JP2001284706A - Semiconductor laser light emitting device - Google Patents

Semiconductor laser light emitting device

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JP2001284706A
JP2001284706A JP2000099512A JP2000099512A JP2001284706A JP 2001284706 A JP2001284706 A JP 2001284706A JP 2000099512 A JP2000099512 A JP 2000099512A JP 2000099512 A JP2000099512 A JP 2000099512A JP 2001284706 A JP2001284706 A JP 2001284706A
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JP
Japan
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laser light
light emitting
semiconductor laser
emitting device
semiconductor
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JP2000099512A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Yuri
正昭 油利
Seiichiro Tamai
誠一郎 玉井
Kunio Ito
国雄 伊藤
Masaru Kazumura
勝 数村
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser light emitting device capable of locking a laser beam in phase when the beams are emitted from a plurality of light emitting spots at desired intervals. SOLUTION: The laser beams LB1 to LB5 emitted from the light emitting spots P1 to P5 of a semiconductor laser array element 10 are partly reflected at an incident face 21 of an optical part 20. Each reflected beam is turned to another light emitting spot.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高出力のレーザ光
を出力することができ、光記録、光通信、溶接などに好
適した高出力の半導体レーザ発光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-power semiconductor laser light emitting device which can output a high-power laser beam and is suitable for optical recording, optical communication, welding and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光記録、光通信、溶接などに用い
られる半導体レーザ発光装置では、高出力化に対して積
極的な開発が行われている。この中で、一の基板上にレ
ーザ光発振部を複数個ストライプ状に形成してアレイ構
造とした半導体レーザアレイ素子をレーザ光の光源とす
る、例えば、特開平5−226765号公報に開示され
た技術がある。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor laser light emitting devices used for optical recording, optical communication, welding, and the like have been actively developed for higher output. Among them, a semiconductor laser array element having a plurality of laser light oscillating portions formed in stripes on one substrate and having an array structure is used as a light source of laser light, for example, disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-226765. There is technology.

【0003】この公報に開示された技術は、一の基板上
の各レーザ光発振部を近接させて位置させることによ
り、レーザ光発振部内の各レーザ光がいわゆるしみ出し
によって結合し、各レーザ光発振部の出力端面から出射
されるレーザ光が位相同期されるというものである。し
たがって、各レーザ光発振部の出力端面から出射された
レーザ光を光学レンズなどにより容易に1つのスポット
に集光することができ、高出力を得ることができる
[0003] In the technique disclosed in this publication, the laser light oscillating sections on one substrate are positioned close to each other, so that the laser lights in the laser light oscillating section are combined by so-called exudation, and the respective laser light oscillating sections are combined. The laser light emitted from the output end face of the oscillation section is phase-locked. Therefore, the laser beam emitted from the output end face of each laser beam oscillator can be easily focused on one spot by an optical lens or the like, and a high output can be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、レーザ光発振部内の各レーザ光をしみ出し
によって結合させるようにしており、このしみ出し範囲
は通常数ミクロン以内と非常に狭いことから、各レーザ
光発振部は狭い領域に密接して設ける必要がある。従っ
て、電流ブロック層の幅を広くとれないという設計上の
制約を受け、製作が非常に困難である。また、各レーザ
光発振部が近接して位置するため、熱が狭い領域に閉じ
込められることになり発熱の度合いが高く、特に中央部
分での温度上昇が顕著となり、溶解の危険性や熱膨張に
よる波長変化など装置の信頼性の面で問題が残る。これ
らの問題を避けるために、位相同期を無視して電流ブロ
ック層の幅を広くして各レーザ光発振部の間隔を大きく
することも考えられるが、そうすれば1つのスポットに
集光させて高出力化することができない。
However, in the above prior art, each laser beam in the laser beam oscillating section is coupled by exudation, and the exudation range is usually very small, within several microns. In addition, each laser light oscillation section needs to be provided in close contact with a narrow area. Therefore, the design is very difficult due to design restrictions that the width of the current block layer cannot be made large. In addition, since each laser light oscillating portion is located close to each other, heat is confined in a narrow region, and the degree of heat generation is high, especially the temperature rise in the central portion becomes remarkable, and there is a risk of melting and thermal expansion. Problems remain in the reliability of the device such as wavelength change. In order to avoid these problems, it is conceivable to increase the width of the current block layer and to increase the interval between the laser light oscillating units, ignoring phase synchronization. High output cannot be achieved.

【0005】また、光量を増やして高出力化するため
に、このような光源を複数使用したとしても、他の半導
体レーザアレイ素子から出射されるレーザ光とは位相同
期することができないため高出力化にも限度がある。本
発明は、上記の問題に鑑み、製造上問題とならない間隔
を持って配されたレーザ光発振部あっても、そこから出
射されるレーザ光の波長と位相の整合を取る(以下、
「フェーズロック」という。)ことが可能な半導体レーザ
発光装置を提供することを目的としている。
Even if a plurality of such light sources are used in order to increase the amount of light to increase the output, the output cannot be synchronized with the laser light emitted from other semiconductor laser array elements. There is a limit to the conversion. In view of the above problems, the present invention achieves phase matching with the wavelength of laser light emitted from a laser light oscillating unit even if there is a laser light oscillating unit disposed at an interval that does not cause a problem in manufacturing (hereinafter, referred to as a laser light oscillating unit).
It is called "phase lock". It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser light emitting device capable of performing the above.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る半導体レーザ発光装置では、複数のレ
ーザ光発振部を有するレーザ光発光部品と、少なくとも
一のレーザ光発振部で発振し、その出力端面から出射さ
れたレーザ光の少なくとも一部を他のレーザ光発振部内
に折り返して入射させる光学部品とを備えることを特徴
とする。
In order to solve the above problems, in a semiconductor laser light emitting device according to the present invention, a laser light emitting component having a plurality of laser light oscillating portions, and an oscillator oscillated by at least one laser light oscillating portion. And an optical component for returning at least a part of the laser light emitted from the output end face to another laser light oscillating unit to be incident thereon.

【0007】これにより、製造上問題とならない間隔を
持って配されたレーザ光発振部あっても、一のレーザ光
発振部と他のレーザ光発振部の各出力端面から出射され
るレーザ光がフェーズロックされる。ここで、前記レー
ザ光発光部品は、一素子の中に2以上のレーザ光発振部
をアレイ状に配列した構成の半導体レーザアレイ素子で
あってもよい。
Thus, even if the laser light oscillating units are arranged at intervals that do not cause a problem in manufacturing, laser light emitted from each output end face of one laser light oscillating unit and another laser light oscillating unit is generated. Phase locked. Here, the laser light emitting component may be a semiconductor laser array device having a configuration in which two or more laser light oscillation units are arranged in an array in one device.

【0008】ここで、前記レーザ光発光部品は、複数の
半導体レーザアレイ素子をスタック状に配設した構成で
あってもよい。また、前記光学部品は、レーザ光発振部
の出力端面から出射したレーザ光の出射方向前方に配さ
れ、レーザ光の一部を透過し、残りを反射若しくは散乱
させる半透明部材であることを特徴とする。
Here, the laser light emitting component may have a configuration in which a plurality of semiconductor laser array elements are arranged in a stack. Further, the optical component is a translucent member that is disposed forward in the emission direction of the laser light emitted from the output end face of the laser light oscillation unit, transmits part of the laser light, and reflects or scatters the rest. And

【0009】また、前記光学部品は、平板形状をしてお
り、レーザ光の入射面に相当する一方の主面が平坦面も
しくは粗面を形成し、当該主面においてレーザ光の一部
を反射もしくは散乱させることを特徴とする。また、前
記光学部品は、平板形状をしており、レーザ光の入射面
に相当する一方の主面に回折格子を備え、当該回折格子
においてレーザ光の一部を所定の角度に回折することを
特徴とする。
Further, the optical component has a flat plate shape, and one main surface corresponding to a laser light incident surface forms a flat surface or a rough surface, and reflects a part of the laser light on the main surface. Alternatively, it is characterized by scattering. Further, the optical component has a flat plate shape, includes a diffraction grating on one main surface corresponding to a laser light incidence surface, and diffracts a part of the laser light at a predetermined angle in the diffraction grating. Features.

【0010】また、前記光学部品は、前記回折格子によ
り回折された±1次回折光を隣のレーザ光発振部内に折
り返して入射させることを特徴とする。また、前記光学
部品は、前記反射もしくは散乱されたレーザ光を他の半
導体レーザアレイ素子に属するレーザ光発振部内に折り
返して入射させることを特徴とする。
[0010] Further, the optical component is characterized in that the ± 1st-order diffracted light diffracted by the diffraction grating is turned back into the adjacent laser light oscillation section. Further, the optical component is characterized in that the reflected or scattered laser light is turned back into a laser light oscillation section belonging to another semiconductor laser array element.

