JP2001291776A - Arranging and wiring apparatus and layout method for lsi - Google Patents

Arranging and wiring apparatus and layout method for lsi

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JP2001291776A
JP2001291776A JP2000106090A JP2000106090A JP2001291776A JP 2001291776 A JP2001291776 A JP 2001291776A JP 2000106090 A JP2000106090 A JP 2000106090A JP 2000106090 A JP2000106090 A JP 2000106090A JP 2001291776 A JP2001291776 A JP 2001291776A
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Japan
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wiring
target
layer
main part
grid
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JP2000106090A
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Rumi Hikiba
るみ 引場
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Renesas Micro Systems Co Ltd
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Renesas Micro Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize layout capable of preventing malfunction due to inter-wiring crosstalk without using any shield electrode for increasing a parasitic capacity. SOLUTION: After blocks and micros are arranged, objective wiring for preventing cross-talk is arranged in the m-th wiring layer, and a wiring grid with (n) pieces each from the most adjacent wiring at the both sides of the objective wiring to the outside in parallel in the same layer and a wiring grid positioned just above the objective wiring belonging to the (m+k)th wiring layer (k is more than 0 and not more than n) in the upper layer than that of the objective wiring and a wiring grid with (n-k) pieces each from the most adjacent wiring at the both sides of the wiring grid to the outside are formed as a wiring inhibition area, and all the signal wiring other than the objective wring is set while the wiring inhibition area is by-passes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配置配線装置およ
びLSIのレイアウト方法に関し、特に、配線間の信号
のクロストークによる誤動作を防止して配置し配線する
配置配線装置およびLSIのレイアウト方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a placement and routing apparatus and an LSI layout method, and more particularly to a placement and routing apparatus and a layout method of an LSI for placing and routing while preventing malfunction due to crosstalk of signals between wirings.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近のLSIでは、配線の微細化と多層
化が進み、これに伴って隣接した配線の間隔および上下
層の配線の間隔が縮小されてきている。このために、上
下層の配線および隣接配線との結合容量が増大し、配線
間の容量結合による信号のクロストークが増大してい
る。一方でアナログとデジタルの混載の加速、LSIチ
ップの大規模化の進展に伴い、クロストークに敏感なア
ナログ信号配線がデジタル信号配線に隣接して配置され
たり、信号レベルが一斉に同方向に変化する多数の配線
に配線長の長い配線が囲まれて配置されたりする場合が
生じ、配線間容量の増大によるクロストークの増大と重
なって特性劣化や誤動作に至る場合が少なくない。この
ような状況から、クロストークを防止できるレイアウト
設計方法の必要性が高まっている。
2. Description of the Related Art In recent LSIs, wirings have become finer and multilayered, and accordingly, the distance between adjacent wirings and the distance between upper and lower wirings have been reduced. For this reason, the coupling capacitance between the upper and lower wirings and adjacent wirings is increased, and signal crosstalk due to capacitive coupling between the wirings is increasing. On the other hand, with the acceleration of the mixture of analog and digital, and the development of large-scale LSI chips, analog signal wiring sensitive to crosstalk has been placed next to digital signal wiring, and the signal level has changed simultaneously in the same direction. In some cases, a long wiring is surrounded by a large number of wirings, and crosstalk increases due to an increase in capacitance between wirings, which often leads to characteristic deterioration and malfunction. Under such circumstances, there is an increasing need for a layout design method that can prevent crosstalk.

【0003】図12は、レイアウト設計システムの構成
図であり、図13は、第1の従来例のレイアウト設計方
法のフロー図である。
FIG. 12 is a configuration diagram of a layout design system, and FIG. 13 is a flowchart of a layout design method according to a first conventional example.

【0004】図12において、レイアウト設計システム
は、レイアウト設計の主要部分であるブロック・マクロ
の配置とそれらの間の配線の設置を実行する配置配線装
置121と、回路設計結果の回路接続情報を格納する回
路接続情報ファイル122と、プリミティブまたは小規
模な機能を実現するブロックと複数のブロックを含む大
規模な機能を実現するマクロのライブラリであるブロッ
ク・マクロライブラリ123と、種々の配置配線のパラ
メータ類や配置配線における制約情報を格納するパラメ
ータファイル124と、設計者とレイアウトシステムと
のインターフェースである入出力表示装置125と、配
置配線装置121によるレイアウト結果を格納するレイ
アウト結果ファイル126とで構成されている。
In FIG. 12, a layout design system stores an arrangement and wiring device 121 for arranging block macros, which are the main parts of the layout design, and setting up wiring between them, and stores circuit connection information as a result of circuit design. Circuit connection information file 122, blocks realizing primitive or small-scale functions, block macro library 123 which is a library of macros realizing large-scale functions including a plurality of blocks, and various layout and wiring parameters , A parameter file 124 for storing constraint information on layout and wiring, an input / output display device 125 as an interface between the designer and the layout system, and a layout result file 126 for storing layout results from the layout and wiring device 121. I have.

【0005】配置配線装置121による配線処理は、各
配線層毎にX方向およびY方向のそれぞれ一定の間隔の
配線路(以後、配線格子と称す)を仮設し、ブロックお
よびマクロ間の配線を配線格子上に設置し、上下層の配
線をビアの設置により接続することで実行される。
In the wiring processing by the placement and routing apparatus 121, wiring paths (hereinafter, referred to as wiring grids) at fixed intervals in the X and Y directions are temporarily provided for each wiring layer, and wiring between blocks and macros is wired. This is performed by installing the device on a lattice and connecting the upper and lower wiring layers by providing vias.

【0006】図13の第1の従来例では、配置配線装置
121は、以下のように動作する。
In the first conventional example shown in FIG. 13, the placement and routing apparatus 121 operates as follows.

【0007】まず、ステップ131で回路接続情報ファ
イル122から回路接続情報を読み込み、次に、ステッ
プ132で、ブロックおよび大規模マクロをブロック・
マクロライブラリ123から読み込んでLSIの内部領
域に配置し、ステップ133で、クロストークによる信
号劣化を防止するためにクロストーク防止対策を施す対
象配線を設置する。
First, in step 131, circuit connection information is read from the circuit connection information file 122, and then, in step 132, blocks and large-scale macros are
It is read from the macro library 123 and placed in the internal area of the LSI, and in step 133, a target wiring to be subjected to a crosstalk prevention measure to prevent signal deterioration due to crosstalk is provided.

【0008】次に、ステップ134で、対象配線の左右
両側に、同層のシールド配線を設置する。ステップ13
5で、対象配線および両側のシールド配線の上層に位置
する配線格子のすべてを配線禁止領域として設定してパ
ラメータファイル124に登録し、その後、ステップ1
36で対象配線以外の信号配線について自動配線処理を
行い、配置配線結果をレイアウト結果ファイル126に
出力してレイアウトを終了する。
Next, in step 134, shield wirings of the same layer are installed on both the left and right sides of the target wiring. Step 13
In step 5, all of the wiring grids located above the target wiring and the shield wirings on both sides are set as wiring prohibited areas and registered in the parameter file 124.
At 36, automatic wiring processing is performed for signal wirings other than the target wiring, the layout and wiring results are output to the layout result file 126, and the layout is completed.

【0009】図14(a)は、LSIチップの平面模式
図であり、ブロックAとブロックBの間を接続する配線
がクロストーク防止の対象配線141となっている。図
14(b)は、第1の従来例の技術を適用したLSIチ
ップの断面模式図で、第1配線層に設置された対象配線
145の両側にはステップ134でシールド配線146
が設置され、これらの上部の第2配線層、第3配線層、
第4配線層の領域はステップ135で配線禁止領域に設
定されている。他の信号配線148は、ステップ136
でシールド配線146の外側または配線禁止領域の外側
に設置されるので、対象配線145との結合容量を小さ
く抑えることができ、クロストークを防止できる。な
お、143は基板を示し、144は絶縁物を示してい
る。
FIG. 14A is a schematic plan view of an LSI chip, and a wiring connecting between block A and block B is a wiring 141 for preventing crosstalk. FIG. 14B is a schematic cross-sectional view of an LSI chip to which the technology of the first conventional example is applied. The shield wiring 146 is formed on both sides of the target wiring 145 provided in the first wiring layer in step 134.
Are provided, and a second wiring layer, a third wiring layer,
The area of the fourth wiring layer is set as a wiring prohibited area in step 135. The other signal wiring 148 is set in step 136
Therefore, the coupling capacitance with the target wiring 145 can be reduced, and crosstalk can be prevented. Note that reference numeral 143 denotes a substrate, and 144 denotes an insulator.

【0010】しかしながら、第1の従来例では、対象配
線の両側にシールド配線が必ず設置されることになるの
で、対象配線の寄生容量が大きくなり信号遅延が大きく
なるという第1の問題点がある。また、対象配線145
およびシールド配線146の上層の配線格子をすべて配
線禁止領域とするので、配線層数が多いときには特に、
配線禁止の配線格子数が多くなってしまうという第2の
問題点がある。
However, in the first conventional example, since the shield wiring is always provided on both sides of the target wiring, there is a first problem that the parasitic capacitance of the target wiring increases and the signal delay increases. . Also, the target wiring 145
In addition, since all wiring grids in the upper layer of the shield wiring 146 are set as the wiring prohibited area, especially when the number of wiring layers is large,
There is a second problem that the number of wiring grids for which wiring is prohibited increases.

【0011】第2の問題点は、対象配線の上部にもシー
ルド配線を設置して配線禁止領域を除去することにより
改良できるが、その結果、対象配線の寄生容量はさらに
増大するので、第1の問題点に関してさらに深刻とな
る。
The second problem can be improved by providing a shield wiring above the target wiring and removing the wiring prohibited area. As a result, the parasitic capacitance of the target wiring further increases. The problem becomes even more serious.

【0012】クロストークを防止し、寄生容量の低減を
意図した第2の従来例が、特開平10−214899号
公報に記載されている。図15は、第2の従来例のレイ
アウト方法のフロー図であり、図16(a),(b)
は、第2の従来例を適用したLSIチップの断面模式図
である。以下、第2の従来例について、図15および図
16を参照して説明する。
A second prior art example intended to prevent crosstalk and reduce the parasitic capacitance is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-214899. FIG. 15 is a flowchart of a layout method according to a second conventional example, and FIGS. 16A and 16B.
FIG. 2 is a schematic sectional view of an LSI chip to which a second conventional example is applied. Hereinafter, a second conventional example will be described with reference to FIGS.

【0013】図15のステップ151で、回路接続情報
を読み込み、ステップ152で、クロストークによる信
号劣化が問題となる要注意配線に属性を付加し属性付き
回路接続情報を作成し、ステップ153でブロックおよ
びマクロをLSIの内部領域に配置し、ステップ154
で属性付き配線をクロストーク防止の対象配線に設定す
る。
At step 151 in FIG. 15, the circuit connection information is read. At step 152, an attribute is added to the cautionary wiring in which signal deterioration due to crosstalk is a problem to create attribute-attached circuit connection information. And the macro is arranged in the internal area of the LSI, and
To set the attributed wiring as the target wiring for preventing crosstalk.

【0014】ステップ155で対象配線を設置した後
に、ステップ156で、図16(a)の模式図に示すよ
うに、対象配線145の左右両側に同層のシールド配線
146を設置し、対象配線145の直上に上層のシール
ド配線147を設置する。
After the target wiring is installed in step 155, shield wirings 146 of the same layer are installed on the left and right sides of the target wiring 145 in step 156, as shown in the schematic diagram of FIG. A shield wiring 147 in an upper layer is provided directly above the wiring.

