JP2003272134A - Method for manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording device - Google Patents

Method for manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording device

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JP2003272134A
JP2003272134A JP2002077023A JP2002077023A JP2003272134A JP 2003272134 A JP2003272134 A JP 2003272134A JP 2002077023 A JP2002077023 A JP 2002077023A JP 2002077023 A JP2002077023 A JP 2002077023A JP 2003272134 A JP2003272134 A JP 2003272134A
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic recording
recording medium
protective film
stamper
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002077023A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shoji Sakaguchi
庄司 坂口
Yoichi Tei
用一 鄭
Katsunori Suzuki
克紀 鈴木
Isao Sekiguchi
功 関口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stabilize floating characteristics for a magnetic head by controlling the thickness of a protective film formed on a stamper surface and surface roughness. <P>SOLUTION: In a mold for injection molding, a magnetic disk substrate is injection-molded in a substrate cavity 22 by using stampers 25, 26 on which surfaces protective films are formed, and setting the surface roughness of the protective films in the range of 0.2 nm to 1.0 nm and very small waviness to 0.5 nm or lower. Thus, the surface of the manufactured magnetic disk substrate exhibits similar surface roughness and very small waviness, and the characteristics of magnetic head floating of 5 nm or lower are obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばコンピュー
タの外部記憶装置を初めとする各種磁気記録装置に搭載
される磁気記録媒体の製造方法と、それを用いた磁気記
録装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium mounted on various magnetic recording devices such as an external storage device of a computer, and a magnetic recording device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度な表面精度を要求される磁気記録媒
体用の磁気ディスク基板として、従来の非磁性金属基板
(アルミニウム等)を使用した場合には、高度な精密加
工が要求される。
2. Description of the Related Art When a conventional non-magnetic metal substrate (aluminum or the like) is used as a magnetic disk substrate for a magnetic recording medium which requires a high degree of surface precision, a high degree of precision processing is required.

【0003】従来の非磁性金属基板は、たとえば以下の
ようにして作製される。最初に加熱溶融した金属材料を
圧延、加熱焼鈍した後に、規定の寸法に加工が行われた
ブランク材を作製し、次に内外径の処理が行われる。さ
らに、表面精度の向上のためにラッピング加工が行われ
た後、表面硬度向上などの目的のためにNi−Pメッキ
層を13μm形成し、その表面をポリッシュ加工して表
面粗さがRa=1.0nm(10Å)以下になるように
研磨し、そしてダイヤモンドスラリーを使用する最終ラ
ッピング加工(テクスチュアリング)を行う。その後に
CSS(コンタクト・スタート・ストップ)ゾーンに、
たとえばバンプバイトが19.0nm(190Å)30
μm平方に1個のバンプの密度になるようにレーザーゾ
ーンテクスチャー加工を施し、そして精密洗浄すること
により、一般的なハードディスク用磁気ディスク基板が
得られる。
A conventional non-magnetic metal substrate is manufactured, for example, as follows. First, a metal material that has been heated and melted is rolled and heated and annealed, and then a blank material that has been processed into specified dimensions is produced, and then the inner and outer diameters are processed. Furthermore, after lapping is performed to improve the surface accuracy, a Ni—P plating layer is formed to 13 μm for the purpose of improving the surface hardness, and the surface is polished to have a surface roughness Ra = 1. It is polished to a size of not more than 0.0 nm (10Å), and a final lapping process (texturing) using a diamond slurry is performed. After that, in the CSS (contact start stop) zone,
For example, if the bump bite is 19.0 nm (190 Å) 30
A general magnetic disk substrate for a hard disk is obtained by performing laser zone texturing so as to have a density of one bump per μm square and performing precision cleaning.

【0004】前述のように得られた磁気ディスク基板上
に、Cr下地層50nm(500Å)、CoCrTa磁
性層(Co:Cr:Ta=82:14:4)30nm
(300Å)、およびカーボン保護層8.0nm(80
Å)を、DCスパッタ法により順次形成し、さらにスパ
ッタ後の表面にテープバニッシェを行い、最後に、ディ
ップコートまたはスピンコート法によりフッ素系潤滑層
2.0nm(20Å)を形成し、ハードディスク用磁気
記録媒体が得られる。ただし、ディスク基板および各種
の記録媒体の作製方法および構成は、上記のものに限定
されるものではない。
On the magnetic disk substrate obtained as described above, Cr underlayer 50 nm (500 Å), CoCrTa magnetic layer (Co: Cr: Ta = 82: 14: 4) 30 nm
(300Å), and carbon protective layer 8.0 nm (80
Å) is sequentially formed by DC sputtering method, tape vanishing is performed on the surface after sputtering, and finally, a fluorine-based lubricating layer 2.0 nm (20 Å) is formed by dip coating or spin coating method for hard disk. A magnetic recording medium is obtained. However, the manufacturing method and configuration of the disk substrate and various recording media are not limited to the above.

