JP2001296330A - Electronic apparatus equipped with disconnection- position detection function and detection method for disconnection position - Google Patents

Electronic apparatus equipped with disconnection- position detection function and detection method for disconnection position

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JP2001296330A
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修一 亀山
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文男 大野
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浩之 舘
Takeshi Yanase
剛 柳瀬
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a detection method, for a disconnection position, in which the operating efficiency of a disconnection detection is enhanced and in which excessive wastes can be reduced by a method wherein the disconnection position across chips in which interconnections are connected in a one-to-one manner is detected without directly bringing a probe into contact with a wiring pattern. SOLUTION: The electronic apparatus is constituted by electrically connecting at least two semiconductor chips 1, 2. At least one semiconductor chip from among the semiconductor chips 1, 2 is provided with a high-impedance controllable driver 4, a receiver 5 used to receive a signal transmitted from the driver 4 and a pull-up resistance 6 used to pull up the level of the signal transmitted from the driver 4. The signal which is output from the driver 4 is high-impednace-controlled, and the level of the signal which is pulled up and transmitted is detected. The disconnection position of an electric connection across the semiconductor chips 1, 2 is detected. The disconnection position across the semiconductor chips 1, 2 can be detected without directly bringing the probe into contact with the wiring pattern, the operating efficiency of the disconnection inspection can be enhanced, and the excessive wastes can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、断線位置検出機能
を備えた電子機器及び断線位置検出方法に関し、例えば
マルチチップモジュール(multi chip module,以下MCM
と称する)等の少なくとも2つの電子部品が電気的に接
続されて構成された電子機器、特に、電子部品の配線同
士が1対1で接続されている電子機器に適用して好適で
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic device having a disconnection position detecting function and a disconnection position detecting method, for example, a multi-chip module (MCM).
This is suitable for an electronic device in which at least two electronic components are electrically connected, such as an electronic device in which wiring of the electronic components is connected one-to-one.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年における電子機器の高速化、小型化
に伴い、BGA(ball grid array)やMCM等の利用
が拡大され、更にプリント基板のビルドアップ化も進ん
でいる。このため、これらの電子機器を検査する場合、
直接半導体チップのリードや配線パターンにテストプロ
ーブを当てて検査を行うことが困難になってきている。
2. Description of the Related Art With the recent increase in speed and miniaturization of electronic devices, the use of BGA (ball grid array), MCM, and the like has been expanded, and the build-up of printed circuit boards has also been progressing. Therefore, when inspecting these electronic devices,
It is becoming difficult to perform inspection by directly applying a test probe to a lead or a wiring pattern of a semiconductor chip.

【0003】部品実装後の断線不良は、配線パターンに
接続されたチップのデバイスピン近傍における断線が多
く、配線パターン自体が断線することはほとんどない。
従って、デバイスピン近傍の断線を調べればほとんどの
断線を検出することができる。
[0003] Disconnection failure after component mounting is often caused in the vicinity of device pins of a chip connected to the wiring pattern, and the wiring pattern itself rarely breaks.
Therefore, almost any disconnection can be detected by checking the disconnection near the device pin.

【0004】しかし、例えばBGA等のチップでは、ハ
ンダブリッジのように配線がショートしている場合には
X線を利用した外観検査装置等によってこれを検出する
ことは可能であるが、配線の断線を検出することはでき
なかった。また、BGAなどのデバイス同士の配線パタ
ーンでは、デバイスピンがチップの裏に隠れてしまうた
め、直接テストプローブを当てることもできなかった。
従って、リードの断線を検出することができなかった。
However, in the case of a chip such as a BGA, if the wiring is short-circuited like a solder bridge, it can be detected by a visual inspection device or the like using X-rays. Could not be detected. In a wiring pattern between devices such as a BGA, a device probe is hidden behind a chip, so that a test probe cannot be directly applied.
Therefore, the disconnection of the lead could not be detected.

【0005】このため、近時においてはLSIの中にバ
ウンダリスキャン等のテスト機能を組み込むことによ
り、テストプローブを直接当てなくても断線自体の検出
を行う方法が用いられるようになってきた。この方法
は、電気的に断線を調べる方法として用いられている方
法であって、チップの中にバウンダリスキャン回路等の
テスト機能を組み込むことにより、直接デバイスピンや
配線パターンにテストプローブを接触させずにチップ間
の断線を検出するようにしたものである。
For this reason, recently, a method of detecting a disconnection itself without directly applying a test probe by incorporating a test function such as a boundary scan into an LSI has come to be used. This method is used as a method for electrically checking for disconnection.By incorporating a test function such as a boundary scan circuit in a chip, it is possible to prevent a test probe from directly contacting device pins and wiring patterns. In this example, a disconnection between chips is detected.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、バウン
ダリスキャンテスト等のテスト機能を利用した場合であ
っても、配線の断線の有無は検出できるものの、断線位
置まで検出することはできなかった。
However, even when a test function such as a boundary scan test is used, it is possible to detect the presence / absence of disconnection of the wiring, but not to the position of the disconnection.

【0007】バウンダリスキャンテストでは、信号の受
け渡しのみで断線検出を行うため、配線同士が1対nの
接続の場合では、送信側:受信側=1:nの関係でデー
タを送り、その結果、受信側で受けた全てのデータが送
信された元のデータと異なれば送信側の断線と検出でき
る。一方、受信側の数本のデバイスピンにおける受信結
果が元のデータと異なれば、その異なった結果が検出さ
れた受信側のデバイスピンが断線していると検出でき
る。
In the boundary scan test, disconnection detection is performed only by passing a signal. Therefore, when the wires are connected one to n, data is transmitted in a transmission side: reception side = 1: n relationship. If all data received on the receiving side is different from the original data transmitted, it can be detected as a disconnection on the transmitting side. On the other hand, if the reception results at the several device pins on the receiving side are different from the original data, it can be detected that the device pins on the receiving side where the different results have been detected are disconnected.

【0008】しかし、配線が1対1に接続されている場
合は、パターン上にテストプローブを立てない限りどち
ら側のデバイスピンが断線しているかは検出できない。
このため、BGAのチップ同士を接続した場合等には、
断線自体を検出できても、どちら側で断線が発生してい
るかが判別できないため、修理のとき問題のないチップ
まで付け直してしまう虞があった。
However, when the wiring is connected one-to-one, it is not possible to detect which device pin is disconnected unless a test probe is set on the pattern.
Therefore, when BGA chips are connected to each other,
Even if the disconnection itself can be detected, it is not possible to determine on which side the disconnection has occurred. Therefore, there is a possibility that a chip having no problem may be reattached at the time of repair.

【0009】また、修理を行う場合においても、チップ
の取り外し、実装には非常に高度な技術が要求され、付
け直しでのミスが発生する確率が高くなる。これによ
り、修理した後に発生する不良も増加し、部品や基板が
使用不可能な状態に陥るという問題が生じていた。特
に、大型コンピュータに使用されているMCM等は、搭
載されるチップ1個あたりの値段が非常に高額なもので
あるため、過剰な廃棄品を出すことはできない。しか
も、BGAなどのデバイスではチップの付け直しを複数
回行うことはできなかった。
[0009] Even in the case of repair, a very advanced technique is required for removing and mounting the chip, and the probability of a mistake in reattachment increases. As a result, the number of defects that occur after the repair increases, and there has been a problem that components and substrates are put into an unusable state. In particular, MCMs and the like used in large-sized computers have a very high price per mounted chip, so that excessive waste products cannot be produced. Moreover, in a device such as a BGA, reattachment of a chip cannot be performed a plurality of times.

【0010】本発明は、このような問題を解決するため
に成されたものであり、配線に直接プローブを当てるこ
となく、配線が1対1で接続された電子部品間における
断線位置を検出できるようにすることにより、作業効率
を向上させ、過剰廃棄品の削減を達成することを目的と
する。
The present invention has been made to solve such a problem, and can detect a disconnection position between electronic parts connected one-to-one without directly applying a probe to the wiring. By doing so, it is an object to improve work efficiency and to reduce excess waste.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の断線位置検出機
能を備えた電子機器は、少なくとも2つの電子部品が電
気的に接続されて構成された電子機器であって、前記電
子部品の少なくとも1つが、ハイインピーダンス制御可
能な送信手段と、前記送信手段から送信された信号を受
信する受信手段と、前記送信手段から送信された信号の
レベルをプルアップ又はプルダウンして遷移させるプル
アップ手段又はプルダウン手段とを備え、前記送信手段
から送信された信号をハイインピーダンス制御し、前記
受信手段で受信した信号のレベル遷移に応じて前記電子
部品間の電気的接続の断線位置を検出するようにしてい
る。
According to the present invention, there is provided an electronic apparatus having a disconnection position detecting function, wherein at least two electronic parts are electrically connected to each other. One is high impedance controllable transmitting means, receiving means for receiving a signal transmitted from the transmitting means, and pull-up means or pull-down means for making a transition by pulling up or pulling down the level of the signal transmitted from the transmitting means. And a high-impedance control of a signal transmitted from the transmitting means, and detecting a disconnection position of an electrical connection between the electronic components according to a level transition of a signal received by the receiving means. .