【0015】次に、ステップ157で、図16(a)に
示すように対象配線以外の信号配線148を自動配線処
理で設置する。次に、ステップ158で、対象配線14
5と対象配線以外の信号配線148との距離がd以上で
ある場合には間に設けられたシールド配線146を削除
し、図16(b)の断面模式図のようにして対象配線1
45の寄生容量を低減して信号遅延の改善を図ることが
できる。所定の距離dは、デジタル信号のダイナミック
レンジ、信号速度、アナログ信号の許容S/N、半導体
チップ上の層間絶縁膜の厚さと誘電率より求め、パラメ
ータファイルに格納しておく。
Next, at step 157, signal wirings 148 other than the target wirings are installed by automatic wiring processing as shown in FIG. Next, in step 158, the target wiring 14
When the distance between the wiring 5 and the signal wiring 148 other than the target wiring is equal to or longer than d, the shield wiring 146 provided therebetween is deleted, and the target wiring 1 is removed as shown in the schematic cross-sectional view of FIG.
For example, it is possible to improve the signal delay by reducing the parasitic capacitance 45. The predetermined distance d is obtained from the dynamic range of the digital signal, the signal speed, the allowable S / N of the analog signal, the thickness and the dielectric constant of the interlayer insulating film on the semiconductor chip, and is stored in the parameter file.

【0016】しかしながら、第2の従来例においては、
シールド配線146を削除できるか否かはステップ15
8での信号配線148の自動配線処理の結果に依存する
ものであり、対象配線に対して常に適用できるものでは
ないので、対象配線145の寄生容量の低減を常に実現
できるものではないという問題が残っている。
However, in the second conventional example,
Step 15 determines whether or not the shield wiring 146 can be deleted.
8 depends on the result of the automatic wiring processing of the signal wiring 148 and is not always applicable to the target wiring. Therefore, the problem that the reduction of the parasitic capacitance of the target wiring 145 cannot always be realized. Remaining.

【0017】さらに、多数の大規模なマクロを有するL
SIチップでは、図17(a)のLSIチップの平面模
式図に示すように、対象配線141がマクロの上部を通
過する必要が生じるが、第1,第2の従来例に共通の問
題として、図17(b)の断面模式図に示すように、第
3層に設置された対象配線145には、第2層に設けら
れたマクロ内配線171からのクロストーク対策がまっ
たくなされないという問題点がある。
Furthermore, L having many large macros
In the SI chip, as shown in the schematic plan view of the LSI chip in FIG. 17A, the target wiring 141 needs to pass above the macro, but as a problem common to the first and second conventional examples, As shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 17B, the problem that the target wiring 145 provided in the third layer is not provided with any measures against crosstalk from the intra-macro wiring 171 provided in the second layer. There is.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来例
では、クロストーク防止のためにシールド配線がクロス
トーク防止の対象配線に隣接して設置されるので対象配
線の寄生容量が増大してしまい、また、マクロを有する
LSIに適用した場合には、マクロ内配線からのクロス
トークに対して防止対策がなされないという問題点があ
った。
As described above, in the conventional example, since the shield wiring is provided adjacent to the target wiring for preventing crosstalk in order to prevent crosstalk, the parasitic capacitance of the target wiring increases. In addition, when the present invention is applied to an LSI having a macro, there is a problem that no countermeasures are taken against crosstalk from wiring in the macro.

【0019】本発明の目的は、クロストーク防止の対象
配線の周囲の信号配線からのクロストークを実用上支障
がない程度にまで低減できるとともに、対象配線の寄生
容量を低減でき、また、マクロを有するLSIチップに
適用してもクロストーク防止効果のあるレイアウトを実
現できる配置配線装置およびLSIのレイアウト方法を
提供することにある。
An object of the present invention is to reduce crosstalk from signal wiring around a target wiring for preventing crosstalk to a level that does not hinder practical use, to reduce the parasitic capacitance of the target wiring, and to reduce the macro. An object of the present invention is to provide a layout and wiring apparatus and an LSI layout method that can realize a layout having a crosstalk prevention effect even when applied to an LSI chip having the same.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明の配
置配線装置は、回路接続情報ファイルからLSIの回路
接続情報を読み込みクロストークによる誤動作の要注意
配線に属性データを付加して属性付き回路情報を作成す
る回路接続情報編集手段と、前記属性付き回路接続情報
に基づきブロック・マクロライブラリからブロックおよ
びマクロのデータを読み込み配置するブロック・マクロ
配置手段と、前記属性付き回路接続情報の属性データを
付加された配線の中からクロストーク防止の対象配線を
抽出する対象配線抽出手段と、前記対象配線の主部分を
第m配線層(mは正整数)に設置するとともに少なくと
も前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n
本(nは正整数)の同層で平行方向の配線格子と、前記
対象配線の主部分よりも上層の第(m+k)配線層(k
は、0<k≦nの整数)に属する前記対象配線の主部分
の直上に位置する配線格子および該配線格子の両側の最
近隣から外側に各(n−k)本の配線格子とを配線禁止
領域としてパラメータファイルに登録する対象配線設置
手段と、前記属性付き回路接続情報に基づき属性の付加
されていないすべての配線を前記配線禁止領域を回避し
て設置する自動配線処理実行手段とを備えている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a layout and wiring apparatus which reads circuit connection information of an LSI from a circuit connection information file, and adds attribute data to a cautionary wiring of a malfunction due to crosstalk to add an attribute. Circuit connection information editing means for creating attached circuit information; block / macro arrangement means for reading and arranging block and macro data from a block / macro library based on the attributed circuit connection information; and attributes of the attributed circuit connection information Target wiring extracting means for extracting a target wiring for preventing crosstalk from the wiring to which data has been added; and installing a main part of the target wiring in an m-th wiring layer (m is a positive integer) and Each n outward from the nearest neighbor on both sides of the main part
(N is a positive integer) in the same layer in the parallel wiring grid and the (m + k) th wiring layer (k
Is an integer of 0 <k ≦ n), and interconnects a wiring grid located immediately above the main part of the target wiring and (nk) wiring grids outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid. Target wiring setting means for registering in the parameter file as a prohibited area; and automatic wiring processing executing means for setting all wirings without attributes based on the circuit connection information with the attribute while avoiding the wiring prohibited area. ing.

【0021】また、第2の発明のLSIのレイアウト方
法は、回路接続情報ファイルからLSIの回路接続情報
を読み込む第1のステップと、クロストークによる誤動
作の要注意配線に属性データを付加して属性付き回路情
報を作成する第2のステップと、前記属性付き回路接続
情報に基づきブロック・マクロライブラリからブロック
およびマクロのデータを読み込み配置する第3のステッ
プと、前記属性データを付加された配線をクロストーク
防止の対象配線とする第4のステップと、前記対象配線
の主部分を第m配線層(mは正整数)に設置するととも
に少なくとも前記対象配線の主部分の両側の最近隣から
外側に各n本(nは正整数)の同層で平行方向の配線格
子と、前記対象配線の主部分よりも上層の第(m+k)
配線層(kは、0<k≦nの整数)に属する前記対象配
線の主部分の直上に位置する配線格子および該配線格子
の両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子と
を配線禁止領域としてパラメータファイルに登録する第
5のステップと、前記属性付き回路接続情報に基づき前
記対象配線以外のすべての信号配線を前記配線禁止領域
を回避して設置する第6のステップとを有している。な
お、好ましくは、前記第5のステップが、パラメータフ
ァイルから禁止領域指定数n(nは正整数)を読み込む
第1のサブステップと、クロストーク防止の対象配線の
主体部が最下層である第1配線層に設置可能であるか否
かを判定する第2のサブステップと、前記第2のサブス
テップで前記対象配線の主部分が前記第1配線層に設置
可能と判定されたときに、前記対象配線の主部分を前記
第1配線層に設置する第3のサブステップと、前記対象
配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本の同層で
平行方向の配線格子と、前記対象配線の主部分よりも上
層の第(1+k)配線層(kは、0<k≦nの整数)に
属する前記対象配線の主部分の直上に位置する配線格子
および該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−
k)本の配線格子とを配線禁止領域として前記パラメー
タファイルに登録する第4のサブステップと、前記第2
のサブステップで前記対象配線の主部分が前記第1配線
層には設置できないと判定されたときに、前記対象配線
の配線経路と交差する下層配線のうちの最上層の配線の
属する配線層が第u配線層のときm=(u+n+1)で
定められる第m配線層に前記対象配線の主部分を設置す
る第5のサブステップと、前記対象配線の主部分の両側
の最近隣から外側に各n本の同層で平行方向の配線格子
と、前記対象配線よりも上層の第(m+k)配線層に属
する前記対象配線層の主部分の直上に位置する配線格子
および該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−
k)本の配線格子と、前記対象配線よりも下層の第(m
−k)配線層に属する前記対象配線の主部分の直下に位
置する配線格子および該配線格子の両側の最近隣から外
側に各(n−k)本の配線格子とを配線禁止領域として
パラメータファイルに登録する第6のサブステップと、
前記第4のサブステップの実行後または前記第6のサブ
ステップの実行後にすべての対象配線について設置が完
了したか否かを判定し、未配置の対象配線があれば前記
第2のサブステップに戻りすべての対象配線の配置が完
了したと判定したときには前記第5のステップを終了す
る第7のサブステップとを有している。前記対象配線の
抽出に当たって属性付き回路接続情報に基づき属性付き
配線を仮設置して所定の配線長L以上の長さの配線を抽
出してクロストーク防止の対象配線としてもよい。
The LSI layout method according to a second aspect of the present invention includes a first step of reading the circuit connection information of the LSI from the circuit connection information file, and adding attribute data to the caution-required wiring due to malfunction due to crosstalk. A second step of creating circuit information with attributes; a third step of reading and arranging block and macro data from a block / macro library based on the circuit connection information with attributes; and crossing the wiring to which the attribute data has been added. A fourth step of setting the target wiring for the talk prevention; and disposing the main part of the target wiring in the m-th wiring layer (m is a positive integer) and extending at least outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring. n (n is a positive integer) same-layer parallel wiring grids and (m + k) -th layers above the main part of the target wiring
A wiring grid located immediately above a main part of the target wiring belonging to a wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n), and (nk) wirings from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside; A fifth step of registering the grid and the wiring as a wiring prohibited area in the parameter file, and a sixth step of setting all signal wirings other than the target wiring based on the attributed circuit connection information while avoiding the wiring prohibited area. And Preferably, the fifth step is a first sub-step of reading a designated number of prohibited areas n (n is a positive integer) from a parameter file, and the fifth step in which the main part of the target wiring for preventing crosstalk is the lowermost layer. A second sub-step of determining whether or not the target wiring can be installed in one wiring layer; and when it is determined in the second sub-step that the main part of the target wiring can be installed in the first wiring layer, A third sub-step of placing the main part of the target wiring in the first wiring layer, and wiring grids in n parallel directions in each of the same layers outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring; A wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to the (1 + k) th wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n) above the main part of the target wiring, and both sides of the wiring grid; Each (n-
k) a fourth sub-step of registering the wiring grid as a wiring prohibited area in the parameter file;
In the sub-step, when it is determined that the main part of the target wiring cannot be installed in the first wiring layer, the wiring layer to which the uppermost wiring among the lower wirings that intersect with the wiring path of the target wiring belongs to A fifth sub-step of installing the main part of the target wiring in the m-th wiring layer defined by m = (u + n + 1) in the case of the u-th wiring layer; n wiring grids in the same layer in the parallel direction, a wiring grid located immediately above a main portion of the target wiring layer belonging to the (m + k) th wiring layer above the target wiring, and a wiring grid on both sides of the wiring grid. Each (n-
k) wiring grids and a (m) layer below the target wiring.
-K) a parameter file in which a wiring grid located immediately below the main portion of the target wiring belonging to the wiring layer and each of (nk) wiring grids from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside are defined as a wiring prohibited area; A sixth sub-step of registering with
After the execution of the fourth sub-step or the execution of the sixth sub-step, it is determined whether or not the installation has been completed for all target wirings. And a seventh sub-step of terminating the fifth step when it is determined that the placement of all returned target wirings has been completed. In extracting the target wiring, a wiring with an attribute may be temporarily installed based on the circuit connection information with an attribute, and a wiring having a length equal to or longer than a predetermined wiring length L may be extracted to be a target wiring for preventing crosstalk.

