JP2001300970A - Method for manufacturing plastic disk - Google Patents

Method for manufacturing plastic disk

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Publication number
JP2001300970A
JP2001300970A JP2000123283A JP2000123283A JP2001300970A JP 2001300970 A JP2001300970 A JP 2001300970A JP 2000123283 A JP2000123283 A JP 2000123283A JP 2000123283 A JP2000123283 A JP 2000123283A JP 2001300970 A JP2001300970 A JP 2001300970A
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JP
Japan
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resin
substrate
mpa
disk substrate
temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000123283A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunori Suzuki
克紀 鈴木
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
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  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a disk substrate generating no blister even if allowed to stand for a long time under high temperature and high humidity environment and low temperature environment, and a recording medium. SOLUTION: In a method for manufacturing the disk substrate by injection- molding a thermoplastic resin, the thermoplastic resin is injection-molded under such a condition that the temperature of the molten thermoplastic resin is not higher than Tg of the thermoplastic resin +220 deg.C and not lower than Tg+110 deg.C, the metering time thereof is 2.5-15 sec, the back pressure thereof at the time of metering is 5.4-15.7 MPa (55-160 kg/cm2) and mold clamping pressure is 1.5-15.7 MPa (15-160 kg/cm2).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータの外部
記憶装置およびその他のデジタルデータの各種記録装置
に搭載される記録媒体用基板およびこれより構成される
記録媒体およびその製造方法に関するものである。より
詳細には、磁気記録媒体用基板およびこれより構成され
る磁気記録媒体およびその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording medium substrate mounted on an external storage device of a computer and other various recording devices for digital data, a recording medium constituted by the substrate, and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a magnetic recording medium substrate, a magnetic recording medium formed therefrom, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度な表面精度を要求される磁気記録媒
体に関して、従来の非磁性金属基板(Al等)を使用し
た場合には高度な精密加工が要求される。
2. Description of the Related Art With respect to a magnetic recording medium requiring a high surface precision, a high precision processing is required when a conventional non-magnetic metal substrate (such as Al) is used.

【0003】従来の非磁性金属基板としては、一般的
に、加熱溶融した金属材料を圧延、加熱焼純したのち、
規定の寸法に加工が行われたブランク材が用いられる。
このブランク材に対して、次に内外径の処理が行われ
る。さらに表面精度の向上のためのラッピング加工が行
われた後、表面硬度向上等の目的のためNi−Pメッキ
層を13μm形成し、その表面をポリッシュで表面粗さ
がRa=1nm(10Å)になるように研磨したのち、
ダイヤモンドスラリーを使用して最終ラッピング加工が
行われる。その後、CSSゾーンに例えばバンプハイト
が19nm(190Å)、その密度が30μm平方に1
つになるようにレーザーゾーンテクスチャーを施し、こ
の基板を精密洗浄して、磁気記録媒体用の基板(磁気デ
ィスク基板)が得られる。
As a conventional non-magnetic metal substrate, generally, a metal material that has been heated and melted is rolled, heated and refined, and then heated.
A blank material processed to a specified size is used.
Next, the inner and outer diameters of the blank are processed. Further, after lapping for improving the surface accuracy is performed, a Ni-P plating layer is formed to a thickness of 13 μm for the purpose of improving the surface hardness and the surface is polished to a surface roughness of Ra = 1 nm (10 °). After polishing to become
Final lapping is performed using diamond slurry. After that, for example, the CSS zone has a bump height of 19 nm (190 °) and a density of 1 in 30 μm square.
The substrate is subjected to laser zone texturing so that the substrate is precisely washed, and a substrate for a magnetic recording medium (magnetic disk substrate) is obtained.

【0004】その後、DCスパッタ法により下地Cr層
50nm(500Å)、Co−14Cr−4Ta磁性層
を30nm(300Å)、カーボン保護層を8nm(8
0Å)と順次形成し、さらにスパッタ後の表面にテープ
バニッシュを行い、次にディップコート法またはスピン
コ−ト法によりフッ素系潤滑層を2nm(20Å)形成
し、磁気記録媒体を得る。
[0004] Thereafter, the underlayer Cr layer was 50 nm (500 °), the Co-14Cr-4Ta magnetic layer was 30 nm (300 °), and the carbon protective layer was 8 nm (8 ° C) by DC sputtering.
0 °), tape burnishing is performed on the surface after sputtering, and a fluorine-based lubricating layer is then formed to a thickness of 2 nm (20 °) by dip coating or spin coating to obtain a magnetic recording medium.

【0005】また、光記録媒体、たとえばコンパクトデ
ィスクは、光ディスク基板の上に少なくとも反射層と保
護層とを含み、反射層からの反射光を用いて情報を読み
出すものである。さらに、書込み可能な光ディスク(C
D−R、CD−RW、PD等)は、光ディスク基板の上
に、少なくとも記録層、反射層、および保護層が積層さ
れており、記録層に対してレーザー光を用いて情報の読
み書きを行うものである。
An optical recording medium, for example, a compact disk, includes at least a reflective layer and a protective layer on an optical disk substrate, and reads information using light reflected from the reflective layer. Furthermore, a writable optical disk (C
DR, CD-RW, PD, etc.) have at least a recording layer, a reflective layer, and a protective layer laminated on an optical disk substrate, and read and write information on the recording layer using a laser beam. Things.

【0006】さらに、光磁気記録媒体は、光磁気ディス
ク基板の上に、たとえば保護膜に挟持された磁性記録
層、反射膜および保護コートを具え、レーザー光と磁気
を用いて情報を記録し、および磁性層によるレーザー光
の反射を用いて情報を読み出すものである。
Further, the magneto-optical recording medium has a magnetic recording layer, a reflective film and a protective coat sandwiched between protective films, for example, on a magneto-optical disk substrate, and records information using laser light and magnetism. In addition, information is read using reflection of laser light by a magnetic layer.

