JP2001291078A - Non-contact type ic card and method for manufacturing the same - Google Patents

Non-contact type ic card and method for manufacturing the same

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JP2001291078A
JP2001291078A JP2000105042A JP2000105042A JP2001291078A JP 2001291078 A JP2001291078 A JP 2001291078A JP 2000105042 A JP2000105042 A JP 2000105042A JP 2000105042 A JP2000105042 A JP 2000105042A JP 2001291078 A JP2001291078 A JP 2001291078A
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JP
Japan
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layer
wiring board
chip
card
contact type
Prior art date
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JP2000105042A
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Japanese (ja)
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Akihiko Komatsu
昭彦 小松
Takehiro Suzuki
剛弘 鈴木
Shinya Mogi
真也 茂木
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Kyodo Printing Co Ltd
Original Assignee
Kyodo Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a non-contact type IC card in which the thickness of the central part and peripheral part of a card can be made uniform by providing frame materials at the peripheral part of a wiring board and the appearance is not damaged by colored polyimide resin constituting the wiring board. SOLUTION: A layer of a wiring board on which an IC chip is loaded and a frame member formed at the peripheral edge part of the wiring board and having the same thickness as that of the wiring board is laminated on a first protecting layer constituting the lowermost layer, and a chip protecting layer having a hole capable of housing the IC chip is laminated on the layer of the wiring board and the frame member, and a second protecting layer is laminated on the chip protecting layer, and adhesive layers are laminated among those layers. Then, thermo-compression bonding is carried out by a pressing machine.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平滑性に優れた非
接触型ICカード及びその製造方法に関し、特に、有色
な配線基板によるICカードの側面からの外観の損失に
ついて考慮された非接触型ICカード及びその製造方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a non-contact type IC card excellent in smoothness and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a non-contact type IC card in which the appearance loss from the side of the IC card due to a colored wiring board is considered. The present invention relates to an IC card and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで、非接触型ICカードにおい
て、その利便性の高さ、美麗な外観等のため、カードの
厚さが均一で反りもなく表面が平滑な非接触型ICカー
ド、そしてその製造方法が要求されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, non-contact type IC cards having a uniform thickness, a smooth surface without warpage, and a non-contact type IC card due to their high convenience and beautiful appearance. A manufacturing method is required.

【0003】このような要求を鑑みてなされた従来技術
では、例えば、ICモジュールの周囲を熱硬化性樹脂組
成物で封止する方法で製造された非接触型ICカードが
ある。
In the prior art made in view of such a demand, there is, for example, a non-contact type IC card manufactured by a method of sealing the periphery of an IC module with a thermosetting resin composition.

【0004】この従来技術における非接触型ICカード
の製造方法は、ICモジュールを予めエポキシ樹脂等の
熱硬化性樹脂組成物で封止した樹脂封止モジュールを用
いたり、ICカード本体に形成された凹部に、ICモジ
ュールと液状樹脂を挿入して充填した後、硬化して封止
していた。
The method of manufacturing a non-contact type IC card according to the prior art uses a resin-sealed module in which an IC module is previously sealed with a thermosetting resin composition such as an epoxy resin, or is formed on an IC card body. After the IC module and the liquid resin were inserted and filled in the recesses, they were cured and sealed.

【0005】樹脂封止モジュールを用いる方法でICカ
ードを製造する場合には、例えば、ICモジュールをエ
ポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂組成物で封止して形成した
樹脂モジュールと、その樹脂封止モジュールと同じ大き
さの凹部を有するカード本体と、熱可塑性樹脂製のシー
ト材を用いる。そして、カード本体に形成された凹部
に、樹脂封止モジュールを挿入した後、凹部を閉塞する
ように、熱可塑性樹脂製のシート材をカード本体に加熱
溶着して製造している。
When an IC card is manufactured by a method using a resin-sealed module, for example, a resin module formed by sealing an IC module with a thermosetting resin composition such as epoxy resin, and a resin-sealed resin module A card body having a recess having the same size as the module and a sheet material made of thermoplastic resin are used. Then, after inserting the resin sealing module into the recess formed in the card body, a sheet material made of a thermoplastic resin is heated and welded to the card body so as to close the recess.

【0006】また、凹部にICモジュールと液状樹脂と
を挿入して充填した後、硬化して封止する方法でICカ
ードを製造する場合には、例えば、カード本体に形成さ
れた凹部に、ICモジュールを挿入した後、凹部とIC
モジュールとの間に液状の熱硬化性樹脂組成物を挿入し
て充填し、次いで加熱して硬化した後、凹部を閉塞する
ように、熱可塑性樹脂製のシート材をカード本体に加熱
溶着して製造されている。
When an IC card is manufactured by inserting and filling an IC module and a liquid resin into a concave portion, and then curing and sealing the IC card, for example, an IC card is formed in a concave portion formed in a card body. After inserting the module, the recess and IC
After inserting and filling the liquid thermosetting resin composition between the module and heating and then curing, a sheet material made of a thermoplastic resin is heat-welded to the card body so as to close the recess. Being manufactured.

【0007】しかしながら、樹脂封止モジュールを用い
る方法で製造する場合、用いる樹脂封止モジュールは、
熱硬化性樹脂組成物の硬化収縮によって、表面にICモ
ジュールの形状が浮き出て凹凸が形成され、得られるI
Cカードは、樹脂封止モジュールを挿入した凹部と対応
する部分が平坦にならない場合があるといった問題点が
あった。
However, when manufacturing by a method using a resin-sealed module, the resin-sealed module used is
Due to the curing shrinkage of the thermosetting resin composition, the shape of the IC module emerges on the surface to form irregularities, and the resulting I
The C card has a problem that a portion corresponding to the concave portion into which the resin sealing module is inserted may not be flat.

【0008】また、凹部にICモジュールと熱硬化性樹
脂組成物とを挿入して充填した後、硬化して封止する方
法で製造する場合も、得られるICカードは、液状の熱
硬化性樹脂組成物の硬化収縮により、凹部と対応する部
分が平坦にならない場合があるといった問題点があっ
た。
[0008] Also, in the case where the IC module and the thermosetting resin composition are inserted and filled into the concave portions, and then cured and sealed, the obtained IC card is also made of a liquid thermosetting resin. There is a problem that a portion corresponding to the concave portion may not be flat due to curing shrinkage of the composition.

【0009】これらの問題点を解決する従来技術とし
て、特開平10−272870号公報に開示されたもの
がある。
As a conventional technique for solving these problems, there is one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-272870.

【0010】この従来技術は、凹部を形成したカード本
体の、その凹部にICモジュールと、粒体を含有する液
状の熱硬化性樹脂組成物とを挿入して充填した後、カー
ド本体に熱可塑性樹脂製のシート材を重ねて、上記凹部
の開口面をそのシート材で閉塞し、次いで加熱して、カ
ード本体にシート材を接着して製造する、といった製造
方法が開示されている。
In this prior art, a card body having a recess formed therein is filled with an IC module and a liquid thermosetting resin composition containing granules in the recess, and then the thermoplastic resin is added to the card body. There is disclosed a manufacturing method in which a resin sheet material is overlapped, the opening surface of the concave portion is closed with the sheet material, and then heated to bond the sheet material to the card body to manufacture.

【0011】この従来技術によれば、熱硬化性樹脂組成
物が硬化するとき、含有する粒体の部分は収縮し難いた
め、熱硬化性樹脂組成物全体としての硬化収縮率が小さ
くなる。また、含有するものが粒体のため、液状の熱硬
化性樹脂組成物中に均一に分散しやすく、熱硬化性樹脂
組成物内の位置による硬化収縮のバラツキが生じ難い。
そのため、凹部に生ずる、ICモジュールが存在するこ
とによる熱硬化性樹脂組成物の比率が低い部分と、IC
モジュールが存在しないことによる熱硬化性樹脂組成物
の比率が高い部分の収縮量の差が小さくなり、凹部内の
位置による硬化収縮の差が小さくなって、平坦性の優れ
たICカードが得られるとしている。
According to this conventional technique, when the thermosetting resin composition cures, the particles contained therein are unlikely to shrink, so that the curing shrinkage rate of the thermosetting resin composition as a whole decreases. In addition, since the particles are contained, the particles are easily dispersed uniformly in the liquid thermosetting resin composition, and the curing shrinkage hardly varies depending on the position in the thermosetting resin composition.
Therefore, a portion where the ratio of the thermosetting resin composition caused by the presence of the IC module is low in the concave portion,
The difference in the amount of shrinkage in the portion where the ratio of the thermosetting resin composition is high due to the absence of the module is reduced, and the difference in cure shrinkage depending on the position in the concave portion is reduced, so that an IC card with excellent flatness can be obtained. And

【0012】しかしながら、上記の従来技術では、IC
モジュールが高温にさらされるため、ICモジュールの
使用部品及び製造方法に制限が生じ、生産性に難があ
り、コスト的な限界があるといった問題点があった。
However, in the above-mentioned prior art, the IC
Since the module is exposed to high temperatures, there are problems in that the parts used and the manufacturing method of the IC module are limited, the productivity is difficult, and the cost is limited.

【0013】さらにこのような問題点を解決し、表面に
凹凸の発生しない非接触カード及びその製造方法を提供
することを目的とする従来技術として、特開平10−1
75388号公報に開示されたものがある。
As a conventional technique for solving such problems and providing a non-contact card having no irregularities on its surface and a method for manufacturing the same, Japanese Patent Laid-Open No. 10-1 is disclosed.
There is one disclosed in Japanese Patent No. 75388.

【0014】この従来技術に記載される非接触ICカー
ドは、コアシートと該コアシートの両面に積層されたア
ンダーレイシートとオーバーレイシートとからなる空隙
部において、前記コアシートと、アンダーレイシートあ
るいはオーバーレイシートとの間の接着剤及びICモジ
ュールの充填剤に紫外線硬化型樹脂を用いるものである
とし、接着剤及び充填剤としての硬化を紫外線照射で成
す工程が含まれる製造工程を開示している。
In the non-contact IC card described in this prior art, the core sheet, the underlay sheet, or the underlay sheet laminated on both sides of the core sheet, It discloses that an ultraviolet curable resin is used as an adhesive between the overlay sheet and a filler of the IC module, and a manufacturing process including a step of curing the adhesive and the filler by ultraviolet irradiation is disclosed. .

【0015】このように、上記の従来技術によれば、シ
ート間の接着剤及びICモジュールを挿入した空隙部の
充填剤として熱硬化性樹脂組成物の代わりに紫外線硬化
型樹脂を用い、紫外線照射によって紫外線硬化型樹脂を
硬化させることにより、ICモジュールが高温にさらさ
れず、表面に凹凸の発生しない非接触カードを製造する
としている。
As described above, according to the above-mentioned prior art, an ultraviolet-curable resin is used instead of the thermosetting resin composition as the adhesive between the sheets and the filler in the gaps where the IC modules are inserted, and the ultraviolet irradiation is performed. By curing the UV-curable resin, the IC module is not exposed to a high temperature, and a non-contact card having no irregularities on the surface is manufactured.

