JP2001274675A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2001274675A JP2000086385A JP2000086385A JP2001274675A JP 2001274675 A JP2001274675 A JP 2001274675A JP 2000086385 A JP2000086385 A JP 2000086385A JP 2000086385 A JP2000086385 A JP 2000086385A JP 2001274675 A JP2001274675 A JP 2001274675A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a semiconductor integrated circuit that includes a level conversion circuit having a high degree of permissibility of an element characteristic with low power consumption that converts a very small logic level such as about 0.5 V into about 1 V to 3 V being a conventional logic level. SOLUTION: The level conversion circuit is provided with a P-channel latch consisting of common gate P-channel MOSFETs 100, 101 and N-channel MOSFETs 102, 103 that receive complementary signals 10A, 10B from a logic circuit and of P-channel MOSFETs 104, 105 and with an N-channel latch consisting of N-channel MOSFETs 106, 107. Leading an output of the logic circuit operated at a low voltage and its inverted logic output to each latch via a common gate circuit can drive two FETs configuring each latch by complementary inputs so as to enhance the gain characteristic of each latch.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は複数の電源を用いて
動作する半導体集積回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit which operates using a plurality of power supplies.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路の集積度の向上は
著しく、ギガビット級の半導体メモリでは1チップに数
億個の半導体素子が、64ビットのマイクロプロセッサ
では1チップに数百万個から1千万個の半導体素子が集
積されるようになっている。集積度の向上は素子の微細
化によって達成され、1GビットDRAM(Dynam
ic Random Access Memory)に
おいては、0.15ミクロンメートルのゲート長のMO
Sトランジスタが用いられ、更に集積度が高まると0.
1ミクロンメートル以下のゲート長のMOSトランジス
タが用いられるようになる。
2. Description of the Related Art In recent years, the degree of integration of semiconductor integrated circuits has been remarkably improved. In a gigabit-class semiconductor memory, hundreds of millions of semiconductor elements per chip, and in a 64-bit microprocessor, several million to one million chips per chip. Ten million semiconductor elements have been integrated. Improvement in the degree of integration is achieved by miniaturization of elements, and 1 Gbit DRAMs (Dynam
ic Random Access Memory), a MO with a gate length of 0.15 μm is used.
When an S transistor is used and the degree of integration is further increased, a value of 0.1 is obtained.
MOS transistors having a gate length of 1 micron or less will be used.

【0003】このような微細MOSトランジスタに於い
ては、ホットキャリア生成によるトランジスタの特性の
劣化やTDDB(Time Dependent Di
electric Breakdown)による絶縁膜
破壊が起きる。また、チャネル長が短くなることによる
閾値電圧の低下を抑える為、基板領域やチャネル領域の
不純物濃度が高められると、ソース、ドレインの接合電
圧が低下する。これらの微細素子の信頼性を維持する為
には、電源電圧を下げることが有効である。即ちソース
・ドレイン間の横方向電界を弱めることによってホット
キャリアの発生を防ぎ、ゲート・バルク間の縦方向電界
を弱めることによってTDDBを防ぐ。さらに、電源電
圧を下げることによって、ソース・バルク間、ドレイン
・バルク間の接合に加わる逆バイアスを低下させ、耐圧
の低下に対応させる。
In such a fine MOS transistor, deterioration of transistor characteristics due to generation of hot carriers and TDDB (Time Dependent Diode) are considered.
Insulation film breakdown due to electric breakdown occurs. In addition, in order to suppress a decrease in threshold voltage due to a shortened channel length, when the impurity concentration in the substrate region or the channel region is increased, the junction voltage between the source and the drain is reduced. In order to maintain the reliability of these fine elements, it is effective to lower the power supply voltage. That is, generation of hot carriers is prevented by weakening the horizontal electric field between the source and the drain, and TDDB is prevented by weakening the vertical electric field between the gate and the bulk. Further, by lowering the power supply voltage, the reverse bias applied to the junction between the source and the bulk and the junction between the drain and the bulk is reduced to cope with the reduction in the withstand voltage.

【0004】また、近年携帯情報機器の市場の拡大が著
しい。携帯情報機器に於いては、リチウムイオン電池に
代表される軽量でかつエネルギー密度の高い電源が主流
に使われている。しかしながら、リチウムイオン電池は
電圧が3V程度で有り、上記微細MOSトランジスタの
耐圧より高く、このような微細トランジスタを用いた回
路に適用する場合、電源電圧変換回路で降圧する必要が
ある。また、論理回路で用いられるCMOS回路の動作
時の消費電力は、動作周波数に比例し、電源電圧の二乗
に比例するため、電源電圧を低下することは、チップ消
費電力の低下に著しい効果がある。
[0004] In recent years, the market for portable information devices has been remarkably expanding. 2. Description of the Related Art In portable information devices, lightweight and high energy density power supplies represented by lithium ion batteries are mainly used. However, a lithium ion battery has a voltage of about 3 V, which is higher than the withstand voltage of the above-mentioned micro MOS transistor, and when applied to a circuit using such a micro transistor, it is necessary to lower the voltage by a power supply voltage conversion circuit. Further, the power consumption of a CMOS circuit used in a logic circuit during operation is proportional to the operating frequency and proportional to the square of the power supply voltage. Therefore, lowering the power supply voltage has a remarkable effect on lowering chip power consumption. .

【0005】そこで、携帯機器をより長時間使う為に
は、高エネルギー密度の電池、高効率の電源変換変圧
器、低電圧動作の集積回路が要求されている。降圧した
電源電圧を特に消費電力の大きいマイクロプロセッサ及
びベースバンドLSIに用いることは、LSIの低消費
電力化の観点からも望ましい。
Therefore, in order to use portable equipment for a longer time, a battery with a high energy density, a high-efficiency power conversion transformer, and an integrated circuit operating at a low voltage are required. It is desirable to use the stepped-down power supply voltage for a microprocessor and a baseband LSI which consume particularly large power from the viewpoint of reducing the power consumption of the LSI.

【0006】一方、携帯情報機器内では、上記論理回路
の他にDRAM,SRAMなどの記憶素子も必須である
が、DRAMではセルの電荷量を十分に確保し、ソフト
エラー耐性を高めるため、SRAMでは低電源電圧動作
時の速度劣化を避けるために論理回路に見られるような
顕著な低消費電力化はなされておらず、現在では1.7
5V程度の電源電圧の素子が実用化されている。しかし
ながら、論理回路と電源電圧は大きく異なるため、記憶
回路と論理回路を混載したLSIにおいては、現在、将
来いずれにおいても、様々な電源電圧を供給するマルチ
電源構成になると考えられる。
On the other hand, in a portable information device, a storage element such as a DRAM or an SRAM is essential in addition to the above-described logic circuit. In the DRAM, however, an SRAM is required to secure a sufficient amount of electric charge in a cell and to improve soft error resistance. In order to avoid the speed degradation at the time of low power supply voltage operation, a remarkable reduction in power consumption as seen in a logic circuit has not been made.
Elements having a power supply voltage of about 5 V have been put to practical use. However, since a logic circuit and a power supply voltage are greatly different, it is considered that an LSI in which a storage circuit and a logic circuit are mixed has a multi-power supply configuration for supplying various power supply voltages at present and in the future.