【0007】但し、上記各種ディスク基板および各種記
録媒体の製法・構成はこれのみに限定されるものではな
い。
However, the manufacturing methods and structures of the various disk substrates and various recording media are not limited to these.

【0008】上記の中でも特に磁気記録媒体に関して
は、従来の磁気ディスク基板および磁気記録媒体の製造
方法は、近年の高記録密度化の伸長とともにますます複
雑化している一方で、高機能を維持したままで従来以上
に安価な磁気記録媒体が求められている。この相反する
要求を解決する新規な磁気ディスク基板として、プラス
チックを用いた磁気記録媒体が提案されている(例え
ば、特開平5−4231号公報、特開平5−6535号
公報、特開平5−28488号公報などを参照された
い)。
Among the above, particularly with respect to the magnetic recording medium, the conventional method of manufacturing the magnetic disk substrate and the magnetic recording medium has become more and more complicated with the recent increase in the recording density, while maintaining high performance. There is a need for a magnetic recording medium that is less expensive than before. As a new magnetic disk substrate that solves the conflicting demands, a magnetic recording medium using plastic has been proposed (for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-4231, 5-6535, 5-28488). Please refer to Japanese Patent Publication No.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、高度な形状安
定性、表面精度が要求される磁気ディスク基板において
は、金属やガラスやセラミック基板と比較し、一般に引
張り強度、伸びおよび弾性率等の機械的強度が低く、熱
膨張係数の大きいプラスチック基板は不利であり、さら
に高温・高湿および低温下での信頼性試験では吸湿およ
び放湿によって、基板に直径数μm、高さ数nmのフク
レが多数発生することがある。
However, magnetic disk substrates that require a high degree of shape stability and surface precision are generally required to have higher mechanical strength, e.g., tensile strength, elongation and elastic modulus than metal, glass or ceramic substrates. Plastic substrates with low mechanical strength and large thermal expansion coefficient are disadvantageous. In addition, in reliability tests under high temperature, high humidity and low temperature, blisters with a diameter of several μm and a height of several nm Many can occur.

【0010】一般的な光記録媒体および光磁気記録媒体
においても、この環境試験によってフクレは発生してい
たが、レーザーと基板の間の距離が大きいことから問題
は生じていなかった。しかしながら、特にハードディス
クのように、数10nmの高さをヘッドが飛ぶという非
常に高精度な表面精度が要求されるデバイスにおいて
は、磁気ヘッドが浮上せず、実際の読み書きが行えない
という問題を引き起こす。
In general optical recording media and magneto-optical recording media, blisters were generated by this environmental test, but no problem occurred because the distance between the laser and the substrate was large. However, in a device such as a hard disk, which requires a very high surface accuracy such that the head flies over a height of several tens of nanometers, the magnetic head does not float, and the actual reading and writing cannot be performed. .

【0011】そこで本発明は、かかる従来の実情を鑑み
て提案されたものであり、高温・高湿および低温下の環
境における長時間放置下でも基板のフクレの発生を最小
限に抑えたディスク基板および記録媒体を提供すること
を目的とする。
Accordingly, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and has been proposed to minimize the occurrence of blisters on a substrate even when the substrate is left for a long time in a high-temperature, high-humidity, or low-temperature environment. And a recording medium.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題・目
的を達成するために鋭意検討を進めた結果、高温・高湿
および低温下の環境における長時間放置下でも基板のフ
クレの発生を最小限に抑えたディスク基板および記録媒
体を得るためには、基板内部に残存する水分および成形
時に基板表面に存在する成形欠陥をディスク媒体の作製
プロセスにおいて除去すること、およびそれらの発生源
に水分が局在して凝縮しないように適度な透湿性を有す
る成形条件にて基板を射出成形することにより、上記目
的を達成できる磁気ディスク基板、光ディスク基板、光
磁気ディスク基板およびそれらを用いた記録媒体が作製
できることを見い出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventor has conducted intensive studies in order to achieve the above objects and objects, and as a result, it has been found that blisters on the substrate can be generated even when left for a long time in an environment of high temperature, high humidity and low temperature. In order to obtain a disk substrate and a recording medium that are minimized, moisture remaining inside the substrate and molding defects present on the substrate surface at the time of molding must be removed in the manufacturing process of the disk medium, and the source of moisture must be removed. Disk substrate, optical disk substrate, magneto-optical disk substrate, and recording medium using the same, by subjecting the substrate to injection molding under molding conditions having appropriate moisture permeability so as not to be localized and condensed Have been found, and the present invention has been completed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】すなわち、本発明に係わる磁気デ
ィスク基板は、高耐熱性熱可塑性樹脂が射出成形されて
なるものであり、特に高温・高湿および低温下の環境に
おける長時間放置下でも表面におけるフクレの発生を最
小限に抑えた基板を得るために、基板内部に残存する水
分、基板表面に存在する成形欠陥数を最小にとどめると
ともに、基板に対して適度な透湿性を付与する所定の成
形条件にて作製したディスク基板である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The magnetic disk substrate according to the present invention is formed by injection-molding a high heat-resistant thermoplastic resin, and can be used for a long time in a high-temperature, high-humidity or low-temperature environment. In order to obtain a substrate that minimizes the occurrence of blisters on the surface, it is necessary to minimize the amount of moisture remaining inside the substrate and the number of molding defects existing on the substrate surface and to give the substrate an appropriate moisture permeability. It is a disk substrate manufactured under the molding conditions of the above.