【0016】しかしながら、上記の凹部にICモジュー
ルと熱硬化性樹脂組成物或いは紫外線硬化型樹脂とを充
填し、硬化して封止する方法では、いずれにしても凹部
に熱硬化性樹脂組成物及び紫外線硬化型樹脂をムラなく
充填するか、あるいは、充填した後、余剰分を取り除く
工程を必要としなければならず、生産性の面においてマ
イナス要因となるといった問題点があった。
However, in the above-described method of filling the concave portion with the IC module and the thermosetting resin composition or the ultraviolet curable resin, and curing and sealing the same, in any case, the concave portion is filled with the thermosetting resin composition and the thermosetting resin composition. There has been a problem that the step of filling the ultraviolet curable resin uniformly or a step of removing the surplus after filling has to be required, which is a negative factor in terms of productivity.

【0017】そこで、図11及び12に示される従来技
術による非接触ICカードは、最下部から保護層110
1b、接着層1103、配線基盤1102(アンテナ等
を含む)、ICチップ及び充填用樹脂層1104(接着
層を兼ねる)、保護層1101aに積層して構成されて
おり、製造工程としては、多段プレスによってこの積層
されたカード構成層を圧着し、カードを製造するといっ
た簡易化されたものが知られている。
Therefore, the contactless IC card according to the prior art shown in FIGS.
1b, an adhesive layer 1103, a wiring board 1102 (including an antenna or the like), an IC chip and a filling resin layer 1104 (also serving as an adhesive layer), and a protective layer 1101a. There is known a simplified one in which the laminated card component layers are pressed to produce a card.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術による製造方法では、プレス時のICチップへ
のダメージを防止し、規格の厚みに納まるカードにする
ため、精密な厚み制御が可能なプレス装置を必要としな
ければならないといった問題点があった。
However, in the above-mentioned manufacturing method according to the prior art, in order to prevent damage to the IC chip at the time of pressing and to make a card having a standard thickness, a press capable of precise thickness control. There is a problem that an apparatus is required.

【0019】さらに、非接触型ICカードの配線基盤に
は、絶縁性・スルーホール等の加工性に優れたポリイミ
ド樹脂が多く用いられ、このポリイミド樹脂は一般に有
色であり、図12に示されるようにカード本体と同じ面
積を有する配線基板1102を設けると、この有色のポ
リイミド樹脂によってカード側面の外観を損ねてしまう
ため、図11に示されるように配線基盤1102をカー
ド本体より若干小さくしているが、配線基板のカード本
体に対する不足した面積部分によりカードの中心部と周
辺部とに厚みの違いが生じるといった問題点が生じる。
Further, for the wiring board of the non-contact type IC card, a polyimide resin excellent in workability such as insulating property and through hole is often used, and this polyimide resin is generally colored, as shown in FIG. If a wiring board 1102 having the same area as the card body is provided on the card, the appearance of the side surface of the card is impaired by the colored polyimide resin. Therefore, as shown in FIG. 11, the wiring board 1102 is slightly smaller than the card body. However, there is a problem that a difference in thickness occurs between the central portion and the peripheral portion of the card due to an insufficient area of the wiring board with respect to the card body.

【0020】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、カード本体より若干小さい配線基盤の周縁
部に枠材を設けることにより、カードの中心部と周辺部
との厚みを均一にするとともに、有色のポリイミド樹脂
によって外観を損なわず、さらに、プレス時に厚み調整
を必要とせず、従来からの圧力のみで制御するプレス機
で足り、そして、このときのプレスによってかかるIC
チップへのダメージを防ぐ非接触型ICカード及びその
製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and provides a frame material on the periphery of a wiring board slightly smaller than the card body so that the thickness of the central portion and the peripheral portion of the card can be made uniform. In addition, a colored polyimide resin does not impair the appearance, and furthermore, it is not necessary to adjust the thickness at the time of pressing, and a conventional press machine that only controls with pressure is sufficient, and the IC used by the pressing at this time is sufficient.
An object of the present invention is to provide a non-contact type IC card for preventing damage to a chip and a method for manufacturing the same.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、請求項1記載の発明は、ICチップを搭載した配
線基板を備える非接触型ICカードにおいて、配線基板
の周縁部に枠材を有することを特徴としている。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided a non-contact type IC card having a wiring board on which an IC chip is mounted. It is characterized by having.

【0022】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、配線基板と枠材とにより形成される層の面
積は、非接触型ICカード本体の面積とほぼ同じである
ことを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the area of the layer formed by the wiring board and the frame member is substantially the same as the area of the non-contact type IC card body. And

【0023】請求項3記載の発明は、請求項1または2
記載の発明において、枠材の厚みは、配線基板の厚みと
ほぼ同じであることを特徴としている。
The invention according to claim 3 is the invention according to claim 1 or 2
In the described invention, the thickness of the frame material is substantially the same as the thickness of the wiring board.

【0024】請求項4記載の発明は、請求項1から3の
いずれか1項に記載の発明において、配線基板と枠材と
により形成される層の上層に、ICチップを収納可能な
チップ保護層を有することを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, there is provided a chip protection capable of accommodating an IC chip on a layer formed by a wiring board and a frame member. It is characterized by having a layer.

【0025】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明において、チップ保護層は、ICチップを収納可能な
透孔を有し、この透孔にICチップを収容するように配
線基板と枠材とにより形成される層の上層に積層されて
いることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect of the invention, the chip protection layer has a through hole capable of accommodating the IC chip, and the wiring board is formed so as to accommodate the IC chip in the through hole. It is characterized in that it is laminated on a layer formed by the frame material.

【0026】請求項6記載の発明は、請求項5記載の発
明において、配線基板と枠材とにより形成される層と前
記チップ保護層との間に、配線基板と枠材とにより形成
される層とチップ保護層とを接着するための接着層を有
し、この接着層によって前記配線基板と枠材とを接着し
た後において、透孔に収容されたICチップの上面が、
チップ保護層の上面に対して略平滑な面となることを特
徴としている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, the wiring board and the frame member are formed between the layer formed by the wiring board and the frame member and the chip protection layer. A bonding layer for bonding the layer and the chip protection layer, and after bonding the wiring board and the frame material with the bonding layer, the upper surface of the IC chip housed in the through-hole is
It is characterized in that the surface is substantially smooth with respect to the upper surface of the chip protection layer.

【0027】請求項7記載の発明は、最下層に設けられ
た第1の保護層と、この第1の保護層の上層に設けられ
た第1の接着層と、この第1の接着層の上層に設けられ
た、ICチップを搭載する配線基板とこの配線基板と厚
みが同一でこの配線基板の周縁部に設けられた枠材との
層と、この配線基板と枠材との層の上層に設けられた、
ICチップ以上の面積の透孔を有する第2の接着層と、
この第2の接着層の上層に設けられた、ICチップを収
容可能な透孔を有するチップ保護層と、このチップ保護
層の上層に設けられた第3の接着層と、この第3の接着
層の上層に設けられた第2の保護層とを有することを特
徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, the first protective layer provided on the lowermost layer, the first adhesive layer provided on the first protective layer, and the first adhesive layer A wiring board provided with an IC chip mounted thereon, a layer having the same thickness as the wiring board, a frame material provided at a peripheral portion of the wiring board, and an upper layer of the wiring board and the frame material Provided in
A second adhesive layer having a through hole having an area equal to or larger than the IC chip;
A chip protective layer provided on the second adhesive layer and having a through hole capable of accommodating an IC chip, a third adhesive layer provided on the chip protective layer, and a third adhesive layer A second protective layer provided on the layer.

【0028】請求項8記載の発明は、最下層となる第1
の保護層の上層に、第1の接着層を積層する工程と、こ
の第1の接着層の上層に、ICチップを搭載する配線基
板とこの配線基板と厚みが同一でこの配線基板の周縁部
に設けられた枠材との層を積層する工程と、この配線基
板と枠材との層の上層に、ICチップ以上の面積の透孔
を有する第2の接着層を積層する工程と、この第2の接
着層の上層に、ICチップを収容可能な透孔を有するチ
ップ保護層を積層する工程と、このチップ保護層の上層
に、第3の接着層を積層する工程と、この第3の接着層
の上層に、第2の保護層を積層する工程とを有し、各工
程によって積層された各層を上下両方向から挟み込み、
圧力制御のみによってプレスし、熱圧着することを特徴
としている。
[0028] The invention according to claim 8 is the first layer which is the lowermost layer.
Laminating a first adhesive layer on the protective layer, and a wiring board on which an IC chip is to be mounted, and a peripheral portion of the wiring board having the same thickness as the wiring board on which the IC chip is mounted. A step of laminating a layer with a frame material provided in the above, and a step of laminating a second adhesive layer having a through-hole having an area equal to or larger than an IC chip on an upper layer of the layer of the wiring board and the frame material. A step of laminating a chip protective layer having a through hole capable of accommodating an IC chip on the second adhesive layer, a step of laminating a third adhesive layer on the chip protective layer, Laminating a second protective layer on the upper layer of the adhesive layer, and sandwiching the layers laminated in each step from both upper and lower directions,
It is characterized by pressing by only pressure control and thermocompression bonding.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明による非接触型カード及び方法の実施の形態を詳細
に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a contactless card and method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0030】図1、図2に本発明による非接触ICカー
ドの第1の実施形態における構成例を示す。図1、図2
における本発明の非接触ICカードは、ICカードの
表、裏表面となる保護層101a、101bと、保護層
101a、101bの面積より若干小さく、所定の位置
にICチップを搭載した配線基板102と、配線基板1
02と同一の厚みを有し、配線基板102の周縁部に納
まる枠材103と、配線基板102上のICチップを納
めることができる面積の透孔を有するチップ保護層10
4と、上記各層を積層して圧着するための複数の接着層
105とにより構成される。接着層105においては、
チップ保護層104と同じように配線基板102上のI
Cチップを納めることができる面積の透孔を有する第2
の接着層と、保護層101aとチップ保護層104とを
接着するための第1の接着層と、保護層101bと配線
基板102及び枠材103の層とを接着するための第3
の接着層とにより構成される。
FIGS. 1 and 2 show a configuration example of a non-contact IC card according to a first embodiment of the present invention. 1 and 2
The non-contact IC card according to the present invention includes a protective layer 101a, 101b serving as the front and back surfaces of the IC card, and a wiring board 102 having an area slightly smaller than the area of the protective layer 101a, 101b and having an IC chip mounted at a predetermined position. , Wiring board 1
02 and a chip protection layer 10 having a through-hole having an area capable of accommodating an IC chip on the wiring board 102, and a frame material 103 which fits in the peripheral portion of the wiring board 102.
4 and a plurality of adhesive layers 105 for laminating and compressing the above layers. In the adhesive layer 105,
I on the wiring board 102 in the same manner as the chip protection layer 104
The second having a through hole with an area that can accommodate the C chip
, A first adhesive layer for bonding the protective layer 101a and the chip protective layer 104, and a third adhesive layer for bonding the protective layer 101b to the wiring substrate 102 and the frame material 103.
And an adhesive layer.

