JP2001299722A - 勾配コイル製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装置 - Google Patents
勾配コイル製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁極片に対する磁化力が小さい勾配コイルお
よびその製造方法、並びに、そのような勾配コイルを有
する磁気共鳴撮影装置を実現する。 【解決手段】 同心円状の複数の経路を流れる電流によ
り勾配磁場を生じる勾配コイルを製造するにあたり、勾
配コイルの電流経路の最大半径を、予め定めた許容範囲
内の磁場誤差を持つ勾配磁場が発生可能な最小値とす
る。
よびその製造方法、並びに、そのような勾配コイルを有
する磁気共鳴撮影装置を実現する。 【解決手段】 同心円状の複数の経路を流れる電流によ
り勾配磁場を生じる勾配コイルを製造するにあたり、勾
配コイルの電流経路の最大半径を、予め定めた許容範囲
内の磁場誤差を持つ勾配磁場が発生可能な最小値とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、勾配コイル（ｃｏ
ｉｌ）製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装
置に関し、特に、静磁場マグネット（ｍａｇｎｅｔ）の
磁極面に設けられる勾配コイルおよびその製造方法、並
びに、そのような勾配コイルを有する磁気共鳴撮影装置
に関する。
ｉｌ）製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装
置に関し、特に、静磁場マグネット（ｍａｇｎｅｔ）の
磁極面に設けられる勾配コイルおよびその製造方法、並
びに、そのような勾配コイルを有する磁気共鳴撮影装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気共鳴撮影（ＭＲＩ：Ｍａｇｎｅｔｉ
ｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ Ｉｍａｇｉｎｇ）装置では、
マグネットシステム（ｍａｇｎｅｔ ｓｙｓｔｅｍ）の
内部空間すなわち静磁場を形成した空間に撮影する対象
を搬入し、勾配磁場および高周波磁場を印加して対象内
に磁気共鳴信号を発生させ、その受信信号に基づいて断
層像を生成（再構成）する。
ｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ Ｉｍａｇｉｎｇ）装置では、
マグネットシステム（ｍａｇｎｅｔ ｓｙｓｔｅｍ）の
内部空間すなわち静磁場を形成した空間に撮影する対象
を搬入し、勾配磁場および高周波磁場を印加して対象内
に磁気共鳴信号を発生させ、その受信信号に基づいて断
層像を生成（再構成）する。
【０００３】静磁場を発生するのに永久磁石を用いるマ
グネットシステムでは、互いに対向する１対の永久磁石
の先端に静磁場空間の磁束分布を均一化するための磁極
片をそれぞれ設け、勾配磁場発生用の勾配コイルはこの
磁極片の磁極面に設けられる。
グネットシステムでは、互いに対向する１対の永久磁石
の先端に静磁場空間の磁束分布を均一化するための磁極
片をそれぞれ設け、勾配磁場発生用の勾配コイルはこの
磁極片の磁極面に設けられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなマグネッ
トシステムでは、勾配コイルが磁極片に近接しているの
で勾配磁場により磁極片が磁化され、その残留磁化が形
成する残留勾配磁場により、スピン（ｓｐｉｎ）の位相
が、あたかも時定数が極めて長い渦電流が存在するかの
ような影響を受ける。このため、精密な位相制御が要求
される例えばファースト・スピンエコー（ＦＳＥ：Ｆａ
ｓｔ Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法等による撮影に支障を生
じる。
トシステムでは、勾配コイルが磁極片に近接しているの
で勾配磁場により磁極片が磁化され、その残留磁化が形
成する残留勾配磁場により、スピン（ｓｐｉｎ）の位相
が、あたかも時定数が極めて長い渦電流が存在するかの
ような影響を受ける。このため、精密な位相制御が要求
される例えばファースト・スピンエコー（ＦＳＥ：Ｆａ
ｓｔ Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法等による撮影に支障を生
じる。
【０００５】そこで、本発明の課題は、磁極片に対する
磁化力が小さい勾配コイルおよびその製造方法、並び
に、そのような勾配コイルを有する磁気共鳴撮影装置を
実現することである。
磁化力が小さい勾配コイルおよびその製造方法、並び
に、そのような勾配コイルを有する磁気共鳴撮影装置を
実現することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】（１）上記の課題を解決
するための１つの観点での発明は、底板部と前記底板部
の板面に垂直な方向に突出した周縁部を有し前記突出し
た周縁部が空間を隔てて互いに対向する１対の磁極片の
前記周縁部の内側の前記底板部の面に沿ってそれぞれ設
けられ、同心円状の複数の経路を流れる電流により前記
空間に勾配磁場を生じる１対の勾配コイルを製造するに
あたり、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ勾配磁
場を発生する範囲内で前記勾配コイルの経路の最大半径
を最小値とする、ことを特徴とする勾配コイル製造方法
である。
するための１つの観点での発明は、底板部と前記底板部
の板面に垂直な方向に突出した周縁部を有し前記突出し
た周縁部が空間を隔てて互いに対向する１対の磁極片の
前記周縁部の内側の前記底板部の面に沿ってそれぞれ設
けられ、同心円状の複数の経路を流れる電流により前記
空間に勾配磁場を生じる１対の勾配コイルを製造するに
あたり、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ勾配磁
場を発生する範囲内で前記勾配コイルの経路の最大半径
を最小値とする、ことを特徴とする勾配コイル製造方法
である。
【０００７】この観点での発明では、勾配コイルの経路
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
【０００８】（２）上記の課題を解決するための他の観
点での発明は、前記複数の経路の半径を下記の手順で決
めることを特徴とする（１）に記載の勾配コイル製造方
法である。
点での発明は、前記複数の経路の半径を下記の手順で決
めることを特徴とする（１）に記載の勾配コイル製造方
法である。
【０００９】記 （イ）撮影領域内に想定した最大球面上に測定点Ｐｉ
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。
【００１０】（ロ）前記勾配コイルが発生すべき前記測
定点における磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。
定点における磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。
【００１１】（ニ）前記勾配コイルの経路の最大半径の
許容値ｒ０を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定す
る。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、
許容値ｒ０を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定す
る。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、
【００１２】
【数１６】
【００１３】の制約条件の下で、
【００１４】
【数１７】
【００１５】をパラメータとして、
【００１６】
【数１８】
【００１７】となるように、２次計画法を用いてｒｊ
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
【００１８】
【数１９】
【００１９】はビオ・サバールの法則を用いて計算す
る。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。
る。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。
【００２０】
【数２０】
【００２１】（ト）αｉ≦αｔを満足するときはｒｊを
確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