【0012】本発明の断線位置検出方法は、少なくとも
2つの電子部品が電気的に接続されて構成された電子機
器における当該電気的接続部位の断線位置を検出する方
法であって、特定の電子部品から信号を出力するととも
に当該信号をハイインピーダンス制御する第1のステッ
プと、前記信号のレベルをプルアップ又はプルダウンに
より遷移させる第2のステップと、前記特定の電子部品
において前記信号のレベルの遷移状態を検出することに
より断線位置を検出する第3のステップとを有する。
A disconnection position detecting method according to the present invention is a method for detecting a disconnection position of an electrically connected portion in an electronic device configured by electrically connecting at least two electronic components. A first step of outputting a signal from the controller and controlling the signal to high impedance, a second step of transitioning the level of the signal by pull-up or pull-down, and a transition state of the level of the signal in the specific electronic component And a third step of detecting a disconnection position by detecting

【0013】[0013]

【作用】本発明は上記技術手段より成るので、送信手段
によりハイインピーダンス制御した信号をプルアップし
て受信手段で検出すると、断線位置の違いにより送信手
段に接続された配線パターン、配線リードの静電容量が
異なるため、受信手段においては断線位置に応じた信号
の遷移状態が検出されることとなる。従って、遷移状態
を検出することによって断線位置を特定することが可能
となる。
Since the present invention comprises the above technical means, when the signal subjected to the high impedance control by the transmitting means is pulled up and detected by the receiving means, the static of the wiring pattern and the wiring lead connected to the transmitting means due to the difference in the disconnection position. Since the capacitances are different, the receiving means detects the transition state of the signal according to the disconnection position. Therefore, the disconnection position can be specified by detecting the transition state.

【0014】また、本発明は上記技術手段より成るの
で、バウンダリスキャンのアップデートステート時にデ
ータの送信が行われ、キャプチャーステート時にデータ
の受信が行われることとなる。従って、バウンダリスキ
ャンによる一連の動作で複数の接続箇所における断線位
置の検出が可能となるとともに、バウンダリスキャンに
よって断線の有無を検出した後、断線が生じている箇所
のみで断線位置検出を行うことも可能となる。
Further, since the present invention comprises the above technical means, data is transmitted in the update state of the boundary scan, and data is received in the capture state. Therefore, it is possible to detect the disconnection position at a plurality of connection points by a series of operations by the boundary scan, and it is also possible to detect the presence or absence of the disconnection by the boundary scan, and then perform the disconnection position detection only at the location where the disconnection occurs. It becomes possible.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、本発明
の第1の実施形態について図面を参照しながら説明す
る。図1は、本実施形態に係るMCMの半導体装置を示
す模式図である。この半導体装置では、基板3上に少な
くとも2つの半導体チップ1,2が配置されている。基
板3上には導電薄膜から成る配線パターン3aが形成さ
れており、半導体チップ1,2は配線パターン3aを介
して電気的に接続されている。なお、図1において、各
半導体チップ1,2に形成された回路(ドライバ4、レ
シーバ5、抵抗6)等は、便宜上回路ブロックの状態で
示している。
(First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing an MCM semiconductor device according to the present embodiment. In this semiconductor device, at least two semiconductor chips 1 and 2 are arranged on a substrate 3. A wiring pattern 3a made of a conductive thin film is formed on the substrate 3, and the semiconductor chips 1 and 2 are electrically connected via the wiring pattern 3a. In FIG. 1, circuits (drivers 4, receivers 5, resistors 6) and the like formed on each of the semiconductor chips 1 and 2 are shown as circuit blocks for convenience.

【0016】半導体チップ1の外周には図示しない複数
のデバイスピン(電極パッド)が設けられており、電極
パッドは半導体チップ1内でドライバ4、レシーバ5、
プルアップ抵抗6等の各素子と電気的に接続されてい
る。同様に、半導体チップ2の外周にも複数のデバイス
ピンが設けられており、ここでは図示を省略するが、半
導体チップ2のデバイスピンは、半導体チップ1で形成
されたレシーバ4または、半導体チップ1と同様な素子
に接続されている。ドライバ4はハイインピーダンス制
御が可能なドライバであり、レシーバ5はドライバ4か
らの信号を検出可能な構成とされている。
A plurality of device pins (electrode pads) (not shown) are provided on the outer periphery of the semiconductor chip 1.
It is electrically connected to each element such as the pull-up resistor 6. Similarly, a plurality of device pins are also provided on the outer periphery of the semiconductor chip 2, and although not shown here, the device pins of the semiconductor chip 2 are the receiver 4 formed by the semiconductor chip 1 or the semiconductor chip 1. Are connected to the same element as the above. The driver 4 is a driver capable of high impedance control, and the receiver 5 is configured to detect a signal from the driver 4.

【0017】半導体チップ1の電極パッドと基板3の配
線パターン3aとはリード7を介して電気的に接続さ
れ、半導体チップ2の電極パッドと基板3の配線パター
ン3aとはリード8を介して電気的に接続され、これに
より上述したように配線パターン3aを介して各半導体
チップ1,2が接続されている。BGAの場合は、半導
体チップ1,2の裏面に形成された電極パッドと配線パ
ターン3aとが金属バンプ等を介して接続されることに
なる。
The electrode pads of the semiconductor chip 1 and the wiring patterns 3a of the substrate 3 are electrically connected via leads 7, and the electrode pads of the semiconductor chip 2 and the wiring patterns 3a of the substrate 3 are electrically connected via the leads 8. The semiconductor chips 1 and 2 are thus connected via the wiring pattern 3a as described above. In the case of the BGA, the electrode pads formed on the back surfaces of the semiconductor chips 1 and 2 and the wiring patterns 3a are connected via metal bumps or the like.

【0018】ここで、図1ではリード7,8と配線パタ
ーン3aとの接続に不良が生じた状態を示している。図
1(a)はリード8と配線パターン3aとの接続が不良
となった状態を示しており、図1(b)はリード7と配
線パターン3aとの接続が不良となった状態を示してい
る。このように、半導体チップ1,2の接続状態に不良
が生じた場合には、半導体装置の正常な機能が損なわれ
るため、不良部分を特定して補修する必要が生じる。
FIG. 1 shows a state in which a defect has occurred in the connection between the leads 7, 8 and the wiring pattern 3a. FIG. 1A shows a state in which the connection between the lead 8 and the wiring pattern 3a is defective, and FIG. 1B shows a state in which the connection between the lead 7 and the wiring pattern 3a is defective. I have. As described above, when a failure occurs in the connection state of the semiconductor chips 1 and 2, the normal function of the semiconductor device is impaired, and it is necessary to identify and repair the defective portion.

【0019】以下、半導体チップ1に設けたドライバ
4、レシーバ5、プルアップ抵抗6の各素子を用いて配
線パターン3aとリード7、リード8の接続状態を検出
する方法を説明する。図2は、ドライバ4から送信した
信号をレシーバ5で受信した際の信号波形を示すタイミ
ングチャートである。図2を参照しながら、プルアップ
による断線位置の検出について説明する。
Hereinafter, a method of detecting the connection state between the wiring pattern 3a and the leads 7 and 8 using the elements of the driver 4, the receiver 5, and the pull-up resistor 6 provided on the semiconductor chip 1 will be described. FIG. 2 is a timing chart showing a signal waveform when a signal transmitted from the driver 4 is received by the receiver 5. The detection of the disconnection position by pull-up will be described with reference to FIG.

【0020】半導体チップ1に形成されたドライバ4
は、当初Lowレベルの信号を配線パターン3aに向か
って送信し、図2に示すようにレシーバ5において当該
Lowレベルの信号が検出される。そして、図2に示す
時刻t0からドライバ4のハイインピーダンス制御を行
う。
Driver 4 formed on semiconductor chip 1
Transmits a low-level signal toward the wiring pattern 3a, and the low-level signal is detected in the receiver 5 as shown in FIG. Then, the high impedance control of the driver 4 from the time t 0 shown in FIG.

【0021】これにより、レシーバ5においてプルアッ
プによる信号波形の遷移を測定することができる。そし
て、所定時間を経過すると、レシーバ5で検出された信
号は、プルアップによりHiレベルに到達し、定常状態
となる。
Thus, the transition of the signal waveform due to the pull-up can be measured in the receiver 5. Then, after a lapse of a predetermined time, the signal detected by the receiver 5 reaches the Hi level by pull-up and enters a steady state.

