JP2001281793A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Heat developable photosensitive material

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JP2001281793A
JP2001281793A JP2000192191A JP2000192191A JP2001281793A JP 2001281793 A JP2001281793 A JP 2001281793A JP 2000192191 A JP2000192191 A JP 2000192191A JP 2000192191 A JP2000192191 A JP 2000192191A JP 2001281793 A JP2001281793 A JP 2001281793A
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JP
Japan
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group
compound
silver
weight
dispersion
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JP2000192191A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Suzuki
真 鈴木
Yasuhiro Yoshioka
康弘 吉岡
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material giving a satisfactory image density at a practical reaction temperature (concretely 100-140 deg.C) within a practical reaction time (concretely 1-30 sec) and capable of satisfactorily suppressing the coloration of a white background in storage in a dark place after development. SOLUTION: In the heat developable photosensitive material containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on one face of the base, a combination of at least one phenol compound and at least one compound which satisfies at least one of the following conditions A and B is contained as the reducing agent. A: A hydrogen bond forming rate constant Kf of 20-4,000. B: The compound has a structure of formula II, III, IV or V (where R21 is an alkyl or the like) or has a phosphoryl group in its molecule.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものである。特に、十分な画像濃度を与え、かつ、
現像処理後に暗所保存したときの白地の着色を十分に抑
制しうる熱現像感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material. In particular, give sufficient image density, and
The present invention relates to a photothermographic material capable of sufficiently suppressing coloring of a white background when stored in a dark place after development processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、医療分野および印刷製版分野にお
いて環境保全、省スペースの観点から処理廃液の減量が
強く望まれている。そこで、レーザー・イメージセッタ
ーまたはレーザー・イメージャーにより効率的に露光さ
せることができ、高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な
黒色画像を形成することができる医療診断用および写真
製版用途の熱現像感光材料に関する技術が必要とされて
いる。これら熱現像感光材料では、溶液系処理化学薬品
の使用をなくし、より簡単で環境を損なわない熱現像処
理システムを顧客に対して供給することができる。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a strong demand in the medical field and the printing plate making field to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving. Therefore, a photothermographic material for medical diagnosis and photoengraving that can be efficiently exposed by a laser imagesetter or laser imager and can form a clear black image having high resolution and sharpness Technology is needed. These photothermographic materials eliminate the use of solution processing chemicals, and can provide customers with a simpler and more environmentally friendly photothermographic processing system.

【0003】一般画像形成材料の分野でも同様の要求は
あるが、医療用画像は微細な描写が要求されるため鮮鋭
性、粒状性に優れる高画質が必要であるうえ、診断のし
易さの観点から冷黒調の画像が好まれる特徴がある。現
在、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染
料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成
システムとして流通しているが、医療用画像の出力シス
テムとしては満足できるものがない。
There is a similar demand in the field of general image forming materials. However, medical images require high-quality images with excellent sharpness and granularity due to the need for fine depiction. From the viewpoint, there is a feature that a cool tone image is preferred. At present, various hard copy systems using pigments and dyes, such as ink jet printers and electrophotographs, are distributed as general image forming systems, but none of them is satisfactory as a medical image output system.

【0004】一方、有機銀塩を利用した熱画像形成シス
テムが、例えば、米国特許第3152904号、同第3
457075号の各明細書およびD.クロスタボーア(K
losterboer)著「熱によって処理される銀システム(Ther
mally Processed Silver Systems)」(イメージング・
プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Proce
sses and Materials)Neblette 第8版、スタージ(Sturg
e)、V.ウオールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第9章、第279頁、1989年)に記載されて
いる。特に、熱現像感光材料は、一般に、触媒活性量の
光触媒(例、ハロゲン化銀)、熱現像剤、還元可能な銀
塩(例、有機銀塩)、必要により銀の色調を制御する色
調剤を、バインダーのマトリックス中に分散した感光性
層を有している。熱現像感光材料は、画像露光後、高温
(例えば80℃以上)に加熱し、ハロゲン化銀あるいは
還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と熱現像剤と
の間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を形成する。
酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化銀の潜像の
触媒作用により促進される。そのため、黒色の銀画像
は、露光領域に形成される。米国特許第2910377
号明細書、特公昭43−4924号公報をはじめとする
多くの文献に開示され、そして熱現像感光材料による医
療用画像形成システムとして富士メディカルドライイメ
ージャーFM−DP Lが発売された。
On the other hand, thermal image forming systems using organic silver salts are disclosed in, for example, US Pat.
No. 4,570,757 and D.C. Crostabore (K
Loserboer) "Heat Processed Silver System (Ther
mally Processed Silver Systems) "(Imaging
Processings and Materials (Imaging Proce
sses and Materials) Neblette 8th edition, Sturg
e), V. Walworth, A. Shepp
Compilation, Chapter 9, p. 279, 1989). In particular, the photothermographic material generally comprises a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a heat developer, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and if necessary, a color tone agent for controlling the color tone of silver. Is dispersed in a binder matrix. After the image exposure, the photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher), and a redox reaction between silver halide or a reducible silver salt (which functions as an oxidizing agent) and the thermal developer causes A black silver image is formed.
The oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposed area. U.S. Patent No. 2,910,377
And Fuji Medical Dry Imager FM-DPL as a medical image forming system using a photothermographic material.

【0005】上記の熱現像感光材料は熱現像処理した後
に定着処理を行わないため、熱反応性の有機酸銀および
還元剤が熱現像感光材料中にそのまま残され、処理後の
材料を長期間保存した場合に白地部が着色してくるとい
う問題があった。熱現像感光材料には、反応性が高いこ
とからフェノール系還元剤(例えば欧州特許公開EP0
803764A1号公報、特開昭51−51933号公
報、特開平6−3793号公報等参照)が有効に用いら
れているが、その使用量を低減すれば白地部の着色を有
効に抑えることができる。しかしながら、o−ビスフェ
ノール系還元剤の使用量を低減すれば、十分な画像濃度
が得られなくなるため、画像保存性と画像濃度の両立は
困難であった。
Since the above-mentioned photothermographic material does not undergo a fixing process after the photothermographic process, the heat-reactive organic acid silver salt and the reducing agent are left as they are in the photothermographic material, and the processed material is kept for a long time. There is a problem that the white background is colored when stored. A phenolic reducing agent (for example, European Patent Publication EP0
No. 803764A1, JP-A-51-51933, JP-A-6-3793, etc.) are effectively used, but if the amount of use is reduced, coloring of a white background can be effectively suppressed. . However, if the amount of the o-bisphenol-based reducing agent used is reduced, sufficient image density cannot be obtained, so that it is difficult to achieve both image storability and image density.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、現実
的な反応温度(具体的には100〜140℃)、反応時
間内(具体的には1〜30秒)で十分な画像濃度を与
え、かつ、現像処理後に暗所保存したときの白地の着色
を十分に抑制しうる熱現像感光材料を提供することを課
題とした。
Accordingly, the present invention provides a sufficient image density at a realistic reaction temperature (specifically, 100 to 140 ° C.) and within a reaction time (specifically, 1 to 30 seconds). Another object of the present invention is to provide a photothermographic material capable of sufficiently suppressing coloring of a white background when stored in a dark place after the development processing.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意検討を重ねた結果、熱現像感光材料に
還元剤として用いられるフェノール化合物と特定の水素
結合形成速度定数を有する化合物を組み合わせて用いる
ことにより、還元性を実質的に低下させることなく十分
な画像濃度を出し、かつ画像保存性が大きく改良される
ことを見い出し、本発明を提供するに至った。すなわち
本発明は、支持体の一方面上に、感光性ハロゲン化銀、
非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤及びバイン
ダーを含有する熱現像感光材料において、該還元剤とし
てフェノール化合物の少なくとも一種と、下記Aおよび
Bの少なくとも一方の条件を満たす化合物の少なくとも
1種を組み合わせて含有することを特徴とする熱現像感
光材料を提供する。 A: 水素結合形成速度定数Kfが20〜4000であ
ること B: 下記一般式(II)、(III)、(IV)または(V)
で表される構造を有するか、分子内にホスホリル基を有
すること
The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a phenol compound used as a reducing agent in a photothermographic material and a compound having a specific hydrogen bond formation rate constant are used. It has been found that by using in combination, a sufficient image density can be obtained without substantially lowering the reducibility and the image storability is greatly improved, and the present invention has been provided. That is, the present invention, on one side of the support, a photosensitive silver halide,
In a photothermographic material containing a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder, at least one phenol compound as the reducing agent and at least one of the compounds satisfying at least one of the following conditions A and B: A photothermographic material characterized by containing one kind in combination is provided. A: Hydrogen bond formation rate constant Kf is 20 to 4000 B: The following general formula (II), (III), (IV) or (V)
Or has a phosphoryl group in the molecule

【化4】 (一般式(II)において、R21及びR22はそれぞれ独立
にアルキル基を表し、R 23はアルキル基、アリール基ま
たは複素環基を表す。R21、R22及びR23から選択され
る2以上はそれぞれ互いに連結して環を形成しても良
い。一般式(III)において、R31及びR32はそれぞれ
独立にアルキル基、アリール基または複素環基を表す。
31及びR32は互いに連結して環を形成しても良い。一
般式(IV)において、R41及びR42はそれぞれ独立にア
ルキル基、アリール基または複素環基を表す。R43はア
ルキル基、アリール基、複素環基又は−N(R44)(R
45)を表す。R44及びR45はそれぞれ独立にアルキル
基、アリール基又は複素環基を表す。R41、R42
43、R44及びR45から選択される2以上はそれぞれ互
いに連結して環を形成しても良い。一般式(V)におい
て、R51、R52、R53、R54及びR55はそれぞれ独立に
水素原子または置換基を表す。R51、R52、R53、R54
及びR55から選択される2以上はそれぞれ互いに連結し
て環を形成しても良い。)
Embedded image(In the general formula (II), Rtwenty oneAnd Rtwenty twoAre independent
Represents an alkyl group; twenty threeRepresents an alkyl group or an aryl group.
Or a heterocyclic group. Rtwenty one, Rtwenty twoAnd Rtwenty threeSelected from
Two or more may be connected to each other to form a ring
No. In the general formula (III), R31And R32Are each
Independently represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
R31And R32May be connected to each other to form a ring. one
In the general formula (IV), R41And R42Are independent
Represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R43Is
Alkyl group, aryl group, heterocyclic group or -N (R44) (R
45). R44And R45Are each independently alkyl
Group, an aryl group or a heterocyclic group. R41, R42,
R43, R44And R45Two or more selected from
They may be linked together to form a ring. General formula (V)
And R51, R52, R53, R54And R55Are independently
Represents a hydrogen atom or a substituent. R51, R52, R53, R54
And R55Two or more selected from
To form a ring. )

【0008】本発明の熱現像感光材料に含まれるフェノ
ール化合物は、o−ポリフェノール化合物、特に下記一
般式(I)で表される化合物であることが好ましい。
The phenol compound contained in the photothermographic material of the present invention is preferably an o-polyphenol compound, particularly a compound represented by the following formula (I).

【化5】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8
それぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な
基を表し、Lは−S−基または−CHR9−基を表し、
9は水素原子またはアルキル基を表す。) 一般式(I)で表される化合物は、R2、R4、R5およ
びR7が水素原子であり、R1およびR8がそれぞれ独立
にアルキル基であり、R3およびR6がそれぞれ独立にア
ルキル基であり、Lが−CHR9−である化合物が好ま
しい。特に、R1およびR8がそれぞれ独立に2級または
3級のアルキル基である化合物はより好ましい。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring, and L represents an —S— group Or a -CHR 9 -group,
R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group. In the compound represented by the general formula (I), R 2 , R 4 , R 5 and R 7 are hydrogen atoms, R 1 and R 8 are each independently an alkyl group, and R 3 and R 6 are Compounds which are each independently an alkyl group and L is —CHR 9 — are preferred. In particular, compounds in which R 1 and R 8 are each independently a secondary or tertiary alkyl group are more preferred.

【0009】本発明の熱現像感光材料には、水素結合形
成速度定数Kfが70〜4000である化合物が含まれ
ていることが好ましい。また、本発明の熱現像感光材料
には、o−ポリフェノール化合物と、分子内にホスホリ
ル基を有する化合物の少なくとも1種が含まれているこ
とが好ましい。分子内にホスホリル基を有する化合物
は、下記一般式(VI)で表される化合物であることが好
ましい。
The photothermographic material of the present invention preferably contains a compound having a hydrogen bond formation rate constant Kf of 70 to 4000. The photothermographic material of the invention preferably contains at least one of an o-polyphenol compound and a compound having a phosphoryl group in a molecule. The compound having a phosphoryl group in the molecule is preferably a compound represented by the following general formula (VI).

【化6】 (式中、R61、R62およびR63はそれぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表す。) なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される
数値をそれぞれ最小値および最大値として含む範囲を示
す。
Embedded image (In the formula, R 61 , R 62 and R 63 each independently represent an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group.) Indicates a range including the numerical values described before and after it as a minimum value and a maximum value, respectively.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の熱現像感光材料は、支持
体の一方面上に、感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀
塩、銀イオンのための還元剤及びバインダーを含有する
ものである。本発明の特徴は、(1)該還元剤としてフ
ェノール化合物の少なくとも一種を含有することと、
(2)条件A(水素結合形成速度定数Kfが20〜40
00であること)および条件B(上記一般式(II)、
(III)、(IV)または(V)で表される構造を有する
か、分子内にホスホリル基を有すること)の少なくとも
一方の条件を満たす化合物の少なくとも1種を組み合わ
せて含有することにある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The photothermographic material of the present invention contains a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on one surface of a support. It is. The feature of the present invention is (1) containing at least one phenol compound as the reducing agent;
(2) Condition A (hydrogen bond formation rate constant Kf is 20 to 40)
00) and condition B (the above general formula (II),
(III) having a structure represented by (IV) or (V), or having a phosphoryl group in the molecule).

【0011】本発明においては還元剤としてフェノール
化合物を少なくとも1種含有する。フェノール化合物を
還元剤として用いることには欧州特許公開EP0803
764A1号公報、特開昭51−51933号公報、特
開平6−3793号公報等で公知であり、それら公知の
フェノール化合物であって本発明で使用することができ
る。本発明者は鋭意研究の結果、これら公知の還元剤
と、一般式(II)(III)(IV)(V)で表される化合
物またはホスホリル基を有する化合物とを組み合わせて
使用した場合に熱現像性を実質的に維持しつつ、画像保
存性が大きく改良されるという驚くべき効果を見い出す
に至ったものである。
In the present invention, at least one phenol compound is contained as a reducing agent. The use of phenol compounds as reducing agents is described in European Patent Publication EP0803.
No. 764A1, JP-A-51-51933, JP-A-6-3793, etc., which are known phenol compounds and can be used in the present invention. As a result of intensive studies, the present inventors have found that when these known reducing agents are used in combination with the compounds represented by the general formulas (II), (III), (IV), and (V) or the compounds having a phosphoryl group, The inventors have found a surprising effect that image storability is greatly improved while substantially maintaining developability.

【0012】本発明で用いるフェノール化合物としては
o−ポリフェノール化合物が熱現像性が高いことから好
ましい。本明細書において「o−ポリフェノール化合
物」とは、下記の構造:
As the phenol compound used in the present invention, an o-polyphenol compound is preferred because of its high heat developability. As used herein, “o-polyphenol compound” has the following structure:

【化7】 を分子中に含む還元剤であればいかなる化合物であって
もよい。中でも、一般式(I)の化合物は熱現像性がよ
り高いことから好ましい。一般式(I)の化合物につい
て詳細に説明する。
Embedded image Any compound may be used as long as it is a reducing agent containing in a molecule. Among them, the compound of the general formula (I) is preferable because it has higher heat developability. The compound of the formula (I) will be described in detail.

【0013】一般式(I)において、R1〜R8はそれぞれ
独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表
す。ベンゼン環に置換可能な基としては、ハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ
シ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アシル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、スルホニル基、アルコキシアルキル基、アシル
アミノアルキル基などが挙げられる。アルキル基の例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロ
ヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基などが挙げら
れる。アラルキル基の例としては、ベンジル基などが挙
げられる。R1、R3、R6およびR8は、好ましくはそれ
ぞれ独立にアルキル基を表し、より好ましくは、炭素数
1〜20の1級アルキル基、炭素数3〜20の2級アル
キル基または炭素数4〜20の3級アルキル基を表す。
これらの基はさらに適当な置換基を有していてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヒドロキシル基、アシルオキシ
基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ア
シルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、
スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
ホスホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。
In the general formula (I), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or a group which can be substituted on a benzene ring. Examples of the group that can be substituted on the benzene ring include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, an acyl group,
Examples include a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfonyl group, an alkoxyalkyl group, and an acylaminoalkyl group. Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl,
Examples include an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group, and a 1-methylcyclohexyl group. Examples of the aralkyl group include a benzyl group. R 1 , R 3 , R 6 and R 8 each preferably independently represent an alkyl group, more preferably a primary alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a secondary alkyl group having 3 to 20 carbon atoms or a carbon atom. Represents a tertiary alkyl group of the formulas 4 to 20.
These groups may further have a suitable substituent.
As the substituent, a halogen atom, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxyl group, an acyloxy group, an amino group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acylamino group, an oxycarbonyl group, Carbamoyl group,
Sulfonyl group, sulfamoyl group, sulfonamide group,
Examples include a phosphoryl group and a carboxyl group.

【0014】1級アルキル基の例としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、
ドデシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、2−メト
キシエチル基、フェネチル基、ヘキシルオキシカルボニ
ルメチル基などが挙げられる。好ましくは、メチル基お
よびエチル基である。2級アルキル基の例としては、イ
ソプロピル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、
1−メトキシメチル−エチル基、1−ブトキシエチル−
エチル基などが挙げられる。好ましくは無置換の2級ア
ルキル基であり、特に好ましくはイソプロピル基および
シクロヘキシル基である。3級アルキル基の例として
は、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、1
−メチルシクロヘキシル基、1−メチルシクロペンチル
基、1−メチルシクロプロピル基、1−メチル−1−フ
ェニルエチル基、1,1−ジメチル−4−ヘキシルオキ
シカルボニルブチル基などが挙げられる。好ましくは無
置換の3級アルキル基であり、特に好ましくはt−ブチ
ル基および1−メチルシクロヘキシル基であり、最も好
ましくはt−ブチル基である。
Examples of the primary alkyl group include a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group,
Examples include a dodecyl group, a benzyl group, a methoxymethyl group, a 2-methoxyethyl group, a phenethyl group, a hexyloxycarbonylmethyl group, and the like. Preferably, they are a methyl group and an ethyl group. Examples of secondary alkyl groups include isopropyl, cyclohexyl, cyclopentyl,
1-methoxymethyl-ethyl group, 1-butoxyethyl-
And an ethyl group. It is preferably an unsubstituted secondary alkyl group, and particularly preferably an isopropyl group and a cyclohexyl group. Examples of the tertiary alkyl group include a t-butyl group, a t-amyl group, a t-octyl group,
-Methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-methylcyclopropyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, 1,1-dimethyl-4-hexyloxycarbonylbutyl group and the like. It is preferably an unsubstituted tertiary alkyl group, particularly preferably a t-butyl group and a 1-methylcyclohexyl group, and most preferably a t-butyl group.

【0015】R1およびR8としては、それぞれ独立に2
級アルキル基または3級アルキル基であることが好まし
い。2級アルキル基または3級アルキル基を選択すれ
ば、塗布量を大幅に低減することができるため、熱現像
感光材料の製造コストや手間を大幅に削減することがで
きる。また、2級アルキル基または3級アルキル基を選
択すると、ホスホリル基を有する化合物と併用しなけれ
ば画像安定性が極めて悪くなるが、本発明にしたがって
併用すれば画像安定性が大幅に改善される。現像活性の
点ではR1およびR8として3級アルキル基が好ましい。
また、R1およびR8は、同一であっても異なっていても
よいが、同一である方がより好ましい。R3およびR6
しては、無置換のアルキル基が好ましく、具体的にはメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピ
ル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル
基、1−メチルシクロヘキシル基などが挙げられる。よ
り好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、t
−ブチル基であり、メチル基、エチル基が最も好まし
い。R2、R4、R5およびR7は、好ましくはそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、より
好ましくは水素原子である。
R 1 and R 8 each independently represent 2
It is preferably a tertiary alkyl group or a tertiary alkyl group. If a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group is selected, the coating amount can be greatly reduced, so that the production cost and labor of the photothermographic material can be greatly reduced. Further, when a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group is selected, the image stability becomes extremely poor unless used in combination with a compound having a phosphoryl group, but the image stability is greatly improved when used together according to the present invention. . R 1 and R 8 are preferably tertiary alkyl groups from the viewpoint of development activity.
Further, R 1 and R 8 may be the same or different, but are preferably the same. As R 3 and R 6 , an unsubstituted alkyl group is preferable, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group, And a methylcyclohexyl group. More preferably, methyl group, ethyl group, isopropyl group, t
-Butyl group, and a methyl group and an ethyl group are most preferable. R 2 , R 4 , R 5 and R 7 each preferably independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

【0016】Lは−S−基または−CHR9−基を表
し、R9は水素原子またはアルキル基を表す。アルキル
基は、炭素数1〜20のものが好ましく、無置換でもよ
いし、他の基で置換されていてもよい。無置換のアルキ
ル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル
基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペ
ンチル基などが挙げられる。アルキル基の置換基として
は、R1、R3、R6およびR8の場合と同様である。R 9
として、より好ましくは、水素原子または炭素数1から
12の無置換のアルキル基で、さらに好ましくは、水素
原子または炭素数1〜7のアルキル基であり、特に好ま
しくは水素原子、メチル基またはn−プロピル基であ
る。以下に本発明における一般式(I)の化合物の具体
例を示すが、本発明で用いることができるフェノール化
合物はこれらに限定されるものではない。
L is a -S- group or -CHR9-Group
Then R9Represents a hydrogen atom or an alkyl group. Alkyl
The group is preferably one having 1 to 20 carbon atoms, and may be unsubstituted.
Alternatively, it may be substituted with another group. Unsubstituted alk
Examples of methyl groups include methyl, ethyl, propyl,
Butyl, heptyl, undecyl, isopropyl
Group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpe
And an ethyl group. As a substituent of an alkyl group
Is R1, RThree, R6And R8Is the same as R 9
More preferably from a hydrogen atom or a carbon number 1
12 unsubstituted alkyl groups, more preferably hydrogen
An atom or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms,
Or a hydrogen atom, a methyl group or an n-propyl group
You. Hereinafter, specific examples of the compound of the general formula (I) in the present invention
As an example, phenolation that can be used in the present invention
The compound is not limited to these.

【0017】[0017]

【化8】 Embedded image

【0018】[0018]

【化9】 Embedded image

【0019】[0019]

【化10】 Embedded image

【0020】[0020]

【化11】 Embedded image

【0021】[0021]

【化12】 Embedded image

【0022】[0022]

【化13】 Embedded image

【0023】本発明で用いるフェノール化合物の具体例
は、上記化合物の他にも欧州特許公開0803764A
1号公報、特開昭51−51933号公報、特開平6−
3793号公報に記載されている。フェノール系化合物
の添加量は0.01〜4.0g/m2であることが好ましく、0.1
〜2.0g/m2であることがより好ましく、画像形成層を
有する面の銀1モルに対しては2〜40%モル含まれること
が好ましく、5〜30モル%で含まれることがさらに好まし
い。
Specific examples of the phenol compound used in the present invention include, in addition to the above compounds, European Patent Publication No. 0803764A.
No. 1, JP-A-51-51933, JP-A-6-51933.
No. 3793. The addition amount of the phenolic compound is preferably 0.01 to 4.0 g / m 2 ,
And more preferably 2.0 to 2.0 g / m 2 , more preferably 2 to 40% by mole, and even more preferably 5 to 30% by mole, based on 1 mole of silver on the surface having the image forming layer. .

【0024】次に、水素結合形成速度定数Kfが20〜
4000である化合物について説明する。水素結合形成
の目安として用いられる水素結合形成速度定数Kfは、
R.W.Taftらが、J.Am.Chem.So
c.,91,4794(1969)などで検討している
定数である。これらは、p−FC6 4 OHと化合物間
での水素結合を起こすときの反応速度定数で、F−NM
R、IR、又は熱力学的手法を用いて測定している。化
合物の水素結合形成速度定数Kfについては、前記、
J.Am.Chem.Soc.,91,4794(19
69)に記載されている。本発明においては、Kfが2
0〜4000が好ましく、70〜4000がより好まし
く、100〜4000が更に好ましく、250〜200
0が特に好ましい。水素結合形成速度定数Kfが20〜
4000である化合物の代表例を以下に示す。
Next, the hydrogen bond formation rate constant Kf is 20 to
The compound which is 4000 will be described. The hydrogen bond formation rate constant Kf used as a measure of hydrogen bond formation is:
R. W. Taft et al. Am. Chem. So
c., 91, 4794 (1969). These are the reaction rate constants at which hydrogen bonding occurs between p-FC 6 H 4 OH and the compound.
Measured using R, IR, or thermodynamic techniques. About the hydrogen bond formation rate constant Kf of the compound,
J. Am. Chem. Soc., 91, 4794 (19
69). In the present invention, Kf is 2
0 to 4000 is preferable, 70 to 4000 is more preferable, 100 to 4000 is still more preferable, and 250 to 200.
0 is particularly preferred. Hydrogen bond formation rate constant Kf is 20 to
Representative examples of the compound having 4000 are shown below.

【0025】 Kf ヘキサメチルフォスフォアミド 3600 トリフェニルフォスフィンオキシド 1456±80 4−ジメチルアミノピリジン 650±90 ジメチルスルホキシド 338±7 2,6−ジメチル−γ−ピロン 318±18 テトラメチルウレア 261±5 トリメチルフォスフェート 250±8 N,N−ジメチルアセトアミド 242±6 N,N−ジメチルベンズアミド 167±16 フェニルメチルスルホキシド 141±4 4−メトキシピリジン 139±2 4−メチルピリジン 107±2 N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン 118±2 N,N−ジメチルフォルムアミド 115±2 ジフェニルスルホキシド 106±2 フラボン 98±6 N,N−ジメチル−n−プロピルアミン 95±1 トリメチルアミン 85±2 2−n−ブチルピリジン 76±2 ピリジン 76±1 キノリン 71±3 トリ−n−ブチルアミン 37±3 N,N−ジメチルベンジルアミン 38±3 ピリミジン 22.5±0.5Kf hexamethylphosphamide 3600 triphenylphosphine oxide 1456 ± 80 4-dimethylaminopyridine 650 ± 90 dimethylsulfoxide 338 ± 7 2,6-dimethyl-γ-pyrone 318 ± 18 tetramethylurea 261 ± 5 trimethyl Phosphate 250 ± 8 N, N-dimethylacetamide 242 ± 6 N, N-dimethylbenzamide 167 ± 16 Phenylmethylsulfoxide 141 ± 4 4-Methoxypyridine 139 ± 2 4-Methylpyridine 107 ± 2 N, N-Dimethylcyclohexylamine 118 ± 2 N, N-dimethylformamide 115 ± 2 diphenylsulfoxide 106 ± 2 flavone 98 ± 6 N, N-dimethyl-n-propylamine 95 ± 1 trimethylamine 85 ± 2 2-n-bu Rupirijin 76 ± 2 pyridine 76 ± 1 quinoline 71 ± 3 tri -n- butylamine 37 ± 3 N, N- dimethylbenzylamine 38 ± 3 pyrimidin 22.5 ± 0.5

【0026】次に一般式(II)の化合物について詳細に
説明する。一般式(II)において、R21およびR22はそ
れぞれ独立にアルキル基を表す。R23はアルキル基、ア
リール基又は複素環基を表す。これらの基は無置換でも
置換基で置換されていてもよい。置換基としては後述す
るR51における置換基を挙げることができる。R21およ
びR22として具体的には、アルキル基はメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブ
チル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチル
シクロヘキシル基、ベンジル基など、アリール基はフェ
ニル基、p−トルリル基、p−メトキシフェニル基な
ど、複素環基は2−テトラヒドロフラニル基、4−ピリ
ジル基があげられる。これらの置換基は無置換でもよい
し、他の基で置換されていてもよい。但し、ここでのア
ルキル基はアルケニル基やアルキニル基は含まないもの
である。R21、R22及びR23から選択される2以上はそ
れぞれ互いに連結して環を形成しても良い。
Next, the compound of the formula (II) will be described in detail. In the general formula (II), R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group. R 23 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. These groups may be unsubstituted or substituted with a substituent. The substituent groups include the substituent groups in R 51 to be described later. Specific examples of R 21 and R 22 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group, a 1-methylcyclohexyl group, and a benzyl group. For example, the aryl group includes a phenyl group, a p-toluril group, and a p-methoxyphenyl group, and the heterocyclic group includes a 2-tetrahydrofuranyl group and a 4-pyridyl group. These substituents may be unsubstituted or may be substituted with another group. However, the alkyl group here does not include an alkenyl group or an alkynyl group. Two or more selected from R 21 , R 22 and R 23 may be connected to each other to form a ring.

【0027】一般式(III)の化合物について詳細に説
明する。一般式(III)において、R31及びR32はそれ
ぞれ独立にアルキル基、アリール基又は複素環基を表
す。これらの基は無置換でも置換基で置換されていても
よい。置換基としては後述するR51における置換基を挙
げることができる。R31及びR32は具体的には、アルキ
ル基はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イ
ソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘ
キシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基な
ど、アリール基はフェニル基、p−トルリル基、p−メ
トキシフェニル基など、複素環基は2−テトラヒドロフ
ラニル基、4−ピリジル基があげられる。これらの置換
基は無置換でもよいし、他の基で置換されていてもよ
い。R31及びR32は互いに連結して環を形成しても良
い。
The compound of the formula (III) will be described in detail. In the general formula (III), R 31 and R 32 each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. These groups may be unsubstituted or substituted with a substituent. The substituent groups include the substituent groups in R 51 to be described later. R 31 and R 32 are specifically an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group, a 1-methylcyclohexyl group, and a benzyl group. For example, an aryl group includes a phenyl group, a p-toluril group, and a p-methoxyphenyl group, and a heterocyclic group includes a 2-tetrahydrofuranyl group and a 4-pyridyl group. These substituents may be unsubstituted or may be substituted with another group. R 31 and R 32 may be linked to each other to form a ring.

【0028】一般式(IV)の化合物について詳細に説
明する。一般式(IV)において、R41及びR42はそれぞ
れ独立にアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。
43はアルキル基、アリール基、複素環基又は−N(R
44)(R45)を表し、R44及びR45はそれぞれ独立にア
ルキル基、アリール基、複素環基を表す。これらの基は
無置換でも置換基で置換されていてもよい。置換基とし
ては後述するR51における置換基を挙げることができ
る。R41、R42、R 43は具体的には、アルキル基はメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル
基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、
1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基など、アリー
ル基はフェニル基、p−トルリル基、p−メトキシフェ
ニル基など、複素環基は2−テトラヒドロフラニル基、
4−ピリジル基があげられる。これらの置換基は無置換
でもよいし、他の基で置換されていてもよい。R41、R
42、R43、R44及びR45から選択される2以上はそれぞ
れ互いに連結して環を形成しても良い。
The compound of the general formula (IV) is explained in detail.
I will tell. In the general formula (IV), R41And R42Each
And each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
R43Is an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or -N (R
44) (R45) And R44And R45Are independent
Represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. These groups are
It may be unsubstituted or substituted with a substituent. As a substituent
R51And the substituent in
You. R41, R42, R 43Specifically, the alkyl group is methyl
, Ethyl, propyl, butyl, isopropyl
Group, t-butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group,
Aryls such as 1-methylcyclohexyl and benzyl
Phenyl group, p-tolylyl group, p-methoxyphenyl
A heterocyclic group such as a nyl group is a 2-tetrahydrofuranyl group,
A 4-pyridyl group. These substituents are unsubstituted
Or it may be substituted with another group. R41, R
42, R43, R44And R452 or more selected from
And may be connected to each other to form a ring.

【0029】一般式(V)の化合物について詳細に説明
する。一般式(V)において、R51、R52、R53、R54
及びR55はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表
す。置換基としては、直鎖または分岐、鎖状または環状
のアルキル基、直鎖または分岐、鎖状または環状のアル
ケニル基、アルキニル基、アリール基、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカ
ルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール
オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、N−ア
シルスルファモイル基、N−スルファモイルカルバモイ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基、アミノ基、アンモニオ基、シアノ基、ニ
トロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メ
ルカプト基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ウレイド
基、複素環基(例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少
なくとも1個以上含み、3〜12員環の単環、縮合
環)、複素環オキシ基、複素環チオ基、アシル基、スル
ファモイルアミノ基、シリル基、ハロゲン原子が挙げら
れる。
The compound represented by formula (V) will be described in detail. In the general formula (V), R 51 , R 52 , R 53 , R 54
And R 55 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. As the substituent, a linear or branched, chain or cyclic alkyl group, a linear or branched, chain or cyclic alkenyl group, alkynyl group, aryl group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group , A carbamoyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an N-acylsulfamoyl group, an N-sulfamoylcarbamoyl group An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group,
Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, amino group, ammonium group, cyano group, nitro group, carboxyl group, hydroxy group, sulfo group, mercapto group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylthio group, arylthio group, ureido Group, heterocyclic group (for example, a monocyclic or condensed 3- to 12-membered ring containing at least one or more of nitrogen, oxygen and sulfur), a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, an acyl group, and a sulfamoyl Examples include an amino group, a silyl group and a halogen atom.