【００２２】この観点での発明では、勾配コイルの経路
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
【００２３】（３）上記の課題を解決するための他の観
点での発明は、底板部と前記底板部の板面に垂直な方向
に突出した周縁部を有し前記突出した周縁部が空間を隔
てて互いに対向する１対の磁極片の前記周縁部の内側の
前記底板部の面に沿ってそれぞれ設けられ、同心円状の
複数の経路を流れる電流により前記空間に勾配磁場を生
じる１対の勾配コイルであって、予め定めた許容範囲内
の磁場誤差を持つ勾配磁場を発生する範囲内で前記勾配
コイルの経路の最大半径を最小値とした、ことを特徴と
する勾配コイルである。
点での発明は、底板部と前記底板部の板面に垂直な方向
に突出した周縁部を有し前記突出した周縁部が空間を隔
てて互いに対向する１対の磁極片の前記周縁部の内側の
前記底板部の面に沿ってそれぞれ設けられ、同心円状の
複数の経路を流れる電流により前記空間に勾配磁場を生
じる１対の勾配コイルであって、予め定めた許容範囲内
の磁場誤差を持つ勾配磁場を発生する範囲内で前記勾配
コイルの経路の最大半径を最小値とした、ことを特徴と
する勾配コイルである。
【００２４】この観点での発明では、勾配コイルの経路
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
【００２５】（４）上記の課題を解決するための他の観
点での発明は、前記複数の経路は下記の手順で決めた半
径を有することを特徴とする（３）に記載の勾配コイル
である。
点での発明は、前記複数の経路は下記の手順で決めた半
径を有することを特徴とする（３）に記載の勾配コイル
である。
【００２６】記 （イ）撮影領域内に想定した最大球面上に測定点Ｐｉ
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。
【００２７】（ロ）前記勾配コイルが発生すべき前記測
定点における磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。
定点における磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。
【００２８】（ニ）前記勾配コイルの経路の最大半径の
許容値ｒ０を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定す
る。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、
許容値ｒ０を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定す
る。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、
【００２９】
【数２１】
【００３０】の制約条件の下で、
【００３１】
【数２２】
【００３２】をパラメータとして、
【００３３】
【数２３】
【００３４】となるように、２次計画法を用いてｒｊ
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
【００３５】
【数２４】
【００３６】はビオ・サバールの法則を用いて計算す
る。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。
る。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。
【００３７】
【数２５】
【００３８】（ト）αｉ≦αｔを満足するときはｒｊを
確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
【００３９】この観点での発明では、勾配コイルの経路
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。
【００４０】（５）上記の課題を解決するための他の観
点での発明は、静磁場、勾配磁場および高周波磁場を用
いて獲得した磁気共鳴信号に基づいて画像を構成する磁
気共鳴撮影装置であって、前記勾配磁場を発生する勾配
コイルとして、底板部と前記底板部の板面に垂直な方向
に突出した周縁部を有し前記突出した周縁部が空間を隔
てて互いに対向する１対の磁極片の前記周縁部の内側の
前記底板部の面に沿ってそれぞれ設けられ、同心円状の
複数の経路を流れる電流により前記空間に勾配磁場を生
じる１対の勾配コイルであって、予め定めた許容範囲内
の磁場誤差を持つ勾配磁場を発生する範囲内で前記経路
の最大半径を最小値とした勾配コイル、を具備すること
を特徴とする磁気共鳴撮影装置である。
点での発明は、静磁場、勾配磁場および高周波磁場を用
いて獲得した磁気共鳴信号に基づいて画像を構成する磁
気共鳴撮影装置であって、前記勾配磁場を発生する勾配
コイルとして、底板部と前記底板部の板面に垂直な方向
に突出した周縁部を有し前記突出した周縁部が空間を隔
てて互いに対向する１対の磁極片の前記周縁部の内側の
前記底板部の面に沿ってそれぞれ設けられ、同心円状の
複数の経路を流れる電流により前記空間に勾配磁場を生
じる１対の勾配コイルであって、予め定めた許容範囲内
の磁場誤差を持つ勾配磁場を発生する範囲内で前記経路
の最大半径を最小値とした勾配コイル、を具備すること
を特徴とする磁気共鳴撮影装置である。
【００４１】この観点での発明では、勾配コイルの経路
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。これによって、残留磁化の影響が小さい撮影を
行うことができる。
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。これによって、残留磁化の影響が小さい撮影を
行うことができる。
【００４２】（６）上記の課題を解決するための他の観
点での発明は、前記複数の経路は下記の手順で決めた半
径を有することを特徴とする（５）に記載の磁気共鳴撮
影装置である。
点での発明は、前記複数の経路は下記の手順で決めた半
径を有することを特徴とする（５）に記載の磁気共鳴撮
影装置である。
【００４３】記 （イ）撮影領域内に想定した最大球面上に測定点Ｐｉ
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。
【００４４】（ロ）前記勾配コイルが発生すべき前記測
定点における磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。
定点における磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。
【００４５】（ニ）前記勾配コイルの経路の最大半径の
許容値ｒ０を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定す
る。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、
許容値ｒ０を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定す
る。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、
【００４６】
【数２６】
【００４７】の制約条件の下で、
【００４８】
【数２７】
【００４９】をパラメータとして、
【００５０】
【数２８】
【００５１】となるように、２次計画法を用いてｒｊ
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
【００５２】
【数２９】
【００５３】はビオ・サバールの法則を用いて計算す
る。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界誤差を次式によって計算
する。
る。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界誤差を次式によって計算
する。
【００５４】
【数３０】
【００５５】（ト）αｉ≦αｔを満足するときはｒｊを
確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
【００５６】この観点での発明では、勾配コイルの経路
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。これによって、残留磁化の影響が小さい撮影を
行うことができる。
の最大半径を、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ
勾配磁場が発生可能な最小値とするので、最外側の経路