【0022】ここで、図2に示す実線は、図1(b)に
示すように半導体チップ1に近い側のリード7と配線パ
ターン3aの接続が不良の場合の信号の遷移を示してい
る。この時の遷移波形の時定数は、τ1=C1×Rであ
る。また、破線は、図1(a)に示すように半導体チッ
プ1に遠い側のリード8と配線パターン3aの接続が不
良の場合の信号の遷移を示している。この時の遷移波形
の時定数は、τ2=(C1+CP)×Rである。
Here, the solid line shown in FIG. 2 indicates a signal transition when the connection between the lead 7 near the semiconductor chip 1 and the wiring pattern 3a is defective, as shown in FIG. 1B. The time constant of the transition waveform at this time is τ 1 = C 1 × R. Further, the broken line indicates a signal transition when the connection between the lead 8 far from the semiconductor chip 1 and the wiring pattern 3a is defective as shown in FIG. The time constant of the transition waveform at this time is τ 2 = (C 1 + C P ) × R.

【0023】このように信号の遷移の状態に差が生じる
のは、リード7の接続が不良である場合と、リード8の
接続が不良である場合とで配線の静電容量に差が生じる
ためである。すなわち、図1(b)に示すようにリード
7と配線パターン3aの接続が不良の場合には、ドライ
バ4から半導体チップ2へ向かう配線のうち、配線パタ
ーン3aが含まれないため、静電容量が比較的小さくな
るが、図1(a)に示すようにリード8と配線パターン
3aの接続が不良の場合には、図1(b)の場合と比較
すると配線パターン3aの静電容量が加算されるためで
ある。
The reason for the difference between the signal transition states is that the capacitance of the wiring is different between the case where the connection of the lead 7 is defective and the case where the connection of the lead 8 is defective. It is. That is, as shown in FIG. 1B, when the connection between the lead 7 and the wiring pattern 3a is defective, the wiring pattern 3a is not included in the wiring from the driver 4 to the semiconductor chip 2, so that the capacitance is small. Is relatively small, but as shown in FIG. 1A, when the connection between the lead 8 and the wiring pattern 3a is defective, the capacitance of the wiring pattern 3a is added as compared with the case of FIG. 1B. That is because

【0024】すなわち、半導体チップ1内のプルアップ
抵抗6の抵抗値をRとすれば、観測点近傍すなわち半導
体チップ1側のリード7が断線している場合には、スレ
ッショルドレベルに達する時間は半導体チップ1内部の
静電容量C1だけに影響を受けることとなる。この場合
の時定数をτ1で表す。
That is, assuming that the resistance value of the pull-up resistor 6 in the semiconductor chip 1 is R, when the lead 7 near the observation point, that is, the lead 7 on the semiconductor chip 1 side is disconnected, the time to reach the threshold level is equal to the semiconductor. the affected only the capacitance C 1 of the chip 1. The time constant in this case represented by tau 1.

【0025】一方、観測点から遠方の断線、すなわち半
導体チップ2側のリード8が断線している場合には、ス
レッショルドレベルに達する時間は基板3の配線パター
ン3aの静電容量CPの影響をも受けることとなる。こ
の場合の時定数をτ2で表す。
On the other hand, remote disconnection from the observation point, i.e., when the semiconductor chip 2 side of the lead 8 is broken, the time to reach the threshold level the influence of the capacitance C P of the wiring patterns 3a of the substrate 3 Will also receive. The time constant in this case is represented by τ 2 .

【0026】従って、時定数τ1、τ2は以下の式で表さ
れる。 τ1=C1×R τ2=(C1+CP)×R
Accordingly, the time constants τ 1 and τ 2 are represented by the following equations. τ 1 = C 1 × R τ 2 = (C 1 + C P ) × R

【0027】この時定数が大きいほど、遷移時間に遅延
が発生する。従って、観測点近傍の断線の方がスレッシ
ョルドレベルまで速く遷移し、観測点から遠方の断線の
方が遅く遷移する。これにより、図2中に実線と破線で
示したような遷移差を検出することができ、リード7、
リード8のどちら側が断線しているかを識別できるよう
になる。
The larger the time constant is, the more the transition time is delayed. Therefore, a disconnection near the observation point makes a faster transition to the threshold level, and a disconnection far from the observation point makes a slower transition. This makes it possible to detect the transition difference as shown by the solid line and the broken line in FIG.
It becomes possible to identify which side of the lead 8 is disconnected.

【0028】遷移状態の差を検出する方法としては、主
として以下の2通りの方法を用いることができる。
As a method for detecting the difference between the transition states, the following two methods can be mainly used.

【0029】第1の方法は、図2(a)に示すように所
定のスレッショルドレベル(図2(a)中の一点鎖線)
を設定し、ハイインピーダンス制御を開始してからスレ
ッショルドレベルに到達するまでの時間を検出すること
により、断線位置を特定する方法である。図2(a)の
例では、リード7が導通不良の場合には、レシーバ5で
受信する信号の遷移が実線で示す状態となり、スレッシ
ョルド電圧に到達する時刻はt1となる。一方、リード
8が導通不良の場合には、レシーバ5の受信信号の遷移
は破線で示す状態となり、スレッショルド電圧に到達す
る時間はt2となる。そして、ハイインピーダンス制御
を開始した時刻t0から時刻t1,t2に到達するまでの
時間を予め定めておいた所定のしきい値と比較すること
により、断線位置の特定を行うことができる。
In the first method, as shown in FIG. 2A, a predetermined threshold level (dotted line in FIG. 2A)
Is set, and the time from when the high-impedance control is started to when the threshold level is reached is detected, thereby specifying the disconnection position. In the example of FIG. 2 (a), when the lead 7 is defective conduction, the transition of the signal received by the receiver 5, the state shown by the solid line, the time to reach the threshold voltage becomes t 1. On the other hand, if the lead 8 is defective conduction, the transition of the received signal of the receiver 5, the state shown by the broken line, the time to reach the threshold voltage becomes t 2. Then, by comparing the time from the time t 0 when the high impedance control is started to the time t 1 or t 2 to the predetermined threshold value, the disconnection position can be specified. .

【0030】第2の方法は、ハイインピーダンス制御を
開始した後、所定時間後における信号の値を検出する方
法である。図2(b)に示すように、ハイインピーダン
ス制御を開始した後、時刻t3が経過した後には、リー
ド7が導通不良の場合にはレシーバ5の受信信号のレベ
ルがv1となり、リード8が導通不良の場合にはv2とな
る。従って、時刻t3における信号値v1、v2を予め定
めておいた所定のしきい値と比較することにより、断線
位置の特定を行うことができる。時刻t3の設定は、例
えば図1に示すようにフリップフロップ回路10をレシ
ーバに接続しておき、フリップフロップ回路10に入力
するクロックのタイミングによって設定することができ
る。
The second method is a method of detecting a signal value a predetermined time after starting the high impedance control. As shown in FIG. 2B, after the time t 3 has elapsed after the start of the high impedance control, if the lead 7 has poor conduction, the level of the received signal of the receiver 5 becomes v 1 and the lead 8 but the v 2 in the case of conduction failure. Therefore, the disconnection position can be specified by comparing the signal values v 1 and v 2 at the time t 3 with a predetermined threshold value. The time t 3 can be set by, for example, connecting the flip-flop circuit 10 to a receiver as shown in FIG. 1 and the timing of a clock input to the flip-flop circuit 10.

【0031】なお、上述の第1及び第2の方法におい
て、比較のための所定のしきい値は、良品状態の値を予
め検出することにより得ておくことができる。また、ド
ライバ4から電極パッドまでの距離、配線幅、配線材等
の設計データから予め静電容量C1,CPを求め、これら
のデータから断線時の遷移時間、遷移レベルを予め算出
しておき、実際の観測データと比較するようにしても良
い。
In the first and second methods described above, the predetermined threshold value for comparison can be obtained by detecting the value of the non-defective product in advance. Also, the capacitances C 1 and C P are obtained in advance from design data such as the distance from the driver 4 to the electrode pad, the wiring width, and the wiring material, and the transition time and the transition level at the time of disconnection are calculated in advance from these data. Alternatively, it may be compared with actual observation data.

【0032】遷移時間による断線位置の検出は、プルダ
ウンにより行うことも可能である。図3は、図1に示し
た半導体装置におけるプルアップ抵抗6の代わりにプル
ダウン抵抗9を接続した半導体装置を示しており、プル
ダウン抵抗9以外の構成は図1の半導体装置と同様であ
る。
The detection of the disconnection position based on the transition time can be performed by pull-down. FIG. 3 shows a semiconductor device in which a pull-down resistor 9 is connected instead of the pull-up resistor 6 in the semiconductor device shown in FIG. 1, and the configuration other than the pull-down resistor 9 is the same as that of the semiconductor device of FIG.