【0011】これにより、異なる半導体レーザアレイ素
子の各レーザ光発振部から出射されるレーザ光をフェー
ズロックすることができる。また、前記光学部品は、透
過したレーザ光を集光する又は平行光にするホログラム
処理がされていてもよい。また、上記半導体レーザ発光
装置は、前記複数の半導体レーザアレイ素子がそれぞれ
半導体ウエハから切り出された基板を有し、各半導体レ
ーザアレイ素子の基板が同一の半導体ウエハから切り出
されたものであること特徴とする。
Thus, the laser light emitted from each laser light oscillating section of a different semiconductor laser array element can be phase-locked. Further, the optical component may be subjected to hologram processing for condensing the transmitted laser light or converting the transmitted laser light into parallel light. Further, the semiconductor laser light emitting device is characterized in that the plurality of semiconductor laser array elements each have a substrate cut out from a semiconductor wafer, and the substrate of each semiconductor laser array element is cut out from the same semiconductor wafer. And

【0012】また、前記半導体レーザアレイ素子は、実
屈折率導波構造を有した半導体レーザアレイ素子である
こと特徴とする。
Further, the semiconductor laser array element is a semiconductor laser array element having a real refractive index waveguide structure.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る半導体レーザ
発光装置の実施の形態を図面を参照しながら具体的に説
明する。 (第1の実施の形態)図1は、本第1の実施の形態に係
る半導体レーザ発光装置1の概略構成を示す斜視図であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the semiconductor laser light emitting device according to the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device 1 according to the first embodiment.

【0014】同図に示すように、半導体レーザ発光装置
1は、各発光点P1〜P5(ここでは、各出力端面にお
ける各レーザ光の主光線の出射される点をいう。)から
レーザ光LB1〜LB5を出射する半導体レーザアレイ
素子10と、光学部品20とから構成される。まず、半
導体レーザアレイ素子10の構成について説明する。図
2は、半導体レーザアレイ素子10の概略構成を示す斜
視図である。なお、レーザ光LB1〜LB5の主光線は
実線にて示し、その光束幅は破線にて示す。
As shown in FIG. 1, the semiconductor laser light emitting device 1 has a laser beam LB1 from each of the light emitting points P1 to P5 (here, the point at which the principal ray of each laser beam is emitted at each output end face). To LB5, and an optical component 20. First, the configuration of the semiconductor laser array element 10 will be described. FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of the semiconductor laser array element 10. The principal rays of the laser beams LB1 to LB5 are indicated by solid lines, and the luminous flux widths are indicated by broken lines.

【0015】半導体レーザアレイ素子10は、実屈折率
導波構造の赤色レーザ光発振部が5本列設されたアレイ
構造体のものであり、n型GaAs基板101上に、n型Ga
Asバッファ層102と、n型AlGaInPクラッド層103
と、GaInP/AlGaInP量子井戸構造活性層104と、p型
AlGaInPクラッド下地層105と、n型AlInP電流ブロッ
ク層106と、p型AlGaInPクラッド埋込層107と、
p型GaAsキャップ層108(ヒートシンク)とが順次積
層され、p型GaAsキャップ層108の表面に形成され
た、Cr/Pt/Auの三層が面状に積層されて形成されたp
型電極109と、n型基板101の裏面に形成されたAu
Ge/Ni/Auの三層が面状に積層されて形成されたn型電
極110とからなる。なお、p型AlGaInPクラッド埋込
層107にはp型電極109から注入される電流が狭窄
される電流チャネル111がストライプ状に形成されて
いる。
The semiconductor laser array element 10 is of an array structure in which five red laser light oscillating portions having a real refractive index waveguide structure are arranged in rows, and an n-type GaAs substrate 101 is provided with an n-type GaAs substrate.
As buffer layer 102 and n-type AlGaInP cladding layer 103
, GaInP / AlGaInP quantum well structure active layer 104, p-type
An AlGaInP cladding underlayer 105, an n-type AlInP current blocking layer 106, a p-type AlGaInP cladding buried layer 107,
A p-type GaAs cap layer 108 (heat sink) is sequentially laminated, and three layers of Cr / Pt / Au formed on the surface of the p-type GaAs cap layer 108 are planarly laminated and formed.
Type electrode 109 and Au formed on the back surface of n-type substrate 101
An n-type electrode 110 is formed by stacking three layers of Ge / Ni / Au in a plane. In the p-type AlGaInP cladding buried layer 107, a current channel 111 for narrowing a current injected from the p-type electrode 109 is formed in a stripe shape.

【0016】この半導体レーザアレイ素子10は上記各
層の積層方向に直交する方向に、へき開面120,12
1が対向して形成されている。一方のへき開面121に
おける光の反射率はほぼ100%であるのに対して、他
方のへき開面120における反射率は数%に設定されて
おり、このへき開面間でいわゆるレーザ光の共振器を構
成する。
The semiconductor laser array element 10 has cleavage planes 120 and 12 in a direction perpendicular to the laminating direction of the respective layers.
1 are formed facing each other. While the reflectance of light on one cleavage face 121 is almost 100%, the reflectance on the other cleavage face 120 is set to several percent, and a so-called laser light resonator is formed between the cleavage faces. Constitute.

【0017】以上の構造において、p型電極109から
注入される電流は、各電流チャネル111内を通じて狭
窄されて流れ、その下部に設けられたGaInP/AlGaInP量
子井戸構造活性層104においてレーザ発振が生じる。
n型AlInP電流ブロック層106の屈折率は、p型AlGaI
nPクラッド下地層105よりも小さいため、この屈折率
差によりレーザ光が各電流チャネル111に閉じ込めら
れる。この閉じ込められたレーザ光がへき開面120,
121間で形成される共振器寸法によって定まる波長で
発振し、へき開面120の各発光点P1〜P5からレー
ザ光LB1〜LB5となって出射される。各レーザ光L
B1〜LB5は、破線で示すようにその断面形状が半導
体レーザアレイ素子10の積層方向に長径を向けた楕円
形をし、各発光点P1〜P5から遠ざかるにつれて光束
幅を広げる。
In the above structure, the current injected from the p-type electrode 109 flows constricted through each current channel 111, and laser oscillation occurs in the GaInP / AlGaInP quantum well structure active layer 104 provided thereunder. .
The refractive index of the n-type AlInP current blocking layer 106 is p-type AlGaI
Since it is smaller than the nP cladding underlayer 105, the laser light is confined in each current channel 111 by this difference in the refractive index. The trapped laser light is applied to the cleavage plane 120,
The laser beam oscillates at a wavelength determined by the size of the resonator formed between the laser beams 121 and is emitted as laser beams LB1 to LB5 from the respective light emitting points P1 to P5 of the cleavage plane 120. Each laser beam L
Each of B1 to LB5 has an elliptical cross-sectional shape whose major axis is oriented in the stacking direction of the semiconductor laser array elements 10 as indicated by broken lines, and the light flux width increases as the distance from each of the light emitting points P1 to P5 increases.

【0018】光学部品20は、透明ガラス板から構成さ
れており、図1に示すように各レーザ光LB1〜LB5
が入射する入射面21と、この光学部品20を透過した
レーザ光を出射する出射面22を備える。図3は、光学
部品20と半導体レーザアレイ素子10の位置関係を示
すための半導体レーザ発光装置1の上面図である。な
お、各レーザ光LB1〜LB5の主光線を実線で示し、
反射光を破線で示す。
The optical component 20 is made of a transparent glass plate, and each of the laser beams LB1 to LB5 as shown in FIG.
And an emission surface 22 for emitting the laser light transmitted through the optical component 20. FIG. 3 is a top view of the semiconductor laser light emitting device 1 for illustrating a positional relationship between the optical component 20 and the semiconductor laser array element 10. The principal rays of the laser beams LB1 to LB5 are indicated by solid lines,
The reflected light is indicated by a broken line.

【0019】光学部品20は、平板透明ガラスから構成
され、入射したレーザ光の一部を反射して他の発光点P
1〜P5に折り返すためのものであり、レーザ光LB1
〜LB5の各主光線が入射面21の各入射点P6〜P1
0に略垂直に入射するように図示しない支持台で固定さ
れる。ここで、光学部品20と半導体レーザアレイ素子
10の間の距離は、少なくとも各発光点間距離よりも長
くなるように構成されている。これは、あまりに光学部
品20と半導体レーザアレイ素子10の間の距離が短す
ぎるとレーザ光が各発光点に折り返されなくなるためで
ある。
The optical component 20 is made of flat transparent glass, and reflects a part of the incident laser light to form another light emitting point P.
The laser light LB1 is used for folding back to 1 to P5.
LB5 are incident on the incident surface 21 at the respective incident points P6 to P1.
It is fixed by a support (not shown) so that the light is incident substantially perpendicularly to zero. Here, the distance between the optical component 20 and the semiconductor laser array element 10 is configured to be longer than at least the distance between each light emitting point. This is because if the distance between the optical component 20 and the semiconductor laser array element 10 is too short, the laser light will not be turned back to each light emitting point.

