JP2001296438A - Photo-breaching waveguide - Google Patents

Photo-breaching waveguide

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JP2001296438A
JP2001296438A JP2000115869A JP2000115869A JP2001296438A JP 2001296438 A JP2001296438 A JP 2001296438A JP 2000115869 A JP2000115869 A JP 2000115869A JP 2000115869 A JP2000115869 A JP 2000115869A JP 2001296438 A JP2001296438 A JP 2001296438A
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JP
Japan
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layer
ultraviolet light
light absorbing
photobleaching
waveguide
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JP2000115869A
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Inventor
Katsuyuki Imoto
克之 井本
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photo-breaching waveguide having a uniform rectangular cross section shape and the uniform distribution of refractive index. SOLUTION: A core layer 3 having the uniform rectangular cross section shape and the uniform distribution of refractive index is provided by preparing ultraviolet ray absorbing layers 10-1, 10-2 having a ultraviolet ray absorbing function and a clad layer function on upper and rear surfaces of the core layer and side surface clad layers 4-1, 4-2 consisting of photo-breaching polymer. The ultraviolet ray absorbing layers 10-1, 10-2 are transparent and small in loss, the refractive index is controlled by the kind and an added quantity of added metallic oxide material, and an absorbing quantity of ultraviolet rays is controlled by the kind and an added quantity of metallic oxide material. Thus, the ultraviolet ray absorbing layers 10-1, 10-2 not only function as the light guiding clad layer of the waveguide, but also keep the shape and the refractive index of the polymer core layer uniform and keep stability for a long period of optical characteristics of the waveguide against the ultraviolet rays from the external part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトブリーチン
グ導波路に関する。
[0001] The present invention relates to a photobleaching waveguide.

【0002】[0002]

【従来の技術】フォトブリーチング用ポリマ材料を用い
た導波路として、本発明者は先に図8に示す導波路を提
案した(特開平10−48443号公報参照)。
2. Description of the Related Art As a waveguide using a polymer material for photobleaching, the present inventor has previously proposed a waveguide shown in FIG. 8 (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-48443).

【0003】図8は本発明の前提となった導波路の断面
図である。
FIG. 8 is a sectional view of a waveguide on which the present invention is based.

【0004】この導波路は、基板1と、基板1上に形成
された低屈折率の下部クラッド層2と、下部クラッド層
2の上に形成され、下部クラッド層2より屈折率の高い
高屈折率のフォトブリーチング用ポリマ層からなるコア
層3と、コア層3の両側面に形成されコア層3よりも屈
折率の低いフォトブリーチング用ポリマ層からなる側面
クラッド層4−1、4−2と、コア層3及び側面クラッ
ド層4−1、4−2の上に形成され、コア層3よりも屈
折率の低い低屈折率の上部クラッド層5と、上部クラッ
ド層5の上に形成され紫外線光を吸収する紫外線光吸収
層6とで構成されたものである。
This waveguide comprises a substrate 1, a lower refractive index lower cladding layer 2 formed on the substrate 1, and a higher refractive index higher than the lower cladding layer 2 and formed on the lower cladding layer 2. Core layer 3 made of a polymer layer for photobleaching with high refractive index, and side cladding layers 4-1 and 4- formed on both sides of the core layer 3 and made of a polymer layer for photobleaching having a lower refractive index than the core layer 3. 2, an upper clad layer 5 having a lower refractive index than the core layer 3 and formed on the core layer 3 and the side clad layers 4-1 and 4-2, and formed on the upper clad layer 5. And an ultraviolet light absorbing layer 6 for absorbing ultraviolet light.

【0005】この導波路の特徴は、略矩形断面形状のコ
ア層3を、ドライエッチング工程なしで、フォトグラフ
ィ工程と、紫外線光照射工程とで形成することができる
ので、簡易プロセスによる低コスト化が可能であること
と、コア層3及び側面クラッド層4−1、4−2の表面
が平坦であるので、不要な光散乱損失を低減することが
できるという点にある。
[0005] The feature of this waveguide is that the core layer 3 having a substantially rectangular cross-sectional shape can be formed by a photography step and an ultraviolet light irradiation step without a dry etching step, so that the cost can be reduced by a simple process. And that the surface of the core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-2 are flat, so that unnecessary light scattering loss can be reduced.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図8に示し
た導波路において、コア層3及び側面クラッド層4−
1、4−2の厚さが厚い(>8μm)場合と、基板1の
材質における紫外線光の反射率が高い場合には、次のよ
うな問題が生じることが分った。すなわち、コア層3の
深さ方向の屈折率が不均一になることと、コア層3の深
さ方向の形状も不均一になることが分った。
In the waveguide shown in FIG. 8, the core layer 3 and the side cladding layer 4-
It has been found that the following problems occur when the thickness of 1, 4-2 is large (> 8 μm) and when the reflectance of the ultraviolet light in the material of the substrate 1 is high. That is, it was found that the refractive index in the depth direction of the core layer 3 became non-uniform, and the shape of the core layer 3 in the depth direction became non-uniform.

【0007】以下、図9(a)〜(c)を用いて説明す
る。
Hereinafter, description will be made with reference to FIGS. 9 (a) to 9 (c).

【0008】図9(a)は図8に示した導波路の製造方
法の説明図であり、図9(b)及び図9(c)は図9
(a)に示した方法を用いた場合の導波路層の断面図で
ある。
FIG. 9 (a) is an explanatory view of a method of manufacturing the waveguide shown in FIG. 8, and FIGS. 9 (b) and 9 (c) show the method of manufacturing the waveguide shown in FIG.
It is sectional drawing of the waveguide layer at the time of using the method shown to (a).

【0009】図9(a)に示すように、従来の方法は、
基板1上に下部クラッド層2及びフォトブリーチング用
ポリマ層3を順次形成した後、ポリマ層3上に所望パタ
ーン形状の描かれたフォトマスク7を配置し、そのフォ
トマスク7の上から紫外線光8を照射する方法である。
フォトマスク7は、光透過領域7−1と光非透過領域7
−2とを有しており、紫外線光8は光透過領域7−1を
通ってポリマ層3上に照射される。
[0009] As shown in FIG.
After a lower cladding layer 2 and a photobleaching polymer layer 3 are sequentially formed on a substrate 1, a photomask 7 having a desired pattern shape is arranged on the polymer layer 3, and ultraviolet light is irradiated from above the photomask 7. 8 is applied.
The photomask 7 includes a light transmitting area 7-1 and a light non-transmitting area 7
And the ultraviolet light 8 is irradiated onto the polymer layer 3 through the light transmission region 7-1.

【0010】ここで問題となるのは、ポリマ層3の厚さ
が厚い場合には、紫外線光8の照射パワーを大きくする
か、照射時間を長くしなければならないため、紫外線光
8の一部がポリマ層3を通って下部クラッド層2内で反
射したり、基板1の表面で反射したりする点である(紫
外線光の反射光を矢印9で示す。)。
The problem here is that when the thickness of the polymer layer 3 is large, the irradiation power of the ultraviolet light 8 must be increased or the irradiation time must be lengthened. Are reflected in the lower clad layer 2 through the polymer layer 3 or on the surface of the substrate 1 (reflected light of ultraviolet light is indicated by an arrow 9).