【0030】具体的には、水素原子、炭素数1〜10の
直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基(例え
ば、トリフルオロメチル、メチル、エチル、プロピル、
ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、t−
ブチル、t−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、オクチル、2−エチルヘキシル等)、炭素数2〜1
0の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニル基
(例えばビニル、1−メチルビニル、シクロヘキセン−
1−イル等)、炭素数2〜10のアルキニル基(例え
ば、エチニル、1−プロピニル等)、炭素数6〜14の
アリール基(例えば、フェニル、ナフチル等)、炭素数
1〜10のアシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベン
ゾイルオキシ等)、炭素数2〜10のアルコキシカルボ
ニルオキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ基、
2−メトキシエトキシカルボニルオキシ基など)、炭素
数7〜14のアリールオキシカルボニルオキシ基(例え
ばフェノキシカルボニルオキシ基など)炭素数1〜12
のカルバモイルオキシ基(例えば、N,N−ジメチルカ
ルバモイルオキシ等)、炭素数1〜12のカルボンアミ
ド基(例えば、ホルムアミド、N−メチルアセトアミ
ド、アセトアミド、N−メチルホルムアミド、ベンツア
ミド等)、炭素数1〜10のスルホンアミド基(例え
ば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、
p−トルエンスルホンアミド等)、炭素数1〜10のカ
ルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル、N,
N−ジエチルカルバモイル、N−メシルカルバモイル
等)、炭素数0〜10のスルファモイル基(例えば、N
−ブチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモ
イル、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)スル
ファモイル等)、炭素数1〜10のアルコキシ基(例え
ば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチル
オキシ、t−オクチルオキシ等)、炭素数6〜14のア
リールオキシ基(例えば、フェノキシ、4−メトキシフ
ェノキシ、ナフトキシ等)、炭素数7〜14のアリール
オキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル、
ナフトキシカルボニル等)、炭素数2〜10のアルコキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、t−ブ
トキシカルボニル等)、炭素数1〜12のN−アシルス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル、
N−ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜12の
N−スルファモイルカルバモイル基(例えばN−メタン
スルホニルカルバモイル基など)、炭素数1〜10のア
ルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オク
チルスルホニル、2−メトキシエチルスルホニル等)、
炭素数6〜14のアリールスルホニル基(例えば、ベン
ゼンスルホニル、p−トルエンスルホニル、4−フェニ
ルスルホニルフェニルスルホニル等)、炭素数2〜10
のアルコキシカルボニルアミノ基(例えば、エトキシカ
ルボニルアミノ等)、炭素数7〜14のアリールオキシ
カルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカルボニルア
ミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等)、炭素数0〜1
0のアミノ基(例えばアミノ、メチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ
等)、炭素数3〜12のアンモニオ基(例えば、トリメ
チルアンモニオ基、ジメチルベンジルアンモニオ基な
ど)シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ
基、スルホ基、メルカプト基、炭素数1〜10のアルキ
ルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル、オク
タンスルフィニル等)、炭素数6〜14のアリールスル
フィニル基(例えば、ベンゼンスルフィニル、4−クロ
ロフェニルスルフィニル、p−トルエンスルフィニル
等)、炭素数1〜10のアルキルチオ基(例えば、メチ
ルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ等)、炭素
数6〜14のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ、
ナフチルチオ等)、炭素数1〜13のウレイド基(例え
ば、3−メチルウレイド、3,3−ジメチルウレイド、
1,3−ジフェニルウレイド等)、炭素数2〜15の複
素環基(ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素および
イオウ等を少なくとも1個以上含み、3〜12員環の単
環、縮合環で、例えば、2−フリル、2−ピラニル、2
−ピリジル、2−チエニル、2−イミダゾリル、モルホ
リノ、2−キノリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベ
ンゾチアゾリル、2−ベンゾオキサゾリル等)、複素環
オキシ基(例えば、ピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ
等)、複素環チオ基(例えば、テトラゾリルチオ、1,
3,4−チアジアゾリルチオ、1,3,4−オキサジア
ゾリルチオ、ベンツイミダゾリルチオ等)、炭素数1〜
12のアシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、トリ
フルオロアセチル等)、炭素数0〜10のスルファモイ
ルアミノ基(例えば、N−ブチルスルファモイルアミ
ノ、N−フェニルスルファモイルアミノ等)、炭素数3
〜12のシリル基(例えば、トリメチルシリル、ジメチ
ル−t−ブチルシリル等)、ハロゲン原子(例えば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が挙げられる。上記
の置換基はさらに置換基を有していてもよく、その置換
基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
51、R52、R53、R54及びR55から選択される2以上
はそれぞれ互いに連結して環を形成しても良い。
Specifically, a hydrogen atom, a linear or branched, chain or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, trifluoromethyl, methyl, ethyl, propyl,
Heptafluoropropyl, isopropyl, butyl, t-
Butyl, t-pentyl, cyclopentyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, etc.), having 2 to 1 carbon atoms
0 linear or branched, chain or cyclic alkenyl groups (eg, vinyl, 1-methylvinyl, cyclohexene-
1-yl, etc.), an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethynyl, 1-propynyl, etc.), an aryl group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, etc.), an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms (For example, acetoxy, benzoyloxy and the like), an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 10 carbon atoms (for example, methoxycarbonyloxy group,
2-methoxyethoxycarbonyloxy group), an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 14 carbon atoms (for example, a phenoxycarbonyloxy group) and 1 to 12 carbon atoms
A carbamoyloxy group (e.g., N, N-dimethylcarbamoyloxy, etc.), a carbonamide group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., formamide, N-methylacetamide, acetamide, N-methylformamide, benzamide, etc.), carbon number 1 to 10 sulfonamide groups (for example, methanesulfonamide, benzenesulfonamide,
a carbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, N-methylcarbamoyl, N,
N-diethylcarbamoyl, N-mesylcarbamoyl, etc.), a sulfamoyl group having 0 to 10 carbon atoms (for example, N
-Butylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, N-methyl-N- (4-methoxyphenyl) sulfamoyl and the like, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methoxy, propoxy, isopropoxy, octyl) Oxy, t-octyloxy, etc.), an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenoxy, 4-methoxyphenoxy, naphthoxy, etc.), an aryloxycarbonyl group having 7 to 14 carbon atoms (eg, phenoxycarbonyl,
Naphthoxycarbonyl), an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.), an N-acylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, N-ethylsulfamoyl) ,
N-benzoylsulfamoyl, etc.), N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, N-methanesulfonylcarbamoyl group), alkylsulfonyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methanesulfonyl, octylsulfonyl) , 2-methoxyethylsulfonyl, etc.),
An arylsulfonyl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 4-phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), a carbon number of 2 to 10
An alkoxycarbonylamino group (e.g., ethoxycarbonylamino and the like), an aryloxycarbonylamino group having 7 to 14 carbon atoms (e.g., phenoxycarbonylamino, naphthoxycarbonylamino and the like), and a carbon number of 0 to 1
0 amino group (for example, amino, methylamino, diethylamino, diisopropylamino, anilino, morpholino, etc.), an ammonio group having 3 to 12 carbon atoms (for example, trimethylammonio group, dimethylbenzylammonio group, etc.) cyano group, nitro group A carboxyl group, a hydroxy group, a sulfo group, a mercapto group, an alkylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methanesulfinyl, octanesulfinyl and the like), and an arylsulfinyl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, benzenesulfinyl, 4- Chlorophenylsulfinyl, p-toluenesulfinyl, etc.), an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methylthio, octylthio, cyclohexylthio, etc.), and an arylthio group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenylthio,
Naphthylthio, etc.), a ureido group having 1 to 13 carbon atoms (for example, 3-methylureido, 3,3-dimethylureido,
1,3-diphenylureido and the like, and a heterocyclic group having 2 to 15 carbon atoms (for example, a heterocyclic atom containing at least one or more of nitrogen, oxygen and sulfur, etc., is a 3- to 12-membered monocyclic or condensed ring. For example, 2-furyl, 2-pyranyl, 2
-Pyridyl, 2-thienyl, 2-imidazolyl, morpholino, 2-quinolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzothiazolyl, 2-benzoxazolyl, etc.), heterocyclic oxy group (for example, pyridyloxy, pyrazolyloxy, etc.), heterogeneous Ring thio groups (eg, tetrazolylthio, 1,
3,4-thiadiazolylthio, 1,3,4-oxadiazolylthio, benzimidazolylthio, etc.), having 1 to 1 carbon atoms
12 acyl groups (for example, acetyl, benzoyl, trifluoroacetyl and the like), a sulfamoylamino group having 0 to 10 carbon atoms (for example, N-butylsulfamoylamino, N-phenylsulfamoylamino and the like), carbon Number 3
To 12 silyl groups (eg, trimethylsilyl, dimethyl-t-butylsilyl, etc.) and halogen atoms (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.). The above-mentioned substituent may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituents mentioned here.
Two or more selected from R 51 , R 52 , R 53 , R 54 and R 55 may be connected to each other to form a ring.

【0031】以下に本発明における電子供与性化合物、
一般式(II)、一般式(III)、一般式(IV)、一般式
(V)の化合物の具体例を示すが、これらに限定される
ものではない。
The electron donating compound according to the present invention is described below.
Specific examples of the compounds represented by the general formulas (II), (III), (IV) and (V) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0032】[0032]

【化14】 Embedded image

【0033】[0033]

【化15】 Embedded image

【0034】[0034]

【化16】 Embedded image

【0035】[0035]

【化17】 Embedded image

【0036】[0036]

【化18】 Embedded image

【0037】本発明に用いられる「ホスホリル基を有す
る化合物」(以下、ホスホリル化合物と記すことがあ
る)は、ホスホリル基を分子内に1個以上有していれば
いかなる化合物であってもよい。特に、上記一般式(V
I)で表される化合物が好ましい。一般式(VI)におい
て、R61、R62およびR63はそれぞれ独立にアルキル
基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表す。これら
の基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
The "compound having a phosphoryl group" (hereinafter sometimes referred to as a phosphoryl compound) used in the present invention may be any compound as long as it has at least one phosphoryl group in a molecule. In particular, the general formula (V
Compounds represented by I) are preferred. In the general formula (VI), R 61 , R 62 and R 63 each independently represent an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group. These groups may be unsubstituted or have a substituent.

【0038】アルキル基の例としては、メチル基、エチ
ル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピ
ル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、
シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基などが
挙げられる。アリール基の例としては、フェニル基、ク
レジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフ
ェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジ
ル基、3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
アラルキル基の例としては、ベンジル基、フェネチル
基、2−フェノキシプロピル基などが挙げられる。アル
コキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ
基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシ
ルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシク
ロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基などが挙げられ
る。アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ク
レジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−
ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ
基などが挙げられる。アミノ基としてはジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチル
アミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシク
ロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル
−N−フェニルアミノ基などが挙げられる。
Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, butyl, octyl, dodecyl, isopropyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl,
Examples include a cyclohexyl group and a 1-methylcyclohexyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a cresyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a 4-t-butylphenyl group, a 4-t-octylphenyl group, a 4-anisidyl group, and a 3,5-dichlorophenyl group. .
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a 2-phenoxypropyl group, and the like. Examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, and 4-methylcyclohexyloxy Group, benzyloxy group and the like. Examples of aryloxy groups include phenoxy, cresyloxy, isopropylphenoxy, 4-t-
Examples thereof include a butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group. Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .

【0039】R61、R62およびR63としては、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好
ましい。より好ましくは、R61、R62およびR63のうち
少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であ
り、さらに好ましくは、二つ以上がアルキル基またはア
リール基である。安価に入手する事ができるという点で
はR61、R62およびR63が同一の基であることが好まし
い。R61、R62およびR63が置換基を有する場合、置換
基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、ア
シルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などが
挙げられる。置換基として好ましくは置換または無置換
のアルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリー
ルオキシ基であり、例えばメチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル
基、4−アルコキシフェニル基、4−アシルオキシフェ
ニル基、メトキシ基、フェノキシ基などが挙げられる。
63としては、フェニル基が好ましく、少なくともオル
ト位の一つが置換されたフェニル基が更に好ましい。オ
ルト位の置換基について更に詳しく説明すると、直鎖ま
たは分岐、鎖状または環状のアルキル基、直鎖または分
岐、鎖状または環状のアルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキ
シカルボニル基、N−アシルスルファモイル基、N−ス
ルファモイルカルバモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アミノ基、ア
ンモニオ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒ
ドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、アルキルスルフ
ィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ウレイド基、複素環基(例えば、窒
素、酸素およびイオウ等を少なくとも1個以上含み、3
〜12員環の単環、縮合環)、複素環オキシ基、複素環
チオ基、アシル基、スルファモイルアミノ基、シリル
基、ハロゲン原子が挙げられる。
As R 61 , R 62 and R 63 , an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group and an aryloxy group are preferred. More preferably, at least one or more of R 61 , R 62 and R 63 is an alkyl group or an aryl group, and further preferably, two or more are an alkyl group or an aryl group. R 61 , R 62 and R 63 are preferably the same group in that they can be obtained at low cost. When R 61 , R 62 and R 63 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, Acyloxy group, oxycarbonyl group, carbamoyl group,
Examples include a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. The substituent is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, alkoxy group or aryloxy group, such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4- Examples include an alkoxyphenyl group, a 4-acyloxyphenyl group, a methoxy group, and a phenoxy group.
R 63 is preferably a phenyl group, and more preferably a phenyl group having at least one ortho position substituted. The ortho-position substituent is described in more detail as follows: linear or branched, chain or cyclic alkyl group, linear or branched, chain or cyclic alkenyl group, alkynyl group, aryl group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group An aryloxycarbonyloxy group, a carbamoyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an N-acylsulfamoyl group, N -A sulfamoylcarbamoyl group, an alkylsulfonyl group,
Arylsulfonyl group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, amino group, ammonium group, cyano group, nitro group, carboxyl group, hydroxy group, sulfo group, mercapto group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylthio group,
An arylthio group, a ureido group, a heterocyclic group (for example, containing at least one or more of nitrogen, oxygen and sulfur,
A monocyclic to 12-membered ring, a condensed ring), a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, an acyl group, a sulfamoylamino group, a silyl group, and a halogen atom.

【0040】具体的には、水素原子、炭素数1〜10の
直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基(例え
ば、トリフルオロメチル、メチル、エチル、プロピル、
ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、t−
ブチル、t−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、オクチル、2−エチルヘキシル等)、炭素数2〜1
0の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニル基
(例えばビニル、1−メチルビニル、シクロヘキセン−
1−イル等)、炭素数2〜10のアルキニル基(例え
ば、エチニル、1−プロピニル等)、炭素数6〜14の
アリール基(例えば、フェニル、ナフチル等)、炭素数
1〜10のアシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベン
ゾイルオキシ等)、炭素数2〜10のアルコキシカルボ
ニルオキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ基、
2−メトキシエトキシカルボニルオキシ基など)、炭素
数7〜14のアリールオキシカルボニルオキシ基(例え
ばフェノキシカルボニルオキシ基など)、炭素数1〜1
2のカルバモイルオキシ基(例えば、N,N−ジメチル
カルバモイルオキシ等)、炭素数1〜12のカルボンア
ミド基(例えば、ホルムアミド、N−メチルアセトアミ
ド、アセトアミド、N−メチルホルムアミド、ベンツア
ミド等)、炭素数1〜10のスルホンアミド基(例え
ば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、
p−トルエンスルホンアミド等)、炭素数1〜10のカ
ルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル、N,
N−ジエチルカルバモイル、N−メシルカルバモイル
等)、炭素数0〜10のスルファモイル基(例えば、N
−ブチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモ
イル、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)スル
ファモイル等)、炭素数1〜10のアルコキシ基(例え
ば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチル
オキシ、t−オクチルオキシ等)、炭素数6〜14のア
リールオキシ基(例えば、フェノキシ、4−メトキシフ
ェノキシ、ナフトキシ等)、炭素数7〜14のアリール
オキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル、
ナフトキシカルボニル等)、炭素数2〜10のアルコキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、t−ブ
トキシカルボニル等)、炭素数1〜12のN−アシルス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル、
N−ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜12の
N−スルファモイルカルバモイル基(例えば、N−メタ
ンスルホニルカルバモイル基など)、炭素数1〜10の
アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オ
クチルスルホニル、2−メトキシエチルスルホニル
等)、炭素数6〜14のアリールスルホニル基(例え
ば、ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニル、4
−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等)、炭素数
2〜10のアルコキシカルボニルアミノ基(例えば、エ
トキシカルボニルアミノ等)、炭素数7〜14のアリー
ルオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカル
ボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等)、炭素
数0〜10のアミノ基(例えば、アミノ、メチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、アニリ
ノ、モルホリノ等)、炭素数3〜12のアンモニオ基
(例えば、トリメチルアンモニオ基、ジメチルベンジル
アンモニオ基など)シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数1
〜10のアルキルスルフィニル基(例えば、メタンスル
フィニル、オクタンスルフィニル等)、炭素数6〜14
のアリールスルフィニル基(例えば、ベンゼンスルフィ
ニル、4−クロロフェニルスルフィニル、p−トルエン
スルフィニル等)、炭素数1〜10のアルキルチオ基
(例えば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシル
チオ等)、炭素数6〜14のアリールチオ基(例えば、
フェニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素数1〜13のウ
レイド基(例えば、3−メチルウレイド、3,3−ジメ
チルウレイド、1,3−ジフェニルウレイド等)、炭素
数2〜15の複素環基(ヘテロ原子としては例えば、窒
素、酸素およびイオウ等を少なくとも1個以上含み、3
〜12員環の単環、縮合環で、例えば、2−フリル、2
−ピラニル、2−ピリジル、2−チエニル、2−イミダ
ゾリル、モルホリノ、2−キノリル、2−ベンツイミダ
ゾリル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾオキサゾリ
ル等)、複素環オキシ基(例えば、ピリジルオキシ、ピ
ラゾリルオキシ等)、複素環チオ基(例えば、テトラゾ
リルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチオ、1,3,
4−オキサジアゾリルチオ、ベンツイミダゾリルチオ
等)、炭素数1〜12のアシル基(例えば、アセチル、
ベンゾイル、トリフルオロアセチル等)、炭素数0〜1
0のスルファモイルアミノ基(例えば、N−ブチルスル
ファモイルアミノ、N−フェニルスルファモイルアミノ
等)、炭素数3〜12のシリル基(例えば、トリメチル
シリル、ジメチル−t−ブチルシリル等)、ハロゲン原
子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が挙
げられる。これらの置換基はR63のフェニル基のオルト
位以外にも存在していてもよい。R63がオルト位に置換
基を有するフェニル基の場合、R61、R62はアルキル
基、アリール基が好ましい。
Specifically, a hydrogen atom, a linear or branched, chain or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, trifluoromethyl, methyl, ethyl, propyl,
Heptafluoropropyl, isopropyl, butyl, t-
Butyl, t-pentyl, cyclopentyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, etc.), having 2 to 1 carbon atoms
0 linear or branched, chain or cyclic alkenyl groups (eg, vinyl, 1-methylvinyl, cyclohexene-
1-yl, etc.), an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethynyl, 1-propynyl, etc.), an aryl group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, etc.), an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms (For example, acetoxy, benzoyloxy and the like), an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 10 carbon atoms (for example, methoxycarbonyloxy group,
2-methoxyethoxycarbonyloxy group or the like), an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 14 carbon atoms (for example, a phenoxycarbonyloxy group or the like),
A carbamoyloxy group (e.g., N, N-dimethylcarbamoyloxy), a carbonamide group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., formamide, N-methylacetamide, acetamido, N-methylformamide, benzamide, etc.), carbon Number 1 to 10 sulfonamide groups (for example, methanesulfonamide, benzenesulfonamide,
a carbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, N-methylcarbamoyl, N,
N-diethylcarbamoyl, N-mesylcarbamoyl, etc.), a sulfamoyl group having 0 to 10 carbon atoms (for example, N
-Butylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, N-methyl-N- (4-methoxyphenyl) sulfamoyl and the like, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methoxy, propoxy, isopropoxy, octyl) Oxy, t-octyloxy, etc.), an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenoxy, 4-methoxyphenoxy, naphthoxy, etc.), an aryloxycarbonyl group having 7 to 14 carbon atoms (eg, phenoxycarbonyl,
Naphthoxycarbonyl), an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.), an N-acylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, N-ethylsulfamoyl) ,
N-benzoylsulfamoyl, etc.), an N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, N-methanesulfonylcarbamoyl group), an alkylsulfonyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methanesulfonyl, octyl) Sulfonyl, 2-methoxyethylsulfonyl, etc.), an arylsulfonyl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl,
-Phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), an alkoxycarbonylamino group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethoxycarbonylamino), an aryloxycarbonylamino group having 7 to 14 carbon atoms (eg, phenoxycarbonylamino, naphthoxycarbonylamino, etc.) ), An amino group having 0 to 10 carbon atoms (eg, amino, methylamino, diethylamino, diisopropylamino, anilino, morpholino, etc.), an ammonio group having 3 to 12 carbon atoms (eg, trimethylammonio group, dimethylbenzylammonio group) Etc.) cyano group, nitro group, carboxyl group, hydroxy group, sulfo group, mercapto group, carbon number 1
To 10 alkylsulfinyl groups (e.g., methanesulfinyl, octanesulfinyl, etc.), having 6 to 14 carbon atoms
(E.g., benzenesulfinyl, 4-chlorophenylsulfinyl, p-toluenesulfinyl, etc.), an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methylthio, octylthio, cyclohexylthio, etc.), an arylthio group having 6 to 14 carbon atoms (For example,
Phenylthio, naphthylthio, etc.), a ureido group having 1 to 13 carbon atoms (eg, 3-methylureide, 3,3-dimethylureide, 1,3-diphenylureide, etc.), a heterocyclic group having 2 to 15 carbon atoms (heteroatom) Include, for example, at least one or more of nitrogen, oxygen, sulfur, and the like.
A 12-membered monocyclic or condensed ring such as 2-furyl, 2
-Pyranyl, 2-pyridyl, 2-thienyl, 2-imidazolyl, morpholino, 2-quinolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzothiazolyl, 2-benzoxazolyl and the like, a heterocyclic oxy group (for example, pyridyloxy, pyrazolyloxy) Heterocyclic thio group (for example, tetrazolylthio, 1,3,4-thiadiazolylthio, 1,3,
4-oxadiazolylthio, benzimidazolylthio, etc.), an acyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, acetyl,
Benzoyl, trifluoroacetyl, etc.), having 0 to 1 carbon atoms
0, a sulfamoylamino group (eg, N-butylsulfamoylamino, N-phenylsulfamoylamino, etc.), a silyl group having 3 to 12 carbon atoms (eg, trimethylsilyl, dimethyl-t-butylsilyl, etc.), halogen Atoms (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.). These substituents may be present at positions other than the ortho position of the phenyl group of R 63 . When R 63 is a phenyl group having a substituent at the ortho position, R 61 and R 62 are preferably an alkyl group or an aryl group.

【0041】以下に本発明に用いられるホスホリル基を
有する化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the compound having a phosphoryl group used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0042】[0042]

【化19】 Embedded image

【化20】 Embedded image

【0043】[0043]

【化21】 Embedded image

【化22】 Embedded image

【0044】[0044]

【化23】 Embedded image

【化24】 Embedded image

【0045】[0045]

【化25】 Embedded image

【化26】 Embedded image

【0046】[0046]

【化27】 Embedded image

【化28】 Embedded image

【0047】[0047]

【化29】 Embedded image

【化30】 Embedded image

【0048】[0048]

【化31】 Embedded image

【0049】前記AおよびBの少なくとも一方の条件を
満たす化合物の添加量はそれぞれ0.01〜4.0g/m2であ
ることが好ましく、0.1〜2.0g/m2であることがより好
ましく、画像形成層を有する面の銀1モルに対しては2〜
40%モル含まれることが好ましく、5〜30モル%で含まれ
ることがさらに好ましい。フェノール系還元剤(一般式
(I)の化合物)と前記AおよびBの少なくとも一方の
条件を満たす化合物の添加量比(モル比)は0.1〜10の
範囲が好ましく、0.1〜2.0の範囲がより好ましい。さら
に好ましくは0.5〜1.5の範囲である。フェノール化合物
(一般式(I)の化合物)及び前記AおよびBの少なく
とも一方の条件を満たす化合物は、有機銀塩を含有する
画像形成層に含有させることが好ましいが、一方を画像
形成層に他方をその隣接する非画像形成層に含有させて
もよく、両者を非画像形成層に含有させることを可能で
あろう。また、画像形成層が複数層で構成されている場
合にそれぞれを別層に含有させることもできる。
[0049] The preferably amount of at least one condition is satisfied compounds A and B are each 0.01~4.0g / m 2, more preferably from 0.1 to 2.0 g / m 2, the image forming layer 2 to 1 mole of silver on the surface having
It is preferably contained in an amount of 40% by mole, and more preferably 5 to 30% by mole. The addition ratio (molar ratio) of the phenolic reducing agent (compound of the general formula (I)) and the compound satisfying at least one of the conditions A and B is preferably in the range of 0.1 to 10, more preferably in the range of 0.1 to 2.0. preferable. More preferably, it is in the range of 0.5 to 1.5. The phenolic compound (compound of the general formula (I)) and the compound satisfying at least one of the above conditions A and B are preferably contained in an image forming layer containing an organic silver salt. May be contained in the adjacent non-image forming layer, or both may be contained in the non-image forming layer. Further, when the image forming layer is composed of a plurality of layers, each of them can be contained in another layer.

【0050】フェノール化合物(一般式(I)の化合
物)及び前記AおよびBの少なくとも一方の条件を満た
す化合物は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物
形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材
料に含有させてもよい。よく知られている乳化分散法と
しては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製する方法が挙げられる。また、固体微粒子分散法とし
ては、フェノール化合物(一般式(I)の化合物)及び
前記AおよびBの少なくとも一方の条件を満足する化合
物の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイド
ミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ロ
ーラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物
を作成する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイ
ド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例
えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合
物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。水
分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナト
リウム塩)を含有させることができる。
The phenol compound (compound of the general formula (I)) and the compound satisfying at least one of the above conditions A and B can be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form and a solid fine particle dispersion form. May be contained in the photosensitive material. Well-known emulsification dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically dispersing the emulsified dispersion. A method for producing the same is given. As a method for dispersing solid fine particles, a phenol compound (compound of the general formula (I)) and a powder of a compound satisfying at least one of the above conditions A and B are mixed in a suitable solvent such as water in a ball mill, a colloid mill, or the like. Vibration ball mills, sand mills, jet mills, roller mills, or a method of dispersing with an ultrasonic wave to prepare a solid dispersion can be used. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) and a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. The aqueous dispersion can contain a preservative (eg, benzoisothiazolinone sodium salt).

【0051】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感
光性ハロゲン化銀の潜像など)及び熱現像剤の存在下
で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形
成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源
を含む任意の有機物質であってよい。このような非感光
性の有機銀塩については、特開平10−62899号公
報の段落番号0048〜0049、欧州特許公開EP0
803763A1号公報の第18ページ第24行〜第1
9ページ第37行、欧州特許公開EP0962812A
1号公報に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素
数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン
酸の銀塩が好ましい。有機銀塩の好ましい例としては、
ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイ
ン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸
銀、パルミチン酸銀、これらの混合物などを含む。
The organic silver salt which can be used in the present invention is
Relatively stable to light, but forms a silver image when heated to 80 ° C or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of photosensitive silver halide) and a thermal developer Silver salt. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Such non-photosensitive organic silver salts are described in JP-A-10-62899, paragraphs [0048] to [0049] and European Patent Publication EP0-EP0.
No. 803763A1, page 18, line 24 to first
Page 9, line 37, European Patent Publication EP0962812A
No. 1 publication. Silver salts of organic acids, in particular silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (with 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferred examples of the organic silver salt include:
Silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, mixtures thereof, and the like.

【0052】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、本発明においてはりん片
状の有機銀塩が好ましい。本明細書において、りん片状
の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩
を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体
と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、
cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い
方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。 x=b/a このようにして200個程度の粒子についてxを求め、
その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5
の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30
≧x(平均)≧1.5、より好ましくは20≧x(平
均)≧2.0である。因みに針状とは1≦x(平均)<
1.5である。りん片状粒子において、aはbとcを辺
とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることが
できる。aの平均は0.01μm〜0.23μmが好まし
く0.1μm〜0.20μmがより好ましい。c/bの平
均は好ましくは1〜6、より好ましくは1.05〜4、
さらに好ましくは1.1〜3、特に好ましくは1.1〜
2である。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a scaly organic silver salt is preferable in the present invention. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt is observed with an electron microscope, and the shape of the organic acid silver salt particles is approximated to a rectangular parallelepiped.
When c is set (c may be the same as b), x is calculated as follows using the shorter numerical values a and b. x = b / a x is obtained for about 200 particles in this manner,
Assuming that the average value x (average), x (average) ≧ 1.5
The one satisfying the above relationship is scaly. Preferably 30
≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. By the way, the needle shape is 1 ≦ x (average) <
1.5. In the scaly particle, a can be regarded as the thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm to 0.23 μm, more preferably 0.1 μm to 0.20 μm. The average of c / b is preferably 1 to 6, more preferably 1.05 to 4,
More preferably, 1.1 to 3, particularly preferably 1.1 to
2.

【0053】有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散である
ことが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さ
の標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率
が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に
好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法
としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求め
ることができる。単分散性を測定する別の方法として、
有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法が
あり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)
が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に
好ましくは50%以下である。測定方法としては例えば液
中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱
光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めるこ
とにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)から求
めることができる。
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse and the minor axis, the standard deviation of the length of each major axis is 100% or less, preferably 100% or less, more preferably 80% or less, more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each major axis by each minor axis. It is as follows. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. Another way to measure monodispersity is
There is a method of calculating the standard deviation of the volume-weighted average diameter of an organic silver salt, and the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation)
Is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and still more preferably 50% or less. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be.

【0054】本発明に用いられる有機酸銀の製造及びそ
の分散法は、公知の方法を適用することができる。例え
ば上記の特開平10−62899号公報、欧州特許公開
EP0803763A1号公報、欧州特許公開EP09
62812A1公報を参考にすることができる。本発明
において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合
して感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩
と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機
銀塩に対する感光性銀塩の割合は1〜30モル%の範囲が好
ましく、更に3〜20モル%、特に5〜15モル%の範囲が好ま
しい。混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種
以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性
の調節のために好ましく用いられる方法である。有機銀
塩は所望の量で使用できるが、銀量として0.1〜5g/m2
好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2である。
Known methods can be applied to the production of the organic silver salt used in the present invention and the dispersion method thereof. For example, the above-mentioned JP-A-10-62899, European Patent Publication EP0803763A1, European Patent Publication EP09
No. 62812A1 can be referred to. In the present invention, it is possible to produce a photosensitive material by mixing the aqueous dispersion of the organic silver salt and the aqueous dispersion of the photosensitive silver salt, the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose, The ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, and particularly preferably 5 to 15 mol%. Mixing two or more aqueous dispersions of organic silver salts with two or more aqueous dispersions of photosensitive silver salts during mixing is a method preferably used for controlling photographic characteristics. Organic silver salts can be used in a desired amount, preferably 0.1-5 g / m 2 as silver amount, more preferably from 1 to 3 g / m 2.

【0055】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀
は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀を用いること
ができる。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一で
あってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したも
のでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。ま
た、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ま
しく用いることができる。構造として好ましくいものは
2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/
シェル粒子を用いることができる。また塩化銀または塩
臭化銀粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も好ましく
用いることができる。
The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited in the halogen composition, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodochlorobromide can be used. . The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may change stepwise, or may change continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. The preferred structure is
It has a double- to five-fold structure, and more preferably a double- to four-fold structure core /
Shell particles can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used.

【0056】感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界で
はよく知られており例えば、リサーチディスクロージャ
ー1978年6月の第17029号、および米国特許第37004
58号明細書に記載されている方法を用いることができ
るが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中
に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加すること
により感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩
と混合する方法を用いる。感光性ハロゲン化銀の粒子サ
イズは、画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小
さいことが好ましく具体的には0.20μm以下、より好ま
しくは0.01〜0.15μm、更に好ましくは0.02〜0.12μmが
よい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が
立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合、そ
の他正常晶でない場合、例えば球状粒子、棒状粒子等の
場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた
ときの直径をいい、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子であ
る場合には主表面の投影面積と同面積の円像に換算した
ときの直径をいう。
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example, Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat.
No. 58, but specifically, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to gelatin or another polymer solution, Thereafter, a method of mixing with an organic silver salt is used. The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing white turbidity after image formation, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.01 to 0.15 μm, and still more preferably 0.02 to 0.12 μm. Good. The grain size as used herein means that when the silver halide grains are cubic or octahedral so-called normal crystals, and when they are not normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-like grains, etc., the volume of the silver halide grains is It refers to the diameter when considering equivalent spheres, and when the silver halide grains are tabular grains, it refers to the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface.