【0020】この光学部品20における入射面21の大
きさは、入射されたレーザ光をすべて反射できる大きさ
が望ましい。半導体レーザアレイ素子10から射出され
たレーザ光は光束幅を広げながら進むため、上記入射面
21の大きさは、光学部品20と半導体レーザアレイ素
子10との間の距離、および半導体レーザアレイ素子か
ら出射されるレーザ光の広がり角を考慮して決められ
る。
The size of the incident surface 21 of the optical component 20 is desirably large enough to reflect all the incident laser light. Since the laser light emitted from the semiconductor laser array element 10 travels while expanding the light beam width, the size of the incident surface 21 depends on the distance between the optical component 20 and the semiconductor laser array element 10 and the distance from the semiconductor laser array element. It is determined in consideration of the spread angle of the emitted laser light.

【0021】また、入射面21の表面は、平坦かつその
表面が鏡面研磨されており反射率はおよそ10〜30%
に設定される。そのため、入射された各レーザ光LB1
〜LB5の多くの部分は、透過されて出射面22から出
射される。一方、一部のレーザ光は広がり角に応じて入
射面21にて反射され、他の発光点P1〜P5に折り返
されるようになる。この反射率はあまり大きすぎると、
光学部品20を透過されるレーザ光の光量が少なくな
り、透過されたレーザ光を集光して高出力化する場合の
妨げとなる一方、反射率があまり小さすぎると各発光点
に折り返されるレーザ光量が少なくなり、後述のフェー
ズロックが起こりにくくなるので上記反射率程度が好ま
しい。
The surface of the entrance surface 21 is flat and the surface is mirror-polished, and the reflectance is about 10 to 30%.
Is set to Therefore, each of the incident laser beams LB1
Many parts of LB5 are transmitted and emitted from the emission surface 22. On the other hand, a part of the laser light is reflected on the incident surface 21 according to the spread angle, and is turned back to the other light emitting points P1 to P5. If this reflectance is too high,
The amount of the laser light transmitted through the optical component 20 is reduced, which hinders the condensing of the transmitted laser light to increase the output. On the other hand, if the reflectance is too small, the laser is turned back to each light emitting point. Since the amount of light is reduced and the later-described phase lock is less likely to occur, the above-described reflectance is preferable.

【0022】ここで、入射面21での各レーザ光LB1
〜LB5の反射の様子について具体的に説明するため、
発光点P3から出射されたレーザ光LB3を例にとって
説明する。なお、レーザ光LB1〜LB5の反射は同様
に起こるので他のレーザ光についての説明は省略する。
レーザ光LB3は、上述したように光束幅が広がりなが
ら進むため、入射面21に対して広がりながら入射され
る。ここで、入射されたレーザ光LB3の一部はその広
がりに応じた角度で反射され、発光点P3の両隣の発光
点P2,P4に折り返される反射光LB31,LB32
を生ずる(図示しないがP1,P5にも折り返され
る。)。
Here, each laser beam LB1 on the incident surface 21
To specifically explain the state of reflection at LB5,
A description will be given taking the laser beam LB3 emitted from the light emitting point P3 as an example. Since the reflection of the laser beams LB1 to LB5 occurs similarly, the description of the other laser beams is omitted.
As described above, the laser beam LB <b> 3 is incident on the incident surface 21 while expanding because the light beam travels while expanding the light beam width. Here, a part of the incident laser light LB3 is reflected at an angle corresponding to the spread, and reflected light LB31, LB32 which is turned back to the light emitting points P2, P4 on both sides of the light emitting point P3.
(Although not shown, it is also folded back to P1 and P5).

【0023】各発光点P2,P4に折り返された反射光
LB31,LB32は、その一部がへき開面120(図
2)を透過した後、各発光点に対応するへき開面12
0,121(図2)により構成される共振器内に戻され
る。そのため、各共振器内部においてはそのレーザ光が
往復しながら、いわゆる引き込み現象によって各反射光
LB31,LB32の位相および波長、すなわち、レー
ザ光LB3の位相および波長に共振したレーザ光を発生
させることとなる。したがって、各発光点P2,P4か
ら出射されるレーザ光LB2,LB4の波長および位相
がレーザ光LB3の波長および位相と整合される。つま
り、これらのレーザ光LB2,LB3,LB4は、フェ
ーズロックされることとなる。
The reflected lights LB31 and LB32 turned back to the light-emitting points P2 and P4 partially pass through the cleavage plane 120 (FIG. 2), and then pass through the cleavage planes 12 corresponding to the respective light-emitting points.
0, 121 (FIG. 2). Therefore, while the laser light reciprocates inside each resonator, a phase and a wavelength of each of the reflected lights LB31 and LB32, that is, a laser light resonating with the phase and the wavelength of the laser light LB3 are generated by a so-called pull-in phenomenon. Become. Therefore, the wavelengths and phases of the laser beams LB2 and LB4 emitted from the light emitting points P2 and P4 are matched with the wavelengths and phases of the laser beams LB3. That is, these laser beams LB2, LB3, and LB4 are phase-locked.

【0024】ここでは、発光点P3から出射されたレー
ザ光LB3について説明したが、このような反射は図3
の破線で示すように他の発光点から出射されたレーザ光
においても同様に発生しており、各発光点P1〜P5か
ら出射されたレーザ光はお互いに隣り合う発光点および
図示しないが他の発光点にも入射される。したがって、
連鎖的にすべてのレーザ光LB1〜LB5がフェーズロ
ックされることになるのである。
Here, the laser beam LB3 emitted from the light emitting point P3 has been described.
Similarly, the laser light emitted from the other light-emitting points P1 to P5 is generated by the laser light emitted from each of the light-emitting points P1 to P5, as shown by the broken line in FIG. It is also incident on the light emitting point. Therefore,
Thus, all the laser beams LB1 to LB5 are phase-locked in a chain.

【0025】以上の構成により、レーザ光発振部間の間
隔が大きく光のしみ出しによるレーザ光の位相同期をす
ることができないような半導体レーザアレイ素子の場合
でも、光学部品によって、出射されたレーザ光の一部を
他の発光点に折り返しするように構成しているので、各
発光点から出射されるレーザ光をフェーズロックするこ
とができる。
With the above arrangement, even in the case of a semiconductor laser array element in which the distance between the laser light oscillating portions is large and the phase of the laser light cannot be synchronized due to the exudation of the light, the laser light emitted by the optical component is used. Since a part of the light is folded back to another light emitting point, the laser light emitted from each light emitting point can be phase-locked.

【0026】なお、上記入射面21の表面は不規則な凹
凸形状を有していてもよい。例えば、入射面21の表面
がすりガラスのような不規則な凹凸形状を有していれ
ば、レーザ光が入射すると乱反射がおこり、一部のレー
ザ光しか発光点に折り返ししない平坦形状にくらべると
発光点に折り返される光量が増加し、フェーズロックを
より確実に起こさせることができる。
The surface of the incident surface 21 may have an irregular shape. For example, if the surface of the incident surface 21 has an irregular shape such as frosted glass, irregular reflection occurs when a laser beam is incident, and light emission occurs when compared to a flat shape in which only a part of the laser beam is turned back to a light emitting point. The amount of light turned back to the point increases, and the phase lock can be more reliably caused.

【0027】(第2の実施の形態)上記第1の実施の形
態においては、光学部品20の入射面21が平坦な形状
をしていたが、入射面に回折格子を備えてもよい。図4
は、本第2の実施の形態に係る半導体レーザ発光装置2
の概略構成を示す斜視図である。なお、図1とは、光学
部品30が異なるのみであり、図1と同じ番号を付した
ものは同じ構成要素であるので詳しい説明は省略する。
また、回折格子は分かり易くするため、その大きさをか
なり大きく示している。
(Second Embodiment) In the first embodiment, the incident surface 21 of the optical component 20 has a flat shape, but a diffraction grating may be provided on the incident surface. FIG.
Is a semiconductor laser light emitting device 2 according to the second embodiment.
It is a perspective view which shows schematic structure of. 1 is different from FIG. 1 only in that the optical component 30 is different, and the components denoted by the same reference numerals as those in FIG.
Further, the size of the diffraction grating is considerably large for easy understanding.