【0011】このため、本来なら、矩形断面形状で、か
つ屈折率が均一になるべきコア層3が図9(b)あるい
は図9(c)に示すように不均一な構造のコア層3−
1、3−2となるだけでなく、コア層3−1、3−2の
深さ方向の屈折率分布も不均一になることが分った。す
なわち、紫外線光8の反射光9が悪影響を及ぼしている
ことが分った。
For this reason, the core layer 3 which should have a rectangular cross section and a uniform refractive index should have a non-uniform structure as shown in FIG. 9 (b) or 9 (c).
It was found that the refractive index distribution in the depth direction of the core layers 3-1 and 3-2 became non-uniform as well as 1, 3-2. That is, it was found that the reflected light 9 of the ultraviolet light 8 had an adverse effect.

【0012】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、均一な矩形断面形状と均一な屈折率分布を有するフ
ォトブリーチング導波路を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems and to provide a photobleaching waveguide having a uniform rectangular cross-sectional shape and a uniform refractive index distribution.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のフォトブリーチング導波路は、紫外線光を吸
収する紫外線光吸収層と、紫外線光吸収層の上に形成さ
れ、フォトブリーチング用ポリマ層からなり、紫外線光
吸収層より屈折率の高い略矩形断面形状のコア層と、コ
ア層の両側面に形成され上記紫外線光吸収層より屈折率
が高く、コア層より屈折率が低い側面クラッド層と、コ
ア層及び側面クラッド層の上に形成され側面クラッド層
より屈折率の低い他の紫外線光吸収層とを備えたもので
ある。
In order to achieve the above object, a photobleaching waveguide according to the present invention comprises an ultraviolet light absorbing layer for absorbing ultraviolet light, and a photobleaching layer formed on the ultraviolet light absorbing layer. A core layer having a substantially rectangular cross-sectional shape having a higher refractive index than the ultraviolet light absorbing layer and a refractive index higher than the ultraviolet light absorbing layer formed on both side surfaces of the core layer and having a lower refractive index than the core layer. It has a side cladding layer and another ultraviolet light absorbing layer formed on the core layer and the side cladding layer and having a lower refractive index than the side cladding layer.

【0014】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、紫外線光吸収層が基板上に形成されていて
もよい。
In addition to the above structure, the photobleaching waveguide of the present invention may have an ultraviolet light absorbing layer formed on a substrate.

【0015】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、基板として、紫外線光吸収層を含んだポリ
マ材料からなるフィルムを用いてもよい。
In addition to the above structure, the photobleaching waveguide of the present invention may use, as a substrate, a film made of a polymer material including an ultraviolet light absorbing layer.

【0016】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、コア層は、少なくとも二つ所望間隔を保っ
て形成されており、各コア層の両側面に側面クラッド層
が形成されていてもよい。
In the photobleaching waveguide of the present invention, in addition to the above-described structure, the core layer is formed so as to keep at least two desired intervals, and even if side cladding layers are formed on both side surfaces of each core layer. Good.

【0017】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、紫外線光吸収層の厚さは、少なくとも2μ
mであるのが好ましい。
In the photobleaching waveguide according to the present invention, in addition to the above structure, the ultraviolet light absorbing layer has a thickness of at least 2 μm.
m is preferred.

【0018】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、紫外線光吸収層は、屈折率の異なった層が
少なくとも2層積層されていてもよい。
In the photobleaching waveguide according to the present invention, in addition to the above-described structure, the ultraviolet light absorbing layer may be formed by laminating at least two layers having different refractive indexes.

【0019】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、コア層の光入力端面及び光出力端面に紫外
線光吸収層が形成されていてもよい。
In addition to the above configuration, the photobleaching waveguide of the present invention may have an ultraviolet light absorbing layer formed on the light input end face and the light output end face of the core layer.

【0020】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、コア層の光入力端面及び光出力端面に屈折
率の異なる紫外線光吸収層が形成されていてもよい。
In addition to the above configuration, the photobleaching waveguide of the present invention may have an ultraviolet light absorbing layer having a different refractive index formed on the light input end face and the light output end face of the core layer.

【0021】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、コア層の光入力端面及び光出力端面は光軸
に対して斜めに形成されていてもよい。
In addition to the above configuration, in the photobleaching waveguide of the present invention, the light input end face and the light output end face of the core layer may be formed oblique to the optical axis.

【0022】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、基板の表面、裏面、あるいは中に電子回
路、電子部品、光部品のうち少なくとも1個が設けられ
ていてもよい。
In addition to the above configuration, the photobleaching waveguide of the present invention may be provided with at least one of an electronic circuit, an electronic component, and an optical component on the front surface, the back surface, or inside the substrate.

【0023】上記構成に加え本発明のフォトブリーチン
グ導波路は、コア層及び側面クラッド層の上に形成され
た紫外線光吸収層の上に、他のフォトブリーチング用ポ
リマ層からなるコア層、側面クラッド層及び紫外線光吸
収層が少なくとも1層以上積層されていてもよい。
In addition to the above constitution, the photobleaching waveguide of the present invention comprises a core layer comprising another photobleaching polymer layer on the ultraviolet light absorbing layer formed on the core layer and the side cladding layer. At least one or more side cladding layers and ultraviolet light absorbing layers may be laminated.

【0024】本発明によれば、フォトブリーチング用ポ
リマからなるコア層及び側面クラッド層の上下に、紫外
線光吸収機能とクラッド層の機能とを有する紫外線光吸
収層を設けることにより、均一な矩形断面形状と均一な
屈折率分布とを有するコア層を設けることができる。
According to the present invention, a uniform rectangular shape is provided by providing an ultraviolet light absorbing layer having an ultraviolet light absorbing function and a function of a cladding layer above and below a core layer and a side cladding layer made of a polymer for photobleaching. A core layer having a cross-sectional shape and a uniform refractive index distribution can be provided.

【0025】また、紫外線光吸収層は透明で低損失であ
り、屈折率は添加される金属酸化物材料の種類と添加量
とで制御でき、紫外線光の吸収量は金属酸化物材料の種
類と添加量とで制御できる。このため紫外線光吸収層
は、導波路の光ガイド用クラッド層として機能する以外
に、フォトブリーチング用ポリマコア層の形状と屈折率
を均一にする機能と、外部からの紫外線光に対しての導
波路の光学特性(損失、屈折率分布、波長特性等)の長
期的安定性を保持する機能とを有する。
The ultraviolet light absorbing layer is transparent and has low loss, the refractive index can be controlled by the type and amount of the metal oxide material to be added, and the ultraviolet light absorption amount can be controlled by the type of the metal oxide material. It can be controlled by the amount added. For this reason, the ultraviolet light absorbing layer not only functions as a light guide cladding layer of the waveguide, but also functions to make the shape and the refractive index of the photobleaching polymer core layer uniform and to guide external ultraviolet light. And a function of maintaining long-term stability of optical characteristics (loss, refractive index distribution, wavelength characteristics, etc.) of the wave path.