と磁極片の突出した周縁部との間の距離が開く。このた
め、突出した周縁部に対する磁化力が小さく残留磁化が
小さい。これによって、残留磁化の影響が小さい撮影を
行うことができる。
【００５７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、本発明は実施の形態
に限定されるものではない。図１に磁気共鳴撮影装置の
ブロック（ｂｌｏｃｋ）図を示す。本装置は本発明の実
施の形態の一例である。本装置の構成によって、本発明
の装置に関する実施の形態の一例が示される。
施の形態を詳細に説明する。なお、本発明は実施の形態
に限定されるものではない。図１に磁気共鳴撮影装置の
ブロック（ｂｌｏｃｋ）図を示す。本装置は本発明の実
施の形態の一例である。本装置の構成によって、本発明
の装置に関する実施の形態の一例が示される。
【００５８】図１に示すように、本装置はマグネットシ
ステム１００を有する。マグネットシステム１００は、
主磁場マグネット部１０２、勾配コイル部１０６および
ＲＦ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）コイル部１０
８を有する。これら主磁場マグネット部１０２および各
コイル部は、いずれも空間を挟んで互いに対向する１対
のものからなる。また、いずれも概ね円板状の形状を有
し中心軸を共有して配置されている。マグネットシステ
ム１００の内部空間（ボア：ｂｏｒｅ）に、対象３００
がクレードル（ｃｒａｄｌｅ）５００に搭載されて図示
しない搬送手段により搬入および搬出される。
ステム１００を有する。マグネットシステム１００は、
主磁場マグネット部１０２、勾配コイル部１０６および
ＲＦ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）コイル部１０
８を有する。これら主磁場マグネット部１０２および各
コイル部は、いずれも空間を挟んで互いに対向する１対
のものからなる。また、いずれも概ね円板状の形状を有
し中心軸を共有して配置されている。マグネットシステ
ム１００の内部空間（ボア：ｂｏｒｅ）に、対象３００
がクレードル（ｃｒａｄｌｅ）５００に搭載されて図示
しない搬送手段により搬入および搬出される。
【００５９】主磁場マグネット部１０２はマグネットシ
ステム１００の内部空間に静磁場を形成する。静磁場の
方向は概ね対象３００の体軸方向と直交する。すなわち
いわゆる垂直磁場を形成する。主磁場マグネット部１０
２は例えば永久磁石等を用いて構成される。なお、永久
磁石に限らず超伝導電磁石あるいは常伝導電磁石等を用
いて構成しても良いのはもちろんである。
ステム１００の内部空間に静磁場を形成する。静磁場の
方向は概ね対象３００の体軸方向と直交する。すなわち
いわゆる垂直磁場を形成する。主磁場マグネット部１０
２は例えば永久磁石等を用いて構成される。なお、永久
磁石に限らず超伝導電磁石あるいは常伝導電磁石等を用
いて構成しても良いのはもちろんである。
【００６０】勾配コイル部１０６は静磁場強度に勾配を
持たせるための勾配磁場を生じる。発生する勾配磁場
は、スライス（ｓｌｉｃｅ）勾配磁場、リードアウト
（ｒｅａｄ ｏｕｔ）勾配磁場およびフェーズエンコー
ド（ｐｈａｓｅ ｅｎｃｏｄｅ）勾配磁場の３種であ
り、これら３種類の勾配磁場に対応して勾配コイル部１
０６は図示しない３系統の勾配コイルを有する。
持たせるための勾配磁場を生じる。発生する勾配磁場
は、スライス（ｓｌｉｃｅ）勾配磁場、リードアウト
（ｒｅａｄ ｏｕｔ）勾配磁場およびフェーズエンコー
ド（ｐｈａｓｅ ｅｎｃｏｄｅ）勾配磁場の３種であ
り、これら３種類の勾配磁場に対応して勾配コイル部１
０６は図示しない３系統の勾配コイルを有する。
【００６１】３系統の勾配コイルは、互いに直交する３
方向において静磁場にそれぞれ勾配を付与するための３
つの勾配磁場をそれぞれ発生する。３方向のうちの１つ
は静磁場の方向（垂直方向）であり、通常これをｚ方向
とする。他の１つは水平方向であり、通常これをｙ方向
とする。残りの１つはｚ，ｙ方向に垂直な方向であり、
通常これをｘ方向とする。x方向は垂直面内でｚ方向に
垂直であり、水平面内でｙ方向に垂直である。以下、
ｘ，ｙ，ｚを勾配軸ともいう。
方向において静磁場にそれぞれ勾配を付与するための３
つの勾配磁場をそれぞれ発生する。３方向のうちの１つ
は静磁場の方向（垂直方向）であり、通常これをｚ方向
とする。他の１つは水平方向であり、通常これをｙ方向
とする。残りの１つはｚ，ｙ方向に垂直な方向であり、
通常これをｘ方向とする。x方向は垂直面内でｚ方向に
垂直であり、水平面内でｙ方向に垂直である。以下、
ｘ，ｙ，ｚを勾配軸ともいう。
【００６２】ｘ，ｙ，ｚはいずれもスライス勾配の軸と
することができる。いずれか１つをスライス勾配の軸と
したとき、残り２つのうちの１つをフェーズエンコード
勾配の軸とし、他をリードアウト勾配の軸とする。３系
統の勾配コイルについては後にあらためて説明する。
することができる。いずれか１つをスライス勾配の軸と
したとき、残り２つのうちの１つをフェーズエンコード
勾配の軸とし、他をリードアウト勾配の軸とする。３系
統の勾配コイルについては後にあらためて説明する。
【００６３】ＲＦコイル部１０８は静磁場空間に対象３
００の体内のスピンを励起するためのＲＦ励起信号を送
信する。ＲＦコイル部１０８は、また、励起されたスピ
ンが生じる磁気共鳴信号を受信する。ＲＦコイル部１０
８は図示しない送信用のコイルおよび受信用のコイルを
有する。送信用のコイルおよび受信用のコイルは、同じ
コイルを兼用するかあるいはそれぞれ専用のコイルを用
いる。
００の体内のスピンを励起するためのＲＦ励起信号を送
信する。ＲＦコイル部１０８は、また、励起されたスピ
ンが生じる磁気共鳴信号を受信する。ＲＦコイル部１０
８は図示しない送信用のコイルおよび受信用のコイルを
有する。送信用のコイルおよび受信用のコイルは、同じ
コイルを兼用するかあるいはそれぞれ専用のコイルを用
いる。
【００６４】勾配コイル部１０６には勾配駆動部１３０
が接続されている。勾配駆動部１３０は勾配コイル部１
０６に駆動信号を与えて勾配磁場を発生させる。勾配駆
動部１３０は、勾配コイル部１０６における３系統の勾
配コイルに対応して、図示しない３系統の駆動回路を有
する。
が接続されている。勾配駆動部１３０は勾配コイル部１
０６に駆動信号を与えて勾配磁場を発生させる。勾配駆
動部１３０は、勾配コイル部１０６における３系統の勾
配コイルに対応して、図示しない３系統の駆動回路を有
する。
【００６５】ＲＦコイル部１０８にはＲＦ駆動部１４０
が接続されている。ＲＦ駆動部１４０はＲＦコイル部１
０８に駆動信号を与えてＲＦ励起信号を送信し、対象３
００の体内のスピンを励起する。
が接続されている。ＲＦ駆動部１４０はＲＦコイル部１
０８に駆動信号を与えてＲＦ励起信号を送信し、対象３
００の体内のスピンを励起する。
【００６６】ＲＦコイル部１０８には、また、データ
（ｄａｔａ）収集部１５０が接続されている。データ収
集部１５０はＲＦコイル部１０８が受信した受信信号を
取り込み、それをビューデータ（ｖｉｅｗ ｄａｔａ）
として収集する。
（ｄａｔａ）収集部１５０が接続されている。データ収
集部１５０はＲＦコイル部１０８が受信した受信信号を
取り込み、それをビューデータ（ｖｉｅｗ ｄａｔａ）
として収集する。
【００６７】勾配駆動部１３０、ＲＦ駆動部１４０およ
びデータ収集部１５０には制御部１６０が接続されてい
る。制御部１６０は、勾配駆動部１３０ないしデータ収
集部１５０をそれぞれ制御して撮影を遂行する。
びデータ収集部１５０には制御部１６０が接続されてい
る。制御部１６０は、勾配駆動部１３０ないしデータ収
集部１５０をそれぞれ制御して撮影を遂行する。
【００６８】データ収集部１５０の出力側はデータ処理
部１７０に接続されている。データ処理部１７０は、例
えばコンピュータ（ｃｏｍｐｕｔｅｒ）等を用いて構成
される。データ処理部１７０は図示しないメモリ（ｍｅ
ｍｏｒｙ）を有する。メモリはデータ処理部１７０用の
プログラムおよび各種のデータを記憶している。本装置
の機能は、データ処理部１７０がメモリに記憶されたプ
ログラムを実行することによりを実現される。
部１７０に接続されている。データ処理部１７０は、例
えばコンピュータ（ｃｏｍｐｕｔｅｒ）等を用いて構成
される。データ処理部１７０は図示しないメモリ（ｍｅ
ｍｏｒｙ）を有する。メモリはデータ処理部１７０用の
プログラムおよび各種のデータを記憶している。本装置
の機能は、データ処理部１７０がメモリに記憶されたプ
ログラムを実行することによりを実現される。
【００６９】データ処理部１７０は、データ収集部１５