【0028】光学部品30は、透明ガラスから構成さ
れ、半導体レーザアレイ素子10の積層方向に沿った、
凹部310と凸部311が交互に並んで構成するストラ
イプ状の溝が形成された回折格子を入射面31に備え
る。この光学部品30は、第1の実施の形態の光学部品
20と同様、他の発光点にレーザ光を折り返すための光
学部品であり、異なる点は、回折格子により所定方向に
回折してレーザ光を効率よく各発光点に折り返す構成と
なっている点である。
The optical component 30 is made of transparent glass, and extends along the direction in which the semiconductor laser array elements 10 are stacked.
The incident surface 31 is provided with a diffraction grating having stripe-shaped grooves formed by alternately arranging the concave portions 310 and the convex portions 311. This optical component 30 is an optical component for turning the laser light back to another light emitting point, similarly to the optical component 20 of the first embodiment, and the difference is that the laser light is diffracted in a predetermined direction by the diffraction grating. Is efficiently folded back to each light emitting point.

【0029】図5は、半導体レーザ発光装置の上面図で
ある。なお、各レーザ光LB1〜LB5の主光線を実線
で示し、回折光を破線で示す。また、回折格子は分かり
易くするため、その大きさをかなり大きく示している。
光学部品30は、その入射面31に半導体レーザアレイ
素子10から出射されるレーザ光LB1〜LB5の主光
線が垂直に入射するように図示しない支持台に支持され
る。この光学部品30と半導体レーザアレイ素子の間の
距離は、以下に説明するような回折条件によって所定の
距離となるように決められる。
FIG. 5 is a top view of the semiconductor laser light emitting device. The principal rays of the laser beams LB1 to LB5 are indicated by solid lines, and the diffracted light is indicated by broken lines. Further, the size of the diffraction grating is considerably large for easy understanding.
The optical component 30 is supported by a support (not shown) so that the principal rays of the laser beams LB1 to LB5 emitted from the semiconductor laser array element 10 are vertically incident on the incident surface 31 thereof. The distance between the optical component 30 and the semiconductor laser array element is determined so as to be a predetermined distance based on diffraction conditions described below.

【0030】ここで、レーザ光LB3を例にとって回折
現象について説明する。レーザ光LB3は、半導体レー
ザアレイ素子10の発光点P3から出射され、入射面3
1の入射点P13に入射するとともに、その一部が反射
・回折されて−1次回折光LB33と+1次回折光LB
34とを生じ、各隣の発光点P2、P4に折り返され
る。
Here, the diffraction phenomenon will be described using the laser beam LB3 as an example. The laser beam LB3 is emitted from the light emitting point P3 of the semiconductor laser array element 10, and
1 and is partially reflected and diffracted into the -1st-order diffracted light LB33 and the + 1st-order diffracted light LB.
34, and are turned back to the adjacent light emitting points P2 and P4.

【0031】図6は、上記回折条件について説明するた
めの半導体レーザ発光装置2の上面から見たレーザ光L
B3の光路図である。なお、回折格子の大きさなどは分
かり易くするためにかなり大きく表現している。回折格
子は、凹部310と凸部311が周期Dで交互に並んで
ストライプ状の溝が構成されたものであり、凹部310
の入射点P13に入射されたレーザ光LB3の一部は回
折され、±1次回折光のレーザ光LB34、LB35を
生ずる。この±1次回折光LB34,LB35は、所定
の回折角θをもって回折される。
FIG. 6 shows a laser beam L viewed from the top of the semiconductor laser light emitting device 2 for explaining the above diffraction conditions.
It is an optical path diagram of B3. It should be noted that the size of the diffraction grating and the like are considerably large for easy understanding. The diffraction grating is configured such that concave portions 310 and convex portions 311 are alternately arranged at a period D to form a stripe-shaped groove.
A part of the laser beam LB3 incident on the incident point P13 is diffracted to generate ± 1st-order diffracted laser beams LB34 and LB35. The ± first-order diffracted lights LB34 and LB35 are diffracted at a predetermined diffraction angle θ.

【0032】ここで、上記回折角θは、レーザ光LB3
の波長をλとすると式1で与えられる。 Dsinθ=λ (式1) また、発光点P3−P4(P2)間の距離をX、発光点
P3から入射面312までの距離をLとすると、±1次
回折光LB34,35が発光点P2、P4に折り返しさ
れる回折角θは、式2の関係を満たす。
Here, the diffraction angle θ is the laser beam LB3
Is given by Equation 1 where λ is the wavelength of Dsin θ = λ (Equation 1) Further, assuming that the distance between the light emitting points P3 and P4 (P2) is X and the distance from the light emitting point P3 to the incident surface 312 is L, the ± 1st-order diffracted lights LB34 and LB35 become the light emitting points P2 and The diffraction angle θ folded back to P4 satisfies the relationship of Expression 2.

【0033】X=Ltanθ (式2) 上記式1、式2より、発光点間距離Xと距離Lの関係は
式3で与えられる。 L=〔(D/λ)2−1〕0.5 ・X (式3) つまり、この式3を満たせば、発光点P3から出射され
たレーザ光LB3は、所定の回折角で効率よく両隣の発
光点P2,P4へ折り返されることになる。すなわち、
波長λ、回折格子の凹部と凸部の周期Dが決まりさえす
れば、この条件を満たす距離Lとなる位置に光学部品3
0を設置すればよい。例えば、λ=0.65μm(赤色
レーザ)、D=2μm、X=200μmとすれば、L=
582μmとなる。なお、周期Dに対する凸部311の
幅の比、すなわち回折格子のデューティーは、0より大
きく1より小さい任意の値でよいが、0.5すなわち凸
部311と凹部310が等幅になるときに最も回折格子
が高くなるので望ましい。
X = Ltanθ (Equation 2) From Equations 1 and 2, the relationship between the distance X between the light emitting points and the distance L is given by Equation 3. L = [(D / λ) 2-1] 0.5 · X (Equation 3) In other words, if Expression 3 is satisfied, the laser beam LB3 emitted from the light emitting point P3 is efficiently located on both sides at a predetermined diffraction angle. At the light emitting points P2 and P4. That is,
As long as the wavelength λ and the period D between the concave portion and the convex portion of the diffraction grating are determined, the optical component 3 is located at a distance L satisfying this condition.
0 may be set. For example, if λ = 0.65 μm (red laser), D = 2 μm, and X = 200 μm, L =
582 μm. The ratio of the width of the convex portion 311 to the period D, that is, the duty of the diffraction grating may be any value greater than 0 and less than 1, but it is 0.5 when the convex portion 311 and the concave portion 310 have the same width. The highest diffraction grating is desirable.

【0034】このように隣の発光点P2,P4にレーザ
光が効率よく折り返されることにより、第1の実施の形
態同様、発光点P2,P3,P4から出射されるレーザ
光LB2,LB3、LB4がフェーズロックされるよう
になる。このフェーズロックは、レーザ光LB2,LB
3、LB4のみにおいて発生しているのではなく、図5
に示すように、各発光点P1〜P5から出射されたレー
ザ光LB1〜LB5がお互いに隣り合う発光点へ効率よ
く折り返しされるため、連鎖的にレーザ光LB1〜LB
5すべてがフェーズロックされることとなる。
As described above, the laser light is efficiently turned back to the adjacent light-emitting points P2 and P4, so that the laser light LB2, LB3 and LB4 emitted from the light-emitting points P2, P3 and P4, as in the first embodiment. Will be phase locked. This phase lock is performed by the laser beams LB2 and LB
3, not occurring only in LB4,
As shown in the figure, the laser beams LB1 to LB5 emitted from the respective light emitting points P1 to P5 are efficiently turned back to the adjacent light emitting points, so that the laser beams LB1 to LB are chained.
5 will be phase locked.

【0035】上記構成によれば、光学部品30の入射面
31に回折格子を形成しているため、第1の実施の形態
に比べ、入射面に入射したレーザ光を効率よく発光点に
折り返しすることができるので、入射面の反射率を上げ
ることなく、より確実にレーザ光をフェーズロックする
ことができる。 (第3の実施の形態)上記第1の実施の形態においては
1つの半導体レーザアレイ素子を使用していたが、この
半導体レーザアレイ素子を複数スタックさせて使用して
もよい。
According to the above configuration, since the diffraction grating is formed on the incident surface 31 of the optical component 30, the laser light incident on the incident surface is efficiently turned back to the light emitting point as compared with the first embodiment. Therefore, the laser light can be phase-locked more reliably without increasing the reflectance of the incident surface. (Third Embodiment) In the first embodiment,
Although one semiconductor laser array element has been used, a plurality of semiconductor laser array elements may be stacked and used.