【0014】本発明において用いられる熱可塑性樹脂
は、一般的に光磁気ディスク基板に使用されているポリ
カーボネート樹脂およびポリメチルメタクリレート樹脂
の他に、ポリオレフィン系樹脂を含む。特に高耐熱性・
低吸湿性で、剛直構造なポリオレフィン系樹脂、たとえ
ばノルボルネン系ポリシクロオレフィン樹脂などを用い
ることが望ましい。また、樹脂構造に由来するガラス転
移点(本明細書中ではTgと称する)は、135℃〜1
70℃であり、この範囲でTgが高いほど望ましい。
The thermoplastic resin used in the present invention includes a polyolefin resin in addition to a polycarbonate resin and a polymethyl methacrylate resin generally used for a magneto-optical disk substrate. Especially high heat resistance
It is desirable to use a polyolefin resin having a low hygroscopicity and a rigid structure, such as a norbornene polycycloolefin resin. Further, the glass transition point (referred to as Tg in the present specification) derived from the resin structure is from 135 ° C. to 1 ° C.
70 ° C., and a higher Tg in this range is more desirable.

【0015】本発明において用いられる射出成形におい
ては、樹脂の均一性を高めるためにスクリュー式の射出
成形装置を使用することが好ましい。樹脂の溶融および
計量をスクリューを用いて行い、樹脂の射出をプランジ
ャーを用いて行うことも可能であるが、溶融、計量およ
び射出の機能を集約したインラインスクリュー式の射出
成形装置を使用することが好ましい。本発明で用いるこ
とができるインラインスクリュー式射出成形装置の模式
的断面図を図1に示す。このインラインスクリュー式射
出成形装置は、加熱手段14および金型に対する射出口
16を具えた加熱シリンダ13と、該加熱シリンダ13
内にあり、樹脂の溶融、計量および射出を行うための
(可動)スクリュー11と、スクリュー11に対して樹
脂を供給する供給手段15(ホッパなど)と、スクリュ
ー11の計量および射出駆動を行うためのスクリュー駆
動手段12とを具える。金型としては、分離可能な2つ
の部分固定部17および可動部18からなる金型を用
い、さらに金型に型締め圧力を与え、および可動部18
を駆動するための駆動手段19を具えることが好ましい
が、それに限定されるものではない。
In the injection molding used in the present invention, it is preferable to use a screw-type injection molding apparatus in order to improve the uniformity of the resin. It is possible to use a screw to melt and measure the resin and use a plunger to inject the resin.However, use an inline screw-type injection molding device that integrates the functions of melting, measuring and injection. Is preferred. FIG. 1 is a schematic sectional view of an in-line screw injection molding apparatus that can be used in the present invention. This in-line screw type injection molding apparatus comprises a heating cylinder 13 having a heating means 14 and an injection port 16 for a mold;
(Movable) screw 11 for melting, measuring, and injecting the resin, supply means 15 (such as a hopper) for supplying the resin to the screw 11, and for measuring and injecting the screw 11 And screw driving means 12. As the mold, a mold composed of two separable partial fixing portions 17 and a movable portion 18 is used. Further, a mold clamping pressure is applied to the mold, and the movable portion 18 is provided.
It is preferable to provide a driving means 19 for driving the driving mechanism, but the present invention is not limited to this.

【0016】高温・高湿および低温下の環境における長
時間放置下で基板上に発生するフクレを減少させるに
は、フクレの核となる成形欠陥をなくすことが必要であ
る。そのような成形欠陥が基板表面に存在する場合に
は、その成形欠陥において水分が凝縮してフクレの核と
なるからである。前記成形欠陥の排除に併せて、局在水
分の凝縮が起こらないように、基板に適正な水分の透過
性を与えることが可能な成形条件にて基板を作製するこ
とが望ましい。
In order to reduce blisters generated on a substrate when left in a high-temperature, high-humidity or low-temperature environment for a long period of time, it is necessary to eliminate molding defects serving as cores of blisters. This is because, when such a molding defect exists on the substrate surface, moisture condenses at the molding defect and becomes a core of blisters. It is preferable that the substrate is manufactured under molding conditions that can provide the substrate with appropriate moisture permeability so that localized moisture is not condensed together with the elimination of the molding defect.

【0017】フクレの核となる成形欠陥とは、その形成
原因として、(1)劣化樹脂に起因するもの、(2)樹
脂の溶融残さに起因するもの、および(3)樹脂の発ガ
スに起因するものに大別される。また、樹脂中のイオン
および金属の不純物をできる限り除去することもまた望
ましい。以下に、前記それぞれの形成原因を排除するた
めの、基板およびその成形条件に関する詳細を記す。
The molding defects which are the cores of blisters are formed by (1) those caused by the deteriorated resin, (2) those caused by the residual resin melt, and (3) the gas generated by the resin. It is roughly divided into what you do. It is also desirable to remove as much as possible of ionic and metallic impurities in the resin. Hereinafter, details regarding the substrate and the molding conditions for eliminating the above-mentioned respective causes of formation will be described.