【0031】配線基板102には、一般に絶縁性・スル
ーホール等の加工性に優れたポリイミド樹脂が用いられ
ているが、このポリイミド樹脂は一般に有色であるた
め、配線基板102がカード本体と同等の面積のもので
あると製造後におけるカード側面の外観を損なってしま
う。そこで通常、配線基板102の面積はカード本体の
面積より若干小さめの面積としており、本発明では、こ
の配線基板102と同じ厚みをもった枠材103を配線
基板102の周縁部に設けることにより、有色の配線基
板102によってカード側面の外観を損なうことから防
ぐことができる。
The wiring board 102 is generally made of a polyimide resin having excellent workability such as insulating properties and through holes. However, since this polyimide resin is generally colored, the wiring board 102 is made of the same material as the card body. If the area is large, the appearance of the side surface of the card after manufacturing is impaired. Therefore, usually, the area of the wiring board 102 is set to be slightly smaller than the area of the card body. In the present invention, a frame member 103 having the same thickness as the wiring board 102 is provided on the peripheral edge of the wiring board 102. The colored wiring board 102 can prevent the appearance of the side of the card from being impaired.

【0032】さらに、この枠材103によって配線基板
102のカード本体に対する不足した面積分を補うこと
ができ、これにより、カードの中心部と周辺部との厚み
が均一となる平滑なカードを製造することができる。ま
た、この配線基板102にはその基板上にICチップが
搭載されており、その搭載された位置は変形による曲げ
応力が発生しにくいカード本体の偏心された位置とする
のが好ましい。
Furthermore, the frame member 103 can compensate for the insufficient area of the wiring board 102 with respect to the card body, thereby producing a smooth card having a uniform thickness at the central portion and the peripheral portion of the card. be able to. Further, an IC chip is mounted on the wiring substrate 102, and the mounted position is preferably an eccentric position of the card body where bending stress due to deformation is less likely to occur.

【0033】チップ保護層104における厚みは、接着
層105によって圧着され、ICチップの上面とチップ
保護層104の上面とが平滑となるような厚みとしてあ
り、製造時のプレス機による圧着の際、ICチップに対
する負荷を減少させることができるとともに、プレス時
において厚み調整を必要とせず、従来からの圧力のみで
制御するプレス機によって簡単に製造することができ
る。
The thickness of the chip protection layer 104 is set so that the top surface of the IC chip and the top surface of the chip protection layer 104 are smooth by pressure bonding by the adhesive layer 105. The load on the IC chip can be reduced, and the thickness can not be adjusted at the time of pressing, and the IC chip can be easily manufactured by a conventional press machine controlled only by pressure.

【0034】また、チップ保護層104におけるICチ
ップを納める透孔の面積は、ICチップの面積より若干
大きくとってあり、ICチップにかかる曲げ応力を減少
させることができ、外部からの曲げ力からICチップを
保護することができる。
The area of the through hole for accommodating the IC chip in the chip protection layer 104 is slightly larger than the area of the IC chip, and the bending stress applied to the IC chip can be reduced. The IC chip can be protected.

【0035】さらに、チップ保護層104の材料はポリ
エチレンテレフタラート(PET)が用いられているた
めカードに埋設される芯材としてカード自体の曲げに対
する機械的強度を向上させることができる。このときチ
ップ保護層104の材料として、その他、ポリプロピレ
ン、ナイロン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ
塩化ビニル、PETG(非結晶性ポリエステル)等が考
えられる。
Further, since the material of the chip protective layer 104 is polyethylene terephthalate (PET), the core material embedded in the card can improve the mechanical strength against bending of the card itself. At this time, as a material of the chip protection layer 104, other materials such as polypropylene, nylon, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl chloride, PETG (non-crystalline polyester), and the like can be considered.

【0036】接着剤としての第2の接着層105は、配
線基板102及び枠材103の層の上に積層され、配線
基板102上に搭載されたICチップが納まる程の透孔
を有している。またこの透孔は第2の接着層105に積
層されるチップ保護層104も有しており、第2の接着
層105とチップ保護層104とを積層したときの厚み
は、第2の接着層105とチップ保護層104との2つ
の層の透孔によってICチップを納め、圧着後において
チップ保護層104とICチップとの上面が平滑になる
ような厚みとしている。
The second adhesive layer 105 as an adhesive is laminated on the layers of the wiring board 102 and the frame member 103, and has a through hole enough to accommodate an IC chip mounted on the wiring board 102. I have. The through hole also has a chip protective layer 104 laminated on the second adhesive layer 105. When the second adhesive layer 105 and the chip protective layer 104 are laminated, the thickness becomes The IC chip is accommodated by the through-holes of the two layers, 105 and the chip protection layer 104, and the thickness is such that the upper surfaces of the chip protection layer 104 and the IC chip become smooth after pressure bonding.

【0037】第1の接着層105は、チップ保護層10
4の上面と保護層101aとを圧着するための接着剤で
あり、また、第3の接着層105は、配線基板102と
枠材103との層の下面と、保護層101bとを圧着す
るための接着剤である。
The first adhesive layer 105 is formed on the chip protection layer 10.
4 is an adhesive for pressing the upper surface of the wiring substrate 4 and the protective layer 101a, and the third adhesive layer 105 is for pressing the lower surface of the layer of the wiring board 102 and the frame member 103 to the protective layer 101b. Adhesive.

【0038】接着層105の材料としては、例えば、熱
可塑性ポリエステル樹脂で、溶融粘度100,000cps〜150,
000cps(190℃),融点100〜120℃のものが好
ましいが、接着材としての作用を果たすものであればこ
れに限定しない。
The material of the adhesive layer 105 is, for example, a thermoplastic polyester resin having a melt viscosity of 100,000 cps to 150,
000 cps (190 ° C.) and a melting point of 100 to 120 ° C. are preferable, but the material is not limited to this as long as it functions as an adhesive.

【0039】溶融粘度は、ICチップやアンテナ等の凹
凸に対する追従性がよく、融点はあまり高温をかけずに
カードを作製する点において大変重要である。その理由
は、高温をかけることにより、内蔵されるIC部分が破
壊される可能性があるからである。
The melt viscosity has good followability to irregularities such as an IC chip and an antenna, and the melting point is very important in producing a card without applying a very high temperature. The reason is that there is a possibility that the built-in IC portion is destroyed by applying a high temperature.

【0040】保護層101aは、カード本体の表面を形
成し、保護層101bは、カード本体の裏面を形成す
る。これら保護層101a及び保護層101bは、同じ
厚さのものを用いるのが好ましい。この厚さがそれぞれ
違うと、カードを形成した時点で「反り」が発生すると
いう問題点がある。なお、保護層101a、101b
は、本実施形態ではポリエチレンテレフタラートを素材
を用いてるが、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、他の素材を用いた
層としてもよい。
The protective layer 101a forms the front surface of the card body, and the protective layer 101b forms the back surface of the card body. It is preferable that the protective layer 101a and the protective layer 101b have the same thickness. If the thicknesses are different from each other, there is a problem that "warping" occurs when the card is formed. Note that the protective layers 101a and 101b
In this embodiment, polyethylene terephthalate is used as a material, but a layer using another material such as a polyvinyl chloride resin, a polystyrene resin, a melamine resin, or an epoxy resin may be used.

【0041】図2は、本発明に実施の形態である非接触
ICカードの製造工程を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a manufacturing process of the non-contact IC card according to the embodiment of the present invention.

【0042】図2に示されるように、最下層から保護層
101b、接着層105c、枠材103及び配線基板1
02の層、接着層105b、チップ保護層104、接着
層105a、保護層101a、と積層し、上下から挟み
込むようなサンドイッチ構造により熱圧着処理すること
で、本発明の実施形態である非接触ICカードを形成す
ることができる。この際、熱圧着処理以前に保護層10
1a、101bの外側部分に対し印刷処理を施してカー
ドを形成してもよい。
As shown in FIG. 2, the protective layer 101b, the adhesive layer 105c, the frame material 103, and the
No. 02, the adhesive layer 105b, the chip protective layer 104, the adhesive layer 105a, and the protective layer 101a. The non-contact IC according to the embodiment of the present invention is obtained by performing thermocompression bonding using a sandwich structure that sandwiches the layer from above and below. Cards can be formed. At this time, before the thermocompression treatment, the protective layer 10
A printing process may be performed on the outer portions of 1a and 101b to form a card.

【0043】熱圧着処理は、昇温しながら当初圧力を低
く抑え、接着層105が軟化しはじめたときに圧力を増
加して加圧し、この圧力を維持しながら冷却をはじめ、
室温になったときに加圧処理を終了するようにするのが
好ましい。これにより処理開始時に軟化していない接着
層105がICチップまたは配線基板102を破壊する
のを防ぎつつ、接着層105をICチップまたは配線基
板102の凹凸になじませることができる。
In the thermocompression bonding, the pressure is initially reduced while the temperature is raised, and when the adhesive layer 105 starts to soften, the pressure is increased and the pressure is increased.
It is preferable that the pressure treatment be terminated when the temperature reaches room temperature. This makes it possible to adapt the adhesive layer 105 to the irregularities of the IC chip or the wiring substrate 102 while preventing the unsoftened adhesive layer 105 from breaking the IC chip or the wiring substrate 102 at the start of the processing.

【0044】図3は、本発明の非接触ICカードの実施
形態の熱圧着処理における圧力変化および温度変化の具
体例を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a specific example of a change in pressure and a change in temperature in the thermocompression bonding of the embodiment of the non-contact IC card of the present invention.

【0045】図3を参照すると、熱圧着処理を開始する
と同時に、5kg/cm2の圧力を8分間かけ続ける。処理開
始当初は、接着層105が軟化していないので、ICチ
ップおよび配線基板102を保護し、さらに、表面の凹
凸を馴染ませるために、圧力を低く抑えておくようにす
る。
Referring to FIG. 3, a pressure of 5 kg / cm 2 is continuously applied for 8 minutes while the thermocompression bonding is started. At the beginning of the treatment, the adhesive layer 105 is not softened, so that the pressure is kept low in order to protect the IC chip and the wiring board 102 and to adjust the surface irregularities.

【0046】処理開始後8分が経過すると、接着層10
5は徐々に軟化しはじめるので、圧力を15kg/cm2に増
加して加圧し、さらに温度を上昇し続ける。この時点で
大きく圧力をかけることにより、カード表面が平らにな
るように矯正される。
When eight minutes have elapsed after the start of the treatment, the adhesive layer 10
Since 5 starts to soften gradually, the pressure is increased to 15 kg / cm 2 , and the temperature is further increased. At this point, a large pressure is applied to correct the card surface to be flat.