【0022】さらに、第3の発明のLSIのレイアウト
方法は、回路接続情報ファイルからLSIの回路接続情
報を読み込む第1のステップと、クロストークによる誤
動作の要注意配線に属性データを付加して属性付き回路
情報を作成する第2のステップと、前記属性付き回路接
続情報に基づきブロック・マクロライブラリからブロッ
クおよびマクロのデータを読み込み配置する第3のステ
ップと、パラメータファイルから禁止領域指定数n(n
は正整数)を読み込みマクロ内で使用の配線層数がvの
とき第(v+1)層から第(v+n)層までの配線層に
属するマクロ上の配線格子を第1の配線禁止領域とする
第4のステップと、前記属性データを付加された配線を
クロストーク防止の対象配線とする第5のステップと、
前記対象配線の主部分をm=(v+n+1)で定められ
る第m配線層に前記属性付き回路接続情報に基づき設置
する第6のステップと、前記第1の配線禁止領域を削除
する第7のステップと、前記対象配線の主部分の両側の
最近隣から外側に各n本の同層で平行方向の配線格子
と、前記対象配線の主部分よりも上層の第(m+k)配
線層に属する前記対象配線の主部分の直上に位置する配
線格子および該配線格子の両側の最近隣から外側に各
(n−k)本の配線格子と、前記対象配線の主部分より
も下層の第(m−k)配線層に属する前記対象配線の主
部分の直下に位置する配線格子および該配線格子の両側
の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子とを第2
の配線禁止領域としてパラメータファイルに登録する第
8のステップと、前記属性付き回路接続情報に基づき前
記対象配線以外のすべての信号配線を前記第2の配線禁
止領域を回避して設置する第9のステップとを有してい
る。前記対象配線の抽出に当たって属性付き回路接続情
報に基づき属性付き配線を仮設置して所定の配線長L以
上の長さの配線を抽出してクロストーク防止の対象配線
としてもよい。
Further, in the LSI layout method according to the third invention, the first step of reading the circuit connection information of the LSI from the circuit connection information file and the step of adding attribute data to the wiring requiring caution due to malfunction due to crosstalk and adding the attribute data A second step of creating attached circuit information, a third step of reading and arranging block and macro data from the block / macro library based on the attributed circuit connection information, and a prohibited area designation number n (n
Is a positive integer), and when the number of wiring layers used in the macro is v, the wiring grid on the macro belonging to the wiring layers from the (v + 1) th layer to the (v + n) th layer is set as the first wiring prohibited area. A fourth step, and a fifth step in which the wiring to which the attribute data is added is set as a target wiring for preventing crosstalk,
A sixth step of installing a main portion of the target wiring in an m-th wiring layer defined by m = (v + n + 1) based on the attributed circuit connection information, and a seventh step of deleting the first wiring prohibited area And a wiring grid in the n parallel layers in the same layer outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring, and the object belonging to the (m + k) th wiring layer above the main part of the target wiring. A wiring grid located immediately above the main part of the wiring, and (n−k) wiring grids outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid; A) a wiring grid located immediately below the main part of the target wiring belonging to the wiring layer and (n−k) wiring grids outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid;
An eighth step of registering in the parameter file as the wiring prohibited area of the ninth step, and setting a signal wiring other than the target wiring based on the circuit connection information with the attribute so as to avoid the second wiring prohibited area. And steps. In extracting the target wiring, a wiring with an attribute may be temporarily installed based on the circuit connection information with an attribute, and a wiring having a length equal to or longer than a predetermined wiring length L may be extracted to be a target wiring for preventing crosstalk.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明の概略は、クロストーク防
止の対象配線の属する配線層をひとつの側面とする三角
柱を対象配線の上方または上方と下方に想定し、三角柱
に含まれる配線格子を配線禁止領域として対象配線以外
の信号配線の配線処理を行う。以下、図面を参照して詳
細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The outline of the present invention is based on the assumption that a triangular prism having a wiring layer to which a target wiring for preventing crosstalk belongs on one side is located above, above, and below the target wiring. Wiring processing of signal wiring other than the target wiring is performed as a wiring prohibited area. The details will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1は、本発明の一実施の形態の配置配線
装置のブロック図である。レイアウト設計システムは本
発明においても図12と同様の構成であり、配置配線装
置121に換えて図1の配置配線装置10を用いる。
FIG. 1 is a block diagram of a placement and routing apparatus according to an embodiment of the present invention. The layout design system has the same configuration as that of FIG. 12 in the present invention, and uses the placement and routing apparatus 10 of FIG.

【0025】配置配線装置10は、回路接続情報編集手
段11とブロック・マクロ配置手段12と対象配線抽出
手段13と対象配線設置手段14と自動配線処理実行手
段15とを備えている。
The placement and routing apparatus 10 includes circuit connection information editing means 11, block / macro placement means 12, target wiring extraction means 13, target wiring setting means 14, and automatic wiring processing execution means 15.

【0026】回路接続情報編集手段11は、回路接続情
報ファイル122からLSIの回路接続情報を読み込
み、クロストークによる誤動作または特性劣化の可能性
がある要注意配線に属性データを付加して属性付き回路
情報を作成する。
The circuit connection information editing means 11 reads the circuit connection information of the LSI from the circuit connection information file 122, and adds attribute data to the caution wiring that may cause malfunction or characteristic deterioration due to crosstalk, and adds the attributed circuit. Create information.

【0027】ブロック・マクロ配置手段12は、属性付
き回路接続情報に基づき、ブロック・マクロライブラリ
123からブロックおよびマクロのレイアウト用データ
を読み込んで配置を実行する。
The block / macro arranging means 12 reads the layout data of blocks and macros from the block / macro library 123 and executes the arrangement based on the circuit connection information with attributes.

【0028】対象配線抽出手段13は、属性付き回路接
続情報の属性データを付加された配線の中からクロスト
ーク防止の対象配線を抽出する。パラメータファイル1
24に特別な抽出パラメータが設けられているときには
そのパラメータに基づいて抽出し、パラメータが設けら
れていないときには属性データが付加された配線すべて
を対象配線とする。
The target wiring extracting means 13 extracts a target wiring for preventing crosstalk from the wiring to which the attribute data of the circuit connection information with attributes is added. Parameter file 1
When a special extraction parameter is provided in 24, extraction is performed based on that parameter, and when no parameter is provided, all wirings to which attribute data is added are set as target wirings.

【0029】対象配線設置手段14は、クロストーク防
止の対象配線の主部分を第m配線層(mは正整数)に設
置するとともに、少なくとも対象配線の主部分の両側の
最近隣から外側に各n本(nは正整数)の同層で平行方
向の配線格子と、対象配線の主部分よりも上層の第(m
+k)配線層(kは、0<k≦nの整数)に属する対象
配線の主部分の直上に位置する配線格子およびこの配線
格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格
子とを配線禁止領域としてパラメータファイルに登録す
る。
The target wiring setting means 14 sets the main part of the target wiring for preventing crosstalk in the m-th wiring layer (m is a positive integer), and at least places the main part of the target wiring outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring. n wiring layers (n is a positive integer) in the same layer in the parallel direction and a (m) layer above the main part of the target wiring
+ K) a wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to the wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n), and (n−k) wirings from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside. The wiring grid is registered in the parameter file as a wiring prohibited area.

【0030】なお、対象配線の主部分とは、対象配線が
一配線層に設置された主たる部分を指し、ブロックまた
はマクロから対象配線の主部分が配置される配線層まで
引き上げるための従たる配線層および配線層間を接続す
るビアは主部分には含めないものとする。
The main part of the target wiring refers to a main part where the target wiring is provided in one wiring layer, and a secondary wiring for pulling up from the block or macro to the wiring layer where the main part of the target wiring is arranged. Vias connecting layers and wiring layers are not included in the main part.

【0031】自動配線処理実行手段15は、属性付き回
路接続情報に基づき属性の付加されていないすべての配
線を配線禁止領域を回避して設置する。
The automatic wiring processing execution means 15 sets all wirings to which no attribute is added based on the circuit connection information with attributes, avoiding the wiring prohibited area.

【0032】対象配線設置手段14によって、対象配線
の属する第m配線層では中央に位置する対象配線を含め
て(2n+1)本の配線格子が配線禁止に設定され、そ
の上方の第(m+1)配線層では、直上の配線格子と両
側に各(n−1)本の配線格子の計(2n−1)本の配
線格子が配線禁止に設定され、さらにその上方の第(m
+2)層では、対象配線の直上の配線格子と両側に各
(n−2)本の配線格子の計(2n−3)本の配線格子
が配線禁止に設定される。すなわち、概略的には、断面
が(2n+1)本の配線格子を含む底辺長で(n+1)
層分の配線層を含む高さの三角形状の三角柱内に含まれ
る配線格子を配線禁止領域に設定するとみなすことがで
きる。
In the m-th wiring layer to which the target wiring belongs, (2n + 1) wiring grids including the target wiring located at the center are set to be prohibited by the target wiring setting means 14, and the (m + 1) th wiring above it is prohibited. In the layer, a total of (2n-1) wiring grids, that is, the wiring grid immediately above and (n-1) wiring grids on both sides, are set to wiring prohibition, and the wiring grid (m
In the (+2) layer, a total of (2n−3) wiring grids, that is, a wiring grid immediately above the target wiring and (n−2) wiring grids on both sides, are set to wiring prohibition. That is, roughly, the cross section is (n + 1) with the base length including the (2n + 1) wiring grids.
It can be considered that the wiring grid included in the triangular prism having a height including the wiring layers for the layers is set as the wiring prohibited area.

【0033】図2は、配置配線装置10によるLSIの
レイアウトのフロー図である。
FIG. 2 is a flow chart of an LSI layout by the placement and routing apparatus 10.

【0034】先ず、ステップ21で、回路接続上方編集
手段11により、回路接続情報ファイル122からLS
Iの回路接続情報を読み込む。
First, in step 21, the circuit connection upper editing means 11 reads the LS from the circuit connection information file 122.
The circuit connection information of I is read.