【0036】図7は、本第3の実施の形態に係る半導体
レーザ発光装置3の概略構成を示す斜視図である。図1
と異なる点は、半導体レーザアレイ素子10a,10
b,10cをスタックさせて用いていることのみであ
り、同じ番号を付したものについては同じ構成要素であ
るため説明を省略する。また、これら半導体レーザアレ
イ素子10a,10b,10cについては同種のものを
使用しており、半導体レーザ、レーザ光、発光点などは
添え字a,b,cを付して区別している。
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device 3 according to the third embodiment. Figure 1
The difference from the semiconductor laser array elements 10a and 10
The only difference is that b and 10c are stacked and used, and the components with the same numbers are the same components, and the description is omitted. The same type of semiconductor laser array elements 10a, 10b, 10c are used, and semiconductor lasers, laser beams, light emitting points, etc. are distinguished by adding suffixes a, b, c.

【0037】同図に示すように、スタックされた半導体
レーザアレイ素子10a,10b,10cは、各半導体
レーザアレイ素子の発光点がそのピッチを等しくしてス
タック方向に一列に並ぶように(例えば、P1a,P1
b,P1c)構成される。なお、個々の半導体レーザア
レイ素子10a,10b,10cにおいては第1の実施
の形態と同様の構成であるので、光学部品20に反射さ
れたレーザ光により、各同一半導体レーザアレイ素子1
0a,10b,10cから出射される各5本ずつのレー
ザ光においては、それぞれがフェーズロックされる。
As shown in the figure, the stacked semiconductor laser array elements 10a, 10b and 10c are arranged such that the light emitting points of the semiconductor laser array elements are arranged in a line in the stacking direction with the same pitch. P1a, P1
b, P1c). Since the individual semiconductor laser array elements 10a, 10b, and 10c have the same configuration as in the first embodiment, the same semiconductor laser array element 1
Each of the five laser beams emitted from Oa, 10b, and 10c is phase-locked.

【0038】図8は、半導体レーザ発光装置3を側面か
ら見たレーザ光の光路図である。各レーザ光LB1a〜
LB1cの主光線を実線で示し、反射光を破線で示す。
半導体レーザアレイ素子10a,10b,10cの各発
光点P1a〜P1cから出射されたレーザ光LB1a〜
LB1cは、光学部品20の入射面21における各入射
点P6a〜P6cに入射される。これらの各レーザ光L
B1a〜LB1cの一部は入射面21にて反射される。
FIG. 8 is an optical path diagram of laser light when the semiconductor laser light emitting device 3 is viewed from the side. Each laser beam LB1a ~
The principal ray of LB1c is indicated by a solid line, and the reflected light is indicated by a broken line.
Laser beams LB1a to LB1a emitted from the respective light emitting points P1a to P1c of the semiconductor laser array elements 10a, 10b, and 10c.
The LB1c is incident on each of the incident points P6a to P6c on the incident surface 21 of the optical component 20. Each of these laser beams L
Part of B1a to LB1c is reflected on the incident surface 21.

【0039】ここで、各レーザ光の反射は同様に発生す
るため、発光点P1bから出射されたレーザ光LB1b
を例にとってその反射の様子を説明する。レーザ光LB
1bは、上述したように光束幅が広がりながら進むた
め、一部のレーザ光は入射面21に対して所定の入射角
をもって入射される。この入射面21に所定の入射角を
もって入射したレーザ光の一部は反射され、発光点P1
bのスタック方向に隣り合う発光点P1a,P1cに折
り返しされる反射光LB11b,LB12bとなる。
Here, since the reflection of each laser beam occurs similarly, the laser beam LB1b emitted from the light emitting point P1b
An example of the reflection will be described with reference to FIG. Laser light LB
1b travels while the light beam width is widened as described above, so that a part of the laser light is incident on the incident surface 21 at a predetermined incident angle. A part of the laser light incident on the incident surface 21 at a predetermined incident angle is reflected, and the light emitting point P1
The reflected lights LB11b and LB12b are turned back to the light emitting points P1a and P1c adjacent to each other in the stacking direction b.

【0040】したがって、異なる半導体レーザアレイ素
子に属するスタック方向に並んだ発光点P1a〜P1c
から出射されるレーザ光LB1a〜LB1cにおいても
共振によりフェーズロックされることとなる。このスタ
ック方向のフェーズロックは他の発光点においても同様
に発生する上、上述したように同一半導体レーザアレイ
素子内の発光点でもフェーズロックされるので、結果と
して半導体レーザアレイ素子10a,10b,10cか
ら出射されるレーザ光すべてがフェーズロックされるこ
ととなるのである。
Therefore, the light emitting points P1a to P1c belonging to different semiconductor laser array elements and arranged in the stack direction
The laser beams LB1a to LB1c emitted from are also phase-locked by resonance. This phase lock in the stack direction similarly occurs at other light emitting points, and as described above, the phase lock is also performed at the light emitting points within the same semiconductor laser array element. As a result, the semiconductor laser array elements 10a, 10b, and 10c are obtained. All of the laser light emitted from the laser is phase-locked.

【0041】以上の構成により、複数の半導体レーザア
レイ素子をスタックして使用した場合でも、出射された
レーザ光が同一および異なる半導体レーザアレイ素子に
属する隣り合う発光点へ折り返されることから、すべて
の発光点から出射されるレーザ光がフェーズロックされ
ることとなる。したがって、従来では不可能であった異
なる半導体レーザアレイ素子間でのフェーズロックを可
能とし、フェーズロックされたレーザ光の本数を増加さ
せて、より高出力化をすることができる。
With the above configuration, even when a plurality of semiconductor laser array elements are stacked and used, the emitted laser light is folded back to adjacent light emitting points belonging to the same and different semiconductor laser array elements. The laser light emitted from the light emitting point is phase locked. Therefore, it is possible to perform phase locking between different semiconductor laser array elements, which was impossible in the related art, and to increase the number of phase-locked laser beams, thereby achieving higher output.

【0042】なお、このように複数の半導体レーザアレ
イ素子をスタックして用いる場合には、各半導体レーザ
アレイ素子のn型GaAs基板101(図2)を同じ半導体
ウエハから切り出したものを使用することが好ましい。
出射されるレーザ光の波長は、この半導体ウエハの特性
によって決まるため、異なる半導体ウエハから切り出し
たものではその製造条件により半導体ウエハの特性がわ
ずかに異なり、それぞれのレーザ光の波長が微妙に異な
る可能性がある。一方、同じ半導体ウエハから切り出し
たものを各半導体レーザアレイ素子に使用すれば、出射
されるレーザ光の波長が略一致しているので、位相を合
わせるためだけの少ないレーザ光量でフェーズロックが
可能となる。
When a plurality of semiconductor laser array elements are stacked and used as described above, the n-type GaAs substrate 101 (FIG. 2) of each semiconductor laser array element must be cut out from the same semiconductor wafer. Is preferred.
Since the wavelength of the emitted laser light is determined by the characteristics of this semiconductor wafer, the characteristics of the semiconductor wafer may differ slightly depending on the manufacturing conditions when cut out from different semiconductor wafers, and the wavelength of each laser light may be slightly different. There is. On the other hand, if a laser beam cut out from the same semiconductor wafer is used for each semiconductor laser array element, the wavelengths of the emitted laser beams are approximately the same, so that phase locking can be performed with a small amount of laser light only for adjusting the phase. Become.

【0043】(第4の実施の形態)上記第3の実施の形
態では光学部品20の入射面が平面であったが、この入
射面に第2の実施の形態のような回折格子(ただし、回
折方向が異なる。)を有していても良い。図9は、本第
4の実施の形態に係る半導体レーザ発光装置4の概略構
成を示す斜視図である。図7とは、光学部品40が異な
るのみであり、その他の構成については同じものである
ため説明を省略する。
(Fourth Embodiment) In the third embodiment, the incident surface of the optical component 20 is a flat surface. However, a diffraction grating as in the second embodiment (however, Diffraction directions are different). FIG. 9 is a perspective view showing a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device 4 according to the fourth embodiment. 7 is different from FIG. 7 only in the optical component 40, and the other configuration is the same, so that the description is omitted.