【0047】処理開始後18分の時点で、上昇しつづけ
た温度は120℃となり、冷却処理に移行する。この冷
却は、熱圧着処理装置内に設けられた水パイプによって
行われるが、冷却処理が行われている期間、圧力(15
kg/cm2)はかけ続けられる。
At 18 minutes after the start of the process, the temperature that has continued to rise reaches 120 ° C., and the process proceeds to the cooling process. This cooling is performed by a water pipe provided in the thermocompression bonding apparatus.
kg / cm 2 ) can continue to be applied.

【0048】処理開始後58分の時点で加圧処理を終了
し、カードの温度は冷却処理により徐々に冷やされて常
温となる。
At 58 minutes after the start of the process, the pressurizing process is terminated, and the temperature of the card is gradually cooled to a normal temperature by the cooling process.

【0049】上記製造方法により構成された非接触IC
カードの厚さは、800μm程度であるので、カード自
体にフレキシブル性をもたせることができる。従って、
印字処理を行う際の搬送路にカーブを設けて印字装置を
構築することにより、印字装置を小型化することも可能
である。
Non-contact IC constituted by the above manufacturing method
Since the thickness of the card is about 800 μm, the card itself can have flexibility. Therefore,
By constructing a printing device by providing a curve in the transport path for performing the printing process, the size of the printing device can be reduced.

【0050】次に、配線基板102における一実施例を
図4〜図6を用いて具体的に説明する。
Next, one embodiment of the wiring board 102 will be specifically described with reference to FIGS.

【0051】また、本発明の第2の実施形態として、カ
ード本体の表面上の全面または一部の面に可逆性感熱記
録層を設けてもよい。
As a second embodiment of the present invention, a reversible thermosensitive recording layer may be provided on the entire surface or a part of the surface of the card body.

【0052】カード本体の表面上に可逆性感熱記録層を
設けたときの実施の形態を図7〜図9に示す。また、以
下に説明する図面については各層を接着する接着層を除
いて示す。
Embodiments in which a reversible thermosensitive recording layer is provided on the surface of the card body are shown in FIGS. In the drawings described below, an adhesive layer for bonding each layer is omitted.

【0053】可逆性感熱記録層をカード本体に設けたと
き、可逆性感熱記録層は接着層によってチップ保護層よ
り下層部(以下、基材201という)の上面に圧着さ
れ、可逆的な記録および消去を行う。可逆性感熱記録層
202aは、ロイコ染料、顕減色剤およびバインダー樹
脂により構成され、熱によって可逆的に発色/消色を繰
り返す層である。ロイコ染料は、通常無色ないし淡色の
電子供与性染料前駆体といわれるものである。また、顕
減色剤は、電子受容性化合物といわれるものであり、加
熱後の冷却速度の違いにより染料前駆体に可逆的な色調
変化を生じさせるものであり、炭素数6以上の脂肪族炭
化水素基を少なくとも1つ有するフェノール性化合物が
用いられる。
When the reversible thermosensitive recording layer is provided on the card body, the reversible thermosensitive recording layer is pressed on the upper surface of the lower layer portion (hereinafter referred to as the base material 201) of the chip protective layer by an adhesive layer, so that reversible recording and recording can be performed. Perform erasure. The reversible thermosensitive recording layer 202a is a layer composed of a leuco dye, a color-reducing agent, and a binder resin, and reversibly repeats coloring / decoloring by heat. Leuco dyes are generally referred to as colorless or pale color electron-donating dye precursors. Further, the color-reducing agent is called an electron-accepting compound, and causes a reversible color change in the dye precursor due to a difference in cooling rate after heating, and is an aliphatic hydrocarbon having 6 or more carbon atoms. Phenolic compounds having at least one group are used.

【0054】また、非接触ICカードの表面部分に可逆
性感熱記録層202aを設けたときは、可逆性感熱記録
層202aの上面に片面マットフィルムを配置すること
が好ましい。この片面マットフィルムは、可逆性感熱記
録層202aと接する面に微細な凹凸を設けてある。こ
の理由は、可逆性感熱記録層202aの表面上にほこり
等がある場合、サーマルヘッドによる印字処理を行う
と、ほこりがサーマルヘッドの先端に付着し、印字しに
くくなるためである。これを防ぐため、可逆性感熱記録
層202aの表面に微細な凹凸を設けることで、ほこり
等が凹凸に入り、印字処理を行う際のサーマルヘッドの
走行をスムーズなものとする。
When the reversible thermosensitive recording layer 202a is provided on the surface of the non-contact IC card, it is preferable to arrange a one-sided mat film on the upper surface of the reversible thermosensitive recording layer 202a. This one-sided mat film has fine irregularities on the surface in contact with the reversible thermosensitive recording layer 202a. The reason for this is that, when dust or the like is present on the surface of the reversible thermosensitive recording layer 202a, if printing is performed using a thermal head, dust adheres to the tip of the thermal head, making printing difficult. In order to prevent this, by providing fine irregularities on the surface of the reversible thermosensitive recording layer 202a, dust and the like enter the irregularities, and the running of the thermal head when performing printing processing is made smooth.

【0055】次に、基材201a上に可逆性感熱記録層
202aを形成する具体例について述べる。なお、以下
においては、説明の便宜上、基材上に可逆性感熱記録層
202aを備えた積層体をリライトフィルム層として説
明する。
Next, a specific example of forming the reversible thermosensitive recording layer 202a on the substrate 201a will be described. In the following, for convenience of explanation, a laminate having a reversible thermosensitive recording layer 202a on a substrate will be described as a rewritable film layer.

【0056】図7は、本発明の第2の実施形態における
リライトフィルム層の第1の例を詳細に示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a sectional view showing in detail a first example of the rewrite film layer according to the second embodiment of the present invention.

【0057】図7において、リライトフィルム層は、基
材201と、可逆性感熱記録層202aと、可逆性感熱
記録層202aの表面を保護するための保護層101c
とにより構成され、これらの層は接着層105により圧
着される。保護層101cは、非接触ICカード本体の
表面部分における傷などを防止する。
In FIG. 7, the rewritable film layer comprises a substrate 201, a reversible thermosensitive recording layer 202a, and a protective layer 101c for protecting the surface of the reversible thermosensitive recording layer 202a.
These layers are pressed by the adhesive layer 105. The protective layer 101c prevents scratches and the like on the surface of the non-contact IC card main body.

【0058】図8は、本発明の第2の実施形態における
リライトフィルム層の第2の例を詳細に示す断面図であ
る。
FIG. 8 is a sectional view showing in detail a second example of the rewrite film layer according to the second embodiment of the present invention.

【0059】図8に示されるリライトフィルム層は、図
7の第1の例に示される構成において、さらに、隠蔽層
203aを可逆性感熱記録層202aと基材201との
間に設けた構成となっている。隠蔽層203aを設けた
以外の構成は、第1の例と同様である。
The rewritable film layer shown in FIG. 8 is different from the structure shown in the first example in FIG. 7 in that a concealing layer 203a is further provided between the reversible thermosensitive recording layer 202a and the substrate 201. Has become. The configuration other than the provision of the concealing layer 203a is the same as that of the first example.

【0060】隠蔽層203aは、基材の色彩を視覚的に
隠蔽し、美麗なカード外観を得ることができると同時
に、可逆性感熱記録層202aに印字処理された文字を
見やすくするものである。
The concealing layer 203a is used to visually conceal the color of the base material and obtain a beautiful card appearance, and at the same time to make the characters printed on the reversible thermosensitive recording layer 202a easy to see.

【0061】隠蔽層203aは、金属粉末を含有するイ
ンキまたは染料と樹脂により形成された層である。金属
粉末としては、アルミニウム、錫、亜鉛、金、銀、銅、
酸化アルミニウム、酸化ナタン等を用いることができ、
また、樹脂としては、例えばポリアミド系、エポキシ
系、アクリル系、フェノール系、不飽和ポリエステル
系、ポリウレタン系、ジアリルフタレート系樹脂を用い
ることができる。
The concealing layer 203a is a layer formed of an ink or a dye containing a metal powder and a resin. Metal powders include aluminum, tin, zinc, gold, silver, copper,
Aluminum oxide, sodium oxide, etc. can be used,
As the resin, for example, a polyamide-based, epoxy-based, acrylic-based, phenol-based, unsaturated polyester-based, polyurethane-based, diallyl phthalate-based resin can be used.

【0062】さらに、隠蔽層203a中に吸収された耐
熱層用塗料は、硬化剤が隠蔽層203の活性水素を有す
る樹脂と反応し、隠蔽層203aの耐熱性を向上させ、
隠蔽層203aとアンカー層204aとの密着性も向上
させる。
Further, in the heat-resistant layer paint absorbed in the concealing layer 203a, the curing agent reacts with the resin having active hydrogen of the concealing layer 203 to improve the heat resistance of the concealing layer 203a.
The adhesion between the concealing layer 203a and the anchor layer 204a is also improved.

【0063】図9は、本発明の第2の実施形態における
リライトフィルム層の第3の例を詳細に示す断面図であ
る。
FIG. 9 is a sectional view showing in detail a third example of the rewritable film layer according to the second embodiment of the present invention.

【0064】図9に示されるリライトフィルム層は、図
8の第2の例に示される構成において、さらに、アンカ
ー層204aを可逆性感熱記録層202aと隠蔽層20
3aとの間に設けた構成となっている。アンカー層20
4aを設けた以外の構成は、第2の例と同様である。
The rewrite film layer shown in FIG. 9 is different from the structure shown in the second example in FIG. 8 in that the anchor layer 204a is further provided with a reversible thermosensitive recording layer 202a and a concealing layer 20.
3a. Anchor layer 20
The configuration other than the provision of 4a is the same as the second example.

【0065】アンカー層204aに使用可能な樹脂とし
て要求される機能は、第1にサーマルヘッドによる印字
消去時の加熱せん断応力から隠蔽層203aの物理的強
度を保つための耐熱性が要求される。
The function required as a resin usable for the anchor layer 204a is firstly required to have heat resistance for maintaining the physical strength of the concealing layer 203a from the heating shear stress at the time of printing and erasing by the thermal head.

【0066】第2に可逆性感熱記録層202a中のロイ
コ染料を不可逆的に発色させないための低酸化性が要求
される。この低酸化性は、5KOHmg/g以下のものが好
ましい。
Second, low oxidation properties are required to prevent the leuco dye in the reversible thermosensitive recording layer 202a from irreversibly coloring. The low oxidizing property is preferably 5KOHmg / g or less.

【0067】具体的には、第1に要求される耐熱性をも
つ電子線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、第2に要求
される低酸化性をもつ電子線硬化型エポキシクリレート
樹脂、あるいは、2種類以上の樹脂を混合して構成する
ことも可能である。
Specifically, an electron beam-curable urethane acrylate resin having the first required heat resistance, an electron beam-curable epoxy acrylate resin having the second required low oxidation property, It is also possible to configure by mixing the above resins.