０から取り込んだデータをメモリに記憶する。メモリ内
にはデータ空間が形成される。データ空間は２次元フ−
リエ（Ｆｏｕｒｉｅｒ）空間を構成する。データ処理部
１７０は、これら２次元フ−リエ空間のデータを２次元
逆フ−リエ変換して対象３００の画像を生成（再構成）
する。２次元フ−リエ空間をｋスペース（ｋ−ｓｐａｃ
ｅ）ともいう。
０から取り込んだデータをメモリに記憶する。メモリ内
にはデータ空間が形成される。データ空間は２次元フ−
リエ（Ｆｏｕｒｉｅｒ）空間を構成する。データ処理部
１７０は、これら２次元フ−リエ空間のデータを２次元
逆フ−リエ変換して対象３００の画像を生成（再構成）
する。２次元フ−リエ空間をｋスペース（ｋ−ｓｐａｃ
ｅ）ともいう。
【００７０】データ処理部１７０は制御部１６０に接続
されている。データ処理部１７０は制御部１６０の上位
にあってそれを統括する。データ処理部１７０には、ま
た、表示部１８０および操作部１９０が接続されてい
る。表示部１８０は、グラフィックディスプレー（ｇｒ
ａｐｈｉｃ ｄｉｓｐｌａｙ）等で構成される。操作部
１９０はポインティングデバイス（ｐｏｉｎｔｉｎｇ
ｄｅｖｉｃｅ）を備えたキーボード（ｋｅｙｂｏａｒ
ｄ）等で構成される。
されている。データ処理部１７０は制御部１６０の上位
にあってそれを統括する。データ処理部１７０には、ま
た、表示部１８０および操作部１９０が接続されてい
る。表示部１８０は、グラフィックディスプレー（ｇｒ
ａｐｈｉｃ ｄｉｓｐｌａｙ）等で構成される。操作部
１９０はポインティングデバイス（ｐｏｉｎｔｉｎｇ
ｄｅｖｉｃｅ）を備えたキーボード（ｋｅｙｂｏａｒ
ｄ）等で構成される。
【００７１】表示部１８０は、データ処理部１７０から
出力される再構成画像および各種の情報を表示する。操
作部１９０は、操作者によって操作され、各種の指令や
情報等をデータ処理部１７０に入力する。操作者は表示
部１８０および操作部１９０を通じてインタラクティブ
（ｉｎｔｅｒａｃｔｉｖｅ）に本装置を操作する。
出力される再構成画像および各種の情報を表示する。操
作部１９０は、操作者によって操作され、各種の指令や
情報等をデータ処理部１７０に入力する。操作者は表示
部１８０および操作部１９０を通じてインタラクティブ
（ｉｎｔｅｒａｃｔｉｖｅ）に本装置を操作する。
【００７２】図２に、本装置で撮影を行うときのパルス
シーケンス（ｐｕｌｓｅ ｓｅｑｕｅｎｃｅ）の一例を
示す。このパルスシーケンスは、グラディエントエコー
（ＧＲＥ：Ｇｒａｄｉｅｎｔ Ｅｃｈｏ）法のパルスシ
ーケンスである。
シーケンス（ｐｕｌｓｅ ｓｅｑｕｅｎｃｅ）の一例を
示す。このパルスシーケンスは、グラディエントエコー
（ＧＲＥ：Ｇｒａｄｉｅｎｔ Ｅｃｈｏ）法のパルスシ
ーケンスである。
【００７３】すなわち、（１）はＧＲＥ法におけるＲＦ
励起用のα°パルスのシーケンスであり、（２）、
（３）、（４）および（５）は、同じくそれぞれ、スラ
イス勾配Ｇｓ、リードアウト勾配Ｇｒ、フェーズエンコ
ード勾配ＧｐおよびグラディエントエコーＭＲのシーケ
ンスである。なお、α°パルスは中心信号で代表する。
パルスシーケンスは時間軸ｔに沿って左から右に進行す
る。
励起用のα°パルスのシーケンスであり、（２）、
（３）、（４）および（５）は、同じくそれぞれ、スラ
イス勾配Ｇｓ、リードアウト勾配Ｇｒ、フェーズエンコ
ード勾配ＧｐおよびグラディエントエコーＭＲのシーケ
ンスである。なお、α°パルスは中心信号で代表する。
パルスシーケンスは時間軸ｔに沿って左から右に進行す
る。
【００７４】同図に示すように、α°パルスによりスピ
ンのα°励起が行われる。フリップアングル（ｆｌｉｐ
ａｎｇｌｅ）α°は９０°以下である。このときスラ
イス勾配Ｇｓが印加され所定のスライスについての選択
励起が行われる。
ンのα°励起が行われる。フリップアングル（ｆｌｉｐ
ａｎｇｌｅ）α°は９０°以下である。このときスラ
イス勾配Ｇｓが印加され所定のスライスについての選択
励起が行われる。
【００７５】α°励起後、フェーズエンコード勾配Ｇｐ
によりスピンのフェーズエンコードが行われる。次に、
リードアウト勾配Ｇｒにより先ずスピンをディフェーズ
（ｄｅｐｈａｓｅ）し、次いでスピンをリフェーズ（ｒ
ｅｐｈａｓｅ）して、グラディエントエコーＭＲを発生
させる。グラディエントエコーＭＲの信号強度は、α°
励起からエコータイム（ｅｃｈｏ ｔｉｍｅ）ＴＥ後の
時点で最大となる。グラディエントエコーＭＲはデータ
収集部１５０によりビューデータとして収集される。
によりスピンのフェーズエンコードが行われる。次に、
リードアウト勾配Ｇｒにより先ずスピンをディフェーズ
（ｄｅｐｈａｓｅ）し、次いでスピンをリフェーズ（ｒ
ｅｐｈａｓｅ）して、グラディエントエコーＭＲを発生
させる。グラディエントエコーＭＲの信号強度は、α°
励起からエコータイム（ｅｃｈｏ ｔｉｍｅ）ＴＥ後の
時点で最大となる。グラディエントエコーＭＲはデータ
収集部１５０によりビューデータとして収集される。
【００７６】このようなパルスシーケンスが周期ＴＲ
（ｒｅｐｅｔｉｔｉｏｎ ｔｉｍｅ）で６４〜５１２回
繰り返される。繰り返しのたびにフェーズエンコード勾
配Ｇｐを変更し、毎回異なるフェーズエンコードを行
う。これによって、ｋスペースを埋める６４〜５１２ビ
ューのビューデータが得られる。
（ｒｅｐｅｔｉｔｉｏｎ ｔｉｍｅ）で６４〜５１２回
繰り返される。繰り返しのたびにフェーズエンコード勾
配Ｇｐを変更し、毎回異なるフェーズエンコードを行
う。これによって、ｋスペースを埋める６４〜５１２ビ
ューのビューデータが得られる。
【００７７】磁気共鳴撮影用パルスシーケンスの他の例
を図３に示す。このパルスシーケンスは、スピンエコー
（ＳＥ：Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法のパルスシーケンスで
ある。
を図３に示す。このパルスシーケンスは、スピンエコー
（ＳＥ：Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法のパルスシーケンスで
ある。
【００７８】すなわち、（１）はＳＥ法におけるＲＦ励
起用の９０°パルスおよび１８０°パルスのシーケンス
であり、（２）、（３）、（４）および（５）は、同じ
くそれぞれ、スライス勾配Ｇｓ、リードアウト勾配Ｇ
ｒ、フェーズエンコード勾配ＧｐおよびスピンエコーＭ
Ｒのシーケンスである。なお、９０°パルスおよび１８
０°パルスはそれぞれ中心信号で代表する。パルスシー
ケンスは時間軸ｔに沿って左から右に進行する。
起用の９０°パルスおよび１８０°パルスのシーケンス
であり、（２）、（３）、（４）および（５）は、同じ
くそれぞれ、スライス勾配Ｇｓ、リードアウト勾配Ｇ
ｒ、フェーズエンコード勾配ＧｐおよびスピンエコーＭ
Ｒのシーケンスである。なお、９０°パルスおよび１８
０°パルスはそれぞれ中心信号で代表する。パルスシー
ケンスは時間軸ｔに沿って左から右に進行する。
【００７９】同図に示すように、９０°パルスによりス
ピンの９０°励起が行われる。このときスライス勾配Ｇ
ｓが印加され所定のスライスについての選択励起が行わ
れる。９０°励起から所定の時間後に、１８０°パルス
による１８０°励起すなわちスピン反転が行われる。こ
のときもスライス勾配Ｇｓが印加され、同じスライスに
ついての選択的反転が行われる。
ピンの９０°励起が行われる。このときスライス勾配Ｇ
ｓが印加され所定のスライスについての選択励起が行わ
れる。９０°励起から所定の時間後に、１８０°パルス
による１８０°励起すなわちスピン反転が行われる。こ
のときもスライス勾配Ｇｓが印加され、同じスライスに
ついての選択的反転が行われる。
【００８０】９０°励起とスピン反転の間の期間に、リ
ードアウト勾配Ｇｒおよびフェーズエンコード勾配Ｇｐ
が印加される。リードアウト勾配Ｇｒによりスピンのデ
ィフェーズが行われる。フェーズエンコード勾配Ｇｐに
よりスピンのフェーズエンコードが行われる。
ードアウト勾配Ｇｒおよびフェーズエンコード勾配Ｇｐ
が印加される。リードアウト勾配Ｇｒによりスピンのデ
ィフェーズが行われる。フェーズエンコード勾配Ｇｐに
よりスピンのフェーズエンコードが行われる。
【００８１】スピン反転後、リードアウト勾配Ｇｒでス
ピンをリフェーズしてスピンエコーＭＲを発生させる。
スピンエコーＭＲの信号強度は、９０°励起からＴＥ後
の時点で最大となる。スピンエコーＭＲはデータ収集部
１５０によりビューデータとして収集される。このよう
なパルスシーケンスが周期ＴＲで６４〜５１２回繰り返
される。繰り返しのたびにフェーズエンコード勾配Ｇｐ
を変更し、毎回異なるフェーズエンコードを行う。これ
によって、ｋスペースを埋める６４〜５１２ビューのビ
ューデータが得られる。