【0033】そして、図4は、プルダウン抵抗9を用い
た場合において、レシーバ5で受信した際の信号波形を
示すタイミングチャートである。プルダウン抵抗9を用
いた場合には、ドライバ4から当初Hiレベルの信号を
出力する。そして、時刻t0からハイインピーダンス制
御を行うことにより、ドライバ4からの出力をレシーバ
5で受信した際の信号波形はLowレベルに向かって遷
移し、所定時間の経過後、Lowレベルに到達して定常
状態となる。この場合においても、リード7が断線して
いる場合と、リード8が断線している場合とでは静電容
量の違いにより遷移状態が異なり、図4に示すようにリ
ード7が断線している場合は実線、リード8が断線して
いる場合には破線に示すように信号状態が遷移する。従
って、プルアップ抵抗6を用いた場合と同様に、所定の
スレッショルドレベル(図4中に示す一点鎖線)に到達
するまでの時間を検出することにより、あるいは所定時
間経過後における信号のレベル値を検出することによ
り、遷移状態を識別して断線位置を特定することが可能
となる。
FIG. 4 is a timing chart showing signal waveforms received by the receiver 5 when the pull-down resistor 9 is used. When the pull-down resistor 9 is used, a Hi-level signal is initially output from the driver 4. Then, by performing the high impedance control from the time t 0, the signal waveform when the output from the driver 4 is received by the receiver 5 transitions toward the Low level, and after a predetermined time elapses, the signal waveform reaches the Low level. It becomes a steady state. Also in this case, the transition state differs depending on the capacitance between the case where the lead 7 is disconnected and the case where the lead 8 is disconnected, and the case where the lead 7 is disconnected as shown in FIG. Indicates a solid line, and if the lead 8 is disconnected, the signal state changes as indicated by a broken line. Therefore, similarly to the case where the pull-up resistor 6 is used, the time until the predetermined threshold level (the one-dot chain line shown in FIG. 4) is reached is detected, or the level value of the signal after the predetermined time has elapsed is detected. By detecting, it is possible to identify the transition state and specify the disconnection position.

【0034】以上説明したように、本発明の第1の実施
形態によれば、各半導体チップ1,2の回路構成として
ハイインピーダンス制御可能なドライバ4と、ドライバ
4が発生させた信号を受信可能なレシーバ5と、プルア
ップ抵抗6(プルダウン抵抗9)とを設けたため、特に
図1の半導体チップ1と半導体チップ2のように、配線
同士が1対1で接続されているような場合でも、ハイイ
ンピーダンス制御後の遷移をレシーバ5で測定し、断線
位置の違いにより遷移時間、レベル差を検出することが
できるため、配線パターン3aやリード7,8に直接プ
ローブを当てることなく、断線の発生の有無のみならず
断線の位置までも詳細に検出することが可能となる。こ
のように、プローブを当てる必要がないことから、BG
Aのようにテストプローブを直接当てることが物理的に
不可能なデバイスについても断線位置の検出を行うこと
ができる。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, the driver 4 capable of high impedance control as the circuit configuration of each of the semiconductor chips 1 and 2 and the signal generated by the driver 4 can be received. Since the receiver 5 and the pull-up resistor 6 (pull-down resistor 9) are provided, even when the wires are connected one-to-one as in the semiconductor chip 1 and the semiconductor chip 2 in FIG. The transition after the high impedance control is measured by the receiver 5, and the transition time and the level difference can be detected based on the difference in the disconnection position. Therefore, the disconnection can be generated without directly applying the probe to the wiring pattern 3a or the leads 7, 8. It is possible to detect not only the presence / absence but also the position of the disconnection in detail. Since there is no need to apply a probe,
A disconnection position can be detected even for a device such as A that cannot be directly applied to the test probe physically.

【0035】(第2の実施形態)次に、図5〜図8を参
照しながら、本発明の第2の実施形態について説明す
る。図5は、本発明の第2の実施形態の半導体装置を示
す模式図である。第2の実施形態では、第1の実施形態
で説明した半導体装置及び断線検出方法をバウンダリス
キャン機能を備えた半導体装置に適用し、バウンダリス
キャンを利用して断線の有無及び断線位置を検出するよ
うにしたものである。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a schematic diagram showing a semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the semiconductor device and the disconnection detection method described in the first embodiment are applied to a semiconductor device having a boundary scan function, and the presence or absence of a disconnection and the position of the disconnection are detected using the boundary scan. It was made.

【0036】先ず、図5を参照しながら、バウンダリス
キャンの概要について説明する。図5は、バウンダリス
キャンレジスタを備えた半導体装置を示しており、基板
23上に少なくとも2つの半導体チップ21,22が配
置されたものである。第1の実施形態と同様、半導体チ
ップ21と半導体チップ22は基板23上に形成された
配線パターン及びリードによって電気的に接続されてい
る。各半導体チップ21,22間の接続の状態及び断線
が発生した場合のリード及び配線パターンの状態は図1
に示したものと同様であるため、ここでは図示を省略す
る。
First, the outline of the boundary scan will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows a semiconductor device provided with a boundary scan register, in which at least two semiconductor chips 21 and 22 are arranged on a substrate 23. As in the first embodiment, the semiconductor chip 21 and the semiconductor chip 22 are electrically connected by wiring patterns and leads formed on the substrate 23. FIG. 1 shows the state of connection between the semiconductor chips 21 and 22 and the state of leads and wiring patterns when a disconnection occurs.
Are omitted here because they are the same as those shown in FIG.

【0037】各半導体チップ21,22は、内部ロジッ
ク21a,22aをそれぞれ備え、外周部には複数のデ
バイスピン21c,22cが設けられている。内部ロジ
ック21a,22aと各デバイスピン21c,22cと
の間には、バウンダリスキャンレジスタセル群21b,
22bがそれぞれ配置されている。バウンダリスキャン
レジスタセル群21b,22bは、個々のデバイスピン
21c,22cと接続された複数のバウンダリスキャン
レジスタセルから成り、図5に示すように、バウンダリ
スキャンレジスタセルが一連に接続されてバウンダリス
キャンレジスタセル群21b,22bを構成している。
より具体的には、個々のバウンダリスキャンレジスタセ
ルは、隣接するセル間でデータをシフトさせるためのシ
フトレジスタと、データを保持するラッチとを備えてい
る。
Each of the semiconductor chips 21 and 22 includes internal logics 21a and 22a, respectively, and a plurality of device pins 21c and 22c are provided on an outer peripheral portion. Between the internal logics 21a and 22a and the device pins 21c and 22c, a boundary scan register cell group 21b,
22b are arranged respectively. Each of the boundary scan register cell groups 21b and 22b is composed of a plurality of boundary scan register cells connected to individual device pins 21c and 22c. As shown in FIG. 5, the boundary scan register cells are connected in series to form the boundary scan register cells. The cell groups 21b and 22b are configured.
More specifically, each boundary scan register cell includes a shift register for shifting data between adjacent cells, and a latch for holding data.

【0038】セルへの入力がデバイスピン21cあるい
は22cに接続され、出力が内部ロジック21aあるい
は22aに接続されたセルが入力セル、セルへの入力が
内部ロジック21aあるいは22aに接続され、出力が
デバイスピン21cあるいは22cに接続されたセルが
出力セルとなるが、本実施形態のバウンダリスキャンレ
ジスタセルは、入力セルと出力セル双方の機能を備えた
ものである。そして、出力セルが第1の実施形態で説明
したドライバ4の機能を、入力セルがレシーバ5の機能
を保有している。また、各バウンダリスキャンレジスタ
セルは第1の実施形態で説明したプルアップ抵抗6も備
えている。
A cell whose input is connected to the device pin 21c or 22c, whose output is connected to the internal logic 21a or 22a is an input cell, whose input is connected to the internal logic 21a or 22a, and whose output is the device The cell connected to the pin 21c or 22c is the output cell. The boundary scan register cell of the present embodiment has the functions of both the input cell and the output cell. The output cell has the function of the driver 4 described in the first embodiment, and the input cell has the function of the receiver 5. Each boundary scan register cell also includes the pull-up resistor 6 described in the first embodiment.

【0039】そして、各半導体チップ21、22は、T
APコントローラ21d,22dを備えている。TAP
コントローラ21d,22dは、インストラクションレ
ジスタとデータレジスタへのデータビットの流れをコン
トロールするテストモードセレクタ(TMS)信号及び
テストクロックであるTCK信号の入力によってプログ
ラミングされる16ステートマシンである。
Each of the semiconductor chips 21 and 22 has T
AP controllers 21d and 22d are provided. TAP
The controllers 21d and 22d are 16-state machines programmed by input of a test mode selector (TMS) signal for controlling the flow of data bits to an instruction register and a data register and a TCK signal which is a test clock.