【0007】図4に記憶回路及び論理回路を同一チップ
上に集積化した携帯情報機器用半導体集積回路405と
その電源系の構成を示す。リチウム電池(リチウムイオ
ン2次電池)400、電源電圧変換回路401、論理回
路402、オンチップ記憶回路403およびレベル変換
回路404から構成される。リチウム電池400の出力
電源電圧3Vを電源電圧変換器401で0.5V電圧に
変換し、論理回路402に0.5V電源を供給する。一
方、オンチップ記憶回路403は、その動作のためには
1V以上の電源電圧を必要とするため、リチウム電池4
00の3V電源をそのまま供給している。また、記憶回
路403と論理回路402の接続を行なうレベル変換回
路404には、3V電源と0.5V電源を供給してい
る。
FIG. 4 shows a configuration of a semiconductor integrated circuit 405 for portable information equipment in which a storage circuit and a logic circuit are integrated on the same chip, and a power supply system thereof. It comprises a lithium battery (lithium ion secondary battery) 400, a power supply voltage conversion circuit 401, a logic circuit 402, an on-chip storage circuit 403, and a level conversion circuit 404. The power supply voltage converter 401 converts the 3V output power supply voltage of the lithium battery 400 to a 0.5V voltage, and supplies a 0.5V power supply to the logic circuit 402. On the other hand, the on-chip storage circuit 403 requires a power supply voltage of 1 V or more for its operation.
00 is supplied as it is. Further, a 3V power supply and a 0.5V power supply are supplied to the level conversion circuit 404 for connecting the storage circuit 403 and the logic circuit 402.

【0008】図4の構成では論理回路402の電源電圧
を0.5Vにすることにより動作時の消費電力の低減は
図れる。しかし、3Vから2Vの電源電圧で動作する一
般的なCMOS回路の電源電圧を単に下げると素子の動
作速度が低下したり動作しなくなるという問題があり、
これを解決するためMOSトランジスタの閾値電圧は電
源電圧の低下と共に下げる必要がある。例えば0.5V
の低電源電圧で動作する論理回路を構成するためには、
絶対値で0.1から0.2V程度と従来のFETの閾値
電圧の1/3程度の閾値電圧のFETを用いる必要があ
る。
In the configuration shown in FIG. 4, power consumption during operation can be reduced by setting the power supply voltage of the logic circuit 402 to 0.5 V. However, if the power supply voltage of a general CMOS circuit that operates at a power supply voltage of 3 V to 2 V is simply reduced, there is a problem that the operation speed of the element is reduced or the device does not operate.
To solve this, it is necessary to lower the threshold voltage of the MOS transistor as the power supply voltage decreases. For example, 0.5V
To configure a logic circuit that operates with a low power supply voltage,
It is necessary to use an FET having a threshold voltage of about 0.1 to 0.2 V in absolute value and about 1/3 of the threshold voltage of the conventional FET.

【0009】しかしながらこのような低閾値電圧ではF
ETのオフリーク電流が大幅に増し、結果として機器の
待機時の消費電力が大幅に増加するため、このままでは
携帯情報機器用半導体集積回路としては適していない。
However, at such a low threshold voltage, F
Since the off-leak current of the ET greatly increases, and as a result, the power consumption of the device during standby increases significantly, it is not suitable as a semiconductor integrated circuit for portable information devices as it is.

【0010】図5は、上記の問題を鑑みたもので、半導
体集積回路506に接地を含む4種類の電源を供給し、
半導体集積回路506内にオンチップで集積化されてい
る論理回路502には、リチウム電池500から供給さ
れる3V電源(VDD)と接地(VSS)の他に電源電
圧変換回路501から供給されるVD1とVS1を接続
している。ここで論理回路用電源VD1と論理回路用接
地VS1の電位差は0.5Vに設定する。このような構
成の場合、VD1とVS1の2つの電源を用いて論理回
路502を構成し、動作時の消費電力の低減を図ると共
に、待機動作させるときにはpチャネルMOSFET5
09のウエル電位をpチャネルMOSFET507をオ
ン状態にしてVD1からVDDとし、nチャネルMOS
FET510のウエル電位をnチャネルMOSFET5
08をオン状態にしてVS1からVSSとすることで、
待機時の論理回路内のMOSFET509,510の閾
値電圧の絶対値を大きくしオフ時のリーク電流を減らす
ことで待機中の低消費電力化を図ることができる。
FIG. 5 is a view in view of the above problem, and supplies four types of power including ground to the semiconductor integrated circuit 506.
The logic circuit 502 integrated on-chip in the semiconductor integrated circuit 506 includes, in addition to the 3V power supply (VDD) and ground (VSS) supplied from the lithium battery 500, VD1 supplied from the power supply voltage conversion circuit 501. And VS1 are connected. Here, the potential difference between the logic circuit power supply VD1 and the logic circuit ground VS1 is set to 0.5V. In such a configuration, the logic circuit 502 is configured by using two power supplies, VD1 and VS1, to reduce power consumption during operation, and to perform p-channel MOSFET 5
09, the p-channel MOSFET 507 is turned on to change from VDD1 to VDD, and the n-channel MOS
The well potential of the FET 510 is changed to the n-channel MOSFET 5
08 to the ON state and change from VS1 to VSS,
Power consumption during standby can be reduced by increasing the absolute value of the threshold voltage of the MOSFETs 509 and 510 in the logic circuit during standby and reducing the leakage current during OFF.

【0011】次に、オンチップ記憶回路503,50
4,505の電源としては、それぞれ1)リチウム電池
より供給されるチップ用電源VDDとチップ用接地VS
Sを用いる、2)論理回路用電源VD1とチップ用接地
VSSを用いる、3)チップ用電源VDDと論理回路用
接地VS1を用いる、の3つの構成などが考えられ、消
費電力の観点では1)より2)あるいは3)が勝るが、
最終的には記憶回路の動作電圧範囲を考えて決定するこ
とになる。このように、半導体集積回路506を見た場
合、論理回路502内ではハイレベルVD1、ローレベ
ルVS1であり、記憶回路503ではハイレベルVD
D、ローレベルVSS、記憶回路504ではハイレベル
VD1、ローレベルVSS、記憶回路505ではハイレ
ベルVDD、ローレベルVS1と様々な論理振幅そして
様々な論理レベルが混在することになる。
Next, the on-chip storage circuits 503 and 50
The power supplies 4505 are 1) a chip power supply VDD and a chip ground VS supplied from a lithium battery.
S, 2) using the logic circuit power supply VDD and the chip ground VSS, and 3) using the chip power supply VDD and the logic circuit ground VS1. From the viewpoint of power consumption, there are three possible configurations. 2) or 3) wins,
Ultimately, it is determined in consideration of the operating voltage range of the storage circuit. As described above, when the semiconductor integrated circuit 506 is viewed, the logic circuit 502 has the high level VD1 and the low level VS1, and the storage circuit 503 has the high level VD1.
D, low level VSS, high level VDD and low level VSS in the storage circuit 504, high level VDD and low level VS1 in the storage circuit 505, and various logic amplitudes and various logic levels are mixed.

