one surface of the plate member 20a to form the rear substrate 20, 4 (a1) and (a2)), the reflection film 2 covering the surface of the rear substrate 20
1 and the protective film 22 are formed (FIGS. 4A3 and 4A4). Next, a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of switching elements 203 (for example, a thin film transistor) are formed on the surface of the thus obtained rear substrate 20 where no irregularities are formed. These components can be formed by using various known methods, and a description thereof will be omitted. Subsequently, ITO is formed on the surface of the back substrate 20 on which the plurality of scanning lines and data lines and the plurality of switching elements 203 are formed by sputtering or the like.
Is formed. Then, the thin film is subjected to etching, photolithography, or the like to form a plurality of pixel electrodes 204 arranged in a matrix corresponding to the intersection of the scanning line and the data line. Further, a resin film colored in any one of R, G, and B is formed on the surface of the rear substrate 20 on which these components are formed, and a part of the resin film is subjected to etching, photolithography, and the like. Pixel electrode 2
A color filter 205 that covers the area 04 is formed. Another two-color filter 2 covering some other pixel electrodes 204
05 can be formed by the same process (FIG. 4A5).

【0041】次に、画素電極204等が形成された背面
基板20の表面に、上記第1実施形態において示したの
と同様の工程により配向膜202を形成するとともに
(図4(a6))、背面基板20の縁部を囲む形状のシ
ール材30を印刷する(図4(a7))。
Next, an alignment film 202 is formed on the surface of the back substrate 20 on which the pixel electrodes 204 and the like are formed by the same process as that shown in the first embodiment (FIG. 4A6). A seal material 30 having a shape surrounding the edge of the rear substrate 20 is printed (FIG. 4A7).

【0042】一方、ガラス基板等の前面基板10の一方
の表面に、スパッタ法等を用いてITO等からなる対向
電極103を形成する(図4(b1))。そして、この
対向電極103を覆う配向膜102を形成するとともに
(図4(b2))、多数の粒状のスペーサ40を散布す
る(図4(b3))。
On the other hand, a counter electrode 103 made of ITO or the like is formed on one surface of the front substrate 10 such as a glass substrate by using a sputtering method or the like (FIG. 4 (b1)). Then, an alignment film 102 covering the counter electrode 103 is formed (FIG. 4B2), and a large number of granular spacers 40 are scattered (FIG. 4B3).

【0043】次に、上記各工程により得られた背面基板
20および前面基板10を、電極等が形成された面が対
向するようにシール材30を介して接合した後、液晶5
0を封入して液晶表示装置2が完成する(図4
(c))。本実施形態によっても、上記第1実施形態と
同様の効果が得られる。さらに、本実施形態において
は、背面基板20の外側表面に凹凸が形成されるため、
スイッチング素子等が形成される表面には十分な平面度
を持たせることができる。ここで、背面基板20の内側
表面に反射光を散乱させるための凹凸を形成した場合に
は、当該凹凸が形成された表面上にスイッチング素子を
形成する必要があるため、各スイッチング素子の特性を
均一にするのは困難である。また、凹凸が形成された領
域のうち、スイッチング素子が形成される領域に対して
選択的にエッチングを施し、当該領域を平坦化すること
も考えられるが、かかる場合には液晶表示装置の製造工
程が煩雑となるという問題が生じる。これに対し、本実
施形態によれば、十分な平面度を有する背面基板20の
表面に複数のスイッチング素子203を形成することが
できるから、製造工程を増やすことなく、各スイッチン
グ素子の特性を均一化することができるという利点があ
る。
Next, the back substrate 20 and the front substrate 10 obtained by the above-described steps are joined via a sealing material 30 so that the surfaces on which electrodes and the like are formed face each other.
0 to complete the liquid crystal display device 2 (FIG. 4).
(C)). According to this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Furthermore, in the present embodiment, since irregularities are formed on the outer surface of the rear substrate 20,
The surface on which the switching elements and the like are formed can have sufficient flatness. Here, when irregularities for scattering the reflected light are formed on the inner surface of the rear substrate 20, it is necessary to form the switching elements on the surface on which the irregularities are formed. It is difficult to make it uniform. In addition, it is conceivable to selectively etch a region where the switching element is formed in the region where the unevenness is formed to flatten the region, but in such a case, the manufacturing process of the liquid crystal display device may be performed. Is complicated. On the other hand, according to the present embodiment, since a plurality of switching elements 203 can be formed on the surface of the rear substrate 20 having a sufficient flatness, the characteristics of each switching element can be made uniform without increasing the number of manufacturing steps. There is an advantage that can be made.