【0040】TAPコントローラ21d,22dの動作
の概要は以下の通りである。TAPコントローラ21
d,22dは複数のステートに従って動作が遷移する。
遷移するかしないかは、TCK信号の立ち上がりエッジ
時のTMS信号の値によって決定される。複数のステー
トのうち、特にキャプチャーステート(Capture-DR)、
シフトステート(Sift-DR)、アップデイトステート(U
pdate-DR)の動作が重要である。以下、主要ステートの
概略について説明する。
The outline of the operation of the TAP controllers 21d and 22d is as follows. TAP controller 21
The operations of d and 22d transition according to a plurality of states.
Whether or not to make a transition is determined by the value of the TMS signal at the rising edge of the TCK signal. Among the multiple states, the capture state (Capture-DR),
Shift state (Sift-DR), update state (U
The operation of pdate-DR) is important. Hereinafter, an outline of the main states will be described.

【0041】キャプチャーステートでは、入力からシフ
トレジスタへデータを獲得する動作を行う。図5におい
て、半導体チップ22を受信側、半導体チップ21を送
信側とし、半導体チップ22の特定のバウンダリスキャ
ンレジスタセル22eが選択されているときに、キャプ
チャーステートを通過すると、バウンダリスキャンレジ
スタセル22eに接続されたデバイスピン22cの状態
が取り込まれることにより、半導体チップ21側から送
信された状態がバウンダリスキャンレジスタセル22e
に設定される。
In the capture state, an operation of acquiring data from the input to the shift register is performed. In FIG. 5, when the semiconductor chip 22 is on the receiving side and the semiconductor chip 21 is on the transmitting side, and when a specific boundary scan register cell 22e of the semiconductor chip 22 is selected, when passing through the capture state, the boundary scan register cell 22e becomes By taking in the state of the connected device pin 22c, the state transmitted from the semiconductor chip 21 is changed to the boundary scan register cell 22e.
Is set to

【0042】シフトステートでは、バウンダリスキャン
レジスタセル22eの内容がTDO信号ピン22f側に
隣接するバウンダリスキャンレジスタセルへシフト出力
され、新しいデータがTDI信号ピン21g側のバウン
ダリスキャンレジスタセルからシフト入力される。つま
り、このステートを1回通過すると、TDI信号ピン2
1gとTDO信号ピン22f間に接続されているレジス
タの内容が1ビット分シフトする。
In the shift state, the contents of the boundary scan register cell 22e are shifted and output to the boundary scan register cell adjacent to the TDO signal pin 22f, and new data is shifted and input from the boundary scan register cell on the TDI signal pin 21g side. . That is, once this state is passed, the TDI signal pin 2
The contents of the register connected between 1g and the TDO signal pin 22f are shifted by one bit.

【0043】アップデイトステートでは、バウンダリス
キャンレジスタセル22eの内容がバウンダリスキャン
レジスタセル22eのラッチに固定される。固定された
内容は、実際にセルの出力として現われる。
In the update state, the contents of the boundary scan register cell 22e are fixed to the latch of the boundary scan register cell 22e. The fixed content actually appears as the output of the cell.

【0044】次に、図6を参照しながら、バウンダリス
キャンにおける断線検出方法について説明する。図6
は、レシーバ5の機能を有する入力セルで受信した信号
の遷移波形とバウンダリスキャンのステートを示すタイ
ミングチャートである。ここでは、図5のバウンダリス
キャンレジスタセル21eに対応するデバイスピン21
cに断線が発生しているものとして、バウンダリスキャ
ンレジスタセル21eにおける断線位置の検出を例に挙
げて説明する。
Next, a method for detecting a disconnection in a boundary scan will be described with reference to FIG. FIG.
5 is a timing chart showing transition waveforms of signals received by input cells having the function of the receiver 5 and states of boundary scan. Here, the device pin 21 corresponding to the boundary scan register cell 21e in FIG.
Assuming that a disconnection has occurred in c, detection of a disconnection position in the boundary scan register cell 21e will be described as an example.

【0045】先ず、最初にモードをシフトステートに設
定する。シフトステートでは、バウンダリスキャンレジ
スタセル21eのシフトレジスタの内容がTDO信号ピ
ン21f側にシフト出力され、新しいデータがTDI信
号ピン21g側から入力される。この場合、例えばバウ
ンダリスキャンレジスタセル21eにLowレベルの信
号が設定される。次のイクジット1ステート(Exit1)
では、シフトステートを抜ける動作が行われる。
First, the mode is first set to the shift state. In the shift state, the contents of the shift register of the boundary scan register cell 21e are shifted and output to the TDO signal pin 21f side, and new data is input from the TDI signal pin 21g side. In this case, for example, a Low level signal is set in the boundary scan register cell 21e. Next Exit 1 state (Exit1)
Then, an operation for exiting the shift state is performed.

【0046】次のアップデートステートでは、バウンダ
リスキャンレジスタセル21eの内容がバウンダリスキ
ャンレジスタセル21e内のラッチに固定される。固定
された内容は、実際にバウンダリスキャンレジスタセル
21eから半導体チップ22側への出力として現われ
る。そして、図6に示すように、アップデートステート
におけるTCK信号の立ち下がりから、第1の実施形態
で説明したハイインピーダンス制御を開始する。これに
より、Lowレベルの信号がバウンダリスキャンレジス
タセル21eのプルアップ抵抗6によってHiレベル側
へ遷移する。
In the next update state, the contents of the boundary scan register cell 21e are fixed to the latch in the boundary scan register cell 21e. The fixed content actually appears as an output from the boundary scan register cell 21e to the semiconductor chip 22 side. Then, as shown in FIG. 6, the high impedance control described in the first embodiment is started from the falling of the TCK signal in the update state. As a result, the Low level signal transits to the Hi level side by the pull-up resistor 6 of the boundary scan register cell 21e.

【0047】その後、セレクトステートを経て、キャプ
チャーステートへモードを遷移させる。キャプチャース
テートでは、図6に示すようにTCK信号の立ち上がり
のタイミングでバウンダリスキャンレジスタセル21e
へデータを獲得する動作を行う。具体的には、バウンダ
リスキャンレジスタセル21eが備える入力セルによっ
てデータを獲得する。そして、受信した信号のレベルと
所定のスレッショルドレベル(図6中の一点鎖線)を比
較して、受信した信号のレベルがスレッショルドレベル
よりも大きければ半導体チップ21側のリードで断線が
生じていることが検出でき、スレッショルドレベルより
も小さければ半導体チップ22側のリードで断線が生じ
ていることが検出できる。このように、TCK信号のタ
イミングを速くすることで、観測点近傍の断線の場合に
はスレッショルドレベルより大きい値の信号が検出さ
れ、観測点より遠方側の断線では遷移が遅いため、スレ
ッショルドレベルより小さい値の信号が検出される。従
って、この違いから断線位置を特定することができる。
Thereafter, the mode is shifted to the capture state via the select state. In the capture state, as shown in FIG. 6, the boundary scan register cell 21e is set at the rising edge of the TCK signal.
Perform the operation of acquiring data to Specifically, the data is acquired by the input cells provided in the boundary scan register cell 21e. Then, the level of the received signal is compared with a predetermined threshold level (the one-dot chain line in FIG. 6). If the level of the received signal is higher than the threshold level, disconnection has occurred in the lead on the semiconductor chip 21 side. Can be detected, and if it is smaller than the threshold level, it can be detected that a break has occurred in the lead on the semiconductor chip 22 side. As described above, by increasing the timing of the TCK signal, a signal having a value larger than the threshold level is detected in the case of a disconnection near the observation point, and the transition is slower in a disconnection farther from the observation point. A signal with a small value is detected. Therefore, the disconnection position can be specified from this difference.

【0048】次に、モードをシフトステートへ遷移さ
せ、バウンダリスキャンレジスタセル21eに次のデー
タを入力する。今までのデータは隣接するシフトレジス
タへ転送され、上述した断線検出を隣接セルにおいて行
うことが可能となる。
Next, the mode is shifted to the shift state, and the next data is input to the boundary scan register cell 21e. The data so far is transferred to the adjacent shift register, and the above-described disconnection detection can be performed in the adjacent cell.

【0049】次に、図7を参照しながら、バウンダリス
キャンレジスタを用いて、断線の有無及びショートの有
無を検出する方法の概略について説明する。図7は、半
導体チップ21と半導体チップ22の接続の一部を模式
的に示したものである。ここで説明する断線の有無及び
ショートの有無の検出は、上述の断線位置の検出の前提
として行うものである。
Next, an outline of a method for detecting the presence / absence of a disconnection and the presence / absence of a short circuit using a boundary scan register will be described with reference to FIG. FIG. 7 schematically shows a part of the connection between the semiconductor chip 21 and the semiconductor chip 22. The detection of the presence / absence of a disconnection and the presence / absence of a short-circuit described here are performed on the premise of the detection of the above-described disconnection position.