【0018】まず、水分が凝縮し、フクレの核となる場
所が生じないように、劣化樹脂起因の成形欠陥の除去を
試みた。射出成形における樹脂の劣化は、主として樹脂
の溶融のために印加される熱によるものである。成形基
板内の劣化樹脂を減少させるために、劣化樹脂が発生し
ない温度の溶融樹脂を射出することを試みたところ、フ
クレの発生する密度を大幅に減少させることができた。
その際の溶融樹脂の好適な最高温度は、Tg+110℃
以上で、Tg+220℃以下であった。より好適には、
Tg+130℃以上で、Tg+180℃以下であった
(Tgは、その樹脂のガラス転移点である)。
First, an attempt was made to remove molding defects caused by the degraded resin so that water would not condense and nuclei of blisters would not be formed. The deterioration of the resin in the injection molding is mainly due to the heat applied for melting the resin. When an attempt was made to inject molten resin at a temperature at which no degraded resin was generated in order to reduce the degraded resin in the molded substrate, the density at which blisters were generated could be significantly reduced.
The preferred maximum temperature of the molten resin at that time is Tg + 110 ° C.
Above was Tg + 220 ° C. or less. More preferably,
It was Tg + 130 ° C. or higher and Tg + 180 ° C. or lower (Tg is the glass transition point of the resin).

【0019】また、同様の目的で、計量時間を樹脂の劣
化開始よりも短くすることで、前述の目的を達成するこ
とができた。本発明における計量時間とは、樹脂の供給
手段15からスクリュー11に対して樹脂が供給され、
スクリュー駆動手段12によるスクリュー11の回転お
よび加熱手段14による加熱により樹脂が溶融および混
合され、スクリュー11の後退と共に加熱シリンダ13
内の射出口16の近傍に射出するための溶融された樹脂
が蓄積および計量される時間を意味する。ただし、計量
時間は樹脂の溶融にかかる時間に関係するので、計量時
間の過度の短縮は樹脂玉などの溶融残さが発生するおそ
れがあり、それによって計量時間の下限が規定される。
そのため、適正な計量時間は、2.5秒以上で、15秒
以下であり、より適正な時間は、4秒以上で、10秒以
下であった。樹脂の温度および計量時間を前記の適正な
値にして成形を行うことにより、成形後の基板における
劣化樹脂の濃度は大幅に減少し、フクレの発生する密度
を激減させることができた。
For the same purpose, the above-mentioned object can be achieved by shortening the measuring time from the start of the deterioration of the resin. The measuring time in the present invention means that the resin is supplied from the resin supply means 15 to the screw 11,
The resin is melted and mixed by the rotation of the screw 11 by the screw driving means 12 and the heating by the heating means 14.
Means the time during which the molten resin to be injected into the vicinity of the injection port 16 is accumulated and measured. However, since the measuring time is related to the time required for melting the resin, excessively shortening the measuring time may cause a residual resin such as resin balls to occur, thereby defining a lower limit of the measuring time.
Therefore, the appropriate weighing time was 2.5 seconds or more and 15 seconds or less, and the more appropriate time was 4 seconds or more and 10 seconds or less. By performing the molding with the resin temperature and the measuring time set to the above-mentioned appropriate values, the concentration of the deteriorated resin in the molded substrate was greatly reduced, and the density at which blisters were generated could be drastically reduced.

【0020】次に、樹脂からの発ガスを減少させること
による成形欠陥の除去を試みた。そのために、計量時の
背圧に対するフクレの密度の依存性を測定した。計量時
の背圧とは、前記計量時間中に、スクリュー駆動手段1
2からスクリュー11に対して印加される圧力を意味す
る。その結果、欠陥数、ひいてはフクレの密度を減少さ
せるのに、適当な背圧の値が存在することが分かった。
適正な計量時の背圧は、5.4MPa(55kg/cm
2)以上15.7Mpa(160kg/cm2)以下であ
った。より適正な背圧は、6.9MPa(70kg/c
2)以上13.2Mpa(135kg/cm2)以下で
あった。背圧が小さすぎる場合には、樹脂が溶融した際
に発生する発ガスが、溶融樹脂から充分に排出されずに
気泡として残り、それが成型欠陥を形成しフクレの核と
なってしまうと考えられる。逆に背圧が大きすぎる場合
には、スクリュー11による射出口16近傍への溶融樹
脂の蓄積および計量が不可能になるので、背圧の上限が
規定される。
Next, an attempt was made to remove molding defects by reducing gas emission from the resin. For this purpose, the dependence of the density of blisters on the back pressure during weighing was measured. The back pressure during weighing means that the screw driving means 1
2 means the pressure applied to the screw 11. As a result, it was found that there was an appropriate back pressure value to reduce the number of defects and, consequently, the density of blisters.
The back pressure during proper weighing is 5.4 MPa (55 kg / cm
2 ) Not less than 15.7 Mpa (160 kg / cm 2 ). A more appropriate back pressure is 6.9 MPa (70 kg / c
m 2 ) or more and 13.2 Mpa (135 kg / cm 2 ) or less. If the back pressure is too small, the gas generated when the resin is melted will not be sufficiently discharged from the molten resin and will remain as bubbles, which will form molding defects and become cores of blisters. Can be Conversely, if the back pressure is too high, it becomes impossible to accumulate and measure the molten resin in the vicinity of the injection port 16 by the screw 11, so the upper limit of the back pressure is defined.