【0026】以上により、散乱損失の低い低損失の導波
路を実現することができる。また、光の入出力端面側の
屈折率分布を歩留まり良く製造することができるので、
入出力端面に接続される光ファイバとの結合損失特性の
ばらつきを小さくすることができる。
As described above, a low-loss waveguide with low scattering loss can be realized. In addition, since the refractive index distribution on the light input / output end face side can be manufactured with high yield,
Variations in coupling loss characteristics with the optical fiber connected to the input / output end face can be reduced.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0028】図1は本発明のフォトブリーチング導波路
の一実施の形態を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【0029】同図において、1は基板であり、ガラス
(石英系、多成分系)、セラミックス、半導体(Si、
GaAs、InP等)、プラスチック(ポリイミド、ポ
リフェニレンスルフィド、ポリエステル、エバール、ポ
リビニリデンクロリド、ポリプロピレン等)、サファイ
ア、LiNbO3 、LiTaO5 等を用いることができ
る。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate, which is made of glass (quartz, multi-component), ceramics, semiconductor (Si,
GaAs, InP, etc.), plastics (polyimide, polyphenylene sulfide, polyester, Eval, polyvinylidene chloride, polypropylene, etc.), sapphire, LiNbO 3 , LiTaO 5 and the like can be used.

【0030】基板1の上に紫外線光吸収層10−1が少
なくとも数μmの厚さで形成されている。この紫外線光
吸収層10−1は、紫外線光(波長300〜370n
m)に対して十分な光吸収特性を有するものが用いられ
る。例えば、ポリマ材料にベンゾフェノン系、サリチレ
ート系、ベンゾトリアゾール系等の添加剤を添加したも
のを用い、屈折率はベースとなるポリマ材料によって調
節し、紫外線光の波長帯及びその透過率特性は主に上記
添加剤の種類や量で調節する。
The ultraviolet light absorbing layer 10-1 is formed on the substrate 1 with a thickness of at least several μm. This ultraviolet light absorbing layer 10-1 is made of an ultraviolet light (wavelength: 300 to 370n).
Those having sufficient light absorption characteristics for m) are used. For example, using a polymer material to which additives such as benzophenone-based, salicylate-based, and benzotriazole-based additives are added, the refractive index is adjusted by the base polymer material, and the wavelength band of ultraviolet light and its transmittance characteristics are mainly It is adjusted by the type and amount of the above additive.

【0031】また、紫外線光吸収層10−1の他の材料
として、ポリマ材料に二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄
等の金属酸化物顔料を添加したものを用いることができ
る。この場合の屈折率は、ポリマ材料以外に、上記金属
酸化物材料の種類及び添加量で調節することができ、紫
外線光の波長帯及びその透過率特性は主に金属酸化物材
料の添加量で調節する。一例として、紫外線光吸収層に
信越化学工業(株)製のUV吸収性ハードコート(商品
名KP−851)を用いると、波長300〜370nm
帯において、透過率を10%以下(膜厚1μmの場合)
に抑えることができる。
As another material of the ultraviolet light absorbing layer 10-1, a material obtained by adding a metal oxide pigment such as titanium dioxide, zinc oxide or iron oxide to a polymer material can be used. In this case, the refractive index can be adjusted by the type and amount of the metal oxide material other than the polymer material, and the wavelength range of ultraviolet light and its transmittance characteristics are mainly determined by the amount of the metal oxide material added. Adjust. As an example, when a UV absorbing hard coat (trade name KP-851) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is used for the ultraviolet light absorbing layer, the wavelength is 300 to 370 nm.
In the band, the transmittance is 10% or less (when the film thickness is 1 μm)
Can be suppressed.

【0032】したがって、紫外線光吸収層10−1の膜
厚を5μm以上にすれば、透過率を略1%以下、すなわ
ち、紫外線光吸収率90%以上を実現することができ
る。5μm以上の膜厚の紫外線光吸収層10−1を基板
上1に形成するには、スピンコーティング法によって3
回程度の重ね塗りで実現することができる。また、紫外
線光吸収層10−1は、屈折率nu (波長0.63μm
での値)が1.424であり、かつ250℃のベーキン
グを行っているので、十分な耐熱温度も有している。
Therefore, when the thickness of the ultraviolet light absorbing layer 10-1 is set to 5 μm or more, the transmittance can be reduced to approximately 1% or less, that is, the ultraviolet light absorptivity of 90% or more can be realized. In order to form the ultraviolet light absorbing layer 10-1 having a thickness of 5 μm or more on the substrate 1, 3
It can be realized by recoating about once. The ultraviolet light absorbing layer 10-1 has a refractive index n u (wavelength 0.63 μm
Is 1.424 and baking at 250 ° C. has a sufficient heat-resistant temperature.

【0033】紫外線光吸収層10−1の上にフォトブリ
ーチング用ポリマ材料からなるコア層3と、側面クラッ
ド層4−1、4−2とが形成されている。コア層3は屈
折率np が紫外線光吸収層10−1の屈折率nu よりも
高く、側面クラッド層4−1、4−2の屈折率nb より
も高く設定される。そのため、コア層3には紫外線光が
照射されないか、あるいはわずかの量が照射される。
A core layer 3 made of a polymer material for photobleaching and side cladding layers 4-1 and 4-2 are formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-1. The refractive index n p of the core layer 3 is set higher than the refractive index n u of the ultraviolet light absorbing layer 10-1 and higher than the refractive index n b of the side cladding layers 4-1 and 4-2. For this reason, the core layer 3 is not irradiated with ultraviolet light or is irradiated with a small amount.

【0034】このコア層3に対して側面クラッド層4−
1、4−2の屈折率nb は紫外線光吸収層10−1の屈
折率nu と同程度の値にしなければならないので、紫外
線光が十分に照射されることによって形成される。
The side cladding layer 4-
Since the refractive indices n b of 1, 4-2 must be approximately the same as the refractive index n u of the ultraviolet light absorbing layer 10-1, they are formed by sufficiently irradiating ultraviolet light.

【0035】フォトブリーチング用ポリマ層の材料とし
ては、ポリシラン、ニトロン化合物を含有するシリコー
ン樹脂、DMAPN{(4−N,N−ジメチルアミノフ
ェニル)−N−フェニルニトロン}を含有するポリメタ
クリル酸メチル、dye polymer、ニトロン化
合物を含有するポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂等
を用いることができる。
Examples of the material for the polymer layer for photobleaching include polysilane, a silicone resin containing a nitrone compound, and polymethyl methacrylate containing DMAPN {(4-N, N-dimethylaminophenyl) -N-phenylnitrone}. , Dye polymer, and a polyimide resin or an epoxy resin containing a nitrone compound.

【0036】ここで、紫外線光吸収層101−の材料と
して例えば、ポリシランを用いると、紫外線光の照射量
に応じて屈折率は1.475〜1.43程度まで調節す
ることができる。このポリシランは、まず、紫外線光吸
収層10−1上にヘキサメチルジシラザンを塗布し、1
20℃で30分間ベーキングして疎水化した後、10重
量%の濃度でトルエンに溶解したポリシランをスピンコ
ーティングし、120℃で30分間ベーキングし、ベー
キング後、得られた膜上に所望のパターンの描かれたフ
ォトマスクを配置し、そのフォトマスクの上から紫外線
光を照射することによって屈折率の低下した側面クラッ
ド層4−1、4−2と、屈折率が低下しないか、あるい
はわずかに低下したコア層3とが得られる。
Here, when, for example, polysilane is used as the material of the ultraviolet light absorbing layer 101-, the refractive index can be adjusted to about 1.475 to 1.43 according to the irradiation amount of the ultraviolet light. This polysilane is first coated with hexamethyldisilazane on the ultraviolet light absorbing layer 10-1,
After baking at 20 ° C. for 30 minutes to make it hydrophobic, spin-coating with polysilane dissolved in toluene at a concentration of 10% by weight, baking at 120 ° C. for 30 minutes, and after baking, forming a desired pattern on the obtained film. The side cladding layers 4-1 and 4-2 whose refractive index has been reduced by arranging a drawn photomask and irradiating ultraviolet light from above the photomask, and the refractive index does not decrease or slightly decreases Core layer 3 obtained.