【0050】先に説明したように、半導体チップ21及
び半導体チップ22は複数のバウウンダリスキャンレジ
スタセルを備えている。そしてバウンダリスキャンレジ
スタセルにはプルアップ抵抗6が設けられている。図7
(a)は半導体チップ21の特定のバウウンダリスキャ
ンレジスタセル21hと半導体チップ22の特定のバウ
ウンダリスキャンレジスタセル22hとの接続状態を示
している。また、図7(b)は半導体チップ21の特定
のバウウンダリスキャンレジスタセル21i,21jと
半導体チップ22の特定のバウウンダリスキャンレジス
タセル22i,22jとの接続状態を示している。そし
て、図7(b)は、隣接する配線パターン3a同士がシ
ョートした状態を示している。
As described above, the semiconductor chip 21 and the semiconductor chip 22 have a plurality of boundary scan register cells. A pull-up resistor 6 is provided in the boundary scan register cell. FIG.
(A) shows a connection state between a specific boundary scan register cell 21h of the semiconductor chip 21 and a specific boundary scan register cell 22h of the semiconductor chip 22. FIG. 7B shows a connection state between specific boundary scan register cells 21i and 21j of the semiconductor chip 21 and specific boundary scan register cells 22i and 22j of the semiconductor chip 22. FIG. 7B shows a state in which adjacent wiring patterns 3a are short-circuited.

【0051】バウンダリスキャンの配線検査における断
線、ショートの検出は、基本的にデバイス間でセル同士
がデータをやり取りし、出力したデータと受け取ったデ
ータを比較することで検査を行う。
The detection of disconnection and short-circuit in the wiring inspection of the boundary scan is basically performed by exchanging data between cells between devices and comparing the output data with the received data.

【0052】データのやり取りは、半導体チップ21の
バウウンダリスキャンレジスタセル21h側から、最初
はLowレベルの信号“0”を出力し、次にHiレベル
の信号“1”を半導体チップ22に向かって出力する。
出力するデータは、あらかじめTDI信号ピンからシリ
アルで入力し、目標のセルにセットしておく。信号の出
力後、半導体チップ22のバウウンダリスキャンレジス
タセル22hではデータを取り込む。その後、取り込ん
だデータをシリアルでシフトしていき、TDO信号ピン
でデータを確認する。
For data exchange, a low level signal "0" is first output from the boundary scan register cell 21h side of the semiconductor chip 21, and then a high level signal "1" is sent to the semiconductor chip 22. Output.
Data to be output is serially input from a TDI signal pin in advance and set in a target cell. After the output of the signal, the boundary scan register cell 22h of the semiconductor chip 22 captures data. Thereafter, the acquired data is serially shifted, and the data is confirmed on the TDO signal pin.

【0053】先ず、図7(a)を参照しながら配線間で
断線(オープン)があった場合について説明する。図7
(a)に示すように、リード7、リード8のいずれの近
傍においても断線が生じていない場合には、図7に示す
ように半導体チップ21から出力したLowレベルの信
号“0”は、半導体チップ22においてLowレベルの
信号“0”として受信される。
First, a case where there is a disconnection (open) between wirings will be described with reference to FIG. FIG.
As shown in FIG. 7A, when no disconnection occurs near any of the leads 7 and 8, the low-level signal “0” output from the semiconductor chip 21 as shown in FIG. The signal is received as a Low level signal “0” in the chip 22.

【0054】一方、半導体チップ21側のリード7又は
8において断線が生じていれば、この場合、バウウンダ
リスキャンレジスタセル21hから“0”が出力されて
いるが、配線がオープンしているため、その信号はバウ
ウンダリスキャンレジスタセル22hには届かない。従
って、バウウンダリスキャンレジスタセル22hは開放
状態になる。ここでは、プルアップ抵抗6によってバウ
ウンダリスキャンレジスタセル22h側がプルアップ状
態とされているため、バウウンダリスキャンレジスタセ
ル22hは出力側がどんな信号を出力したとしても
“1”しか取り込まず変化しない。
On the other hand, if the lead 7 or 8 on the side of the semiconductor chip 21 is disconnected, "0" is output from the boundary scan register cell 21h in this case, but the wiring is open. , Does not reach the boundary scan register cell 22h. Therefore, the boundary scan register cell 22h is opened. Here, since the boundary scan register cell 22h is pulled up by the pull-up resistor 6, the boundary scan register cell 22h receives only "1" and does not change even if the output side outputs any signal. .

【0055】従って、半導体チップ21からLowレベ
ルの信号“0”を発信し、半導体チップ22で受信され
る信号のレベルを検出することにより、断線自体が生じ
ているか否かを検出することができる。そして、上述の
断線位置の具体的な検出は、断線が生じている接続部位
のみで行うことが可能となる。
Therefore, by transmitting a low-level signal "0" from the semiconductor chip 21 and detecting the level of the signal received by the semiconductor chip 22, it is possible to detect whether or not the disconnection itself has occurred. . The specific detection of the disconnection position described above can be performed only at the connection site where the disconnection has occurred.

【0056】次に、図7(b)を参照しながら、ショー
トの有無を検出する方法の概略について説明する。バウ
ウンダリスキャンレジスタセル21i,21j側から、
最初はLowレベルの信号“0”を出力し、次にHiレ
ベルの信号“1”の信号を出力すると、ショートがない
場合には、バウンダリスキャンレジスタセル22iでは
信号“1”が、バウンダリスキャンレジスタセル22j
では信号“0”が受信される。すなわち、2つの隣接す
るバウンダリスキャンレジスタセル22i,22jでは
互いに異なったデータが受信される。
Next, an outline of a method for detecting the presence or absence of a short circuit will be described with reference to FIG. From the boundary scan register cells 21i and 21j,
First, a low-level signal “0” is output, and then a high-level signal “1” is output. When there is no short circuit, the signal “1” is output from the boundary scan register cell 22i to the boundary scan register. Cell 22j
Receives a signal "0". That is, different data is received by two adjacent boundary scan register cells 22i and 22j.

【0057】ところが、配線パターン3a同士がショー
トしている場合には、半導体チップ22のバウウンダリ
スキャンレジスタセル22iでは、本来バウウンダリス
キャンレジスタセル21iからHiレベルの信号“1”
が送信されているにもかかわらず、バウウンダリスキャ
ンレジスタセル21jのLowレベルの信号“0”に引
っ張られてLowレベルの信号“0”が出力される。
However, when the wiring patterns 3a are short-circuited, the boundary scan register cell 22i of the semiconductor chip 22 originally outputs the Hi-level signal "1" from the boundary scan register cell 21i.
Is transmitted, the low-level signal "0" of the boundary scan register cell 21j is pulled to output a low-level signal "0".

【0058】一方、半導体チップ22のバウウンダリス
キャンレジスタセル22jでは、バウウンダリスキャン
レジスタセル21jから出力されたLowレベルの信号
“0”がそのまま出力される。
On the other hand, in the boundary scan register cell 22j of the semiconductor chip 22, the Low level signal "0" output from the boundary scan register cell 21j is output as it is.

【0059】従って、一方の半導体チップ側の隣接する
バウウンダリスキャンレジスタセルから異なったデータ
を出力しているにも関わらず、受信側のバウンダリスキ
ャンレジスタセルが同じデータを取り込んだ場合には、
隣接する2つのバウウンダリスキャンレジスタセルに接
続された配線間でショートが発生していることが検出で
きる。
Therefore, when different data is output from an adjacent boundary scan register cell on one semiconductor chip side, when the boundary scan register cell on the receiving side fetches the same data,
It can be detected that a short circuit has occurred between the wirings connected to two adjacent boundary scan register cells.

【0060】次に、図8のフローチャートを参照しなが
ら、断線位置の検出方法の手順について説明する。
Next, the procedure of a method for detecting a disconnection position will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0061】先ず、ステップS1では、図7で説明した
方法により断線の有無、ショートの有無を検出する。す
なわち、ここでの検出では断線位置の検出までは行わな
い。そして、この結果を受けてステップS2では良品か
否かを判定する。断線、ショートの両方が発生していな
い場合には、良品と判定してステップS4の次工程へ進
む。
First, in step S1, the presence or absence of a disconnection and the presence or absence of a short circuit are detected by the method described with reference to FIG. That is, in this detection, the detection is not performed until the disconnection position is detected. Then, in response to the result, in step S2, it is determined whether or not the product is good. If neither disconnection nor short-circuit has occurred, it is determined to be a non-defective product, and the process proceeds to the next step of step S4.

【0062】ステップS2の判定によって、ショート不
良が生じており、不良品と判定された場合には、ステッ
プS3へ進みショート不良である旨の結果を出力する。
As a result of the determination in step S2, a short-circuit defect has occurred. If it is determined that the product is defective, the process proceeds to step S3, and a result indicating that there is a short-circuit defect is output.