【0012】図6は、同じくオフ時のリーク電流の問題
を鑑みたもので、半導体集積回路605に3種類の電源
を供給し、半導体集積回路605内にオンチップで集積
化されている論理回路602にニツケル水素2次電池あ
るいはリチウムイオン2次電池600から供給される
1.2V(リチウムイオン2次電池は3V)電源(VD
D)と接地(VSS)の他に電源電圧変換回路601か
ら供給される論理回路用電源VD1(0.5V)を閾値
の大きいpチャネルMOSFET603を介して論理回
路の疑似電源線VDDVに接続している。
FIG. 6 also considers the problem of leakage current at the time of turning off, and supplies three types of power to the semiconductor integrated circuit 605 and integrates the logic circuit integrated on-chip in the semiconductor integrated circuit 605. A power supply (VD: 1.2 V (3 V for a lithium ion secondary battery)) supplied from a nickel hydrogen secondary battery or a lithium ion secondary battery 600 to 602
D) and the ground (VSS), the logic circuit power supply VD1 (0.5 V) supplied from the power supply voltage conversion circuit 601 is connected to the pseudo power supply line VDDV of the logic circuit via the p-channel MOSFET 603 having a large threshold value. I have.

【0013】本構成では、スタンドバイ時には論理回路
内の必要な情報を記憶回路604に退避した後にpチャ
ネルMOSFET603のゲート電圧をVDDとしMO
SFET603をオフ状態にする。その際、リーク電流
は、閾値の大きいpチャネルMOSFET603のオフ
特性によって決まるため、非常に小さくなる。しかしな
がら、記憶回路604は0.5V程度の電源で動作する
ことが難しいため、VDDとVSSにより駆動すること
になり、論理回路ではハイレベルVD1、ローレベルV
SS、記憶回路ではハイレベルVDD、ローレベルVS
Sの2種類の論理レベルが混在することになる。
In this configuration, during standby, necessary information in the logic circuit is saved to the storage circuit 604, and then the gate voltage of the p-channel MOSFET 603 is set to VDD and the MO
The SFET 603 is turned off. At this time, the leakage current is extremely small because it is determined by the off characteristic of the p-channel MOSFET 603 having a large threshold. However, since it is difficult to operate the memory circuit 604 with a power supply of about 0.5 V, the memory circuit 604 is driven by VDD and VSS.
SS, high level VDD and low level VS in the storage circuit
The two types of logical levels S are mixed.

【0014】上記に述べたように多電源の電源システム
が携帯機器用LSIに必須となっており、これらの異な
る論理レベルを変換し、且つ低消費電力であるレベル変
換回路が必要である。まず、論理振幅の大きい半導体集
積回路から論理振幅の小さい論理回路に信号を伝達させ
るためには、ゲート耐圧VBDが論理振幅(VDD−V
SS)より大きいMOSFETを採用し、図7に示すよ
うな通常のCMOS回路を用いることで問題無くレベル
変換を行なうことが可能である。
As described above, a power supply system with multiple power supplies is indispensable for an LSI for portable equipment, and a level conversion circuit that converts these different logic levels and consumes low power is required. First, in order to transmit a signal from a semiconductor integrated circuit having a large logic amplitude to a logic circuit having a small logic amplitude, the gate breakdown voltage VBD must be equal to the logic amplitude (VDD−V
By using a MOSFET larger than SS) and using a normal CMOS circuit as shown in FIG. 7, the level conversion can be performed without any problem.

【0015】しかしながら、(VD1−VS1)といっ
たきわめて低い論理振幅(本例では0.5V)の論理回
路の信号レベルを記憶回路用の大きな論理振幅にレベル
変換を行なうことは難しく、例えば図7に示す通常のC
MOSインバータ回路で記憶回路用の論理レベルである
例えば(VDD,VSS),(VD1,VSS),(V
DD,VS1)への十分なレベル変換を行なうためには
様々な問題がある。すなわち、1)1段のCMOSイン
バータでは完全なレベル変換が行なわれない、2)1段
のCMOSインバータではpチャネルMOSFET、n
チャネルMOSFET何れもカットオフできずA級増幅
器のようなオン状態で動作することになるため、電源か
ら接地へ定常的な貫通電流が発生する、3)多段のCM
OSインバータを用いると、消費電力が大きくなる、等
である。また、別の方法として、差動増幅回路を用い、
参照電圧としてVD1とVS1の中間値を用いる方法も
あるが、1)差動増幅回路のため電流源が必要となる、
2)差動増幅回路の出力を増幅するためのCMOSイン
バータが必要でありCMOSインバータ段での消費電流
が加わる、等の理由のため消費電力が大きくなる。
However, it is difficult to convert the signal level of a logic circuit having an extremely low logic amplitude (0.5 V in this example) such as (VD1-VS1) into a large logic amplitude for a storage circuit. Normal C showing
In the MOS inverter circuit, for example, (VDD, VSS), (VD1, VSS), (V
There are various problems in performing sufficient level conversion to DD, VS1). That is, 1) complete level conversion is not performed in a single-stage CMOS inverter, and 2) p-channel MOSFET, n
Since any channel MOSFET cannot be cut off and operates in an on state like a class A amplifier, a steady through current is generated from the power supply to the ground. 3) Multi-stage CM
When the OS inverter is used, power consumption increases, and so on. As another method, using a differential amplifier circuit,
There is also a method of using an intermediate value between VD1 and VS1 as a reference voltage, but 1) a current source is required for a differential amplifier circuit,
2) A CMOS inverter for amplifying the output of the differential amplifier circuit is required, and current consumption is increased in the CMOS inverter stage.