【0037】コア層3及び側面クラッド層4−1、4−
2上に紫外線光吸収層10−2を形成する。なお、コア
層3及び側面クラッド層4−1、4−2の厚さは、マル
チモード伝送用の場合には10μm〜数十μmの範囲が
好ましく、シングルモード伝送用の場合には2μm〜十
数μmの範囲が好ましい。コア層3の屈折率np と、側
面クラッド層4−1、4−2の屈折率nb (あるいは紫
外線光吸収層10−1の屈折率nu )との比屈折率差は
0.2%〜数%の範囲から選択される。
The core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-
The ultraviolet light absorbing layer 10-2 is formed on the substrate 2. The thickness of the core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-2 is preferably in the range of 10 μm to several tens μm for multi-mode transmission, and 2 μm to 10 μm for single mode transmission. A range of several μm is preferred. The relative refractive index difference between the refractive index n p of the core layer 3 and the refractive index n b of the side cladding layers 4-1 and 4-2 (or the refractive index n u of the ultraviolet light absorbing layer 10-1) is 0.2. % To several%.

【0038】コア層3及び側面クラッド層4−1、4−
2の下に紫外線光吸収層10−1を設けることにより、
基板1表面への紫外線光の到達を防止でき、かつ基板1
の表面からの反射光も吸収させ、さらには基板1の裏面
方向から侵入してくる紫外線光も吸収させることがで
き、コア層3及び側面クラッド層4−1、4−2の形状
及び屈折率分布を均一にすることができる。すなわち、
図9(b)、(c)に示したような問題を回避すること
ができる。
The core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-
By providing the ultraviolet light absorbing layer 10-1 under 2
UV light can be prevented from reaching the surface of the substrate 1 and the substrate 1
Of the core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-2, and the refractive index of the core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-2. The distribution can be made uniform. That is,
Problems such as those shown in FIGS. 9B and 9C can be avoided.

【0039】紫外線光吸収層10−2の膜厚及び屈折率
に関しては紫外線光吸収層10−1と同様な値に選択さ
れる。尚、紫外線光吸収層10−1、10−2の膜厚を
厚くするほど、紫外線光を強く吸収することができるの
で、許す範囲内で厚くする方が好ましい。
The thickness and the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer 10-2 are selected to have the same values as those of the ultraviolet light absorbing layer 10-1. It should be noted that as the thickness of the ultraviolet light absorbing layers 10-1 and 10-2 increases, the ultraviolet light can be more strongly absorbed. Therefore, it is preferable to increase the thickness within the allowable range.

【0040】図2は本発明のフォトブリーチング導波路
の他の実施の形態を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【0041】図1に示した実施の形態との相違点は、基
板を除去した点である。
The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the substrate is removed.

【0042】すなわち、本フォトブリーチング導波路
は、紫外線光を吸収する紫外線光吸収層10−1と、紫
外線光吸収層10−1の上に形成され、フォトブリーチ
ング用ポリマ層からなり、紫外線光吸収層10−1より
屈折率の高い略矩形断面形状のコア層3と、コア層3の
両側面に形成され紫外線光吸収層10−1の屈折率より
高く、コア層3の屈折率より低い側面クラッド層4−
1、4−2と、コア層3及び側面クラッド層4−1、4
−2の上に形成された紫外線光吸収層10−2とで構成
されたものである。
That is, the present photobleaching waveguide is composed of an ultraviolet light absorbing layer 10-1 for absorbing ultraviolet light and a polymer layer for photobleaching formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-1. A core layer 3 having a substantially rectangular cross section having a higher refractive index than the light absorbing layer 10-1; and a refractive index higher than the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer 10-1 formed on both side surfaces of the core layer 3 and higher than the refractive index of the core layer 3. Low side cladding layer 4-
1, 4-2, core layer 3 and side cladding layers 4-1 and 4,
-2 and an ultraviolet light absorbing layer 10-2 formed on the substrate.

【0043】本フォトブリーチング導波路は、紫外線光
吸収層10−1として、ポリマ材料にポリイミド系樹
脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等を用い、これら
のポリマ材料樹脂に、先に述べたベンゾフェノン系、サ
リチレート系、ベンゾトリアゾール系の添加剤、あるい
は二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の金属酸化物顔料
の添加剤を添加したものを用いれば、厚膜のプラスチッ
クフィルム状の導波路を実現することができる。
In this photobleaching waveguide, a polyimide resin, an acrylic resin, an epoxy resin, or the like is used as the polymer material for the ultraviolet light absorbing layer 10-1, and the benzophenone described above is used as the polymer resin. -Based, salicylate-based, benzotriazole-based additives or additives of metal oxide pigments such as titanium dioxide, zinc oxide, iron oxide, etc. can be used to realize thick plastic film waveguides. be able to.

【0044】図3は本発明のフォトブリーチング導波路
の他の実施の形態を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【0045】図1に示した実施の形態との相違点は、コ
ア層3及び側面クラッド層4−1、4−2の上の紫外線
光吸収層10−2の上に複数の紫外線光吸収層10−
3、10−4を積層した点である。
The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that a plurality of ultraviolet light absorbing layers are provided on the ultraviolet light absorbing layer 10-2 on the core layer 3 and the side cladding layers 4-1 and 4-2. 10-
3 and 10-4.

【0046】すなわち、本導波路は、基板1と、基板1
上に形成され、紫外線光を吸収する紫外線光吸収層10
−1と、紫外線光吸収層10−1の上に形成され、フォ
トブリーチング用ポリマ層からなり、紫外線光吸収層1
0−1より屈折率の高い略矩形断面形状のコア層3と、
コア層3の両側面に形成され紫外線光吸収層10−1の
屈折率より高く、コア層3の屈折率より低い側面クラッ
ド層4−1、4−2と、コア層3及び側面クラッド層4
−1、4−2の上に形成された紫外線光吸収層10−2
と、紫外線光吸収層10−2の上に形成された複数(図
では2層であるが限定されない。)の紫外線光吸収層1
0−3、10−4とで構成されたものである。
That is, the present waveguide comprises a substrate 1 and a substrate 1
An ultraviolet light absorbing layer 10 formed thereon for absorbing ultraviolet light
-1 and a photobleaching polymer layer formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-1.
A core layer 3 having a substantially rectangular cross section having a refractive index higher than 0-1;
Side cladding layers 4-1 and 4-2 formed on both side surfaces of the core layer 3 and having a refractive index higher than the ultraviolet light absorbing layer 10-1 and lower than the refractive index of the core layer 3;
-1, UV light absorbing layer 10-2 formed on 4-2
And a plurality of (but not limited to two in the figure) ultraviolet light absorbing layers 1 formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-2.
0-3 and 10-4.