【0021】最後に、基板中での水分の凝縮を防止する
ことを検討した。たとえ基板表面に成型欠陥があったと
しても、そこに水分が凝縮することを防止できれば、フ
クレの発生を軽減または排除することができる。実際、
基板に適正な水分の透過性(透湿性)を付与された基板
を作製することで、フクレの密度を減少させることが可
能なことも分かった。そのためには、成形時の型締め圧
力をある一定値以下にして成形を行い、基板のかさ密度
を小さくする必要がある。しかしながら、あまりに型締
め圧力を小さくして成形した場合、基板形状を良好な状
態に保つことは困難になる。したがって、好適な型締め
圧力は、1.5MPa(15kg/cm 2)以上15.
7MPa(160kg/cm2)以下であった。より適
正な型締め圧力は、2.9MPa(30kg/cm2
以上9.8MPa(100kg/cm2)以下であっ
た。そのときの好適な基板のかさ密度は0.75〜1.
2g/cm3であった。より好適には、0・8〜1.1
g/cm3であった。
Finally, to prevent condensation of moisture in the substrate
Considered that. Even if there is a molding defect on the substrate surface
However, if water can be prevented from condensing there,
The occurrence of crepe can be reduced or eliminated. In fact,
Substrate with proper water permeability (moisture permeability)
Can reduce the density of blisters.
I also found it to work. To achieve this, the mold clamping pressure during molding
Forming is performed with the force below a certain value, and the bulk density of the substrate is
Needs to be smaller. However, too much mold clamping
Substrate shape when molding with low pressure
It will be difficult to keep it. Therefore, suitable mold clamping
The pressure is 1.5 MPa (15 kg / cm Two) 15.
7MPa (160kg / cmTwo) More suitable
The positive mold clamping pressure is 2.9 MPa (30 kg / cmTwo)
9.8 MPa (100 kg / cmTwo)
Was. The preferred bulk density of the substrate at that time is 0.75 to 1.
2g / cmThreeMet. More preferably, 0.8 to 1.1.
g / cmThreeMet.

【0022】[作用]本発明の高耐熱性熱可塑性樹脂が
射出成形されてなるディスク基板を用いることにより、
特に高温・高湿および低温下の環境における長時間放置
下でも基板におけるフクレの発生を最小限に抑えた耐環
境安定性の高いディスク基板および記録媒体を提供する
ことが可能となる。
[Operation] By using a disk substrate formed by injection molding the highly heat-resistant thermoplastic resin of the present invention,
In particular, it is possible to provide a disk substrate and a recording medium that have high environmental resistance and minimize the occurrence of blisters on the substrate even when left for a long time in an environment of high temperature, high humidity, and low temperature.

【0023】[実施例]以下に本発明を適用した具体的
な実施例について図面を参照しながら詳細に説明する。
[Embodiments] Specific embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0024】実施例1 市販されている最大射出成形圧力70tの射出成形装置
にスタンパーを固定した金型を用いて、樹脂として高耐
熱性のノルボルネン系ポリシクロオレフィン樹脂(Tg
=140℃)を用い、樹脂温度320℃、射出速度12
0mm/s、型締め圧力5.4MPa(55kg/cm
2)、計量時間4秒、背圧10.8MPa(110kg
f/cm2)、金型温度=固定側110℃/可動側11
0℃という成形条件にて射出成形を行い、直径95mm
および厚さ1.27mmを有するディスク基板を得た。
Example 1 A highly heat-resistant norbornene-based polycycloolefin resin (Tg) was used as a resin in a commercially available injection molding apparatus having a maximum injection molding pressure of 70 t using a mold having a stamper fixed thereto.
= 140 ° C), resin temperature 320 ° C, injection speed 12
0 mm / s, mold clamping pressure 5.4 MPa (55 kg / cm
2 ), weighing time 4 seconds, back pressure 10.8MPa (110kg
f / cm 2 ), mold temperature = fixed side 110 ° C / movable side 11
Injection molding is performed under the molding condition of 0 ° C, and the diameter is 95mm.
And a disk substrate having a thickness of 1.27 mm was obtained.

【0025】実施例2 樹脂温度を270℃にする以外は実施例1と同様にして
磁気ディスク基板を得た。
Example 2 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin temperature was changed to 270 ° C.

【0026】実施例3 樹脂温度を350℃にする以外は実施例1と同様にして
磁気ディスク基板を得た。
Example 3 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin temperature was changed to 350 ° C.

【0027】実施例4 計量時間を8秒にする以外は実施例1と同様にして磁気
ディスク基板を得た。
Example 4 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the measuring time was changed to 8 seconds.

【0028】実施例5 計量時の背圧を6.4MPa(65kgf/cm2)に
する以外は実施例1と同様にして磁気ディスク基板を得
た。
Example 5 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the back pressure during weighing was changed to 6.4 MPa (65 kgf / cm 2 ).

【0029】実施例6 計量時の背圧を15.7MPa(160kgf/c
2)にする以外は実施例1と同様にして磁気ディスク
基板を得た。
Example 6 The back pressure at the time of measurement was 15.7 MPa (160 kgf / c
A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m 2 ) was set.

【0030】実施例7 型締め圧力を10.3MPa(105kgf/cm2
にする以外は実施例1と同様にして磁気ディスク基板を
得た。
Example 7 The mold clamping pressure was 10.3 MPa (105 kgf / cm 2 ).
A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0031】実施例8 型締め圧力を1.5MPa(15kgf/cm2)にす
る以外は実施例1と同様にして磁気ディスク基板を得
た。
Example 8 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the mold clamping pressure was 1.5 MPa (15 kgf / cm 2 ).

【0032】実施例9 型締め圧力を15.7MPa(150kgf/cm2
にする以外は実施例1と同様にして磁気ディスク基板を
得た。
Example 9 The mold clamping pressure was 15.7 MPa (150 kgf / cm 2 ).
A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0033】比較例1 樹脂温度を240℃にする以外は実施例1と同様にして
磁気ディスク基板を得た。
Comparative Example 1 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin temperature was set to 240 ° C.

【0034】比較例2 樹脂温度を370℃にする以外は実施例1と同様にして
磁気ディスク基板を得た。
Comparative Example 2 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin temperature was changed to 370 ° C.

【0035】比較例3 計量時間を1秒にする以外は実施例1と同様にして磁気
ディスク基板を得た。
Comparative Example 3 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the measuring time was changed to 1 second.