【0057】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子のコーナ
ーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。感光
性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)に
ついては特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場
合の分光増感効率が高い[100]面の占める割合が高いこ
とが好ましい。その割合としては50%以上が好ましく、6
5%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミラ
ー指数[100]面の比率は増感色素の吸着における[111]面
と[100]面との吸着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging
Sci.,29、165(1985年)に記載の方法により求めることが
できる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles are particularly preferable. Grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the ratio of the [100] plane, which has high spectral sensitization efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed, is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, 6
5% or more is more preferable, and 80% or more is further preferable. The ratio of the Miller index [100] plane is determined by T. Tani; J. Imaging using the dependence of the adsorption of the sensitizing dye on the [111] and [100] planes.
Sci., 29, 165 (1985).

【0058】感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表(第
1〜18族までを示す)の第8族〜第10族の金属また
は金属錯体を含有することが好ましい。周期律表の第8
族〜第10族の金属または金属錯体の中心金属として好
ましくは、ロジウム、レニウム、ルテニウム、オスミウ
ム、イリジウムである。これら金属錯体は1種類でもよ
いし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併用して
もよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モル
から1×10-3モルの範囲が好ましい。これらの金属錯体
については特開平11−65021号公報段落番号00
18〜0024に記載されている。
The photosensitive silver halide grains preferably contain a metal or metal complex of Group 8 to Group 10 of the periodic table (showing Groups 1 to 18). Eighth of the periodic table
Rhodium, rhenium, ruthenium, osmium, and iridium are preferred as the metals of Group 10 to Group 10 or the central metal of the metal complex. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 -9 mol to 1 × 10 -3 mol per mol of silver. These metal complexes are described in paragraph No. 00 of JP-A-11-65021.
18-0024.

【0059】本発明においてはその中でもハロゲン化銀
粒子中にイリジウム化合物を含有させることが好まし
い。イリジウム化合物としては、例えば、ヘキサクロロ
イリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラ
トイリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタクロロ
ニトロシルイリジウム等が挙げられる。これらのイリジ
ウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いら
れるが、イリジウム化合物の溶液を安定化させるために
一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水
溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲ
ン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加
する方法を用いることができる。水溶性イリジウムを用
いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジ
ウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して
溶解させることも可能である。これらイリジウム化合物
の添加量はハロゲン化銀1モル当たり1×10-8モル〜
1×10-3モルの範囲が好ましく、1×10-7モル〜5
×10-4モルの範囲がより好ましい。
In the present invention, among them, it is preferable to include an iridium compound in silver halide grains. Examples of the iridium compound include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or an appropriate solvent. However, a method generally used to stabilize the solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or a method of adding an alkali halide (eg, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.). Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain doped with iridium in advance during the preparation of silver halide. The addition amount of these iridium compounds is 1 × 10 −8 mol / mol of silver halide.
The range of 1 × 10 -3 mol is preferable, and 1 × 10 -7 mol to 5 mol
A range of × 10 -4 mol is more preferred.

【0060】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(CN)6]
4-)、脱塩法、化学増感法については特開平11-84574号
公報段落番号0046〜0050、特開平11-65021号公報段落番
号0025〜0031に記載されている。本発明の熱現像感光材
料では、現像促進剤として特願平11−73951号明
細書に記載の式(A)で表されるフェノール誘導体が好
ましく用いられる。
Further, metal atoms (for example, [Fe (CN) 6 ]) which can be contained in the silver halide grains used in the present invention.
4- ), desalting and chemical sensitization are described in JP-A-11-84574, paragraphs 0046 to 0050, and JP-A-11-65021, paragraphs 0025 to 0031. In the photothermographic material of the present invention, a phenol derivative represented by the formula (A) described in Japanese Patent Application No. 11-73951 is preferably used as a development accelerator.

【0061】本発明に適用できる増感色素としてはハロ
ゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン
化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性
に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択するこ
とができる。増感色素及び添加法については、特開平11
-65021号公報の段落番号0103〜0109、特開平10-186572
号公報一般式(II)で表される化合物、欧州特許公開EP08
03764A1号公報の第19ページ第38行〜第20ページ
第35行に記載されている。本発明において増感色素を
ハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗
布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化
学熟成の開始前までの時期である。本発明における増感
色素の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の
量にすることができるが、感光性層のハロゲン化銀1モ
ル当たり10-6〜1モルが好ましく、さらに好ましくは
10-4〜10-1モルである。本発明は分光増感効率を向
上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発
明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第58
7,338号公報、米国特許第3,877,943号明
細書、同第4,873,184号明細書、特開平5-3
41432号公報、特開平11−109547号公報、
特開平10−111543号公報等に記載の化合物が挙
げられる。
The sensitizing dye applicable to the present invention is a sensitizing dye capable of spectrally sensitizing silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on the silver halide grains. The sensitizing dye to be used can be advantageously selected. For sensitizing dyes and addition methods, see
-65021, paragraphs 0103 to 0109, JP-A-10-186572
Compound represented by general formula (II), European Patent Publication EP08
No. 03764A1, page 19, line 38 to page 20, line 35. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably after the desalting step and before coating, and more preferably after desalting and before the start of chemical ripening. The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be a desired amount in accordance with the sensitivity and the performance of fog, but is preferably 10 -6 to 1 mol per mol of silver halide in the photosensitive layer, and more preferably. Is 10 -4 to 10 -1 mol. In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 58
7,338, U.S. Pat. Nos. 3,877,943 and 4,873,184, JP-A-5-3
No. 41432, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-109947,
Compounds described in JP-A-10-111543 are exemplified.

【0062】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子
は、硫黄増感法、セレン増感法もしくはテルル増感法に
て化学増感されていることが好ましい。硫黄増感法、セ
レン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物
としては公知の化合物、例えば、特開平7-128768号公報
等に記載の化合物等を使用することができる。特に本発
明においてはテルル増感が好ましく、テルル増感剤とし
ては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニ
ル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジア
シルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド
類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有す
る化合物、テルロカルボン酸塩類、テルロスルホナート
類、P-Te結合を有する化合物、テルロカルボニル化合物
などを用いることができる。具体的には、特開平11-650
21号公報段落番号0030に記載の文献に記載の化合物
を挙げることができる。特に特開平5-313284号公報中の
一般式(II),(III),(IV)で示される化合物が好まし
い。
The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized by a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, or a tellurium sensitization method. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method, known compounds, for example, compounds described in JP-A-7-128768 can be used. In particular, tellurium sensitization is preferred in the present invention.Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides , Bis (carbamoyl) ditellurides, compounds having a P = Te bond, tellurocarboxylates, tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, tellurocarbonyl compounds, and the like. Specifically, JP-A-11-650
Compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-21 can be exemplified. Particularly, compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284 are preferred.

【0063】本発明においては、化学増感は粒子形成後
で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩
後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感
後、(4)塗布直前等があり得る。特に分光増感後に行わ
れることが好ましい。本発明で用いられる硫黄、セレン
およびテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀
粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀
1モル当たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7
10-3モル程度を用いる。本発明における化学増感の条
件としては特に制限はないが、pHとしては5〜8、p
Agとしては6〜11、好ましくは7〜10であり、温
度としては40〜95℃、好ましくは44〜70℃であ
る。
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after grain formation and before coating, and after desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, ( 3) After spectral sensitization, (4) immediately before coating, and the like. In particular, it is preferably performed after spectral sensitization. The amount of the sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, the conditions of chemical ripening, etc., but is preferably 10 -8 to 10 -2 mol, and more preferably 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide. 10 -7 ~
About 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, p
Ag is 6-11, preferably 7-10, and the temperature is 40-95 ° C, preferably 44-70 ° C.

【0064】本発明に用いられる感光材料中の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例
えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異
なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なる
もの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化
銀を複数種用いることで階調を調節することができる。
これらに関する技術としては特開昭57-119341号公報、
同53-106125号公報、同47-3929号公報、同48-55730号公
報、同46-5187号公報、同50-73627号公報、同57-150841
号公報などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳
剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
The light-sensitive silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be of one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits). And those having different conditions of chemical sensitization). The gradation can be adjusted by using a plurality of photosensitive silver halides having different sensitivities.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-119341 discloses techniques related to these.
No. 53-106125, No. 47-3929, No. 48-55730, No. 46-5187, No. 50-73627, No. 57-150841
And the like. It is preferable that each emulsion has a difference of 0.2 logE or more as a sensitivity difference.

【0065】感光性ハロゲン化銀の添加量は、感光材料
1m2当たりの塗布銀量で示して、0.03〜0.6g/m2である
ことが好ましく、0.05〜0.4g/m2であることがさらに好
ましく、0.1〜0.4g/m2であることが最も好ましく、有機
銀塩1モルに対しては、感光性ハロゲン化銀0.01モル〜
0.5モルが好ましく、0.02モル〜0.3モルがより好まし
く、0.03モル〜0.25モルが特に好ましい。別々に調製し
た感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条
件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子
と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コ
ロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方
法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミン
グで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀
塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現
れる限りにおいては特に制限はない。
[0065] The addition amount of the photosensitive silver halide, when expressed by the amount of coated silver per photosensitive material 1 m 2, it is preferably 0.03~0.6g / m 2, is 0.05 to 0.4 g / m 2 more preferably, and most preferably from 0.1 to 0.4 g / m 2, relative to the organic silver salt to 1 mole of the photosensitive silver halide 0.01 mol to
0.5 mol is preferable, 0.02 mol to 0.3 mol is more preferable, and 0.03 mol to 0.25 mol is particularly preferable. Regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. And the like, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. There is no particular limitation as long as it appears in.

【0066】ハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好
ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好まし
くは60分前から10秒前にであるが、混合方法及び混合条
件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいて
は特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量
とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望
の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Ha
rnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳“液体
混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記
載されているスタチックミキサーなどを使用する方法が
ある。
The preferred timing of adding the silver halide to the coating solution for the image forming layer is from 180 minutes to immediately before coating, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. There is no particular limitation as long as the effects of the invention are sufficiently exhibited. As a specific mixing method, a method of mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid sent to the coater is a desired time or N.Ha
There is a method using a static mixer or the like described in Chapter 8 of "Liquid Mixing Technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989) by Koji Takahashi, rnby, MFEdwards, AWNienow, translated by Koji Takahashi.

【0067】本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒
の30重量%以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥
して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバイン
ダーが水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能で、特に
25℃相対湿度60%での平衡含水率が2重量%以下のポリマ
ーのラテックスからなる場合に向上する。最も好ましい
形態は、イオン伝導度が2.5mS/cm以下になるように調製
されたものであり、このような調製法としてポリマー合
成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられ
る。ここでいう前記ポリマーが可溶または分散可能であ
る水系溶媒とは、水または水に70重量%以下の水混和性
の有機溶媒を混合したものである。水混和性の有機溶媒
としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロ
ソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミドなどを挙
げることができる。なお、ポリマーが熱力学的に溶解し
ておらず、いわゆる分散状態で存在している系の場合に
も、ここでは水系溶媒という言葉を使用する。
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed by applying a coating solution in which 30% by weight or more of the solvent is water and drying, the binder of the organic silver salt-containing layer is further added. Soluble or dispersible in aqueous solvents (aqueous solvents), especially
It is improved when a latex of a polymer having an equilibrium moisture content at 25 ° C. and a relative humidity of 60% is 2% by weight or less. The most preferred form is prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less. As such a preparation method, a method of purifying using a separation functional membrane after polymer synthesis can be mentioned. The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible is water or a mixture of water and 70% by weight or less of a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and propyl alcohol; cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; ethyl acetate; and dimethylformamide. Note that the term “aqueous solvent” is used herein even in a system in which the polymer is not thermodynamically dissolved but exists in a so-called dispersed state.

【0068】また「25℃相対湿度60%における平衡含水
率」とは、25℃相対湿度60%の雰囲気下で調湿平衡にあ
るポリマーの重量W1と25℃で絶乾状態にあるポリマーの
重量W0を用いて以下のように表すことができる。25℃相
対湿度60%における平衡含水率=[(W1-W0)/W0]×100(重量
%)含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学
講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)を
参考にすることができる。バインダーポリマーの25℃相
対湿度60%における平衡含水率は2重量%以下であること
が好ましいが、より好ましくは0.01重量%〜1.5重量%、
さらに好ましくは0.02重量%〜1重量%が望ましい。
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% relative humidity” refers to the weight W1 of the polymer which is in a moisture-conditioning equilibrium in an atmosphere of 25 ° C. and 60% relative humidity, and the weight of the polymer which is completely dried at 25 ° C. It can be expressed as follows using W0. Equilibrium water content at 25 ° C and 60% relative humidity = [(W1-W0) / W0] x 100 (weight
%) For the definition and measurement method of the water content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (edited by the Society of Polymer Science, Jinjinshokan) can be referred to. The equilibrium moisture content of the binder polymer at 25 ° C. and 60% relative humidity is preferably 2% by weight or less, more preferably 0.01% by weight to 1.5% by weight,
More preferably, the content is 0.02% by weight to 1% by weight.

【0069】本発明においては水系溶媒に分散可能なポ
リマーが特に好ましい。分散状態の例としては、固体ポ
リマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分
子が分子状態またはミセルを形成して分散しているもの
などがあるが、いずれも好ましい。本発明において好ま
しい態様としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、
ゴム系樹脂(例えばSBR樹脂)、ポリウレタン樹脂、塩化
ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポ
リオレフィン樹脂等の疎水性ポリマーを好ましく用いる
ことができる。ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝
分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよ
い。ポリマーとしては単一のモノマーが重合したいわゆ
るホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重
合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダ
ムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。ポリ
マーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好まし
くは10000〜200000がよい。分子量が小さすぎるものは
画像形成層(乳剤層)の力学強度が不十分であり、大き
すぎるものは成膜性が悪く好ましくない。前記「水系溶
媒」とは、組成の30重量%以上が水である分散媒をい
う。分散状態としては乳化分散したもの、ミセル分散し
たもの、更に分子中に親水性部位を持ったポリマーを分
子状態で分散したものなど、どのようなものでもよい
が、これらのうちでラテックスが特に好ましい。
In the present invention, a polymer dispersible in an aqueous solvent is particularly preferred. Examples of the dispersion state include a latex in which fine particles of a solid polymer are dispersed, and a dispersion in which polymer molecules are dispersed in a molecular state or in the form of micelles, all of which are preferable. In a preferred embodiment of the present invention, acrylic resin, polyester resin,
A hydrophobic polymer such as a rubber-based resin (for example, SBR resin), a polyurethane resin, a vinyl chloride resin, a vinyl acetate resin, a vinylidene chloride resin, and a polyolefin resin can be preferably used. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The polymer has a number average molecular weight of 5000 to 100000, preferably 10,000 to 200,000. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer (emulsion layer) is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable. The “aqueous solvent” refers to a dispersion medium in which 30% by weight or more of the composition is water. The dispersion state may be any state such as emulsified dispersion, micelle dispersed, and further dispersed in a molecular state a polymer having a hydrophilic site in the molecule, but among these, latex is particularly preferred. .

【0070】好ましいポリマーラテックスの具体例とし
ては以下のものを挙げることができる。以下では原料モ
ノマーを用いて表し、括弧内の数値は重量%、分子量は
数平均分子量である。 P-1;-MMA(70)-EA(27)-MAA(3)-のラテックス(分子量3700
0) P-2;-MMA(70)-2EHA(20)-St(5)-AA(5)-のラテックス(分
子量40000) P-3;-St(50)-Bu(47)-MAA(3)-のラテックス(分子量4500
0) P-4;-St(68)-Bu(29)-AA(3)-のラテックス(分子量60000) P-5;-St(70)-Bu(27)-IA(3)-のラテックス(分子量12000
0) P-6;-St(75)-Bu(24)-AA(1)-のラテックス(分子量10800
0) P-7;-St(60)-Bu(35)-DVB(3)-MAA(2)-のラテックス(分子
量150000) P-8;-St(70)-Bu(25)-DVB(2)-AA(3)-のラテックス(分子
量280000) P-9;-VC(50)-MMA(20)-EA(20)-AN(5)-AA(5)-のラテック
ス(分子量80000) P-10;-VDC(85)-MMA(5)-EA(5)-MAA(5)-のラテックス(分
子量67000) P-11;-Et(90)-MAA(10)-のラテックス(分子量12000) P-12;-St(70)-2EHA(27)-AA(3)のラテックス(分子量130
000) P-13;-MMA(63)-EA(35)-AA(2)のラテックス(分子量3300
0)
Specific examples of preferable polymer latex include the following. In the following, the raw material monomers are used, and the numerical value in parentheses is% by weight, and the molecular weight is the number average molecular weight. P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-latex (molecular weight 3700
0) Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000) P-3; -St (50) -Bu (47) -MAA ( 3)-latex (molecular weight 4500
0) P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3)-latex (MW 60000) P-5; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-latex (Molecular weight 12000
0) Latex of P-6; -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(molecular weight 10800
0) P-7; -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-latex (molecular weight 150,000) P-8; -St (70) -Bu (25) -DVB ( 2) -AA (3)-latex (molecular weight 280000) P-9; -VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-latex (molecular weight 80000) P-10; -VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-latex (molecular weight 67,000) P-11; -Et (90) -MAA (10)-latex (molecular weight) 12000) P-12; -St (70) -2EHA (27) -AA (3) latex (molecular weight 130
000) P-13; -MMA (63) -EA (35) -AA (2) latex (molecular weight 3300
0)

【0071】上記構造の略号は以下のモノマーを表す。
MMA;メチルメタクリレート,EA;エチルアクリレー
ト、MAA;メタクリル酸,2EHA;2エチルヘキシルアクリ
レート,St;スチレン,Bu;ブタジエン,AA;アクリル
酸,DVB;ジビニルベンゼン,VC;塩化ビニル,AN;ア
クリロニトリル,VDC;塩化ビニリデン,Et;エチレ
ン,IA;イタコン酸。
The abbreviations of the above structures represent the following monomers.
MMA; methyl methacrylate, EA; ethyl acrylate, MAA; methacrylic acid, 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate, St; styrene, Bu; butadiene, AA; acrylic acid, DVB; divinylbenzene, VC; vinyl chloride, AN; Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.

【0072】以上に記載したポリマーラテックスは市販
もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。ア
クリル樹脂の例としては、セビアンA-4635,46583,460
1(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、82
1、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステ
ル樹脂の例としては、FINETEX ES650、611、675、850
(以上大日本インキ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イ
ーストマンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂の例と
しては、HYDRAN AP10、20、30、40(以上大日本インキ化
学(株)製)など、ゴム系樹脂の例としては、LACSTAR 731
0K、3307B、4700H、7132C(以上大日本インキ化学(株)
製)、Nipol Lx416、410、438C、2507(以上日本ゼオン(株)
製)など、塩化ビニル樹脂の例としては、G351、G576(以
上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂の例と
しては、L502、L513(以上旭化成工業(株)製)など、オレ
フィン樹脂の例としては、ケミパールS120、SA100(以上
三井石油化学(株)製)などを挙げることができる。これ
らのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要
に応じて2種以上ブレンドしてもよい。
The polymer latexes described above are also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of acrylic resins include Sebian A-4635, 46683, and 460.
1 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 82
Examples of polyester resins such as 1,820,857 (all manufactured by Zeon Corporation) include FINETEX ES650, 611, 675, 850
HYDRAN AP10, 20, 30, and 40 (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) For example, LACSTAR 731
0K, 3307B, 4700H, 7132C (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.
Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (Nippon Zeon Co., Ltd.)
Examples of vinyl chloride resins include G351 and G576 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and examples of vinylidene chloride resins include L502 and L513 (all manufactured by Asahi Kasei Corporation). Examples thereof include Chemipearl S120 and SA100 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These polymer latexes may be used alone, or may be used in combination of two or more as needed.

【0073】本発明に用いられるポリマーラテックスと
しては、特に、スチレン-ブタジエン共重合体のラテック
スが好ましい。スチレン-ブタジエン共重合体における
スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位と
の重量比は40:60〜95:5であることが好ましい。また、
スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位と
の共重合体に占める割合は60〜99重量%であることが好
ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。本
発明に用いることが好ましいスチレン-ブタジエン共重
合体のラテックスとしては、前記のP-3〜P-8、市販品で
あるLACSTAR-3307B、7132C、Nipol Lx416等が挙げられ
る。
The polymer latex used in the present invention is particularly preferably a styrene-butadiene copolymer latex. The weight ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably from 40:60 to 95: 5. Also,
The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by weight. The preferred molecular weight range is the same as described above. Examples of the styrene-butadiene copolymer latex that is preferably used in the present invention include the above-mentioned P-3 to P-8 and commercially available products such as LACSTAR-3307B, 7132C, and Nipol Lx416.

【0074】本発明の熱現像感光材料の有機銀塩含有層
には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの
親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリ
マーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの30重量
%以下、より好ましくは20重量%以下が好ましい。
The organic silver salt-containing layer of the photothermographic material of the present invention may optionally contain a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose and the like. The amount of these hydrophilic polymers added is 30% by weight of the total binder in the organic silver salt-containing layer.
% Or less, more preferably 20% by weight or less.

【0075】有機銀塩含有層(即ち、画像形成層)は、
ポリマーラテックスとを用いて形成されたものが好まし
い。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー
/有機銀塩の重量比が1/10〜10/1、更には1/5〜4/1の範
囲が好ましい。また、このような有機銀塩含有層は、通
常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された
感光性層(乳剤層)でもあり、このような場合の、全バイ
ンダー/ハロゲン化銀の重量比は400〜5、より好ましく
は200〜10の範囲が好ましい。画像形成層の全バインダ
ー量は0.2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が
好ましい。画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性
改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer)
Those formed using a polymer latex are preferred. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer depends on the total amount of the binder.
The weight ratio of the organic silver salt is preferably in the range of 1/1 to 10/1, more preferably 1/5 to 4/1. Further, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide, which is a photosensitive silver salt. The weight ratio of silver is preferably in the range of 400-5, more preferably 200-10. The total amount of the binder in the image forming layer is preferably from 0.2 to 30 g / m 2 , more preferably from 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the image forming layer.

【0076】本発明において感光材料の有機銀塩含有層
塗布液の溶媒(ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあ
わせて溶媒と表す)は、水を30重量%以上含む水系溶媒で
ある。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチル
アルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エ
チルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。塗布液
の溶媒の水含有率は50重量%以上、より好ましくは70重
量%以上が好ましい。好ましい溶媒組成の例を挙げる
と、水の他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルア
ルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチルホル
ムアミド=80/15/5、水/メチルアルコール/エチルセロソ
ルブ=85/10/5、水/メチルアルコール/イソプロピルアル
コール=85/10/5などがある(数値は重量%)。
In the present invention, the solvent of the coating solution for the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material (the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent for simplicity) is an aqueous solvent containing 30% by weight or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent in the coating liquid is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more. Examples of preferred solvent composition include water, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl alcohol / Ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are% by weight).

【0077】本発明に用いることのできるカブリ防止
剤、安定剤および安定剤前駆体特開平10-62899号公報の
段落番号0070、欧州特許公開EP0803764A1号公報の
第20ページ第57行〜第21ページ第7行に記載の特
許のものが挙げられる。また、本発明に好ましく用いら
れるカブリ防止剤は有機ハロゲン化物であり、これらに
ついては、特開平11-65021号公報の段落番号0111〜0112
に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に
特開平10-339934号公報の一般式(II)で表される有機ポ
リハロゲン化合物(具体的にはトリブロモメチルナフチ
ルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリ
ブロモメチル(4−(2,4,6−トリメチルフェニル
スルホニル)フェニル)スルホン等)が好ましい。
Antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors which can be used in the present invention Paragraph 0070 of JP-A-10-62899, page 20, line 57 to page 21 of EP0803764A1 The patents listed in line 7 are mentioned. The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide, and these are described in paragraphs 0111 to 0112 of JP-A-11-65021.
And those disclosed in the patents described in US Pat. In particular, organic polyhalogen compounds represented by the general formula (II) in JP-A-10-339934 (specifically, tribromomethylnaphthyl sulfone, tribromomethylphenylsulfone, tribromomethyl (4- (2,4, 6-trimethylphenylsulfonyl) phenyl) sulfone and the like are preferred.

【0078】カブリ防止剤を感光材料に含有せしめる方
法としては、前記熱現像剤の含有方法に記載の方法が挙
げられ、有機ポリハロゲン化合物についても固体微粒子
分散物で添加することが好ましい。その他のカブリ防止
剤としては特開平11-65021号公報段落番号0113の水銀(I
I)塩、同号公報段落番号0114の安息香酸類、特願平11
−87297号明細書の式(Z)で表されるサリチル酸
誘導体、特願平11−23995号明細書の式(S)で
表されるホルマリンスカベンジャー化合物が挙げられ
る。
Examples of the method for incorporating the antifoggant into the light-sensitive material include the methods described in the above-mentioned method for containing the thermal developer. The organic polyhalogen compound is preferably added in the form of a solid fine particle dispersion. As other antifoggants, JP-A-11-65021, paragraph number 0113, mercury (I
I) Salts, benzoic acids of paragraph No. 0114 of the same publication, Japanese Patent Application No. 11
-87297, a salicylic acid derivative represented by the formula (Z), and a formalin scavenger compound represented by the formula (S) of Japanese Patent Application No. 11-23995.

【0079】本発明における熱現像感光材料はカブリ防
止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリ
ウム塩としては、特開昭59-193447号公報記載の一般式
(XI)で表される化合物、特公昭55-12581号公報記載の化
合物、特開昭60-153039号公報記載の一般式(II)で表さ
れる化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のい
かなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性
層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩
含有層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩
の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行って
も良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製
時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩
調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法
としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で
行っても良い。また、増感色素、熱現像剤、色調剤など
他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。本発
明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量で
も良いが、銀1モル当たり1×10-6モル〜2モルが好まし
く、1×10-3モル〜0.5モルがさらに好ましい。
The photothermographic material of the present invention may contain an azolium salt for the purpose of preventing fog. As the azolium salt, the general formula described in JP-A-59-193447
Compounds represented by (XI), compounds described in JP-B-55-12581, and compounds represented by formula (II) described in JP-A-60-153039 are exemplified. The azolium salt may be added to any part of the light-sensitive material. However, it is preferable to add the azolium salt to the layer having the photosensitive layer, and it is more preferable to add the azolium salt to the organic silver salt-containing layer. The azolium salt may be added at any time during the preparation of the coating solution, and when the azolium salt is added to the organic silver salt-containing layer, any process from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be performed. To just before application. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, and fine particle dispersion. Further, it may be added as a solution mixed with other additives such as a sensitizing dye, a heat developer and a color tone agent. In the present invention, the addition amount of the azolium salt may be any amount, but is preferably 1 × 10 −6 mol to 2 mol, more preferably 1 × 10 −3 mol to 0.5 mol per mol of silver.

【0080】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができ、特開平10-62899号公報の段落番号0067〜006
9、特開平10-186572号公報の一般式(I)で表される化合
物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許
公開EP0803764A1号公報の第20ページ第36〜56行
に記載されている。中でもメルカプト置換複素芳香族化
合物が好ましい。
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are contained in order to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. Paragraph Nos.0067-006 of JP-A-10-62899 can be
9, described in paragraphs 0033 to 0052 of the compound represented by the general formula (I) of JP-A-10-186572 and specific examples thereof, page 20, lines 36 to 56 of EP0803764A1. I have. Among them, mercapto-substituted heteroaromatic compounds are preferred.

【0081】本発明では色調剤の添加が好ましく、色調
剤については、特開平10-62899号公報の段落番号005
4〜0055、欧州特許公開EP第0803764A1号公報の第
21ページ第23〜48行に記載されており、特に、フ
タラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩、また
は4-(1-ナフチル)フタラジノン、6-クロロフタラジノ
ン、5,7-ジメトキシフタラジノンおよび2,3-ジヒドロ-
1,4-フタラジンジオンなどの誘導体;フタラジノンとフ
タル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4
-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタル酸など)
との組合せ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘
導体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジ
ン、6-イソプロピルフタラジン、6-t-ブチルフラタジ
ン、6-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジンお
よび2,3-ジヒドロフタラジンなどの誘導体);フタラジ
ン類とフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチルフ
タル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタ
ル酸など)との組合せが好ましく、特にフタラジン類と
フタル酸誘導体の組合せが好ましい。
In the present invention, it is preferable to add a toning agent. For the toning agent, see paragraph 005 of JP-A-10-62899.
4-0055, EP-A-0 080 364 A1, page 21, lines 23 to 48, particularly phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophenyl Tarazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-
Derivatives such as 1,4-phthalazinedione; phthalazinone and phthalic acid derivatives (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid,
-Nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride etc.)
And phthalazines (phthalazine, phthalazine derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-t-butylfuratazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxy Derivatives such as phthalazine and 2,3-dihydrophthalazine); combinations of phthalazines and phthalic acid derivatives (e.g., phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride) are preferred, Particularly, a combination of phthalazines and a phthalic acid derivative is preferable.

【0082】感光性層に用いることのできる可塑剤およ
び潤滑剤については特開平11-65021号公報段落番号011
7、超硬調画像形成のための超硬調化剤については、同
号公報段落番号0118、特願平11-91652号公報記載の一般
式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化2
4)、硬調化促進剤については特開平11-65021号公報段
落番号0102に記載されている。本発明に用いられる超硬
調化剤としては、下記の一般式(VII)、(VII
I)および(IX)でそれぞれ表される、置換アルケン
誘導体、置換イソオキサゾール誘導体、およびアセター
ル化合物からなる群より選ばれることが好ましい。
The plasticizers and lubricants that can be used in the photosensitive layer are described in JP-A-11-65021, paragraph 011.
7. With respect to the super-high contrast agent for forming a super-high contrast image, compounds of the general formulas (III) to (V) described in paragraph No. 0118 of the same publication and Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: 21 ~ 2
4) The contrast enhancement accelerator is described in paragraph No. 0102 of JP-A-11-65021. The super-high contrast agents used in the present invention include the following general formulas (VII) and (VII)
It is preferably selected from the group consisting of substituted alkene derivatives, substituted isoxazole derivatives, and acetal compounds represented by I) and (IX), respectively.

【0083】[0083]

【化32】 Embedded image

【0084】以下に一般式(VII)で表される化合物
について詳しく説明する。一般式(VII)において、
71、R72およびR73は、それぞれ独立に水素原子また
は置換基を表す。R71、R72およびR73が置換基を表す
時、置換基の例としては、例えばハロゲン原子(フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子)、アル
キル基(シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含
む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば
ピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシル基またはその塩、イミノ基、N原子で置換したイ
ミノ基、チオカルボニル基、スルホニルカルバモイル
基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイ
ル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル
基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシル基ま
たはその塩、アルコキシル基(エチレンオキシ基もしく
はプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、(アルコキシまたはアリールオキシ)カルボニルオ
キシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、
アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)ア
ミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド
基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシまたはア
リールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルア
ミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒ
ドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ
基、(アルキルまたはアリール)スルホニルウレイド
基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ
基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,アリール,
またはヘテロ環)チオ基、アシルチオ基、(アルキルま
たはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリー
ル)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファ
モイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルフ
ァモイル基またはその塩、ホスホリル基、リン酸アミド
またはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、スタニ
ル基等が挙げられる。これらの置換基は、これら置換基
でさらに置換されていてもよい。
The compound represented by formula (VII) will be described below in detail. In the general formula (VII),
R 71 , R 72 and R 73 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. When R 71 , R 72 and R 73 represent a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (a cycloalkyl group, an active methine group) Etc.),
An aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (including an N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (for example, a pyridinio group), an acyl group, An alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxyl group or salt thereof, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl A group, a cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxyl group or a salt thereof, an alkoxyl group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit),
Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group,
An amino group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, a ureido group, a thioureido group, an imide group, an (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, a sulfamoylamino group, a semicarbazide group, Thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl,
Or heterocycle) thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, Examples thereof include a phosphoryl group, a group containing a phosphoric acid amide or a phosphoric ester structure, a silyl group, and a stannyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0085】R71、R72およびR73で表される置換基の
中でも、総炭素数が0〜30の基が好ましい。具体的に
は、後述の一般式(VII)のZで表される電子求引性
基と同義の基、アルキル基、ヒドロキシル基またはその
塩、メルカプト基またはその塩、アルコキシル基、アリ
ールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレイ
ド基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、置換または
無置換のアリール基等が好ましい。R71は、好ましく
は、水素原子、電子求引性基、アリール基、アルキルチ
オ基、アルコキシル基、アシルアミノ基、またはシリル
基である。より好ましくは、電子求引性基またはアリー
ル基である。
Among the substituents represented by R 71 , R 72 and R 73 , groups having a total carbon number of 0 to 30 are preferred. Specifically, a group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the general formula (VII) described later, an alkyl group, a hydroxyl group or a salt thereof, a mercapto group or a salt thereof, an alkoxyl group, an aryloxy group, Heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, ureido group, acylamino group, sulfonamide group, substituted or unsubstituted aryl group, etc. Is preferred. R 71 is preferably a hydrogen atom, an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkylthio group, an alkoxyl group, an acylamino group, or a silyl group. More preferably, it is an electron-withdrawing group or an aryl group.

【0086】R71が電子求引性基を表す時、R71は好ま
しくは、総炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ
基、ニトロ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、チオカルボニ
ル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、ホスホ
リル基、カルボキシル基またはその塩、または飽和もし
くは不飽和のヘテロ環基であり、さらに好ましくは、シ
アノ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、スルファモイル基、カルボキシル基またはその
塩、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環基である。特
に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、または飽和もしく
は不飽和のヘテロ環基である。
[0086] When R 71 represents an electron-withdrawing group, R 71 is preferably a total following group having a carbon number of 0 to 30, i.e., a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, thiocarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group, phosphoryl group, carboxyl group or a salt thereof, or saturated Or an unsaturated heterocyclic group, more preferably a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, a carboxyl group or a salt thereof, Or a saturated or unsaturated heterocyclic group. Particularly preferred are a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a saturated or unsaturated heterocyclic group.