【0044】C:変形例 以上この発明の一実施形態について説明したが、上記実
施形態はあくまでも例示であり、上記実施形態に対して
は、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加
えることができる。変形例としては、例えば以下のよう
なものが考えられる。
C: Modifications While one embodiment of the present invention has been described above, the above embodiment is merely an example, and various modifications may be made to the above embodiment without departing from the spirit of the present invention. be able to. For example, the following modifications can be considered.

【0045】<変形例1>上記各実施形態においては、
反射膜21の保護および平坦化を図るべく、当該反射膜
21に対して背面基板20と反対側の面に保護膜22を
形成するようにしたが、この保護膜22は、必ずしも設
ける必要はない。すなわち、例えば反射膜21の保護ま
たは平坦化を図る必要がない場合等には、当該保護膜2
2を設けない構成としてもよい。こうすれば、上記各実
施形態と比較して、保護膜22の分だけ液晶表示装置の
厚さを薄くすることができるという効果が得られる。
<Modification 1> In each of the above embodiments,
In order to protect and flatten the reflection film 21, the protection film 22 is formed on the surface of the reflection film 21 opposite to the rear substrate 20, but the protection film 22 is not necessarily provided. . That is, for example, when there is no need to protect or planarize the reflective film 21, the protective film 2
2 may not be provided. In this case, an effect is obtained that the thickness of the liquid crystal display device can be reduced by the amount corresponding to the protective film 22 as compared with the above embodiments.

【0046】<変形例2>背面基板20の厚さが所定の
厚さ以上であると、この厚さにより生じる光路差に起因
して、観察者に視認される画像には視差(文字浮き)が
生じることも考えられる。ここで、図5は、背面基板2
0、反射膜21および保護膜22の構成を拡大して示す
断面図である。本発明の発明者による実験によれば、背
面基板20の凹凸が形成された領域のうち凹部の最も窪
んだ部分における背面基板20の厚さ(すなわち、図5
に示す厚さT)が0.4mm以下である場合には、背面
基板20の厚さによって生じる視差が観察者の目に認識
できない程度に抑えられることが確認された。従って、
凹部における背面基板20の厚さは0.4mm以下であ
ることが望ましい。
<Modification 2> If the thickness of the rear substrate 20 is equal to or greater than a predetermined thickness, an image visually recognized by an observer due to an optical path difference caused by this thickness causes parallax (floating characters). May occur. Here, FIG.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the configurations of a reflection film 21 and a protective film 22. According to the experiment by the inventor of the present invention, the thickness of the back substrate 20 at the most concave portion of the concave portion of the region where the unevenness of the rear substrate 20 is formed (that is, FIG.
When the thickness T) is 0.4 mm or less, it was confirmed that the parallax caused by the thickness of the rear substrate 20 was suppressed to a level that the observer could not recognize. Therefore,
It is desirable that the thickness of the back substrate 20 in the recess is 0.4 mm or less.

【0047】また、本発明者による実験の結果、背面基
板20に形成された凹凸のうち、1つの凸部の頂上部
と、当該凸部に最も近接する凸部の頂上部との距離(す
なわち、図5に示す長さP。換言すれば、凹凸のピッ
チ)が1μm以上500μm以下であり、凹凸の高さ
(すなわち図5に示す高さH)が0.1μm以上10μ
m以下である場合に、この凹凸上に形成された反射膜2
1によって特に良好な散乱特性が得られることが確認さ
れた。従って、背面基板20には、上記条件を満たすよ
うな凹凸を形成することが望ましい。なお、この凹凸の
形状は、図2(a1)または図4(a1)に示した板状
部材20aに施すエッチングの条件(エッチング時間ま
たはエッチャントの種類)等を適当に選定することによ
って制御することができる。さらに、実験の結果、反射
膜21の膜厚が10nm以上500nm以下である場合
に良好な反射特性が得られることが確認された。従っ
て、反射膜21の膜厚をこの範囲の厚さとすることが望
ましい。
Further, as a result of an experiment conducted by the inventor, the distance between the top of one protrusion and the top of the protrusion closest to the protrusion among the protrusions and recesses formed on the rear substrate 20 (ie, 5, that is, the pitch of the unevenness is 1 μm or more and 500 μm or less, and the height of the unevenness (that is, the height H shown in FIG. 5) is 0.1 μm or more and 10 μm or less.
m or less, the reflective film 2 formed on the unevenness
It was confirmed that No. 1 provided particularly good scattering characteristics. Therefore, it is desirable to form irregularities on the rear substrate 20 so as to satisfy the above conditions. The shape of the unevenness should be controlled by appropriately selecting the etching conditions (etching time or type of etchant) applied to the plate member 20a shown in FIG. 2 (a1) or FIG. 4 (a1). Can be. Further, as a result of an experiment, it was confirmed that good reflection characteristics were obtained when the thickness of the reflection film 21 was 10 nm or more and 500 nm or less. Therefore, it is desirable that the film thickness of the reflection film 21 be within this range.