【0068】アンカー層204aの厚さは、隠蔽層20
3aに含浸し表面に薄い被膜ができる程度の厚さでよい
ものである。この厚さは、0.1〜10μmの範囲で構
成されるのが好ましい。アンカー層204aを厚く形成
すると、カードを曲げた際に生じる曲げ応力に耐えきれ
ず、亀裂や破損が生じる可能性がある。
The thickness of the anchor layer 204 a
The thickness may be sufficient to impregnate 3a and form a thin film on the surface. This thickness is preferably comprised in the range of 0.1 to 10 μm. If the anchor layer 204a is formed thick, it may not be able to withstand the bending stress generated when the card is bent, and may cause cracks or breakage.

【0069】また、アンカー層204aを設けることに
より、隠蔽層203aの凹凸を平らにすることができ、
構成材料に紫外線硬化型樹脂を用いているので耐熱性が
非常に良いものとなる。
By providing the anchor layer 204a, the unevenness of the concealing layer 203a can be made flat,
Since the UV curable resin is used as the constituent material, the heat resistance is very good.

【0070】さらに、本発明では第3の実施形態とし
て、図10に示されるように基板上に磁気記録層を設け
てもよい。図10に、本発明に係る非接触型ICカード
の一実施形態の断面模式図を示す。
Further, in the present invention, as a third embodiment, a magnetic recording layer may be provided on a substrate as shown in FIG. FIG. 10 is a schematic sectional view of one embodiment of the non-contact type IC card according to the present invention.

【0071】図10を参照すると、この実施形態に係る
非接触型ICカードは、基材201上に、磁気記録を行
うための磁気記録層301と、隠蔽層203bと、紫外
線硬化型樹脂及び架橋剤を主成分として含有するアンカ
ー層204bと、可逆性感熱記録を行うための可逆性感
熱記録層202bと、可逆性感熱記録層202bの表面
を保護するための保護層101dとが、順次積層された
構造となっている。
Referring to FIG. 10, a non-contact type IC card according to this embodiment includes a magnetic recording layer 301 for performing magnetic recording, a concealing layer 203b, an ultraviolet curable resin, An anchor layer 204b containing an agent as a main component, a reversible thermosensitive recording layer 202b for performing reversible thermosensitive recording, and a protective layer 101d for protecting the surface of the reversible thermosensitive recording layer 202b are sequentially laminated. Structure.

【0072】磁気記録層301は、従来この種の磁気記
録媒体において磁気記録層として一般に使用されている
ものを用いることができる。例えば、磁性材料として粒
径10μm以下好ましくは0.01〜5μmのBa−フ
ェライト、Sr−フェライト、Co被着γ−Fe23
γ−Fe23、針状鉄粉、CrO2 を用い、バインダー
樹脂として一般に用いられるポリエステル系樹脂、アル
キッド系樹脂、ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂又は
それらの混合樹脂を用いることができる。
As the magnetic recording layer 301, a layer generally used as a magnetic recording layer in this type of magnetic recording medium can be used. For example, Ba-ferrite, Sr-ferrite, Co-coated γ-Fe 2 O 3 having a particle size of 10 μm or less, preferably 0.01 to 5 μm as a magnetic material,
A polyester resin, an alkyd resin, a vinyl resin, a polyurethane resin, or a mixed resin thereof which is generally used as a binder resin using γ-Fe 2 O 3 , acicular iron powder, and CrO 2 can be used.

【0073】バインダー樹脂と磁性材料との混合比は基
材との接着性や塗膜強度及び磁気ヘッドによる検出電圧
等を考慮して適宜設定される。通常、重量比で前者/後
者=1/1〜1/10の範囲、好ましくは1/2〜1/
8が適当である。
The mixing ratio between the binder resin and the magnetic material is appropriately set in consideration of the adhesion to the base material, the strength of the coating film, the voltage detected by the magnetic head, and the like. Usually, the former / latter = 1/1 to 1/10 by weight ratio, preferably 1/2 to 1/1.
8 is appropriate.

【0074】この磁気記録層の厚さは通常、5〜20μ
m程度である。
The thickness of the magnetic recording layer is usually 5 to 20 μm.
m.

【0075】隠蔽層203bは、磁気記録層301の色
彩を視覚的に隠蔽すると共に、後述する可逆性感熱記録
層202bの発色の色彩に対し十分なコントラストを付
与するような色彩を有する。従って、隠蔽層203bに
は、アルミニウム粉末等の非磁性の金属や、酸化チタン
粉末等の非磁性金属酸化物等の光不透過性顔料を主成分
として含有させる。
The concealing layer 203b has such a color as to visually conceal the color of the magnetic recording layer 301 and to give a sufficient contrast to the color of the reversible thermosensitive recording layer 202b described later. Therefore, the opaque layer 203b contains a light-opaque pigment such as a non-magnetic metal such as aluminum powder or a non-magnetic metal oxide such as titanium oxide powder as a main component.

【0076】また、前述したように隠蔽層203bを形
成するために用いられる材料が備えるべき性質は、後述
するアンカー層204bに主成分として含有される架橋
剤により、十分に硬化し、かつ、アンカー層204bと
隠蔽層203bとの間の密着性を向上させるという性質
である。
As described above, the properties of the material used to form the concealing layer 203b are such that the material is sufficiently cured by a crosslinking agent contained as a main component in the anchor layer 204b, which will be described later. This is a property of improving the adhesion between the layer 204b and the concealing layer 203b.

【0077】従って、隠蔽層203bに主成分として含
有させる樹脂として、水酸基、カルボキシル基等の活性
水素を有する樹脂が必須であり、この活性水素を有する
樹脂として具体的には、塩化ビニル/酢酸ビニル/無水
マレイン酸共重合体、塩化ビニル/酢酸ビニル/ビニル
アルコール共重合体、若しくはニトロセルロースのいず
れかであることが好ましく、2種以上を混合して用いて
も良い。また、この隠蔽層203bの厚さは例えば0.
05〜3μm程度である。
Therefore, a resin having an active hydrogen such as a hydroxyl group or a carboxyl group is essential as a resin to be contained as a main component in the concealing layer 203b, and specific examples of the resin having an active hydrogen include vinyl chloride / vinyl acetate. / Vinyl maleic anhydride copolymer, vinyl chloride / vinyl acetate / vinyl alcohol copolymer, or nitrocellulose, and two or more of them may be used in combination. The thickness of the concealing layer 203b is, for example, 0.1 mm.
It is about 05 to 3 μm.

【0078】アンカー層204bは、この図10に示さ
れる本発明の非接触型ICカードにおける可逆性感熱磁
気記録媒体の加熱、加圧に対する耐久性を向上させ、結
果として印字消去繰り返し耐久性を向上させるために、
紫外線硬化型樹脂と架橋剤とを主成分として含有させ
る。
The anchor layer 204b improves the durability of the reversible thermosensitive magnetic recording medium to heat and pressure in the non-contact type IC card of the present invention shown in FIG. In order to
An ultraviolet curable resin and a crosslinking agent are contained as main components.

【0079】この紫外線硬化型樹脂としては、例えばサ
ーマルヘッドによる印字、消去を行う際の、加熱剪断応
力から隠蔽層203bの物理的強度を保つことができ、
かつ、可逆性感熱記録層202bに含有されるロイコ染
料との反応を抑えるため酸価が5KOHmg/g以下の紫外
線硬化型樹脂を用いることが好ましく、具体的には、例
えばウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレー
ト系樹脂若しくはこれらの混合樹脂を使用することがで
きる。
As the ultraviolet-curable resin, for example, the physical strength of the concealing layer 203b can be maintained from the heat shear stress when printing and erasing by a thermal head.
Further, in order to suppress the reaction with the leuco dye contained in the reversible thermosensitive recording layer 202b, it is preferable to use an ultraviolet curable resin having an acid value of 5 KOH mg / g or less, and specifically, for example, urethane acrylate resin, epoxy resin An acrylate resin or a mixed resin thereof can be used.

【0080】架橋剤としては、耐熱層形成時に耐熱層用
塗料が隠蔽層203bに含浸した際、隠蔽層203b中
の活性水素を有する樹脂を硬化させるもので良く、例え
ば、イソシアネート系硬化剤、カルボジイミド系硬化剤
等を用いることができる。
The cross-linking agent may be any one that cures the resin having active hydrogen in the concealing layer 203b when the heat-resistant layer coating material is impregnated into the concealing layer 203b during the formation of the heat-resistant layer. For example, an isocyanate-based curing agent, carbodiimide A system curing agent or the like can be used.

【0081】このアンカー層204bの厚さとしては、
第2の実施形態と同様に、耐熱層形成時に隠蔽層203
bに含浸し、表面に薄い皮膜ができる程度の厚さでよ
く、具体的には0.1〜10μmである。この厚さより
も厚いと、可逆性感熱磁気記録媒体の曲げに追従するこ
とができず、亀裂が発生する場合がある。
The thickness of the anchor layer 204b is as follows.
As in the second embodiment, the concealing layer 203 is formed when the heat-resistant layer is formed.
b may be impregnated to a thickness such that a thin film is formed on the surface, and specifically 0.1 to 10 μm. When the thickness is larger than this thickness, it is impossible to follow the bending of the reversible thermosensitive magnetic recording medium, and a crack may be generated.

【0082】従って、アンカー層204bに紫外線を照
射することにより、その硬さは、印字、消去の際の加
熱、加圧に十分に耐えうる硬さとなり、さらに、隠蔽層
203bに含浸した架橋剤により、隠蔽層203bに主
成分として含有される活性水素を有する樹脂が硬化し、
隠蔽層203bの硬さが上昇すると共に、アンカー層2
04bと隠蔽層203bとの間の密着性が向上するの
で、可逆性感熱磁気記録媒体の印字消去繰り返し耐久性
を向上させることができる。
Therefore, by irradiating the anchor layer 204b with ultraviolet rays, the hardness of the anchor layer 204b becomes sufficiently high to withstand heating and pressure during printing and erasing, and furthermore, the crosslinking agent impregnated in the concealing layer 203b. Thereby, the resin having active hydrogen contained as a main component in the concealing layer 203b is cured,
As the hardness of the concealing layer 203b increases, the anchor layer 2
Since the adhesion between the cover layer 04b and the concealing layer 203b is improved, the durability of the reversible thermosensitive magnetic recording medium for repeated printing and erasing can be improved.

【0083】保護層101dには、その硬さを十分なも
のにするために紫外線硬化型樹脂を含有させる。また、
保護層101dの表面に適度な凹凸を形成して、保護層
表面のギラ付き感を防止し、保護層表面のキズの発生を
防止し、サーマルヘッドのセルフクリーニング性を付与
させるため、保護層101dにシリカを含有させること
が好ましい。
The protective layer 101d contains an ultraviolet curable resin in order to make its hardness sufficient. Also,
The protective layer 101d is formed with appropriate irregularities on the surface of the protective layer 101d to prevent glare on the surface of the protective layer, prevent scratches on the surface of the protective layer, and provide a self-cleaning property of the thermal head. It is preferred that silica be contained in the silica.