【0063】そして、ステップS2の判定によって、オ
ープン不良が生じており、すなわち断線が発生していて
不良品と判定された場合には、ステップS5へ進み、以
降、本実施形態による断線位置の検出を行う。先ず、ス
テップS5では、ドライバ4からLowレベルの信号を
出力する。
If it is determined in step S2 that an open defect has occurred, that is, if disconnection has occurred and it is determined that the product is defective, the process proceeds to step S5, and thereafter, detection of the disconnection position according to the present embodiment is performed. I do. First, in step S5, a low-level signal is output from the driver 4.

【0064】次に、ステップS6では、アップデートス
テートにおいて、ドライバ4をハイインピーダンス制御
する。次のステップS7では、キャプチャーステートに
おいて、レシーバ5によって図6に示したような出力の
遷移を測定する。
Next, in step S6, the driver 4 is controlled to high impedance in the update state. In the next step S7, the transition of the output as shown in FIG. 6 is measured by the receiver 5 in the capture state.

【0065】次に、ステップS8では、遷移差により断
線位置の検出を行う。遷移動作が速い場合には、観測側
の半導体チップ21近傍の断線と特定する(ステップS
9)。動作速度が遅い場合には、観測側の半導体チップ
21に対して遠方の断線と特定する(ステップS1
0)。
Next, in step S8, the disconnection position is detected based on the transition difference. If the transition operation is fast, it is identified as a disconnection near the semiconductor chip 21 on the observation side (Step S).
9). If the operation speed is slow, it is specified that the disconnection is far from the semiconductor chip 21 on the observation side (step S1).
0).

【0066】以上説明したように、本発明の第2の実施
形態によれば、第1の実施形態の半導体装置及び断線検
出方法をバウンダリスキャンレジスタを備えた半導体装
置に適用することによって、バウンダリスキャンを利用
して断線の有無を検出し、断線が生じている接続箇所の
みで断線位置検出を行うようにすることができる。
As described above, according to the second embodiment of the present invention, by applying the semiconductor device and the disconnection detection method of the first embodiment to a semiconductor device having a boundary scan register, a boundary scan can be performed. Can be used to detect the presence or absence of a disconnection, and the disconnection position can be detected only at the connection point where the disconnection has occurred.

【0067】また、第2の実施形態によれば、バウンダ
リスキャンによって入力側からの信号の送信をシフトレ
ジスタによって順次行うことにより、半導体チップ21
と半導体チップ22の間の各デバイスピンの接続状態を
順次検出することができる。従って、1度の検査で半導
体チップ21と半導体チップ22を接続する複数の配線
の断線位置を検出することが可能となる。
According to the second embodiment, the transmission of signals from the input side is sequentially performed by the shift register by the boundary scan.
The connection state of each device pin between the semiconductor chip 22 and the semiconductor chip 22 can be sequentially detected. Therefore, it is possible to detect the disconnection positions of a plurality of wirings connecting the semiconductor chip 21 and the semiconductor chip 22 in one inspection.

【0068】なお、本発明の特徴をまとめると以下に記
載の通りとなる。
The features of the present invention are summarized as follows.

【0069】(1)少なくとも2つの電子部品が電気的
に接続されて構成された電子機器であって、前記電子部
品の少なくとも1つが、ハイインピーダンス制御可能な
送信手段と、前記送信手段から送信された信号を受信す
る受信手段と、前記送信手段から送信された信号のレベ
ルをプルアップ又はプルダウンして遷移させるプルアッ
プ手段又はプルダウン手段とを備え、前記送信手段から
送信された信号をハイインピーダンス制御し、前記受信
手段で受信した信号のレベル遷移に応じて前記電子部品
間の電気的接続の断線位置を検出するようにしたことを
特徴とする断線位置検出機能を備えた電子機器。
(1) An electronic device in which at least two electronic components are electrically connected, wherein at least one of the electronic components is transmitted from a transmission unit capable of high impedance control and transmitted from the transmission unit. Receiving means for receiving the transmitted signal, and pull-up means or pull-down means for making a transition by pulling up or pulling down the level of the signal transmitted from the transmitting means, and high impedance control of the signal transmitted from the transmitting means. An electronic device having a disconnection position detecting function, wherein a disconnection position of an electrical connection between the electronic components is detected in accordance with a level transition of a signal received by the receiving means.

【0070】(2)前記断線位置の検出は、前記ハイイ
ンピーダンス制御の開始時から前記受信手段での受信信
号のレベルが所定のしきい値に到達するまでの時間を検
出することによって行うことを特徴とする(1)に記載
の断線位置検出機能を備えた電子機器。
(2) The detection of the disconnection position is performed by detecting the time from the start of the high impedance control until the level of the signal received by the receiving means reaches a predetermined threshold value. An electronic device having the disconnection position detecting function according to (1).

【0071】(3)前記断線位置の検出は、前記ハイイ
ンピーダンス制御の開始時から所定時間経過後における
前記受信手段での受信信号のレベルを検出することによ
って行うことを特徴とする(1)に記載の断線位置検出
機能を備えた電子機器。
(3) The disconnection position is detected by detecting the level of a signal received by the receiving means after a lapse of a predetermined time from the start of the high impedance control. An electronic device provided with the disconnection position detection function described in the above.

【0072】(4)前記受信手段に接続されたフリップ
フロップ回路を更に有し、前記フリップフロップ回路へ
入力されるクロックによって前記所定時間を設定するよ
うにしたことを特徴とする(3)に記載の断線位置検出
機能を備えた電子機器。
(4) The apparatus according to (3), further comprising a flip-flop circuit connected to the receiving means, wherein the predetermined time is set by a clock input to the flip-flop circuit. Electronic equipment equipped with a function to detect the disconnection position.

【0073】(5)前記電子部品がバウンダリスキャン
機能を備えた半導体チップであって、 前記半導体チッ
プの複数のデバイスピンに接続されたそれぞれのバウン
ダリスキャンレジスタセルが前記送信手段、前記受信手
段及び前記プルアップ手段を備え、 はじめのアップデ
ートステート時に前記バウンダリスキャンレジスタセル
に保持させたLレベル信号を前記送信手段で送信すると
ともに次のアップステート時に前記ハイインピーダンス
制御を開始し、TCKクロックサイクルを変更し、キャ
プチャーステート時に前記受信手段で受信した信号のレ
ベルを検出することにより断線位置を検出するようにし
たことを特徴とする(1)に記載の断線位置検出機能を
備えた電子機器。
(5) The electronic component is a semiconductor chip having a boundary scan function, wherein each of the boundary scan register cells connected to a plurality of device pins of the semiconductor chip includes the transmission unit, the reception unit, and the reception unit. A pull-up means for transmitting an L level signal held in the boundary scan register cell in the first update state by the transmitting means, and starting the high impedance control in the next up state, and changing a TCK clock cycle. An electronic device having a disconnection position detecting function according to (1), wherein the disconnection position is detected by detecting the level of a signal received by the receiving means in the capture state.

【0074】(6)少なくとも2つの電子部品が電気的
に接続されて構成された電子機器における当該電気的接
続部位の断線位置を検出する方法であって、特定の電子
部品から信号を出力するとともに当該信号をハイインピ
ーダンス制御する第1のステップと、前記信号のレベル
をプルアップ又はプルダウンにより遷移させる第2のス
テップと、前記特定の電子部品において前記信号のレベ
ルの遷移状態を検出することにより断線位置を検出する
第3のステップとを有することを特徴とする断線位置検
出方法。
(6) A method for detecting a disconnection position of an electrically connected portion in an electronic device configured by electrically connecting at least two electronic components, wherein a signal is output from a specific electronic component and A first step of performing high impedance control on the signal, a second step of transitioning the level of the signal by pull-up or pull-down, and disconnection by detecting a transition state of the level of the signal in the specific electronic component. And a third step of detecting a position.

【0075】(7)前記第3のステップにおける前記断
線位置の検出は、前記ハイインピーダンス制御の開始時
から所定時間経過後の前記信号のレベルを検出すること
によって行うことを特徴とする(6)に記載の断線位置
検出方法。
(7) The detection of the disconnection position in the third step is performed by detecting the level of the signal after a lapse of a predetermined time from the start of the high impedance control (6). 2. The disconnection position detection method described in 1.

【0076】(8)前記第3のステップにおける前記断
線位置の検出は、前記ハイインピーダンス制御の開始時
から前記信号のレベルが所定のしきい値に到達するまで
の時間を検出することによって行うことを特徴とする
(6)に記載の断線位置検出方法。
(8) The detection of the disconnection position in the third step is performed by detecting a time from the start of the high impedance control until the signal level reaches a predetermined threshold value. (6) The disconnection position detection method according to (6).