【0036】比較例4 計量時間を2秒にする以外は実施例1と同様にして磁気
ディスク基板を得た。
Comparative Example 4 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the measuring time was changed to 2 seconds.

【0037】比較例5 計量時間を16秒にする以外は実施例1と同様にして磁
気ディスク基板を得た。
Comparative Example 5 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the measuring time was changed to 16 seconds.

【0038】比較例6 計量時の背圧を2.9MPa(30kgf/cm2)に
する以外は実施例1と同様にして磁気ディスク基板を得
た。
Comparative Example 6 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the back pressure at the time of measurement was set to 2.9 MPa (30 kgf / cm 2 ).

【0039】比較例7 計量時の背圧を18.6MPa(190kgf/c
2)にする以外は実施例1と同様にして磁気ディスク
基板を得た。
Comparative Example 7 The back pressure at the time of weighing was 18.6 MPa (190 kgf / c
A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m 2 ) was set.

【0040】比較例8 型締め圧力を18.6MPa(190kgf/cm2
にする以外は実施例1と同様にして磁気ディスク基板を
得た。
Comparative Example 8 The mold clamping pressure was 18.6 MPa (190 kgf / cm 2 ).
A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0041】(評価方法)以上の実施例1〜9、比較例
1〜10で作製した基板に、磁性層をスパッタで成膜
し、その後環境試験を行い、その環境試験後に発生する
フクレの密度(面あたりのフクレの個数)の評価を行っ
た。環境試験は、最初に、高温・高湿雰囲気(60℃・
80%RH)に10時間にわたって放置し、次に、速や
かに−40℃まで冷却し、その状態で10時間にわたっ
て放置した。その後、常温・常湿環境に速やかに戻し
て、環境試験は完了とした。評価項目は、フクレの密
度、基板の重量密度、成形基板中の劣化物量について行
った。なお、劣化物量とは、劣化樹脂と溶融残さとを合
わせた量を意味する。また、フクレの密度が50個/面
以下であるならば、各種記録媒体用基板としての使用に
適当であると判断した。上記の各実施例において、1条
件につき5枚ずつ基板をサンブリングし、その5枚の結
果の平均値を評価結果とした。
(Evaluation Method) A magnetic layer was formed on the substrates prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 10 by sputtering, and thereafter an environmental test was performed. The density of blisters generated after the environmental test was determined. (The number of blisters per surface) was evaluated. First, the environmental test was performed in a high-temperature, high-humidity atmosphere (60 ° C
(80% RH) for 10 hours, then quickly cooled to -40 ° C and left there for 10 hours. Thereafter, the environment was promptly returned to the normal temperature and normal humidity environment, and the environmental test was completed. The evaluation items were the density of blisters, the weight density of the substrate, and the amount of degraded substances in the molded substrate. In addition, the amount of degraded products means the total amount of the degraded resin and the residual melt. If the blister density was 50 or less per surface, it was determined that the blister was suitable for use as a substrate for various recording media. In each of the above examples, five substrates were sampled for each condition, and the average value of the results of the five substrates was used as the evaluation result.

【0042】[フクレの密度の樹脂温度依存性]溶融時
の樹脂温度を変化させて、その基板の樹脂の劣化成分の
量とフクレの密度との測定を行った(実施例1〜3、な
らびに比較例1および2)。その結果を、図2に示す。
この測定結果に示されるように、溶融する樹脂の温度に
は最適値が存在し、高すぎても低すぎても、劣化物量が
多くなっていることが分かる。樹脂の温度が低すぎる場
合には、樹脂を充分に溶融させることができず、スクリ
ューがペレットを無理に粉砕してしまうことになるの
で、劣化物量が増加してしまう。それに対して、樹脂の
温度が高すぎる場合には、劣化が始まった樹脂が成形に
使用されてしまうために、基板中の劣化物量が増加して
しまう。そのため、劣化物量を極小とする樹脂温度が存
在し、その温度で成形を行うことにより、フクレの密度
も減少することが分かった。これは、樹脂が劣化する
と、それが成形欠陥となり、その部分で高温・高湿およ
び低温での環境試験において水分が凝縮し、フクレの核
となってしまうからである。この結果から、フクレの密
度を大幅に減少させるために好適な温度は、Tg+11
0℃以上で、Tg+220℃以下であることが分かっ
た。より好適には、Tg+130℃以上で、Tg+18
0℃以下が好ましいことが分かった。
[Dependence of density of blisters on resin temperature] The resin temperature at the time of melting was changed, and the amount of degraded components of the resin on the substrate and the blister density were measured (Examples 1 to 3, and Comparative Examples 1 and 2). The result is shown in FIG.
As shown in the measurement results, it can be seen that there is an optimum value for the temperature of the resin to be melted, and that the amount of the degraded material increases when the temperature is too high or too low. If the temperature of the resin is too low, the resin cannot be melted sufficiently, and the screw will forcibly pulverize the pellets, resulting in an increase in the amount of degraded materials. On the other hand, if the temperature of the resin is too high, the deteriorated resin is used for molding, and the amount of degraded substances in the substrate increases. For this reason, it has been found that there is a resin temperature at which the amount of degraded substances is minimized, and that molding at that temperature also reduces the density of blisters. This is because when the resin deteriorates, it becomes a molding defect, and water condenses in that portion in an environmental test at high temperature, high humidity, and low temperature, and becomes a core of blisters. From this result, a suitable temperature for greatly reducing the density of blisters is Tg + 11
It was found that the temperature was 0 ° C. or higher and Tg + 220 ° C. or lower. More preferably, at Tg + 130 ° C. or higher, Tg + 18
It has been found that 0 ° C. or lower is preferable.