【0005】上記のような従来の磁気ディスク基板およ
び磁気記録媒体の作製方法は、近年の高記録密度化の伸
長とともにますます複雑化してきている。一方、高い性
能を維持したままで、従来以上に安価な磁気ディスク基
板および磁気記録媒体が求められている。この相反する
要求を満たす新規な磁気ディスク基板として、熱可塑性
樹脂(プラスチック)を用いた磁気ディスク基板および
磁気記録媒体が提案されている。
The conventional methods for manufacturing the magnetic disk substrate and the magnetic recording medium as described above have become more and more complicated with the recent increase in recording density. On the other hand, there is a demand for a magnetic disk substrate and a magnetic recording medium that are cheaper than before while maintaining high performance. As a new magnetic disk substrate satisfying these contradictory requirements, a magnetic disk substrate and a magnetic recording medium using a thermoplastic resin (plastic) have been proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、高度な形状安
定性および表面精度が要求されている磁気ディスク基板
をプラスチックの射出成形により作製する場合には、金
属、ガラスあるいはセラミック基板から作製する場合と
比較して、機械的強度が低いために仕上げ研磨(ラッピ
ング、ポリッシュ、バニッシュ等)ができない。したが
って、射出成形終了時に、磁気ディスク基板として必要
なレベルの表面精度(真直度、うねり、粗さ等)を整え
る必要がある。しかしながら、樹脂成形に際しては、ス
タンパー表面を鏡面化させると、スタンパーと基板との
密着性が向上するため、スタンパーからの離型時に基板
表面を異常変形させることがあるという問題点があっ
た。
However, when a magnetic disk substrate, which is required to have a high degree of shape stability and surface accuracy, is manufactured by injection molding of plastic, it is different from the case of manufacturing it from a metal, glass or ceramic substrate. In comparison, since the mechanical strength is low, finish polishing (lapping, polishing, vanishing, etc.) cannot be performed. Therefore, it is necessary to adjust the surface accuracy (straightness, waviness, roughness, etc.) of a level required for the magnetic disk substrate at the end of injection molding. However, in resin molding, if the surface of the stamper is mirror-finished, the adhesion between the stamper and the substrate is improved, so that there is a problem that the substrate surface may be deformed abnormally at the time of release from the stamper.

【0007】記録密度向上の目的のために基板上数十n
mの高さを磁気ヘッドが浮上移動するハードディスクの
ように、非常に高い表面精度が要求される記録媒体にお
いては、大きな平坦度(劣悪な表面精度)を有する基板
を用いると、磁気ヘッドと記録媒体との間の所定の距離
を維持することができず、最悪の場合には磁気ヘッドが
浮上せず、実際の読み書きを行うことができないという
問題を引き起こす。
Dozens of n on the substrate for the purpose of improving the recording density.
In a recording medium such as a hard disk in which a magnetic head levitates at a height of m, which requires a very high surface accuracy, when a substrate having a large flatness (poor surface accuracy) is used, the magnetic head and recording It is impossible to maintain a predetermined distance from the medium, and in the worst case, the magnetic head does not float, which causes a problem that actual reading and writing cannot be performed.

【0008】本発明は、係る従来の実状を鑑みてなされ
たものであり、プラスチック基板をスタンパーから離型
する際の密着性を制御することで異常変形を最小限に
し、ヘッドの浮上特性に優れた磁気ディスク基板および
磁気記録媒体が得られるようにすることを目的とする。
The present invention has been made in view of the conventional situation as described above, and controls the adhesiveness when the plastic substrate is released from the stamper to minimize abnormal deformation and has excellent head flying characteristics. Another object is to obtain a magnetic disk substrate and a magnetic recording medium.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するために鋭意検討した結果、磁気ディスク表面
を超鏡面化(Ra0.2nm以下)させると、磁気ヘッ
ドの浮上を低下させた場合に浮上安定性が悪化し、異常
墜落が頻繁に発生することが確認された。
The inventors of the present invention have made earnest studies to achieve the above object, and as a result, when the surface of the magnetic disk is made to be a super-mirror surface (Ra 0.2 nm or less), the flying height of the magnetic head is lowered. It was confirmed that the floating stability deteriorated and abnormal crashes frequently occurred.

【0010】従って、金型に用いるスタンパー表面の保
護膜の表面粗さを0.2nm〜1.0nmの範囲、好ま
しくは0.3nm〜0.7nmとすることで、磁気ヘッ
ドの異常墜落を抑制させることが可能となり、磁気ヘッ
ドの最低浮上高さを安定して5nm以下まで低下させる
ことが出来ることを見出した。また、磁気ディスクの表
面を荒らすことで、磁気ヘッドの異常墜落時でも磁気デ
ィスクと磁気ヘッドが接触した時の摩擦係数も減少し、
ヘッドクラッシュを抑制することが可能となることを見
出した。
Therefore, by setting the surface roughness of the protective film on the surface of the stamper used in the mold to 0.2 nm to 1.0 nm, preferably 0.3 nm to 0.7 nm, abnormal fall of the magnetic head is suppressed. It was found that the minimum flying height of the magnetic head can be stably lowered to 5 nm or less. Further, by roughening the surface of the magnetic disk, the coefficient of friction when the magnetic disk and the magnetic head come into contact with each other is reduced even when the magnetic head crashes abnormally.
We have found that it is possible to suppress head crashes.

【0011】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、基板の射出成形時の金型に用いるスタンパー表面の
保護膜の表面粗さを0.2nm〜1.0nmの範囲、好
ましくは0.3nm〜0.7nmとすることを特徴とす
る。
The present invention has been made on the basis of the above findings, and the surface roughness of the protective film on the stamper surface used in the mold at the time of injection molding of the substrate is in the range of 0.2 nm to 1.0 nm, preferably 0. It is characterized in that the thickness is 3 nm to 0.7 nm.

【0012】また、本発明は、スタンパー表面保護膜の
成膜装置として、DCスパッタ法、あるいはイオンビー
ムスパッタ法を用いることができ、保護膜材料として、
チタン(Ti)、クロム(Cr)、マンガン(Mn)、
コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、ルテニウム(R
u)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、タンタ
ル(Ta)、タングステン(W)、レニウム(Re)、
オスミウム(0s)、イリジウム(Ir)、白金(P
t)および金(Au)の少なくとも1つのターゲットを
用いることを特徴とする。そして、これらの保護膜材料
を用いて高温、高真空下で成膜を行うことを特徴とす
る。
Further, according to the present invention, a DC sputtering method or an ion beam sputtering method can be used as a film forming apparatus for a stamper surface protective film.
Titanium (Ti), chromium (Cr), manganese (Mn),
Cobalt (Co), Nickel (Ni), Ruthenium (R
u), rhodium (Rh), palladium (Pd), tantalum (Ta), tungsten (W), rhenium (Re),
Osmium (0s), iridium (Ir), platinum (P
t) and at least one target of gold (Au) are used. Further, it is characterized in that the film is formed under high temperature and high vacuum using these protective film materials.