【0047】これら紫外線光吸収層10−2、10−
3、10−4の膜厚及び屈折率は等しくても異なってい
てもよい。例えば、紫外線光吸収層10−2の膜厚は薄
く、かつ屈折率nb2は低く、紫外線光吸収層10−2上
の紫外線光吸収層10−3、10−4の膜厚は厚く、か
つ屈折率nb3、nb4は屈折率nb2よりも高くしておく
と、コア層3内への光の閉じ込めを強化することができ
る。
These ultraviolet light absorbing layers 10-2, 10-
The film thicknesses and refractive indices of 3, 10-4 may be equal or different. For example, the thickness of the ultraviolet light absorbing layer 10-2 is small and the refractive index n b2 is low, the thickness of the ultraviolet light absorbing layers 10-3 and 10-4 on the ultraviolet light absorbing layer 10-2 is large, and When the refractive indices n b3 and n b4 are higher than the refractive index n b2 , the confinement of light in the core layer 3 can be enhanced.

【0048】図4は本発明のフォトブリーチング導波路
の他の実施の形態を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【0049】図1に示した実施の形態との相違点は、基
板1を除去すると共に、複数の紫外線光吸収層10−
1、10−2、10−3、10−5を積層した点であ
る。
The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the substrate 1 is removed and a plurality of ultraviolet light absorbing layers 10-
1, 10-2, 10-3, and 10-5 are stacked.

【0050】すなわち、本フォトブリーチング導波路
は、紫外線光を吸収する紫外線光吸収層10−1と、紫
外線光吸収層10−1の上に形成された紫外線光吸収層
10−5と、紫外線光吸収層の上に形成され、フォトブ
リーチング用ポリマ層からなり、紫外線光吸収層10−
5より屈折率の高い略矩形断面形状のコア層3と、コア
層3の両側面に形成され紫外線光吸収層10−5の屈折
率より高く、コア層3の屈折率より低い側面クラッド層
4−1、4−2と、コア層3及び側面クラッド層4−
1、4−2の上に積層された複数(図では2層であるが
限定されない。)の紫外線光吸収層10−2、10−3
とで構成されたものである。
That is, the present photobleaching waveguide comprises an ultraviolet light absorbing layer 10-1 for absorbing ultraviolet light, an ultraviolet light absorbing layer 10-5 formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-1, and an ultraviolet light absorbing layer 10-5. The photo-bleaching polymer layer is formed on the light-absorbing layer.
And a side cladding layer 4 formed on both sides of the core layer 3 and having a refractive index higher than the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer 10-5 and lower than the refractive index of the core layer 3. -1, 4-2, core layer 3 and side cladding layer 4-
A plurality (two, but not limited to, two layers in the figure) of the ultraviolet light absorbing layers 10-2 and 10-3 laminated on the first and the fourth 4-2.
It is composed of

【0051】このフォトブリーチング導波路は、紫外線
光吸収層10−1、10−2、10−3、10−5の膜
厚、屈折率を種々異ならせることにより、モードフィー
ルド径を調節したり、伝搬する光パワー分布を調節した
り、導波路端面に接続される光ファイバ(図示せず。)
との結合損失特性を調節したりすることができる。特
に、紫外線光吸収層10−2、10−5の屈折率を紫外
線光吸収層10−1、10−3の屈折率よりも十分に低
くすることにより、コア層3内への光閉じ込めを強化す
ることができる。
In this photobleaching waveguide, the mode field diameter can be adjusted by varying the thickness and refractive index of the ultraviolet light absorbing layers 10-1, 10-2, 10-3, and 10-5. An optical fiber (not shown) connected to the end face of the waveguide to adjust the power distribution of the propagating light.
Or the coupling loss characteristic of the coupling can be adjusted. In particular, the confinement of light in the core layer 3 is enhanced by making the refractive index of the ultraviolet light absorbing layers 10-2 and 10-5 sufficiently lower than the refractive index of the ultraviolet light absorbing layers 10-1 and 10-3. can do.

【0052】図5(a)は本発明のフォトブリーチング
導波路の他の実施の形態を示す側面図であり、図5
(b)は図5(a)の上面図であり、図5(c)は図5
(b)のA−A線断面図である。
FIG. 5A is a side view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.
5B is a top view of FIG. 5A, and FIG.
FIG. 3B is a sectional view taken along line AA of FIG.

【0053】本フォトブリーチング導波路の特徴は、複
数(6個)のコア層がアレイ状に配置されている点、光
の入出力端面が斜めに形成されている点及び入出力端面
に紫外線光吸収層11a、11bが形成されている点で
ある。
The features of this photobleaching waveguide are that a plurality of (six) core layers are arranged in an array, that the light input / output end face is formed obliquely, and that the input / output end face has ultraviolet rays. The point is that the light absorption layers 11a and 11b are formed.

【0054】すなわち、本フォトブリーチング導波路
は、紫外線光吸収層10−1と、紫外線光吸収層10−
1の上に形成され、フォトブリーチング用ポリマ層から
なり、紫外線光吸収層10−1より屈折率の高い略矩形
断面形状の複数(図では6本であるが限定されない。)
の平行なコア層3−1〜3−6と、各コア層3−1〜3
−6の両側面に形成され紫外線光吸収層10−1の屈折
率より高く、コア層3−1〜3−6の屈折率より低い側
面クラッド層4−1〜4−7と、コア層3−1〜3−6
及び側面クラッド層4−1〜4−7の上に形成された紫
外線光吸収層10−2とで構成された積層体と、積層体
の全コア層3−1〜3−6の両端面が斜面に露出するよ
うに略台形状に形成された積層体のその両斜面に形成さ
れた紫外線光吸収層11a、11bとで構成されたもの
である。
That is, the present photobleaching waveguide comprises an ultraviolet light absorbing layer 10-1 and an ultraviolet light absorbing layer 10-.
1 formed of a polymer layer for photobleaching and having a substantially rectangular cross-sectional shape having a higher refractive index than the ultraviolet light absorbing layer 10-1 (the number is not limited to six in the figure).
Core layers 3-1 to 3-6, and the respective core layers 3-1 to 3-3
-6, side cladding layers 4-1 to 4-7, which are formed on both side surfaces of -6 and are higher than the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer 10-1 and lower than the refractive indexes of the core layers 3-1 to 3-6. -1 to 3-6
And a laminated body composed of the ultraviolet light absorbing layer 10-2 formed on the side clad layers 4-1 to 4-7, and both end faces of all the core layers 3-1 to 3-6 of the laminated body. The laminated body is formed in a substantially trapezoidal shape so as to be exposed on the slope, and is constituted by ultraviolet light absorbing layers 11a and 11b formed on both slopes.

【0055】このフォトブリーチング導波路は、紫外線
光吸収層10−1の下方部から例えばコア層3−4内に
矢印12a方向に光を入射させると、光は紫外線光吸収
層11aで反射してコア層3−4内を矢印12b方向に
伝搬し、紫外線光吸収層11bで反射され矢印12c方
向に出射させることができる。尚、それ以外のコア層3
−1〜3−3、3−5、3−6内にも同様にして光を伝
搬させることができる。尚、紫外線光吸収層11a、1
1bが形成された入出力端面は角度θ1、θ2が略45
°になるように斜めに加工されている。
In this photobleaching waveguide, when light is incident from below the ultraviolet light absorbing layer 10-1 into, for example, the core layer 3-4 in the direction of arrow 12a, the light is reflected by the ultraviolet light absorbing layer 11a. Thus, the light can propagate through the core layer 3-4 in the direction of arrow 12b, be reflected by the ultraviolet light absorbing layer 11b, and be emitted in the direction of arrow 12c. The other core layer 3
Light can be similarly propagated in -1 to 3-3, 3-5 and 3-6. Incidentally, the ultraviolet light absorbing layers 11a, 1
The input / output end face on which 1b is formed has angles θ1 and θ2 of approximately 45
It is processed diagonally so that it becomes °.