【0035】次に、ステップ22で、回路接続上方編集
手段11により、クロストークによる誤動作の要注意配
線に属性データを付加して属性付き回路情報を作成す
る。
Next, in step 22, the circuit connection upper editing means 11 creates attributed circuit information by adding attribute data to the wiring requiring caution for malfunction due to crosstalk.

【0036】次に、ステップ23で、ブロック・マクロ
配置手段12により、属性付き回路接続情報に基づきブ
ロック・マクロライブラリ123からブロックおよびマ
クロのデータを読み込んで配置する。
Next, in step 23, the block / macro arranging means 12 reads and arranges block and macro data from the block / macro library 123 based on the circuit connection information with attributes.

【0037】次に、ステップ24で、対象配線抽出手段
13により、属性データを付加された配線をクロストー
ク防止の対象配線に設定する。
Next, in step 24, the wiring to which the attribute data has been added is set as the target wiring for preventing crosstalk by the target wiring extracting means 13.

【0038】次に、ステップ25で、対象配線設置手段
14により、対象配線の主部分を第m配線層に設置する
とともに、少なくとも対象配線の主部分の両側の最近隣
から外側に各n本の同層で平行方向の配線格子と、対象
配線の主部分よりも上層の第(m+k)配線層(0<k
≦nの整数)に属する前記対象配線の主部分の直上に位
置する配線格子およびこの配線格子の両側の最近隣から
外側に各(n−k)本の配線格子とを配線禁止領域とし
てパラメータファイルに登録する。
Next, in step 25, the main part of the target wiring is set in the m-th wiring layer by the target wiring setting means 14, and at least n lines are placed outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring. A wiring grid in the same layer in the parallel direction and a (m + k) th wiring layer (0 <k) above the main part of the target wiring
≤ n), a wiring grid located immediately above the main part of the target wiring and (nk) wiring grids extending from the nearest neighbors on both sides of the wiring grid to the outside, as a wiring prohibited area. Register with.

【0039】次に、ステップ26で、自動配線処理実行
手段15により、属性付き回路接続情報に基づいて対象
配線以外のすべての信号配線を配線禁止領域を回避して
設置し、レイアウトは終了する。
Next, in step 26, the automatic wiring process executing means 15 sets all the signal wirings other than the target wiring on the basis of the circuit connection information with attributes, avoiding the wiring prohibited area, and the layout ends.

【0040】図3は、図2のステップ25の配線禁止領
域設定の詳細なフロー図である。対象配線よりも下層に
クロストークの要因となる配線がない場合の禁止領域の
設定と、下層にクロストークの要因となる配線がある場
合の禁止領域の設定とを分けて処理する。図4は、下層
にクロストーク要因となる配線がない場合のLSIチッ
プの断面模式図であり、図5は、その各配線層別の配置
図である。また、図6は、下層にクロストーク要因とな
る配線がある場合のLSIチップの断面模式図である。
以下、図3のフローに沿って、図4,5,6を参照しな
がら説明する。
FIG. 3 is a detailed flowchart for setting the wiring prohibited area in step 25 of FIG. The setting of the prohibited area when there is no wiring that causes crosstalk in the layer below the target wiring and the setting of the prohibited area when there is a wiring that causes crosstalk in the lower layer are separately processed. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an LSI chip in the case where there is no wiring that causes crosstalk in a lower layer, and FIG. 5 is a layout diagram for each wiring layer. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an LSI chip in a case where there is a wiring which causes a crosstalk in a lower layer.
Hereinafter, a description will be given along the flow of FIG. 3 with reference to FIGS.

【0041】まず、サブステップ31で、パラメータフ
ァイル124に予め登録されている禁止領域指定数n
(nは正整数)を読み込む。禁止領域指定数nは、ディ
ジタル信号のダイナミックレンジ、信号速度、半導体チ
ップ上の層間絶縁膜の厚さと誘電率より求め、あらかじ
めパラメータとして指定しておく。
First, in sub-step 31, the number of prohibited area designations n registered in the parameter file 124 in advance
(N is a positive integer). The number n of prohibited areas is determined from the dynamic range of digital signals, the signal speed, the thickness and dielectric constant of the interlayer insulating film on the semiconductor chip, and is specified in advance as a parameter.

【0042】次に、サブステップ32で、クロストーク
防止の対象配線の主体部が最下層である第1配線層に設
置可能であるか否かを判定する。
Next, in sub-step 32, it is determined whether or not the main part of the wiring to be prevented from crosstalk can be installed in the first wiring layer which is the lowermost layer.

【0043】サブステップ32で、対象配線の主部分が
第1配線層に設置可能と判定されたときには、サブステ
ップ33に進み、対象配線の主部分を第1配線層に設置
する。
When it is determined in sub-step 32 that the main part of the target wiring can be installed in the first wiring layer, the operation proceeds to sub-step 33, in which the main part of the target wiring is installed in the first wiring layer.

【0044】次にサブステップ34で、対象配線の主部
分の両側の最近隣から外側に各n本の同層で平行方向の
配線格子と、前記対象配線の主部分よりも上層の第(1
+k)配線層(kは、0<k≦nの整数)に属する前記
対象配線の主部分の直上に位置する配線格子およびこの
配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配
線格子とを配線禁止領域としてパラメータファイル12
4に登録する。
Next, in sub-step 34, n wiring grids of the same layer in the parallel direction outward from the nearest neighbors on both sides of the main part of the target wiring, and a first (1) layer above the main part of the target wiring.
+ K) a wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to a wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n), and (n−k) wirings extending outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid File 12 with the wiring grid of
Register to 4.

【0045】図4(a)は、n=2としてサブステップ
33,34を経てレイアウトされたLSIの断面模式図
で、対象配線43が設置された第1配線層では対象配線
の両側に各2本の配線禁止の配線格子45が設定されて
いる。k=1に対応する第2配線層では、対象配線直上
の配線格子と、その両側に(n−k)=1本の配線格子
が配線禁止の配線格子45として設定されている。k=
2に対応する第3配線層では、対象配線43の直上に位
置する配線格子のみが配線禁止の配線格子45として設
定されている。対象配線43以外の信号配線44は、配
線禁止の配線格子45の外側領域に配置される。なお、
41は基板を、42は絶縁物を示す。
FIG. 4A is a schematic cross-sectional view of an LSI laid out through sub-steps 33 and 34 assuming that n = 2. In the first wiring layer where the target wiring 43 is provided, two lines are provided on both sides of the target wiring. A wiring grid 45 that prohibits wiring is set. In the second wiring layer corresponding to k = 1, a wiring grid immediately above the target wiring and (nk) = 1 wiring grids on both sides thereof are set as wiring prohibited wiring grids 45. k =
In the third wiring layer corresponding to No. 2, only the wiring grid located immediately above the target wiring 43 is set as the wiring grid 45 whose wiring is prohibited. The signal wirings 44 other than the target wiring 43 are arranged outside the wiring grid 45 where wiring is prohibited. In addition,
41 indicates a substrate, and 42 indicates an insulator.

【0046】図5(a)〜(d)は、図4(a)の平面
視を各配線層別に示した模式図であり、図5(a)は第
4配線層を示し、以下、(b)は第3配線層を、(c)
は第2配線層を、(d)は第1配線層を示す。図5
(d)では、第1配線層のY方向の配線格子53−1の
うちの対象配線51の両側の各2本の配線格子が配線禁
止の配線格子であるため、信号配線52−1はこれを避
けて配置される。第1層のX方向の配線格子54−1が
配線禁止に設定されたY方向の配線格子と交差する部分
については、配線禁止に設定されたY方向の配線格子の
一部であるので配線禁止の領域に含まれるとみなし、X
方向の配線であっても設置を禁止する。同様に、図5
(c)では、Y方向の配線格子53−2のうち対象配線
51の直上とその両側の3本の配線格子は配線禁止領域
に設定されているので、信号配線52−2はY方向の配
線であってもX方向の配線であっても配線禁止領域を避
けて設置される。同様に図5(b)では、Y方向の配線
格子53−3のうち対象配線51の直上の配線格子が配
線禁止領域に設定されているので、信号配線52−3は
Y方向の配線であってもX方向の配線であっても配線禁
止領域を避けて設置される。
5 (a) to 5 (d) are schematic diagrams showing a plan view of FIG. 4 (a) for each wiring layer, and FIG. 5 (a) shows a fourth wiring layer. b) shows the third wiring layer, and (c)
Indicates a second wiring layer, and (d) indicates a first wiring layer. FIG.
In (d), two wiring grids on both sides of the target wiring 51 among the wiring grids 53-1 in the Y direction of the first wiring layer are wiring prohibition wirings. Avoid being placed. The portion where the first-layer wiring grid 54-1 in the X direction intersects with the wiring grid in the Y direction set to wiring prohibited is a part of the wiring grid in the Y direction set to wiring prohibited, so that wiring is prohibited. Is considered to be included in the area of
Prohibit installation even if wiring in the direction. Similarly, FIG.
In (c), among the wiring grids 53-2 in the Y direction, the three wiring grids immediately above and on both sides of the target wiring 51 are set in the wiring prohibited area, so that the signal wiring 52-2 is a wiring in the Y direction. However, even if the wiring is in the X direction, it is installed so as to avoid the wiring prohibited area. Similarly, in FIG. 5B, among the wiring grids 53-3 in the Y direction, the wiring grid immediately above the target wiring 51 is set in the wiring prohibited area, so that the signal wiring 52-3 is a wiring in the Y direction. However, even if the wiring is in the X direction, it is installed so as to avoid the wiring prohibited area.

【0047】図4(b)は、奇数配線層と偶数配線層が
互いに直交する方向に設定されたLSIに本発明を適用
した場合の断面模式図である。配線禁止領域に設定され
た配線格子とは直交する方向の配線であっても配線禁止
領域を通過して設置することは禁止されているので、信
号配線44は、ビア46を介して直行方向の上層の配線
と接続することにより配線禁止の配線格子45を避けて
レイアウトされる。
FIG. 4B is a schematic cross-sectional view of the case where the present invention is applied to an LSI in which odd-numbered wiring layers and even-numbered wiring layers are set in directions orthogonal to each other. Even if the wiring is in a direction perpendicular to the wiring grid set in the wiring prohibited area, it is prohibited to install the wiring passing through the wiring prohibited area. By connecting to the upper layer wiring, the layout is performed avoiding the wiring grid 45 where wiring is prohibited.

【0048】図3のフロー図に戻り、サブステップ32
で対象配線の主部分が第1配線層に設置できないと判定
されたときには、サブステップ35に進み、対象配線の
配線経路と交差する下層配線のうちの最上層の配線の属
する配線層が第u配線層のときに、m=(u+n+1)
で定められる第m配線層に対象配線の主部分を設置す
る。
Returning to the flowchart of FIG.
When it is determined that the main part of the target wiring cannot be installed in the first wiring layer, the process proceeds to sub-step 35, where the wiring layer to which the uppermost wiring among the lower wirings intersecting with the wiring path of the target wiring belongs to the u-th wiring layer. In the case of a wiring layer, m = (u + n + 1)
The main part of the target wiring is set in the m-th wiring layer defined by the above.