ピンをリフェーズしてスピンエコーＭＲを発生させる。
スピンエコーＭＲの信号強度は、９０°励起からＴＥ後
の時点で最大となる。スピンエコーＭＲはデータ収集部
１５０によりビューデータとして収集される。このよう
なパルスシーケンスが周期ＴＲで６４〜５１２回繰り返
される。繰り返しのたびにフェーズエンコード勾配Ｇｐ
を変更し、毎回異なるフェーズエンコードを行う。これ
によって、ｋスペースを埋める６４〜５１２ビューのビ
ューデータが得られる。
【００８２】なお、撮影に用いるパルスシーケンスはＧ
ＲＥ法またはＳＥ法に限るものではなく、例えば、ＦＳ
Ｅ（Ｆａｓｔ Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法、ファーストリ
カバリＦＳＥ（Ｆａｓｔ Ｒｅｃｏｖｅｒｙ Ｆａｓｔ
Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法、エコープラナー・イメージ
ング（ＥＰＩ：Ｅｃｈｏ Ｐｌａｎａｒ Ｉｍａｇｉｎ
ｇ）等、他の適宜の技法のものであって良い。
ＲＥ法またはＳＥ法に限るものではなく、例えば、ＦＳ
Ｅ（Ｆａｓｔ Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法、ファーストリ
カバリＦＳＥ（Ｆａｓｔ Ｒｅｃｏｖｅｒｙ Ｆａｓｔ
Ｓｐｉｎ Ｅｃｈｏ）法、エコープラナー・イメージ
ング（ＥＰＩ：Ｅｃｈｏ Ｐｌａｎａｒ Ｉｍａｇｉｎ
ｇ）等、他の適宜の技法のものであって良い。
【００８３】データ処理部１７０は、ｋスペースのビュ
ーデータを２次元逆フ−リエ変換して対象３００の断層
像を再構成する。再構成した画像はメモリに記憶し、ま
た、表示部１８０で表示する。
ーデータを２次元逆フ−リエ変換して対象３００の断層
像を再構成する。再構成した画像はメモリに記憶し、ま
た、表示部１８０で表示する。
【００８４】図４に、勾配コイル部１０６付近のマグネ
ットシステム１００の構造を断面図により模式的に示
す。同図において、Ｏは静磁場の中心すなわちマグネッ
トセンター（ｍａｇｎｅｔ ｃｅｎｔｅｒ）であり、
ｘ，ｙ，ｚは前述した３方向である。
ットシステム１００の構造を断面図により模式的に示
す。同図において、Ｏは静磁場の中心すなわちマグネッ
トセンター（ｍａｇｎｅｔ ｃｅｎｔｅｒ）であり、
ｘ，ｙ，ｚは前述した３方向である。
【００８５】マグネットセンターＯを中心とする半径Ｒ
の球形領域ＳＶ（ｓｐｈｅｒｉｃｖｏｌｕｍｅ）が撮影
領域であり、マグネットシステム１００はこのＳＶにお
いて静磁場および勾配磁場が所定の精度を持つように構
成される。
の球形領域ＳＶ（ｓｐｈｅｒｉｃｖｏｌｕｍｅ）が撮影
領域であり、マグネットシステム１００はこのＳＶにお
いて静磁場および勾配磁場が所定の精度を持つように構
成される。
【００８６】１対の主磁場マグネット部１０２は互いに
対向する１対の磁極片（ポールピース：ｐｏｌｅ ｐｉ
ｅｃｅ）２０２を有する。磁極片２０２は例えば軟鉄等
の高透磁率の磁性材料で構成され、静磁場空間における
磁束分布を均一化する働きをする。
対向する１対の磁極片（ポールピース：ｐｏｌｅ ｐｉ
ｅｃｅ）２０２を有する。磁極片２０２は例えば軟鉄等
の高透磁率の磁性材料で構成され、静磁場空間における
磁束分布を均一化する働きをする。
【００８７】磁極片２０２は概ね円板形状を成すが、周
縁部が板面に垂直な方向（ｚ方向）、すなわち、磁極片
２０２同士が互いに対向する方向に突出している。これ
により、磁極片２０２は底板部と突出した周縁部を有す
るものとなる。突出した周縁部は磁極片２０２の周縁に
おける磁束密度の低下を補う働きをする。
縁部が板面に垂直な方向（ｚ方向）、すなわち、磁極片
２０２同士が互いに対向する方向に突出している。これ
により、磁極片２０２は底板部と突出した周縁部を有す
るものとなる。突出した周縁部は磁極片２０２の周縁に
おける磁束密度の低下を補う働きをする。
【００８８】突出した周縁部の内側に形成される磁極片
２０２の凹部に、勾配コイル部１０６が設けられる。勾
配コイル部１０６は、Ｘコイル２０４、Ｙコイル２０６
およびＺ２０８コイルを有する。
２０２の凹部に、勾配コイル部１０６が設けられる。勾
配コイル部１０６は、Ｘコイル２０４、Ｙコイル２０６
およびＺ２０８コイルを有する。
【００８９】このうち、Ｚコイル２０８は本発明の勾配
コイルの実施の形態の一例である。各コイルはいずれも
概ね円板形状を成し、磁極片２０２の磁極面に、図示し
ない適宜の取り付け手段により、順次に層を成すように
取り付けられている。
コイルの実施の形態の一例である。各コイルはいずれも
概ね円板形状を成し、磁極片２０２の磁極面に、図示し
ない適宜の取り付け手段により、順次に層を成すように
取り付けられている。
【００９０】図５に、Ｘコイル２０４、Ｙコイル２０６
およびＺ２０８コイルの電流経路のパターン（ｐａｔｔ
ｅｒｎ）を略図によって示す。同図に示すように、Ｘコ
イル２０４は、円の中心に近い部分ではｙ方向に平行な
直線状の複数の主電流経路（メインパス：ｍａｉｎ ｐ
ａｓｓ）を有する。これらメインパスは円の中心を通る
ｙ軸に関して対称である。メインパスの帰路（リターン
パス：ｒｅｔｕｒｎｐａｓｓ）は円周に沿って形成され
る。最外側のリターンパスの半径すなわちＸコイル２０
４の外径はｒ００である。
およびＺ２０８コイルの電流経路のパターン（ｐａｔｔ
ｅｒｎ）を略図によって示す。同図に示すように、Ｘコ
イル２０４は、円の中心に近い部分ではｙ方向に平行な
直線状の複数の主電流経路（メインパス：ｍａｉｎ ｐ
ａｓｓ）を有する。これらメインパスは円の中心を通る
ｙ軸に関して対称である。メインパスの帰路（リターン
パス：ｒｅｔｕｒｎｐａｓｓ）は円周に沿って形成され
る。最外側のリターンパスの半径すなわちＸコイル２０
４の外径はｒ００である。
【００９１】Ｙコイル２０６は、円の中心に近い部分で
はｘ方向に平行な直線状の複数のメインパスを有する。
これらメインパスは円の中心を通るｘ軸に関して対称で
ある。メインパスのリターンパスは円周に沿って形成さ
れる。最外側のリターンパスの半径すなわちＹコイル２
０６の外径はｒ００である。
はｘ方向に平行な直線状の複数のメインパスを有する。
これらメインパスは円の中心を通るｘ軸に関して対称で
ある。メインパスのリターンパスは円周に沿って形成さ
れる。最外側のリターンパスの半径すなわちＹコイル２
０６の外径はｒ００である。
【００９２】Ｚコイル２０８は同心円を成す複数の電流
経路を有する。これら電流経路は全てがメインパスであ
る。各メインパスの半径は内側から順にｒ１，ｒ２，・
・・，ｒＭである。ｒＭはＺコイル２０８の外径とな
る。
経路を有する。これら電流経路は全てがメインパスであ
る。各メインパスの半径は内側から順にｒ１，ｒ２，・
・・，ｒＭである。ｒＭはＺコイル２０８の外径とな
る。
【００９３】Ｚコイル２０８は、リターンパスを持たな
いことにより、Ｘコイル２０４およびＹコイル２０６の
ようにリターンパスを持つものに比べて、直線性の良い
勾配磁場を発生することが容易である。
いことにより、Ｘコイル２０４およびＹコイル２０６の
ようにリターンパスを持つものに比べて、直線性の良い
勾配磁場を発生することが容易である。
【００９４】したがって、Ｚコイル２０８の外径ｒＭを
ＸコイルおよびＹコイル２０６の外径ｒ０より小さくし
ても、ＸコイルおよびＹコイル２０６と同等の直線性を
持った勾配磁場を発生することが可能である。
ＸコイルおよびＹコイル２０６の外径ｒ０より小さくし
ても、ＸコイルおよびＹコイル２０６と同等の直線性を
持った勾配磁場を発生することが可能である。
【００９５】Ｚコイル２０８の外径ｒＭを小さくする
と、Ｚコイル２０８の外周から磁極片２０２の周辺の突
出部までの距離が開くので、Ｚコイル２０８による突出
部の磁化力が距離の２乗に比例して弱くなる。したがっ
て、Ｚコイル２０８の外径ｒＭを小さくすることによ
り、磁極片２０２の残留磁化を小さくすることができ
る。
と、Ｚコイル２０８の外周から磁極片２０２の周辺の突
出部までの距離が開くので、Ｚコイル２０８による突出
部の磁化力が距離の２乗に比例して弱くなる。したがっ
て、Ｚコイル２０８の外径ｒＭを小さくすることによ
り、磁極片２０２の残留磁化を小さくすることができ
る。
【００９６】なお、Ｘコイル２０４およびＹコイル２０
６による突出部の磁化は、メインパスとリターンパスに
よる磁化が互いに逆極性に作用するので、Ｚコイルによ
るものよりも影響が小さい。
６による突出部の磁化は、メインパスとリターンパスに
よる磁化が互いに逆極性に作用するので、Ｚコイルによ
るものよりも影響が小さい。
【００９７】このような残留磁化の小さいマグネットシ
ステムを用いることにより、スピンの精密な位相制御が