【0013】この方法を用いてスタンパーへの保護膜の
成膜を行いつつ、保護膜厚さ、成膜条件により表面粗さ
をコントロールすることができ、その時の表面粗さ〔R
a〕は0.2nm〜1.0nmの範囲、好ましくは0.
3nm〜0.7nmとしてもよい。また、保護膜の表面
粗さを制御する方法として、上記以外にも以下のものが
適用できる。すなわち、スパッタ後の金属表面を、錫定
盤を用いたラッピング、あるいは電子サイクロトロンエ
ッチング等により表面粗さ制御を実施してもよい。
While forming the protective film on the stamper by using this method, the surface roughness can be controlled by the protective film thickness and the film forming conditions. The surface roughness at that time [R
a] is in the range of 0.2 nm to 1.0 nm, preferably 0.
It may be 3 nm to 0.7 nm. In addition to the above, the following methods can be applied as a method of controlling the surface roughness of the protective film. That is, the surface roughness of the metal surface after sputtering may be controlled by lapping using a tin platen, electron cyclotron etching, or the like.

【0014】さらに、本発明は、スタンパー表面の微小
うねり(Wa)を0.5nm以下とすることを特徴とす
る。
Furthermore, the present invention is characterized in that the minute waviness (Wa) on the stamper surface is 0.5 nm or less.

【0015】さらに、本発明は、上記のスタンパーを用
いて基板を作成し、当該基板上に少なくとも磁性記録層
を形成する工程を含むことを特徴とする。
Further, the present invention is characterized by including a step of forming a substrate using the above stamper and forming at least a magnetic recording layer on the substrate.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明において作製される磁気デ
ィスク基板は、中心部に円形の孔を有する円板の形状を
有することができる。中心部円形孔は、該磁気ディスク
基板を用いた磁気記録媒体を磁気記録装置中に設置する
際に、スピンドルモータを取り付けるために用いられ
る。中心部円形孔および円板の径は、磁気記録装置の設
計に依存する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The magnetic disk substrate manufactured in the present invention can have a disk shape having a circular hole in the center. The central circular hole is used for mounting a spindle motor when a magnetic recording medium using the magnetic disk substrate is set in a magnetic recording device. The diameters of the central circular hole and the circular plate depend on the design of the magnetic recording device.

【0017】本発明において用いられる射出成形におい
ては、当該技術において知られている射出成形装置を用
いることができる。樹脂の均一性を高めるためにスクリ
ュー式の射出成形装置を使用することが好ましい。樹脂
の溶融および計量をスクリューを用いて行い、樹脂の射
出をプランジャーを用いて行うことも可能であるが、溶
融、計量および射出の機能を集約したインラインスクリ
ュー式の射出成形装置を使用することが好ましい。
In injection molding used in the present invention, an injection molding apparatus known in the art can be used. It is preferable to use a screw type injection molding apparatus in order to improve the homogeneity of the resin. Although it is possible to use a screw to melt and measure the resin and a plunger to inject the resin, use an in-line screw injection molding machine that integrates the functions of melting, measuring, and injection. Is preferred.

【0018】本発明で用いることができるインラインス
クリュー式射出成形装置の模式的断面図を図1に示す。
このインラインスクリュー式射出成形装置は、加熱手段
14および金型に対する射出口16を具えた加熱シリン
ダ13と、該加熱シリンダ13内にあり、樹脂の溶融、
計量および射出を行うための(可動)スクリュー11
と、スクリュー11に対して樹脂を供給する供給手段1
5(ホッパなど)と、スクリュー11の計量および射出
駆動を行うためのスクリュー駆動手段12とを具える。
金型としては、分離可能な2つの部分(固定部17およ
び可動部18)からなる金型を用い、さらに金型に型締
め圧力を与え、および可動部18を駆動するための駆動
手段19を具えることが好ましいが、それに限定される
ものではない。この金型内部に鏡面化された、あるいは
パターンを有する保護膜が成膜されたスタンパー25,
26がセットされている。
A schematic sectional view of an in-line screw type injection molding apparatus which can be used in the present invention is shown in FIG.
This in-line screw type injection molding apparatus has a heating cylinder 13 having a heating means 14 and an injection port 16 for a mold, and a resin inside the heating cylinder 13 for melting a resin,
(Movable) screw 11 for metering and injection
And a supply means 1 for supplying resin to the screw 11.
5 (such as a hopper) and screw driving means 12 for driving the screw 11 for weighing and injection.
As a mold, a mold composed of two separable parts (a fixed part 17 and a movable part 18) is used, and a driving means 19 for applying a mold clamping pressure to the mold and driving the movable part 18 is used. However, it is not limited thereto. A stamper 25 having a mirror-finished or patterned protective film formed inside the mold,
26 is set.