【0084】次に、図10に示される可逆性感熱磁気記
録媒体の製造方法について説明する。まず、基材201
上に磁気記録層301を形成した後、この磁気記録層3
01上に光不透過性顔料及び活性水素を有する樹脂を主
成分として含有する塗料を塗布、乾燥させて隠蔽層20
3bを形成する。
Next, a method of manufacturing the reversible thermosensitive magnetic recording medium shown in FIG. 10 will be described. First, the substrate 201
After forming the magnetic recording layer 301 thereon, the magnetic recording layer 3
01, a coating containing a light-opaque pigment and a resin having active hydrogen as a main component is applied and dried to form a concealing layer 20.
3b is formed.

【0085】その後、隠蔽層203b上に、紫外線硬化
型樹脂及び架橋剤を主成分として含有する塗料を塗布、
乾燥させ、紫外線を照射することにより硬化させてアン
カー層204bを形成する。
Thereafter, a coating material containing an ultraviolet-curable resin and a crosslinking agent as main components is applied on the concealing layer 203b.
The anchor layer 204b is formed by drying and curing by irradiating ultraviolet rays.

【0086】アンカー層204bを形成した後は、すぐ
に可逆性感熱記録層202bを形成せずに、エージング
を実行する。このエージングは、例えば60℃に加熱し
て24時間経過させる等であるが、このエージングは、
アンカー層204bに主成分として含有される架橋剤が
隠蔽層203を十分に硬化させるために実行するもので
あるから、この硬化が十分になるようなエージングとし
て、特にこの条件のエージングに限定されるものではな
い。
After forming the anchor layer 204b, aging is performed immediately without forming the reversible thermosensitive recording layer 202b. This aging is performed, for example, by heating to 60 ° C. and allowing 24 hours to elapse.
Since the cross-linking agent contained as a main component in the anchor layer 204b is used to sufficiently cure the concealing layer 203, the aging for sufficiently curing the opaque layer 203 is particularly limited to the aging under these conditions. Not something.

【0087】このエージングを実行した後に、ロイコ染
料、顕減色剤及び樹脂を主成分として含有する可逆性感
熱記録層202bを形成し、その後、この可逆性感熱記
録層202b上に、保護層101dを形成する。
After performing this aging, a reversible thermosensitive recording layer 202b containing a leuco dye, a color-reducing agent and a resin as main components is formed, and then a protective layer 101d is formed on the reversible thermosensitive recording layer 202b. Form.

【0088】従って、この可逆性感熱磁気記録媒体の製
造方法によれば、図10に示される構造の可逆性感熱磁
気記録媒体を製造する際、アンカー層204bを形成し
た後に、エージングを実行しているため、アンカー層2
04bに含有されている架橋剤が隠蔽層203bに十分
に硬化させ、従って、隠蔽層203bの硬さを十分なも
のとすることができると共に、隠蔽層203bとアンカ
ー層204bとの間の密着性を向上させることができ
る。
Therefore, according to the method for manufacturing a reversible thermosensitive magnetic recording medium, when the reversible thermosensitive magnetic recording medium having the structure shown in FIG. 10 is manufactured, aging is performed after forming the anchor layer 204b. Because the anchor layer 2
The cross-linking agent contained in the opaque layer 04b sufficiently cures the concealing layer 203b, so that the hardness of the concealing layer 203b can be made sufficient and the adhesion between the concealing layer 203b and the anchor layer 204b can be improved. Can be improved.

【0089】ここで、第2、第3の実施の形態における
顕減色剤には、4,4’−イソプロピリデンフェノー
ル、ベンジル−p−ヒドロキシベンゾエート、4,4’
−ジヒドロキシ−3,5’−ジアリルジフェニルスルフ
ォン、メチルービス(ヒドロキシフェニル)アセテー
ト、没食子酸エステル、p−フェニルフェノール等が挙
げられる。ロイコ染料としてはクリスタルバイオレット
ラクトン、3−インドリノ−3−p−ジメチルアミノフ
ェニル−6−ジメチルアミノフタリド、3−ジエチルア
ミノ−7−クロロフルオラン、2−(2−クロルフェニ
ルアミン)−ジエチルアミノフルオラン、2−(2−フ
ルオロフェニルアミノ)−6−ジエチルアミノフルオラ
ン、2−(2−フルオロフェニルアミノ)−6−ジ−n
−ブチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−
シクロヘキシルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ
−5−メチル−7−t−ブチルフルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−
ジエチルアミノ−6−メチル−7−p−ブチルアニリノ
フルオラン、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロロフ
ルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチ
ル−p−トルイジノ)−フルオラン、3−ピロリジノ−
6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ
−7−シクロヘキシルアミノフルオラン、3−N−メチ
ルシクロヘキシルアミノ−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−N−エチルペンチルアミノ−6−メチル
−7−アニリノフルオラン等を挙げることができる。
Here, the color-reducing agents in the second and third embodiments include 4,4'-isopropylidenephenol, benzyl-p-hydroxybenzoate, and 4,4 '.
-Dihydroxy-3,5'-diallyldiphenylsulfone, methyl-bis (hydroxyphenyl) acetate, gallic acid ester, p-phenylphenol and the like. Examples of leuco dyes include crystal violet lactone, 3-indolino-3-p-dimethylaminophenyl-6-dimethylaminophthalide, 3-diethylamino-7-chlorofluoran, and 2- (2-chlorophenylamine) -diethylaminofluoran. , 2- (2-fluorophenylamino) -6-diethylaminofluoran, 2- (2-fluorophenylamino) -6-di-n
-Butylaminofluoran, 3-diethylamino-7-
Cyclohexylaminofluoran, 3-diethylamino-5-methyl-7-t-butylfluoran, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-
Diethylamino-6-methyl-7-p-butylanilinofluoran, 3-cyclohexylamino-6-chlorofluoran, 2-anilino-3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) -fluoran, -Pyrrolidino-
6-methyl-7-anilinofluoran, 3-pyrrolidino-7-cyclohexylaminofluoran, 3-N-methylcyclohexylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-ethylpentylamino-6 -Methyl-7-anilinofluoran and the like.

【0090】前記通常無色ないし淡色の電子供与性染料
前駆体はそれぞれ1種または2種以上を混合して使用し
てもよい。
The above usually colorless or light-colored electron-donating dye precursors may be used alone or as a mixture of two or more.

【0091】バインダー樹脂としては、デンプン類、ヒ
ドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ゼラチン、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリアクリ
ル酸ソーダ、アクリル酸アミド/アクリル酸エステル共
重合体、アクリル酸アミド/アクリル酸エステル/メタ
クリル酸3元共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重
合体のアルカリ塩、エチレン/無水マレイン酸共重合体
のアルカリ塩等の水溶性高分子、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ウレタン、ポリアクリル酸エステル、スチレン/ブタジ
エン共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン共重合
体、アクリル酸メチル/ブタジエン共重合体、エチレン
/酢酸ビニル共重合体等のラテックスなどがあげられ
る。
Examples of the binder resin include starches, hydroxyethylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose, gelatin, casein, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, sodium polyacrylate, acrylamide / acrylate copolymer, acrylamide / Water-soluble polymers such as acrylate / methacrylic acid terpolymer, alkali salt of styrene / maleic anhydride copolymer, alkali salt of ethylene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl acetate, polyurethane, polyacryl Latexes such as acid esters, styrene / butadiene copolymer, acrylonitrile / butadiene copolymer, methyl acrylate / butadiene copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer and the like can be mentioned.

【0092】可逆性感熱記録材料において、発色を行う
には加熱に引き続き急速な冷却が起これば良く、消色を
行うには加熱後の冷却速度が遅ければ良い。例えば、適
当な熱源(サーマルヘッド、レーザー光、熱ロール、熱
スタンプ、高周波加熱、電熱ヒーターからの輻射熱、熱
風等)で比較的長い時間加熱すると、記録層だけでなく
支持体等も加熱される為に冷却速度が遅く、相分離状態
(消色状態)になる。発色状態および消色状態を任意に
発現させることができる。
In a reversible thermosensitive recording material, rapid cooling following heating is sufficient for color development, and a slow cooling rate after heating is sufficient for color erasing. For example, when heating with a suitable heat source (thermal head, laser light, heat roll, heat stamp, high frequency heating, radiant heat from an electric heater, hot air, etc.) for a relatively long time, not only the recording layer but also the support is heated. As a result, the cooling rate is low, resulting in a phase separation state (decoloring state). A color-developed state and a decolored state can be arbitrarily expressed.

【0093】ここで、可逆性感熱記録層202は3〜1
0μmの厚さに形成される。
Here, the reversible thermosensitive recording layer 202 is 3 to 1
It is formed to a thickness of 0 μm.

【0094】[0094]

【実施例】(実施例1) 保護層101、チップ保護層104、枠材103 ・PET材(東レ(株)製「ルミラーE-22 」 配線基板102 ・ポリイミド材 接着層105 ・ホットメルト材(東亞合成(株) 製「PES-111EE 」(Example 1) Protective layer 101, chip protective layer 104, frame material 103-PET material ("Lumirror E-22" manufactured by Toray Industries, Inc.) Wiring board 102-Polyimide material Adhesive layer 105-Hot melt material ( "PES-111EE" manufactured by Toagosei Co., Ltd.

【0095】上記の実施例1における接着後の各層に厚
みは、保護層101a及び101bの厚さは100μm
とし、チップ保護層104の厚さは250μmとし、枠
材103の厚さは50μmとし、配線基板102の厚さ
は50μmとし、接着層105a、105b、及び10
5cとし、製造後のカード本体の厚みは800μmであ
る。
The thickness of each layer after bonding in Example 1 was 100 μm for the protective layers 101a and 101b.
The thickness of the chip protection layer 104 is 250 μm, the thickness of the frame member 103 is 50 μm, the thickness of the wiring board 102 is 50 μm, and the adhesive layers 105a, 105b, and 10
5c, and the thickness of the card body after manufacture is 800 μm.

【0096】(実施例2) 〈リライトフィルム層の第1の具体例〉次に、図3に示
されるリライトフィルム層の第1の具体例を説明する。
(Example 2) <First specific example of rewrite film layer> Next, a first specific example of the rewrite film layer shown in FIG. 3 will be described.

【0097】可逆性感熱記録層202 ・ロイコ染料(3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、山本化成(株)製 商品名OD
B) ・顕減色剤(N−(4−ヒドロキシフェニル)−N’−
n−オクタデシル尿素) ・熱可塑製樹脂(アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)製
商品名ダイヤナールBR−80) ・紫外線硬化型樹脂(BASF(株)製 商品名LAR
OMER LR8864) ・光重合開始剤(チバガイギー(株)製 商品名ダロキ
ュア1173) ・溶剤(MEK:トルエン=1:1) 上記の材料を容器に入れ、2mmφジルコニアビーズを加
えてペイントシェーカーで60分間分散し、#26ワイ
ヤーバーで上記基材上に塗布し、80℃で5分間乾燥
し、160W/cm、30m/分、1パスの紫外線照射を
行った。これにより、膜厚6μmの可逆性感熱記録層2
02を形成した。
Reversible thermosensitive recording layer 202 Leuco dye (3-diethylamino-6-methyl-7-
Anilino Fluoran, manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.
B)-Color-reducing agent (N- (4-hydroxyphenyl) -N'-
n-octadecyl urea)-Thermoplastic resin (acrylic resin, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., product name: Dianal BR-80)-Ultraviolet-curable resin (product name, LAR manufactured by BASF Co., Ltd.)
OMER LR8864) Photopolymerization initiator (Darocur 1173, trade name, manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) Solvent (MEK: toluene = 1: 1) Put the above materials in a container, add 2 mmφ zirconia beads, and disperse with a paint shaker for 60 minutes. Then, it was applied on the above substrate with a # 26 wire bar, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and irradiated with ultraviolet light at 160 W / cm, 30 m / min and 1 pass. Thereby, the reversible thermosensitive recording layer 2 having a thickness of 6 μm was formed.
02 was formed.