【0044】光学部品40は、レーザ光を入射する入射
面41が回折格子を備えている。この回折格子は、各半
導体レーザアレイ素子10a,10b,10cの積層方
向直交方向に沿った、凹部410と凸部411が交互に
並んで構成するストライプ状の溝が並んで構成され、入
射されたレーザ光を積層方向に回折する。一方、積層方
向直交方向にはレーザ光は回折せず、反射が起こるのみ
である。このため、第1の実施の形態と同様、光学部品
40の表面反射により、各同一半導体レーザアレイ素子
10a,10b,10cから出射される各5本ずつのレ
ーザ光がそれぞれ他の発光点に折り返しされ、同一半導
体レーザアレイ素子内でフェーズロックされるようにし
ている。
In the optical component 40, the incident surface 41 on which the laser beam enters has a diffraction grating. This diffraction grating is formed by arranging stripe-shaped grooves formed by alternately arranging concave portions 410 and convex portions 411 along a direction orthogonal to the laminating direction of the respective semiconductor laser array elements 10a, 10b, and 10c. Laser light is diffracted in the stacking direction. On the other hand, the laser beam does not diffract in the direction orthogonal to the lamination direction, but only reflects. Therefore, as in the first embodiment, five laser beams emitted from each of the same semiconductor laser array elements 10a, 10b, and 10c are turned back to other light emitting points by surface reflection of the optical component 40, respectively. The phase is locked in the same semiconductor laser array element.

【0045】図10は、本第4の実施の形態に係る半導
体レーザ発光装置の側面から見たレーザ光の光路図であ
る。各レーザ光LB1a〜LB1cの主光線を実線で示
し、±1次回折光を破線で示す。なお、出射された各レ
ーザ光については同様に進行するため、一例として各発
光点P1a,P1b,P1cから出射されるレーザ光L
B1a,LB1b,LB1cについて説明する。
FIG. 10 is an optical path diagram of laser light viewed from the side of the semiconductor laser light emitting device according to the fourth embodiment. The principal rays of the laser beams LB1a to LB1c are indicated by solid lines, and the ± 1st-order diffracted lights are indicated by broken lines. Since the emitted laser beams proceed in the same manner, the laser beam L emitted from each of the light emitting points P1a, P1b, P1c is an example.
B1a, LB1b, and LB1c will be described.

【0046】レーザ光LB1a,LB1b,LB1c
は、光学部品40の入射面41に入射される。入射され
たレーザ光LB1a,LB1b,LB1cは、ほとんど
が透過されて出射面42から出射されるが、各一部のレ
ーザ光は回折格子の形成された入射面41の入射点P2
0a,20b,20cにおいて反射され、半導体レーザ
アレイ素子のスタック方向に回折される。
Laser light LB1a, LB1b, LB1c
Is incident on the incident surface 41 of the optical component 40. Most of the incident laser beams LB1a, LB1b, and LB1c are transmitted through and exit from the exit surface 42, but a part of each of the laser beams is incident on an incident point P2 on an entrance surface 41 on which a diffraction grating is formed.
The light is reflected at 0a, 20b, and 20c and diffracted in the stacking direction of the semiconductor laser array element.

【0047】ここで、半導体レーザアレイ素子10bの
発光点P1bから出射されたレーザ光LB1bを例にと
って説明する。回折されたレーザ光の一部は、−1次回
折光であるレーザ光LB13bと、+1次回折光である
レーザ光LB14bとなる。図11は、本第4の実施の
形態にかかる半導体レーザ発光装置4を側面から見たレ
ーザ光LB1bの反射の様子を示す光路図である。な
お、回折格子の大きさなどについては分かり易くするた
め大きく表している。
Here, the laser beam LB1b emitted from the light emitting point P1b of the semiconductor laser array element 10b will be described as an example. Part of the diffracted laser light becomes a laser light LB13b that is a -1st-order diffracted light and a laser light LB14b that is a + 1st-order diffracted light. FIG. 11 is an optical path diagram showing a state of reflection of the laser beam LB1b when the semiconductor laser light emitting device 4 according to the fourth embodiment is viewed from the side. Note that the size of the diffraction grating and the like are shown large for easy understanding.

【0048】同図に示すように、半導体レーザアレイ素
子10bの発光点P1bから出射されたレーザ光LB1
bは、入射面41に設けられた回折格子の凹部410の
入射点P20bに入射すると、その一部は半導体レーザ
アレイ素子のスタック方向に所定の回折角θで回折され
たレーザ光LB13b、LB14bとなり、各発光点P
1a,P1cに折り返しされる。なお、同図に示す距離
Lなどの回折条件については、第2の実施の形態で説明
した式(3)を満たすようにすれば、レーザ光LB13
b、LB14bが所定の回折角をもって各発光点P1
a,P1cに効率よく折り返しされる。このようなレー
ザ光の折り返しはすべてのスタック方向に隣り合う発光
点において相互に発生する。
As shown in the figure, the laser beam LB1 emitted from the light emitting point P1b of the semiconductor laser array element 10b
When b enters the incident point P20b of the concave portion 410 of the diffraction grating provided on the incident surface 41, a part thereof becomes laser beams LB13b and LB14b diffracted at a predetermined diffraction angle θ in the stack direction of the semiconductor laser array element. , Each light emitting point P
1a and P1c. Note that the diffraction condition such as the distance L shown in the figure satisfies the expression (3) described in the second embodiment, so that the laser light LB13
b, the LB 14b has a predetermined diffraction angle at each light emitting point P1.
a, P1c is efficiently folded. Such folding of the laser beam occurs mutually at all light emitting points adjacent in all stack directions.

【0049】したがって、第3の実施の形態と同様に、
半導体レーザアレイ素子10a,10b,10cから出
射されるレーザ光すべてを共振によりフェーズロックす
ることができるうえ、回折格子を備えることで、異なる
半導体レーザアレイ素子間のスタック方向へレーザ光を
効率よく折り返しさせることができるのでフェーズロッ
クをより確実に行うことができる。
Therefore, similarly to the third embodiment,
All of the laser beams emitted from the semiconductor laser array elements 10a, 10b, and 10c can be phase-locked by resonance, and the provision of the diffraction grating efficiently folds the laser light in the stack direction between different semiconductor laser array elements. Therefore, the phase lock can be performed more reliably.

【0050】なお、上記した積層方向と直交する方向に
は回折格子はないものとして説明したが、回折格子の溝
を積層方向にも形成して、積層方向とこれと直交する方
向の両方に回折するようにすれば、双方向に効率よくレ
ーザ光を折り返すことができる。また、光学部品40の
出射面42においてホログラム処理を施してもよい。例
えば、図12に示すように、半導体レーザ発光装置の光
学部品40の出射面42にホログラム処理をすれば、光
学部品40を透過したレーザ光をそのままスポットSP
に集光することができる。また、平行光にするようなホ
ログラム処理を施せば、平行光にもすることができる。
このように構成すれば、集光や平行光とするための光学
部品の数を減らすことができるため、コンパクトで集光
可能な半導体レーザ発光装置を実現できる。
The above description has been made on the assumption that there is no diffraction grating in the direction perpendicular to the laminating direction. However, the grooves of the diffraction grating are also formed in the laminating direction, and the diffraction grating is diffracted in both the laminating direction and the direction perpendicular thereto. By doing so, the laser light can be efficiently turned back in both directions. Further, hologram processing may be performed on the emission surface 42 of the optical component 40. For example, as shown in FIG. 12, if hologram processing is performed on the emission surface 42 of the optical component 40 of the semiconductor laser light emitting device, the laser beam transmitted through the optical component 40 can be directly used as the spot SP.
Can be collected. Further, by performing a hologram process for converting the light into parallel light, the light can be converted into parallel light.
With such a configuration, the number of optical components for condensing and converting parallel light can be reduced, so that a compact and condensable semiconductor laser light emitting device can be realized.

【0051】(変形例)以上本発明の実施の形態に基づ
いて説明してきたが、本発明は上記した形態に限られな
いことは勿論であり、その他、以下のような形態におい
ても実施することができる。 上記実施の形態においては、実屈折率導波構造をもつ
半導体レーザアレイ素子を用いた場合について説明して
きたが、本発明は、これらに限定されるものではなく、
共振器を備える半導体レーザであれば適用でき、例え
ば、単一ストライプ半導体レーザや面発光半導体レーザ
を複数用いる場合などにも適用されるものである。
(Modifications) Although the description has been given based on the embodiments of the present invention, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and that the present invention can be implemented in the following embodiments. Can be. In the above embodiment, the case where the semiconductor laser array element having the real refractive index waveguide structure is used has been described, but the present invention is not limited to these.
The present invention can be applied to any semiconductor laser having a resonator. For example, the present invention can be applied to a case where a plurality of single-stripe semiconductor lasers or a plurality of surface emitting semiconductor lasers are used.