【0043】[フクレの密度の計量時間依存性]樹脂の
計量時間を変化させて、その基板の劣化物量とフクレの
密度の測定を行った(実施例1および4、ならびに比較
例3〜5)。その結果を、図3に示す。この測定結果に
示されるように、樹脂温度と同様に、計量時間にも最適
値が存在し、長すぎても短すぎても、基板中の劣化物量
が大きくなっていることが分かる。計量時間が短すぎる
場合には、樹脂を充分に溶融させることができず、充分
に溶融していないペレットを無理にスクリューが粉砕し
てしまうことになるので、劣化物量(溶融残さに起因す
るもの)が増加してしまう。反対に、計量時間が長すぎ
る場合には、充分に樹脂は溶融するが、樹脂の劣化が始
まってしまうために、劣化物量(劣化樹脂に起因するも
の)が増加してしまう。そのため、基板中の劣化物量を
極小とする計量時間が存在し、その計量時間で成形を行
うことにより、フクレの密度も減少することが分かっ
た。これは、劣化物すなわち劣化樹脂および溶融残さが
基板中に存在すると、それが成形欠陥となり、その部分
で高温・高湿および低温での環境試験において水分が凝
縮し、フクレの核となってしまうからである。この結果
から、フクレの密度を減少させるために好適な計量時間
は、2.5秒〜15秒であり、より適正な時間は、4秒
〜10秒であることが分かった。
[Measurement Time Dependence of Swelling Density] The amount of degraded substrate and the swelling density of the substrate were measured by changing the measurement time of the resin (Examples 1 and 4, and Comparative Examples 3 to 5). . The result is shown in FIG. As shown in the measurement results, there is an optimum value for the weighing time as well as the resin temperature, and it can be seen that the amount of the degraded substance in the substrate increases when the measurement time is too long or too short. If the measuring time is too short, the resin cannot be melted sufficiently, and the screw that is not sufficiently melted will be forcibly crushed by the screw. ) Will increase. On the other hand, if the measuring time is too long, the resin is sufficiently melted, but the degradation of the resin starts, so that the amount of the deteriorated material (attributable to the deteriorated resin) increases. For this reason, it has been found that there is a measuring time for minimizing the amount of the degraded substance in the substrate, and that the density of blisters is reduced by performing molding during the measuring time. This is because if a degraded product, that is, a degraded resin and a molten residue are present in a substrate, it becomes a molding defect, and in that portion, moisture condenses in a high-temperature, high-humidity and low-temperature environmental test, and becomes a core of blisters. Because. From this result, it was found that the preferable weighing time for reducing the density of the blister is 2.5 seconds to 15 seconds, and a more appropriate time is 4 seconds to 10 seconds.

【0044】[フクレの密度の計量時の背圧依存性]計
量時の背圧を変化させて、フクレの密度の測定を行った
(実施例1、5および6、ならびに比較例6および
7)。その結果を、図4に示す。この測定結果に示され
るように、5.9MPa(60kgf/cm2)以上の
背圧において、フクレの数が大幅に減少していることが
分かる。この結果は、計量時にある一定値以上の背圧を
かけることにより、樹脂内のガス成分が溶融樹脂から抜
けやすくなることに起因しており、成形欠陥が減少する
からと考えられる。しかしながら、18.6MPa(1
90kgf/cm2)以上では、背圧が高すぎ、計量が
できない状態になった。したがって、適正な計量時の背
圧は、5.4MPa(55kg/cm2)以上で15.
7MPa(160kg/cm2)以下であった。より適
正な背圧は、6.9MPa(70kg/cm2)以上で
13.2MPa(135kg/cm2)以下であった。
[Dependence of density of blister on back pressure during measurement] The back pressure during measurement was measured to measure the density of blisters (Examples 1, 5, and 6, and Comparative Examples 6 and 7). . The result is shown in FIG. As shown in the measurement results, it can be seen that the number of blisters is significantly reduced at a back pressure of 5.9 MPa (60 kgf / cm 2 ) or more. This result is attributed to the fact that applying a back pressure of a certain value or more at the time of measurement makes it easier for gas components in the resin to escape from the molten resin, which is considered to reduce molding defects. However, 18.6 MPa (1
Above 90 kgf / cm 2 ), the back pressure was too high and measurement was impossible. Therefore, the back pressure at the time of proper weighing is 15.4 MPa (55 kg / cm 2 ) or more.
It was 7 MPa (160 kg / cm 2 ) or less. A more appropriate back pressure was 6.9 MPa (70 kg / cm 2 ) or more and 13.2 MPa (135 kg / cm 2 ) or less.