【0087】R71がアリール基を表す時、R71は好まし
くは、総炭素数6〜30の置換または無置換のフェニル
基であり、置換基としては、任意の置換基が挙げられる
が、中でも電子吸引性の置換基が好ましい。一般式(V
II)において、R72およびR73が置換基を表す時、R
72およびR 73は好ましくは、後述の一般式(VII)の
Zで表される電子求引性基と同義の基、アルキル基、ヒ
ドロキシル基(またはその塩)、メルカプト基またはそ
の塩、アルコキシル基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテ
ロ環アミノ基、アシルアミノ基、置換または無置換のフ
ェニル基等である。R72およびR73は、さらに好ましく
は、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基である。
その置換基として、好ましくは、アルキル基、ヒドロキ
シル基またはその塩、メルカプト基またはその塩、アル
コキシル基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ
基、アシルアミノ基(特にパーフルオロアルカンアミド
基)、スルホンアミド基、置換もしくは無置換のフェニ
ル基、またはヘテロ環基等であり、より好ましくはヒド
ロキシル基またはその塩、メルカプト基またはその塩、
アルコキシル基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、またはヘテロ環基であり、さらに好ましくはヒドロ
キシル基またはその塩、アルコキシル基、またはヘテロ
環基である。
R71Represents an aryl group;71Is preferred
A substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms
Group, and the substituent includes any substituent
However, among them, an electron-withdrawing substituent is preferable. General formula (V
In II), R72And R73Represents a substituent, R
72And R 73Is preferably a group represented by the following general formula (VII):
A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z, an alkyl group,
Droxyl group (or salt thereof), mercapto group or
Salt, alkoxyl group, aryloxy group, heterocyclic
Xy, alkylthio, arylthio, heterocyclic
O group, amino group, alkylamino group, anilino group, hete
Ring amino group, acylamino group, substituted or unsubstituted
And phenyl. R72And R73Is more preferable
Is one of a hydrogen atom and the other is a substituent.
As the substituent, preferably, an alkyl group, a hydroxy
A sil group or a salt thereof, a mercapto group or a salt thereof,
Coxyl group, aryloxy group, heterocyclic oxy group,
Alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group,
Group, alkylamino group, anilino group, heterocyclic amino
Group, acylamino group (especially perfluoroalkaneamide
Group), sulfonamide group, substituted or unsubstituted phenyl
Or a heterocyclic group, more preferably
Roxyl group or a salt thereof, mercapto group or a salt thereof,
Alkoxyl group, aryloxy group, heterocyclic oxy
Group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio
Or a heterocyclic group, more preferably a hydrocyclic group.
Xyl group or salt thereof, alkoxyl group, or hetero
It is a ring group.

【0088】一般式(VII)において、Zは電子求引
性基またはシリル基を表す。好ましくは、Zは電子求引
性基である。Zで表される電子吸引性基は、ハメットの
置換基定数σpが正の値を取りうる置換基であり、具体
的には、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、イミノ基、N原
子で置換したイミノ基、チオカルボニル基、スルファモ
イル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ニトロ基、ハロゲン原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルカンアミド基、スルホンアミド
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、カルボキシ
ル基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヘテロ環
基、アルケニル基、アルキニル基、アシルオキシ基、ア
シルチオ基、スルホニルオキシ基、またはこれら電子求
引性基で置換されたアリール基等が挙げられる。ヘテロ
環基は、飽和または不飽和のヘテロ環基であり、例えば
ピリジル基、キノリル基、キノキサリニル基、ピラジニ
ル基、ベンゾトリアゾリル基、イミダゾリル基、ベンツ
イミダゾリル基、ヒダントイン−1−イル基、スクシン
イミド基、フタルイミド基等が挙げられる。
In the general formula (VII), Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. Preferably, Z is an electron withdrawing group. The electron-withdrawing group represented by Z is a substituent whose Hammett's substituent constant σ p can take a positive value, specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, Imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom, perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, Formyl group, phosphoryl group, carboxyl group or salt thereof, sulfo group or salt thereof, heterocyclic group, alkenyl group, alkynyl group, acyloxy group, acylthio group, sulfonyloxy group, or aryl substituted with these electron-withdrawing groups And the like. The heterocyclic group is a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group, a quinoxalinyl group, a pyrazinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a hydantoin-1-yl group, a succinimide And phthalimide groups.

【0089】Zで表される電子求引性基は、さらに置換
基を有していてもよく、その置換基としては、一般式
(VII)のR71,R72,R73が表す置換基が挙げられ
る。Zが電子求引性基を表す時、Zは好ましくは、総炭
素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換し
たイミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロア
ルキル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシ
ルオキシ基、アシルチオ基、または任意の電子求引性基
で置換されたフェニル基等であり、より好ましくは、シ
アノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イ
ミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリ
ル基、トリフルオロメチル基、または任意の電子求引性
基で置換されたフェニル基等であり、さらに好ましくは
シアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、イミノ基またはカルバモイル基である。Zがシリ
ル基を表すとき、Zは好ましくは、トリメチルシリル
基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシ
リル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル
基、トリメチルシリルジメチルシリル基等である。一般
式(VII)において、R71とZ、R72とR73、R71
72、およびR73とZは、それぞれ互いに結合して環状
構造を形成してもよい。中でも、R71とZ、あるいはま
たR72とR73、が環状構造を形成することが好ましい。
形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もしくは非芳
香族のヘテロ環である。好ましくは、環状構造は、5員
〜7員環で、置換基を含めた総炭素数が1〜40、より
好ましくは3〜30である。
The electron-withdrawing group represented by Z may further have a substituent, and the substituent may be a substituent represented by R 71 , R 72 or R 73 in the general formula (VII). Is mentioned. When Z represents an electron-withdrawing group, Z is preferably a group having a total number of carbon atoms of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, an imino group. , An imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a nitro group, a perfluoroalkyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, an acyloxy group, an acylthio group, or any electron withdrawing property Group, and more preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, and trifluoro group. Phenyl substituted with a methyl group or any electron withdrawing group Is equal, more preferably a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group. When Z represents a silyl group, Z is preferably a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a phenyldimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a trimethylsilyldimethylsilyl group, or the like. In the general formula (VII), R 71 and Z, R 72 and R 73 , R 71 and R 72 , and R 73 and Z may be mutually bonded to form a cyclic structure. Among them, it is preferable that R 71 and Z or R 72 and R 73 form a cyclic structure.
The cyclic structure formed is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. Preferably, the cyclic structure is a 5- to 7-membered ring having a total carbon number including a substituent of 1 to 40, more preferably 3 to 30.

【0090】一般式(VII)で表される化合物の中で
好ましいものは、Zがシアノ基、ホルミル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカルバ
モイル基を表し、R71が電子求引性基またはアリール基
を表し、R72およびR73はどちらか一方が水素原子で、
他方がヒドロキシル基またはその塩、メルカプト基また
はその塩、アルコキシル基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。一般
式(VII)で表される化合物の中でさらに好ましいも
のは、ZとR71とが非芳香族の5員〜7員の環状構造を
形成し、R72およびR73はどちらか一方が水素原子で、
他方がヒドロキシル基またはその塩、メルカプト基また
はその塩、アルコキシル基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。この
時、R71と共に非芳香族の環状構造を形成するZとして
は、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、
チオカルボニル基、スルホニル基等が好ましく、またR
71としては、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボ
ニル基、チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、
N原子で置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニ
ルチオ基等が好ましい。
Among the compounds represented by formula (VII), Z is preferably a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group, and R 71 is an electron withdrawing group. R 72 or R 73 represents a hydrogen atom,
The other is a compound representing a hydroxyl group or a salt thereof, a mercapto group or a salt thereof, an alkoxyl group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group. More preferred among the compounds represented by the general formula (VII), Z and R 71 form a non-aromatic 5- to 7-membered cyclic structure, and one of R 72 and R 73 is A hydrogen atom,
The other is a compound representing a hydroxyl group or a salt thereof, a mercapto group or a salt thereof, an alkoxyl group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group. At this time, Z which forms a non-aromatic cyclic structure together with R 71 includes an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group,
A thiocarbonyl group, a sulfonyl group and the like are preferable.
As 71 , an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group,
An imino group, an acylamino group, a carbonylthio group and the like substituted with an N atom are preferred.

【0091】次に一般式(VIII)で表される化合物
について説明する。一般式(VIII)において、R81
で表される置換基は、一般式(VII)のR71〜R73
置換基と同様である。好ましくは、R81は電子求引性基
またはアリール基である。R81が電子求引性基を表す
時、R81は好ましくは、総炭素数0〜30の以下の基、
即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル基、ホルミル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、
ホスホリル基、イミノ基、または飽和もしくは不飽和の
ヘテロ環基であり、より好ましくは、シアノ基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、ヘテロ環基であり、さらに好ましく
は、シアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、またはヘテロ環基である。
81がアリール基を表す時、R81は好ましくは、総炭素
数0〜30の置換もしくは無置換のフェニル基であり、
置換基としては、一般式(VII)のR71、R 72および
73が表す置換基が挙げられる。R81は、特に好ましく
はシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、ヘテロ環基、または置換もしくは無置換のフェニル
基であり、最も好ましくはシアノ基、ヘテロ環基、また
はアルコキシカルボニル基である。
Next, a compound represented by the general formula (VIII)
Will be described. In the general formula (VIII), R81
Is a substituent represented by R in the general formula (VII)71~ R73of
Same as the substituent. Preferably, R81Is an electron-withdrawing group
Or an aryl group. R81Represents an electron-withdrawing group
Hour, R81Is preferably a group having 0 to 30 carbon atoms or less,
That is, cyano group, nitro group, acyl group, formyl group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group,
Alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carba
Moyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group,
Phosphoryl, imino, or saturated or unsaturated
A heterocyclic group, more preferably a cyano group, an acyl
Group, formyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoy
Group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, ant
Or a heterocyclic group, more preferably
Is a cyano group, formyl group, acyl group, alkoxy
It is a bonyl group, a carbamoyl group, or a heterocyclic group.
R81Represents an aryl group;81Is preferably total carbon
A substituted or unsubstituted phenyl group of numbers 0 to 30,
As the substituent, R represented by the general formula (VII)71, R 72and
R73And the substituent represented by R81Is particularly preferred
Is cyano group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl
Group, heterocyclic group, or substituted or unsubstituted phenyl
Group, most preferably a cyano group, a heterocyclic group, or
Is an alkoxycarbonyl group.

【0092】次に一般式(IX)で表される化合物につ
いて説明する。一般式(IX)において、XおよびY
は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ある
いは、XとYは、互いに結合して環状構造を形成しても
よいX、Yで表される置換基としては、一般式(VI
I)のR71、R72およびR73が表す置換基が挙げられ
る。具体的には、アルキル基(パーフルオロアルキル
基、トリクロロメチル基等を含む)、アリール基、ヘテ
ロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アシル基、ホルミル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、カルバモイル基、チオ
カルボニル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アシル
アミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルファモイル基、ホスホリル基、カルボキシル基
またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシル基
またはその塩、メルカプト基またはその塩、アルコキシ
ル基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シ
リル基等が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有
していてもよい。あるいは、XとYは、互いに結合して
環状構造を形成してもよく、形成される環状構造は、非
芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であってもよ
い。
Next, the compound represented by formula (IX) will be described. In the general formula (IX), X and Y
Represents a hydrogen atom or a substituent each independently. Alternatively, X and Y may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the substituent represented by X or Y is represented by the general formula (VI
The substituents represented by R 71 , R 72 and R 73 in I) are mentioned. Specifically, alkyl groups (including perfluoroalkyl groups, trichloromethyl groups, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, acyl groups, formyl groups, alkoxy groups Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, carbamoyl group, thiocarbonyl group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, phosphoryl group, carboxyl Group or its salt, sulfo group or its salt, hydroxyl group or its salt, mercapto group or its salt, alkoxyl group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group,
Examples thereof include an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, and a silyl group. These groups may further have a substituent. Alternatively, X and Y may combine with each other to form a cyclic structure, and the formed cyclic structure may be a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring.

【0093】X、Yで表される置換基は、好ましくは総
炭素数が1〜40であり、より好ましくは総炭素数が1
〜30である。具体的には、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシル基、またはアリール基等が
挙げられる。X,Yは、より好ましくは、シアノ基、ニ
トロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ア
シル基、ホルミル基、アシルチオ基、アシルアミノ基、
チオカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、イミノ基、N原子で置
換したイミノ基、ホスホリル基、トリフルオロメチル
基、ヘテロ環基、または置換されたフェニル基等であ
り、特に好ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシルアミノ
基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ基、N原子
で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任意の電子求
引性基で置換されたフェニル基等である。
The substituents represented by X and Y preferably have a total carbon number of 1 to 40, more preferably a total carbon number of 1 to 40.
~ 30. Specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a nitro group, Examples include a fluoroalkyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, an acylamino group, an acyloxy group, an acylthio group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxyl group, and an aryl group. X and Y are more preferably a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acyl group, a formyl group, an acylthio group, an acylamino group,
A thiocarbonyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group, and particularly preferred. Is a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, an acylthio group, an acylamino group, a thiocarbonyl group, a formyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a heterocyclic group Or a phenyl group substituted with an arbitrary electron-withdrawing group.

【0094】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環または非芳香族のヘテロ環を形成する場合もまた好ま
しい。形成される環状構造は、5員〜7員環が好まし
く、置換基を含めた総炭素数は1〜40、さらには3〜
30が好ましい。環状構造を形成するXおよびYとして
は、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、
チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、N原子で
置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基
等が好ましい。一般式(IX)において、AおよびBは
それぞれ独立に、アルコキシル基、アルキルチオ基、ア
ルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、
アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基または
ヘテロ環アミノ基を表す。あるいは、AとBは、互いに
結合して環状構造を形成してもよい。A、Bで表される
基は、好ましくは総炭素数が1〜40であり、より好ま
しくは総炭素数が1〜30であり、さらに置換基を有し
ていてもよい。A、Bは、より好ましくは、互いに結合
して環状構造を形成する。形成される環状構造は、好ま
しくは5員〜7員環の非芳香族のヘテロ環であり、好ま
しくは総炭素数が1〜40であり、さらに好ましくは3
〜30である。A、Bが互いに結合した例(−A−B
−)としては、−O−(CH22−O−,−O−(CH
23−O−,−S−(CH22−S−,−S−(C
23−S−,−S−Ph−S−,−N(CH3)−
(CH22−O−,−N(CH3)−(CH22−S
−,−O−(CH22−S−,−O−(CH23−S
−,−N(CH3)−Ph−O−,−N(CH3)−Ph
−S−,−N(Ph)−(CH22−S−等が挙げられ
る。
It is also preferred that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. The formed ring structure is preferably a 5- to 7-membered ring, and has a total carbon number of 1 to 40 including substituents, and more preferably 3 to 7 members.
30 is preferred. X and Y forming a cyclic structure include an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group,
Preferred are a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an acylamino group, a carbonylthio group and the like. In the general formula (IX), A and B each independently represent an alkoxyl group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group,
Represents an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. Alternatively, A and B may combine with each other to form a cyclic structure. The groups represented by A and B preferably have a total carbon number of 1 to 40, more preferably a total carbon number of 1 to 30, and may further have a substituent. A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure. The formed cyclic structure is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic heterocycle, preferably having a total carbon number of 1 to 40, more preferably 3 to 40.
~ 30. Example in which A and B are bonded to each other (-AB
-) The, -O- (CH 2) 2 -O -, - O- (CH
2) 3 -O -, - S- (CH 2) 2 -S -, - S- (C
H 2 ) 3 -S-, -S-Ph-S-, -N (CH 3 )-
(CH 2) 2 -O -, - N (CH 3) - (CH 2) 2 -S
-, - O- (CH 2) 2 -S -, - O- (CH 2) 3 -S
-, - N (CH 3) -Ph-O -, - N (CH 3) -Ph
—S—, —N (Ph) — (CH 2 ) 2 —S— and the like.

【0095】本発明において、超硬調化剤として用いら
れる一般式(VII)〜(IX)で表される化合物は、
感光性ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み
込まれていてもよい。こうした吸着基としては、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド
基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特
許第4,385,108号明細書、同4,459,34
7号明細書、特開昭59−195233号公報、同59
−200231号公報、同59−201045号公報、
同59−201046号公報、同59−201047号
公報、同59−201048号公報、同59−2010
49号公報、特開昭61−170733号公報、同61
−270744号公報、同62−948号公報、同63
−234244号公報、同63−234245号公報、
同63−234246号公報に記載された基が挙げられ
る。またこれら感光性ハロゲン化銀に対する吸着基は、
プレカーサー化されていてもよい。その様なプレカーサ
ーとしては、特開平2−285344号公報に記載され
た基が挙げられる。
In the present invention, the compounds represented by the general formulas (VII) to (IX) used as the superhigh contrast agent are
An adsorptive group that adsorbs to photosensitive silver halide may be incorporated. Examples of such adsorptive groups include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,34 such as alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercapto heterocyclic and triazole groups.
7, JP-A-59-195233, and JP-A-59-195233.
JP-A-200231, JP-A-59-201045,
JP-A-59-201046, JP-A-59-201047, JP-A-59-201048, and JP-A-59-2010
No. 49, JP-A-61-170733, 61
-270744, 62-948, 63
-234244, 63-234245,
Groups described in JP-A-63-234246. The adsorbing groups for these photosensitive silver halides are
It may be a precursor. Examples of such a precursor include groups described in JP-A-2-285344.

【0096】一般式(VII)〜(IX)で表される化
合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基またはポリマーが組み込
まれているものでもよい。特にバラスト基が組み込まれ
ているものは本発明の好ましい例の1つである。バラス
ト基は8以上の炭素数を有する、写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシル基、フェニル基、アルキルフェニル基、フ
ェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶこ
とができる。またポリマーとしては、例えば特開平1−
100530号公報に記載のものが挙げられる。一般式
(VII)〜(IX)で表される化合物は、その中にカ
チオン性基(具体的には、4級のアンモニオ基を含む
基、または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環
基等)、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
の繰り返し単位を含む基、(アルキル、アリール、また
はヘテロ環)チオ基、または塩基により解離しうる解離
性基(カルボキシル基、スルホ基、アシルスルファモイ
ル基、カルバモイルスルファモイル基等)が含まれてい
てもよい。特にエチレンオキシ基もしくはプロピレンオ
キシ基の繰り返し単位を含む基、または(アルキル、ア
リール、またはヘテロ環)チオ基が含まれているもの
は、本発明の好ましい例の1つである。これらの基の具
体例としては、例えば特開平7−234471号公報、
同5−333466号公報、同6−19032号公報、
同6−19031号公報、同5−45761号公報、米
国特許4994365号明細書、同4988604号明
細書、特開平3−259240号公報、同7−5610
号公報、同7−244348号公報、独国特許4006
032号明細書等に記載の化合物が挙げられる。本発明
において、超硬調化剤として用いられる一般式(VI
I)〜(IX)で表される化合物は、公知の方法により
容易に合成することができる。例えば、米国特許第55
45515号明細書、同5635339号明細書、同5
654130号明細書、国際公開WO97/34196
号公報、特願平9−354107号明細書、同9−30
9813号明細書、同9−272002号明細書に記載
の方法を参考に合成することができる。以下に、本発明
において、超硬調化剤として用いられる一般式(VI
I)〜(IX)で表される化合物の具体例を示す。ただ
し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
The compounds represented by the general formulas (VII) to (IX) may contain a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers. Particularly, those incorporating a ballast group are one of preferred examples of the present invention. A ballast group has a carbon number of 8 or more and is relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group,
It can be selected from an alkoxyl group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group and the like. As the polymer, for example,
No. 100530 can be mentioned. The compounds represented by the general formulas (VII) to (IX) include a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group or a nitrogen-containing hetero atom containing a quaternized nitrogen atom). A group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, or a dissociable group (carboxyl group, sulfo group, acylsulfa Moyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Particularly, a group containing a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, or a group containing an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group is one of preferred examples of the present invention. Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-234471,
JP-A-5-333466, JP-A-6-19032,
JP-A-6-19031, JP-A-5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365, JP-A-4988884, JP-A-3-259240, and JP-A-7-5610.
JP, JP-A-7-244348, German Patent 4006
And the compounds described in JP-A-032. In the present invention, general formula (VI) used as a super-high contrast agent
The compounds represented by I) to (IX) can be easily synthesized by a known method. For example, US Pat.
No. 45515, No. 5635339, No. 5
654130, International Publication WO 97/34196
Gazette, Japanese Patent Application No. 9-354107, 9-30
The compound can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-9813 and JP-A-9-272002. Hereinafter, in the present invention, the general formula (VI) used as a super-high contrast agent
Specific examples of the compounds represented by I) to (IX) are shown. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0097】[0097]

【化33】 Embedded image

【0098】[0098]

【化34】 Embedded image

【0099】[0099]

【化35】 Embedded image

【0100】[0100]

【化36】 Embedded image

【0101】本発明の熱現像感光材料において、一般式
(VII)〜(IX)で表される化合物の使用量は、銀
1モルに対し、好ましくは1×10-6〜1モルであり、
より好ましくは1×10-5〜5×10-1モルであり、さ
らに好ましくは2×10-5〜2×10-1モルである。
In the photothermographic material of the present invention, the amount of the compounds represented by formulas (VII) to (IX) is preferably 1 × 10 -6 to 1 mol per 1 mol of silver.
More preferably, it is 1 × 10 -5 to 5 × 10 -1 mol, and further preferably, it is 2 × 10 -5 to 2 × 10 -1 mol.

【0102】一般式(VII)〜(IX)で表される化
合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ化アル
コールなど)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ンなど)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができ
る。また、公知の乳化分散法によって、ジブチルフタレ
ート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリア
セテートまたはジエチルフタレート等のオイル、酢酸エ
チルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解
し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができ
る。あるいは固体分散法として知られている方法によっ
て、一般式(VII)〜(IX)で表される化合物の粉
末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、
あるいは超音波によって分散して用いることができる。
一般式(VII)〜(IX)で表される化合物は、支持
体に対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいは
この層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層
あるいはそれに隣接する層に添加することが好ましい。
The compounds represented by the general formulas (VII) to (IX) can be prepared from water or a suitable organic solvent such as alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol) and ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone). , Dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like. In addition, by a known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is dissolved to prepare a mechanically emulsified dispersion. Can be used. Alternatively, a powder of a compound represented by any of the general formulas (VII) to (IX) is placed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill,
Alternatively, they can be dispersed and used by ultrasonic waves.
The compounds represented by formulas (VII) to (IX) may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on the layer side. It is preferably added to the forming layer or a layer adjacent thereto.

【0103】一般式(VII)〜(IX)で表される化
合物は、1種のみ用いても、2種以上を併用してもよ
い。また上記のものの他に、米国特許第5545515
号明細書、同5635339号明細書、同565413
0号明細書、国際公開WO97/34196号公報、米
国特許第5686228号明細書、特開平11−119
372号公報、特願平9−228881号明細書、同9
−273935号明細書、同9−354107号明細
書、同9−309813号明細書、同9−296174
号明細書、同9−282564号明細書、特開平11−
95365号公報、同11−95366号公報、および
特願平9−332388号明細書に記載された化合物を
併用して用いてもよい。さらに本発明においては、特開
平10−339932号公報、同10−161270号
公報に記載のヒドラジン誘導体を組み合わせて用いるこ
ともできる。さらには下記のヒドラジン誘導体を組み合
わせて用いることもできる。即ち、特公平6−7713
8号公報に記載の(化1)で表される化合物で、具体的
には同公報3、4頁に記載の化合物。特公平6−930
82号公報に記載の一般式(I)で表される化合物で、
具体的には同公報8〜18頁に記載の1〜38の化合
物。特開平6−230497号公報に記載の一般式
(4)〜(6)で表される化合物で、具体的には同公報
25、26頁に記載の化合物4−1〜4−10、28〜
36頁に記載の化合物5−1〜5−42、および39、
40頁に記載の化合物6−1〜6−7。特開平6−28
9520号公報に記載の一般式(1)、(2)で表され
る化合物で、具体的には同公報5〜7頁に記載の化合物
1−1)〜1−17)および2−1)。特開平6−31
3936号公報に記載の(化2)、(化3)で表される
化合物で、具体的には同公報6〜19頁に記載の化合
物。特開平6−313951号公報に記載の(化1)で
表される化合物で、具体的には同公報3〜5頁に記載の
化合物。特開平7−5610号公報に記載の一般式
(I)で表される化合物で、具体的には同公報5〜10
頁に記載の化合物I−1〜I−38。特開平7−777
83号公報に記載の一般式(II)で表される化合物で、
具体的には同公報10〜27頁に記載の化合物II−1〜
II−102。特開平7−104426号公報に記載の一
般式(H)、(Ha)で表される化合物で、具体的には
同公報8〜15頁に記載の化合物H−1〜H−44。欧
州特許公開第713131A1号公報に記載の、ヒドラ
ジン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原
子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有するこ
とを特徴とする化合物で、特に一般式(A)〜(F)で
表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物N
−1〜N−30。欧州特許公開第713131A1号公
報に記載の一般式(1)で表される化合物で、具体的に
は同公報に記載の化合物D−1〜D−55。1991年3月2
2日発行の「公知技術(1〜207頁)」(アズテック社刊)
の25〜34頁に記載の種々のヒドラジン誘導体。特開
昭62−86354号(6頁〜7頁)の化合物D−2お
よびD−39。
The compounds represented by formulas (VII) to (IX) may be used alone or in combination of two or more. Also, in addition to those described above, US Pat.
No. 5,635,339, No. 565413
No. 0, International Publication WO97 / 34196, U.S. Pat. No. 5,686,228, JP-A-11-119.
372, Japanese Patent Application No. 9-228881, and 9
-273935, 9-354107, 9-309813, and 9-296174.
JP-A-11-282564, JP-A-11-282564
Compounds described in JP-A-95365, JP-A-11-95366, and Japanese Patent Application No. 9-332388 may be used in combination. Further, in the present invention, hydrazine derivatives described in JP-A-10-339932 and JP-A-10-161270 can be used in combination. Further, the following hydrazine derivatives can be used in combination. In other words, Tokuho 6-7713
No. 8 is a compound represented by (Chemical Formula 1), specifically, the compounds described on pages 3 and 4 of the same. 6-930
No. 82, a compound represented by the general formula (I),
Specifically, compounds 1 to 38 described on pages 8 to 18 of the publication. Compounds represented by general formulas (4) to (6) described in JP-A-6-230497, specifically, compounds 4-1 to 4-10 and 28-
Compounds 5-1 to 5-42 and 39 described on page 36,
Compounds 6-1 to 6-7 described on page 40. JP-A-6-28
No. 9520, compounds represented by formulas (1) and (2), specifically, compounds 1-1) to 1-17) and 2-1) described on pages 5 to 7 of the publication. . JP-A-6-31
Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-3936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same publication. Compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-A-6-313951, specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same. A compound represented by the general formula (I) described in JP-A-7-5610.
Compounds I-1 to I-38 described on page. JP-A-7-777
No. 83, a compound represented by the general formula (II),
Specifically, the compounds II-1 to 11 described on pages 10 to 27 of the same publication are described.
II-102. Compounds represented by formulas (H) and (Ha) described in JP-A-7-104426, specifically, compounds H-1 to H-44 described on pages 8 to 15 of the same. A compound described in European Patent Publication No. 713131A1 which has an anionic group or a nonionic group which forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in the vicinity of a hydrazine group. ) To (F), specifically the compound N described in the publication
-1 to N-30. A compound represented by the general formula (1) described in European Patent Publication No. 713131A1, specifically, compounds D-1 to D-55 described in the publication.
"Known Technology (pages 1 to 207)" published on the 2nd (Aztec)
Various hydrazine derivatives described on pages 25-34. Compounds D-2 and D-39 of JP-A-62-86354 (pages 6 to 7).

【0104】これらのヒドラジン誘導体の使用量は、銀
1モルに対し、好ましくは1×10 -6〜1モルであり、
より好ましくは1×10-5〜5×10-1モルであり、さ
らに好ましくは2×10-5〜2×10-1モルである。ヒ
ドラジン誘導体は、上述の一般式(VII)〜(IX)
で表される化合物と同様の方法で分散し用いることがで
きる。ヒドラジン誘導体は、支持体に対して画像形成層
側の層、即ち画像形成層あるいはこの層側の他のどの層
に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれに隣接す
る層に添加することが好ましい。また、本発明におい
て、超硬調化剤として、米国特許第5,545,515号明細書
に記載のアクリロニトリル類、具体的にはCN-1〜CN
-13等を用いることができる。
The amount of these hydrazine derivatives used is silver
Preferably, 1 × 10 -6~ 1 mole,
More preferably 1 × 10-Five~ 5 × 10-1Is a mole
More preferably 2 × 10-Five~ 2 × 10-1Is a mole. Hi
The drazine derivatives are represented by the general formulas (VII) to (IX) described above.
Can be dispersed and used in the same manner as the compound represented by
Wear. The hydrazine derivative is used in the image forming layer
Side layer, i.e. the image forming layer or any other layer on this side
To the image forming layer or adjacent thereto.
It is preferable to add it to the layer. Further, in the present invention,
U.S. Pat.No. 5,545,515 as a super-high contrast agent
Acrylonitriles described in the above, specifically CN-1 to CN
-13 or the like can be used.

【0105】本発明では、超硬調画像形成のために、前
記の超硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用することが
できる。例えば、米国特許第5,545,505号明細書に記載
のアミン化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,
507号明細書に記載のヒドロキサム酸類、具体的にはH
A-1〜HA-11、同5,558,983号明細書に記載のヒドラジ
ン化合物、具体的にはCA-1〜CA-6、特開平9−29
7368号公報に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはA
-1〜A-42、B-1〜B-27、C-1〜C-14などを用いるこ
とができる。前記の超硬調化剤、およびこれらの硬調化
促進剤の合成方法、添加方法、添加量等は、それぞれの
前記引用特許に記載されているように行うことができ
る。蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるに
は、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する
側に銀1モル当たり5ミリモル以下、さらには1ミリモ
ル以下で含有することが好ましい。本発明の熱現像感光
材料で造核剤を用いる場合には、五酸化二リンが水和し
てできる酸またはその塩を併用して用いることが好まし
い。五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩とし
ては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリ
ン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサ
メタリン酸(塩)などを挙げることができる。特に好ま
しく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸または
その塩としては、オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン
酸(塩)を挙げることができる。具体的な塩としては、
オルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウ
ム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ア
ンモニウムなどがある。五酸化二リンが水和してできる
酸またはその塩の使用量(感光材料1m2あたりの塗布
量)は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよ
いが、0.1〜500mg/m2が好ましく、0.5〜
100mg/m2がより好ましい。
In the present invention, in order to form a super-high contrast image, a high-contrast accelerator can be used in combination with the above-mentioned super-high contrast agent. For example, the amine compounds described in U.S. Patent No. 5,545,505, specifically AM-1 to AM-5, 5,545,
The hydroxamic acids described in US Pat. No. 507, specifically H
A-1 to HA-11, hydrazine compounds described in the specification of JP-A-5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, JP-A-9-29
No. 7368, onium salts, specifically A
-1 to A-42, B-1 to B-27, C-1 to C-14 and the like can be used. The synthesis method, addition method, addition amount, and the like of the above-mentioned super-high contrast agent and these high-contrast accelerators can be performed as described in each of the cited patents. In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferable to contain 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less, per mole of silver on the side having the image forming layer containing photosensitive silver halide. When a nucleating agent is used in the photothermographic material of the invention, it is preferable to use an acid formed by hydration of diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametaline Acids (salts) and the like can be mentioned. Particularly preferred acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific salts include:
Examples include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate. Use amount of the oxidizing acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus (coating amount per photographic material 1 m 2) may be a desired amount depending on the performance such as sensitivity and fog, but, 0.1 to 500 mg / m 2 is preferred, and 0.5 to
100 mg / m 2 is more preferred.