【0056】図6(a)は本発明のフォトブリーチング
導波路の他の実施の形態を示す側面図であり、図6
(b)は図6(a)の上面図であり、図6(c)は図6
(b)のB−B線断面図である。
FIG. 6A is a side view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.
FIG. 6B is a top view of FIG. 6A, and FIG.
It is a BB sectional view taken on the line of (b).

【0057】本フォトブリーチング導波路は、光の入出
力端面に多層(図では3層であるが限定されない。)状
の紫外線光吸収層11c、11dを形成し、複数(6
個)のコア層3−1〜3−6をアレイ状に配置し、かつ
入出力端面の傾斜角度θ3を2〜8°の範囲に設定した
構造を有している。
In the present photobleaching waveguide, multilayer (though not limited in the figure, three layers) ultraviolet light absorbing layers 11c and 11d are formed on the light input / output end faces, and a plurality of (6) light absorbing layers are formed.
Core layers 3-1 to 3-6 are arranged in an array, and the inclination angle θ3 of the input / output end face is set in a range of 2 to 8 °.

【0058】すなわち、本フォトブリーチング導波路
は、紫外線光吸収層10−1と、紫外線光吸収層10−
1の上に形成され、フォトブリーチング用ポリマ層から
なり、紫外線光吸収層10−1より屈折率の高い略矩形
断面形状の複数(図では6本であるが限定されない。)
の平行なコア層3−1〜3−6と、コア層3−1〜3−
6の両側面に形成され紫外線光吸収層10−1の屈折率
より高く、コア層3−1〜3−6の屈折率より低い側面
クラッド層4−1〜4−7と、コア層3−1〜3−6及
び側面クラッド層4−1〜4−7の上に形成された紫外
線光吸収層10−2とで構成された積層体と、積層体の
全コア層3−1〜3−6の両端面が斜面に露出するよう
に略台形状に形成された積層体のその両斜面に、多層状
の紫外線光吸収層11c、11dとで構成され、傾斜角
度θ3、θ4が2〜8°に設定されたものである。
That is, the present photobleaching waveguide comprises an ultraviolet light absorbing layer 10-1 and an ultraviolet light absorbing layer 10-
1 formed of a polymer layer for photobleaching and having a substantially rectangular cross-sectional shape having a higher refractive index than the ultraviolet light absorbing layer 10-1 (the number is not limited to six in the figure).
Core layers 3-1 to 3-6 and core layers 3-1 to 3-
6, side cladding layers 4-1 to 4-7 higher than the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer 10-1 and lower than the refractive indexes of the core layers 3-1 to 3-6. And a laminated body composed of an ultraviolet light absorbing layer 10-2 formed on the side cladding layers 4-1 to 4-7 and all the core layers 3-1 to 3- of the laminated body. 6 is formed of a multilayered ultraviolet light absorbing layer 11c and 11d on both slopes of the laminate formed in a substantially trapezoidal shape so that both end faces are exposed to the slope, and the inclination angles θ3 and θ4 are 2 to 8 ° is set.

【0059】このフォトブリーチング導波路は、光信号
が光の入力端面の紫外線光吸収層11c側から矢印12
d方向に入射され、コア層(例えばコア層3−4)内を
矢印12e方向に伝搬し、矢印12f方向に光の出力端
面の紫外線光吸収層11d側から出力される。
The photo-bleaching waveguide has an optical signal from the side of the ultraviolet light absorbing layer 11c on the light input end face to the arrow 12
The light is incident in the direction d, propagates in the core layer (for example, the core layer 3-4) in the direction of arrow 12e, and is output in the direction of arrow 12f from the ultraviolet light absorbing layer 11d side of the light output end face.

【0060】図7は本発明のフォトブリーチング導波路
の他の実施の形態を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【0061】図1に示した実施の形態との相違点は、複
数の導波路層を積層した点である。
The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that a plurality of waveguide layers are stacked.

【0062】本フォトブリーチング導波路は、基板1
と、基板1上に形成され、紫外線光を吸収する紫外線光
吸収層10−1と、紫外線光吸収層10−1の上に形成
され、フォトブリーチング用ポリマ層からなり、紫外線
光吸収層10−1より屈折率の高い略矩形断面形状の2
本(本数は限定されない。)のコア層3a−1、3a−
2と、コア層3a−1、3a−2の両側面に形成され紫
外線光吸収層10−1の屈折率より高く、コア層3a−
1、3a−2の屈折率より低い側面クラッド層4a−
1、4a−2、4a−3と、コア層3a−1、3a−2
及び側面クラッド層4a−1、4a−2、4a−3の上
に形成された紫外線光吸収層10−2と、紫外線光吸収
層10−2の上に形成され、フォトブリーチング用ポリ
マ層からなり、紫外線光吸収層10−2より屈折率の高
い略矩形断面形状の1本(本数は限定されない。)のコ
ア層3bと、コア層3bの両側面に形成され紫外線光吸
収層の屈折率より高く、コア層3bの屈折率より低い側
面クラッド層4b−1、4b−2と、コア層3b及び側
面クラッド層4b−1、4b−2の上に形成された紫外
線光吸収層10−6とで構成されたものである。
The photobleaching waveguide is provided on the substrate 1
And an ultraviolet light absorbing layer 10-1 formed on the substrate 1 and absorbing ultraviolet light, and a polymer layer for photobleaching formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-1. 2 having a substantially rectangular cross section having a refractive index higher than -1
(The number of core layers is not limited) core layers 3a-1, 3a-
2 and higher than the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer 10-1 formed on both side surfaces of the core layers 3a-1 and 3a-2.
Side cladding layer 4a- having a lower refractive index than 1, 3a-2
1, 4a-2, 4a-3 and core layers 3a-1, 3a-2
And an ultraviolet light absorbing layer 10-2 formed on the side cladding layers 4a-1, 4a-2 and 4a-3, and a polymer layer for photobleaching formed on the ultraviolet light absorbing layer 10-2. The core layer 3b has a substantially rectangular cross-sectional shape (the number is not limited) having a higher refractive index than the ultraviolet light absorbing layer 10-2, and the refractive index of the ultraviolet light absorbing layer formed on both side surfaces of the core layer 3b. Side cladding layers 4b-1 and 4b-2, which are higher and lower than the refractive index of the core layer 3b, and an ultraviolet light absorbing layer 10-6 formed on the core layer 3b and the side cladding layers 4b-1 and 4b-2. It is composed of

【0063】これら紫外線光吸収層10−1、コア層3
a−1、3a−2、側面クラッド層4a−1、4a−
2、4a−3及び紫外線光吸収層10−2で第1の導波
路層13aが構成され、紫外線光吸収層10−2、コア
層3b、側面クラッド層4b−1、4b−2及び紫外線
光吸収層10−6で第2の導波路層13bが構成されて
いる。
The ultraviolet light absorbing layer 10-1 and the core layer 3
a-1, 3a-2, side cladding layers 4a-1, 4a-
2, 4a-3 and the ultraviolet light absorbing layer 10-2 constitute a first waveguide layer 13a, and the ultraviolet light absorbing layer 10-2, the core layer 3b, the side cladding layers 4b-1, 4b-2, and the ultraviolet light The absorption layer 10-6 forms the second waveguide layer 13b.