【0019】本発明において用いることができる金型の
模式的断面図を図2に示す。図2は、樹脂充填時の金型
を示す。金型は、作製される基板形状に対応する空間
(以後、基板キャビティ22と称する)と、基板キャビ
ティ22と射出口16を連絡する空間(以後、スプルー
部21と称する)とを有する。基板キャビティ22とス
プルー部21との間に、ゲート23が配置され、および
基板キャビティ22に充填された樹脂とスプルー部21
の樹脂とを切り離す(ゲートカットする)ためのパンチ
(ゲートカット手段)24が設けられている。
A schematic sectional view of a mold that can be used in the present invention is shown in FIG. FIG. 2 shows a mold at the time of resin filling. The mold has a space corresponding to the shape of the substrate to be manufactured (hereinafter referred to as the substrate cavity 22) and a space connecting the substrate cavity 22 and the injection port 16 (hereinafter referred to as the sprue portion 21). The gate 23 is disposed between the substrate cavity 22 and the sprue portion 21, and the resin filled in the substrate cavity 22 and the sprue portion 21.
There is provided a punch (gate cutting means) 24 for separating (gate cutting) the resin.

【0020】本発明の磁気ディスク基板を作製する際に
は、スクリュー11を用いて溶融および計量された樹脂
を、射出口16を通して金型へと射出して、スプルー部
21および基板キャビティ22に樹脂を充填する。その
後に、充填された溶融樹脂を金型内で冷却硬化させる。
冷却硬化中に、パンチ24を前進させてスプルー部21
と基板キャビティ部22の樹脂を切り離し、さらに冷却
硬化させて、磁気ディスク基板を得ることができる。
When manufacturing the magnetic disk substrate of the present invention, the resin melted and measured by using the screw 11 is injected into the mold through the injection port 16 and the resin is injected into the sprue portion 21 and the substrate cavity 22. To fill. After that, the filled molten resin is cooled and hardened in the mold.
During cooling and hardening, the punch 24 is advanced to move the sprue portion 21
Then, the resin in the substrate cavity portion 22 is separated, and further cooled and cured to obtain a magnetic disk substrate.

【0021】本発明の磁気ディスク基板は、金型内部に
適切な膜厚、適切な表面粗さに制御されたカーボン保護
膜が成膜されているスタンパーがセットされている金型
を用いて射出成形されたものである。
The magnetic disk substrate of the present invention is ejected by using a die in which a stamper having a carbon protective film formed to have an appropriate film thickness and an appropriate surface roughness is set inside the die. It is molded.

【0022】本明細書中で「磁気ヘッド最低浮上高さ」
とは、ある回転数以上で回転させた基板表面に浮上して
いる磁気ヘッドにおいて、基板回転数を徐々に減速させ
ることで、磁気ヘッド(一般にピエゾヘッドが用いられ
る)が基板に接触した時の電気信号が1V以上に到達し
た時の、基板回転数(速度)から算出される高さのこと
であり、その高さが低いほど良質な基板であることを意
味する。
In the present specification, "minimum flying height of magnetic head"
Is a magnetic head that floats on the surface of a substrate that has been rotated at a certain rotation speed or more, by gradually reducing the rotation speed of the substrate so that when the magnetic head (generally a piezo head) contacts the substrate. It is the height calculated from the substrate rotation speed (speed) when the electric signal reaches 1 V or more, and the lower the height, the better the substrate.

【0023】射出成形において基板上でのヘッドの浮上
性に影響を与える原因の1つとして、スタンパーから基
板を剥がす時に物理的な力を加えて離型させる時の剥が
れ易さにより変形度合いが異なる事が挙げられる。剥が
れ難い時には基板はより変形し、剥がれやすい時には安
定した形状が得られる。
In injection molding, one of the factors that affect the floating property of the head on the substrate is that the degree of deformation varies depending on the ease of peeling when releasing the substrate by applying a physical force when peeling the substrate from the stamper. Things can be mentioned. When it is difficult to peel off, the substrate is more deformed, and when it is easy to peel off, a stable shape is obtained.

【0024】本発明者らは、スタンパーの保護膜表面の
粗さを制御することで金型からの基板の離型性を向上さ
せ、基板形状を安定化させることを見出した。そうする
ことで、離型バラツキが低減し基板表面の部分的な異常
変形を抑制することが可能となる。
The present inventors have found that controlling the roughness of the surface of the protective film of the stamper improves the releasability of the substrate from the mold and stabilizes the substrate shape. By doing so, it is possible to reduce the release variation and suppress partial abnormal deformation of the substrate surface.

【0025】またスタンパー表面が超鏡面の場合、磁気
ディスク上で磁気ヘッドをより低浮上化させた時には、
異常墜落が頻繁に発生していたが、本発明による粗さ制
御を実施することで磁気ディスク上でのヘッドの浮上安
定性が向上し、従来以上に低浮上化が可能となる。ま
た、磁気ディスク表面粗さが向上することで、磁気ヘッ
ドとの衝突時の摩擦係数が低減し、ヘッドクラッシュし
にくくなり、より信頼性の高いディスクを提供すること
が可能となる。
Further, when the stamper surface is a super-mirror surface, when the magnetic head is made to float lower on the magnetic disk,
Although abnormal crash frequently occurred, by performing the roughness control according to the present invention, the flying stability of the head on the magnetic disk is improved, and the flying height can be lowered more than ever before. Further, since the surface roughness of the magnetic disk is improved, the friction coefficient at the time of collision with the magnetic head is reduced, head crash is less likely to occur, and a disk with higher reliability can be provided.

【0026】本発明の磁気ディスク基板を作製する際の
スタンパーの表面粗さ〔Ra〕は0.2nm〜1.0n
mの範囲とし、その保護膜の微小うねり〔Wa〕は、
0.5nm以下とする。この条件を満たしたスタンパー
を用いて成形を実施する場合、基板離型時の異常変形を
抑えることが可能となり、磁気ヘッド浮上性を大幅に向
上させることが可能となった。
The surface roughness [Ra] of the stamper used for producing the magnetic disk substrate of the present invention is 0.2 nm to 1.0 n.
In the range of m, the minute waviness [Wa] of the protective film is
It is 0.5 nm or less. When a stamper satisfying this condition is used for molding, it is possible to suppress abnormal deformation at the time of releasing the substrate, and it is possible to significantly improve the magnetic head flying property.