【0016】この問題に対処するために0.5Vから1
V程度の論理振幅を2V程度の論理振幅に変換するレベ
ル変換回路として文献(Sub-1-V Swing Bus Architectur
e for Future Low-Power ULSIs by Nakagome et. Al.,1
992 VLSI Circuit Symposium, 9-2)に示すレベル変換回
路(図8参照)が提案され低消費電力特性を得ている。
To address this problem, 0.5V to 1V
Document (Sub-1-V Swing Bus Architectur) as a level conversion circuit that converts a logic amplitude of about V to a logic amplitude of about 2 V
e for Future Low-Power ULSIs by Nakagome et.Al., 1
A level conversion circuit (see FIG. 8) shown in 992 VLSI Circuit Symposium, 9-2) has been proposed and has obtained low power consumption characteristics.

【0017】本構成のレベル変換回路は、ソース接地M
OSFET800,801と、2つの同一チャネルMO
SFETのゲートとドレインをそれぞれ接続する交差ラ
ッチから構成されているが、各交差ラッチの同一チャネ
ルMOSFET間に入力されるゲート電圧の論理振幅が
大きく異なるため、同一サイズの2つのMOSFETを
用いて交差ラッチを構成するとそれらMOSFETの駆
動能力が結果的に大きく異なってしまい、駆動能力の弱
いFETによる反転が難しくなる。従って、各交差ラッ
チにおいては、2つのMOSFETの駆動能力を考慮し
て、それらのサイズを決定する必要がある。
The level conversion circuit of this configuration has a common source M
OSFETs 800 and 801 and two identical channel MOs
Although each of the SFETs is composed of crossed latches connecting the gate and the drain of the SFET, the logic amplitude of the gate voltage input between the same channel MOSFETs of each crossed latch is greatly different. When a latch is formed, the driving capabilities of these MOSFETs are greatly different as a result, and it becomes difficult to invert the MOSFET with a weak driving capability. Therefore, in each intersection latch, it is necessary to determine the size of the two MOSFETs in consideration of the driving capability of the two MOSFETs.

【0018】また別の問題点として、本構成の場合には
レベル変換回路の素子特性に対する許容度が低い点があ
る。即ちpチャネルMOSFET800及びnチャネル
MOSFET801の素子特性に対して厳しく、所望の
レベル変換を行なうためには例えば閾値電圧が0から
0.05V程度のMOSFETが必要となっており、
1)このような特別な閾値のFETを必要とすることは
プロセス工程の複雑化を招き、2)プロセスウィンドウ
が100mVと極めて狭いため厳しいプロセス管理が必
要となる、等の問題のため最終的には半導体集積回路の
コスト増加を招く。
As another problem, in the case of this configuration, there is a low tolerance for element characteristics of the level conversion circuit. That is, the element characteristics of the p-channel MOSFET 800 and the n-channel MOSFET 801 are strict, and in order to perform a desired level conversion, for example, a MOSFET having a threshold voltage of about 0 to 0.05 V is required.
1) The necessity of such a special threshold FET complicates the process steps, and 2) the process window is extremely narrow as 100 mV, so that strict process control is required. Increases the cost of the semiconductor integrated circuit.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】このように携帯機器を
狙った動作時及び待機(スタンドバイ)時の消費電力の
低い、オンチップ記憶回路を含む論理LSIを実現しよ
うとした場合、論理回路では電源電圧を0.5V程度と
極めて低く設定し動作時の論理振幅を減らすことで低消
費電力化を行ない、且つスタンドバイ時に基板電位を変
えることで論理回路内のMOSFETの閾値電圧の絶対
値を大きくしリーク電流を小さくする構成もしくは論理
回路の電源を閾値の大きいpチャネルMOSFETを介
して電源線に接続する構成を用いるが、オンチップ上の
記憶回路は論理回路で動作する電源電圧では動作しない
ため電池の電源を用いるなどによる別のより大きな電源
電圧が必要となる。
As described above, when an attempt is made to realize a logic LSI including an on-chip memory circuit, which consumes low power during operation and standby (standby) of a portable device, the logic circuit requires The power supply voltage is set as low as about 0.5 V to reduce power consumption by reducing the logic amplitude during operation, and the absolute value of the threshold voltage of the MOSFET in the logic circuit is changed by changing the substrate potential during standby. A configuration in which the leakage current is increased to increase the leakage current or a configuration in which the power supply of the logic circuit is connected to the power supply line through a p-channel MOSFET having a large threshold is used, but the on-chip storage circuit does not operate with the power supply voltage operated by the logic circuit. Therefore, another larger power supply voltage such as using a battery power supply is required.

【0020】この場合、これらの回路をそれぞれ論理的
に結線するためには様々なレベル変換回路が必要となる
が、0.5V程度の論理振幅を記憶回路が動作するため
の十分な論理振幅に変換するためには、1)CMOSイ
ンバータ1段では十分なレベル変換ができない、2)C
MOSインバータを複数段用いた回路ではレベル変換は
行なわれるが消費電力が大きくなる、3)別のレベル変
換回路ではレベル変換は行なわれるが厳しい素子特性管
理およびプロセス工程追加を伴うため、歩留まり低下な
どにより集積回路のコストが増加するといった問題があ
った。
In this case, various level conversion circuits are required in order to logically connect these circuits. However, the logic amplitude of about 0.5 V is changed to a sufficient logic amplitude for operating the storage circuit. In order to perform the conversion, 1) sufficient level conversion cannot be performed by one stage of the CMOS inverter, 2) C
In a circuit using a plurality of MOS inverters, level conversion is performed, but power consumption is increased. 3) In another level conversion circuit, level conversion is performed, but strict element characteristic management and additional process steps are required. As a result, there is a problem that the cost of the integrated circuit increases.

【0021】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは0.5V程度の非常に小さ
い論理レベルを通常の論理レベルである1Vから3V程
度に変換する低消費電力で素子特性に対する許容度の大
きいレベル変換回路を実現するための半導体集積回路を
提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to reduce the power consumption of converting a very small logic level of about 0.5 V from a normal logic level of 1 V to about 3 V. Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit for realizing a level conversion circuit having a large tolerance for element characteristics.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、互いにレベルが異なる第1及び第2の電
源を有する半導体集積回路において、論理回路部からの
第1の論理出力とその反転信号である第2の論理出力に
それぞれの一端が接続され、それぞれのゲートが前記第
1及び第2の電源の一方に接続された第1導電型の第1
及び第2のFETと、前記第1及び第2の電源の他方に
それぞれの一端が接続され、それぞれの他端が相手のゲ
ートに接続された第2導電型の第3及び第4のFETと
を有し、前記第1導電型の第1及び第2のFETそれぞ
れの他端を前記第2導電型の第3及び第4のFETそれ
ぞれの他端に接続し、前記第2導電型の第3または第4
のFETの他端の信号を出力信号として出力することを
第1の特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit having first and second power supplies having different levels from each other. One end of each is connected to a second logic output that is an inverted signal, and each gate is connected to one of the first and second power supplies.
And a second FET, and third and fourth FETs of a second conductivity type, one end of which is connected to the other of the first and second power supplies, and the other end of which is connected to the gate of the other. And the other end of each of the first and second FETs of the first conductivity type is connected to the other end of each of the third and fourth FETs of the second conductivity type. 3 or 4
The first characteristic is that the signal at the other end of the FET is output as an output signal.