要求される例えばＦＳＥ法等による撮影も正しく行うこ
とができる。
ステムを用いることにより、スピンの精密な位相制御が
要求される例えばＦＳＥ法等による撮影も正しく行うこ
とができる。
【００９８】次に、このようなＺコイル２０８の製造方
法を説明する。Ｚコイル２０８を製造するにあたり、メ
インパスすなわち同心円を成す複数の電流経路の半径ｒ
１，ｒ２，・・・，ｒＭを決める。
法を説明する。Ｚコイル２０８を製造するにあたり、メ
インパスすなわち同心円を成す複数の電流経路の半径ｒ
１，ｒ２，・・・，ｒＭを決める。
【００９９】図６に、メインパスの半径を決める手順の
フロー（ｆｌｏｗ）図を示す。同図に示すように、ステ
ップ（ｓｔｅｐ）６０２で、イメージング領域の最大球
面、すなわち、例えば図４に示したＳＶの表面上に、Ｎ
個の測定点Ｐ１（ｘ１，ｙ１，ｚ１），Ｐ２（ｘ２，ｙ
２，ｚ２），・・・，ＰＮ（ｘＮ，ｙＮ，ｚＮ）を設定
する。
フロー（ｆｌｏｗ）図を示す。同図に示すように、ステ
ップ（ｓｔｅｐ）６０２で、イメージング領域の最大球
面、すなわち、例えば図４に示したＳＶの表面上に、Ｎ
個の測定点Ｐ１（ｘ１，ｙ１，ｚ１），Ｐ２（ｘ２，ｙ
２，ｚ２），・・・，ＰＮ（ｘＮ，ｙＮ，ｚＮ）を設定
する。
【０１００】次に、ステップ６０４で、測定点Ｐ１，Ｐ
２，・・・，ＰＮにおいてＺコイル２０８が発生するべ
き磁界Ｂ１ｔ，Ｂ２ｔ，・・・，ＢＮｔを計算する。磁
界の計算には次式を用いる。
２，・・・，ＰＮにおいてＺコイル２０８が発生するべ
き磁界Ｂ１ｔ，Ｂ２ｔ，・・・，ＢＮｔを計算する。磁
界の計算には次式を用いる。
【０１０１】
【数３１】
【０１０２】ここで、 ｇ：磁場勾配 次に、ステップ６０６で、磁界に対する誤差の許容値α
ｔを設定する。αｔはＸコイル２０４およびＹコイル２
０６に対する誤差の許容値と同等にする。
ｔを設定する。αｔはＸコイル２０４およびＹコイル２
０６に対する誤差の許容値と同等にする。
【０１０３】次に、ステップ６０８で、Ｚコイル２０８
の外径の許容値ｒ０を設定する。ｒ０は、制限値ｒ００
を超えない範囲で設定する。制限値ｒ００はＸコイル２
０４およびＹコイル２０６の外径である。
の外径の許容値ｒ０を設定する。ｒ０は、制限値ｒ００
を超えない範囲で設定する。制限値ｒ００はＸコイル２
０４およびＹコイル２０６の外径である。
【０１０４】次に、ステップ６１０で、Ｚコイル２０８
の複数のメインパスの半径ｒ１，ｒ２，・・・，ｒＭの
最適値を求める。すなわち、
の複数のメインパスの半径ｒ１，ｒ２，・・・，ｒＭの
最適値を求める。すなわち、
【０１０５】
【数３２】
【０１０６】の制約条件の下で、
【０１０７】
【数３３】
【０１０８】をパラメータとして、
【０１０９】
【数３４】
【０１１０】となるように、２次計画法を用いてｒｊ
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
（ｊ＝１〜Ｍ）の最適値を求める。なお、
【０１１１】
【数３５】
【０１１２】はビオ・サバール（Ｂｉｏｔ−Ｓａｖａｒ
ｔ）の法則を用いて計算する。次に、ステップ６１２
で、測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計算
する。
ｔ）の法則を用いて計算する。次に、ステップ６１２
で、測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計算
する。
【０１１３】
【数３６】
【０１１４】次に、ステップ６１４で、αｉ≦αｔを満
足するか否かを調べる。否である場合はは、ステップ６
１６で許容値ｒ０を制限値ｒ００を超えない範囲でΔｒ
だけ増加させ、ステップ６１０以降の手順を繰り返す。
足するか否かを調べる。否である場合はは、ステップ６
１６で許容値ｒ０を制限値ｒ００を超えない範囲でΔｒ
だけ増加させ、ステップ６１０以降の手順を繰り返す。
【０１１５】αｉ≦αｔを満足するときは、ステップ６
１８でｒ１，ｒ２，・・・，ｒＭを確定する。そして、
確定した半径の同心円を成す複数のメインパスを持つＺ
コイル２０８を製造する。
１８でｒ１，ｒ２，・・・，ｒＭを確定する。そして、
確定した半径の同心円を成す複数のメインパスを持つＺ
コイル２０８を製造する。
【０１１６】磁界に対する誤差の許容値を、Ｘコイル２
０４およびＹコイル２０６に対する許容値と同じにした
ので、上記の手順で得られる最大半径ｒＭは、許容範囲
の精度を持つ磁界を発生しうる最小の値となる。この値
はＸコイル２０４およびＹコイル２０６の外径ｒ００よ
り小さなものとなる。
０４およびＹコイル２０６に対する許容値と同じにした
ので、上記の手順で得られる最大半径ｒＭは、許容範囲
の精度を持つ磁界を発生しうる最小の値となる。この値
はＸコイル２０４およびＹコイル２０６の外径ｒ００よ
り小さなものとなる。
【０１１７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、磁極片に対する磁化力が小さい勾配コイルおよび
その製造方法、並びに、そのような勾配コイルを有する
磁気共鳴撮影装置を実現することができる。
れば、磁極片に対する磁化力が小さい勾配コイルおよび
その製造方法、並びに、そのような勾配コイルを有する
磁気共鳴撮影装置を実現することができる。
【図１】本発明の実施の形態の一例の装置のブロック図
である。
である。
【図２】図１に示した装置が実行するパルスシーケンス
の一例を示す図である。
の一例を示す図である。
【図３】図１に示した装置が実行するパルスシーケンス
の一例を示す図である。
の一例を示す図である。
【図４】図１に示した装置におけるマグネットシステム
の勾配コイル部付近の構成を示す模式図である。
の勾配コイル部付近の構成を示す模式図である。
【図５】勾配コイルの電流経路のパターンを示す略図で
ある。
ある。
【図６】電流経路の半径を決める手順のフロー図であ
る。
る。
１００ マグネットシステム １０２ 主磁場マグネット部 １０６ 勾配コイル部 １０８ ＲＦコイル部 １３０ 勾配駆動部 １４０ ＲＦ駆動部 １５０ データ収集部 １６０ 制御部 １７０ データ処理部 １８０ 表示部 １９０ 操作部 ２０２ 磁極片 ２０４ Ｘコイル ２０６ Ｙコイル ２０８ Ｚコイル ３００ 対象 ５００ クレードル
フロントページの続き (72)発明者 後藤 隆男 東京都日野市旭が丘四丁目７番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 Ｆターム(参考） 4C096 AA20 AB06 AB33 BA05 BA06 CA07 CA16 CB01 CB04 CB20
Claims (6)
- 【請求項１】 底板部と前記底板部の板面に垂直な方向
に突出した周縁部を有し前記突出した周縁部が空間を隔
てて互いに対向する１対の磁極片の前記周縁部の内側の
前記底板部の面に沿ってそれぞれ設けられ、同心円状の
複数の経路を流れる電流により前記空間に勾配磁場を生
じる１対の勾配コイルを製造するにあたり、 予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ勾配磁場を発生
する範囲内で前記勾配コイルの経路の最大半径を最小値
とする、ことを特徴とする勾配コイル製造方法。 - 【請求項２】 前記複数の経路の半径を下記の手順で決
めることを特徴とする請求項１に記載の勾配コイル製造
方法。 記 （イ）撮影領域内に想定した最大球面上に測定点Ｐｉ
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。 （ロ）前記勾配コイルが発生すべき前記測定点における
磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。 （ニ）前記勾配コイルの経路の最大半径の許容値ｒ０
を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定する。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、 【数１】 の制約条件の下で、 【数２】 をパラメータとして、 【数３】 となるように、２次計画法を用いてｒｊ（ｊ＝１〜Ｍ）
の最適値を求める。なお、 【数４】 はビオ・サバールの法則を用いて計算する。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。 【数５】 （ト）αｉ≦αｔを満足するときはｒｊを確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。 - 【請求項３】 底板部と前記底板部の板面に垂直な方向
に突出した周縁部を有し前記突出した周縁部が空間を隔