【0027】上記のような、スタンパーを用いて作製さ
れた磁気ディスク基板は、表面粗さ〔Ra〕は0.2n
m〜1.0nm、微小うねり〔Wa〕は、0.5nm以
下を有する。
The magnetic disk substrate manufactured by using the stamper as described above has a surface roughness [Ra] of 0.2 n.
m-1.0 nm, and micro waviness [Wa] is 0.5 nm or less.

【0028】また、上記のように作製された磁気ディス
ク基板に対してアニール処理を施すことにより、基板内
に残留する応力を緩和することが好ましい。アニール処
理は、(使用する材料のTg−70)℃以上(使用する
材料のTg−15)℃以下の温度(Tgは、樹脂のガラ
ス転移温度を意味する)において、0.5時間から48
時間にわたって行うことが好ましい。樹脂の劣化および
基板の局所的形状変化をもたらさないことを条件とし
て、アニール処理温度は可能な限り高いことが好まし
い。アニール処理は、大気雰囲気下あるいは低酸素雰囲
気で行うことができる。また、アニール処理中に基板自
重よる撓みが発生することを防止するために、基板を縦
置きしてアニール処理を行うことが好ましい。十分なア
ニールを行うことにより残留応力を減少させて、残留応
力の経時的な解放による形状変化を最小限とし、かつ局
所的な変形の発生を防止することができる。
It is preferable that the magnetic disk substrate manufactured as described above is annealed to reduce the stress remaining in the substrate. The annealing treatment is performed at a temperature of (Tg-70) ° C. or higher of the material used (Tg-15 of the material used) or lower (Tg means the glass transition temperature of the resin) for 0.5 hour to 48 hours.
It is preferably done over time. The annealing temperature is preferably as high as possible provided that it does not cause deterioration of the resin and local shape change of the substrate. The annealing treatment can be performed in an air atmosphere or a low oxygen atmosphere. Further, in order to prevent bending of the substrate due to its own weight during the annealing process, it is preferable that the substrate is vertically placed and the annealing process is performed. It is possible to reduce the residual stress by performing sufficient annealing, minimize the shape change due to the release of the residual stress with time, and prevent the occurrence of local deformation.

【0029】本発明において用いられる熱可塑性樹脂
は、一般的に光磁気ディスク基板に使用されているポリ
カーボネート樹脂およびポリメチルメタクリレート樹脂
に加えて、ポリオレフィン系樹脂を含む。特に、高耐熱
性でありかつ低吸湿性である剛直構造のポリオレフィン
系樹脂、たとえばノルボルネン系ポリシクロオレフィン
樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂構造に由来す
るTgは、135〜190℃の範囲内であり、この範囲
内でTgが高いほど好ましい。
The thermoplastic resin used in the present invention contains a polyolefin resin in addition to the polycarbonate resin and polymethylmethacrylate resin which are generally used for magneto-optical disk substrates. In particular, it is preferable to use a rigid structure polyolefin-based resin having high heat resistance and low hygroscopicity, for example, norbornene-based polycycloolefin resin. The Tg derived from the resin structure is in the range of 135 to 190 ° C., and the higher the Tg within this range, the more preferable.

【0030】上記のように作製した磁気ディスク基板を
用いて磁気記録媒体を作製する際には、少なくとも該基
板上に磁気記録層を積層する。また、必要に応じて下地
層、保護層、潤滑層等を設けることができる。用途に依
存して、前述のような層を磁気ディスク基板の片面また
は両面上に設けて、それぞれ片面および両面型磁気記録
媒体を得ることができる。
When a magnetic recording medium is produced using the magnetic disk substrate produced as described above, at least a magnetic recording layer is laminated on the substrate. Further, a base layer, a protective layer, a lubricating layer and the like can be provided as needed. Depending on the application, the layers as described above may be provided on one side or both sides of the magnetic disk substrate to obtain single-sided and double-sided magnetic recording media, respectively.

【0031】ハードディスク装置などに従来一般に用い
られている水平記録方式の磁気記録媒体を作製する場合
には、下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順に
設けることが好ましい。磁気記録層の性能向上などを目
的として、下地層と磁気記録層との間に、中間層を設け
てもよい。また、記録密度向上の可能性等によって近年
注目を集めている垂直記録方式の磁気記録媒体を作製す
る場合には、下地層、軟磁性裏打ち層、磁性記録層、保
護層、潤滑層をこの順に設けることが好ましい。この場
合にも、記録特性などの向上を目的として、下地層と軟
磁性裏打ち層との間、およびまたは軟磁性裏打ち層と磁
性記録層との間に、中間層を設けてもよい。
When a magnetic recording medium of a horizontal recording system which has been generally used in a hard disk drive or the like is manufactured, it is preferable to provide an underlayer, a magnetic recording layer, a protective layer and a lubricating layer in this order. An intermediate layer may be provided between the underlayer and the magnetic recording layer for the purpose of improving the performance of the magnetic recording layer. Further, when manufacturing a perpendicular recording type magnetic recording medium, which has been attracting attention in recent years due to the possibility of improving the recording density, etc., an underlayer, a soft magnetic backing layer, a magnetic recording layer, a protective layer, and a lubricating layer are arranged in this order. It is preferable to provide. Also in this case, an intermediate layer may be provided between the underlayer and the soft magnetic backing layer and / or between the soft magnetic backing layer and the magnetic recording layer for the purpose of improving recording characteristics and the like.