【0106】本発明における熱現像感光材料は画像形成
層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることがで
きる。表面保護層については、特開平11-65021号公報段
落番号0119〜0120に記載されている。表面保護層のバイ
ンダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコ
ール(PVA)を用いることも好ましい。PVAとして
は、完全けん化物のPVA−105[ポリビニルアルコ
ール(PVA)含有率94.0重量%以上、けん化度9
8.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.5重
量%以下、揮発分5.0重量%以下、粘度(4重量%、2
0℃)5.6±0.4CPS]、部分けん化物のPVA
−205[PVA含有率94.0重量%、けん化度8
8.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0重
量%、揮発分5.0重量%、粘度(4重量%、20℃)
5.0±0.4CPS]、変性ポリビニルアルコールの
MP−102、MP−202、MP−203、R−11
30、R−2105(以上、クラレ(株)製の商品名)
などが挙げられる。保護層(1層当たり)のポリビニル
アルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3〜
4.0g/m2が好ましく、0.3〜2.0g/m2がより好ましい。特
に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱現像感光
材料を用いる場合には、保護層やバック層にもポリマー
ラテックスを用いることが好ましい。このようなポリマ
ーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田
平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、
「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡
一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(199
3))」、「合成ラテックスの科学(室井宗一著、高分
子刊行会発行(1979))」などにも記載され、具体
的にはメチルメタクリレート(33.5重量%)/エチ
ルアクリレート(50重量%)/メタクリル酸(16.
5重量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレ
ート(47.5重量%)/ブタジエン(47.5重量
%)/イタコン酸(5重量%)コポリマーのラテック
ス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーの
ラテックス、メチルメタクリレート(58.9重量%)
/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4重量%)
/エチレン(8.6重量%)/2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート(5.1重量%)/アクリル酸(2.0重
量%)コポリマーのラテックスなどが挙げられる。さら
に、保護層用のバインダーとして、特願平11−687
2号明細書のポリマーラテックスの組み合わせ、特願平
11−143058号明細書の段落番号0021〜00
25に記載の技術、特願平11−6872号明細書の段
落番号0027〜0028に記載の技術、特願平10−
199626号明細書の段落番号0023〜0041に
記載の技術を適用してもよい。
The photothermographic material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer is described in paragraphs 0119 to 0120 of JP-A-11-65021. Gelatin is preferred as the binder for the surface protective layer, but polyvinyl alcohol (PVA) is also preferred. As PVA, completely saponified PVA-105 [polyvinyl alcohol (PVA) content 94.0% by weight or more, saponification degree 9
8.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.5% by weight or less, volatile matter 5.0% by weight or less, viscosity (4% by weight, 2% by weight)
0 ° C.) 5.6 ± 0.4 CPS], PVA partially saponified
-205 [PVA content 94.0% by weight, saponification degree 8
8.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by weight, volatile matter 5.0% by weight, viscosity (4% by weight, 20 ° C.)
5.0 ± 0.4 CPS], modified polyvinyl alcohol MP-102, MP-202, MP-203, R-11
30, R-2105 (trade name of Kuraray Co., Ltd.)
And the like. 0.3 as polyvinyl alcohol coating amount of the protective layer (per one layer) (per support 1 m 2)
Preferably 4.0g / m 2, 0.3~2.0g / m 2 is more preferable. In particular, when the photothermographic material of the present invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex also for the protective layer and the back layer. For such polymer latex, see "Synthetic Resin Emulsion (Edited by Tadashi Okuda and Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Kankokai (1978))",
"Application of Synthetic Latex (Edited by Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, Keiji Kasahara, Polymer Publishing Association (199)
3))), "Science of synthetic latex (Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1979))" and the like. Specifically, methyl methacrylate (33.5% by weight) / ethyl acrylate (50 % By weight) / methacrylic acid (16.
Latex of copolymer, latex of methyl methacrylate (47.5% by weight) / butadiene (47.5% by weight) / itaconic acid (5% by weight), latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by weight)
/ 2-ethylhexyl acrylate (25.4% by weight)
/ Ethylene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer latex. Further, as a binder for a protective layer, Japanese Patent Application No. 11-687.
No. 2, Japanese Patent Application No. 11-143058, paragraphs [0021] to [0000]
25, the technology described in paragraphs 0027 to 0028 of Japanese Patent Application No. 11-6872, and the technology described in Japanese Patent Application No.
The technology described in paragraph numbers 0023 to 0041 of the specification of 199626 may be applied.

【0107】画像形成層塗布液の調製温度は30℃〜65℃
がよく、さらに好ましい温度は35℃〜60℃、より好まし
い温度は35℃〜55℃である。また、ポリマーラテックス
添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃〜65℃で維持
されることが好ましい。また、ポリマーラテックス添加
前に熱現像剤と有機銀塩が混合されていることが好まし
い。
The temperature for preparing the coating solution for the image forming layer is from 30 ° C. to 65 ° C.
More preferably, the temperature is 35 ° C to 60 ° C, and the more preferable temperature is 35 ° C to 55 ° C. The temperature of the coating solution for the image forming layer immediately after the addition of the polymer latex is preferably maintained at 30 ° C to 65 ° C. Further, it is preferable that the heat developer and the organic silver salt are mixed before the addition of the polymer latex.

【0108】本発明における有機銀塩含有流体または熱
画像形成層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であ
ることが好ましい。チキソトロピー性とは剪断速度の増
加に伴い、粘度が低下する性質を言う。粘度測定にはい
かなる装置を使用してもよいが、レオメトリックスファ
ーイースト株式会社製RFSフルードスペクトロメーター
が好ましく用いられ25℃で測定される。ここで、本発明
における有機銀塩含有流体もしくは熱画像形成層塗布液
は剪断速度0.1S-1における粘度は400〜100,000mPa・sが
好ましく、さらに好ましくは500〜20,000mPa・sであ
る。また、剪断速度1000S-1においては1〜200mPa・sが
好ましく、さらに好ましくは5〜80mPa・sである。
The fluid containing the organic silver salt or the coating solution for the thermal image forming layer in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. The thixotropic property refers to a property in which the viscosity decreases as the shear rate increases. Although any apparatus may be used for the viscosity measurement, an RFS fluid spectrometer manufactured by Rheometrics Far East Co., Ltd. is preferably used, and the viscosity is measured at 25 ° C. Here, the viscosity of the fluid containing the organic silver salt or the coating solution for the thermal image forming layer in the present invention at a shear rate of 0.1 S -1 is preferably from 400 to 100,000 mPa · s, more preferably from 500 to 20,000 mPa · s. Further, at a shear rate of 1000 S −1, it is preferably 1 to 200 mPa · s, more preferably 5 to 80 mPa · s.

【0109】チキソトロピー性を発現する系は各種知ら
れており高分子刊行会編「講座・レオロジー」、室井、
森野共著「高分子ラテックス」(高分子刊行会発行)な
どに記載されている。流体がチキソトロピー性を発現さ
せるには固体微粒子を多く含有することが必要である。
また、チキソトロピー性を強くするには増粘線形高分子
を含有させること、含有する固体微粒子の異方形でアス
ペクト比が大きくすること、アルカリ増粘、界面活性剤
の使用などが有効である。
Various systems expressing thixotropy are known, and are described in “Lecture / Rheology”, edited by Polymer Publishing Association, Muroi,
It is described in Morino co-author, “Polymer Latex” (published by the Society of Polymer Publishing). In order for a fluid to exhibit thixotropic properties, it is necessary to contain a large amount of solid fine particles.
In order to enhance the thixotropic property, it is effective to include a thickened linear polymer, to increase the aspect ratio of the contained solid fine particles in an anisotropic shape, to increase the alkali thickening, and to use a surfactant.

【0110】熱現像写真用乳剤は、支持体上に一または
それ以上の層で構成される。一層の構成は有機銀塩、ハ
ロゲン化銀、現像剤およびバインダー、ならびに色調
剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望による追加の
材料を含まなければならない。二層の構成は、第1乳剤
層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩およびハロ
ゲン化銀を含み、第2層または両層中にいくつかの他の
成分を含まなければならない。しかし、全ての成分を含
む単一乳剤層および保護トップコートを含んでなる二層
の構成も考えられる。多色感光性熱現像写真材料の構成
は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、
また、米国特許第4,708,928号明細書に記載されている
ように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染
料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般
に、米国特許第4,460,681号明細書に記載されているよ
うに、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリ
アー層を使用することにより、互いに区別されて保持さ
れる。
The heat-developable photographic emulsion is composed of one or more layers on a support. One layer construction must include optional additional materials such as organic silver salts, silver halides, developers and binders, and toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer configuration is that the first emulsion layer (usually the layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and silver halide, and the second layer or both layers do not contain some other components. No. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The composition of the multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color,
Also, all components may be contained in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. In the case of a multi-dye, multi-color photothermographic material, each emulsion layer generally comprises a functional or non-functional barrier between the light-sensitive layers, as described in U.S. Pat.No. 4,460,681. The use of layers keeps them distinct from one another.

【0111】感光性層には色調改良、レーザー露光時の
干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種
染料や顔料を用いることができる。これらについては国
際公開WO98/36322号公報に詳細に記載されている。感光
性層に用いる好ましい染料および顔料としてはアントラ
キノン染料、アゾメチン染料、インドアニリン染料、ア
ゾ染料、アントラキノン系のインダントロン顔料(C.I.
Pigment Blue 60など)、フタロシアニン顔料(C.I. Pigm
ent Blue 15等の銅フタロシアニン、C.I. Pigment Blue
16等の無金属フタロシアニンなど)、染付けレーキ顔料
系のトリアリールカルボニル顔料、インジゴ、無機顔料
(群青、コバルトブルーなど)が挙げられる。これらの染
料や顔料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微粒子
分散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかなる方
法でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収量に
よって決められるが、一般的に感光材料1m2当たり1μg
〜1gの範囲で用いることが好ましい。
Various dyes and pigments can be used in the photosensitive layer from the viewpoints of improving color tone, preventing interference fringes during laser exposure, and preventing irradiation. These are described in detail in International Publication WO98 / 36322. Preferred dyes and pigments used in the photosensitive layer include anthraquinone dyes, azomethine dyes, indoaniline dyes, azo dyes, anthraquinone-based indanthrone pigments (CI
Pigment Blue 60), phthalocyanine pigments (CI Pigm
copper phthalocyanine such as ent Blue 15, CI Pigment Blue
16 non-metallic phthalocyanine, etc.), dyed lake pigment triarylcarbonyl pigments, indigo, inorganic pigments
(Ultra blue, cobalt blue, etc.). As a method for adding these dyes and pigments, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, or a state in which the dye or pigment is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds is determined by absorption of the purpose, generally the light-sensitive material 1 m 2 per 1μg
It is preferable to use in the range of 1 to 1 g.

【0112】本発明においてはアンチハレーション層を
感光性層に対して光源から遠い側に設けることができ
る。アンチハレーション層については特開平11-65021号
公報段落番号0123〜0124、同11-223898号公報に記載さ
れている。
In the present invention, the antihalation layer can be provided on the side farther from the light source than the photosensitive layer. The antihalation layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0123 to 0124 and 11-223898.

【0113】本発明では熱現像感光材料の非感光性層に
消色染料と塩基プレカーサーとを添加して、非感光性層
をフィルター層またはアンチハレーション層として機能
させることが好ましい。熱現像感光材料は一般に、感光
性層に加えて非感光性層を有する。非感光性層は、その
配置から(1)感光性層の上(支持体よりも遠い側)に
設けられる保護層、(2)複数の感光性層の間や感光性
層と保護層の間に設けられる中間層、(3)感光性層と
支持体との間に設けられる下塗り層、(4)感光性層の
反対側に設けられるバック層に分類できる。フィルター
層は、(1)または(2)の層として感光材料に設けら
れる。アンチハレーション層は、(3)または(4)の
層として感光材料に設けられる。
In the present invention, it is preferable to add a decoloring dye and a base precursor to the non-photosensitive layer of the photothermographic material so that the non-photosensitive layer functions as a filter layer or an antihalation layer. A photothermographic material generally has a non-photosensitive layer in addition to a photosensitive layer. The non-photosensitive layer may be arranged as follows: (1) a protective layer provided on the photosensitive layer (on the side farther than the support); (2) between a plurality of photosensitive layers or between the photosensitive layer and the protective layer. (3) an undercoat layer provided between the photosensitive layer and the support, and (4) a back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer. The filter layer is provided on the photosensitive material as the layer (1) or (2). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (3) or (4).

【0114】消色染料と塩基プレカーサーとは、同一の
非感光性層に添加することが好ましい。ただし、隣接す
る二つの非感光性層に別々に添加してもよい。また、二
つの非感光性層の間にバリアー層を設けてもよい。
The decolorizing dye and the base precursor are preferably added to the same non-photosensitive layer. However, they may be separately added to two adjacent non-photosensitive layers. Further, a barrier layer may be provided between the two non-photosensitive layers.

【0115】消色染料を非感光性層に添加する方法とし
ては、溶液、乳化物、固体微粒子分散物あるいはポリマ
ー含浸物を非感光性層の塗布液に添加する方法が採用で
きる。また、ポリマー媒染剤を用いて非感光性層に染料
を添加してもよい。これらの添加方法は、通常の熱現像
感光材料に染料を添加する方法と同様である。ポリマー
含浸物に用いるラテックスについては、米国特許第41
99363号明細書、西独特許公開25141274号
公報、同2541230号公報、欧州特許公開EP02
9104号公報および特公昭53−41091号公報に
記載がある。また、ポリマーを溶解した溶液中に染料を
添加する乳化方法については、国際公開WO88/00
723号公報に記載がある。消色染料の添加量は、染料
の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測
定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使
用する。光学濃度は、0.2〜2であることが好ましい。
このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般
に0.001〜1g/m2程度であり、特に好ましくは、0.01
〜0.2g/m2程度である。
As a method of adding the decolorizable dye to the non-photosensitive layer, a method of adding a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion or a polymer impregnated substance to the coating solution for the non-photosensitive layer can be adopted. Further, a dye may be added to the non-photosensitive layer using a polymer mordant. These addition methods are the same as the method of adding a dye to an ordinary photothermographic material. Latex used in polymer impregnation is disclosed in US Pat.
No. 99363, West German Patent Publication Nos. 25141274 and 2541230, European Patent Publication EP02
No. 9104 and JP-B-53-41091. Further, regarding an emulsification method for adding a dye to a solution in which a polymer is dissolved, International Publication WO88 / 00
No. 723. The amount of the decolorizable dye is determined depending on the use of the dye. Generally, the optical density (absorbance) measured at the target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably from 0.2 to 2.
The amount of the dye used to obtain such an optical density is generally about 0.001 to 1 g / m 2 , particularly preferably 0.01 to 1 g / m 2.
About 0.2 g / m 2 .

【0116】なお、このように染料を消色すると、光学
濃度を0.1以下に低下させることができる。二種類以
上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料に
おいて併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレ
カーサーを併用してもよい。
When the dye is decolored in this manner, the optical density can be reduced to 0.1 or less. Two or more decolorizable dyes may be used in combination in a heat-decolorable recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more base precursors may be used in combination.

【0117】本発明における熱現像感光材料は、支持体
の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む
感光性層を有し、他方の側にバック層を有する、いわゆ
る片面感光材料であることが好ましい。本発明におい
て、搬送性改良のためにマット剤を添加することが好ま
しく、マット剤については、特開平11-65021号公報段落
番号0126〜0127に記載されている。マット剤は感光材料
1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1〜400mg
/m 2、より好ましくは5〜300mg/m2である。また、乳剤面
のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良い
が、ベック平滑度が30秒〜2000秒が好ましく、特に40秒
〜1500秒が好ましい。
The photothermographic material according to the present invention may comprise a support
Contains at least one layer of silver halide emulsion on one side of
Having a photosensitive layer and a back layer on the other side, so-called
It is preferably a single-sided photosensitive material. In the present invention
Therefore, it is preferable to add a matting agent to improve transportability.
For matting agents, see paragraphs of JP-A-11-65021
Nos. 0126 to 0127. Matting agent is photosensitive material
1mTwoWhen indicated by the applied amount per unit, preferably 1 to 400 mg
/ m Two, More preferably 5-300 mg / mTwoIt is. Also, the emulsion surface
The matte degree is fine if stardust failure does not occur
However, Beck smoothness is preferably 30 seconds to 2000 seconds, particularly 40 seconds
~ 1500 seconds is preferred.

【0118】本発明においてバック層のマット度として
はベック平滑度が10秒〜1200秒が好ましく、20秒〜800
秒が好ましく、さらに好ましくは40秒〜500秒である。
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もし
くは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近
い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層と
して作用する層に含有されることが好ましい。本発明に
適用することのできるバック層については特開平11-650
21号公報段落番号0128〜0130に記載されている。
In the present invention, the matting degree of the back layer is preferably such that the Beck smoothness is from 10 seconds to 1200 seconds, and from 20 seconds to 800 seconds.
Seconds are preferable, and more preferably 40 seconds to 500 seconds.
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the layer functioning as the outermost surface layer or the outermost surface layer of the light-sensitive material, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. Is preferred. The back layer that can be applied to the present invention is described in JP-A-11-650
No. 21, Publication No. 0128-0130.

【0119】感光性層、保護層、バック層など各層には
硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としてはT.H.James
著“THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH
EDITION”(Macmillan Publishing Co., Inc.刊、1977年
刊)77頁から87頁に記載の各方法があり、同書78頁など
記載の多価金属イオン、米国特許第4,281,060号明細
書、特開平6-208193号公報などのポリイソシアネート
類、米国特許第4,791,042号明細書などのエポキシ化合
物類、特開昭62-89048号公報などのビニルスルホン系化
合物類が好ましく用いられる。
A hardening agent may be used for each layer such as a photosensitive layer, a protective layer, and a back layer. THJames is an example of a hardener
By "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH
EDITION "(published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), each method described on pages 77 to 87, polyvalent metal ions described on page 78 of the same book, U.S. Pat. No. 4,281,060, JP-A-6 Polyisocyanates such as JP-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinylsulfone compounds such as JP-A-62-89048 are preferably used.

【0120】硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の
保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から
直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法
及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限
りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法として
は添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留
時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する
方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸
司訳“液体混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989年)の第
8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用
する方法がある。
The hardener is added as a solution, and the solution is added to the coating solution for the protective layer from 180 minutes to immediately before coating, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. The mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. As a specific mixing method, a method of mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid sent to the coater is set to a desired time, by N. Harnby, MFE Edwards, AW Nienow, translated by Koji Takahashi "Liquid mixing technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989)
There is a method using a static mixer described in Chapter 8 and the like.

【0121】本発明に適用できる界面活性剤について
は、特開平11-65021号公報段落番号0132、溶剤について
は同号公報段落番号0133、支持体については同号公報段
落番号0134、帯電防止又は導電層については同号公報段
落番号0135、カラー画像を得る方法については同号公報
段落番号0136に記載されている。本発明の熱現像感光材
料は、熱現像処理前の膜面pHが6.0以下であること
が好ましく、さらに好ましくは5.5以下である。その
下限には制限はないが、3程度である。膜面pHの調節
はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の
酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜
面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアン
モニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前
に除去できることから低膜面pHを達成する上で好まし
い。なお、膜面pHの測定方法は、特願平11−872
97号明細書の段落番号0123に記載されている。透
明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪み
を緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなく
すために、130〜185℃の温度範囲で熱処理を施し
たポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好
ましく用いられる。医療用の熱現像感光材料の場合、透
明支持体は青色染料(例えば、特開平8-240877号公報実
施例記載の染料-1)で着色されていてもよいし、無着色
でもよい。支持体には、特開平11−84574号公報
の水溶性ポリエステル、同10−186565号公報の
スチレンブタジエン共重合体、特願平11−10688
1号明細書の段落番号0063〜0080に記載される
塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用するこ
とが好ましい。また、帯電防止層若しくは下塗りについ
て特開昭56−143430号公報、同56−1434
31号公報、同58−62646号公報、同56−12
0519号公報、特開平11−84573号公報の段落
番号0040〜0051、米国特許第5,575,95
7号明細書、特開平11−223898号公報の段落番
号0078〜0084に記載の技術を適用することがで
きる。
For the surfactants applicable to the present invention, JP-A-11-65021, paragraph No. 0132, for solvents, paragraph No. 0133 of the same publication, for supports, paragraph No. 0134 of the same publication, antistatic or conductive The layers are described in paragraph number 0135 of the same publication, and the method of obtaining a color image is described in paragraph number 0136 of the same publication. The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH before heat development treatment of 6.0 or less, more preferably 5.5 or less. The lower limit is not limited, but is about 3. The adjustment of the film surface pH is preferably performed using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a nonvolatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is preferable in achieving a low film surface pH since ammonia is easily volatilized and can be removed before the application step and the heat development. The method of measuring the pH of the film surface is described in Japanese Patent Application No. 11-872.
No. 97, paragraph No. 0123. The transparent support is a polyester, especially polyethylene, which has been subjected to a heat treatment at a temperature in the range of 130 to 185 ° C. in order to alleviate internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate heat shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used. In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, Dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Examples of the support include a water-soluble polyester disclosed in JP-A-11-84574, a styrene-butadiene copolymer disclosed in JP-A-10-186565, and Japanese Patent Application No. 11-10688.
It is preferable to apply an undercoating technique such as a vinylidene chloride copolymer described in Paragraph Nos. 0063 to 0080 of the specification. Further, regarding the antistatic layer or the undercoat, JP-A-56-143430 and JP-A-56-1434.
No. 31, No. 58-62646, No. 56-12
0519, JP-A-11-84573, paragraphs 0040 to 0051, U.S. Pat.
7, the technology described in paragraphs 0078 to 0084 of JP-A-11-223898 can be applied.

【0122】熱現像感光材料は、モノシート型(受像材
料のような他のシートを使用せずに、熱現像感光材料上
に画像を形成できる型)であることが好ましい。
The photothermographic material is preferably of a monosheet type (a type capable of forming an image on the photothermographic material without using another sheet such as an image receiving material).

【0123】熱現像感光材料には、さらに、酸化防止
剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤
を添加してもよい。各種の添加剤は、感光性層あるいは
非感光性層のいずれかに添加する。それらについて国際
公開WO98/36322号公報、欧州特許公開EP803764A1号公
報、特開平10-186567号公報、同10-18568号公報等を参
考にすることができる。
The photothermographic material may further contain an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber or a coating aid. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. For these, International Publication WO98 / 36322, European Patent Publication EP803764A1, JP-A-10-186567, and JP-A-10-18568 can be referred to.

【0124】本発明における熱現像感光材料はいかなる
方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージ
ョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコ
ーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、
フローコーティング、または米国特許第2,681,294号明
細書に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティング
を含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.
Kistler、Petert M.Schweizer著“LIQUID FILM COATIN
G”(CHAPMAN & HALL社刊、1997年)399頁から536頁記載
のエクストルージョンコーティング、またはスライドコ
ーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライド
コーティングが用いられる。スライドコーティングに使
用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFig
ure 11b.1にある。また、所望により同書399頁から536
頁記載の方法、米国特許第2,761,791号明細書および英
国特許第837,095号明細書に記載の方法により2層または
それ以上の層を同時に被覆することができる。
The photothermographic material of the present invention may be applied by any method. Specifically, extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating,
Various coating operations are used, including flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in U.S. Pat.
Kistler, “LIQUID FILM COATIN” by Peter M. Schweizer
G "(published by CHAPMAN & HALL, 1997), pp. 399 to 536, extrusion coating or slide coating is preferably used, and slide coating is particularly preferably used. An example is shown in Fig.
ure 11b.1. Also, if desired, p. 399 to 536
Two or more layers can be coated simultaneously by the method described on the page, U.S. Pat. No. 2,761,791 and GB 837,095.

【0125】本発明の熱現像感光材料に用いることので
きる技術としては、欧州特許公開EP803764A1号公報、欧
州特許公開EP883022A1号公報、国際公開WO98/36322号公
報、特開昭56-62648号公報、同58-62644号公報、特開平
9-281637公報、同9-297367号公報、同9-304869号公報、
同9-311405号公報、同9-329865号公報、同10-10669号公
報、同10-62899号公報、同10-69023号公報、同10-18656
8号公報、同10-90823号公報、同10-171063号公報、同10
-186565号公報、同10-186567号公報、同10-186569号公
報〜同10-186572号公報、同10-197974号公報、同10-197
982号公報、同10-197983号公報、同10-197985号公報〜
同10-197987号公報、同10-207001号公報、同10-207004
号公報、同10-221807号公報、同10-282601号公報、同10
-288823号公報、同10-288824号公報、同10-307365号公
報、同10-312038号公報、同10-339934号公報、同11-710
0号公報、同11-15105号公報、同11-24200号公報、同11-
24201号公報、同11-30832号公報、同11-84574号公報、
同11-65021号公報、同11-125880号公報、同11-129629号
公報、同11-133536号公報〜同11-133539号公報、同11-1
33542号公報、同11-133543号公報も挙げられる。
The techniques that can be used in the photothermographic material of the present invention include European Patent Publication EP803764A1, European Patent Publication EP883022A1, International Publication WO98 / 36322, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-62648, No. 58-62644, JP-A-Hei.
No. 9-281637, No. 9-297367, No. 9-304869,
No. 9-311405, No. 9-329865, No. 10-10669, No. 10-62899, No. 10-69023, No. 10-18656
No. 8, No. 10-90823, No. 10-171063, No. 10
No. -186565, No. 10-186567, No. 10-186569 to No. 10-186572, No. 10-197974, No. 10-197
No. 982, No. 10-197983, No. 10-197985
No. 10-197987, No. 10-207001, No. 10-207004
No. 10-221807, No. 10-282601, No. 10
No. -288823, No. 10-288824, No. 10-307365, No. 10-312038, No. 10-339934, No. 11-710
No. 0, No. 11-15105, No. 11-24200, No. 11-
No. 24201, No. 11-30832, No. 11-84574,
No. 11-65021, No. 11-125880, No. 11-129629, No. 11-133536 to No. 11-133539, No. 11-1
Nos. 33542 and 11-133543 are also mentioned.

【0126】本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で
現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱
現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度
としては80〜250℃であり、さらに好ましくは100〜140
℃である。現像時間としては1〜180秒が好ましく、10〜
90秒がさらに好ましく、10〜40秒が特に好ましい。
Although the photothermographic material of the present invention may be developed by any method, it is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C.
° C. The development time is preferably 1 to 180 seconds, and 10 to 180 seconds.
90 seconds is more preferable, and 10 to 40 seconds is particularly preferable.

【0127】熱現像の方式としてはプレートヒーター方
式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式
とは特開平11-133572号公報に記載の方法が好ましく、
潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段
に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であっ
て、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記
プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラ
が対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータ
との間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行う
ことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを
2〜6段に分けて先端部については1〜10℃程度温度を
下げることが好ましい。このような方法は特開昭54-300
32号公報にも記載されており、熱現像感光材料に含有し
ている水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、
また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現
像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもでき
る。
As a method of thermal development, a plate heater method is preferable. The method described in JP-A-11-133572 is preferred as the heat development method using a plate heater method,
A heat developing apparatus for obtaining a visible image by contacting a photothermographic material having a latent image formed thereon with a heating unit in a heat development unit, wherein the heating unit comprises a plate heater, and one of the plate heaters A thermal developing apparatus, wherein a plurality of pressing rollers are disposed to face each other along a surface, and heat development is performed by passing the photothermographic material between the pressing roller and the plate heater. It is preferable to divide the plate heater into two to six stages and lower the temperature at the tip part by about 1 to 10 ° C. Such a method is disclosed in JP-A-54-300.
It is also described in No. 32 publication, water and organic solvents contained in the photothermographic material can be excluded from the system,
Further, it is possible to suppress a change in the shape of the support of the photothermographic material due to rapid heating of the photothermographic material.

【0128】本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で
露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好ま
しい。本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー
(Ar+、He-Ne)、YAGレーザー、色素レーザー、半導体レ
ーザーなどが好ましい。また、半導体レーザーと第2高
調波発生素子などを用いることもできる。好ましくは赤
〜赤外発光のガス若しくは半導体レーザーである。
The photothermographic material of the present invention may be exposed by any method, but a laser beam is preferred as an exposure light source. As the laser beam according to the present invention, a gas laser
(Ar + , He-Ne), a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser and the like are preferable. Further, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used. Preferably, a gas or semiconductor laser emitting red to infrared light is used.

【0129】レーザー光はシングルモードレーザーが利
用できるが、特開平11-65021号公報段落番号0140に記載
の技術を用いることができる。レーザー出力としては、
1mW以上のものが好ましく、10mW以上のものがより好ま
しく、40mW以上の高出力のものが更に好ましい。その
際、複数のレーザーを合波してもよい。レーザー光の径
としてはガウシアンビームの1/e2スポットサイズで30〜
200μm程度とすることができる。露光部及び熱現像部を
備えたレーザーイメージャーとしては富士メディカルド
ライレーザーイメージャーFM−DP Lを挙げること
ができる。FM−DPLに関しては、Fuji Medical Rev
iew No.8,page 39〜55に記載されており、それらの技術
は本発明の熱現像感光材料のレーザーイメージャーとし
て適用することは言うまでもない。
As the laser beam, a single mode laser can be used, but the technique described in paragraph No. 0140 of JP-A-11-65021 can be used. As laser output,
It is preferably 1 mW or more, more preferably 10 mW or more, and even more preferably high output of 40 mW or more. At that time, a plurality of lasers may be combined. The laser beam diameter is 30 to 1 / e 2 spot size of Gaussian beam.
It can be about 200 μm. As a laser imager having an exposure section and a heat development section, Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL can be mentioned. Regarding FM-DPL, refer to Fuji Medical Rev.
iew No. 8, pages 39 to 55, and it goes without saying that those techniques are applied as a laser imager for the photothermographic material of the present invention.

【0130】本発明の熱現像感光材料は、銀画像による
黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業
写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、COM
用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
これらの使用において、形成された黒白画像をもとにし
て、医療診断用では富士写真フイルム(株)製の複製用
フィルムMI-Dupに複製画像を形成したり、印刷用では富
士写真フイルム(株)製の返し用フイルムDO-175,PDO-1
00やオフセット印刷版に画像を形成するためのマスクと
して使用できることは言うまでもない。また、DICO
M規格に適応したネットワークシステムとして富士メデ
ィカルシステムが提案した「AD network」の
中でのレーザーイメージャー用の熱現像感光材料として
も適用することができる。
The photothermographic material of the present invention forms a black-and-white image by a silver image, and is used for medical diagnosis, photothermographic material for industrial photography, photothermographic material for printing, COM
Is preferably used as a photothermographic material.
In these uses, based on the formed black-and-white image, a duplicate image is formed on a duplication film MI-Dup manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. for medical diagnostics, or Fuji Photo Film Co., Ltd. ) Return film DO-175, PDO-1
Needless to say, it can be used as a mask for forming an image on 00 or an offset printing plate. Also, DICO
The present invention can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in "AD network" proposed by Fuji Medical System as a network system conforming to the M standard.

【0131】[0131]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操
作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更する
ことができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す
具体例に制限されるものではない。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Materials, reagents, ratios, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples.

【0132】(実施例1)実施例1で用いた化合物の構
造を以下に示す。
Example 1 The structure of the compound used in Example 1 is shown below.

【0133】[0133]

【化37】 Embedded image

【0134】《PET支持体の作成》テレフタル酸とエチ
レングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フ
ェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(重量比)中25℃で
測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4
時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷
し、熱固定後の膜厚が175μmになるような厚みの未延伸
フィルムを作成した。これを、周速の異なるロ−ルを用
い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実
施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をス
リットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻
き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。
<< Preparation of PET Support >> Intrinsic viscosity IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio)) using terephthalic acid and ethylene glycol according to a conventional method. Got PET. After pelletizing this, 4
After drying at 300 ° C., the mixture was melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and quenched to prepare an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting. This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then laterally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After that, it was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck portion of the tenter, knurling was performed on both ends and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.

【0135】《表面コロナ処理》ピラー社製ソリッドス
テートコロナ処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を
室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧
の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処
理がなされていることがわかった。この時の処理周波数
は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランス
は1.6mmであった。
<< Surface Corona Treatment >> Using a solid state corona treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar Co., both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was treated at 0.375 kV · A · min / m 2 . At this time, the processing frequency was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.

【0136】 《下塗り支持体の作成》 (1)下塗層塗布液の作成 処方1(感光層側下塗り層用) 高松油脂(株)製ペスレジンA-515GB(30重量%溶液) 234g ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル (平均エチレンオキシド数=8.5) 10重量%溶液 21.5g 綜研化学(株)製 MP-1000(ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm) 0.91g 蒸留水 744ml<< Preparation of Undercoating Support >> (1) Preparation of Undercoating Layer Coating Formulation 1 (for undercoating layer on photosensitive layer side) Takamatsu Yushi Co., Ltd. Pesresin A-515GB (30% by weight solution) 234 g polyethylene glycol mono Nonyl phenyl ether (average ethylene oxide number = 8.5) 10% by weight solution 21.5 g Soken Chemical Co., Ltd. MP-1000 (polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) 0.91 g distilled water 744 ml

【0137】 処方2(バック面第1層用) ブタジエン−スチレン共重合体ラテックス 158g (固形分40重量%、ブタジエン/スチレン重量比=32/68) 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S− トリアジンナトリウム塩 8重量%水溶液 20g ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1重量%水溶液 10ml 蒸留水 854mlFormulation 2 (for the backside first layer) Butadiene-styrene copolymer latex 158 g (solid content 40% by weight, butadiene / styrene weight ratio = 32/68) 2,4-dichloro-6-hydroxy-S- Triazine sodium salt 8% by weight aqueous solution 20g 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate 10ml Distilled water 854ml

【0138】 処方3(バック面側第2層用) SnO2/SbO(9/1重量比、平均粒径0.038μm、17重量%分散物) 84g ゼラチン(10%水溶液) 89.2g 信越化学(株)製 メトローズTC-5(2%水溶液) 8.6g 綜研化学(株)製 MP-1000(ポリマー微粒子) 0.01g ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1重量%水溶液 10ml NaOH(1%) 6ml プロキセル(ICI社製) 1ml 蒸留水 805mlFormulation 3 (for back surface side second layer) SnO 2 / SbO (9/1 weight ratio, average particle size 0.038 μm, 17% by weight dispersion) 84 g Gelatin (10% aqueous solution) 89.2 g Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ) Metrolose TC-5 (2% aqueous solution) 8.6 g MP-1000 (polymer fine particles) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. 0.01 g 1 wt% aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate 10 ml NaOH (1%) 6 ml Proxel (manufactured by ICI) ) 1ml distilled water 805ml

【0139】《下塗り支持体の作成》上記厚さ175μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面
それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面(感
光性層面)に下塗り塗布液処方1をワイヤーバーでウエ
ット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布
して180℃で5分間乾燥し、ついでこの裏面(バック
面)に下塗り塗布液処方2をワイヤーバーでウエット塗
布量が5.7ml/m2になるように塗布して180℃で5分間乾
燥し、更に裏面(バック面)に下塗り塗布液処方3をワ
イヤーバーでウエット塗布量が7.7ml/m2になるように塗
布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作成した。
<< Preparation of Undercoating Support >> The above thickness of 175 μm
After performing the above-described corona discharge treatment on both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of m, the undercoating coating solution formulation 1 was coated on one surface (photosensitive layer surface) with a wire bar at a wet application amount of 6.6 ml / m 2 (one surface). ) And dried at 180 ° C for 5 minutes. Then, undercoat (coating solution formulation 2) was applied to the back surface (back surface) with a wire bar so that the wet application amount was 5.7 ml / m 2. dried for 5 minutes at 180 ° C., dried undercoated support further 6 minutes undercoating liquid formulation 3 on the back surface (back surface) in the coating to 180 ° C. as the amount of wet coating with a wire bar is 7.7 ml / m 2 Created body.