【0049】次に、サブステップ36で、対象配線の主
部分の両側の最近隣から外側に各n本の同層で平行方向
の配線格子と、前記対象配線よりも上層の第(m+k)
配線層に属する前記対象配線層の主部分の直上に位置す
る配線格子および該配線格子の両側の最近隣から外側に
各(n−k)本の配線格子と、対象配線よりも下層の第
(m−k)配線層に属する対象配線の主部分の直下に位
置する配線格子および該配線格子の両側の最近隣から外
側に各(n−k)本の配線格子とを配線禁止領域として
パラメータファイル124に登録する。
Next, in a sub-step 36, n parallel wiring grids of the same layer outward from the nearest neighbor on both sides of the main portion of the target wiring, and the (m + k)
A wiring grid located immediately above the main part of the target wiring layer belonging to the wiring layer, and (n−k) wiring grids outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid; mk) A parameter file in which a wiring grid located immediately below a main part of a target wiring belonging to a wiring layer and each of (nk) wiring grids from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside are defined as a wiring prohibited area. Register at 124.

【0050】図6は、n=2、u=1としてサブステッ
プ35,36を経てレイアウトされたLSIの断面模式
図で、m=4となるので対象配線43は第4配線層に設
置され、第4配線層では対象配線の両側に各2本の配線
禁止の配線格子45が設定され、k=1に対応する上層
側の第5配線層および下層側の第3配線層では、対象配
線直上および直下の配線格子と、それぞれの両側に(n
−k)=1本の配線格子が配線禁止の配線格子45とし
て設定され、k=2に対応する上層側の第6配線層およ
び下層側の第2配線層では、対象配線43の直上および
直下に位置する配線格子が配線禁止の配線格子45とし
て設定され、対象配線43以外の信号配線44は、配線
禁止の配線格子45の外側領域に配置される。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an LSI laid out through sub-steps 35 and 36 with n = 2 and u = 1. Since m = 4, the target wiring 43 is installed in the fourth wiring layer. In the fourth wiring layer, two wiring prohibition wiring grids 45 are set on both sides of the target wiring, and in the upper fifth wiring layer and the lower third wiring layer corresponding to k = 1, immediately above the target wiring And the wiring grid immediately below and (n
-K) = 1 wiring grid is set as the wiring grid 45 for which wiring is prohibited, and the upper sixth wiring layer and the lower second wiring layer corresponding to k = 2 are directly above and immediately below the target wiring 43. Is set as the wiring grid 45 whose wiring is prohibited, and the signal wirings 44 other than the target wiring 43 are arranged outside the wiring grid 45 whose wiring is prohibited.

【0051】サブステップ34の実行後またはサブステ
ップ36の実行後はサブステップ37に進み、すべての
対象配線について設置が完了したか否かを判定し、未配
置の対象配線があればサブステップ32に戻りすべての
対象配線の配置が完了したと判定したときには、図2の
フロー図のステップ25を終了する。
After the execution of the sub-step 34 or the execution of the sub-step 36, the process proceeds to the sub-step 37, where it is determined whether or not the installation has been completed for all the target wirings. When it is determined that the placement of all target wirings has been completed, step 25 in the flowchart of FIG. 2 is ended.

【0052】図7(a)は、配線格子のピッチが0.8
μmのCMOSのパラメータを用いて、図4(a)のよ
うに対象配線を最下層に配置した場合における禁止領域
指定数nに対する対象配線の周囲配線との結合容量値C
cを、シミュレーションで求めた結果の図である。n≦
1では周囲配線との容量Ccの変化が急峻であるのに対
して、n≧2では飽和しており、LSIの製造ばらつき
を考慮するとn≧2が好ましい。
FIG. 7A shows that the wiring grid pitch is 0.8.
Using a CMOS parameter of μm, the coupling capacitance value C with the surrounding wiring of the target wiring with respect to the designated number n of the prohibited area when the target wiring is arranged in the lowermost layer as shown in FIG.
FIG. 9 is a diagram of a result obtained by simulation of c. n ≦
In No. 1, the change in the capacitance Cc with the surrounding wiring is steep, whereas in n ≧ 2, the capacitance is saturated, and n ≧ 2 is preferable in consideration of LSI manufacturing variations.

【0053】図7(b)は、禁止領域指定数nに対する
配線禁止となる配線格子数Gを示す図である。配線禁止
の配線格子数Gは、nの増大に伴って増大するので、n
=3程度が実用的な限界となり、図7(a)と合わせ
て、2≦n≦3が禁止領域指定数nの好ましい範囲であ
る。
FIG. 7B is a diagram showing the number G of wiring grids whose wiring is prohibited for the specified number n of prohibited areas. Since the number of wiring grids G for which wiring is prohibited increases as n increases, n
= 3 is a practical limit, and in accordance with FIG. 7A, 2 ≦ n ≦ 3 is a preferable range of the designated prohibited area number n.

【0054】図8は、第2の実施例のフロー図である。
本実施例では、配線長の短い配線は、これを駆動する回
路の駆動力に余裕があるので、クロストークによって信
号レベルに変化が生じても容易に回復できることから、
クロストークによる誤動作の要注意配線ではあっても、
実際にクロストーク防止対策を実施する対象配線から省
く処理を含み、図2のフロー図に対して、ステップ24
が削除されて、替わりにステップ84,85,86が追
加されている。図9(a),(b),(c)は、図8の
フローによる対象配線の設置を説明するためのLSIの
平面模式図である。
FIG. 8 is a flowchart of the second embodiment.
In the present embodiment, a wiring having a short wiring length has a margin in the driving force of a circuit for driving the wiring, so that even if the signal level changes due to crosstalk, it can be easily recovered.
Even if caution is required for malfunction due to crosstalk,
Including the processing for omitting from the target wiring for which the crosstalk prevention measures are actually implemented, the process shown in FIG.
Has been deleted, and steps 84, 85 and 86 have been added instead. FIGS. 9A, 9B, and 9C are schematic plan views of the LSI for explaining the installation of the target wiring according to the flow of FIG.

【0055】図8においては、図2のステップ21〜2
3と同様に、ステップ81で回路情報を読み込み、ステ
ップ82でクロストークによる誤動作の要注意配線に属
性を付加し、ステップ83でブロック、マクロの配置を
実行する。
In FIG. 8, steps 21 to 2 in FIG.
As in the case of step 3, circuit information is read in step 81, an attribute is added to the wiring requiring caution due to malfunction due to crosstalk in step 82, and block and macro are arranged in step 83.

【0056】次のステップ84では、属性付き回路接続
情報に基づいて、属性付き配線のみを抽出して仮設置す
る。図9(a)に示すように、属性付き配線Lab,L
bc,Lcd,Ldaが仮設置され、LcdとLdaの
配線長が所定の値L以上であるとする。ここで、所定の
配線長Lは、配線を駆動する回路の駆動能力、配線の線
幅、配線の間隔、配線の膜厚、配線層間の絶縁膜の厚
さ、絶縁膜の誘電率、配線抵抗、LSIの動作速度など
から予め定めてパラメータファイル124に登録してお
く。
In the next step 84, based on the circuit connection information with attributes, only the attributed wiring is extracted and temporarily installed. As shown in FIG. 9A, attributed wirings Lab, L
It is assumed that bc, Lcd, and Lda are temporarily installed, and the wiring length of Lcd and Lda is equal to or longer than a predetermined value L. Here, the predetermined wiring length L is the driving capability of the circuit for driving the wiring, the wiring width, the wiring interval, the wiring thickness, the thickness of the insulating film between wiring layers, the dielectric constant of the insulating film, the wiring resistance. , And is determined in advance from the operation speed of the LSI and registered in the parameter file 124.

【0057】次のステップ85では、仮設置された属性
付き配線の中に、所定の配線長L以上の長さの配線があ
ればこれを抽出してクロストーク防止の対象配線とす
る。図9では、対象配線としてLcdとLdaとが抽出
される。
In the next step 85, if there is a wiring longer than a predetermined wiring length L among the temporarily provided attributed wirings, this is extracted and set as a crosstalk prevention target wiring. In FIG. 9, Lcd and Lda are extracted as target wirings.

【0058】次のステップ86では、属性付き配線のう
ち配線長L以上で対象配線として設定される配線を除い
た残りの配線長L未満の属性付き配線を、仮設置で設置
された位置に確定する。図9(b)のように、配線La
b,Lbcが仮設置の位置で確定する。
In the next step 86, the attributed wiring of the attributed wiring, which is longer than the wiring length L and less than the remaining wiring length L excluding the wiring set as the target wiring, is determined at the position where the temporary installation was performed. I do. As shown in FIG. 9B, the wiring La
b and Lbc are determined at the temporary installation position.

【0059】次に、ステップ87で、対象配線として抽
出した配線Lcd,Ldaについて図9(c)のように
第m配線層に設置し、周囲に配線禁止領域を設けること
は図2のステップ25と同様であり、また、ステップ8
7の詳細が図3のフローで実行される点においてもステ
ップ25と同様である。
Next, in step 87, the wirings Lcd and Lda extracted as target wirings are set in the m-th wiring layer as shown in FIG. 9C, and a wiring prohibited area is provided in the periphery in step 25 in FIG. And step 8
7 is executed in the flow of FIG. 3 in the same manner as in step 25.

【0060】最後に、ステップ88で、属性の付加され
ていない信号配線について配線禁止領域を回避して自動
配線処理により設置してレイアウトを終了する。
Finally, in step 88, the signal wiring to which no attribute is added is set by automatic wiring processing while avoiding the wiring prohibited area, and the layout is completed.

【0061】本実施例では、属性を付加された配線のう
ち実際に誤動作を生じる可能性が高い所定の配線長以上
の配線長の配線のみをクロストーク防止対策の対象配線
とするので、対象配線の本数が大幅に低減でき、これに
伴って配線禁止領域の設置が抑制できるため、図2の第
1実施例に比較して集積密度が向上するという利点が生
じる。なお、2≦n≦3が禁止領域指定数nの好ましい
範囲であることは、図2の第1の実施例と同様である。
In the present embodiment, only wiring having a wiring length equal to or longer than a predetermined wiring length, which is likely to cause a malfunction, among wirings to which attributes are added, is set as a target wiring for preventing crosstalk. Can be greatly reduced, and accordingly, the installation of the wiring prohibited area can be suppressed. Therefore, there is an advantage that the integration density is improved as compared with the first embodiment of FIG. Note that 2 ≦ n ≦ 3 is a preferable range of the designated number n of prohibited areas, as in the first embodiment of FIG.

【0062】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。図10は、第2の実施の形態のレイアウト方
法のフロー図であり、図11は、これを説明するための
LSIの断面模式図である。図10のフローは、図17
(a)のように、対象配線がマクロの上層に設置される
場合を前提としたフローである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a flow chart of a layout method according to the second embodiment, and FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of an LSI for explaining this. The flow of FIG.
The flow is based on the premise that the target wiring is installed in the upper layer of the macro as shown in FIG.

【0063】図10において、先ず、ステップ101
で、回路接続情報ファイル122からLSIの回路接続
情報を読み込む。
In FIG. 10, first, at step 101
Then, the circuit connection information of the LSI is read from the circuit connection information file 122.

【0064】次に、ステップ102で、クロストークに
よる誤動作の要注意配線に属性データを付加して属性付
き回路情報を作成する。
Next, in step 102, attribute data is added to the cautionary wiring for malfunction due to crosstalk to create attributed circuit information.

【0065】次に、ステップ103で、属性付き回路接
続情報に基づいて、ブロック・マクロライブラリ123
からブロックおよびマクロのデータを読み込んで配置す
る。
Next, in step 103, based on the circuit connection information with attributes, the block macro library 123
Reads block and macro data from and arranges them.