【0052】上記実施の形態においては、半導体レー
ザアレイ素子のへき開面の一方(レーザ光出射側の背面
側)がレーザ光をほとんど透過しないように構成されて
いたが、僅かにレーザ光を通すように構成して、そのへ
き開面側に光を折り返す光学部品を設置するようにして
もよい。その場合には当該光学部品によりレーザ光をす
べて反射するようにし、上記レーザ光出射側の光学部品
を取り除けば、さらにフェーズロックの効率が向上する
とともに、集光した場合には上記レーザ光出射側から出
射された光量を損失なく集光できるので高出力を得るこ
とができる。
In the above embodiment, one of the cleavage planes of the semiconductor laser array element (the back side on the laser light emission side) is configured to hardly transmit the laser light. And an optical component that folds the light may be installed on the cleaved surface side. In that case, all the laser light is reflected by the optical component, and the optical component on the laser light emission side is removed, thereby further improving the phase locking efficiency. A high output can be obtained because the amount of light emitted from the device can be collected without loss.

【0053】(用途例)上記半導体レーザ発光装置の半
導体レーザアレイ素子に以下の各色のレーザ光を出力す
るものを用いた場合に特に有用と思われる用途例につい
て説明する。なお、以下の用途に限定されないのは勿論
である。 (1) AlGaInP材料の赤色レーザ(波長655nm〜6
65nm) まず、上記半導体レーザ発光装置は、レーザ溶接装
置のトーチに組み込んで、金属の溶接に用いることがで
きる。これによれば、高出力であるだけでなく、レーザ
光は色を有するので、視認性に優れ、溶接作業の作業性
向上にも寄与すると思われる。また、プリント基板など
への穴あけ加工を行う穴あけ加工装置にも使用すること
もできる。更に、表面変質加工(いわゆる焼き入れ)を
行う表面変質加工装置にも使用するもとができる。
(Application Example) An application example considered to be particularly useful when a semiconductor laser array element of the above-described semiconductor laser light emitting device that outputs laser light of each of the following colors will be described. It is needless to say that the present invention is not limited to the following uses. (1) Red laser of AlGaInP material (wavelength 655 nm to 6
First, the above-mentioned semiconductor laser light emitting device can be incorporated into a torch of a laser welding device and used for welding metal. According to this, in addition to high output, the laser beam has a color, so that it is excellent in visibility and is considered to contribute to improvement in workability of welding work. Further, the present invention can also be used for a drilling apparatus for drilling a printed circuit board or the like. Furthermore, it can be used for a surface alteration processing device that performs surface alteration processing (so-called quenching).

【0054】 また、いわゆるドット状の2次元マト
リックスデータを作製するのに有効である。従来は、Y
AGレーザで行うのが一般であるが、このYAGレーザ
は応答性がよくないので、高速で均一なドットを形成す
る上で問題があった。例えば、照射しない時間が続いた
後、細かくパルス状に照射を行うようなマトリックスパ
ターンを形成するのにはあまり向いていなかった。これ
に対して、半導体レーザアレイ素子は、応答性に優れる
ため、このようなマトリックスパターンを形成するのに
有効である。
Further, it is effective in producing so-called dot-shaped two-dimensional matrix data. Conventionally, Y
Generally, an AG laser is used, but since the YAG laser has poor response, there is a problem in forming uniform dots at high speed. For example, it is not suitable for forming a matrix pattern in which irradiation is performed in a fine pulse after a non-irradiation time continues. On the other hand, the semiconductor laser array element has excellent responsiveness, and is therefore effective for forming such a matrix pattern.

【0055】 また、上記半導体レーザ発光装置は、
生体の切開や止血用のレーザメス、フォトフィリン薬を
注入した生体に照射して癌などの悪性腫瘍の治療、育毛
治療などの医療機器にも利用することができる。 (2) InGaN材料の青色レーザ(波長550nm;In
0.5Ga0.5N) 網膜に照射して網膜剥離の治療に適している。
Further, the above-mentioned semiconductor laser light emitting device comprises:
A laser scalpel for incision and hemostasis of a living body, and irradiation of a living body into which a photophyllin drug has been injected can be used for medical devices such as treatment of malignant tumors such as cancer and hair growth treatment. (2) InGaN material blue laser (wavelength 550 nm; In
0.5 Ga 0.5 N) Irradiates the retina and is suitable for treatment of retinal detachment.

【0056】(3) InGaN材料の緑色レーザ(波長38
0nm;In0.5Ga0.95N) 角膜に照射して近視の治療に利用することができる。 (4) InGaAs材料の赤外レーザ(波長1060nm;I
n0.2Ga0.9As) 上記溶接、穴あけ、マーキング、生体の切開や止血用の
レーザメスに加えて、SHG素子(波長を半分にする素
子)を介して網膜に照射することによる上述の網膜剥離
の治療などにも利用することができる。
(3) Green laser of InGaN material (wavelength 38
0 nm; In 0.5 Ga 0.95 N) Irradiates the cornea and can be used for treatment of myopia. (4) InGaAs material infrared laser (wavelength 1060 nm; I
n 0.2 Ga 0.9 As) In addition to the laser scalpel for welding, drilling, marking, incising a living body, and stopping bleeding, treatment of the above-mentioned retinal detachment by irradiating the retina via an SHG element (element that halves the wavelength) It can be used as well.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明に係る
半導体レーザ発光装置は、複数のレーザ光発振部を有す
るレーザ光発光部品と、少なくとも一のレーザ光発振部
で発振し、その出力端面から出射されたレーザ光の少な
くとも一部を、他のレーザ光発振部内に折り返して入射
させる光学部品とを備えているので、発光点間隔が任意
の間隔であっても折り返されたレーザ光に共振させるこ
とで各発光点から出射されるレーザ光をフェーズロック
することができる。
As described above, the semiconductor laser light emitting device according to the present invention has a laser light emitting component having a plurality of laser light oscillating portions, and oscillates by at least one laser light oscillating portion, and has an output end face. And an optical component for returning at least a part of the laser light emitted from the laser light into another laser light oscillating unit, so that the laser light resonates with the returned laser light even if the light emitting point interval is arbitrary. By doing so, the laser light emitted from each light emitting point can be phase locked.

【0058】また、前記光学部品は、反射もしくは散乱
されたレーザ光を他の半導体レーザアレイ素子に属する
レーザ光発振部内に折り返して入射させるようにするこ
とができるので、従来ではできなかった異なる半導体レ
ーザに属する発光点から出射されるレーザ光をフェーズ
ロックすることができる。
Further, the optical component can reflect and scatter reflected laser light into a laser light oscillating portion belonging to another semiconductor laser array element so that the reflected laser light is reflected by another semiconductor element. The laser light emitted from the light emitting point belonging to the laser can be phase-locked.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体レーザ
発光装置の概略構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】上記半導体レーザ発光装置の光源部を示す斜視
図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a light source unit of the semiconductor laser light emitting device.

【図3】上記半導体レーザ発光装置を上面からみた光路
図である。
FIG. 3 is an optical path diagram of the semiconductor laser light emitting device as viewed from above.

【図4】本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザ
発光装置の概略構成を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】上記第2の実施の形態に係る半導体レーザ発光
装置を上面からみた光路図である。
FIG. 5 is an optical path diagram of the semiconductor laser light emitting device according to the second embodiment as viewed from above.

【図6】上記第2の実施の形態に係る半導体レーザ発光
装置のレーザ光の回折を説明するための上面からみた光
路図である。
FIG. 6 is an optical path diagram viewed from above for explaining laser light diffraction of the semiconductor laser light emitting device according to the second embodiment.

【図7】本発明の第3の実施の形態に係る半導体レーザ
発光装置の概略構成を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device according to a third embodiment of the present invention.

【図8】上記半導体レーザ発光装置を側面から見た光路
図である。
FIG. 8 is an optical path diagram of the semiconductor laser light emitting device as viewed from the side.

【図9】本発明の第4の実施の形態に係る半導体レーザ
発光装置の概略構成を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図10】上記第4の実施の形態に係る半導体レーザ発
光装置を側面からみた光路図である。
FIG. 10 is an optical path diagram of the semiconductor laser light emitting device according to the fourth embodiment as viewed from the side.

【図11】上記第4の実施の形態に係る半導体レーザ発
光装置のレーザ光の回折を説明するための側面からみた
光路図である。
FIG. 11 is an optical path diagram viewed from a side for explaining laser light diffraction of the semiconductor laser light emitting device according to the fourth embodiment.