【0140】《バック面塗布液の調製》 (1)塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)の調製 塩基プレカーサー化合物11を64g、ジフェニルスルフォ
ンを28gおよび花王(株)製界面活性剤デモールN 10gを
蒸留水220mlと混合し、混合液をサンドミル(1/4 Gallo
nサンドグラインダーミル、アイメックス(株)製)を
用いてビーズ分散し、平均粒子径0.2μmの、塩基プレ
カーサー化合物の固体微粒子分散液(a)を得た。
<< Preparation of Back Surface Coating Solution >> (1) Preparation of Solid Precursor Dispersion (a) of Base Precursor 64 g of base precursor compound 11, 28 g of diphenylsulfone, and 10 g of surfactant Demol N manufactured by Kao Corporation were added. Mix with 220 ml of distilled water and mix the mixture with a sand mill (1/4 Gallo
The beads were dispersed using an n-sand grinder mill (manufactured by Imex Co., Ltd.) to obtain a solid precursor dispersion (a) of a base precursor compound having an average particle diameter of 0.2 μm.

【0141】(2)染料固体微粒子分散液の調製 シアニン染料化合物13を9.6gおよびp−ドデシルベンゼ
ンスルフォン酸ナトリウム5.8gを蒸留水305mlと混合
し、混合液をサンドミル(1/4 Gallonサンドグラインダ
ーミル、アイメックス(株)製)を用いてビーズ分散し
て平均粒子径0.2μmの染料固体微粒子分散液を得た。
(2) Preparation of Dye Solid Fine Particle Dispersion A cyanine dye compound 9.6 g and sodium p-dodecylbenzenesulfonate 5.8 g were mixed with 305 ml of distilled water, and the mixture was sand-milled (1/4 Gallon sand grinder mill). The dispersion was performed using beads (manufactured by IMEX Co., Ltd.) to obtain a dye solid fine particle dispersion having an average particle diameter of 0.2 μm.

【0142】(3)ハレーション防止層塗布液の調製 ゼラチン17g、ポリアクリルアミド9.6g、上記塩基プレ
カーサーの固体微粒子分散液(a)70g、上記染料固体微粒
子分散液56g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均
粒子サイズ6.5μm)1.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.03
g、ポリエチレンスルフォン酸ナトリウム2.2g、青色染
料化合物14を0.2g、水を844ml混合し、ハレーション防
止層塗布液を調製した。
(3) Preparation of antihalation layer coating solution Gelatin 17 g, polyacrylamide 9.6 g, solid fine particle dispersion of base precursor (a) 70 g, dye solid fine particle dispersion 56 g, polymethyl methacrylate fine particles (average particle size (6.5 μm) 1.5 g, Benzoisothiazolinone 0.03
g, sodium polyethylene sulfonate 2.2 g, blue dye compound 14 0.2 g, and water 844 ml were mixed to prepare an antihalation layer coating solution.

【0143】《バック面保護層塗布液の調製》容器を40
℃に保温し、ゼラチン50g、ポリスチレンスルフォン酸
ナトリウム0.2g、N,N-エチレンビス(ビニルスルフォン
アセトアミド)2.4g、t-オクチルフェノキシエトキシエ
タンスルフォン酸ナトリウム1g、ベンゾイソチアゾリノ
ン30mg、N-パーフルオロオクチルスルフォニル-N-プロ
ピルアラニンカリウム塩37mg、ポリエチレングリコール
モノ(N-パーフルオロオクチルスルホニル-N-プロピル-
2-アミノエチル)エーテル[エチレンオキサイド平均重
合度15] 0.15g、C8F17SO3K 32mg、C8F17SO2N(C3H7)(CH2
CH2O)4(CH2)4-SO3Na 64mg、アクリル酸/エチルアクリ
レート共重合体(共重合重量比5/95)8.8g、エアロゾ
ールOT(アメリカンサイアナミド社製)0.6g、流動パラ
フィン乳化物を流動パラフィンとして1.8g、水を950ml
混合してバック面保護層塗布液とした。
<< Preparation of Back Surface Protective Layer Coating Solution >>
℃, gelatin 50g, polystyrene sodium sulfonate 0.2g, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide) 2.4g, t-octylphenoxyethoxyethaneethanesulfonate 1g, benzoisothiazolinone 30mg, N-perfluoro Octylsulfonyl-N-propylalanine potassium salt 37 mg, polyethylene glycol mono (N-perfluorooctylsulfonyl-N-propyl-
2-aminoethyl) ether [average degree of polymerization of ethylene oxide 15] 0.15 g, C 8 F 17 SO 3 K 32 mg, C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7 ) (CH 2
CH 2 O) 4 (CH 2 ) 4 —SO 3 Na 64 mg, acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95) 8.8 g, Aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co.) 0.6 g, 1.8 g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, 950 ml of water
The mixture was mixed to give a back surface protective layer coating solution.

【0144】《ハロゲン化銀乳剤1の調製》蒸留水1421
mlに1重量%臭化カリウム溶液8.0mlを加え、さらに1N硝
酸を8.2ml、フタル化ゼラチン20gを添加した液をチタン
コートしたステンレス製反応壺中で攪拌しながら、37℃
に液温を保ち、硝酸銀37.04gに蒸留水を加え159mlに希
釈した溶液Aと臭化カリウム32.6gを蒸留水にて容量200
mlに希釈した溶液Bを準備し、コントロールダブルジェ
ット法でpAgを8.1に維持しながら、溶液Aの全量を一定
流量で1分間かけて添加した。溶液Bは、コントロールド
ダブルジェット法にて添加した。その後3.5重量%の過酸
化水素水溶液を30ml添加し、さらにベンツイミダゾール
の3重量%水溶液を36ml添加した。その後、再び溶液Aを
蒸留水で希釈して317.5mlにした溶液A2と、溶液Bに対し
て最終的に銀1モル当たり1×10-4モルになるよう6塩化
イリジウム酸3カリウム塩を溶解し、液量を溶液Bの2倍
の400mlまで蒸留水で希釈した溶液B2を用いて、やはり
コントロールドダブルジェット法にて、pAgを8.1に維持
しながら、一定流量で溶液A2を10分間かけて全量添加し
た。溶液B2は、コントロールドダブルジェット法で添加
した。その後、5-メチル-2-メルカプトベンズイミダゾ
ールの0.5重量%メタノール溶液を50ml添加し、さらに硝
酸銀でpAgを7.5に上げてから1N硫酸を用いてpHを3.8に
調製し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程を行い、脱イ
オンゼラチン3.5gを加えて1Nの水酸化ナトリウムを添加
して、pH6.0、pAg8.2に調製してハロゲン化銀分散物を作
成した。できあがったハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平
均球相当径0.053μm、球相当径の変動係数18%の純臭化
銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い10
00個の粒子の平均から求めた。この粒子の[100]面比率
は、クベルカムンク法を用いて85%と求められた。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion 1 >> Distilled water 1421
8.0 ml of a 1% by weight potassium bromide solution was added to each ml, and 8.2 ml of 1N nitric acid was further added thereto.A solution obtained by adding 20 g of phthalated gelatin was stirred at 37 ° C. in a titanium-coated stainless steel reaction bottle.
The solution A was diluted to 159 ml by adding distilled water to 37.04 g of silver nitrate, and 32.6 g of potassium bromide was dissolved in distilled water to a volume of 200 ml.
A solution B diluted to ml was prepared, and the entire amount of the solution A was added at a constant flow rate over 1 minute while maintaining the pAg at 8.1 by the control double jet method. Solution B was added by a controlled double jet method. Thereafter, 30 ml of a 3.5% by weight aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 36 ml of a 3% by weight aqueous solution of benzimidazole was further added. Then, solution A2 was again diluted with distilled water to 317.5 ml, and solution B was dissolved with potassium trichloride iridate 3 potassium salt in solution B so that the final concentration was 1 × 10 -4 mole per mole of silver. Using the solution B2 diluted with distilled water to 400 ml twice the volume of the solution B, again by the controlled double jet method, while maintaining the pAg at 8.1, apply the solution A2 at a constant flow rate for 10 minutes. The whole amount was added. Solution B2 was added by a controlled double jet method. Thereafter, 50 ml of a 0.5% by weight methanol solution of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added, the pAg was further raised to 7.5 with silver nitrate, the pH was adjusted to 3.8 with 1N sulfuric acid, stirring was stopped, and sedimentation was stopped. A desalting / washing step was performed, 3.5 g of deionized gelatin was added, and 1N sodium hydroxide was added to adjust the pH to 6.0 and a pAg of 8.2 to prepare a silver halide dispersion. The grains in the completed silver halide emulsion were pure silver bromide grains having an average equivalent sphere diameter of 0.053 μm and a variation coefficient of equivalent sphere diameter of 18%. Particle size, etc. were determined using an electron microscope.
It was determined from the average of 00 particles. The [100] plane ratio of these particles was determined to be 85% using the Kubelka-Munk method.

【0145】上記乳剤を38℃に攪拌しながら維持して、
ベンゾイソチアゾリノンを0.035g(3.5重量%メタノール
溶液で添加)加え、40分後に分光増感色素Aの固体分散
物(ゼラチン水溶液)を銀1モル当たり5×10-3モル加え、
1分後に47℃に昇温し、20分後にベンゼンチオスルフォ
ン酸ナトリウムを銀1モルに対して3×10-5モル加え、さ
らに2分後にテルル増感剤Bを銀1モル当たり5×10-5モル
加えて90分間熟成した。熟成終了間際に、N,N-ジヒドロ
キシ-N-ジエチルメラミンの0.5重量%メタノール溶液を5
mlを加え、温度を31℃に下げ、フェノキシエタノールの
3.5重量%メタノール溶液5ml、5-メチル-2-メルカプトベ
ンヅイミダゾールを銀1モル当たり7×10-3モル及び1-フ
ェニル-2-ヘプチル-5-メルカプト-1,3,4-トリアゾール
を銀1モルに対して6.4×10-3モルを添加して、ハロゲ
ン化銀乳剤1を作成した。
The above emulsion was maintained at 38 ° C. with stirring,
0.035 g of benzoisothiazolinone (added in a 3.5% by weight methanol solution) was added, and after 40 minutes, a solid dispersion of the spectral sensitizing dye A (aqueous gelatin solution) was added at 5 × 10 -3 mol per mol of silver,
One minute later, the temperature was raised to 47 ° C., 20 minutes later, 3 × 10 −5 mol of sodium benzenethiosulfonate was added to 1 mol of silver, and 2 minutes later, tellurium sensitizer B was added at 5 × 10 5 mol / mol of silver. -5 mol was added and the mixture was aged for 90 minutes. Immediately before the completion of ripening, a 0.5% by weight methanol solution of N, N-dihydroxy-N-diethylmelamine was added to 5
ml, lower the temperature to 31 ° C and add phenoxyethanol.
5% by weight of a 3.5% by weight methanol solution, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was converted to 7 × 10 -3 mol per mol of silver and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole was converted to silver. 6.4 × 10 -3 mol was added per 1 mol to prepare a silver halide emulsion 1.

【0146】《ハロゲン化銀乳剤2の調製》ハロゲン化
銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温37℃を50℃
に変更する以外は同様にして平均球相当径0.08μm、球
相当径の変動係数15%の純臭化銀立方体粒子乳剤の調製
した。ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/脱塩/水洗/
分散を行った。更に分光増感色素Aの添加量を銀1モル当
たり4.5×10-3モルに変えた以外は乳剤1と同様にして
分光増感、化学増感及び5-メチル-2-メルカプトベンヅ
イミダゾール、1-フェニル-2-ヘプチル-5-メルカプト-
1,3,4-トリアゾールの添加を行い、ハロゲン化銀乳剤2
を得た。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion 2 >> In the preparation of silver halide emulsion 1, the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 37 ° C. to 50 ° C.
In the same manner, a pure silver bromide cubic grain emulsion having an average equivalent sphere diameter of 0.08 μm and a coefficient of variation of equivalent sphere diameter of 15% was prepared in the same manner. Precipitation / desalting / water washing /
Dispersion was performed. Further, spectral sensitization, chemical sensitization, and 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole were carried out in the same manner as in Emulsion 1, except that the amount of the spectral sensitizing dye A was changed to 4.5 × 10 -3 mol per mol of silver. 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-
Addition of 1,3,4-triazole and silver halide emulsion 2
I got

【0147】《ハロゲン化銀乳剤3の調製》ハロゲン化
銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温37℃を27℃
に変更する以外は同様にして平均球相当径0.038μm、球
相当径の変動係数20%の純臭化銀立方体粒子乳剤の調製
した。ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/脱塩/水洗/
分散を行った。更に分光増感色素Aの添加量を銀1モル当
たり6×10-3モルに変えた以外は乳剤1と同様にして分
光増感、化学増感及び5-メチル-2-メルカプトベンヅイ
ミダゾール、1-フェニル-2-ヘプチル-5-メルカプト-1,
3,4-トリアゾールの添加を行い、ハロゲン化銀乳剤3を
得た。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion 3 >> In the preparation of silver halide emulsion 1, the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 37 ° C. to 27 ° C.
In the same manner, a pure silver bromide cubic grain emulsion having an average equivalent spherical diameter of 0.038 μm and a coefficient of variation of equivalent spherical diameter of 20% was prepared in the same manner. Precipitation / desalting / water washing /
Dispersion was performed. Further, spectral sensitization, chemical sensitization and 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole were carried out in the same manner as in Emulsion 1, except that the addition amount of the spectral sensitizing dye A was changed to 6 × 10 -3 mol per mol of silver. 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,
3,4-Triazole was added to obtain a silver halide emulsion 3.

【0148】《塗布液用混合乳剤Aの調製》ハロゲン化
銀乳剤1を70重量%、ハロゲン化銀乳剤2を15重量%、
ハロゲン化銀乳剤3を15重量%溶解し、ベンゾチアゾリ
ウムヨーダイドを1重量%水溶液にて銀1モル当たり7×1
0-3モル添加した。
<< Preparation of Coating Emulsion A for Coating Liquid >> Silver halide emulsion 1 was 70% by weight, silver halide emulsion 2 was 15% by weight,
Silver halide emulsion 3 was dissolved at 15% by weight, and benzothiazolium iodide was dissolved in a 1% by weight aqueous solution at a concentration of 7 × 1 per mole of silver.
0 -3 mol was added.

【0149】《りん片状脂肪酸銀塩の調製》ヘンケル社
製ベヘン酸(製品名Edenor C22-85R)87.6g、蒸留水423
ml、5N-NaOH水溶液49.2ml、tert-ブタノール120mlを混
合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリ
ウム溶液を得た。別に、硝酸銀40.4gの水溶液206.2ml
(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635mlの蒸留水
と30mlのtert−ブタノールを入れた反応容器を30℃に保
温し、撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量
と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ62分10秒と
60分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始
後7分20秒間は硝酸銀水溶液のみが添加されるように
し、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝
酸銀水溶液の添加終了後9分30秒間はベヘン酸ナトリウ
ム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容
器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温
コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添
加系の配管は、スチームトレースにより保温し、添加ノ
ズル先端の出口の液温度が75℃になるようにスチーム開
度を調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、
2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。
ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添
加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反
応液に接触しないような高さに調製した。ベヘン酸ナト
リウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌
放置し、25℃に降温した。その後、吸引濾過で固形分を
濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで
水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分
は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
<< Preparation of scaly fatty acid silver salt >> 87.6 g of behenic acid (product name: Edenor C22-85R) manufactured by Henkel, 423 distilled water
Then, 49.2 ml of 5N-NaOH aqueous solution and 120 ml of tert-butanol were mixed, and the mixture was stirred and reacted at 75 ° C. for 1 hour to obtain a sodium behenate solution. Separately, an aqueous solution of 40.4 g of silver nitrate 206.2 ml
(PH 4.0) was prepared and kept at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 ml of distilled water and 30 ml of tert-butanol was kept at 30 ° C., and while stirring, the whole amount of the sodium behenate solution and the whole amount of the silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate for 62 minutes and 10 seconds, respectively.
Added over 60 minutes. At this time, only the aqueous silver nitrate solution was added for 7 minutes and 20 seconds after the start of the aqueous silver nitrate solution addition, and then the addition of the sodium behenate solution was started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution was completed, only the sodium behenate solution was added for 9 minutes and 30 seconds. Was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. Further, the piping of the addition system of the sodium behenate solution was kept warm by steam tracing, and the steam opening was adjusted so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle became 75 ° C. Also, the piping for the addition system of the silver nitrate aqueous solution is
The temperature was maintained by circulating cold water outside the double tube.
The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically with respect to the stirring axis, and were adjusted to a height such that they did not come into contact with the reaction solution. After the completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was allowed to stir at the same temperature for 20 minutes, and the temperature was lowered to 25 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtered water became 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.

【0150】得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微
鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.14μm、b=
0.4μm、c=0.6μm、平均アスペクト比5.2、平均球相当
径0.52μm、球相当径の変動係数15%のりん片状の結晶
であった。(a,b,cは本文の規定)乾燥固形分100g相当
のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品
名:PVA-217、平均重合度約1700)7.4gおよび水を添加
し、全体量を385gとしてからホモミキサーにて予備分
散した。次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マ
イクロフルイダイザーM−110S−EH、マイクロフ
ルイデックス・インターナショナル・コーポレーション
製、G10Zインタラクションチャンバー使用)の圧力
を1750kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分
散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクシ
ョンチャンバーの前後にそれぞれ装着し、冷媒の温度を
調節することで18℃の分散温度に設定した。
The morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscopic photographing. The average values were a = 0.14 μm and b =
It was a scaly crystal having 0.4 μm, c = 0.6 μm, an average aspect ratio of 5.2, an average equivalent sphere diameter of 0.52 μm, and a variation coefficient of equivalent sphere diameter of 15%. (A, b, c are prescribed in the text) 7.4 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217, average degree of polymerization of about 1700) and water are added to a wet cake having a dry solid content of 100 g, and the total amount is 385 g. And then predispersed with a homomixer. Next, the pressure of the predispersed stock solution was adjusted to 1750 kg / cm 2 by using a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a G10Z interaction chamber). This was repeated to obtain a silver behenate dispersion. For the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the dispersion temperature was set at 18 ° C. by adjusting the temperature of the refrigerant.

【0151】《還元剤の25重量%分散物の調製》1,1-ビ
ス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメ
チルヘキサン(本発明の化合物例I−1)10kgと変性ポ
リビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)
の20重量%水溶液10kgに、水16kgを添加して、良く混合
してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポン
プで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填
した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)に
て3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナ
トリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25重量%に
なるように調製し、還元剤分散物を得た。こうして得た
還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μ
m、最大粒子径1.8μm以下であった。得られた還元剤分
散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにて
ろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of 25% by weight dispersion of reducing agent >> 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (Compound Example I-1 of the present invention) 10 kg and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203)
16 kg of water was added to 10 kg of a 20% by weight aqueous solution of the above, and mixed well to form a slurry. The slurry was sent by a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours and 30 minutes, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the reducing agent to 25% by weight to obtain a reducing agent dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained have a median diameter of 0.40 μm.
m, and the maximum particle size was 1.8 μm or less. The resulting reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0152】《メルカプト化合物の10重量%分散物の調
製》1-フェニル-2-ヘプチル-5-メルカプト-1,3,4-トリ
アゾールを5kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ
(株)製ポバールMP203)の20重量%水溶液5kgに、水8.3kg
を添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリ
ーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジ
ルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:ア
イメックス(株)製)にて6時間分散したのち、水を加
えてメルカプト化合物の濃度が10重量%になるように調
製し、メルカプト分散物を得た。こうして得たメルカプ
ト化合物分散物に含まれるメルカプト化合物粒子はメジ
アン径0.40μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得ら
れたメルカプト化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロ
ピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除
去して収納した。また、使用直前に再度孔径10μmのポ
リプロピレン製フィルターにてろ過した。
<< Preparation of a 10% by weight dispersion of a mercapto compound >> 5 kg of 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole and modified polyvinyl alcohol (Kuraray)
8.3 kg of water in 5 kg of a 20% by weight aqueous solution of Poval MP203 manufactured by Co., Ltd.
Was added and mixed well to form a slurry. The slurry was sent by a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 6 hours, and then water was added to reduce the concentration of the mercapto compound. It was adjusted to 10% by weight to obtain a mercapto dispersion. The mercapto compound particles contained in the mercapto compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained mercapto compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored. Immediately before use, the mixture was again filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10 μm.

【0153】《有機ポリハロゲン化合物の20重量%分散
物−1の調製》トリブロモメチルナフチルスルホン5kg
と変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP
203)の20重量%水溶液2.5kgと、トリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウムの20重量%水溶液213gと、
水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。この
スラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5m
mのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−
2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベ
ンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有
機ポリハロゲン化合物の濃度が20重量%になるように調
製し、有機ポリハロゲン化合物分散物を得た。こうして
得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロ
ゲン化合物粒子はメジアン径0.36μm、最大粒子径2.0μ
m以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散
物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過
を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of 20% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-1 >> 5 kg of tribromomethylnaphthyl sulfone
And modified polyvinyl alcohol (Poval MP manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
203) 2.5 kg of a 20% by weight aqueous solution, and 213 g of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate,
10 kg of water was added and mixed well to form a slurry. This slurry is sent by a diaphragm pump and has an average diameter of 0.5 m.
m zirconia beads filled horizontal sand mill (UVM-
2: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 5 hours, and then added with 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt and water to adjust the concentration of the organic polyhalogen compound to 20% by weight. A dispersion was obtained. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained have a median diameter of 0.36 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm.
m or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0154】《有機ポリハロゲン化合物の25重量%分散
物−2の調製》有機ポリハロゲン化合物の20重量%分散
物−1と同様に、但し、トリブロモメチルナフチルスル
ホン5kgの代わりにN-ブチル−3−トリブロモメタンス
ルホニルベンズアミド5kgを用い、分散し、この有機ポ
リハロゲン化合物が25重量%となるように希釈し、ろ過
を行った。こうして得た有機ポリハロゲン化合物分散物
に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.
39μm、最大粒子径2.2μm以下であった。得られた有機
ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレ
ン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去し
て収納した。
<< Preparation of 25% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-2 >> Similar to 20% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-1, except that 5 kg of tribromomethylnaphthyl sulfone was used instead of N-butyl- 5 kg of 3-tribromomethanesulfonylbenzamide was dispersed, diluted so that the organic polyhalogen compound became 25% by weight, and filtered. Organic polyhalogen compound particles contained in the organic polyhalogen compound dispersion thus obtained have a median diameter of 0.
It was 39 μm and the maximum particle size was 2.2 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0155】《有機ポリハロゲン化合物の30重量%分散
物−3の調製》有機ポリハロゲン化合物の20重量%分散
物−1と同様に、但し、トリブロモメチルナフチルスル
ホン5kgの代わりにトリブロモメチルフェニルスルホン5
kgを用い、20重量%MP203水溶液を5kgとし、分散し、こ
の有機ポリハロゲン化合物が30重量%となるように希釈
し、ろ過を行った。こうして得た有機ポリハロゲン化合
物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジ
アン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得ら
れた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリ
プロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物
を除去して収納した。また、収納後、使用までは10℃以
下で保管した。
<< Preparation of 30% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-3 >> Similar to 20% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-1 except that 5 kg of tribromomethylnaphthyl sulfone was used instead of tribromomethylphenyl Sulfone 5
5 kg of a 20 wt% aqueous solution of MP203 was dispersed in 5 kg, and the mixture was diluted so that the organic polyhalogen compound became 30 wt%, followed by filtration. The organic polyhalogen compound particles contained in the organic polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored. After storage, it was stored at 10 ° C or less until use.

【0156】《フタラジン化合物の5重量%溶液の調製》
8Kgのクラレ(株)製変性ポリビニルアルコールMP203を
水174.57Kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウムの20重量%水溶液3.15Kgと6-イ
ソプロピルフタラジンの70重量%水溶液14.28Kgを添加
し、6-イソプロピルフタラジンの5重量%液を調製した。
<< Preparation of 5% by weight solution of phthalazine compound >>
8 kg of Kuraray's modified polyvinyl alcohol MP203 was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 14.28 kg of a 70% aqueous solution of 6-isopropylphthalazine were added. A 5% by weight solution of 6-isopropylphthalazine was prepared.

【0157】《顔料の20重量%分散物の調製》C.I.Pigme
nt Blue 60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250g
を添加し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mm
のジルコニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒に
ベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミ
ル:アイメックス(株)製)にて25時間分散し顔料分散
物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子
は平均粒径0.21μmであった。
<< Preparation of 20% by weight dispersion of pigment >>
64 g of nt Blue 60 and 6.4 g of Demol N manufactured by Kao Corporation in 250 g of water
Was added and mixed well to obtain a slurry. Average diameter 0.5mm
Of zirconia beads was placed in a vessel together with the slurry, and dispersed by a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by Imex Co., Ltd.) for 25 hours to obtain a pigment dispersion. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.

【0158】《SBRラテックス40重量%の調製》限外濾過
(UF)精製したSBRラテックスは以下のように得た。下記
のSBRラテックスを蒸留水で10倍に希釈したものをUF-精
製用モジュールFS03-FC-FUY03A1(ダイセン・メンブレン
・システム(株))を用いてイオン伝導度が1.5mS/cmにな
るまで希釈精製し、三洋化成(株)製サンデット-BLを
0.22重量%になるよう添加した。更にNaOHとNH4OHを用い
てNa+イオン:NH4 +イオン=1:2.3(モル比)になるよう
に添加し、pH8.4に調整した。この時のラテックス濃度
は40重量%であった。 (SBRラテックス:-St(68)-Bu(29)-AA(3)-のラテックス)
平均粒径0.1μm、濃度45%、25℃相対湿度60%における平
衡含水率0.6重量%、イオン伝導度4.2mS/cm(イオン伝導
度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM-30S使用しラ
テックス原液(40%)を25℃にて測定)、pH8.2
<< Preparation of SBR latex 40% by weight >> Ultrafiltration
(UF) The purified SBR latex was obtained as follows. The following SBR latex diluted 10 times with distilled water was diluted using UF-purification module FS03-FC-FUY03A1 (Daisen Membrane System Co., Ltd.) until the ionic conductivity became 1.5 mS / cm. Purify and use Sandet-BL manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.
It was added to be 0.22% by weight. Further with NaOH and NH 4 OH Na + ion: NH 4 + ion = 1: was added to a 2.3 (molar ratio) was adjusted to pH 8.4. The latex concentration at this time was 40% by weight. (SBR latex: -St (68) -Bu (29) -AA (3)-latex)
Average particle size 0.1 μm, concentration 45%, equilibrium water content 0.6% by weight at 25 ° C. and 60% relative humidity, ion conductivity 4.2 mS / cm (Ion conductivity is measured by a conductivity meter CM- manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. Using 30S, measure latex stock solution (40%) at 25 ° C), pH 8.2

【0159】《画像形成層塗布液の調製》上記で得た顔
料の20重量%水分散物を1.1g、有機酸銀分散物103g、ポ
リビニルアルコールPVA-205(クラレ(株)製)の20重量%水
溶液5g、上記25重量%還元剤分散物25g、有機ポリハロゲ
ン化合物分散物-1,-2,-3を2:5:2(重量比)で総量13.2
g、メルカプト化合物10%分散物6.2g、限外濾過(UF)精
製しpH調整したSBRラテックス40重量%を106g、フタラ
ジン化合物の5重量%溶液を18mlを添加し、ハロゲン化銀
混合乳剤Aを10gを良く混合し、画像形成層(感光性層、
乳剤層)塗布液を調製し、そのままコーティングダイへ
70ml/m2となるように送液し、塗布した。上記画像形成
層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40
℃(No.1ローター、60rpm)で85[mPa・s]であった。レ
オメトリックスファーイースト株式会社製RFSフルー
ドスペクトロメーターを使用した25℃での塗布液の粘度
は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそ
れぞれ1500、220、70、40、20[mPa・s]であった。
<< Preparation of Coating Solution for Image Forming Layer >> 1.1 g of a 20% by weight aqueous dispersion of the pigment obtained above, 103 g of a silver salt of an organic acid, and 20% by weight of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% aqueous solution, 25 g of the above 25% by weight reducing agent dispersion, organic polyhalogen compound dispersion-1, -2, -3 in a total amount of 13.2 in a ratio of 2: 5: 2 (weight ratio).
g, 10 g of a 10% dispersion of a mercapto compound, 106 g of 40 wt% of SBR latex purified and pH-adjusted by ultrafiltration (UF), and 18 ml of a 5 wt% solution of a phthalazine compound were added. Mix well 10g, image forming layer (photosensitive layer,
Emulsion layer) Prepare a coating solution and transfer it directly to the coating die
The solution was fed to 70 ml / m 2 and applied. The viscosity of the image forming layer coating solution was measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki Co., Ltd.
It was 85 [mPa · s] at ° C (No. 1 rotor, 60 rpm). The viscosity of the coating solution at 25 ° C. using a Rheometrics Far East Co., Ltd. RFS Fluid Spectrometer was 1500, 220, 70, 40, at a shear rate of 0.1, 1, 10, 100, 1000 [1 / sec], respectively. It was 20 [mPa · s].

【0160】《乳剤面中間層塗布液の調製》ポリビニル
アルコールPVA-205(クラレ(株)製)の10重量%水溶液772
g、顔料の20重量%分散物5.3g、メチルメタクリレート/
スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタク
リレート/アクリル酸共重合体(共重合重量比64/9/20/5/
2)ラテックス27.5重量%液226gにエアロゾールOT(アメリ
カンサイアナミド社製)の5重量%水溶液を2ml、フタル酸
二アンモニウム塩の20重量%水溶液を10.5ml、総量880g
になるように水を加えて中間層塗布液とし、10ml/m2
なるようにコーティングダイへ送液した。塗布液の粘度
はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で21[mPa・s]
であった。
<< Preparation of Emulsion Surface Intermediate Layer Coating Solution >> A 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
g, 20% by weight dispersion of pigment 5.3 g, methyl methacrylate /
Styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20/5 /
2) Latex 27.5 wt% liquid 226 g 5 wt% aqueous solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid) 2 ml, 20 wt% aqueous solution of diammonium phthalate 10.5 ml, total amount 880 g
Was added to make the coating solution for the intermediate layer, and the solution was fed to the coating die at 10 ml / m 2 . The viscosity of the coating solution is 21 mPa · s using a B-type viscometer at 40 ° C (No. 1 rotor, 60 rpm).
Met.

【0161】《乳剤面保護層第1層塗布液の調製》イナ
ートゼラチン64gを水に溶解し、メチルメタクリレート
/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタ
クリレート/アクリル酸共重合体(共重合重量比64/9/20
/5/2)ラテックス27.5重量%液80g、フタル酸の10重量%
メタノール溶液を23ml、4-メチルフタル酸の10重量%水
溶液23ml、1Nの硫酸を28ml、エアロゾールOT(アメリカ
ンサイアナミド社製)の5重量%水溶液を5ml、フェノキシ
エタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.1gを加え、
総量750gになるように水を加えて塗布液とし、4重量%の
クロムみょうばん26mlを塗布直前にスタチックミキサー
で混合したものを18.6ml/m2になるようにコーティング
ダイへ送液した。塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1
ローター、60rpm)で17[mPa・s]であった。
<< Preparation of Coating Solution for First Layer of Emulsion Surface Protective Layer >> 64 g of inert gelatin was dissolved in water, and methyl methacrylate was added.
/ Styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20
/ 5/2) 27.5% by weight of latex 80g liquid, 10% by weight of phthalic acid
23 ml of a methanol solution, 23 ml of a 10% by weight aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of 1N sulfuric acid, 5 ml of a 5% by weight aqueous solution of Aerosol OT (manufactured by American Cyanamid), 0.5 g of phenoxyethanol, 0.1 g of benzoisothiazolinone 0.1 g
Water was added to make a total amount of 750 g to form a coating solution, and a mixture of 26% of 4% by weight chromium alum mixed with a static mixer immediately before coating was sent to a coating die at 18.6 ml / m 2 . The viscosity of the coating solution was measured using a B-type viscometer at 40 ° C (No. 1
Rotor, 60 rpm) was 17 [mPa · s].