【0066】次に、ステップ104で、パラメータファ
イル124から禁止領域指定数n(nは正整数)を読み
込み、マクロ内で使用の配線層数がvのとき第(v+
1)層から第(v+n)層までの配線層に属するマクロ
上の配線格子を第1の配線禁止領域とする。図11
(a)に、この状態を模式的に示す。大規模マクロで
は、第1配線層および第2配線層でマクロ内配線91を
構成しているのでv=2であり、禁止領域指定数n=2
とすると、大規模マクロ上の第3配線層から第4配線層
までに属する配線格子が第1の配線禁止領域の配線格子
92に設定される。
Next, at step 104, the designated number n of prohibited areas (n is a positive integer) is read from the parameter file 124, and when the number of wiring layers used in the macro is v, the number of (v +
1) A wiring grid on a macro belonging to the wiring layers from the layer to the (v + n) th layer is defined as a first wiring prohibited area. FIG.
(A) schematically shows this state. In a large-scale macro, the first wiring layer and the second wiring layer constitute the intra-macro wiring 91, so that v = 2, and the prohibited area designation number n = 2
Then, the wiring grids belonging to the third to fourth wiring layers on the large-scale macro are set as the wiring grids 92 in the first wiring prohibited area.

【0067】次に、ステップ105で、属性データを付
加された配線をクロストーク防止の対象配線に設定す
る。
Next, at step 105, the wiring to which the attribute data has been added is set as the target wiring for preventing crosstalk.

【0068】次に、ステップ106で、対象配線の主部
分をm=(v+n+1)で定められる第m配線層に前記
属性付き回路接続情報に基づいて設置する。図11
(a)では、m=5となるので、第5配線層に対象配線
43が設置される。
Next, at step 106, the main part of the target wiring is set on the m-th wiring layer defined by m = (v + n + 1) based on the attributed circuit connection information. FIG.
In (a), since m = 5, the target wiring 43 is provided in the fifth wiring layer.

【0069】次に、ステップ107で、第1の配線禁止
領域を削除する。図11(a)では、大規模マクロ上に
位置する第3配線層の配線格子および第4配線層の配線
格子に設定された第1の配線禁止領域の配線格子92の
設定を解除する。
Next, in step 107, the first wiring prohibited area is deleted. In FIG. 11A, the setting of the wiring grid 92 of the first wiring prohibited area set in the wiring grid of the third wiring layer and the wiring grid of the fourth wiring layer located on the large-scale macro is canceled.

【0070】次に、ステップ108で、対象配線の主部
分の両側の最近隣から外側に各n本の同層で平行方向の
配線格子と、対象配線の主部分よりも上層の第(m+
k)配線層に属する対象配線の主部分の直上に位置する
配線格子およびこの配線格子の両側の最近隣から外側に
各(n−k)本の配線格子と、前記対象配線の主部分よ
りも下層の第(m−k)配線層に属する前記対象配線の
主部分の直下に位置する配線格子および該配線格子の両
側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子とを第
2の配線禁止領域としてパラメータファイルに登録す
る。この結果、図11(b)のLSI断面模式図に示す
ように、第5層に設置された対象配線43の両側の各2
本の配線格子と、k=1に対応する上層側の第6配線層
および下層側の第4配線層では、対象配線直上および直
下の配線格子と、それぞれの両側に(n−k)=1本の
配線格子と、k=2に対応する上層側の第7配線層およ
び下層側の第3配線層では、対象配線43の直上および
直下に位置する配線格子とが、第2の配線禁止領域の配
線格子93として設定される。
Next, at step 108, n parallel wiring grids of the same layer outward from the nearest neighbors on both sides of the main part of the target wiring, and the (m +
k) a wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to the wiring layer and (n−k) wiring grids outward from the nearest neighbors on both sides of the wiring grid; A wiring grid located immediately below the main portion of the target wiring belonging to the lower (mk) th wiring layer and each of the (nk) wiring grids from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside. 2 is registered in the parameter file as a wiring prohibited area. As a result, as shown in the schematic cross-sectional view of the LSI in FIG.
In the two wiring grids, the sixth wiring layer on the upper layer side and the fourth wiring layer on the lower layer side corresponding to k = 1, the wiring grids immediately above and immediately below the target wiring and (nk) = 1 on both sides thereof, respectively. In the seventh wiring layer on the upper layer side and the third wiring layer on the lower layer side corresponding to k = 2, the wiring grids located immediately above and immediately below the target wiring 43 correspond to the second wiring prohibited area. Are set as the wiring grid 93.

【0071】次に、ステップ109で、属性付き回路接
続情報に基づいて、対象配線以外のすべての信号配線を
第2の配線禁止領域を回避して自動配線処理で設置して
レイアウトを終了する。
Next, in step 109, based on the circuit connection information with attributes, all the signal wirings other than the target wiring are set up by the automatic wiring processing while avoiding the second wiring prohibited area, and the layout is completed.

【0072】本実施の形態では、マクロ上には一律に第
1の配線禁止領域を仮設して対象配線の設置を行うの
で、図3のステップ35での対象配線に交差する下層配
線のうちの最上層の配線を検出する処理が不要となり、
高速化できる利点が生じる。
In the present embodiment, since the first wiring prohibited area is uniformly provided on the macro and the target wiring is set, the lower wiring of the lower wiring crossing the target wiring in step 35 of FIG. There is no need to detect the top layer wiring,
There is an advantage that the speed can be increased.

【0073】なお、図10のフローにおいて、ステップ
105を削除し、替わりに図8のステップ84,85,
86に相当するステップを追加することにより、対象配
線の本数を低減して配線禁止領域の設置を抑制し、集積
密度が向上することが可能であることはいうまでもな
い。また、2≦n≦3が禁止領域指定数nの好ましい範
囲であることも、図2の第1の実施例と同様である。
In the flow of FIG. 10, step 105 is deleted, and steps 84, 85,
It is needless to say that by adding the step corresponding to 86, the number of target wirings can be reduced, the placement of the wiring prohibited area can be suppressed, and the integration density can be improved. In addition, the fact that 2 ≦ n ≦ 3 is a preferable range of the designated number n of prohibited areas is the same as in the first embodiment of FIG.

【0074】[0074]

【発明の効果】以上のように、本発明である図1の配置
配線装置または図2のレイアウト方法を適用することに
より、クロストーク防止の対象配線と周囲の信号配線と
の間の結合容量を誤動作が生じないように低減できると
ともに、対象配線の寄生容量をも低減でき、また、マク
ロを有するLSIチップに適用してもクロストーク防止
効果のあるレイアウトを実現できるという効果が生じ
る。
As described above, by applying the arrangement and wiring apparatus of FIG. 1 or the layout method of FIG. 2 according to the present invention, the coupling capacitance between the target wiring for preventing crosstalk and the surrounding signal wiring is reduced. In addition to the reduction in malfunction, the parasitic capacitance of the target wiring can be reduced, and a layout having an effect of preventing crosstalk can be realized even when applied to an LSI chip having a macro.

【0075】図8の実施例では、属性を付加された配線
のうち実際に誤動作を生じる可能性が高い所定の配線長
以上の配線長の配線のみをクロストーク防止対策の対象
配線とするので、対象配線の本数が大幅に低減でき、こ
れに伴って配線禁止領域の設置が抑制できるため、図2
の実施例に効果に加えて集積密度が向上するという新た
な利点が生じる。
In the embodiment shown in FIG. 8, only wires having a wire length equal to or longer than a predetermined wire length, which is likely to cause a malfunction, among wires to which attributes are added, are set as target wires for the crosstalk prevention measure. Since the number of target wirings can be significantly reduced, and accordingly, the installation of a wiring prohibited area can be suppressed,
There is a new advantage that the integration density is improved in addition to the effect of the embodiment.

【0076】図10の実施例では、マクロ上には一律に
第1の配線禁止領域を仮設して対象配線の設置を行うの
で、対象配線が下層の配線と交差するかを検出する必要
がなくなり、図2の実施例の効果に加えて処理が高速化
できる効果が生じる。
In the embodiment of FIG. 10, since the first wiring prohibited area is uniformly provided on the macro and the target wiring is installed, it is not necessary to detect whether the target wiring intersects with the lower wiring. In addition to the effects of the embodiment of FIG.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の配置配線装置のブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram of a placement and routing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明によるLSIのレイアウトのフロー図で
ある。
FIG. 2 is a flow chart of an LSI layout according to the present invention.

【図3】図2のステップ25の詳細なフロー図である。FIG. 3 is a detailed flowchart of step 25 in FIG. 2;

【図4】下層にクロストーク要因となる配線がない場合
のLSIチップの断面模式図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an LSI chip in a case where there is no wiring that causes crosstalk in a lower layer.

【図5】図4の断面模式図に対応する各配線層別の配置
図である。
FIG. 5 is a layout diagram for each wiring layer corresponding to the schematic cross-sectional view of FIG. 4;

【図6】下層にクロストーク要因となる配線がある場合
のLSIチップの断面模式図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an LSI chip in a case where a wiring that causes a crosstalk is present in a lower layer.

【図7】(a)は、禁止領域指定数nに対する対象配線
の周囲配線との結合容量値Ccのシミュレーション結果
の図であり、(b)は、禁止領域指定数nに対する配線
禁止となる配線格子数Gを示す図である。
FIG. 7A is a diagram illustrating a simulation result of a coupling capacitance value Cc between a target wiring and a surrounding wiring with respect to a specified prohibited area number n, and FIG. 7B is a wiring in which wiring is prohibited for the specified prohibited area number n; It is a figure showing lattice number G.

【図8】第1の実施の形態の第2の実施例のフロー図で
ある。
FIG. 8 is a flowchart of a second example of the first embodiment.

【図9】(a),(b),(c)は、図8のフローによ
る対象配線の設置を説明するためのLSIの平面模式図
である。
FIGS. 9A, 9B, and 9C are schematic plan views of the LSI for explaining the installation of the target wiring according to the flow of FIG. 8;

【図10】第2の実施の形態のレイアウト方法のフロー
図である。
FIG. 10 is a flowchart of a layout method according to the second embodiment.

【図11】(a)は、図10のステップ106の状態を
示し、(b)は、ステップ108の状態を示すLSIの
断面模式図である。
11A is a schematic cross-sectional view of the LSI showing the state of step 106 in FIG. 10, and FIG.

【図12】レイアウト設計システムの構成図である。FIG. 12 is a configuration diagram of a layout design system.

【図13】第1の従来例のレイアウト設計方法のフロー
図である。
FIG. 13 is a flowchart of a layout design method of a first conventional example.

【図14】(a)は、LSIチップの平面模式図であ
り、(b)は、(a)のLSIチップの第1の従来例の
技術を適用したLSIチップの断面模式図である。
14A is a schematic plan view of an LSI chip, and FIG. 14B is a schematic cross-sectional view of an LSI chip to which the technology of the first conventional example of the LSI chip of FIG.

【図15】第2の従来例のレイアウト方法のフロー図で
ある。
FIG. 15 is a flowchart of a layout method according to a second conventional example.

【図16】(a),(b)は、第2の従来例を適用した
LSIチップの断面模式図である。
16A and 16B are schematic cross-sectional views of an LSI chip to which a second conventional example is applied.