【0045】[フクレの密度の型締め圧力依存性]射出
成形時の金型の型締め圧力を変化させて、その基板のか
さ密度とフクレの密度の測定を行った(実施例1および
7〜9、ならびに比較例8)。その結果を、図5に示
す。この測定結果に示されるように、型締め圧力を増大
させると、基板のかさ密度は徐々に大きくなった。基板
のかさ密度を大きくすると、樹脂の分子間の距離が小さ
くなり、分子間のすきまがなくなっていくので、水分は
透過しにくくなると考えられるが、反対にかさ密度を小
さくすれば、透過しやすくなると考えられる。型締め圧
力が小さい時に、フクレの密度は少なくなることから、
透過性が高い方がフクレを少なくすることができること
が分かった。ただし、型締め圧力が9.8MPa(10
kgf/cm2)と小さい場合は、基板形状が安定しな
いことが分かっている。そのため、好適な型締め圧力
は、1.5MPa(15kgf/cm2)以上で15.
7MPa(160kg/cm2)以下であった。より適
正な型締め圧力は、2.9MPa(30kg/cm2
以上で9.8MPa(100kg/cm2)以下であっ
た。そのときの好適な密度は0.75〜1.2g/cm
3であった。より好適には、0.8〜1.1g/cm3
あった。
[Dependence of Burr Density on Mold Clamping Pressure] The mold bulk pressure and the blister density of the substrate were measured by changing the mold clamping pressure during injection molding (Examples 1 to 7). 9 and Comparative Example 8). The result is shown in FIG. As shown in the measurement results, when the mold clamping pressure was increased, the bulk density of the substrate gradually increased. If the bulk density of the substrate is increased, the distance between the molecules of the resin will decrease, and the gap between the molecules will disappear, so it is thought that it will be difficult for moisture to pass through, but conversely, if the bulk density is reduced, it will be easier to transmit It is considered to be. When the mold clamping pressure is low, the density of blisters decreases,
It was found that the higher the permeability, the less the blisters could be. However, the mold clamping pressure is 9.8 MPa (10
It is known that when the weight is as small as kgf / cm 2 ), the substrate shape is not stable. Therefore, a preferable mold clamping pressure is 1.5 MPa (15 kgf / cm 2 ) or more.
It was 7 MPa (160 kg / cm 2 ) or less. A more appropriate mold clamping pressure is 2.9 MPa (30 kg / cm 2 ).
Above was 9.8 MPa (100 kg / cm 2 ) or less. A suitable density at that time is 0.75 to 1.2 g / cm.
Was 3 . More preferably, it was 0.8 to 1.1 g / cm 3 .

【0046】[0046]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係わるディスク基板および記録媒体は、成形条件を適
正な範囲で制御することで、種々の原因に起因する成形
欠陥を少なくすることとともに、成形基板に透過性を保
たせる成形条件で射出成形を実施することにより、高温
・高湿および低温での環境試験を行った際に発生するフ
クレの数を最小限に抑えることができる。このようなフ
クレの発生を抑止するディスク基板が得られれば、高耐
環境性を保持した記録媒体を得ることが可能となる。
As is apparent from the above description, the disk substrate and the recording medium according to the present invention can reduce molding defects caused by various causes by controlling molding conditions within an appropriate range. In addition, by performing injection molding under molding conditions that maintain the transparency of the molded substrate, the number of blisters generated when an environmental test is performed at high temperature, high humidity, and low temperature can be minimized. If a disk substrate that suppresses the occurrence of such blisters can be obtained, a recording medium having high environmental resistance can be obtained.

【0047】また、本特許で提案する成形条件を用いて
成形した基板を用いることにより、耐環境安定性の高い
記録媒体を、大量且つ安価に生産することが可能となる
ので、本特許は工業的な価値も大きい。
Further, by using a substrate molded under the molding conditions proposed in the present invention, it becomes possible to produce a recording medium having high environmental resistance in a large amount and at a low cost. Value is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明において用いることができる射出成形装
置の模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an injection molding apparatus that can be used in the present invention.

【図2】溶融時の樹脂温度と、基板中の樹脂劣化物およ
びフクレの密度との関係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the resin temperature at the time of melting and the densities of resin degradation products and blisters in a substrate.

【図3】計量時間と、基板中の樹脂劣化物およびフクレ
の密度との関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the measurement time and the densities of resin degradation products and blisters in a substrate.

【図4】計量時の背圧と、フクレの密度との関係を示す
グラフである。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the back pressure during weighing and the density of blisters.

【図5】型締め圧力と、基板の密度およびフクレの密度
との関係を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing a relationship between a mold clamping pressure, a substrate density, and a blister density.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱可塑性樹脂が射出成形されてなるディ
スク基板の製造方法において、溶融された前記熱可塑性
樹脂の最高温度が、前記熱可塑性樹脂のTg+110℃
以上で、かつ前記熱可塑性樹脂のTg+220℃以下で
あり、計量時間が2.5秒以上で、かつ15秒以下であ
り、計量時の背圧が5.4MPa(55kg/cm2
以上で、かつ15.7Mpa(160kg/cm2)以
下であり、および型締め圧力が、1.5MPa(15k
g/cm2)以上で、かつ15.7MPa(160kg
/cm2)以下である条件で射出成形されてなることを
特徴とするディスク基板の製造方法。
1. A method of manufacturing a disk substrate in which a thermoplastic resin is injection-molded, wherein the maximum temperature of the molten thermoplastic resin is Tg + 110 ° C. of the thermoplastic resin.
The above is the Tg of the thermoplastic resin + 220 ° C. or less, the weighing time is 2.5 seconds or more and 15 seconds or less, and the back pressure at the time of weighing is 5.4 MPa (55 kg / cm 2 ).
And 15.7 Mpa (160 kg / cm 2 ) or less, and the mold clamping pressure is 1.5 MPa (15 kPa).
g / cm 2 ) or more and 15.7 MPa (160 kg
/ Cm 2 ) A method for producing a disk substrate, which is injection-molded under the following conditions:
【請求項2】 請求項1に記載の製造方法により製造さ
れたことを特徴とするディスク基板。
2. A disk substrate manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
【請求項3】 前記ディスク基板のかさ密度が、0.7
5g/cm3以上で、かつ1.2g/cm3以下であるこ
とを特徴とする請求項2に記載のディスク基板。
3. The disk substrate has a bulk density of 0.7.
3. The disk substrate according to claim 2, wherein the amount is not less than 5 g / cm 3 and not more than 1.2 g / cm 3 .
【請求項4】 請求項2または3に記載のディスク基板
を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
4. A magnetic recording medium comprising the disk substrate according to claim 2.
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