【0077】(9)良品状態の電子機器を用いて前記所
定時間経過後の前記信号のレベルを予め検出してこれを
記憶し、前記第3のステップで検出した前記信号のレベ
ルと前記記憶しておいた信号のレベルとを比較すること
により、前記遷移状態を検出することを特徴とする
(7)に記載の断線位置検出方法。
(9) The level of the signal after the elapse of the predetermined time is previously detected and stored by using a non-defective electronic device, and the level of the signal detected in the third step and the storage are stored. The disconnection position detection method according to (7), wherein the transition state is detected by comparing the level of the signal with a predetermined level.

【0078】(10)良品状態の電子機器を用いて前記
所定のしきい値に到達するまでの時間を予め検出してこ
れを記憶し、前記第3のステップで検出した前記所定の
しきい値に到達するまでの時間と前記記憶しておいた時
間とを比較することにより、前記遷移状態を検出するこ
とを特徴とする(8)に記載の断線位置検出方法。
(10) The time required to reach the predetermined threshold value is detected in advance by using a non-defective electronic device and stored, and the predetermined threshold value detected in the third step is detected. The method according to (8), wherein the transition state is detected by comparing a time required to reach the predetermined time with the stored time.

【0079】(11)前記電子部品がバウンダリスキャ
ン機能を保有している場合の断線位置検出方法であっ
て、前記第1のステップをバウンダリスキャンのアップ
デートステート時に行い、前記第3のステップをバウン
ダリスキャンのキャプチャーステート時に行うことを特
徴とする(6)に記載の断線位置検出方法。
(11) A method for detecting a disconnection position when the electronic component has a boundary scan function, wherein the first step is performed in an update state of the boundary scan, and the third step is performed in the boundary scan. (6) The disconnection position detection method according to (6), wherein the method is performed in the capture state.

【0080】(12)前記第1のステップの前に、前記
バウンダリスキャン機能などのオープン・ショート検出
機能を用いて、前記電気的接続部位に断線が生じている
か否かを検出する第4のステップを更に有し、前記第4
のステップにおいて断線が生じていると認められた接続
部位のみにおいて前記第1〜第3のステップを行うこと
を特徴とする(11)に記載の断線位置検出方法。
(12) A fourth step of detecting whether or not a break has occurred in the electrical connection portion by using an open / short detection function such as the boundary scan function before the first step. And the fourth
(11) The disconnection position detecting method according to (11), wherein the first to third steps are performed only on the connection portion that is determined to have a disconnection in the step.

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明によれば、配線パターン、デバイ
スピン、リードに直接プローブを当てずに、配線が1対
1で接続されたチップ同士間における断線位置を検出す
ることができる。従って、断線検査の作業効率の向上さ
せることができるとともに、過剰廃棄品の削減を達成す
ることのできる断線位置検出機能を備えた電子機器、断
線位置検出方法を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to detect a disconnection position between chips whose wires are connected one-to-one without directly applying probes to the wiring patterns, device pins, and leads. Therefore, it is possible to provide an electronic device having a disconnection position detection function and a disconnection position detection method capable of improving the work efficiency of the disconnection inspection and reducing excess waste products.

【0082】また、本発明によれば、バウンダリスキャ
ン機能を備えた半導体チップ間を接続する複数の配線間
において、簡素な検査工程で複数箇所の断線位置の検出
を1度に行うことが可能となる。従って、接続箇所が多
数存在する場合であっても、煩雑な検査工程を経ること
なく断線位置を検出することが可能となる。
Further, according to the present invention, it is possible to detect a plurality of disconnection positions at once in a simple inspection step between a plurality of wirings connecting between semiconductor chips having a boundary scan function. Become. Therefore, even if there are many connection points, it is possible to detect the disconnection position without going through a complicated inspection process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を構
成する2つの半導体チップとその接続状態を示す模式図
である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating two semiconductor chips constituting a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention and a connection state thereof.

【図2】本発明の第1の実施形態において、半導体チッ
プのドライバから送信した信号をレシーバで受信した際
の信号波形を示すタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing a signal waveform when a signal transmitted from a driver of a semiconductor chip is received by a receiver in the first embodiment of the present invention.

【図3】図1に示した半導体装置をプルダウン抵抗を備
えた半導体チップによって構成した例を示す模式図であ
る。
FIG. 3 is a schematic diagram showing an example in which the semiconductor device shown in FIG. 1 is constituted by a semiconductor chip having a pull-down resistor.

【図4】本発明の第1の実施形態において、プルダウン
抵抗を用いた場合にレシーバで受信した信号波形を示す
タイミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart showing a signal waveform received by a receiver when a pull-down resistor is used in the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態に係るバウンダリスキ
ャンレジスタを備えたMCM構造の半導体装置を示す模
式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a semiconductor device having an MCM structure including a boundary scan register according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態において、レシーバで
受信した信号の遷移波形とバウンダリスキャンのステー
トを示すタイミングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart showing a transition waveform of a signal received by a receiver and a state of a boundary scan in the second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施形態において、2つの半導
体チップ間の接続状態を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a connection state between two semiconductor chips in a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態に係る断線位置の検出
方法の手順を示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart illustrating a procedure of a method for detecting a disconnection position according to the second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 半導体チップ 3 基板 3a 配線パターン 4 ドライバ 5 レシーバ 6 プルアップ抵抗 7,8 リード 9 プルダウン抵抗 10 フリップフロップ回路 21,22 半導体チップ 21a,21a 内部ロジック 21b,21b バウンダリスキャンレジスタセル群 21c,21c デバイスピン 21d,22d TAPコントローラ 21e,21h,21i,21j,22h,22i,2
2j バウンダリスキャンレジスタセル 21f TDO信号ピン 21g TDI信号ピン
Reference numerals 1 and 2 Semiconductor chip 3 Substrate 3a Wiring pattern 4 Driver 5 Receiver 6 Pull-up resistor 7, 8 Lead 9 Pull-down resistor 10 Flip-flop circuit 21, 22 Semiconductor chip 21a, 21a Internal logic 21b, 21b Boundary scan register cell group 21c, 21c Device pins 21d, 22d TAP controllers 21e, 21h, 21i, 21j, 22h, 22i, 2
2j Boundary scan register cell 21f TDO signal pin 21g TDI signal pin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大野 文男 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 舘 浩之 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 柳瀬 剛 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 上坂 光司 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 2G014 AA02 AB59 AC18 2G032 AA00 AC10 AD08 AK11 AK16 AL05 2G033 AA00 AC01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Fumio Ohno 4-1-1, Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Hiroyuki Tate 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture No. 1 Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Takeshi Yanase 4-1-1 Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Koji Uesaka 4-1-1 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture No. 1 Fujitsu Limited F term (reference) 2G014 AA02 AB59 AC18 2G032 AA00 AC10 AD08 AK11 AK16 AL05 2G033 AA00 AC01

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも2つの電子部品が電気的に接
続されて構成された電子機器であって、 前記電子部品の少なくとも1つが、ハイインピーダンス
制御可能な送信手段と、 前記送信手段から送信された信号を受信する受信手段
と、前記送信手段から送信された信号のレベルをプルア
ップ又はプルダウンして遷移させるプルアップ手段又は
プルダウン手段とを備え、 前記送信手段から送信された信号をハイインピーダンス
制御し、前記受信手段で受信した信号のレベル遷移に応
じて前記電子部品間の電気的接続の断線位置を検出する
ようにしたことを特徴とする断線位置検出機能を備えた
電子機器。
An electronic device comprising at least two electronic components electrically connected to each other, wherein at least one of the electronic components is transmitted from a transmission unit capable of high impedance control, and transmitted from the transmission unit. A receiving unit that receives the signal, and a pull-up unit or a pull-down unit that performs a transition by pulling up or pulling down the level of the signal transmitted from the transmitting unit, and performs high impedance control on the signal transmitted from the transmitting unit. An electronic device having a disconnection position detecting function, wherein a disconnection position of an electrical connection between the electronic components is detected in accordance with a level transition of a signal received by the receiving means.
【請求項2】 少なくとも2つの電子部品が電気的に接
続されて構成された電子機器における当該電気的接続部
位の断線位置を検出する方法であって、 特定の電子部品から信号を出力するとともに当該信号を
ハイインピーダンス制御する第1のステップと、 前記信号のレベルをプルアップ又はプルダウンにより遷
移させる第2のステップと、 前記特定の電子部品において前記信号のレベルの遷移状
態を検出することにより断線位置を検出する第3のステ
ップとを有することを特徴とする断線位置検出方法。
2. A method for detecting a disconnection position of an electrical connection portion in an electronic device configured by electrically connecting at least two electronic components, comprising: outputting a signal from a specific electronic component; A first step of controlling a signal to high impedance; a second step of transitioning the level of the signal by pull-up or pull-down; and detecting a transition state of the level of the signal in the specific electronic component. And a third step of detecting the disconnection position.
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