【図17】(a)は、マクロを含むLSIチップの平面
模式図であり、(b)は、(a)に対応する断面模式図
である。
17A is a schematic plan view of an LSI chip including a macro, and FIG. 17B is a schematic sectional view corresponding to FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 配置配線装置 11 回路接続情報編集手段 12 ブロック・マクロ配置手段 13 対象配線抽出手段 14 対象配線設置手段 15 自動配線処理実行手段 43,51,141,145 対象配線 44,148 信号配線 45 配線禁止の配線格子 46 ビア 91,171 マクロ内配線 92 第1の配線禁止領域の配線格子 93 第2の配線禁止領域の配線格子 121 配置配線装置 122 回路接続情報ファイル 123 ブロック・マクロライブラリ 124 パラメータファイル 125 入出力表示装置 126 レイアウト結果ファイル 146,147 シールド配線 REFERENCE SIGNS LIST 10 placement and wiring device 11 circuit connection information editing means 12 block / macro placement means 13 target wiring extraction means 14 target wiring installation means 15 automatic wiring processing execution means 43, 51, 141, 145 target wiring 44, 148 signal wiring 45 wiring prohibition Wiring grid 46 Via 91, 171 Wiring in macro 92 Wiring grid in first wiring prohibited area 93 Wiring grid in second wiring prohibited area 121 Place and route device 122 Circuit connection information file 123 Block macro library 124 Parameter file 125 Input / output Display device 126 Layout result file 146, 147 Shield wiring