【0098】保護層101 ・紫外線硬化型塗料(大日本インキ化学(株)製、商品
名ユニディック17−806、固形分80%) ・シリカ(富士シリシア化学(株)製 商品名サイリシ
ア436) ・シリコーンオイル(信越化学工業(株)製 商品名K
F96) ・溶剤(MEK:トルエン1:1) 上記の材料を容器に入れ、2mmφジルコニアビーズを加
えてペイントシェーカーで10分間分散した。次にこれ
を上記可逆性感熱記録層上に#4ワイヤーバーで塗布
し、80℃で5分間乾燥し、160W/cm、30m/
分、1パスの紫外線照射を行った。これにより、膜厚2
μmの保護層を形成した。
Protective layer 101-UV-curable paint (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name: Unidick 17-806, solid content: 80%)-Silica (trade name: Sylysia 436, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.) Silicone oil (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product name K
F96) Solvent (MEK: toluene 1: 1) The above materials were put in a container, 2 mmφ zirconia beads were added, and the mixture was dispersed with a paint shaker for 10 minutes. Next, this was coated on the reversible thermosensitive recording layer with a # 4 wire bar, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then heated at 160 W / cm and 30 m / m.
For one minute, one pass of ultraviolet irradiation was performed. Thereby, the film thickness 2
A protective layer having a thickness of μm was formed.

【0099】〈リライトフィルム層の第2の具体例〉次
に、図4に示されるリライトフィルム層の第2の具体例
を説明する。
<Second Specific Example of Rewrite Film Layer> Next, a second specific example of the rewrite film layer shown in FIG. 4 will be described.

【0100】隠蔽層203 ・アルミニウムペースト(旭化成工業(株)製 商品名
MH8803) ・ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製 商品名RV−
200) ・溶剤(MEK:トルエン1:1) 上記の材料を撹拌機で30分間撹拌した。次にこれをリ
ライトフィルム層の第1の具体例と同様の第1の基材上
に#10ワイヤーバーで塗布し、80℃で5分間乾燥
し、膜厚3μmの隠蔽層203を形成した。隠蔽層20
3上にリライトフィルム層の第1の具体例と同様に可逆
性感熱記録層202、保護層101を形成した。
Hiding layer 203-Aluminum paste (trade name: MH8803, manufactured by Asahi Kasei Corporation)-Polyester resin (trade name: RV-, manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
200) Solvent (MEK: toluene 1: 1) The above materials were stirred for 30 minutes with a stirrer. Next, this was coated on a first base material similar to the first specific example of the rewrite film layer using a # 10 wire bar, and dried at 80 ° C. for 5 minutes to form a 3 μm-thick concealing layer 203. Concealment layer 20
3, a reversible thermosensitive recording layer 202 and a protective layer 101 were formed in the same manner as in the first specific example of the rewritable film layer.

【0101】〈リライトフィルム層の第3の具体例〉次
に、図5に示されるリライトフィルム層の第3の具体例
を説明する。
<Third Specific Example of Rewrite Film Layer> Next, a third specific example of the rewrite film layer shown in FIG. 5 will be described.

【0102】アンカー層204 ・紫外線硬化型樹脂(大日本インキ化学(株)製、商品
名ユニディック17−806) ・光重合開始剤(チバガイギー(株)製 商品名イルガ
キュア184) ・イソシアネート系硬化剤(日本ポリウレタン工業
(株)製 商品名コロネートL) ・溶剤(MEK:トルエン1:1) 上記の材料をリライトフィルム層の第2の具体例と同様
にして第1の基材上に形成した隠蔽層203上に#14
ワイヤーバーで塗布し、80℃で5分間乾燥し、150
W/cm、30m/分、1パスで紫外線照射し、60℃/
24時間のエージングを行い、膜厚2μmのアンカー層
204を形成した。アンカー層204上にリライトフィ
ルム層の第1の具体例と同様に可逆性感熱記録層20
2、保護層101を形成した。
Anchor layer 204 UV curable resin (trade name Unidick 17-806, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Photopolymerization initiator (trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Geigy, Inc.) Isocyanate-based curing agent (Coronate L, trade name, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) Solvent (MEK: toluene 1: 1) Concealment formed on the first base material in the same manner as in the second specific example of the relite film layer # 14 on layer 203
Apply with a wire bar, dry at 80 ° C for 5 minutes,
W / cm, 30 m / min, UV irradiation in one pass, 60 ° C /
Aging was performed for 24 hours to form an anchor layer 204 having a thickness of 2 μm. The reversible thermosensitive recording layer 20 is formed on the anchor layer 204 in the same manner as in the first specific example of the rewritable film layer.
2. The protective layer 101 was formed.

【0103】次に、2つの接着層の厚さをそれぞれ変え
た状態でカードを形成した場合の実施例を説明する。
尚、この時に用いられる接着層の材質は、熱可塑性ポリ
エステル系ホットメルトで、溶融粘度130,000cps、樹脂
融点105〜120℃の条件下で行われるものとする。
Next, an embodiment in which a card is formed in a state where the thicknesses of the two adhesive layers are respectively changed will be described.
The material of the adhesive layer used at this time is a thermoplastic polyester hot melt, which is performed under the conditions of a melt viscosity of 130,000 cps and a resin melting point of 105 to 120 ° C.

【0104】(実施例3) 磁気記録層301 下記の組成の材料を、ボールミルで8時間分散して塗料
とし、この塗料にイソシアネート系硬化剤(日本ポリウ
レタン工業(株)製、商品名コロネートL)を3重量部
添加し、ワイヤーバーで塗工し、磁場配向処理を行い、
乾燥させ(100℃、2分間)、エージング(60℃、
96時間)を実行し、乾燥膜厚10μmに形成した。 ・バリウムフェライト(戸田工業(株)製、商品名MC
−127) ・カーボンブラック(三菱化学(株)製、商品名MA1
00) ・ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製、商品名バイロ
ン200) ・ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製、商品名バイロ
ン500) ・溶剤(MEK:トルエン:MIBK=1:2:1混合
物)
(Example 3) Magnetic recording layer 301 A material having the following composition was dispersed in a ball mill for 8 hours to obtain a paint, and this paint was coated with an isocyanate-based curing agent (Coronate L, trade name, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.). Is added by 3 parts by weight, coated with a wire bar, subjected to a magnetic field orientation treatment,
After drying (100 ° C, 2 minutes), aging (60 ° C,
96 hours) to form a dry film thickness of 10 μm.・ Barium ferrite (made by Toda Kogyo Co., Ltd., trade name MC)
-127) ・ Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name MA1
00) Polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Byron 200) Polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Byron 500) Solvent (MEK: toluene: MIBK = 1: 2: 1 mixture)

【0105】隠蔽層203 下記の組成の材料を攪拌機で30分間攪拌して塗料と
し、ワイヤーバーで塗工し、乾燥させ(100℃、1分
間)、乾燥膜厚2μmに形成した。 ・アルミニウムペースト(旭化成工業(株)製、商品名
MH8803) ・ニトロセルロース樹脂(旭化成工業(株)製、商品名
BT−SL) ・溶剤(MEK:トルエン=1:1混合物)
Hiding layer 203 A material having the following composition was stirred with a stirrer for 30 minutes to form a coating, applied with a wire bar, and dried (100 ° C., 1 minute) to form a dry film thickness of 2 μm.・ Aluminum paste (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: MH8803) ・ Nitrocellulose resin (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: BT-SL) ・ Solvent (MEK: toluene = 1: 1 mixture)

【0106】アンカー層204 下記の組成の塗料をワイヤーバーで塗工し、乾燥させ
(100℃、1分間)、紫外線照射(160W/cm3
灯、30m/分)を行った後、エージング(60℃、2
4時間)を実行し、乾燥膜厚1μmに形成した。 ・紫外線硬化型樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、
商品名ユニディック17−806、ウレタンアクリレー
ト系樹脂、酸価、測定限界以下) ・光重合開始剤(チバガイギー(株)製、商品名イルガ
キュア184) ・イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業
(株)製、商品名コロネートL) ・溶剤(MEK:トルエン=1:1混合物)
Anchor layer 204 A paint having the following composition is applied with a wire bar, dried (100 ° C., 1 minute), and irradiated with ultraviolet rays (160 W / cm 3).
Light, 30 m / min) and then aging (60 ° C, 2
4 hours) to form a dry film thickness of 1 μm.・ Ultraviolet curable resin (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Product name Unidick 17-806, urethane acrylate resin, acid value, below the measurement limit ・ Photopolymerization initiator (Ciba Geigy Co., Ltd., trade name Irgacure 184) ・ Isocyanate crosslinker (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) Solvent (MEK: toluene = 1: 1 mixture)

【0107】可逆性感熱記録層202 下記の組成の材料をペイントシェーカーで1時間分散し
て塗料とし、ワイヤーバーで塗工し、乾燥させ(80
℃、1分間)、乾燥膜厚6μmに形成した。 ・ロイコ染料(3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、山本化成(株)製、商品名OD
B) ・顕減色剤(N−(4−ヒドロキシフェニル)−N’−
n−オクタデシル尿素、特開平6−210954) ・アクリル樹脂(三菱レイヨン(株)製、商品名BR−
83) ・溶剤(MEK:トルエン=1:1混合物)
Reversible thermosensitive recording layer 202 A material having the following composition was dispersed in a paint shaker for 1 hour to obtain a paint, which was then coated with a wire bar and dried (80
(C, 1 minute) and a dry film thickness of 6 µm. -Leuco dye (3-diethylamino-6-methyl-7-
Anilino Fluoran, manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd., trade name OD
B)-Color-reducing agent (N- (4-hydroxyphenyl) -N'-
n-octadecyl urea, JP-A-6-210954) Acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name BR-)
83) Solvent (MEK: toluene = 1: 1 mixture)

【0108】保護層101 下記の組成の材料をペイントシェーカーで10分間分散
して塗料とし、ワイヤーバーで塗工し、乾燥させ(80
℃、1分間)、紫外線照射(160W/cm3灯、30
m/分)行った後、乾燥膜厚1μmに形成した。 ・紫外線硬化型塗料(大日本インキ化学工業(株)製、
商品名C3−374) ・シリカ(水澤化学(株)製、商品名P−603) ・溶剤(MEK:トルエン=1:1混合溶剤)
Protective Layer 101 A material having the following composition was dispersed with a paint shaker for 10 minutes to obtain a paint, which was then coated with a wire bar and dried (80)
° C, 1 minute), UV irradiation (160W / cm3 lamp, 30
m / min), and then formed into a dry film thickness of 1 μm.・ Ultraviolet curable paint (Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.)
• Silica (trade name: P-603, manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.) • Solvent (MEK: toluene = 1: 1 mixed solvent)

【0109】[0109]

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
によれば、カード本体より若干小さい配線基盤の周縁部
に枠材を設けることにより、有色のポリイミド樹脂によ
ってカード側面からの外観を損なうことがなく、さら
に、カードの中心部と周辺部との厚みを均一にすること
ができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the appearance from the side of the card is impaired by the colored polyimide resin by providing the frame material at the periphery of the wiring board slightly smaller than the card body. In addition, the thickness of the central portion and the peripheral portion of the card can be made uniform.