【0048】なお、上記各実施形態においては、板状部
材20aの表面を粗面化した後にエッチングを施すこと
によって凹凸を有する背面基板20を作成するようにし
たが、板状部材20aの表面に凹凸を形成する方法はこ
れに限られるものではない。例えば、板状部材20aの
一方の表面における多数の微細な領域ごとに樹脂膜を形
成するとともに、熱処理を施すことによって各樹脂膜の
一部(角部)を溶融させることにより、当該表面上に凹
凸を形成するようにしてもよい。
In each of the above-described embodiments, the back substrate 20 having irregularities is formed by roughening the surface of the plate member 20a and then performing etching, but the surface of the plate member 20a is formed on the surface of the plate member 20a. The method for forming the unevenness is not limited to this. For example, a resin film is formed for each of a large number of fine regions on one surface of the plate-shaped member 20a, and a part (corner) of each resin film is melted by performing a heat treatment, so that the surface is formed on the surface. Irregularities may be formed.

【0049】また、上記各実施形態においては、一方の
表面全体に凹凸が形成された背面基板20を例示した
が、表面の一部の領域(例えば画像が表示される領域)
のみに凹凸を形成するようにしてもよい。同様に、上記
各実施形態においては、背面基板20の凹凸が形成され
た領域全体を覆う反射膜21を例示したが、この反射膜
21は、背面基板20上の凹凸が形成された領域のうち
の一部(例えば画像が表示される領域)のみを覆うもの
であってもよい。
Further, in each of the above embodiments, the back substrate 20 having the unevenness formed on one entire surface is exemplified, but a partial area of the surface (for example, an area where an image is displayed).
The unevenness may be formed only on the surface. Similarly, in each of the above embodiments, the reflection film 21 covering the entire area of the rear substrate 20 where the unevenness is formed is exemplified. May cover only a part (for example, an area where an image is displayed).

【0050】<変形例3>上記各実施形態においては、
アルミニウムによって反射膜21を形成する場合を例示
したが、この反射膜21は、反射性を有する材料によっ
て形成されればよく、アルミニウム以外にも、例えば、
銀等の金属、もしくはアルミニウムまたは銀を主成分と
する金属等によって形成することもできる。また、上記
各実施形態においては、ポリイミド系の樹脂によって保
護膜22を形成する場合を例示したが、これ以外にも、
例えば二酸化珪素(SiO2)または珪素系の無機材
料、もしくはアクリル系、エポキシ系の有機材料など各
種の材料を用いることができる。
<Modification 3> In each of the above embodiments,
Although the case where the reflective film 21 is formed of aluminum has been described as an example, the reflective film 21 may be formed of a material having reflectivity.
A metal such as silver, or a metal containing aluminum or silver as a main component can also be used. Further, in each of the above embodiments, the case where the protective film 22 is formed of a polyimide-based resin is exemplified.
For example, various materials such as silicon dioxide (SiO 2 ) or a silicon-based inorganic material, or an acrylic or epoxy-based organic material can be used.

【0051】<変形例4>上記第2実施形態において
は、背面基板20上にスイッチング素子203を形成し
たが、前面基板10側に形成してもよいことはもちろん
である。この場合においても、基板上に凹凸を形成する
方法としては上記各実施形態に示した方法を用いること
ができる。
<Modification 4> In the second embodiment, the switching element 203 is formed on the rear substrate 20. However, the switching element 203 may be formed on the front substrate 10 as a matter of course. Also in this case, the method described in each of the above embodiments can be used as a method for forming the irregularities on the substrate.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に液晶表示
装置の背面基板は、液晶側とは反対側に凹凸が形成され
た構成となっているため、背面基板の液晶側の表面に平
坦化膜を形成する必要がない。従って、平坦化膜に起因
して発生し得るセルギャップの不均一を未然に防止する
ことができ、ひいては基板の全面にわたって均一な表示
特性を得ることができる。
As described above, since the rear substrate of the liquid crystal display device according to the present invention has a structure in which irregularities are formed on the side opposite to the liquid crystal side, the rear substrate has a flat surface on the liquid crystal side. There is no need to form an oxide film. Therefore, it is possible to prevent a non-uniform cell gap, which may be caused by the flattening film, and to obtain a uniform display characteristic over the entire surface of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の
構成を模式的に例示する断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the invention.

【図2】 同液晶表示装置の製造工程を模式的に示す図
である。
FIG. 2 is a view schematically showing a manufacturing process of the liquid crystal display device.

【図3】 本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置の
構成を模式的に例示する断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the invention.

【図4】 同液晶表示装置の製造工程を模式的に示す図
である。
FIG. 4 is a view schematically showing a manufacturing process of the liquid crystal display device.