【0162】《乳剤面保護層第2層塗布液の調製》イナ
ートゼラチン80gを水に溶解し、メチルメタクリレート
/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタ
クリレート/アクリル酸共重合体(共重合重量比64/9/20
/5/2)ラテックス27.5重量%液102g、N-パーフルオロオ
クチルスルフォニル-N-プロピルアラニンカリウム塩の5
重量%溶液を3.2ml、ポリエチレングリコールモノ(N-パ
ーフルオロオクチルスルホニル-N-プロピル-2-アミノエ
チル)エーテル[エチレンオキシド平均重合度=15]の2重
量%水溶液を32ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナ
ミド社製)の5重量%溶液を23ml、ポリメチルメタクリレ
ート微粒子(平均粒径0.7μm)4g、ポリメチルメタクリ
レート微粒子(平均粒径6.4μm)21g、4-メチルフタル
酸1.6g、フタル酸4.8g、1Nの硫酸を44ml、ベンゾイソチ
アゾリノン10mgに総量650gとなるよう水を添加して、4
重量%のクロムみょうばんと0.67重量%のフタル酸を含有
する水溶液445mlを塗布直前にスタチックミキサーで混
合したものを表面保護層塗布液とし、8.3ml/m2になるよ
うにコーティングダイへ送液した。塗布液の粘度はB型
粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で9[mPa・s]であっ
た。
<< Preparation of Coating Solution for Second Layer of Emulsion Surface Protective Layer >> 80 g of inert gelatin was dissolved in water, and methyl methacrylate was added.
/ Styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20
/ 5/2) 102 g of latex 27.5% by weight liquid, 5% of N-perfluorooctylsulfonyl-N-propylalanine potassium salt
3.2 ml of a 2% by weight solution of polyethylene glycol mono (N-perfluorooctylsulfonyl-N-propyl-2-aminoethyl) ether [average degree of polymerization of ethylene oxide = 15] was 32 ml, and Aerosol OT (American Cyclic) was used. 23 ml of a 5% by weight solution of Anamid Co., Ltd., 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm), 21 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 6.4 μm), 1.6 g of 4-methylphthalic acid, 4.8 g of phthalic acid , 44 ml of 1N sulfuric acid, 10 mg of benzoisothiazolinone and water to a total amount of 650 g,
The weight% of chromium alum and 0.67 weight% of the surface protective layer coating solution which had been mixed with a static mixer solution 445ml containing phthalic acid immediately before coating, fed to a coating die so that 8.3 ml / m 2 did. The viscosity of the coating solution was 9 mPa · s using a B-type viscometer at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

【0163】《熱現像感光材料の作成》上記下塗り支持
体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液を固体微
粒子染料の固形分塗布量が0.04g/m2となるように、また
バック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が1.7g/m2とな
るように同時重層塗布し、乾燥し、ハレーション防止バ
ック層を作成した。バック面と反対の面に下塗り面から
画像形成層(ハロゲン化銀の塗布銀量0.14g/m2)、中間
層、保護層第1層、保護層第2層の順番でスライドビー
ド塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料
001を作成した。
<< Preparation of Photothermographic Material >> On the back surface side of the undercoating support, a coating solution for the antihalation layer was applied so that the solid content of the solid fine particle dye was 0.04 g / m 2 and the back surface was protected. The layer coating solution was simultaneously layer-coated so that the gelatin coating amount was 1.7 g / m 2, and dried to form an antihalation back layer. On the side opposite to the back side, from the undercoat side to the image forming layer (silver halide coated silver amount 0.14 g / m 2 ), intermediate layer, protective layer first layer, protective layer second layer in order of slide bead coating method To form a sample 001 of the photothermographic material.

【0164】塗布はスピード160m/minで行い、コーティ
ングダイ先端と支持体との間隔を0.14〜0.28mmに、ま
た、塗布液の吐出スリット幅に対して塗布幅が左右とも
に各0.5mm広がるように調節し、減圧室の圧力を大気圧
に対して392Pa低く設定した。その際、支持体は帯電し
ないようにハンドリング及び温湿度を制御し、更に塗布
直前にイオン風で除電した。引き続くチリングゾーンで
は、乾球温度が18℃、湿球温度が12℃の風を30秒間吹き
当てて、塗布液を冷却した後、つるまき式の浮上方式の
乾燥ゾーンにて、乾球温度が30℃、湿球温度が18℃の乾
燥風を200秒間吹き当てた後70℃の乾燥ゾーンを20秒間
通した後、90℃の乾燥ゾーンを10秒間通し、その後25℃
に冷却して、塗布液中の溶剤の揮発を行った。チリング
ゾーンおよび乾燥ゾーンでの塗布液膜面に吹き当たる風
の平均風速は7m/secであった。作製された熱現像感光
材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が550
秒、バック面が130秒であった。前記試料101とほぼ
同等の現像濃度を与えるようにフェノール系還元剤(一
般式(I)の化合物)とAおよびBの少なくとも一方の
条件を満たす化合物の塗設量を表1に示したように調整
した試料102〜123を作製し、画像保存性の評価を
行った。試料作製にあたって、フェノール系還元剤(一
般式(I)の化合物)は、上記還元剤の25%分散物に
用いた1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-
3,5,5-トリメチルヘキサンのかわりに用いて調製した。
試料102の化合物(II−2)は、以下の分散物を画
像形成層塗布後に含有させた。使用量は還元剤と等モル
量になるように用いた。試料103〜123について
は、表1記載の化合物を同様に分散し、表1に記載の添
加量(化合物II−2の量を100とする相対mol%
で示した)で作成した。
The coating is performed at a speed of 160 m / min, the distance between the tip of the coating die and the support is set to 0.14 to 0.28 mm, and the coating width is spread by 0.5 mm on both the left and right sides with respect to the slit width of the coating liquid. The pressure was adjusted and the pressure in the decompression chamber was set 392 Pa lower than the atmospheric pressure. At that time, the handling and the temperature and humidity were controlled so that the support was not charged, and the charge was removed by ion wind immediately before coating. In the subsequent chilling zone, air with a dry-bulb temperature of 18 ° C and a wet-bulb temperature of 12 ° C was blown for 30 seconds to cool the coating liquid, and then the dry-bulb temperature was raised in the hovering-type floating type drying zone. After spraying dry air at 30 ° C and wet bulb temperature of 18 ° C for 200 seconds, passing through a 70 ° C drying zone for 20 seconds, then passing through a 90 ° C drying zone for 10 seconds, and then 25 ° C
And the solvent in the coating solution was volatilized. The average wind speed of the wind blowing on the coating liquid film surface in the chilling zone and the drying zone was 7 m / sec. The matte degree of the prepared photothermographic material was 550 on the image forming layer side with Beck smoothness.
Seconds, the back side was 130 seconds. As shown in Table 1, the coating amounts of the phenolic reducing agent (compound of the general formula (I)) and the compound satisfying at least one of the conditions A and B were set so as to give a development density almost equivalent to that of the sample 101. Adjusted samples 102 to 123 were prepared and evaluated for image storability. In preparing the sample, the phenol-based reducing agent (compound of the general formula (I)) was prepared using 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-used in a 25% dispersion of the reducing agent.
It was prepared by using instead of 3,5,5-trimethylhexane.
Compound (II-2) of Sample 102 contained the following dispersion after application of the image forming layer. The amount used was such that it was equimolar to the reducing agent. For Samples 103 to 123, the compounds described in Table 1 were dispersed in the same manner, and the amounts of the compounds described in Table 1 (relative mol% with the amount of compound II-2 as 100) were used.
).

【0165】《化合物II−2の分散物の調製》化合物
II−2を1kgと、変性ポリビニルアルコール(クラ
レ(株)製、ポバールMP203)の20重量%水溶液
1kgに、水1.6kgを添加したうえでよく混合して
スラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで
送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填
した横型サンドミル(アイメックス(株)製、UVM−
2)にて3時間30分分散したのち、ベゾイソチアゾリ
ノンナトリウム塩0.2gと水を加えてホスホリル化合
物の濃度が25重量%になるように調製し、ホスホリル
化合物の固体微粒子分散物を得た。こうして得られた分
散物に含まれるホスホリル化合物粒子はメジアン径0.
45μm、最大粒径2.0μm以下であった。得られた
分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルタ
ーにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of Dispersion of Compound II-2 >> 1.6 kg of water was added to 1 kg of the compound II-2 and 1 kg of a 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). The mixture was mixed well to form a slurry. This slurry was fed by a diaphragm pump and filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm in a horizontal sand mill (manufactured by Imex Co., Ltd., UVM-
After 3 hours and 30 minutes of dispersion in 2), 0.2 g of besoisothiazolinone sodium salt and water are added to adjust the concentration of the phosphoryl compound to 25% by weight, and a solid fine particle dispersion of the phosphoryl compound is prepared. Obtained. The phosphoryl compound particles contained in the dispersion thus obtained have a median diameter of 0.1.
The particle size was 45 μm, and the maximum particle size was 2.0 μm or less. The obtained dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0166】画像保存性の評価は、熱現像後の感光材料
を60℃、相対湿度50%の条件下で1日間保存し、そ
の前後での白地部の濃度変化ΔDminを測定して行っ
た。その結果を表1に示した。
Evaluation of image storability was performed by storing the photosensitive material after thermal development at 60 ° C. and a relative humidity of 50% for one day, and measuring a density change ΔDmin of a white background before and after the storage. The results are shown in Table 1.

【0167】[0167]

【表1】 [Table 1]

【0168】表1より明らかなように、本発明の組み合
わせにより画像保存性が顕著に改良される。
As is evident from Table 1, the combination of the present invention significantly improves image storability.

【0169】(実施例2)実施例1で用いたハロゲン化
銀乳剤1〜3、塗布用混合乳剤A、還元剤固体微粒子分
散物、有機ポリハロゲン化合物の25重量%分散物−2、
有機ポリハロゲン化合物の30重量%分散物−3、画像形
成層塗布液を以下の方法で調製したものに変更して、さ
らにホスホリル化合物分散物を使用して、実施例1と同
じ手順で熱現像感光材料を得た。
(Example 2) Silver halide emulsions 1 to 3 used in Example 1, mixed emulsion A for coating, reducing agent solid fine particle dispersion, 25% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-2,
30% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-3, the image forming layer coating solution was changed to that prepared by the following method, and further, using a phosphoryl compound dispersion, thermal development was performed in the same procedure as in Example 1. A photosensitive material was obtained.

【0170】《ハロゲン化銀乳剤1の調製》蒸留水1421
mlに1重量%臭化カリウム溶液3.1mlを加え、さらに
1N硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン31.7gを添加した液
をチタンコートしたステンレス製反応壺中で攪拌しなが
ら、34℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え9
5.4mlに希釈した溶液Aと臭化カリウム15.9gを蒸留水
にて容量97.4mlに希釈した溶液Bを一定流量で45秒間
かけて全量添加した。その後3.5重量%の過酸化水素水
溶液を10ml添加し、さらにベンツイミダゾールの10重
量%水溶液を10.8ml添加した。さらに、硝酸銀51.86g
に蒸留水を加え317.5mlに希釈した溶液Cと臭化カリ
ウム45.8gを蒸留水にて容量400mlに希釈した溶液D
を、溶液Cは一定流量で20分間かけて全量添加し、溶液
DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェ
ット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよ
う六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび
溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。ま
た、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリ
ウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。
1N硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱
塩/水洗工程をおこなった。1N水酸化ナトリウムを用い
てpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作成
した。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion 1 >> Distilled water 1421
Add 3.1 ml of a 1% by weight potassium bromide solution to the
While stirring the liquid containing 3.5 ml of 1N sulfuric acid and 31.7 g of phthalated gelatin in a titanium-coated stainless steel reaction pot, the liquid temperature was maintained at 34 ° C., and distilled water was added to 22.22 g of silver nitrate.
Solution A diluted to 5.4 ml and solution B prepared by diluting 15.9 g of potassium bromide to a volume of 97.4 ml with distilled water were all added at a constant flow rate over 45 seconds. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by weight aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 ml of a 10% by weight aqueous solution of benzimidazole was added. In addition, 51.86 g of silver nitrate
Solution D diluted with distilled water to 317.5 ml and solution D prepared by diluting potassium bromide 45.8 g with distilled water to a volume of 400 ml.
Was added over 20 minutes at a constant flow rate, and solution D was added by a controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. Potassium hexachloride (III) acid salt was added in a total amount of 10 × 10 −4 mol per mol of silver 10 minutes after the start of addition of Solution C and Solution D. Five seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium hexacyanoferrate (II) was added in an amount of 3 × 10 -4 mol per mol of silver.
The pH was adjusted to 3.8 using 1N sulfuric acid, the stirring was stopped, and a settling / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1N sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.

【0171】上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38
℃に維持して、0.34重量%の1,2-ベンゾイソチアゾリン
-3-オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に後記の
分光増感色素Aのメタノール溶液を銀1モル当たり1×10
-3モル加え、1分後に47℃に昇温した。昇温の20分後に
ベンゼンチオスルフォン酸ナトリウムをメタノール溶液
で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後に
後記のテルル増感剤Bをメタノール溶液で銀1モル当た
り1.9×10-4モル加えて91分間熟成した。N,N'-ジヒドロ
キシ-N"-ジエチルメラミンの0.8重量%メタノール溶液
1.3mlを加え、さらに4分後に、5-メチル-2-メルカプ
トベンヅイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当た
り3.7×10-3モル及び1-フェニル-2-ヘプチル-5-メルカ
プト-1,3,4-トリアゾールをメタノール溶液で銀1モル
に対して4.9×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1
を作成した。調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、
平均球相当径0.046μm、球相当径の変動係数20%の純臭
化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い
1000個の粒子の平均から求めた。この粒子の[100]面比
率は、クベルカムンク法を用いて80%と求められた。
While stirring the above silver halide dispersion, 38
C. and 0.34% by weight of 1,2-benzisothiazoline
5 ml of a methanol solution of -3-one was added, and 40 minutes later, a methanol solution of the spectral sensitizing dye A described below was added to 1 × 10
-3 mol was added, and the temperature was raised to 47 ° C one minute later. Twenty minutes after the temperature was raised, sodium benzenethiosulfonate was added in an amount of 7.6 × 10 −5 mol per mol of silver with a methanol solution. 10 -4 mol was added and the mixture was aged for 91 minutes. 0.8% by weight methanol solution of N, N'-dihydroxy-N "-diethylmelamine
1.3 ml was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was dissolved in a methanol solution at 3.7 × 10 -3 mol per mol of silver and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3. 4.9 × 10 -3 mol of 1,4-triazole was added to 1 mol of silver in a methanol solution to give a silver halide emulsion 1
It was created. The grains in the prepared silver halide emulsion are:
Pure silver bromide particles having an average equivalent spherical diameter of 0.046 μm and a coefficient of variation of equivalent spherical diameter of 20% were obtained. Use an electron microscope to determine particle size, etc.
It was determined from the average of 1000 particles. The [100] plane ratio of these particles was determined to be 80% using the Kubelka-Munk method.

【0172】《ハロゲン化銀乳剤2の調製》ハロゲン化
銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温34℃を49℃
に変更し、溶液Cの添加時間を30分にして、六シアノ鉄
(II)カリウムを除去した以外は同様にして、ハロゲン化
銀乳剤2の調製を行った。ハロゲン化銀乳剤1と同様に
沈殿/脱塩/水洗/分散を行った。更に分光増感色素A
の添加量を銀1モル当たり7.5×10-4モル、テルル増感剤
Bの添加量を銀1モル当たり1.1×10-4モル、1-フェニル
-2-ヘプチル-5-メルカプト-1,3,4-トリアゾールを銀1
モルに対して3.3×10-3モルに変えた以外は乳剤1と同
様にして分光増感、化学増感及び5-メチル-2-メルカプ
トベンヅイミダゾール、1-フェニル-2-ヘプチル-5-メル
カプト-1,3,4-トリアゾールの添加を行い、ハロゲン化
銀乳剤2を得た。ハロゲン化銀乳剤2の乳剤粒子は、平
均球相当径0.080μm、球相当径の変動係数20%の純臭化
銀立方体粒子であった。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion 2 >> In the preparation of Silver Halide Emulsion 1, the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 34 ° C. to 49 ° C.
To 30 minutes, and the addition time of solution C was changed to 30 minutes.
(II) Silver halide emulsion 2 was prepared in the same manner except that potassium was removed. Precipitation / desalting / washing / dispersion was carried out in the same manner as in silver halide emulsion 1. Further, spectral sensitizing dye A
Was added in an amount of 7.5 × 10 -4 mole per mole of silver, and the amount of tellurium sensitizer B was changed in an amount of 1.1 × 10 -4 mole per mole of silver.
2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole with silver 1
Spectral sensitization in the same manner except for changing the 3.3 × 10 -3 mol as Emulsion 1 moles, chemical sensitization and 5-methyl-2-mercapto Ben Uz imidazole, 1-phenyl-2-heptyl-5 Mercapto-1,3,4-triazole was added to obtain a silver halide emulsion 2. Emulsion grains of the silver halide emulsion 2 were pure silver bromide cubic grains having an average equivalent sphere diameter of 0.080 μm and a coefficient of variation of equivalent sphere diameter of 20%.

【0173】《ハロゲン化銀乳剤3の調製》ハロゲン化
銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温34℃を27℃
に変更する以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤3の調
製を行った。また、ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/
脱塩/水洗/分散を行った。分光増感色素Aの固体分散
物(ゼラチン水溶液)の添加量を銀1モル当たり6×10-3
ル、テルル増感剤Bの添加量を銀1モル当たり5.2×10-4
モルに変えた以外は乳剤1と同様にして、ハロゲン化銀
乳剤3を得た。ハロゲン化銀乳剤3の乳剤粒子は、平均
球相当径0.038μm、球相当径の変動係数20%の純臭化銀
立方体粒子であった。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion 3 >> In the preparation of silver halide emulsion 1, the liquid temperature of 34 ° C. during grain formation was changed to 27 ° C.
Silver halide emulsion 3 was prepared in the same manner except that the above was changed. Further, as in the case of the silver halide emulsion 1, the precipitation /
Desalting / water washing / dispersion was performed. The addition amount of the solid dispersion of the spectral sensitizing dye A (aqueous gelatin solution) was 6 × 10 −3 mol per mol of silver, and the addition amount of the tellurium sensitizer B was 5.2 × 10 −4 per mol of silver.
A silver halide emulsion 3 was obtained in the same manner as in the emulsion 1, except that the mole was changed. The emulsion grains of the silver halide emulsion 3 were pure silver bromide cubic grains having an average sphere equivalent diameter of 0.038 μm and a coefficient of variation of the sphere equivalent diameter of 20%.

【0174】《塗布液用混合乳剤Aの調製》ハロゲン化
銀乳剤1を70重量%、ハロゲン化銀乳剤2を15重量%、
ハロゲン化銀乳剤3を15重量%溶解し、ベンゾチアゾリ
ウムヨーダイドを1重量%水溶液にて銀1モル当たり7×
10-3モル添加した。
<< Preparation of mixed emulsion A for coating solution >> Silver halide emulsion 1 was 70% by weight, silver halide emulsion 2 was 15% by weight,
Silver halide emulsion 3 was dissolved at 15% by weight, and benzothiazolium iodide was dissolved in a 1% by weight aqueous solution at a concentration of 7 × per mole of silver.
10 -3 mol was added.

【0175】《還元剤の固体微粒子分散物の調製》還元
剤として1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン10
kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポ
バールMP203)の20重量%水溶液10kgに、水
16kgを添加して、よく混合してスラリーとした。こ
のスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径
0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミ
ル(アイメックス(株)製、UVM−2)にて3時間3
0分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム
塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25重量%にな
るように調製し、還元剤の固体微粒子分散物を得た。こ
うして得られた分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン
径0.42μm、最大粒子径2.0μm以下であった。
得られた分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製
フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収
納した。
<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Reducing Agent >> As a reducing agent, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane 10
kg and 10 kg of a 20% by weight aqueous solution of a modified polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added with 16 kg of water and mixed well to form a slurry. This slurry was sent by a diaphragm pump, and was fed for 3 hours by a horizontal sand mill (UVM-2, manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm.
After dispersing for 0 minute, 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt and water were added to adjust the concentration of the reducing agent to 25% by weight to obtain a solid fine particle dispersion of the reducing agent. The reducing agent particles contained in the dispersion thus obtained had a median diameter of 0.42 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less.
The obtained dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0176】《ホスホリル化合物分散物の調製》ホスホ
リル化合物としてトリフェニルホスフィンオキシド1k
gと、変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポ
バールMP203)の20重量%水溶液1kgに、水
1.6kgを添加したうえでよく混合してスラリーとし
た。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均
直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サン
ドミル(アイメックス(株)製、UVM−2)にて3時
間30分分散したのち、ベゾイソチアゾリノンナトリウ
ム塩0.2と水を加えてホスホリル化合物の濃度が25
重量%になるように調製し、ホスホリル化合物の固体微
粒子分散物を得た。こうして得られた分散物に含まれる
ホスホリル化合物粒子はメジアン径0.45μm、最大
粒径2.0μm以下であった。得られた分散物は孔径1
0.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行
い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of Phosphoryl Compound Dispersion >> Triphenylphosphine oxide 1k was used as a phosphoryl compound.
g of water and 1.6 kg of water were added to 1 kg of a 20% by weight aqueous solution of a modified polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) and mixed well to form a slurry. The slurry was sent by a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2, manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours and 30 minutes, and then sodium bezoisothiazolinone was used. The concentration of the phosphoryl compound was 25 by adding 0.2 salt and water.
% By weight to obtain a solid fine particle dispersion of a phosphoryl compound. The phosphoryl compound particles contained in the dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The resulting dispersion has a pore size of 1.
Filtration was performed with a 0.0 μm polypropylene filter to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0177】《有機ポリハロゲン化合物の25重量%分散
物−2の調製》有機ポリハロゲン化合物の20重量%分散
物−1と同様に、但し、トリブロモメチルナフチルスル
ホン5kgの代わりにトリブロモメチル(4−(2,4,
6−トリメチルフェニルスルホニル)フェニル)スルホ
ン5kgを用い、分散し、この有機ポリハロゲン化合物が2
5重量%となるように希釈し、ろ過を行った。こうして
得た有機ポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリ
ハロゲン化合物粒子はメジアン径0.38μm、最大粒子径
2.0μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物
分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにて
ろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of 25% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-2 >> Similar to 20% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-1, except that 5 kg of tribromomethylnaphthyl sulfone was used instead of tribromomethyl ( 4- (2,4,
5 kg of 6-trimethylphenylsulfonyl) phenyl) sulfone was dispersed and the organic polyhalogen compound was dispersed in 2 kg.
It was diluted to 5% by weight and filtered. The organic polyhalogen compound particles contained in the organic polyhalogen compound dispersion thus obtained have a median diameter of 0.38 μm and a maximum particle size of
It was 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored.

【0178】《有機ポリハロゲン化合物の30重量%分散
物−3の調製》有機ポリハロゲン化合物の20重量%分散
物−1と同様に、但し、トリブロモメチルナフチルスル
ホン5kgの代わりにトリブロモメチルフェニルスルホン5
kgを用い、20重量%MP203水溶液を5kgとし、分散し、こ
の有機ポリハロゲン化合物が30重量%となるように希釈
し、ろ過を行った。こうして得た有機ポリハロゲン化合
物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジ
アン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得ら
れた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリ
プロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物
を除去して収納した。また、収納後、使用までは10℃以
下で保管した。
<< Preparation of 30% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-3 >> Similar to 20% by weight dispersion of organic polyhalogen compound-1, except that 5 kg of tribromomethylnaphthyl sulfone was used instead of tribromomethylphenyl sulfone Sulfone 5
5 kg of a 20% by weight aqueous solution of MP203 was dispersed in 5 kg, diluted with the organic polyhalogen compound so as to have a concentration of 30% by weight, and filtered. The organic polyhalogen compound particles contained in the organic polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust, and stored. After storage, it was stored at 10 ° C or less until use.

【0179】《画像形成層(感光性層)塗布液の調製》
上記で得た顔料の20重量%水分散物を1.1g、有機酸銀分
散物103g、ポリビニルアルコールPVA-205(クラレ(株)
製)の20重量%水溶液5g、上記25重量%還元剤分散物25
g、25重量%ホスホリル化合物分散物9.4g、有機ポリハ
ロゲン化合物分散物-1,-2,-3を5:1:3(重量比)で総量1
6.3g、メルカプト化合物10%分散物6.2g、限外濾過(U
F)精製しpH調整したSBRラテックス40重量%を106g、
フタラジン化合物の5重量%溶液を18mlを添加し、ハロ
ゲン化銀混合乳剤Aを10gをよく混合し、画像形成層塗布
液を調製し、そのままコーティングダイへ70ml/m2とな
るように送液し、塗布に用いた。
<< Preparation of Coating Solution for Image Forming Layer (Photosensitive Layer) >>
1.1 g of a 20% by weight aqueous dispersion of the pigment obtained above, 103 g of a silver salt of an organic acid, polyvinyl alcohol PVA-205 (Kuraray Co., Ltd.)
5 g of a 20% by weight aqueous solution of
g, 25 wt% phosphoryl compound dispersion 9.4 g, organic polyhalogen compound dispersion-1, -2, -3 in a total amount of 5: 1: 3 (weight ratio) of 1
6.3 g, mercapto compound 10% dispersion 6.2 g, ultrafiltration (U
F) 106 g of purified and pH adjusted SBR latex 40% by weight,
18 ml of a 5% by weight solution of a phthalazine compound was added, and 10 g of the silver halide mixed emulsion A was mixed well to prepare a coating solution for the image forming layer. The solution was directly sent to a coating die at 70 ml / m 2. And used for coating.

【0180】《熱現像感光材料の作製》上記の材料を用
いた点を除いて実施例1と同じ方法で熱現像感光材料の
試料202を調製した。上記により作製した試料202
において、還元剤の種類と使用量およびホスホリル化合
物の使用量を表2に示したように変更し、試料201、
203〜218を作製した。また、還元剤およびホスホ
リル化合物の種類および使用量を表3に示したように変
更し、試料301〜316を作製した。試料202とは
異なる還元剤を用いて試料を調製する際は、上記還元剤
の25%分散物に用いた1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジ
メチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサンのかわりに
新たな還元剤を用いて調製した。画像保存性の評価は、
熱現像後の感光材料を60℃、相対湿度50%の条件下
で1日間保存し、その前後での白地部の濃度変化ΔDm
inを測定して行った。その結果を表2および3に示し
た。
<< Preparation of Photothermographic Material >> A photothermographic material sample 202 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above-mentioned materials were used. Sample 202 prepared as described above
In the above, the type and amount of the reducing agent and the amount of the phosphoryl compound used were changed as shown in Table 2, and the sample 201,
203 to 218 were produced. Further, the types and amounts of the reducing agent and the phosphoryl compound were changed as shown in Table 3, and samples 301 to 316 were produced. When preparing a sample using a reducing agent different from sample 202, the 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5 It was prepared using a new reducing agent instead of 5-trimethylhexane. Evaluation of image preservation is
The photosensitive material after the heat development is stored at 60 ° C. and a relative humidity of 50% for one day, and the density change ΔDm of the white background before and after the storage.
in was measured. The results are shown in Tables 2 and 3.

【0181】《写真性能の評価》富士メディカルドライ
レーザーイメージャーFM−DP L(最大60mW(IIIB)
出力の660nm半導体レーザー搭載)にて写真材料を露光
・熱現像(約120℃)し、得られた画像の評価を濃度計に
より行った。その結果を表2および3に示した。
<< Evaluation of Photo Performance >> Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DP L (Max. 60 mW (IIIB)
The photographic material was exposed and thermally developed (about 120 ° C.) with an output of 660 nm semiconductor laser, and the obtained image was evaluated with a densitometer. The results are shown in Tables 2 and 3.

【0182】[0182]

【表2】 [Table 2]

【0183】[0183]

【表3】 [Table 3]

【0184】表2より明らかなように、一般式(I)の
還元剤に対して、分子内にホスホリル基を有する化合物
を併用することで、現像濃度(Dmax)をほとんど低
下させることなく、熱現像処理後のカブリ(Dmin)
を抑制することができ、かつ、画像保存後のDminの
上昇を大幅に低減することができる。(I−3)と(I
―4)は高活性であるため、表2にあるように使用量を
大幅に低減することが可能である。このような高活性の
還元剤はカブリが大きく、処理後の画像安定性も劣って
いるが、本発明にしたがってホスホリル化合物を併用す
ることで、カブリを抑制すると同時に、処理後の画像安
定性を大幅に改良することができる。また、表3から
も、還元剤とホスホリル化合物の組み合わせが、カブリ
の抑制、画像保存性の改良に有効なことが明らかであ
る。
As is clear from Table 2, by using a compound having a phosphoryl group in the molecule in combination with the reducing agent of the general formula (I), the development density (Dmax) was hardly reduced, and Fog after development (Dmin)
Can be suppressed, and the rise of Dmin after image storage can be significantly reduced. (I-3) and (I
-4) is highly active, and as shown in Table 2, the amount used can be significantly reduced. Such a highly active reducing agent has large fog and poor image stability after processing.However, by using a phosphoryl compound according to the present invention, fog is suppressed and simultaneously image stability after processing is reduced. It can be greatly improved. Table 3 also shows that the combination of the reducing agent and the phosphoryl compound is effective for suppressing fog and improving image storability.

【0185】(実施例3)実施例3で用いた化合物の構
造を以下に示す。
Example 3 The structure of the compound used in Example 3 is shown below.

【化38】 Embedded image

【0186】[0186]

【化39】 Embedded image

【0187】[0187]

【化40】 Embedded image

【0188】《PET支持体の作製》テレフタル酸とエ
チレングリコールを用い、常法に従って、固有粘度IV
=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4
(重量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペ
レット化して130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融
後、T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が
120μmになるような厚さの未延伸フィルムを作成し
た。これを、周速の異なるロ−ルを用い、3.3倍に縦
延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。
この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定し、これと同じ
温度で横方向に4%緩和した。この後、テンタ−のチャ
ック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、
4.8kg/cm2で巻き取り、幅2.4m、長さ35
00m、厚さ120μmのロ−ル状のPET支持体を作
製した。
<< Preparation of PET Support >> Using terephthalic acid and ethylene glycol, the intrinsic viscosity IV
= 0.66 (phenol / tetrachloroethane = 6/4
(Measured at 25 ° C. in (weight ratio)). This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and quenched to prepare an unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting. This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter.
The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, heat set was performed at 240 ° C. for 20 seconds, and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends,
Wind at 4.8 kg / cm 2 , width 2.4m, length 35
A roll-shaped PET support having a thickness of 00 m and a thickness of 120 μm was prepared.

【0189】《下塗塗布》上で得られたPET支持体の
両面に、下記の組成の下塗り層(a)と下塗り層(b)
を順次塗布し、それぞれ180℃で4分間乾燥した。乾
燥後の下塗り層(a)の厚さは2.0μmであった。 (1)下塗り層(a)組成 ポリマーラテックス(ア) 固形分量として 3.0g/m2 (コア部90重量%、シェル部10重量%のコアシェルタイプの ポリマーラテックス コア部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/ アクリロニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(重量%) シェル部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/ アクリロニトリル/アクリル酸=88/3/3/3/3(重量%) 重量平均分子量38000) 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジン 23mg/m2 マット剤 1.5mg/m2 (ポリスチレン;平均粒子径2.4μm) (2)下塗り層(b)組成 脱イオン処理ゼラチン 50mg/m2 (Ca2+含量0.6ppm;ゼリー強度230g)
<< Undercoating >> On both sides of the PET support obtained above, an undercoating layer (a) and an undercoating layer (b) having the following compositions
Were sequentially applied and dried at 180 ° C. for 4 minutes. The thickness of the undercoat layer (a) after drying was 2.0 μm. (1) Composition of undercoat layer (a) Polymer latex (A) Solid content of 3.0 g / m 2 (core-shell type polymer latex having 90% by weight of core and 10% by weight of shell) Core: vinylidene chloride / methyl acrylate / Methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 93/3/3 / 0.9 / 0.1 (% by weight) Shell part: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3 / 3 (weight%) weight average molecular weight 38000) 2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine 23 mg / m 2 matting agent 1.5 mg / m 2 (polystyrene; average particle diameter 2.4 μm) (2) Undercoat layer (B) Composition Deionized gelatin 50 mg / m 2 (Ca 2+ content 0.6 ppm; jelly strength 230g)

【0190】《バック層の形成》上で得られた2層の下
塗りを施したPET支持体の片面に、下記の導電層と保
護層を順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥し
て、バック層を形成した。 (1)導電層組成 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(分子量約10000、Ca2+含量30ppm) 42mg/m2 脱イオン処理ゼラチン(Ca2+含量0.6ppm) 8mg/m2 化合物G 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM−3 18mg/m2 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 染料A 783nmの光学濃度が1.2になる塗布量 SnO2/Sb 160mg/m2 (9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30、石原産業(株)製) マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2
<< Formation of Back Layer >> The following conductive layer and protective layer are sequentially coated on one side of the two-layer undercoated PET support obtained above, and dried at 180 ° C. for 4 minutes, respectively. A back layer was formed. (1) Composition of conductive layer Jurimar ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 alkali-treated gelatin (molecular weight: about 10,000, Ca 2+ content 30 ppm) 42 mg / m 2 deionized gelatin (Ca 2+ content) 0.6 mg) 8 mg / m 2 Compound G 0.2 mg / m 2 Polyoxyethylene phenyl ether 10 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 18 mg / m 2 (water-soluble melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Dye A Coating amount to give an optical density of 783 nm of 1.2 SnO 2 / Sb 160 mg / m 2 (9/1 weight ratio, needle-like fine particles, major axis / minor axis = 20-30, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) Methyl methacrylate, average particle size 5 μm) 7 mg / m 2

【0191】 (2)保護層組成 ポリマーラテックス(イ) 固形分量として1000mg/m2 (メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体)) ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中京油脂(株)) 25mg/m2 スミテックスレジンM−3 218mg/m2 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製)(2) Composition of protective layer Polymer latex (a) 1000 mg / m 2 as solid content (methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (% By weight of copolymer)) Polystyrene sulfonate (molecular weight: 1,000 to 5,000) 2.6 mg / m 2 cellosol 524 (Chukyo Yushi Co., Ltd.) 25 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 218 mg / m 2 (water soluble) Melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)

【0192】《搬送熱処理》 (1)熱処理 上で得られた下塗り及びバック層を施したPET支持体
を、160℃に設定した全長200mの熱処理ゾーンに
入れ、張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で搬送
し、熱処理を施した。 (2)後熱処理 熱処理に引き続き、40℃のゾーンに15秒間通して後
熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力は1
0kg/cm2であった。
<< Transportation Heat Treatment >> (1) Heat Treatment The undercoated and backed PET support obtained above was put into a heat treatment zone having a total length of 200 m set at 160 ° C., a tension of 3 kg / cm 2 , and a transfer speed of 20 m. / Min and heat treated. (2) Post-heat treatment After the heat treatment, post-heat treatment was performed by passing through a zone at 40 ° C for 15 seconds, and the film was wound. The winding tension at this time is 1
It was 0 kg / cm 2 .