てて互いに対向する１対の磁極片の前記周縁部の内側の
前記底板部の面に沿ってそれぞれ設けられ、同心円状の
複数の経路を流れる電流により前記空間に勾配磁場を生
じる１対の勾配コイルであって、予め定めた許容範囲内
の磁場誤差を持つ勾配磁場を発生する範囲内で前記勾配
コイルの経路の最大半径を最小値とした、ことを特徴と
する勾配コイル。 - 【請求項４】 前記複数の経路は下記の手順で決めた半
径を有することを特徴とする請求項３に記載の勾配コイ
ル。 記 （イ）撮影領域内に想定した最大球面上に測定点Ｐｉ
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。 （ロ）前記勾配コイルが発生すべき前記測定点における
磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。 （ニ）前記勾配コイルの経路の最大半径の許容値ｒ０
を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定する。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、 【数６】 の制約条件の下で、 【数７】 をパラメータとして、 【数８】 となるように、２次計画法を用いてｒｊ（ｊ＝１〜Ｍ）
の最適値を求める。なお、 【数９】 はビオ・サバールの法則を用いて計算する。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。 【数１０】 （ト）αｉ≦αｔを満足するときはｒｊを確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。 - 【請求項５】 静磁場、勾配磁場および高周波磁場を用
いて獲得した磁気共鳴信号に基づいて画像を構成する磁
気共鳴撮影装置であって、 前記勾配磁場を発生する勾配コイルとして、底板部と前
記底板部の板面に垂直な方向に突出した周縁部を有し前
記突出した周縁部が空間を隔てて互いに対向する１対の
磁極片の前記周縁部の内側の前記底板部の面に沿ってそ
れぞれ設けられ、同心円状の複数の経路を流れる電流に
より前記空間に勾配磁場を生じる１対の勾配コイルであ
って、予め定めた許容範囲内の磁場誤差を持つ勾配磁場
を発生する範囲内で前記経路の最大半径を最小値とした
勾配コイル、を具備することを特徴とする磁気共鳴撮影
装置。 - 【請求項６】 前記複数の経路は下記の手順で決めた半
径を有することを特徴とする請求項５に記載の磁気共鳴
撮影装置。 記 （イ）撮影領域内に想定した最大球面上に測定点Ｐｉ
（ｉ＝１〜Ｎ）を設定する。 （ロ）前記勾配コイルが発生すべき前記測定点における
磁界Ｂｉｔ（ｉ＝１〜Ｎ）を計算する。 （ハ）磁界に対する誤差の許容値αｔを設定する。 （ニ）前記勾配コイルの経路の最大半径の許容値ｒ０
を、制限値ｒ００を超えない範囲で設定する。 （ホ）前記複数の経路の半径をｒ１，ｒ２，・・・，ｒ
Ｍとし、 【数１１】 の制約条件の下で、 【数１２】 をパラメータとして、 【数１３】 となるように、２次計画法を用いてｒｊ（ｊ＝１〜Ｍ）
の最適値を求める。なお、 【数１４】 はビオ・サバールの法則を用いて計算する。 （ヘ）測定点Ｐｉにおける磁界の誤差を次式によって計
算する。 【数１５】 （ト）αｉ≦αｔを満足するときはｒｊを確定する。 （チ）αｉ≦αｔを満足しないときは、許容値ｒ０を制
限値ｒ００を超えない範囲で増加させ、（ホ）以降の手
順を繰り返す。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000117881A JP3705995B2 (ja) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | 勾配コイル製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装置 |
| US09/827,525 US6539611B2 (en) | 2000-04-19 | 2001-04-06 | Method of manufacturing a gradient coil |
| EP01303472A EP1148341A3 (en) | 2000-04-19 | 2001-04-12 | Method of manufacturing gradient coil, gradient coil and magnetic resonance imaging system |
| KR10-2001-0020697A KR100420813B1 (ko) | 2000-04-19 | 2001-04-18 | 구배 코일 제조 방법 및 구배 코일과 자기 공명 촬상 시스템 |
| CNB011207906A CN1230686C (zh) | 2000-04-19 | 2001-04-19 | 制造梯度线圈单元的方法和磁共振成像系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000117881A JP3705995B2 (ja) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | 勾配コイル製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001299722A true JP2001299722A (ja) | 2001-10-30 |
| JP3705995B2 JP3705995B2 (ja) | 2005-10-12 |
Family
ID=18629123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000117881A Expired - Fee Related JP3705995B2 (ja) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | 勾配コイル製造方法および勾配コイル並びに磁気共鳴撮影装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6539611B2 (ja) |
| EP (1) | EP1148341A3 (ja) |
| JP (1) | JP3705995B2 (ja) |
| KR (1) | KR100420813B1 (ja) |
| CN (1) | CN1230686C (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4045769B2 (ja) * | 2001-10-10 | 2008-02-13 | 株式会社日立製作所 | 磁場発生装置及びこれを用いるｍｒｉ装置 |
| DE102004002919B4 (de) * | 2004-01-20 | 2006-01-12 | Siemens Ag | Gradientenspulensystem und Verfahren zum Herstellen des Gradientenspulensystems |
| CN101191829B (zh) * | 2006-11-29 | 2010-05-12 | 北京万东医疗装备股份有限公司 | 平面有源屏蔽梯度线圈的制作方法 |
| CN103732137B (zh) * | 2011-08-09 | 2016-08-31 | 日立金属株式会社 | 线圈装置和磁共振成像装置 |
| CN103887036B (zh) * | 2014-03-13 | 2016-07-06 | 中国计量科学研究院 | 一种用于永磁体温度系数开路测量的梯度场电磁铁 |
| CN104198969B (zh) * | 2014-08-14 | 2017-01-25 | 南京工程学院 | 一种梯度线圈设计方法 |
| CN107192970A (zh) * | 2017-05-05 | 2017-09-22 | 中国科学院电工研究所 | 一种磁共振成像系统的阵列梯度线圈驱动装置 |
| CN109521461B (zh) * | 2019-01-08 | 2023-10-27 | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 | 一种用于控制中子自旋的翻转线圈 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2541551A1 (fr) * | 1983-02-21 | 1984-08-24 | Drusch & Cie | Dispositif de maintien et de fixation de bobines destinees a la realisation d'un champ magnetique constant et homogene |