【0064】このようなフォトブリーチング導波路にお
いても、均一な矩形断面形状と均一な屈折率分布を有す
るフォトブリーチング導波路の提供を実現することがで
きる。
Also in such a photobleaching waveguide, it is possible to realize provision of a photobleaching waveguide having a uniform rectangular cross-sectional shape and a uniform refractive index distribution.

【0065】本フォトブリーチング導波路は、導波路層
13a、13bが2層構造であるが、これに限定される
ものではなく、導波路層が3層、4層、…、のように多
層状に構成されていてもよい。尚、図1から図7におい
て、それぞれのコア層は直線パターン、曲線パターン等
で構成されて、光方向性結合回路、光リング共振回路、
光スターカプラ、光合分波回路、光フィルタ回路、光ア
レー型導波路グレーティング回路、光グレーティングフ
ィルタ回路等の光信号処理回路が形成されていてもよ
い。
In the present photobleaching waveguide, the waveguide layers 13a and 13b have a two-layer structure. However, the present invention is not limited to this, and there are many waveguide layers such as three layers, four layers,. It may be configured as a layer. 1 to 7, each core layer is formed of a linear pattern, a curved pattern, or the like, and includes an optical directional coupling circuit, an optical ring resonance circuit,
Optical signal processing circuits such as an optical star coupler, an optical multiplexing / demultiplexing circuit, an optical filter circuit, an optical array type waveguide grating circuit, and an optical grating filter circuit may be formed.

【0066】図5(a)〜(c)及び図6(a)〜
(c)において、光の入出力端面にも紫外線光吸収層を
設けておくと、外部からの紫外線光が端面から入射して
端面の形状及び屈折率分布を乱すのを阻止することがで
きる。また、図5(a)〜(c)に示したフォトブリー
チング導波路のように、光の入出力端面に設けられた紫
外線光吸収層は光信号を効率よく入射させる機能を有
し、図6(a)〜(c)に示したフォトブリーチング導
波路のように、光の入出力端面に設けられた多層状の紫
外線光吸収層は光の入出力端面における不要な反射光を
抑える機能を有する。
FIGS. 5A to 5C and FIGS.
In (c), if an ultraviolet light absorbing layer is also provided on the light input / output end face, it is possible to prevent external ultraviolet light from entering from the end face and disturbing the shape and refractive index distribution of the end face. Further, like the photobleaching waveguides shown in FIGS. 5A to 5C, the ultraviolet light absorbing layer provided on the light input / output end face has a function of efficiently entering an optical signal. As in the photobleaching waveguides shown in FIGS. 6A to 6C, the multilayer ultraviolet light absorbing layer provided on the light input / output end face has a function of suppressing unnecessary reflected light on the light input / output end face. Having.

【0067】図1、図3、図7において、基板の表面の
一部、裏面の一部、あるいは中に電子回路(トランジス
タ、ダイオード、レジスタンス、キャパシタンス、イン
ダクタンス、電気配線等)、電子部品(同上)、光部品
(レーザ、受光素子、レンズ、フィルタ、減衰器等)の
うちの少なくとも1個が設けられた、光・電子混載型回
路であってもよい。このような光・電子混載型回路は、
基板にSi、GaAs、InP等の半導体基板を用いる
場合か、あるいはプリント基板を用いる場合等に好適で
ある。
In FIGS. 1, 3 and 7, an electronic circuit (transistor, diode, resistance, capacitance, inductance, electric wiring, etc.), an electronic component (same as above) ) And an optical / electronic hybrid circuit provided with at least one of optical components (laser, light receiving element, lens, filter, attenuator, etc.). Such a mixed optical / electronic circuit,
It is suitable when a semiconductor substrate such as Si, GaAs, InP or the like is used as the substrate, or when a printed substrate is used.

【0068】以上において、本発明によれば、 (1) コア層及び側面クラッド層の厚さが厚くても、均一
な矩形断面形状と均一な屈折率分布とを有するコア層を
実現することができる。
As described above, according to the present invention, (1) it is possible to realize a core layer having a uniform rectangular cross-sectional shape and a uniform refractive index distribution even if the thickness of the core layer and the side cladding layer is large. it can.

【0069】(2) コア層と側面クラッド層との界面を均
一にすることができ、散乱損失の低いフォトブリーチン
グ導波路を実現することができる。また、光の入出力端
面側に接続する光ファイバとの結合も容易となり、特性
の歩留りのよいフォトブリーチング導波路を実現するこ
とができる。
(2) The interface between the core layer and the side cladding layer can be made uniform, and a photobleaching waveguide with low scattering loss can be realized. Further, the coupling with the optical fiber connected to the light input / output end face side is facilitated, and a photobleaching waveguide having a good yield of characteristics can be realized.

【0070】(3) コア層及び側面クラッド層が紫外線光
吸収層でサンドイッチ状に挟まれているので、外部から
の紫外線光のコア層及び側面クラッド層内への侵入を阻
止することができる。また、導波路層の上下の紫外線光
吸収層はクラッド層としても機能するので、わざわざク
ラッド層を形成する必要がない。
(3) Since the core layer and the side cladding layer are sandwiched between the ultraviolet light absorbing layers, the penetration of ultraviolet light from the outside into the core layer and the side cladding layer can be prevented. Further, since the ultraviolet light absorbing layers above and below the waveguide layer also function as cladding layers, there is no need to separately form the cladding layers.

【0071】(4) 基板の上に紫外線光吸収層が予め形成
されているので、基板には紫外線光(300〜380n
m)を反射するような材料を用いて構成してもよい。
(4) Since an ultraviolet light absorbing layer is previously formed on the substrate, the substrate is exposed to ultraviolet light (300 to 380 nm).
m) may be formed using a material that reflects the light.

【0072】(5) クラッド層として用いる紫外線光吸収
層は、膜厚、屈折率が等しいか、あるいは異なったもの
を用いて多層状に積層させることによって、光ファイバ
との結合特性、導波路のモードフィールド径及び光パワ
ー分布等を容易に調節することができるので、設計自由
度を増やすことができる。また、紫外線光吸収層を多層
状にすることにより外部からの紫外線光の照射による光
学特性の劣化を抑えることができ、長期的にも安定な導
波路を実現することができる。
(5) The ultraviolet light absorbing layer used as the cladding layer may have the same thickness and the same refractive index or may have different refractive indices. Since the mode field diameter and the optical power distribution can be easily adjusted, the degree of freedom in design can be increased. Further, by forming the ultraviolet light absorbing layer in a multilayer shape, deterioration of optical characteristics due to irradiation of ultraviolet light from the outside can be suppressed, and a stable waveguide can be realized for a long time.

【0073】(6) 光の入出力端面にも紫外線光吸収層を
形成することによって、長期的な光学特性の安定化を図
ると共に、端面からの不要な反射光を抑えることができ
る。また光信号の結合性を向上させることができる。
(6) By forming an ultraviolet light absorbing layer also on the light input / output end face, it is possible to stabilize the long-term optical characteristics and to suppress unnecessary reflected light from the end face. Further, the connectivity of optical signals can be improved.