【図5】 本発明に係る液晶表示装置の背面基板の構成
を拡大して例示する断面図である。
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a configuration of a rear substrate of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】 従来の反射型液晶表示装置の構成を例示する
断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a conventional reflective liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2……液晶表示装置 10……前面基板 101……透明電極 102……配向膜 103……対向電極 20……背面基板 21……反射膜 22……保護膜 201……透明電極 202……配向膜 203……スイッチング素子 204……画素電極 205……カラーフィルタ 30……シール材 40……スペーサ 50……液晶 Liquid crystal display device 10 Front substrate 101 Transparent electrode 102 Alignment film 103 Counter electrode 20 Back substrate 21 Reflective film 22 Protective film 201 Transparent electrode 202 ... Alignment film 203 ... Switching element 204 ... Pixel electrode 205 ... Color filter 30 ... Seal material 40 ... Spacer 50 ... Liquid crystal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 KA15 LA07 NA24 NA25 PA06 QA12 QA14 RA05 TA01 TA04 TA09 TA17 2H090 JA04 JA13 JA16 JB02 JB03 JD01 MB02 2H091 FA16Y FB07 FB08 FC02 FC26 FD06 FD15 FD23 GA08 GA13 HA07 LA12 LA16 5C094 AA03 AA55 BA03 BA43 CA19 CA24 EA04 EA05 EA07 EB02 EC03 ED03 ED11 GB10 5G435 AA00 BB12 EE33 FF03 KK05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 2H089 KA15 LA07 NA24 NA25 PA06 QA12 QA14 RA05 TA01 TA04 TA09 TA17 2H090 JA04 JA13 JA16 JB02 JB03 JD01 MB02 2H091 FA16Y FB07 FB08 FC02 FC26 FD06 FD15 FD23 GA08 GA13 A09 LA09 BA03 BA43 CA19 CA24 EA04 EA05 EA07 EB02 EC03 ED03 ED11 GB10 5G435 AA00 BB12 EE33 FF03 KK05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟
持してなる液晶表示装置であって、 前記一対の基板のうちの一方の基板における前記液晶と
反対側には凹凸が形成され、 前記一方の基板の前記凹凸が形成された側には反射膜が
形成されてなり、 前記反射膜における前記一方の基板側には、当該基板に
形成された凹凸に対応した凹凸が形成されていることを
特徴とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other, wherein irregularities are formed on one of the pair of substrates on a side opposite to the liquid crystal, A reflection film is formed on a side of the one substrate on which the irregularities are formed, and irregularities corresponding to irregularities formed on the substrate are formed on the one substrate side of the reflective film. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記反射膜に対して前記一方の基板と反
対側に、有機材料または無機材料からなる層を具備する
ことを特徴とする液晶表示装置。
2. A liquid crystal display device comprising a layer made of an organic material or an inorganic material on a side opposite to the one substrate with respect to the reflection film.
【請求項3】 前記一方の基板の凹凸において、各凸部
の頂上部から当該凸部に隣接する他の凸部の頂上部まで
の距離が1μm以上500μm以下であり、かつ前記凹
凸の高さは0.1μm以上10μm以下であることを特
徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
3. The unevenness of the one substrate, wherein the distance from the top of each protrusion to the top of another protrusion adjacent to the protrusion is 1 μm or more and 500 μm or less, and the height of the unevenness 3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a is 0.1 μm or more and 10 μm or less. 4.
【請求項4】 前記一方の基板の厚さが0.4mm以下
であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記
載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said one substrate has a thickness of 0.4 mm or less.
【請求項5】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟
持してなる液晶表示装置の製造方法であって、 前記一対の基板のうちの一方の基板に凹凸を形成する工
程と、 前記一方の基板の前記凹凸が形成された側に反射膜を形
成する工程と、 前記一対の基板の凹凸が形成された側とは反対側が他方
の基板と対向するように、前記一対の基板を接合する工
程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
5. A method for manufacturing a liquid crystal display device comprising a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates facing each other, the method comprising: forming unevenness on one of the pair of substrates; Forming a reflective film on the side of the substrate where the irregularities are formed, and joining the pair of substrates so that the side opposite to the side where the irregularities of the pair of substrates are formed faces the other substrate And a method for manufacturing a liquid crystal display device.
【請求項6】 前記反射膜に対して前記一方の基板とは
反対側に、有機材料または無機材料からなる層を形成す
る工程を有することを特徴とする請求項5に記載の液晶
表示装置の製造方法。
6. The liquid crystal display device according to claim 5, further comprising a step of forming a layer made of an organic material or an inorganic material on a side of the reflection film opposite to the one substrate. Production method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012077586A1 (en) * 2010-12-10 2012-06-14 シャープ株式会社 Array substrate for liquid crystal display panel

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