【0032】上記の各層は、当該技術において知られて
いる任意の材料から作製することができる。たとえば下
地層はCrまたはCrを主とする合金の非磁性金属材料
から作製することができ、磁性記録層はCoおよびCr
を主とする合金のような磁性材料から作製することがで
き、および保護層は炭素(特にダイヤモンド様炭素)等
から作製することができる。さらに潤滑層は、含フッ素
ポリエーテルのような液体潤滑剤から作製することがで
き、軟磁性裏打ち層は、非晶質Co合金、NiFe合
金、あるいはセンダスト(FeSiAl)合金などを用
いて作製することができる。中間層として、Tiまたは
TiCr合金などの材料を用いてもよい。
Each of the above layers can be made from any material known in the art. For example, the underlayer can be made of a non-magnetic metal material of Cr or an alloy mainly containing Cr, and the magnetic recording layer can be made of Co and Cr.
Can be made of a magnetic material such as an alloy mainly containing, and the protective layer can be made of carbon (especially diamond-like carbon) or the like. Further, the lubricating layer can be made of a liquid lubricant such as fluorine-containing polyether, and the soft magnetic backing layer should be made of an amorphous Co alloy, a NiFe alloy, or a sendust (FeSiAl) alloy. You can A material such as Ti or TiCr alloy may be used as the intermediate layer.

【0033】潤滑層を除く上記の各層は、スパッタ法、
蒸着法、CVD法などの従来知られている方法によって
磁気ディスク基板上に積層することができる。特に、ス
パッタ法を用いることが好ましい。また、潤滑層は、デ
ィップコート、スピンコート、吹付などの方法により作
成することができる。
Each of the above layers except the lubricating layer is formed by the sputtering method,
It can be laminated on the magnetic disk substrate by a conventionally known method such as a vapor deposition method or a CVD method. In particular, it is preferable to use the sputtering method. Moreover, the lubricating layer can be formed by a method such as dip coating, spin coating, or spraying.

【0034】以上のように、高耐熱性熱可塑性樹脂を用
い、本発明の条件を満たして射出成形することにより、
磁気ヘッド浮上性が向上した磁気ディスク基板を作製す
ることができる。該磁気ディスク基板を用いることによ
り、低浮上特性に優れた磁気記録媒体を提供することが
可能となる。
As described above, the high heat resistant thermoplastic resin is used and injection molding is performed by satisfying the conditions of the present invention.
It is possible to manufacture a magnetic disk substrate with improved flying characteristics of the magnetic head. By using the magnetic disk substrate, it is possible to provide a magnetic recording medium having excellent low flying characteristics.

【0035】以下に、本発明を適用した実施例を、図面
を参照しながら詳細に説明する。 (実施例1)市販されている最大射出成形圧力70tの
射出成形装置に、サーボ情報の無い鏡面スタンパーを固
定した金型を装着した。スタンパー表面には、クロム
(Cr)が保護膜として成膜されており、この時の膜厚
は5μm,AFM(原子間力顕微鏡)を用いて測定した
表面粗さ〔Ra〕が0.5nm,ZYGO(非接触光学
式表面粗さ測定機)で10倍の対物レンズを用い、カッ
トオフは50μmとして測定した時の微小うねり〔W
a〕が0.2nmの状態のものを用いた。樹脂としては
ノルボルネン系ポリオレフィン樹脂(Tg=138℃)
を用いて、樹脂温度320℃、射出速度120mm/
s、型締め圧力120kg/cm2(約11.8MP
a)、金型温度(固定側/可動側)110℃/110
℃、ゲートカットのタイミングが樹脂充填終了後0.2
秒という条件にて射出成形を行い、その後1時間以内
に、大気雰囲気下で、前記成形によって得られた基板を
縦置きに保持した状態で、10時間にわたって90℃に
おいてアニールを行い、直径25mmの中心部円形孔を
有し、直径95mm、厚さ1.27mmの寸法を有する
円盤状のディスク基板を得た。
Embodiments to which the present invention is applied will be described below in detail with reference to the drawings. (Example 1) A mold having a mirror surface stamper with no servo information was fixed to an injection molding apparatus having a maximum injection molding pressure of 70 t which is commercially available. Chromium (Cr) is formed as a protective film on the surface of the stamper, the film thickness at this time is 5 μm, and the surface roughness [Ra] measured using an AFM (atomic force microscope) is 0.5 nm. Micro waviness when measured with a ZYGO (non-contact optical surface roughness measuring instrument) with a 10 × objective lens and a cutoff of 50 μm [W
a] was 0.2 nm. Norbornene-based polyolefin resin (Tg = 138 ° C)
Resin temperature 320 ° C, injection speed 120 mm /
s, mold clamping pressure 120 kg / cm2 (about 11.8MP
a), mold temperature (fixed side / movable side) 110 ° C / 110
℃, gate cut timing is 0.2 after resin filling
Injection molding was carried out under the condition of seconds, and within 1 hour, annealing was performed at 90 ° C. for 10 hours in a state where the substrate obtained by the molding was held vertically in the atmosphere, and a diameter of 25 mm was measured. A disk-shaped disk substrate having a central circular hole and having a diameter of 95 mm and a thickness of 1.27 mm was obtained.

【0036】(実施例2)クロム保護膜の表面粗さ〔R
a〕を0.2nmとした以外は、実施例1と同様にして
ディスク基板を得た。
(Example 2) Surface roughness of chromium protective film [R
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a] was 0.2 nm.

【0037】(実施例3)クロム保護膜の表面粗さ〔R
a〕を0.3nmとした以外は、実施例1と同様にして
ディスク基板を得た。
(Example 3) Surface roughness of chromium protective film [R
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a] was 0.3 nm.