【0193】《画像形成層塗布液の調製》 (1)有機酸銀分散物の調製 ヘンケル社製ベヘン酸(製品名EdenorC22-85R)
87.6g、蒸留水423ml、5N−NaOH水溶液
49.2ml、およびtert−ブチルアルコール120m
lを混合し、75℃で1時間攪拌して反応させ、ベヘン
酸ナトリウム溶液を得た。別に、硝酸銀40.4gを含
む水溶液206.2mlを用意し、10℃に保温した。
蒸留水635mlとtert-ブチルアルコール30mlを
入れた反応容器を30℃に保温し、攪拌しながら先のベ
ヘン酸ナトリウム溶液および硝酸銀水溶液を流量一定で
それぞれ62分10秒と60分かけて添加した。この
時、硝酸銀水溶液の添加開始から7分20秒間は硝酸銀
水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナ
トリウム溶液の添加を開始し、硝酸銀水溶液の添加終了
から9分30秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加
されるようにした。この時の反応容器内の温度は30℃
とし、液温度が上がらないようにコントロールした。ま
た、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、スチー
ムトレースにより保温し、添加ノズル先端の出口の液温
度が75℃になるようにスチーム量をコントロールし
た。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外
側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナ
トリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は攪
拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触
しないような高さに調節した。ベヘン酸ナトリウム溶液
を添加終了後、そのままの温度で20分間攪拌放置し、
25℃に降温した。その後、吸引濾過で固形分を濾別
し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになるまで
水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させないで
ウエットケーキとして保管した。
<< Preparation of Image Forming Layer Coating Solution >> (1) Preparation of Organic Acid Silver Dispersion Behenic acid manufactured by Henkel (product name: Edenor C22-85R)
87.6 g, distilled water 423 ml, 5N-NaOH aqueous solution 49.2 ml, and tert-butyl alcohol 120 m
were mixed and reacted at 75 ° C. for 1 hour with stirring to obtain a sodium behenate solution. Separately, 206.2 ml of an aqueous solution containing 40.4 g of silver nitrate was prepared and kept at 10 ° C.
A reaction vessel containing 635 ml of distilled water and 30 ml of tert-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and the above-mentioned sodium behenate solution and silver nitrate aqueous solution were added at a constant flow rate over 62 minutes, 10 seconds and 60 minutes, respectively, with stirring. At this time, only the aqueous silver nitrate solution was added for 7 minutes and 20 seconds from the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution was started. Only the solution was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C.
And the solution temperature was controlled so as not to rise. Further, the piping of the addition system of the sodium behenate solution was kept warm by steam tracing, and the amount of steam was controlled so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle became 75 ° C. The piping of the silver nitrate aqueous solution addition system was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically with respect to the stirring axis, and were adjusted to a height such that they did not come into contact with the reaction solution. After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture is left to stir at the same temperature for 20 minutes,
The temperature was lowered to 25 ° C. Then, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid thus obtained was stored as a wet cake without drying.

【0194】得られたベヘン酸銀の粒子の形態を電子顕
微鏡撮影により評価したところ、平均投影面積径0.5
2μm、平均粒子厚み0.14μm、平均球相当径の変
動係数15%の鱗片状の結晶であった。乾燥固形分10
0g相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコー
ル(商品名:PVA-217、平均重合度:約1700)7.4g
および水を添加し、全体量を385gとしてからホモミ
キサーにて予備分散した。次に予備分散済みの原液を分
散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−110S−
EH、マイクロフルイデックス・インターナショナル・
コーポレーション製、G10Zインタラクションチャン
バー使用)の圧力を1750kg/cm2に調節して、
三回処理し、有機酸銀分散物としてベヘン酸銀分散物を
得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチ
ャンバーの前後にそれぞれ装着し、冷媒の温度を調節す
ることで所望の分散温度に設定した。こうして得たベヘ
ン酸銀分散物に含まれるベヘン酸銀粒子は、体積加重平
均直径0.52μm、変動係数15%であった。粒子サ
イズの測定は、Malvern Instruments Ltd.製MasterSize
rXにて行った。また電子顕微鏡撮影により評価すると、
長辺と短辺の比が1.5、粒子厚み0.14μm、平均
アスペクト比(粒子の投影面積の円相当径と粒子厚みの
比)が5.1であった。
The morphology of the obtained silver behenate grains was evaluated by electron microscopic photographing.
It was a flaky crystal having a particle size of 2 μm, an average particle thickness of 0.14 μm, and a coefficient of variation of the average equivalent sphere diameter of 15%. Dry solid content 10
For a wet cake equivalent to 0 g, 7.4 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217, average degree of polymerization: about 1700)
And water were added to make the total amount 385 g, and the mixture was pre-dispersed with a homomixer. Next, the pre-dispersed stock solution is dispersed in a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-
EH, Microfluidics International
The pressure of the G10Z interaction chamber manufactured by Corporation was adjusted to 1750 kg / cm 2 ,
After three treatments, a silver behenate dispersion was obtained as a silver salt of an organic acid. The cooling operation was performed by installing a coiled heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a desired dispersion temperature. The silver behenate particles contained in the silver behenate dispersion thus obtained had a volume-weighted average diameter of 0.52 μm and a coefficient of variation of 15%. The particle size is measured using MasterSize from Malvern Instruments Ltd.
Performed at rX. When evaluated by electron microscopy,
The ratio of the long side to the short side was 1.5, the grain thickness was 0.14 μm, and the average aspect ratio (the ratio of the circle equivalent diameter of the projected area of the grain to the grain thickness) was 5.1.

【0195】(2)感光性ハロゲン化銀乳剤の調製 水700mlに、アルカリ処理ゼラチン(カルシウム含
有量として2700ppm以下)11g、臭化カリウム30m
gおよびベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを
溶解し、温度40℃でpHを5.0に調製した後、硝酸
銀18.6gを含む水溶液159mlと、臭化カリウム
を1モル/リットル、(NH42RhCl 5(H2O)を5
×10-6モル/リットルおよびK3IrCl6を2×10
-5モル/リットル含む水溶液とを、pAgを7.7に保
ちながらコントロールダブルジェット法で6分30秒間
かけて添加した。続いて、硝酸銀55.5gを含む水溶
液476mlと、臭化カリウムを1モル/リットル及び
3IrCl6を2×10-5モル/リットル含む水溶液と
を、pAgを7.7に保ちながらコントロールダブルジ
ェット法で28分30秒間かけて添加した。その後pH
を下げて凝集沈降させて脱塩処理をし、化合物Aを0.
17g、および平均分子量1万5千の低分子量ゼラチン
(カルシウム含有量として20ppm以下)51.1gを加
え、pH5.9、pAg8.0に調製した。得られた粒
子は平均粒子サイズ0.08μm、投影面積変動係数9
%、(100)面比率90%の立方体粒子であった。得ら
れた感光性ハロゲン化銀粒子を60℃に昇温し、ベンゼ
ンチオスルホン酸ナトリウムを銀1モル当たり76μモ
ル添加し、3分後にトリエチルチオ尿素71μモルを添
加して、100分間熟成した。その後、4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを
5×10-4モル加え、40℃に降温した。40℃に温度
を保ち、増感色素Aを感光性ハロゲン化銀1モルに対し
て12.8×10-4モル、化合物Bを感光性ハロゲン化
銀1モルに対して6.4×10-3モルを攪拌しながら添
加し、20分後に30℃に急冷して、感光性ハロゲン化
銀乳剤を調製した。
(2) Preparation of photosensitive silver halide emulsion In 700 ml of water, alkali-treated gelatin (containing calcium) was added.
11 g, potassium bromide 30 m
g and sodium benzenethiosulfonate 10 mg
After dissolving and adjusting the pH to 5.0 at a temperature of 40 ° C.,
159 ml of an aqueous solution containing 18.6 g of silver and potassium bromide
1 mol / liter, (NHFour)TwoRhCl Five(HTwoO) 5
× 10-6Mol / l and KThreeIrCl6Is 2 × 10
-FiveThe pAg of the aqueous solution containing mol / liter is maintained at 7.7.
6 minutes and 30 seconds by control double jet method
And added. Subsequently, an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate
476 ml of liquid, 1 mol / l of potassium bromide and
KThreeIrCl6Is 2 × 10-FiveWith an aqueous solution containing moles / liter
While controlling pAg at 7.7.
It was added over a period of 28 minutes and 30 seconds by the wet method. Then pH
, And the mixture was subjected to desalination by coagulation and sedimentation.
17 g, and low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 15,000
(Calculated as a calcium content of 20 ppm or less)
The pH was adjusted to 5.9 and pAg to 8.0. Grains obtained
Have an average grain size of 0.08 μm and a projected area variation coefficient of 9
%, (100) face ratio of 90%. Get
The photosensitive silver halide grains thus obtained are heated to 60 ° C.
Sodium thiosulfonate at 76 μm
3 minutes later, 71 μmol of triethylthiourea was added.
And aged for 100 minutes. Then, 4-hydroxy
-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene
5 × 10-FourMol was added, and the temperature was lowered to 40 ° C. Temperature to 40 ° C
And sensitizing dye A is used per mole of photosensitive silver halide.
12.8 × 10-FourMole, photosensitive halogenated compound B
6.4 × 10 per mole of silver-3Add mole while stirring
After 20 minutes, the mixture is rapidly cooled to 30 ° C.
A silver emulsion was prepared.

【0196】(3)超硬調化剤の固体微粒子分散物の調
製 超硬調化剤(造核剤A)10gに、ポリビニルアルコー
ル(クラレ製PVA-217)2.5gおよび水87.5gを
添加してよく攪拌し、スラリーとして3時間放置した。
その後、0.5mmのジルコニアビーズ240gをスラ
リーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラ
インダーミル:アイメックス(株)製)で10時間分散
し、超硬調化剤の固体微粒子分散物を調製した。粒子径
は、粒子の80重量%が0.1〜1.0μmで、平均粒
径は0.5μmであった。
(3) Preparation of solid fine particle dispersion of ultra-high contrast agent 2.5 g of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-217) and 87.5 g of water were added to 10 g of the ultra-high contrast agent (nucleating agent A). The mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours.
Thereafter, 240 g of 0.5 mm zirconia beads were put into the vessel together with the slurry, and dispersed for 10 hours with a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by Imex Co., Ltd.) to obtain a solid fine particle dispersion of a super-high contrast agent. Prepared. As for the particle diameter, 80% by weight of the particles was 0.1 to 1.0 μm, and the average particle diameter was 0.5 μm.

【0197】(4)還元剤の固体微粒子分散物の調製 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン25gに、ク
ラレ(株)製MPポリマーのMP-203の20重量%水溶液
を25g、日信化学(株)製サフィノール104Eを0.1
g、メタノール2gおよび水48mlを添加してよく撹
拌し、スラリーとして3時間放置した。その後、1mm
のジルコニアビーズ360gをスラリーと一緒にベッセ
ルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:ア
イメックス(株)製)で3時間分散し、還元剤の固体微
粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80重量%が
0.3〜1.0μmであった。
(4) Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Reducing Agent 25 g of 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane was mixed with MP manufactured by Kuraray Co., Ltd. 25 g of a 20% by weight aqueous solution of polymer MP-203 and 0.1 g of Safinol 104E manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.
g, 2 g of methanol and 48 ml of water were added, stirred well, and left as a slurry for 3 hours. Then 1mm
Of zirconia beads was placed in a vessel together with the slurry, and dispersed with a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 3 hours to prepare a solid fine particle dispersion of a reducing agent. As for the particle diameter, 80% by weight of the particles was 0.3 to 1.0 μm.

【0198】(5)ポリハロゲン系化合物分散物分散物
の調製 ポリハロゲン系化合物−A30gに、クラレ(株)製M
PポリマーのMP-203を4g、化合物Cを0.25gおよ
び水66gを添加してよく撹拌し、スラリーとした。
0.5mmのジルコニアシリケートビーズ200gをス
ラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/16Gサンド
グラインダーミル:アイメックス(株)製)で5時間分
散し、ポリハロゲン系化合物分散物−A分散物を調製し
た。粒子径は、粒子の80重量%が0.3〜1.0μm
であった。ポリハロゲン化合物−Bについてもポリハロ
ゲン化合物−Aと同様に固体微粒子分散物を調製し、同
様な粒子径となった。
(5) Preparation of polyhalogen compound dispersion A dispersion of polyhalogen compound-A (30 g) was added to M
4 g of P-polymer MP-203, 0.25 g of compound C and 66 g of water were added, and the mixture was stirred well to form a slurry.
200 g of 0.5 mm zirconia silicate beads were put into a vessel together with the slurry, and dispersed for 5 hours with a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill: manufactured by Imex Co., Ltd.) to obtain a polyhalogen compound dispersion-A dispersion. Prepared. As for the particle diameter, 80% by weight of the particles are 0.3 to 1.0 μm.
Met. For polyhalogen compound-B, a solid fine particle dispersion was prepared in the same manner as for polyhalogen compound-A, and had the same particle diameter.

【0199】(6)亜鉛化合物の固体微粒子分散物の調
製 化合物Z30gに、クラレ(株)製MPポリマーのMP-2
03を3gおよび水87mlを添加してよく攪拌し、スラ
リーとして3時間放置した。その後、上記(4)の還元
剤の固体微粒子分散物の調製と同様に操作して、亜鉛化
合物(化合物Z)の固体微粒子分散物を調製した。粒子
径は、粒子の80重量%が0.3〜1.0μmであっ
た。
(6) Preparation of dispersion of solid fine particles of zinc compound To 30 g of compound Z was added MP-2 of MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd.
3g and 87ml of water were added, and the mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, the same operation as in the preparation of the solid fine particle dispersion of the reducing agent in the above (4) was performed to prepare a solid fine particle dispersion of a zinc compound (compound Z). As for the particle diameter, 80% by weight of the particles was 0.3 to 1.0 μm.

【0200】(7)画像形成層塗布液の調製 上記(1)で調製した有機酸銀(ベヘン酸銀)分散物中
の銀1モルに対して、以下の成分を添加し、水を加え
て、画像形成層塗布液を調製した。 (2)で得た感光性ハロゲン化銀乳剤 Ag量として0.05モル (3)で得た造核剤の固体微粒子分散物 固形分として17.1g (4)で得た還元剤の固体微粒子分散物 固形分として166g (5)で得たポリハロゲン系化合物分散物−A 固形分として0.06モル (5)で得たポリハロゲン系化合物分散物−B 固形分として0.02モル (6)で得た亜鉛化合物の固体微粒子分散物 固形分として10.5g バインダー:ラックスター3307B 固形分として470g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) エタンチオスルホン酸ナトリウム 2.2ミリモル 5−メチルベンゾトリアゾール 1.36g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA-235) 12.1g 6−イソプロピルフタラジン 16.5g オルトりん酸二水素ナトリウム・2水和物 0.37g 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量(目安として0.50g)
(7) Preparation of Image Forming Layer Coating Solution The following components were added to 1 mol of silver in the organic acid silver (silver behenate) dispersion prepared in the above (1), and water was added. To prepare a coating solution for the image forming layer. Photosensitive silver halide emulsion obtained in (2) 0.05 mol as Ag amount Solid fine particle dispersion of nucleating agent obtained in (3) 17.1 g as solid content Solid fine particles of reducing agent obtained in (4) Dispersion 166 g of solid content as polyhalogen compound dispersion obtained in (5) -A 0.06 mol as solid content Polyhalogen compound dispersion as obtained in (5) -B 0.02 mol as solid content (6 ) Solid dispersion of zinc compound obtained in step 1) Solid content: 10.5 g Binder: Luckstar 3307B Solid content: 470 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) ethanethiosulfonic acid Sodium 2.2 mmol 5-methylbenzotriazole 1.36 g Polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd. PVA-235) 12.1 g 6-isopropylphthalazine 16.5 g The coating amount of optical density of 0.3 of sodium belt dihydrogen phosphate dihydrate 0.37g Dye A 783 nm (0.50 g as a guide)

【0201】《画像形成面の保護層塗布液の調製》 (1)画像形成面の保護層(a)塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシル
アクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/
アクリル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2
(重量%)の粒子径120nmのポリマーラテックス溶
液(共重合体でガラス転移温度57℃、固形分濃度2
1.5重量%、造膜助剤として化合物Dをラテックスの
固形分に対して15重量%含有)956gに水を加え、
化合物Eを1.62g、化合物Sを3.15g、マット
剤(ポリスチレン粒子、平均粒径7μm、平均粒径の変
動係数8%)1.98gおよびポリビニルアルコール
(クラレ(株)製,PVA-235)23.6gを加え、さら
に水を加えて、画像形成面の保護層(a)塗布液を調製
した。
<< Preparation of Coating Solution for Protective Layer on Image Forming Surface >> (1) Preparation of Coating Solution for Protective Layer on Image Forming Surface (a) Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate /
Acrylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2
(Weight%) of a polymer latex solution having a particle diameter of 120 nm (copolymer having a glass transition temperature of 57 ° C. and a solid content of 2)
Water was added to 956 g of 1.5% by weight, containing Compound D as a film-forming auxiliary (15% by weight based on the solid content of the latex),
1.62 g of compound E, 3.15 g of compound S, 1.98 g of matting agent (polystyrene particles, average particle diameter 7 μm, coefficient of variation of average particle diameter 8%) and polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-235) 23.6 g) and water were further added to prepare a coating solution for the protective layer (a) on the image forming surface.

【0202】(2)画像形成面の保護層(b)塗布液の
調製 メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシル
アクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/
アクリル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2
(重量%)の粒子径70nmのポリマーラテックス溶液
(共重合体でガラス転移温度54℃、固形分濃度21.
5重量%、造膜助剤として(6−1)で示した化合物D
をラテックスの固形分に対して15重量%含有)630
gに水を加え、カルナヴァワックス(中京油脂(株)
製、セロゾール524)30重量%溶液6.30gを加え
た。さらに、上記(1)に記載の化合物Eを0.72
g、化合物Fを7.95g加え、上記化合物Sを0.9
0g、マット剤(ポリスチレン粒子、平均粒径7μm)
1.18gおよびポリビニルアルコール(クラレ(株)
製,PVA-235)8.30gを加え、さらに水を加えて、
画像形成面の保護層(b)塗布液を調製した。
(2) Protective layer for image forming surface (b) Preparation of coating solution Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate /
Acrylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2
(Weight%) of a polymer latex solution having a particle diameter of 70 nm (copolymer, glass transition temperature: 54 ° C, solid content: 21.
5% by weight, compound D represented by (6-1) as a film-forming aid
15% by weight based on the solid content of the latex) 630
g water and add carnava wax (Chukyo Yushi Co., Ltd.)
6.30 g of a 30% by weight solution of Cellosol 524). Further, the compound E described in the above (1) was added to 0.72
g and 7.95 g of compound F, and 0.9 g of compound S was added.
0 g, matting agent (polystyrene particles, average particle size 7 μm)
1.18 g and polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd.)
8.30 g, PVA-235) and water.
A coating solution for the protective layer (b) on the image forming surface was prepared.

【0203】《熱現像感光材料の作製》上で得られた搬
送熱処理を施したPET支持体の、バック層を施した面
の反対側、即ち下塗り層(a)および下塗り層(b)を
塗布した上に、画像形成層塗布液を、塗布銀量が1.6
g/m2になるように、さらにその上に、画像形成面の
保護層(a)塗布液を、ポリマーラテックスの固形分塗
布量が1.31g/m2になるように、同時重層塗布し
た。その後で、その上に画像形成面の保護層(b)塗布
液を、ポリマーラテックスの固形分塗布量が3.02g
/m2になるように塗布し、熱現像感光材料を作製し
た。得られた熱現像感光材料の画像形成側の膜面pHは
4.9であり、ベック平滑度は660秒であり、反対側
の膜面pHは5.9、ベック平滑度は560秒であっ
た。
<< Preparation of Photothermographic Material >> The opposite side of the backing-coated surface of the PET support subjected to the heat treatment for transportation obtained above, that is, the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are applied. Then, the coating solution for the image forming layer was coated with a coating silver amount of 1.6.
g / m 2, and a coating solution for the protective layer (a) on the image forming surface was simultaneously coated thereon so that the solid content of the polymer latex was 1.31 g / m 2 . . Thereafter, the coating solution for the protective layer (b) on the image forming surface was coated thereon, and the solid content of the polymer latex was 3.02 g.
/ M 2 to produce a photothermographic material. The film surface pH on the image forming side of the obtained photothermographic material was 4.9, the Beck smoothness was 660 seconds, the film surface pH on the opposite side was 5.9, and the Beck smoothness was 560 seconds. Was.

【0204】前記試料とほぼ同等の現像濃度を与えるよ
うにフェノール系還元剤(一般式(I)の化合物)と一
般式(II)、(III)、(IV)、(V)の化合物種類及
び塗設量を実施例1と同様に変更して調整した試料を作
製し、画像保存性の評価を行った。
The phenolic reducing agent (compound of the general formula (I)) and the compounds of the general formulas (II), (III), (IV), (V) and Samples were prepared by changing the amount of coating in the same manner as in Example 1, and the image storability was evaluated.

【0205】《評価》 (1)露光処理 熱現像感光材料を、ビーム径(ビーム強度の1/2のFW
HM)12.56μm、レーザー出力50mW、出力波
長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャンネル
円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラーの回
転数を変化させることにより露光時間を、出力値を変え
ることにより露光量を調整し、2×10 -8秒間露光し
た。この時のオーバーラップ係数は0.449であっ
た。 (2)熱現像処理 上記の(1)で得られた露光済みの熱現像感光材料に、
図1に示した熱現像機を用いて熱現像処理を行った。即
ち、熱現像処理部のローラー表面材質にはシリコンゴ
ム、平滑面にはテフロン(登録商標)不織布を用い、搬
送の線速度20mm/秒で、予備加熱部90〜110℃
で15秒(予備加熱部と熱現像処理部の駆動系は独立し
ており、熱現像部との速度差は-0.5%〜-1%に設定)、熱
現像処理部120℃で20秒、徐冷部15秒で熱現像処
理を行った。なお、幅方向の温度精度は±1℃であっ
た。
<< Evaluation >> (1) Exposure Processing The photothermographic material was exposed to a beam having a beam diameter (FW of 1/2 of the beam intensity).
HM) 12.56 μm, laser output 50 mW, output wave
Single channel equipped with 783nm long semiconductor laser
Use a cylindrical inner surface laser exposure device to rotate the mirror.
Change the exposure time and output value by changing the number of turns.
The exposure amount is adjusted by -8Exposure for seconds
Was. The overlap coefficient at this time was 0.449.
Was. (2) Heat development treatment The exposed heat-developable photosensitive material obtained in the above (1) is
The heat development processing was performed using the heat developing machine shown in FIG. Immediately
The surface material of the roller in the heat development processing part is silicon rubber.
Teflon (registered trademark) non-woven fabric is used for the
At a linear speed of 20 mm / sec, pre-heating unit 90-110 ° C
15 seconds (The drive systems of the preheating unit and the heat development processing unit are independent
And the speed difference with the heat development section is set to -0.5% to -1%)
Developing part at 120 ° C. for 20 seconds, slow cooling part at 15 seconds
Was done. Note that the temperature accuracy in the width direction is ± 1 ° C.
Was.

【0206】(3)暗熱画像保存性評価 露光・現像した熱現像感光材料を、実施例1と同様に評
価した。その結果、比較例に比べ、本発明の熱現像感光
材料は優れた性能を示すことが明らかであり、超硬調な
熱現像感光材料でも実施例1と同様の優れた画像保存性
を持つことが判明した。
(3) Evaluation of Storage Property for Dark Thermal Image The exposed and developed photothermographic material was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, it is apparent that the photothermographic material of the present invention exhibits excellent performance as compared with the comparative example, and that the photothermographic material having a super-high contrast has the same excellent image storability as in Example 1. found.

【0207】(実施例4)実施例1の試料102の化合
物(II−2)を等モル量の表4に記載の化合物に置き
換えて、14種類の熱現像感光材料を調製した。各熱現
像感光材料について、実施例1と同様に画像保存性(△
Dmin)の評価を行った。結果を表4に示す。
Example 4 14 kinds of photothermographic materials were prepared by replacing the compound (II-2) of the sample 102 of Example 1 with an equimolar amount of the compound shown in Table 4. For each photothermographic material, the image storability (性
Dmin). Table 4 shows the results.

【0208】[0208]

【表4】 [Table 4]

【0209】オルト位に置換基を有するフェニル基を有
するホスホリル化合物を使用した場合に、優れた画像保
存性を示した。
When a phosphoryl compound having a phenyl group having a substituent at the ortho position was used, excellent image storability was exhibited.

【0210】[0210]

【発明の効果】フェノール系還元剤と、水素結合形成速
度定数Kfが20〜4000であるか、あるいは一般式
(II)(III)(IV)(V)の化合物またはホスホリル
基を有する化合物とを併用することにより、現実的な反
応温度、反応時間内で十分な画像濃度を与え、かつ、現
像処理後に暗所保存したときの白地の着色を十分に抑制
しうる熱現像感光材料を提供することが可能になった。
EFFECTS OF THE INVENTION A phenolic reducing agent and a compound having a hydrogen bond formation rate constant Kf of 20 to 4000 or a compound of the general formula (II) (III) (IV) (V) or a compound having a phosphoryl group To provide a photothermographic material capable of giving a sufficient image density within a realistic reaction temperature and reaction time by being used in combination and sufficiently suppressing coloring of a white background when stored in a dark place after development processing. Is now possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施例で用いた熱現像機の構成を示す側面図
である。
FIG. 1 is a side view illustrating a configuration of a heat developing machine used in an embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 熱現像画像記録材料 11 搬入ローラー 12 搬出ローラー 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷却部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Thermal development image recording material 11 Carry-in roller 12 Carry-out roller 13 Roller 14 Smooth surface 15 Heater 16 Guide plate A Preheating part B Thermal development part C Slow cooling part

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体の一方面上に、感光性ハロゲン化
銀、非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤及びバ
インダーを含有する熱現像感光材料において、該還元剤
としてフェノール化合物の少なくとも一種と、下記Aお
よびBの少なくとも一方の条件を満たす化合物の少なく
とも1種を組み合わせて含有することを特徴とする熱現
像感光材料。 A: 水素結合形成速度定数Kfが20〜4000であ
ること B: 下記一般式(II)、(III)、(IV)または(V)
で表される構造を有するか、分子内にホスホリル基を有
すること 【化1】 (一般式(II)において、R21及びR22はそれぞれ独立
にアルキル基を表し、R 23はアルキル基、アリール基ま
たは複素環基を表す。R21、R22及びR23から選択され
る2以上はそれぞれ互いに連結して環を形成しても良
い。一般式(III)において、R31及びR32はそれぞれ
独立にアルキル基、アリール基または複素環基を表す。
31及びR32は互いに連結して環を形成しても良い。一
般式(IV)において、R41及びR42はそれぞれ独立にア
ルキル基、アリール基または複素環基を表す。R43はア
ルキル基、アリール基、複素環基又は−N(R44)(R
45)を表す。R44及びR45はそれぞれ独立にアルキル
基、アリール基又は複素環基を表す。R41、R42
43、R44及びR45から選択される2以上はそれぞれ互
いに連結して環を形成しても良い。一般式(V)におい
て、R51、R52、R53、R54及びR55はそれぞれ独立に
水素原子または置換基を表す。R51、R52、R53、R54
及びR55から選択される2以上はそれぞれ互いに連結し
て環を形成しても良い。)
1. A photosensitive halide on one surface of a support.
Silver, non-photosensitive organic silver salts, reducing agents and
In the photothermographic material containing indder, the reducing agent
And at least one of the phenolic compounds
Less compounds satisfying at least one of the conditions
Characterized by containing a combination of two types
Image-sensitive material. A: Hydrogen bond formation rate constant Kf is 20 to 4000
B: The following general formula (II), (III), (IV) or (V)
Or has a phosphoryl group in the molecule.
To do(In the general formula (II), Rtwenty oneAnd Rtwenty twoAre independent
Represents an alkyl group; twenty threeRepresents an alkyl group or an aryl group.
Or a heterocyclic group. Rtwenty one, Rtwenty twoAnd Rtwenty threeSelected from
Two or more may be connected to each other to form a ring
No. In the general formula (III), R31And R32Are each
Independently represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
R31And R32May be connected to each other to form a ring. one
In the general formula (IV), R41And R42Are independent
Represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R43Is
Alkyl group, aryl group, heterocyclic group or -N (R44) (R
45). R44And R45Are each independently alkyl
Group, an aryl group or a heterocyclic group. R41, R42,
R43, R44And R45Two or more selected from
They may be linked together to form a ring. General formula (V)
And R51, R52, R53, R54And R55Are independently
Represents a hydrogen atom or a substituent. R51, R52, R53, R54
And R55Two or more selected from
To form a ring. )
【請求項2】 前記フェノール化合物がo−ポリフェノ
ール化合物であることを特徴とする請求項1に記載の熱
現像感光材料。
2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the phenol compound is an o-polyphenol compound.
【請求項3】 前記o−ポリフェノール化合物が下記一
般式(I)で表される化合物である、請求項2に記載の
熱現像感光材料。 【化2】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8
それぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な
基を表し、Lは−S−基または−CHR9−基を表し、
9は水素原子またはアルキル基を表す。)
3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the o-polyphenol compound is a compound represented by the following general formula (I). Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring, and L represents an —S— group Or a -CHR 9 -group,
R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group. )
【請求項4】 前記一般式(I)で表される化合物が、
2、R4、R5およびR7が水素原子であり、R1および
8がそれぞれ独立にアルキル基であり、R3およびR6
がそれぞれ独立にアルキル基であり、Lが−CHR9
である、請求項3に記載の熱現像感光材料。
4. A compound represented by the general formula (I):
R 2 , R 4 , R 5 and R 7 are hydrogen atoms, R 1 and R 8 are each independently an alkyl group, R 3 and R 6
There are each independently an alkyl group, L is -CHR 9 -
The photothermographic material according to claim 3, which is:
【請求項5】 R1およびR8がそれぞれ独立に2級また
は3級のアルキル基である、請求項4に記載の熱現像感
光材料。
5. The photothermographic material according to claim 4, wherein R 1 and R 8 are each independently a secondary or tertiary alkyl group.
【請求項6】 前記水素結合形成速度定数Kfが70〜
4000であることを特徴とする請求項1〜5のいずれ
かに記載の熱現像感光材料。
6. The hydrogen bond formation rate constant Kf is 70 to 6.
The photothermographic material according to any one of claims 1 to 5, wherein the number is 4,000.
【請求項7】 前記フェノール化合物がo−ポリフェノ
ール化合物であり、分子内にホスホリル基を有する化合
物の少なくとも1種と組み合わせて含有することを特徴
とする請求項2〜6のいずれかに記載の熱現像感光材
料。
7. The heat according to claim 2, wherein the phenol compound is an o-polyphenol compound and is contained in combination with at least one compound having a phosphoryl group in the molecule. Developed photosensitive material.
【請求項8】 前記の分子内にホスホリル基を有する化
合物が下記一般式(VI)で表される化合物である、請求
項1〜7のいずれかに記載の熱現像感光材料。 【化3】 (式中、R61、R62およびR63はそれぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表す。)
8. The photothermographic material according to claim 1, wherein the compound having a phosphoryl group in the molecule is a compound represented by the following general formula (VI). Embedded image (In the formula, R 61 , R 62 and R 63 each independently represent an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group.)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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