【0074】(7) 光を伝搬させたり、光信号を処理した
りする回路を有する導波路層を多層状に積層することが
でき、かつ、簡単な構成であるため、高密度光実装回路
を低コストで実現することができる。
(7) Since a waveguide layer having a circuit for transmitting light and processing an optical signal can be laminated in multiple layers and has a simple structure, a high-density optical mounting circuit can be realized. It can be realized at low cost.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
In summary, according to the present invention, the following excellent effects are exhibited.

【0076】均一な矩形断面形状と均一な屈折率分布を
有するフォトブリーチング導波路の提供を実現すること
ができる。
The provision of a photobleaching waveguide having a uniform rectangular cross-sectional shape and a uniform refractive index distribution can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のフォトブリーチング導波路の一実施の
形態を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a photobleaching waveguide of the present invention.

【図2】本発明のフォトブリーチング導波路の他の実施
の形態を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【図3】本発明のフォトブリーチング導波路の他の実施
の形態を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【図4】本発明のフォトブリーチング導波路の他の実施
の形態を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【図5】(a)は本発明のフォトブリーチング導波路の
他の実施の形態を示す側面図であり、(b)は(a)の
上面図であり、(c)は(b)のA−A線断面図であ
る。
5A is a side view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention, FIG. 5B is a top view of FIG. 5A, and FIG. 5C is a top view of FIG. FIG. 3 is a sectional view taken along line AA.

【図6】(a)は本発明のフォトブリーチング導波路の
他の実施の形態を示す側面図であり、(b)は(a)の
上面図であり、(c)は(b)のB−B線断面図であ
る。
6A is a side view showing another embodiment of the photobleaching waveguide according to the present invention, FIG. 6B is a top view of FIG. 6A, and FIG. 6C is a top view of FIG. It is BB sectional drawing.

【図7】本発明のフォトブリーチング導波路の他の実施
の形態を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing another embodiment of the photobleaching waveguide of the present invention.

【図8】本発明の前提となった導波路の断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a waveguide on which the present invention is based.

【図9】(a)は図8に示した導波路の製造方法の説明
図であり、(b)及び(c)は(a)に示した方法を用
いた場合の導波路層の断面図である。
9A is an explanatory diagram of a method of manufacturing the waveguide shown in FIG. 8, and FIGS. 9B and 9C are cross-sectional views of the waveguide layer when the method shown in FIG. It is.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 コア層 4−1、4−2 側面クラッド層 10−1、10−2 紫外線光吸収層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 3 Core layer 4-1 and 4-2 Side cladding layer 10-1, 10-2 Ultraviolet light absorption layer

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線光を吸収する紫外線光吸収層と、
該紫外線光吸収層の上に形成され、フォトブリーチング
用ポリマ層からなり、上記紫外線光吸収層より屈折率の
高い略矩形断面形状のコア層と、該コア層の両側面に形
成され上記紫外線光吸収層より屈折率が高く、上記コア
層より屈折率が低い側面クラッド層と、上記コア層及び
上記側面クラッド層の上に形成され上記側面クラッド層
より屈折率の低い他の紫外線光吸収層とを備えたことを
特徴とするフォトブリーチング導波路。
1. An ultraviolet light absorbing layer for absorbing ultraviolet light,
A core layer having a substantially rectangular cross-sectional shape formed on the ultraviolet light absorbing layer and comprising a polymer layer for photobleaching and having a higher refractive index than the ultraviolet light absorbing layer; and the ultraviolet light formed on both side surfaces of the core layer. A side cladding layer having a higher refractive index than the light absorbing layer and a lower refractive index than the core layer; and another ultraviolet light absorbing layer formed on the core layer and the side cladding layer and having a lower refractive index than the side cladding layer. And a photobleaching waveguide.
【請求項2】 上記紫外線光吸収層が基板上に形成され
ている請求項1に記載のフォトブリーチング導波路。
2. The photobleaching waveguide according to claim 1, wherein said ultraviolet light absorbing layer is formed on a substrate.
【請求項3】 上記基板として、紫外線光吸収層を含ん
だポリマ材料からなるフィルムを用いた請求項2に記載
のフォトブリーチング導波路。
3. The photobleaching waveguide according to claim 2, wherein a film made of a polymer material including an ultraviolet light absorbing layer is used as said substrate.
【請求項4】 上記コア層は、少なくとも二つ所望間隔
を保って形成されており、各コア層の両側面に側面クラ
ッド層が形成されている請求項1から3のいずれかに記
載のフォトブリーチング導波路。
4. The photo-sensor according to claim 1, wherein the core layers are formed with at least two desired intervals, and side cladding layers are formed on both side surfaces of each core layer. Bleaching waveguide.
【請求項5】 上記紫外線光吸収層の厚さは、少なくと
も2μmである請求項1から4のいずれかに記載のフォ
トブリーチング導波路。
5. The photobleaching waveguide according to claim 1, wherein the thickness of the ultraviolet light absorbing layer is at least 2 μm.
【請求項6】 上記紫外線光吸収層は、屈折率の異なっ
た層が少なくとも2層積層されている請求項1から5の
いずれかに記載のフォトブリーチング導波路。
6. The photobleaching waveguide according to claim 1, wherein said ultraviolet light absorbing layer has at least two layers having different refractive indices laminated.
【請求項7】 上記コア層の光入力端面及び光出力端面
に紫外線光吸収層が形成されている請求項1から6のい
ずれかに記載のフォトブリーチング導波路。
7. The photobleaching waveguide according to claim 1, wherein an ultraviolet light absorbing layer is formed on the light input end face and the light output end face of the core layer.
【請求項8】 上記コア層の光入力端面及び光出力端面
に屈折率の異なる紫外線光吸収層が形成されている請求
項7に記載のフォトブリーチング導波路。
8. The photobleaching waveguide according to claim 7, wherein an ultraviolet light absorbing layer having a different refractive index is formed on the light input end face and the light output end face of the core layer.
【請求項9】 上記コア層の光入力端面及び光出力端面
は光軸に対して斜めに形成されている請求項1から8の
いずれかに記載のフォトブリーチング導波路。
9. The photobleaching waveguide according to claim 1, wherein the light input end face and the light output end face of the core layer are formed obliquely with respect to an optical axis.
【請求項10】 上記基板の表面、裏面、あるいは中に
電子回路、電子部品、光部品のうち少なくとも1個が設
けられている請求項1から9のいずれかに記載のフォト
ブリーチング導波路。
10. The photobleaching waveguide according to claim 1, wherein at least one of an electronic circuit, an electronic component, and an optical component is provided on a front surface, a back surface, or inside the substrate.
【請求項11】 上記コア層及び上記側面クラッド層の
上に形成された紫外線光吸収層の上に、他のフォトブリ
ーチング用ポリマ層からなるコア層、側面クラッド層及
び紫外線光吸収層が少なくとも1層以上積層されている
請求項1から10のいずれかに記載のフォトブリーチン
グ導波路。
11. An ultraviolet light absorbing layer formed on the core layer and the side cladding layer, at least a core layer, a side cladding layer, and an ultraviolet light absorbing layer made of another photobleaching polymer layer. The photobleaching waveguide according to any one of claims 1 to 10, wherein one or more layers are stacked.
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