【0110】また、本発明の非接触型ICカードはIC
チップを保護するチップ保護層を有するため、プレス時
において厚み調整を必要とせず、従来からの圧力のみで
制御するプレス機によって簡単に製造することができ
る。これにより、積層された層に対して多段プレスを行
いICカードを製造するといった効率のよい製造工程を
実現することができ、そして、このときのプレスによっ
てICチップにかかるダメージも減少させることができ
る。
The non-contact type IC card according to the present invention is
Since it has a chip protection layer for protecting the chip, it does not require thickness adjustment at the time of pressing, and can be easily manufactured by a conventional press machine controlled only by pressure. This makes it possible to realize an efficient manufacturing process in which an IC card is manufactured by performing multi-stage pressing on the stacked layers, and it is also possible to reduce damage to the IC chip by the pressing at this time. .

【0111】また、ICチップ周辺をPET等の固い材
料の層で保護してあるため曲げ変形等の破壊に強い非接
触型ICカードを提供することができる。
Further, since the periphery of the IC chip is protected by a layer of a hard material such as PET, it is possible to provide a non-contact type IC card which is resistant to destruction such as bending deformation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による非接触型ICカードにおける第1
の実施の形態を示す概略断面図である。
FIG. 1 shows a first example of a non-contact type IC card according to the present invention.
1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明による非接触型カードの製造方法を説明
するための図である。
FIG. 2 is a view for explaining a method of manufacturing a non-contact type card according to the present invention.

【図3】本発明による非接触型カードの実施形態の熱圧
着処理における圧力変化及び温度変化の具体例を示すグ
ラフである。
FIG. 3 is a graph showing a specific example of a change in pressure and a change in temperature in a thermocompression bonding process of the embodiment of the non-contact card according to the present invention.

【図4】本発明の実施の形態における配線基板を説明す
るための第1の概略平面図である。
FIG. 4 is a first schematic plan view illustrating a wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態における配線基板を説明す
るための第2の概略平面図である。
FIG. 5 is a second schematic plan view for explaining the wiring board according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態における配線基板を説明す
るための概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view illustrating a wiring board according to the embodiment of the present invention.

【図7】本発明による非接触型カードにおける第2の実
施形態の第1例を示す概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing a first example of a second embodiment of the non-contact card according to the present invention.

【図8】本発明による非接触型カードにおける第2の実
施形態の第2例を示す概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing a second example of the second embodiment in the non-contact type card according to the present invention.

【図9】本発明による非接触型カードにおける第2の実
施形態の第3例を示す概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing a third example of the second embodiment in the non-contact type card according to the present invention.

【図10】本発明による非接触型カードにおける第3の
実施形態を示す概略構成図である。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of the non-contact type card according to the present invention.

【図11】従来技術における非接触型カードの第1の実
施の形態を示す概略構成図である。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a non-contact card according to the related art.

【図12】従来技術における非接触型カードの第2の実
施の形態を示す概略構成図である。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of a contactless card according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 保護層 102 配線基板 103 枠材 104 チップ保護層 105 接着層 201 基材 202 可逆性感熱記録層 203 隠蔽層 204 アンカー層 301 磁気記録層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Protective layer 102 Wiring board 103 Frame material 104 Chip protective layer 105 Adhesive layer 201 Base material 202 Reversible thermosensitive recording layer 203 Concealment layer 204 Anchor layer 301 Magnetic recording layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 茂木 真也 東京都文京区小石川四丁目14番12号 共同 印刷株式会社内 Fターム(参考) 2C005 MA07 MA12 MA14 MA19 MA39 PA01 PA05 PA11 PA15 PA17 PA19 PA20 PA25 PA29 PA40 QB03 QB05 RA04 RA11 RA15 5B035 BA03 BA05 BB09 CA01 CA23 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Shinya Mogi 4-14-12 Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo Kyodo Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2C005 MA07 MA12 MA14 MA19 MA39 PA01 PA05 PA11 PA15 PA17 PA19 PA20 PA25 PA29 PA40 QB03 QB05 RA04 RA11 RA15 5B035 BA03 BA05 BB09 CA01 CA23

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ICチップを搭載した配線基板を備える
非接触型ICカードにおいて、 前記配線基板の周縁部に枠材を有することを特徴とする
非接触型ICカード。
1. A non-contact type IC card including a wiring board on which an IC chip is mounted, wherein a non-contact type IC card has a frame material at a peripheral portion of the wiring board.
【請求項2】 前記配線基板と前記枠材とにより形成さ
れる層の面積は、 前記非接触型ICカード本体の面積とほぼ同じであるこ
とを特徴とする請求項1記載の非接触型ICカード。
2. The non-contact type IC according to claim 1, wherein an area of a layer formed by the wiring board and the frame material is substantially the same as an area of the non-contact type IC card main body. card.
【請求項3】 前記枠材の厚みは、 前記配線基板の厚みとほぼ同じであることを特徴とする
請求項1または2記載の非接触型ICカード。
3. The non-contact type IC card according to claim 1, wherein the thickness of the frame material is substantially the same as the thickness of the wiring board.
【請求項4】 前記配線基板と前記枠材とにより形成さ
れる層の上層に、 前記ICチップを収納可能なチップ保護層を有すること
を特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の非
接触型ICカード。
4. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a chip protection layer capable of accommodating the IC chip, above a layer formed by the wiring board and the frame member. The non-contact type IC card described in the above.
【請求項5】 前記チップ保護層は、 前記ICチップを収納可能な透孔を有し、 該透孔に前記ICチップを収容するように前記配線基板
と前記枠材とにより形成される層の上層に積層されてい
ることを特徴とする請求項4記載の非接触型ICカー
ド。
5. The chip protection layer has a through hole capable of accommodating the IC chip, and is a layer formed by the wiring board and the frame material so as to accommodate the IC chip in the through hole. The non-contact type IC card according to claim 4, wherein the non-contact type IC card is laminated on an upper layer.
【請求項6】 前記配線基板と前記枠材とにより形成さ
れる層と前記チップ保護層との間に、 前記配線基板と前記枠材とにより形成される層と前記チ
ップ保護層とを接着するための接着層を有し、 該接着層によって前記配線基板と前記枠材とを接着した
後において、 前記透孔に収容された前記ICチップの上面が、 前記チップ保護層の上面に対して略平滑な面となること
を特徴とする請求項5記載の非接触型ICカード。
6. A chip formed between the wiring board and the frame material and the chip protection layer are bonded between a layer formed by the wiring board and the frame material and the chip protection layer. After bonding the wiring board and the frame material with the adhesive layer, the upper surface of the IC chip housed in the through hole is substantially equal to the upper surface of the chip protection layer. The non-contact type IC card according to claim 5, wherein the non-contact type IC card has a smooth surface.
【請求項7】 最下層に設けられた第1の保護層と、 該第1の保護層の上層に設けられた第1の接着層と、 該第1の接着層の上層に設けられた、ICチップを搭載
する配線基板と該配線基板と厚みが同一で該配線基板の
周縁部に設けられた枠材との層と、 該配線基板と枠材との層の上層に設けられた、前記IC
チップ以上の面積の透孔を有する第2の接着層と、 該第2の接着層の上層に設けられた、前記ICチップを
収容可能な透孔を有するチップ保護層と、 該チップ保護層の上層に設けられた第3の接着層と、 該第3の接着層の上層に設けられた第2の保護層とを有
することを特徴とする非接触型ICカード。
7. A first protective layer provided on a lowermost layer, a first adhesive layer provided on an upper layer of the first protective layer, and a first adhesive layer provided on an upper layer of the first adhesive layer. A wiring board on which the IC chip is mounted, a layer of a frame material provided at the periphery of the wiring board having the same thickness as the wiring board, and a layer provided on an upper layer of the wiring board and the frame material; IC
A second adhesive layer having a through-hole having an area equal to or larger than a chip; a chip protective layer provided above the second adhesive layer and having a through-hole capable of accommodating the IC chip; A non-contact type IC card, comprising: a third adhesive layer provided on an upper layer; and a second protective layer provided on the third adhesive layer.
【請求項8】 最下層となる第1の保護層の上層に、第
1の接着層を積層する工程と、 該第1の接着層の上層に、ICチップを搭載する配線基
板と該配線基板と厚みが同一で該配線基板の周縁部に設
けられた枠材との層を積層する工程と、 該配線基板と枠材との層の上層に、前記ICチップ以上
の面積の透孔を有する第2の接着層を積層する工程と、 該第2の接着層の上層に、前記ICチップを収容可能な
透孔を有するチップ保護層を積層する工程と、 該チップ保護層の上層に、第3の接着層を積層する工程
と、 該第3の接着層の上層に、第2の保護層を積層する工程
とを有し、 前記各工程によって積層された各層を上下両方向から挟
み込み、圧力制御のみによってプレスし、熱圧着するこ
とを特徴とする非接触型ICカードの製造方法。
8. A step of laminating a first adhesive layer on an upper layer of a first protective layer serving as a lowermost layer, a wiring board for mounting an IC chip on the upper layer of the first adhesive layer, and the wiring board Laminating a layer with a frame material provided on the periphery of the wiring board having the same thickness as the wiring board; and having a through-hole having an area equal to or larger than the IC chip in an upper layer of the wiring board and the frame material. A step of laminating a second adhesive layer; a step of laminating a chip protective layer having a through hole capable of accommodating the IC chip on the second adhesive layer; 3) a step of laminating an adhesive layer, and a step of laminating a second protective layer on top of the third adhesive layer. A method for manufacturing a non-contact type IC card, wherein the non-contact type IC card is pressed and thermocompression-bonded.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006344084A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Hitachi Engineering & Services Co Ltd Ic card and manufacturing method therefor
JP2008083804A (en) * 2006-09-26 2008-04-10 Toppan Printing Co Ltd Information recording medium
JP2010176477A (en) * 2009-01-30 2010-08-12 Toppan Printing Co Ltd Non-contact ic card and method of manufacturing the same

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