【0023】また、本発明は、それぞれの電位レベルが
V1≧V2>V3≧V4の関係を満たす接地を含む第1
から第4の電源を有し、前記第2及び第3の電源を用い
た論理回路部を含む半導体集積回路において、前記論理
回路部の第1の論理出力にソースが接続されゲートが前
記第2の電源に接続された第1のnチャネルFETと、
前記第1の論理出力にソースが接続されゲートが前記第
3の電源に接続された第1のpチャネルFETと、前記
第1の論理出力の反転信号である第2の論理出力にソー
スが接続されゲートが前記第2の電源に接続された第2
のnチャネルFETと、前記第2の論理出力にソースが
接続されゲートが前記第3の電源に接続された第2のp
チャネルFETと、それぞれのソースが前記第1の電源
に接続され、且つそれぞれのドレインが相手のゲートに
接続された第3及び第4のpチャネルFETと、それぞ
れのソースが前記第4の電源に接続され、且つそれぞれ
のドレインが相手のゲートに接続された第3及び第4の
nチャネルFETとを有し、前記第1のnチャネルFE
Tのドレインを前記第3のpチャネルFETのドレイン
に接続し、前記第2のnチャネルFETのドレインを前
記第4のpチャネルFETのドレインに接続し、前記第
1のpチャネルFETのドレインを前記第3のnチャネ
ルFETのドレインに接続し、前記第2のpチャネルF
ETのドレインを前記第4のnチャネルFETのドレイ
ンに接続し、前記第3及び第4のpチャネルFETのド
レインの2端子を第1のレベルとして出力し、前記第
3,第4のnチャネルFETのドレインの2端子を第2
のレベルとして出力するレベル変換回路を具備すること
を第2の特徴とする。
Further, according to the present invention, the first potential including the ground whose potential levels satisfy the relationship of V1 ≧ V2> V3 ≧ V4 is provided.
To a fourth integrated circuit including a logic circuit section using the second and third power supplies, a source is connected to a first logic output of the logic circuit section, and a gate is connected to the second logic output section. A first n-channel FET connected to the power supply of
A first p-channel FET having a source connected to the first logic output and a gate connected to the third power supply; and a source connected to a second logic output which is an inverted signal of the first logic output. And a second gate whose gate is connected to the second power supply.
And a second p-channel FET having a source connected to the second logic output and a gate connected to the third power supply.
A channel FET, third and fourth p-channel FETs each having a source connected to the first power source and a drain connected to the other gate, and a source connected to the fourth power source. Third and fourth n-channel FETs connected to each other and having their drains connected to a counterpart gate, wherein the first n-channel FE
The drain of T is connected to the drain of the third p-channel FET, the drain of the second n-channel FET is connected to the drain of the fourth p-channel FET, and the drain of the first p-channel FET is connected. Connected to the drain of the third n-channel FET;
The drain of ET is connected to the drain of the fourth n-channel FET, and the two terminals of the drains of the third and fourth p-channel FETs are output as a first level, and the third and fourth n-channel FETs are output. Connect the two drain terminals of the FET to the second
A second feature is that a level conversion circuit for outputting the level is output.

【0024】このように、低電圧動作の論理回路の出力
及びその論理的反転出力をそれぞれゲート接地のFET
を介して、2つのFETの交差接続から構成される交差
ラッチの2出力に接続して駆動する構成を用いることに
より、交差ラッチの利得特性を高めることが可能となる
ため交差ラッチにより出力振幅を大きくすることができ
回路の低消費電力化を図れる。また相補入力とすること
により回路マージンを大きくすることが可能となるた
め、素子特性に対する制限が緩やかになる。
As described above, the output of the low-voltage operation logic circuit and its logically inverted output are respectively connected to the gate-grounded FET.
, And by using the configuration in which the output is connected to two outputs of a cross latch constituted by cross connection of two FETs, the gain characteristics of the cross latch can be improved. The size can be increased, and the power consumption of the circuit can be reduced. In addition, since the circuit margin can be increased by using complementary inputs, restrictions on element characteristics are relaxed.

【0025】また、2つのFETの交差接続から構成さ
れる交差ラッチの出力段には、レベル差の大きな電源で
動作するバッファ回路を設けることが好ましい。バッフ
ァ回路としては、本発明の第1の特徴とする上述の半導
体集積回路においては、前記第1及び第2の電源の他方
と前記第3の電源が動作電源として供給され、前記第3
または第4のFETの他端の信号に応じた出力信号を出
力するバッファ回路を用いることにより、例えば第1ま
たは第2の電源と第3の電源との差分に応じた大きな論
理振幅を得ることが可能となる。この場合、第1または
第2の電源と第3の電源との間にソース・ドレイン間の
電流通路が直列接続された2つのnチャネルFETを用
い、これら2つのnチャネルFETそれぞれのゲートに
第3および第4のFETそれぞれ他端を接続することが
実際上好ましい。
It is preferable that a buffer circuit that operates with a power supply having a large level difference be provided at an output stage of a cross latch constituted by cross connection of two FETs. As the buffer circuit, in the above-described semiconductor integrated circuit according to the first aspect of the present invention, the other of the first and second power supplies and the third power supply are supplied as operation power supplies,
Alternatively, by using a buffer circuit that outputs an output signal corresponding to a signal at the other end of the fourth FET, for example, a large logic amplitude corresponding to a difference between the first or second power supply and the third power supply can be obtained. Becomes possible. In this case, two n-channel FETs whose source and drain current paths are connected in series between the first or second power supply and the third power supply are used, and the gates of these two n-channel FETs are connected to the respective gates. It is practically preferable to connect the other ends of the third and fourth FETs respectively.

【0026】また、本発明の第2の特徴とする半導体集
積回路においては、前記第1の電源と前記第4の電源と
の間にソース・ドレイン間の電流通路が直列接続された
pチャネルFETおよびnチャネルFETを含むバッフ
ァ回路をさらに具備し、前記レベル変換回路の第1レベ
ル出力または第2レベル出力の一方を、前記バッファ回
路を構成するpチャネルFETおよびnチャネルFET
のゲートに共通接続する構成を用いることにより、第1
の電源と第4の電源との差分に対応する大きな論理振幅
を得ることが可能となる。
According to a second aspect of the present invention, in a semiconductor integrated circuit, a p-channel FET in which a current path between a source and a drain is connected in series between the first power supply and the fourth power supply. And a buffer circuit including an n-channel FET and one of a first level output and a second level output of the level conversion circuit, the p-channel FET and the n-channel FET constituting the buffer circuit.
By using a configuration commonly connected to the gates of the
It is possible to obtain a large logic amplitude corresponding to the difference between the first power supply and the fourth power supply.