【図12】本発明の第4の実施の形態における変形例に
係る半導体レーザ発光装置の概略構成を示す斜視図であ
る。
FIG. 12 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a semiconductor laser light emitting device according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3,4 半導体レーザ発光装置 10,10a,10b,10c 半導体レーザアレイ
素子 20,30,40,40 光学部品 21,31,41 入射面 120,121 へき開面 310,410 凹部 311,411 凸部 P1,P2,P3,P4,P5 発光点 LB1,LB2,LB3,LB4,LB5 レーザ光
1, 2, 3, 4 Semiconductor laser light emitting device 10, 10a, 10b, 10c Semiconductor laser array element 20, 30, 40, 40 Optical component 21, 31, 41 Incident surface 120, 121 Cleaved surface 310, 410 Recess 311, 411 Convex parts P1, P2, P3, P4, P5 Light emitting point LB1, LB2, LB3, LB4, LB5 Laser light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 国雄 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 数村 勝 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 4C026 AA01 AA10 BB08 FF22 HH02 5F073 AA13 AA63 AA67 AA74 AB05 AB25 BA09 CA14 EA24 FA30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kunio Ito 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Prefecture Matsushita Electronics Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Masaru Satsumura 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Industrial Co., Ltd. F term (reference) 4C026 AA01 AA10 BB08 FF22 HH02 5F073 AA13 AA63 AA67 AA74 AB05 AB25 BA09 CA14 EA24 FA30

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のレーザ光発振部を有するレーザ光
発光部品と、少なくとも一のレーザ光発振部で発振し、
その出力端面から出射されたレーザ光の少なくとも一部
を、他のレーザ光発振部内に折り返して入射させる光学
部品と、を備えることを特徴とする半導体レーザ発光装
置。
1. A laser light emitting component having a plurality of laser light oscillating units, and oscillating by at least one laser light oscillating unit;
An optical component for returning at least a part of the laser light emitted from the output end face to another laser light oscillating unit and causing the laser light to enter the laser light oscillation unit.
【請求項2】 前記レーザ光発光部品は、一素子の中に
2以上のレーザ光発振部をアレイ状に配列した構成の半
導体レーザアレイ素子であることを特徴とする請求項1
記載の半導体レーザ発光装置。
2. The laser light emitting device according to claim 1, wherein the laser light emitting component is a semiconductor laser array device in which two or more laser light oscillating units are arranged in an array in one device.
13. The semiconductor laser light emitting device according to claim 1.
【請求項3】 前記レーザ光発光部品は、複数の半導体
レーザアレイ素子をスタック状に配設した構成であるこ
とを特徴とする請求項1載の半導体レーザ発光装置。
3. The semiconductor laser light emitting device according to claim 1, wherein said laser light emitting component has a configuration in which a plurality of semiconductor laser array elements are arranged in a stack.
【請求項4】 前記光学部品は、レーザ光発振部の出力
端面から出射したレーザ光の出射方向前方に配され、レ
ーザ光の一部を透過し、残りを反射若しくは散乱させる
半透明部材であることを特徴とする請求項1から3のい
ずれかに記載の半導体レーザ発光装置。
4. The optical component is a translucent member disposed in front of the output direction of the laser beam emitted from the output end face of the laser beam oscillator, transmitting a part of the laser beam and reflecting or scattering the rest. The semiconductor laser light emitting device according to claim 1, wherein:
【請求項5】 前記光学部品は、平板形状をしており、
レーザ光の入射面に相当する一方の主面が平坦面もしく
は粗面を形成し、当該主面においてレーザ光の一部を反
射もしくは散乱させることを特徴とする請求項4に記載
の半導体レーザ発光装置。
5. The optical component has a flat plate shape,
5. The semiconductor laser light emission according to claim 4, wherein one main surface corresponding to the laser light incident surface forms a flat surface or a rough surface, and reflects or scatters a part of the laser light on the main surface. apparatus.
【請求項6】 前記光学部品は、平板形状をしており、
レーザ光の入射面に相当する一方の主面に回折格子を備
え、当該回折格子においてレーザ光の一部を所定の角度
に反射して回折することを特徴とする請求項4に記載の
半導体レーザ発光装置。
6. The optical component has a flat plate shape,
5. The semiconductor laser according to claim 4, wherein a diffraction grating is provided on one main surface corresponding to the laser light incident surface, and the diffraction grating reflects and diffracts a part of the laser light at a predetermined angle. Light emitting device.
【請求項7】 前記光学部品は、前記回折格子により回
折された±1次回折光を隣のレーザ光発振部内に折り返
して入射させることを特徴とする請求項6記載の半導体
レーザ発光装置。
7. The semiconductor laser light emitting device according to claim 6, wherein the optical component returns the ± 1st-order diffracted light diffracted by the diffraction grating to be incident on an adjacent laser light oscillating unit.
【請求項8】 前記光学部品は、前記反射もしくは散乱
されたレーザ光を他の半導体レーザアレイ素子に属する
レーザ光発振部内に折り返して入射させることを特徴と
する請求項3から7のいずれかに記載の半導体レーザ発
光装置。
8. The optical component according to claim 3, wherein the optical component returns the reflected or scattered laser light into a laser light oscillation unit belonging to another semiconductor laser array element. 13. The semiconductor laser light emitting device according to claim 1.
【請求項9】 前記光学部品は、透過したレーザ光を集
光する又は平行光にするホログラム処理がなされている
こと特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の半導
体レーザ発光装置。
9. The semiconductor laser light emitting device according to claim 1, wherein the optical component has been subjected to hologram processing for condensing or parallelizing the transmitted laser light.
【請求項10】 前記複数の半導体レーザアレイ素子
は、それぞれ半導体ウエハから切り出された基層を有
し、各半導体レーザアレイ素子の基層が同一の半導体ウ
エハから切り出されたものであること特徴とする請求項
3から9のいずれかに記載の半導体レーザ発光装置。
10. The semiconductor laser array device, wherein each of the plurality of semiconductor laser array elements has a base layer cut out from a semiconductor wafer, and the base layer of each semiconductor laser array element is cut out from the same semiconductor wafer. Item 10. A semiconductor laser light emitting device according to any one of Items 3 to 9.
【請求項11】 前記半導体レーザアレイ素子は、実屈
折率導波構造を有した半導体レーザアレイ素子であるこ
と特徴とする請求項1から10のいずれかに記載の半導
体レーザ発光装置。
11. The semiconductor laser light emitting device according to claim 1, wherein said semiconductor laser array element is a semiconductor laser array element having a real refractive index waveguide structure.
【請求項12】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を用い
て溶接することを特徴とするレーザ溶接装置。
12. A laser welding apparatus characterized in that welding is performed by using a laser beam emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11.
【請求項13】 請求項1から請求項11のいずれか
に記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を照
射して被照射面に2次元マトリックスデータを作製する
ことを特徴とする2次元マトリックスデータ作製装置。
13. A two-dimensional matrix, wherein two-dimensional matrix data is produced on a surface to be irradiated by irradiating a laser beam emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11. Data production equipment.
【請求項14】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を照射
して生体を切開又は止血することを特徴とする半導体レ
ーザメス装置。
14. A semiconductor laser knife device for irradiating a laser beam emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11 to cut or stop a living body.
【請求項15】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を、フ
ォトフィリン薬を注入した生体に照射して悪性腫瘍の治
療を行うことを特徴とする腫瘍治療装置。
15. A method for treating a malignant tumor by irradiating a laser light emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11 onto a living body injected with a photophyllin drug. Tumor treatment device.
【請求項16】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を頭部
に照射して育毛治療を行うことを特徴とする育毛治療装
置。
16. A hair-growth treatment device for irradiating a laser beam emitted by the semiconductor laser light-emitting device according to any one of claims 1 to 11 to a head to perform hair-growth treatment.
【請求項17】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を網膜
に照射して網膜剥離の治療を行うことを特徴とする網膜
剥離治療装置。
17. An apparatus for treating retinal detachment by irradiating the retina with laser light emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11.
【請求項18】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を角膜
に照射して近視の治療を行うことを特徴とする近視治療
装置。
18. A myopia treatment apparatus for irradiating a laser beam emitted by the semiconductor laser light emitting device according to claim 1 to a cornea to treat myopia.
【請求項19】請求項1から請求項11のいずれかに記
載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を被照射
体に照射して穴あけ加工を行うことを特徴とする穴あけ
加工装置。
19. A drilling device, wherein a laser beam emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11 is radiated to an object to be drilled.
【請求項20】請求項1から請求項11のいずれかに記
載の半導体レーザ発光装置が発光するレーザ光を被照射
体に照射して表面変質加工を行うことを特徴とする表面
変質加工装置。
20. A surface alteration processing apparatus which irradiates a laser beam emitted by the semiconductor laser light emitting device according to any one of claims 1 to 11 onto an object to perform surface alteration processing.
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