【0038】(実施例4)クロム保護膜の表面粗さ〔R
a〕を0.7nmとした以外は、実施例1と同様にして
ディスク基板を得た。
(Example 4) Surface roughness of a chromium protective film [R
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a] was 0.7 nm.

【0039】(実施例5)クロム保護膜の表面粗さ〔R
a〕を1.0nmとした以外は、実施例1と同様にして
ディスク基板を得た。
(Example 5) Surface roughness of chromium protective film [R
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a] was 1.0 nm.

【0040】(実施例6)クロム保護膜の微小うねり
〔Wa〕を0.1nmとした以外は、実施例1と同様に
してディスク基板を得た。
(Example 6) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the fine waviness [Wa] of the chromium protective film was set to 0.1 nm.

【0041】(実施例7)クロム保護膜の微小うねり
〔Wa〕を0.5nmとした以外は、実施例1と同様に
してディスク基板を得た。
Example 7 A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the fine waviness [Wa] of the chromium protective film was set to 0.5 nm.

【0042】(比較例1)クロム保護膜の表面粗さ〔R
a〕を1.2nmとした以外は、実施例1と同様にして
ディスク基板を得た。
(Comparative Example 1) Surface roughness of chromium protective film [R
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a] was 1.2 nm.

【0043】(比較例2)クロム保護膜の表面粗さ〔R
a〕を1.5nmとした以外は、実施例1と同様にして
ディスク基板を得た。
(Comparative Example 2) Surface roughness of chromium protective film [R
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a] was set to 1.5 nm.

【0044】(比較例3)クロム保護膜の微小うねり
〔Wa〕を0.8nmとした以外は、実施例1と同様に
してディスク基板を得た。
Comparative Example 3 A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the fine waviness [Wa] of the chromium protective film was 0.8 nm.

【0045】(比較例4)クロム保護膜の微小うねり
〔Wa〕を1.0nmとした以外は、実施例1と同様に
してディスク基板を得た。
Comparative Example 4 A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the fine waviness [Wa] of the chromium protective film was set to 1.0 nm.

【0046】(評価方法)表面粗さに関してはAFM
(原子間力顕微鏡)にて測定しRa(中心線平均粗さ)
を導出した。測定は、1つの基板面につき90度おきに
4カ所の測定を行い、その平均値をその基板面の表面粗
さとした。微小うねりに関してはZYGO(非接触光学
式表面粗さ計)にて測定しWa(中心線平均うねり)を
導出した。微小うねりに関しても表面粗さと同様に、1
つの基板面につき90度おきに4カ所の測定を行い、そ
の平均値をその基板面の微小うねりとした。
(Evaluation method) Regarding surface roughness, AFM
Ra (center line average roughness) measured by (atomic force microscope)
Was derived. For the measurement, one substrate surface was measured at four 90 ° intervals, and the average value was used as the surface roughness of the substrate surface. The minute waviness was measured by ZYGO (non-contact optical surface roughness meter) to derive Wa (center line average waviness). As for surface roughness, 1
Measurements were made at four positions on each substrate surface at 90 ° intervals, and the average value was used as the microwaviness of the substrate surface.

【0047】(評価結果)スタンパー保護膜の表面粗さ
〔Ra〕と、磁気ヘッド浮上性〔Take off H
eight〕との間の関係を図3に、またスタンパー保
護膜の微小うねり〔Wa〕と、磁気ヘッド浮上性〔Ta
ke off Height〕との間の関係を図4に示
す。
(Evaluation Results) Surface roughness [Ra] of the stamper protective film and magnetic head flying property [Take off H
FIG. 3 shows the relationship between the height of the magnetic head and the micro waviness [Wa] of the stamper protective film, and the flying property of the magnetic head [Ta].
ke off Height] is shown in FIG.

【0048】図3から明らかなように、スタンパー保護
膜の表面粗さが0.2nm〜1.0nmの範囲では磁気
ヘッド浮上性は良好な結果を示した。また図4から明ら
かなように、スタンパー保護膜微小うねりが低いほど磁
気ヘッド浮上性は良好な結果を示した。
As is clear from FIG. 3, when the surface roughness of the stamper protective film is in the range of 0.2 nm to 1.0 nm, the magnetic head flying property is good. Further, as is clear from FIG. 4, the lower the micro waviness of the stamper protective film, the better the magnetic head flying property.

【0049】したがって、スタンパー保護膜(基板)の
表面粗さ、および、微小うねりは、ヘッドの浮上特性に
大きく関わるものであることがわかり、本発明によりヘ
ッドの浮上特性に優れた磁気ディスク基板あるいは該基
板を用いた磁気記録媒体を作製できることは明らかであ
る。
Therefore, it is understood that the surface roughness and the minute waviness of the stamper protective film (substrate) are greatly related to the flying characteristics of the head, and according to the present invention, the magnetic disk substrate or the magnetic disk substrate excellent in the flying characteristics of the head can be obtained. It is obvious that a magnetic recording medium using the substrate can be manufactured.

【0050】以上の説明から明らかなように、本発明に
係るディスク基板は、表面に保護膜が成膜されたスタン
パーを用いる射出成形により作製され、該保護膜の表面
粗さを0.2nmから1.0nmの範囲、微小うねりを
0.5nm以下とすることで、作製された磁気ディスク
表面も同様の表面粗さ、および微小うねりを示し、磁気
ヘッド浮上特性も5nm以下とすることが可能となる。
したがって、本発明によって作製された磁気ディスク基
板および該基板を用いた磁気記録媒体は、ヘッドの浮上
特性に優れる。また、スタンパー表面にサーボ情報の入
ったパターン付きのスタンパーに関しても同様に鏡面部
の表面を制御することで同様な結果が得られた。
As is clear from the above description, the disk substrate according to the present invention is manufactured by injection molding using a stamper having a protective film formed on its surface, and the surface roughness of the protective film is from 0.2 nm. By setting the range of 1.0 nm and the minute waviness to 0.5 nm or less, the produced magnetic disk surface also exhibits similar surface roughness and minute waviness, and the magnetic head flying characteristic can be 5 nm or less. Become.
Therefore, the magnetic disk substrate manufactured by the present invention and the magnetic recording medium using the substrate have excellent head flying characteristics. Similar results were also obtained for the stamper with a pattern in which servo information was entered on the surface of the stamper by controlling the mirror surface.