【0027】さらに、バッファ回路内の各FETの閾値
電圧の絶対値を、前記レベル変換回路内の各FETの閾
値電圧の絶対値よりも大きく設定しておくことにより、
バッファ回路を大きなサイズのFETで構成した場合で
もスタンドバイ時のリーク電流を抑制することが可能と
なる。
Further, by setting the absolute value of the threshold voltage of each FET in the buffer circuit larger than the absolute value of the threshold voltage of each FET in the level conversion circuit,
Even when the buffer circuit is configured with a large-sized FET, it is possible to suppress the leakage current during standby.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。図1には、本発明の第1実施形態に
関わる半導体集積回路に設けられるレベル変換回路が示
されている。本半導体集積回路は低電圧動作する論理回
路とそれよりも高電圧動作する記憶回路とを1チップ上
に集積形成する構成のものであり、論理回路と記憶回路
との間に図1のレベル変換回路が設けられることにな
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a level conversion circuit provided in a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention. This semiconductor integrated circuit has a configuration in which a logic circuit operating at a low voltage and a storage circuit operating at a higher voltage than the logic circuit are integrated on one chip, and the level conversion shown in FIG. A circuit will be provided.

【0029】このレベル変換回路は論理回路からの0.
5V程度の論理出力レベルを1Vから3V程度のレベル
に変換して記憶回路に出力するためのものであり、論理
回路からの相補信号10A,10Bを入力するそれぞれ
ゲート接地形のpチャネルMOSFET100,101
及びnチャネルMOSFET102,103と、pチャ
ネルMOSFET104,105からなるpチャネル交
差ラッチと、nチャネルMOSFET106,107か
らなるnチャネル交差ラッチとからなる。
This level conversion circuit is provided with a .0 signal from a logic circuit.
This is for converting a logic output level of about 5 V to a level of about 3 V from 1 V and outputting the same to the storage circuit, and inputs p-channel MOSFETs 100 and 101 of grounded gate type to receive complementary signals 10 A and 10 B from the logic circuit, respectively.
And n-channel MOSFETs 102 and 103, a p-channel cross latch composed of p-channel MOSFETs 104 and 105, and an n-channel cross latch composed of n-channel MOSFETs 106 and 107.

【0030】pチャネルMOSFET100,101の
ゲートは、論理回路の接地電源であるVS1に接続さ
れ、nチャネルMOSFET102,103のゲートは
論理回路の正電源であるVD1に接続され、VD1>V
S1が満たされている。また、pチャネルMOSFET
104,105のソースは、VDD(VDD≧VD1)
に接続され、nチャネルMOSFET106,107の
ソースはVSS(VSS≦VS1)に接続されている。
また、pチャネルMOSFET104,105それぞれ
のドレインは互いに相手のゲートに接続され、同様にn
チャネルMOSFET106,107それぞれのドレイ
ンも互いに相手のゲートに接続されている。それぞれの
交差ラッチの出力10C,10D,10E,10Fには
レベル変換された相補出力が得られる。
The gates of the p-channel MOSFETs 100 and 101 are connected to VS1 which is the ground power supply of the logic circuit, and the gates of the n-channel MOSFETs 102 and 103 are connected to VD1 which is the positive power supply of the logic circuit.
S1 is satisfied. Also, p-channel MOSFET
The sources of 104 and 105 are VDD (VDD ≧ VDD1)
, And the sources of the n-channel MOSFETs 106 and 107 are connected to VSS (VSS ≦ VS1).
The drains of the p-channel MOSFETs 104 and 105 are connected to their respective gates, and similarly, the drains of the
The drains of the channel MOSFETs 106 and 107 are also connected to their respective gates. Level-converted complementary outputs are obtained at the outputs 10C, 10D, 10E, and 10F of the respective cross latches.

【0031】本レベル変換回路によると、入力端子10
A,10Bに入力される論理回路の論理レベルであるV
D1,VS1は、次のようにしてレベル変換が行なわれ
る。
According to this level conversion circuit, the input terminal 10
A, V, which is the logic level of the logic circuit input to 10B
D1 and VS1 are level-converted as follows.

【0032】10AがVS1からVD1へ、10BがV
D1からVS1へ変化する場合を考える。nチャネルM
OSFET102はpチャネル交差ラッチ内のMOSF
ET104のドレインがVD1になるまではオン状態で
あるため、10AがVS1からVD1へ変化すると、p
チャネル交差ラッチ内のMOSFET104のドレイン
はVD1に向かって変化する。一方、nチャネルMOS
FET103はオフ状態であったが、10BがVD1か
らVS1に変化するためオン状態となり、その結果pチ
ャネル交差ラッチ内のMOSFET105のドレインは
VS1に向かって変化する。
10A goes from VS1 to VD1 and 10B goes to V
Consider a case where D1 changes to VS1. n channel M
OSFET 102 is the MOSF in the p-channel crossing latch.
Since the drain of the ET 104 is on until the drain of the ET 104 becomes VD1, when 10A changes from VS1 to VD1, p
The drain of MOSFET 104 in the channel crossing latch changes towards VD1. On the other hand, n-channel MOS
Although FET 103 was off, 10B changes from VD1 to VS1 and turns on, with the result that the drain of MOSFET 105 in the p-channel crossing latch changes toward VS1.

【0033】やがて、MOSFET104のドレイン電
圧がVD1近傍の値に上昇することにより、MOSFE
T102はオフ状態となり、論理回路内バッファ回路と
分離されるため最終的には出力10Cは交差ラッチの電
源電圧であるVDDまで上昇する。さらに、MOSFE
T103はオン状態であるため、MOSFET105の
ドレイン電圧である10DはVS1となる。
Eventually, when the drain voltage of MOSFET 104 rises to a value near VD1, MOSFE
Since T102 is turned off and separated from the buffer circuit in the logic circuit, the output 10C eventually rises to VDD which is the power supply voltage of the cross latch. In addition, MOSFE
Since T103 is on, 10D which is the drain voltage of the MOSFET 105 becomes VS1.

【0034】従って、ゲート接地構成のnチャネルMO
SFET102,103とpチャネルMOSFET10
4,105によるpチャネル交差ラッチとを用いること
により、論理レベルVD1,VS1からVDD,VS1
へのレベル変換が行なわれたことになる。このときMO
SFET105はオフ状態であるため、MOSFET1
05を介した消費電流は殆どなく、またMOSFET1
04を介した消費電流はゲート接地nチャネルMOSF
ET102がオフ状態であるため、非常に小さい値とな
り、スタティックな消費電力は殆どゼロとなる。
Therefore, the n-channel MO having the common gate structure is
SFET102,103 and p-channel MOSFET10
4 and 105, using logic levels VD1, VS1 to VDD, VS1.
That is, the level conversion to has been performed. At this time MO
Since the SFET 105 is off, the MOSFET 1
05 consumes almost no current and MOSFET 1
The current consumption via the common gate n-channel MOSF
Since the ET 102 is in the off state, the value is very small, and the static power consumption is almost zero.