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路接続情報ファイルからLSIの回路
接続情報を読み込みクロストークによる誤動作の要注意
配線に属性データを付加して属性付き回路情報を作成す
る回路接続情報編集手段と、 前記属性付き回路接続情報に基づきブロック・マクロラ
イブラリからブロックおよびマクロのデータを読み込み
配置するブロック・マクロ配置手段と、 前記属性付き回路接続情報の属性データを付加された配
線の中からクロストーク防止の対象配線を抽出する対象
配線抽出手段と、 前記対象配線の主部分を第m配線層(mは正整数)に設
置するとともに少なくとも前記対象配線の主部分の両側
の最近隣から外側に各n本(nは正整数)の同層で平行
方向の配線格子と、前記対象配線の主部分よりも上層の
第(m+k)配線層(kは、0<k≦nの整数)に属す
る前記対象配線の主部分の直上に位置する配線格子およ
び該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本
の配線格子とを配線禁止領域としてパラメータファイル
に登録する対象配線設置手段と、 前記属性付き回路接続情報に基づき属性の付加されてい
ないすべての配線を前記配線禁止領域を回避して設置す
る自動配線処理実行手段とを備えることを特徴とする配
置配線装置。
1. A circuit connection information editing means for reading circuit connection information of an LSI from a circuit connection information file and adding attribute data to wiring requiring caution for malfunction due to crosstalk to create circuit information with attributes; Block / macro arranging means for reading and arranging block and macro data from a block / macro library based on the connection information; and extracting a crosstalk prevention target wiring from the wiring to which the attribute data of the attributed circuit connection information is added. Means for extracting the target wiring, and setting the main part of the target wiring in the m-th wiring layer (m is a positive integer) and n-pieces (where n is positive) at least outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring. An (integer) wiring layer in the same layer in the parallel direction and an (m + k) -th wiring layer (k is 0 <k ≦ n) above the main portion of the target wiring. The wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to the (integer) and each (n−k) wiring grids from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside are registered in the parameter file as the wiring prohibited area. A placement and routing apparatus comprising: target wiring setting means; and automatic wiring processing execution means for setting all wirings to which no attribute is added based on the attributed circuit connection information while avoiding the wiring prohibited area. .
【請求項2】 回路接続情報ファイルからLSIの回路
接続情報を読み込む第1のステップと、 クロストークによる誤動作の要注意配線に属性データを
付加して属性付き回路情報を作成する第2のステップ
と、 前記属性付き回路接続情報に基づきブロック・マクロラ
イブラリからブロックおよびマクロのデータを読み込み
配置する第3のステップと、 前記属性データを付加された配線をクロストーク防止の
対象配線とする第4のステップと、 前記対象配線の主部分を第m配線層(mは正整数)に設
置するとともに少なくとも前記対象配線の主部分の両側
の最近隣から外側に各n本(nは正整数)の同層で平行
方向の配線格子と、前記対象配線の主部分よりも上層の
第(m+k)配線層(kは、0<k≦nの整数)に属す
る前記対象配線の主部分の直上に位置する配線格子およ
び該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本
の配線格子とを配線禁止領域としてパラメータファイル
に登録する第5のステップと、 前記属性付き回路接続情報に基づき前記対象配線以外の
すべての信号配線を前記配線禁止領域を回避して設置す
る第6のステップとを有することを特徴とするLSIの
レイアウト方法。
2. A first step of reading circuit connection information of an LSI from a circuit connection information file, and a second step of adding attribute data to wiring requiring caution for malfunction due to crosstalk and creating circuit information with attributes. A third step of reading and arranging block and macro data from a block / macro library on the basis of the attributed circuit connection information, and a fourth step of setting a wiring to which the attribute data has been added as a target wiring for preventing crosstalk Placing the main part of the target wiring in the m-th wiring layer (m is a positive integer) and n-pieces (n is a positive integer) of the same layer at least outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring And the main wiring of the target wiring belonging to the (m + k) th wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n) above the main part of the target wiring. A fifth step of registering, in a parameter file, a wiring grid located immediately above the minute and the (nk) wiring grids from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside as a wiring prohibited area; And setting a signal wiring other than the target wiring based on the circuit connection information so as to avoid the wiring prohibited area.
【請求項3】 前記第5のステップが、 パラメータファイルから禁止領域指定数n(nは正整
数)を読み込む第1のサブステップと、 クロストーク防止の対象配線の主体部が最下層である第
1配線層に設置可能であるか否かを判定する第2のサブ
ステップと、 前記第2のサブステップで前記対象配線の主部分が前記
第1配線層に設置可能と判定されたときに、前記対象配
線の主部分を前記第1配線層に設置する第3のサブステ
ップと、 前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本
の同層で平行方向の配線格子と、前記対象配線の主部分
よりも上層の第(1+k)配線層(kは、0<k≦nの
整数)に属する前記対象配線の主部分の直上に位置する
配線格子および該配線格子の両側の最近隣から外側に各
(n−k)本の配線格子とを配線禁止領域として前記パ
ラメータファイルに登録する第4のサブステップと、 前記第2のサブステップで前記対象配線の主部分が前記
第1配線層には設置できないと判定されたときに、前記
対象配線の配線経路と交差する下層配線のうちの最上層
の配線の属する配線層が第u配線層のときm=(u+n
+1)で定められる第m配線層に前記対象配線の主部分
を設置する第5のサブステップと、 前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本
の同層で平行方向の配線格子と、前記対象配線よりも上
層の第(m+k)配線層に属する前記対象配線層の主部
分の直上に位置する配線格子および該配線格子の両側の
最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子と、前記対
象配線よりも下層の第(m−k)配線層に属する前記対
象配線の主部分の直下に位置する配線格子および該配線
格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格
子とを配線禁止領域としてパラメータファイルに登録す
る第6のサブステップと、 前記第4のサブステップの実行後または前記第6のサブ
ステップの実行後にすべての対象配線について設置が完
了したか否かを判定し、未配置の対象配線があれば前記
第2のサブステップに戻りすべての対象配線の配置が完
了したと判定したときには前記第5のステップを終了す
る第7のサブステップとを有する請求項2記載のLSI
のレイアウト方法。
3. The fifth step includes: a first sub-step of reading a designated prohibited area number n (n is a positive integer) from a parameter file; and a fifth step in which a main portion of a crosstalk prevention target wiring is a lowermost layer. A second sub-step of determining whether or not the target wiring can be installed in one wiring layer; and when it is determined in the second sub-step that the main part of the target wiring can be installed in the first wiring layer, A third sub-step of placing the main part of the target wiring in the first wiring layer; and wiring grids in n parallel directions in each of the same layers outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring; A wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to the (1 + k) th wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n) above the main part of the target wiring, and both sides of the wiring grid; (N−k) wiring grids from the nearest neighbor to the outside A fourth sub-step of registering the main wiring of the target wiring in the parameter file as a wiring prohibited area; and determining that the main part of the target wiring cannot be installed in the first wiring layer in the second sub-step. M = (u + n) when the wiring layer to which the uppermost wiring among the lower wirings intersecting with the wiring path of (i) belongs is the u-th wiring layer.
A fifth sub-step of installing the main part of the target wiring in the m-th wiring layer defined by +1); A wiring grid, a wiring grid located immediately above a main portion of the target wiring layer belonging to the (m + k) th wiring layer above the target wiring, and (n−k) outside from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid. A) a wiring grid, a wiring grid located immediately below a main portion of the target wiring belonging to the (mk) th wiring layer below the target wiring, and a wiring grid extending outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid. A sixth sub-step of registering (nk) wiring grids as a wiring prohibited area in a parameter file; and all target wirings after execution of the fourth sub-step or after execution of the sixth sub-step. Installation completed And determining whether there is an unplaced target wiring, returning to the second sub-step, and determining that the placement of all the target wirings has been completed, and ending the fifth step in a seventh sub-step. An LSI according to claim 2
Layout method.
【請求項4】 回路接続情報ファイルからLSIの回路
接続情報を読み込む第1のステップと、 クロストークによる誤動作の要注意配線に属性データを
付加して属性付き回路情報を作成する第2のステップ
と、 前記属性付き回路接続情報に基づきブロック・マクロラ
イブラリからブロックおよびマクロのデータを読み込み
配置する第3のステップと、 前記属性付き回路接続情報に基づき属性付き配線を仮設
置する第4のステップと、 仮設置された前記属性付き配線のうちパラメータファイ
ルに登録された所定の配線長L以上の長さの配線を抽出
してクロストーク防止の対象配線とする第5のステップ
と、 配線長L未満の属性付き配線の設置を確定する第6のス
テップと、 前記対象配線の主部分を第m配線層(mは正整数)に設
置するとともに少なくとも前記対象配線の主部分の両側
の最近隣から外側に各n本(nは正整数)の同層で平行
方向の配線格子と、前記対象配線の主部分よりも上層の
第(m+k)配線層(kは、0<k≦nの整数)に属す
る前記対象配線の主部分の直上に位置する配線格子およ
び該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本
の配線格子とを配線禁止領域として前記パラメータファ
イルに登録する第7のステップと、 前記属性付き回路接続情報に基づき属性の付加されてい
ないすべての信号配線を前記配線禁止領域を回避して設
置する第8のステップとを有することを特徴とするLS
Iのレイアウト方法。
4. A first step of reading the circuit connection information of the LSI from the circuit connection information file, and a second step of adding attribute data to the caution wiring requiring malfunction due to crosstalk to create attributed circuit information. A third step of reading and arranging block and macro data from a block / macro library based on the attributed circuit connection information, and a fourth step of temporarily installing attributed wiring based on the attributed circuit connection information; A fifth step of extracting a wire having a length equal to or longer than a predetermined wire length L registered in the parameter file from the temporarily provided wire with attributes and setting the wire as a target wire for preventing crosstalk; A sixth step of determining the installation of the attributed wiring, and setting the main part of the target wiring in the m-th wiring layer (m is a positive integer) At least n (n is a positive integer) parallel wiring grids in the same layer outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring, and the (m + k) -th layer above the main part of the target wiring. A wiring grid located immediately above a main part of the target wiring belonging to a wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n), and (nk) wirings from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid to the outside; A seventh step of registering a grid as a wiring prohibited area in the parameter file, and installing all signal wirings to which no attribute is added based on the attributed circuit connection information while avoiding the wiring prohibited area. LS characterized by having the following steps:
I layout method.
【請求項5】 前記第7のステップが、 パラメータファイルから禁止領域指定数n(nは正整
数)を読み込む第1のサブステップと、 クロストーク防止の対象配線の主体部が最下層である第
1配線層に設置可能であるか否かを判定する第2のサブ
ステップと、 前記第2のサブステップで前記対象配線の主部分が前記
第1配線層に設置可能と判定されたときに、前記対象配
線の主部分を前記第1配線層に設置する第3のサブステ
ップと、 前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本
の同層で平行方向の配線格子と、前記対象配線の主部分
よりも上層の第(1+k)配線層(kは、0<k≦nの
整数)に属する前記対象配線の主部分の直上に位置する
配線格子および該配線格子の両側の最近隣から外側に各
(n−k)本の配線格子とを配線禁止領域として前記パ
ラメータファイルに登録する第4のサブステップと、 前記第2のサブステップで前記対象配線の主部分が前記
第1配線層には設置できないと判定されたときに、前記
対象配線の配線経路と交差する下層配線のうちの最上層
の配線の属する配線層が第u配線層のときm=(u+n
+1)で定められる第m配線層に前記対象配線の主部分
を設置する第5のサブステップと、 前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本
の同層で平行方向の配線格子と、前記対象配線よりも上
層の第(m+k)配線層に属する前記対象配線層の主部
分の直上に位置する配線格子および該配線格子の両側の
最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子と、前記対
象配線よりも下層の第(m−k)配線層に属する前記対
象配線の主部分の直下に位置する配線格子および該配線
格子の両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格
子とを配線禁止領域としてパラメータファイルに登録す
る第6のサブステップと、 前記第4のサブステップの実行後または前記第6のサブ
ステップの実行後にすべての対象配線について設置が完
了したか否かを判定し、未配置の対象配線があれば前記
第2のサブステップに戻りすべての対象配線の配置が完
了したと判定したときには前記第7のステップを終了す
る第7のサブステップとを有する請求項4記載のLSI
のレイアウト方法。
5. The method according to claim 1, wherein the seventh step is a first sub-step of reading a prohibited area specification number n (n is a positive integer) from a parameter file, and the main part of the crosstalk prevention target wiring is a lowermost layer. A second sub-step of determining whether or not the target wiring can be installed in one wiring layer; and when it is determined in the second sub-step that the main part of the target wiring can be installed in the first wiring layer, A third sub-step of placing the main part of the target wiring in the first wiring layer; and wiring grids in n parallel directions in each of the same layers outward from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring; A wiring grid located immediately above the main part of the target wiring belonging to the (1 + k) th wiring layer (k is an integer of 0 <k ≦ n) above the main part of the target wiring, and both sides of the wiring grid; (N−k) wiring grids from the nearest neighbor to the outside A fourth sub-step of registering the main wiring of the target wiring in the parameter file as a wiring prohibited area; and determining that the main part of the target wiring cannot be installed in the first wiring layer in the second sub-step. M = (u + n) when the wiring layer to which the uppermost wiring among the lower wirings intersecting with the wiring path of (i) belongs is the u-th wiring layer.
A fifth sub-step of installing the main part of the target wiring in the m-th wiring layer defined by +1); A wiring grid, a wiring grid located immediately above a main portion of the target wiring layer belonging to the (m + k) th wiring layer above the target wiring, and (n−k) outside from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid. A) a wiring grid, a wiring grid located immediately below a main portion of the target wiring belonging to the (mk) th wiring layer below the target wiring, and a wiring grid extending outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid. A sixth sub-step of registering (nk) wiring grids as a wiring prohibited area in a parameter file; and all target wirings after execution of the fourth sub-step or after execution of the sixth sub-step. Installation completed And determining whether there is an unplaced target wiring, returning to the second sub-step, and determining that all the target wirings have been placed, and ending the seventh step when determining that all the target wirings have been completed. An LSI according to claim 4
Layout method.
【請求項6】 回路接続情報ファイルからLSIの回路
接続情報を読み込む第1のステップと、 クロストークによる誤動作の要注意配線に属性データを
付加して属性付き回路情報を作成する第2のステップ
と、 前記属性付き回路接続情報に基づきブロック・マクロラ
イブラリからブロックおよびマクロのデータを読み込み
配置する第3のステップと、 パラメータファイルから禁止領域指定数n(nは正整
数)を読み込みマクロ内で使用の配線層数がvのとき第
(v+1)層から第(v+n)層までの配線層に属する
マクロ上の配線格子を第1の配線禁止領域とする第4の
ステップと、 前記属性データを付加された配線をクロストーク防止の
対象配線とする第5のステップと、 前記対象配線の主部分をm=(v+n+1)で定められ
る第m配線層に前記属性付き回路接続情報に基づき設置
する第6のステップと、 前記第1の配線禁止領域を削除する第7のステップと、 前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本
の同層で平行方向の配線格子と、前記対象配線の主部分
よりも上層の第(m+k)配線層に属する前記対象配線
の主部分の直上に位置する配線格子および該配線格子の
両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子と、
前記対象配線の主部分よりも下層の第(m−k)配線層
に属する前記対象配線の主部分の直下に位置する配線格
子および該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−
k)本の配線格子とを第2の配線禁止領域としてパラメ
ータファイルに登録する第8のステップと、 前記属性付き回路接続情報に基づき前記対象配線以外の
すべての信号配線を前記第2の配線禁止領域を回避して
設置する第9のステップとを有することを特徴とするL
SIのレイアウト方法。
6. A first step of reading circuit connection information of an LSI from a circuit connection information file, and a second step of adding attribute data to a cautionary wiring for malfunction due to crosstalk to create attributed circuit information. A third step of reading and arranging block and macro data from the block / macro library based on the attributed circuit connection information, and reading a prohibited area designation number n (n is a positive integer) from a parameter file and using the read data in the macro. A fourth step of setting the wiring grid on the macro belonging to the wiring layers from the (v + 1) th layer to the (v + n) th layer as the first wiring prohibited area when the number of wiring layers is v; A fifth step in which the selected wiring is used as a target wiring for preventing crosstalk, and a main part of the target wiring is an m-th wiring determined by m = (v + n + 1). A sixth step of setting a layer based on the attributed circuit connection information, a seventh step of deleting the first wiring prohibition area, and each of n outside the nearest neighbor on both sides of the main portion of the target wiring A wiring grid in the same layer in the parallel direction, a wiring grid positioned immediately above the main part of the target wiring belonging to the (m + k) th wiring layer above the main part of the target wiring, and a wiring grid on both sides of the wiring grid. (N−k) wiring grids from the nearest neighbor to the outside,
A wiring grid located immediately below the main part of the target wiring belonging to the (mk) th wiring layer below the main part of the target wiring, and each (n-
k) an eighth step of registering the wiring grids as a second wiring prohibited area in the parameter file, and the second wiring prohibition of all signal wirings other than the target wiring based on the attributed circuit connection information. Ninth step of setting the area to avoid the area.
SI layout method.
【請求項7】 回路接続情報ファイルからLSIの回路
接続情報を読み込む第1のステップと、 クロストークによる誤動作の要注意配線に属性データを
付加して属性付き回路情報を作成する第2のステップ
と、 前記属性付き回路接続情報に基づきブロック・マクロラ
イブラリからブロックおよびマクロのデータを読み込み
配置する第3のステップと、 前記属性付き回路接続情報に基づき属性付き配線を仮設
置する第4のステップと、 仮設置された前記属性付き配線のうちパラメータファイ
ルに登録された所定の配線長L以上の長さの配線を抽出
してクロストーク防止の対象配線とする第5のステップ
と、 配線長L未満の属性付き配線の設置を確定する第6のス
テップと、 パラメータファイルから禁止領域指定数n(nは正整
数)を読み込みマクロ内で使用の配線層数がvのとき第
(v+1)層から第(v+n)層までの配線層に属する
マクロ上の配線格子を第1の配線禁止領域とする第7の
ステップと、 前記対象配線の主部分をm=(v+n+1)で定められ
る第m配線層に前記属性付き回路接続情報に基づき設置
する第8のステップと、 前記第1の配線禁止領域を削除する第9のステップと、 前記対象配線の主部分の両側の最近隣から外側に各n本
の同層で平行方向の配線格子と、前記対象配線の主部分
よりも上層の第(m+k)配線層に属する前記対象配線
の主部分の直上に位置する配線格子および該配線格子の
両側の最近隣から外側に各(n−k)本の配線格子と、
前記対象配線の主部分よりも下層の第(m−k)配線層
に属する前記対象配線の主部分の直下に位置する配線格
子および該配線格子の両側の最近隣から外側に各(n−
k)本の配線格子とを第2の配線禁止領域としてパラメ
ータファイルに登録する第10のステップと、前記属性
付き回路接続情報に基づき属性の付加されていないすべ
ての信号配線を前記第2の配線禁止領域を回避して設置
する第11のステップとを有することを特徴とするLS
Iのレイアウト方法。
7. A first step of reading circuit connection information of an LSI from a circuit connection information file, and a second step of adding attribute data to a cautionary wiring of a malfunction due to crosstalk to create attributed circuit information. A third step of reading and arranging block and macro data from a block / macro library based on the attributed circuit connection information, and a fourth step of temporarily installing attributed wiring based on the attributed circuit connection information; A fifth step of extracting a wire having a length equal to or longer than a predetermined wire length L registered in the parameter file from the temporarily provided wire with attributes and setting the wire as a target wire for preventing crosstalk; The sixth step of deciding the installation of the attributed wiring, and reading the prohibited area designation number n (n is a positive integer) from the parameter file A seventh step in which when the number of wiring layers used in the macro is v, the wiring grid on the macro belonging to the wiring layers from the (v + 1) th layer to the (v + n) th layer is set as a first wiring prohibited area; An eighth step of installing a main portion of the target wiring in an m-th wiring layer defined by m = (v + n + 1) based on the attributed circuit connection information; and a ninth step of deleting the first wiring prohibited area. A wiring grid extending in parallel from the nearest neighbor on both sides of the main part of the target wiring in each of the n layers and the target wiring belonging to the (m + k) th wiring layer above the main part of the target wiring; And (n−k) wiring grids located immediately above the main part of the wiring grid and outward from the nearest neighbor on both sides of the wiring grid;
A wiring grid located immediately below the main part of the target wiring belonging to the (mk) th wiring layer below the main part of the target wiring, and each (n-
k) a tenth step of registering the wiring grids as a second wiring prohibited area in the parameter file, and replacing all signal wirings to which no attribute is added based on the attributed circuit connection information with the second wiring. An eleventh step of avoiding the prohibited area for installation.
I layout method.
【請求項8】 2≦n≦3である請求項2,3,4,
5,6または7記載のLSIのレイアウト方法。
8. The method according to claim 2, wherein 2 ≦ n ≦ 3.
8. The layout method of an LSI according to 5, 6, or 7.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017163054A (en) * 2016-03-10 2017-09-14 三菱電機株式会社 Signal transmission substrate

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