【0051】本発明により、形状特性に優れたプラスチ
ック製磁気ディスク基板を大量かつ安価に生産すること
が可能となり、ひいてはプラスチック製磁気ディスク基
板を用いた磁気記録媒体および磁気記録再生装置を大量
かつ安価に製造することを可能にする。したがって、本
発明の工業的価値は大きいものである。
According to the present invention, a plastic magnetic disk substrate having excellent shape characteristics can be mass-produced at low cost, and a magnetic recording medium and a magnetic recording / reproducing apparatus using the plastic magnetic disk substrate can be mass-produced at low cost. To be able to manufacture. Therefore, the industrial value of the present invention is great.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上に述べた様に、本発明によればスタ
ンパー表面に成膜した保護膜の膜厚、表面粗さを制御す
る事で、成形後基板および、アニール後の基板形状を制
御することができ、磁気ヘッドに対する浮上性を従来の
アルミニウム基板並みに安定化させることが出来る。
As described above, according to the present invention, by controlling the film thickness and surface roughness of the protective film formed on the stamper surface, the shape of the molded substrate and the shape of the substrate after annealing can be controlled. It is possible to stabilize the levitation property with respect to the magnetic head as well as the conventional aluminum substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気ディスク基板の作製に用いること
ができる射出成形装置の一例を示す概念的断面図であ
る。
FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing an example of an injection molding apparatus that can be used for producing a magnetic disk substrate of the present invention.

【図2】本発明の磁気ディスク基板の作製に用いること
ができる金型の一例を示す概念的断面図である。
FIG. 2 is a conceptual cross-sectional view showing an example of a mold that can be used for producing the magnetic disk substrate of the present invention.

【図3】各実施例および比較例により作製された磁気デ
ィスク基板の浮上特性とカーボン保護膜の表面粗さのと
の間の関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the levitation characteristics and the surface roughness of the carbon protective film of the magnetic disk substrates manufactured according to each example and comparative example.

【図4】各実施例および比較例により作製された磁気デ
ィスク基板の浮上特性とカーボン保護膜の微小うねりと
の間の関係を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the levitation characteristics of the magnetic disk substrates manufactured according to each of the examples and comparative examples and the microwaviness of the carbon protective film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 スクリュー 12 スクリュー駆動手段 13 加熱シリンダ 14 加熱手段 15 供給手段 16 射出口 17 金型の固定部 18 金型の可動部 11 screw 12 Screw drive means 13 Heating cylinder 14 Heating means 15 Supplying means 16 Exit 17 Mold fixing part 18 Movable part of mold

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 克紀 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (72)発明者 関口 功 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 Fターム(参考) 4F202 AF01 AG05 AG19 AH38 AJ02 AJ09 AR13 CA11 CB01 CD23 CK43 5D006 CB01 DA03 FA00 5D112 AA02 AA24 BA01 BA10    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Katsunori Suzuki             1-1 Tanabe Nitta, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa             Within Fuji Electric Co., Ltd. (72) Inventor Isao Sekiguchi             1-1 Tanabe Nitta, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa             Within Fuji Electric Co., Ltd. F-term (reference) 4F202 AF01 AG05 AG19 AH38 AJ02                       AJ09 AR13 CA11 CB01 CD23                       CK43                 5D006 CB01 DA03 FA00                 5D112 AA02 AA24 BA01 BA10

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 成形用スタンパーを使用して熱可塑性樹
脂材料を射出成形または射出圧縮成形することによって
情報記録媒体用基板を作成し、当該情報記録媒体用基板
を用いて磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方
法であって、 前記成形用スタンパー表面は、保護膜が成膜されてお
り、当該保護膜の表面は、表面粗さ(Ra)が0.2n
m〜1.0nmである事を特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
1. A substrate for information recording medium is prepared by injection molding or injection compression molding of a thermoplastic resin material using a molding stamper, and a magnetic recording medium is manufactured using the substrate for information recording medium. A method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein a protective film is formed on the surface of the molding stamper, and the surface of the protective film has a surface roughness (Ra) of 0.2 n.
A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein the magnetic recording medium has a thickness of m to 1.0 nm.
【請求項2】 請求項1において、 前記成形用スタンパーの保護膜表面の微小うねり(W
a)が0.5nm以下である事を特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
2. The microwaviness (W) on the surface of the protective film of the molding stamper according to claim 1.
a) is 0.5 nm or less, a method for producing a magnetic recording medium.
【請求項3】 請求項1において、 前記スタンパーの保護膜材料が、チタン、クロム、マン
ガン、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パ
ラジウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミ
ウム、イリジウム、白金、および金の中の少なくとも1
種類からなることを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
3. The stamper protective film material according to claim 1, wherein the protective film material of the stamper is titanium, chromium, manganese, cobalt, nickel, ruthenium, rhodium, palladium, tantalum, tungsten, rhenium, osmium, iridium, platinum, or gold. At least one of
A method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that it is made of different types.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の製造方
法により製造された磁気記録媒体を搭載したことを特徴
とする磁気記録装置。
4. A magnetic recording device comprising a magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
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