【0035】さらに、pチャネル交差ラッチおよびnチ
ャネル交差ラッチそれぞれの出力段には、図1に示すよ
うに、VDDとVS1との間に直列接続されたnチャネ
ルMOSFET108,109からなる第1の出力バッ
ファと、VD1とVSS間に直列接続されたnチャネル
MOSFET110,111からなる逆相出力の第2の
バッファとが設けられている。出力10D,10Cはそ
れぞれnチャネルMOSFET108,109のゲート
に接続されているので、第1の出力バッファからはVD
DとVS1の差分に応じた論理振幅の出力out3が得
られる。
Further, as shown in FIG. 1, a first output comprising n-channel MOSFETs 108 and 109 connected in series between VDD and VS1 is provided at each output stage of the p-channel cross latch and the n-channel cross latch. A buffer and a second buffer of opposite phase output composed of n-channel MOSFETs 110 and 111 connected in series between VD1 and VSS are provided. The outputs 10D and 10C are connected to the gates of the n-channel MOSFETs 108 and 109, respectively.
An output out3 having a logic amplitude corresponding to the difference between D and VS1 is obtained.

【0036】ここでは、ゲート接地構成のnチャネルM
OSFET102,103とpチャネルMOSFET1
04,105による交差ラッチ側でのレベル変換を説明
したが、同時にゲート接地構成のpチャネルMOSFE
T100,101とnチャネルMOSFET106,1
07による交差ラッチ側でも同様の機能により論理レベ
ルVD1,VS1からVD1,VSSへのレベル変換が
行なわれる。さらに、出力10E,10Fがnチャネル
MOSFET110,111のゲートにそれぞれ接続さ
れているので、第2の出力バッファからはout3とは
逆相で、VD1とVSSの差分に応じた論理振幅の出力
out4が得られる。
Here, an n-channel M having a grounded gate structure is used.
OSFET102,103 and p-channel MOSFET1
The level conversion on the side of the cross latch by the transistors 04 and 105 has been described.
T100, 101 and n-channel MOSFET 106, 1
The level conversion from the logic levels VD1 and VS1 to VD1 and VSS is performed by the same function on the side of the crossing latch 07. Further, since the outputs 10E and 10F are respectively connected to the gates of the n-channel MOSFETs 110 and 111, an output out4 having a logical amplitude corresponding to the difference between VD1 and VSS is obtained from the second output buffer in a phase opposite to that of out3. can get.

【0037】このように、低電圧動作の論理回路の出力
及びその論理的反転出力をゲート接地回路を介して各交
差ラッチに導くことにより、各交差ラッチを構成する2
つのFETを相補入力によって駆動することが可能とな
り、交差ラッチの利得特性を高めることが可能となる。
ゲート接地回路を構成するpチャネルMOSFET10
0と101は互いに相補動作し、またゲート接地回路を
構成するnチャネルMOSFET102と103も互い
に相補動作するので、回路の動作マージンを大きくする
ことが可能となり、それらFETの素子特性に対する制
限が緩やかになる。
As described above, the output of the logic circuit operating at a low voltage and its logically inverted output are led to the respective cross latches via the common gate circuit, thereby forming each cross latch.
One FET can be driven by the complementary input, and the gain characteristic of the cross latch can be improved.
P-channel MOSFET 10 constituting a grounded gate circuit
Since 0 and 101 operate complementarily to each other, and the n-channel MOSFETs 102 and 103 constituting the grounded gate circuit operate complementarily to each other, the operation margin of the circuit can be increased, and the restrictions on the element characteristics of the FETs are moderate. Become.

【0038】図2は、本発明の第2実施形態に係るレベ
ル変換回路を示す図である。論理回路からの相補信号2
0A,20Bを入力する図1と同じレベル変換回路20
0と、pチャネルMOSFET201,202、nチャ
ネルMOSFET203,204から構成され、出力は
20G,20Hから得られる。pチャネルMOSFET
201とnチャネルMOSFET203からなるCMO
Sインバータは第1の出力バッファとして用いられ、同
様にpチャネルMOSFET202とnチャネルMOS
FET204からなるCMOSインバータは第1の出力
バッファとは逆相出力の第2の出力バッファとして用い
られる。
FIG. 2 is a diagram showing a level conversion circuit according to a second embodiment of the present invention. Complementary signal 2 from logic circuit
0A and 20B are input to the same level conversion circuit 20 as in FIG.
0, p-channel MOSFETs 201 and 202, and n-channel MOSFETs 203 and 204, and outputs are obtained from 20G and 20H. p-channel MOSFET
CMO consisting of 201 and n-channel MOSFET 203
The S inverter is used as a first output buffer, and similarly, a p-channel MOSFET 202 and an n-channel MOS
The CMOS inverter composed of the FET 204 is used as a second output buffer having an output opposite in phase to the first output buffer.

【0039】まず、図1と同じレベル変換回路200に
より論理レベルVD1,VS1からVD1,VSSにレ
ベル変換された相補出力20C,20D及びVD1,V
SSへのレベル変換が行なわれた相補出力20E,20
Fが得られる。そこで、20Cと20Eは論理的には同
一であるので20CをpチャネルMOSFET201の
ゲートに、20EをnチャネルMOSFET203のゲ
ートに入力することにより、出力端子20GにVDDま
たはVSSの論理レベルを出力することができ、レベル
変換が行なわれる。
First, the complementary outputs 20C, 20D and VD1, V whose level has been converted from logic levels VD1, VS1 to VD1, VSS by the same level conversion circuit 200 as in FIG.
Complementary outputs 20E, 20 having undergone level conversion to SS
F is obtained. Therefore, since 20C and 20E are logically the same, the logic level of VDD or VSS is output to the output terminal 20G by inputting 20C to the gate of the p-channel MOSFET 201 and 20E to the gate of the n-channel MOSFET 203. And level conversion is performed.

【0040】また、同様に、20DをpチャネルMOS
FET202のゲートに、20FをnチャネルMOSF
ET204のゲートに入力することにより、20Hから
は出力端子20Gの論理反転出力が得られる。
Similarly, 20D is a p-channel MOS
20F is connected to the gate of the FET 202 by an n-channel MOSF.
By inputting to the gate of the ET 204, a logically inverted output of the output terminal 20G is obtained from 20H.

【0041】よって、VDDとVSSの差分に応じたよ
り大きな論理振幅を得ることが可能となる。
Therefore, it is possible to obtain a larger logic amplitude according to the difference between VDD and VSS.