| US4721914A (en) * | 1984-05-01 | 1988-01-26 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Apparatus for unilateral generation of a homogeneous magnetic field |
| US4829252A (en) * | 1987-10-28 | 1989-05-09 | The Regents Of The University Of California | MRI system with open access to patient image volume |
| GB8912601D0 (en) * | 1989-06-01 | 1989-07-19 | Oxford Magnet Tech | Magnetic field generating apparatus |
| JP2808198B2 (ja) * | 1990-07-02 | 1998-10-08 | 住友特殊金属株式会社 | Ｍｒｉ用磁界発生装置とその製法 |
| US5124651A (en) * | 1990-10-24 | 1992-06-23 | Fonar Corporation | Nuclear magnetic resonance scanners with composite pole facings |
| US5250901A (en) * | 1991-11-07 | 1993-10-05 | The Regents Of The University Of California | Open architecture iron core electromagnet for MRI using superconductive winding |
| US5382904A (en) * | 1992-04-15 | 1995-01-17 | Houston Advanced Research Center | Structured coil electromagnets for magnetic resonance imaging and method for fabricating the same |
| US5754085A (en) * | 1992-09-28 | 1998-05-19 | Fonar Corporation | Ferromagnetic yoke magnets for medical magnetic resonance studies |
| DE59406586D1 (de) * | 1993-03-15 | 1998-09-10 | Siemens Ag | Homogenfeldmagnet mit über Korrekturluftspalte beabstandeten Polplatteneinrichtungen seiner Polschuhe |
| US5490509A (en) * | 1993-03-18 | 1996-02-13 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for MRI using selectively shaped image volume of homogeneous NMR polarizing field |
| JP2757104B2 (ja) * | 1993-04-01 | 1998-05-25 | 信越化学工業株式会社 | 磁場発生装置 |
| DE69419096T2 (de) * | 1993-09-29 | 1999-10-28 | Oxford Magnet Tech | Verbesserungen an Magneten der Bilderzeugung mittels magnetischer Resonanz |
| US5396207A (en) * | 1994-08-05 | 1995-03-07 | General Electric Company | On-shoulder MRI magnet for human brain imaging |
| JP3014319B2 (ja) * | 1996-04-12 | 2000-02-28 | 信越化学工業株式会社 | 磁石対向型永久磁石回路 |
| US5939962A (en) * | 1996-08-07 | 1999-08-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Split type magnetic field generating apparatus for MRI |
| US5942898A (en) * | 1996-12-13 | 1999-08-24 | Picker International, Inc. | Thrust balanced bi-planar gradient set for MRI scanners |
| US6144204A (en) * | 1997-11-28 | 2000-11-07 | Picker Nordstar Oy | Gradient coils for magnetic resonance meeting |
| US6255929B1 (en) * | 1998-03-23 | 2001-07-03 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Method of making optimized, air-core electromagnets |
| US6259252B1 (en) * | 1998-11-24 | 2001-07-10 | General Electric Company | Laminate tile pole piece for an MRI, a method manufacturing the pole piece and a mold bonding pole piece tiles |
| US6377049B1 (en) * | 1999-02-12 | 2002-04-23 | General Electric Company | Residuum rare earth magnet |
| US6064290A (en) * | 1999-05-21 | 2000-05-16 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Short bore-length asymmetric electromagnets for magnetic resonance imaging |
-
2000
- 2000-04-19 JP JP2000117881A patent/JP3705995B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-04-06 US US09/827,525 patent/US6539611B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-12 EP EP01303472A patent/EP1148341A3/en not_active Withdrawn
- 2001-04-18 KR KR10-2001-0020697A patent/KR100420813B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-04-19 CN CNB011207906A patent/CN1230686C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100420813B1 (ko) | 2004-03-02 |
| JP3705995B2 (ja) | 2005-10-12 |
| US20010039717A1 (en) | 2001-11-15 |
| US6539611B2 (en) | 2003-04-01 |
| CN1230686C (zh) | 2005-12-07 |
| CN1340720A (zh) | 2002-03-20 |
| KR20010098693A (ko) | 2001-11-08 |
| EP1148341A2 (en) | 2001-10-24 |
| EP1148341A3 (en) | 2004-01-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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