【0042】図1、図2に関わる本発明の回路に関して
具体的に説明する。ここでは、0.25μmCMOSプ
ロセスを前提とした検討結果を述べる。まず、電源電圧
としVDD,VD1,VS1,VSSをそれぞれ3V,
1.75V,1.25V,0Vとする。内部論理回路の
実効的電源電圧VD1−VS1は0.5Vであり、従っ
て0.5Vの論理振幅を3Vに変換するものとする。こ
こで、論理回路の出力をCMOSインバータ出力として
そのpチャネルMOSFETのゲート幅を120μm、
nチャネルMOSFETのゲート幅を60μmとし、こ
のインバータ回路出力のレベル変換を行なうものとす
る。
The circuit of the present invention relating to FIGS. 1 and 2 will be specifically described. Here, a description will be given of the results of a study based on a 0.25 μm CMOS process. First, VDD, VDD1, VS1, and VSS are set to 3 V, respectively, as power supply voltages.
1.75V, 1.25V, and 0V. The effective power supply voltage VD1-VS1 of the internal logic circuit is 0.5V, and therefore, the logic amplitude of 0.5V is converted to 3V. Here, the output of the logic circuit is a CMOS inverter output, and the gate width of the p-channel MOSFET is 120 μm.
It is assumed that the gate width of the n-channel MOSFET is 60 μm and the level conversion of the output of the inverter circuit is performed.

【0043】まずゲート接地pチャネルMOSFET1
00,101のゲート幅として30μm、同じくnチャ
ネルMOSFET102,103のゲート幅として15
μmとし、また交差ラッチ内のpチャネルMOSFET
104,105のゲート幅は6μm、nチャネルMOS
FET106,107のゲート幅は3μm、図1の出力
バッファ内のnチャネルMOSFET108〜111の
ゲート幅はそれぞれ3μmで、さらに図2の出力バッフ
ァ内のpチャネルMOSFET201,202のゲート
幅は6μm、nチャネルMOSFET203,204の
ゲート幅は3μmである。尚、検討の際のFETの閾値
電圧の設計中心は、MOSFET100〜107につい
ては内部論理回路と同一(pチャネルの場合はVtp1
=−0.5V,nチャネルの場合はVtn1=0.15
V)とし、図1の出力バッファ内のnチャネルMOSF
ET108〜111、および図2の出力バッファ内のM
OSFET201〜204は、3V電源におけるリーク
電力を減らす目的で絶対値としてやや大きい値(Vtp
2=−0.5V,Vtn2=0.5V)とした。
First, a gate-grounded p-channel MOSFET 1
The gate width of 00 and 101 is 30 μm, and the gate width of n-channel MOSFETs 102 and 103 is 15 μm.
μm and a p-channel MOSFET in the cross latch
The gate width of each of 104 and 105 is 6 μm, and n-channel MOS
The gate width of the FETs 106 and 107 is 3 μm, the gate width of each of the n-channel MOSFETs 108 to 111 in the output buffer of FIG. 1 is 3 μm, and the gate width of the p-channel MOSFETs 201 and 202 in the output buffer of FIG. The gate width of each of the MOSFETs 203 and 204 is 3 μm. The design center of the threshold voltage of the FET at the time of the study is the same as the internal logic circuit for the MOSFETs 100 to 107 (Vtp1 for the p-channel).
= -0.5V, Vtn1 = 0.15 for n channels
V) and the n-channel MOSF in the output buffer of FIG.
ET 108-111 and M in the output buffer of FIG.
OSFETs 201 to 204 have a slightly larger absolute value (Vtp) for the purpose of reducing the leakage power in the 3V power supply.
2 = -0.5V, Vtn2 = 0.5V).

【0044】pチャネルMOSFETとnチャネルMO
SFETの閾値電圧をパラメータとし100MHzの信
号を入力した際の動作検討を行なった。この際、図3に
示すように、交差ラッチにおけるデータ反転を高速に行
うためにゲート接地MOSFET100〜103の基板
電位(ウェル電位)をゲート電位と同一にしている。こ
れは、ゲート接地のMOSFET100〜103をより
オフ状態になりやすいようにするためであり、実際には
CMOSプロセスにおけるMOSFETのウエル電位も
しくはSOIプロセスにおけるMOSFETのボディ電
位は、ゲート電圧と同一にすることを意味する。
P-channel MOSFET and n-channel MO
The operation was examined when a 100 MHz signal was input using the threshold voltage of the SFET as a parameter. At this time, as shown in FIG. 3, the substrate potential (well potential) of the gate-grounded MOSFETs 100 to 103 is made equal to the gate potential in order to perform the data inversion in the cross latch at high speed. This is to make the gate-grounded MOSFETs 100 to 103 more likely to be turned off. In practice, the well potential of the MOSFET in the CMOS process or the body potential of the MOSFET in the SOI process should be the same as the gate voltage. Means

【0045】これにより、小さな素子サイズで、交差ラ
ッチを駆動するゲート接地回路の駆動能力を高めること
ができ、またpチャネルMOSFET100,101を
同一のnウェルに形成でき、同様にnチャネルMOSF
ET102,103も同一のpウェルに形成できること
から、回路面積の縮小を図ることが可能となる。
As a result, the driving capability of the gate ground circuit for driving the cross latch can be increased with a small element size, and the p-channel MOSFETs 100 and 101 can be formed in the same n-well.
Since the ETs 102 and 103 can be formed in the same p well, the circuit area can be reduced.

【0046】内部論理回路の閾値電圧(|Vtp1|,
Vtn1)を実際のプロセスの変動幅以上の0Vから
0.25Vまで変え、(|Vtp2|,Vtn2)を
0.3Vから0.7Vまで変えたが、0.5V電源の内
部論理回路の速度が問題となる(Vtp1,Vtn1)
=(−0.25V,0.25V)の場合以外は、100
MHzと高速な動作にも関わらず問題なく動作している
ことを確認した。また、動作特性はVtp2,Vtn2
には殆ど依存しないことも判った。一方、図8に示す従
来型回路では、前述のようにレベル変換機能が、MOS
FET701,702の閾値電圧が0Vから0.05V
程度の極めて狭い領域のみの確認にとどまっており、素
子特性に対する許容度の観点で従来技術に対する優位性
を確認した。
The threshold voltage (| Vtp1 |,
Vtn1) was changed from 0 V, which is more than the fluctuation width of the actual process, to 0.25 V, and (| Vtp2 |, Vtn2) was changed from 0.3 V to 0.7 V. However, the speed of the internal logic circuit of the 0.5 V power supply was increased. It becomes a problem (Vtp1, Vtn1)
= 100 except when = (-0.25V, 0.25V)
It was confirmed that it was operating without any problem despite its high-speed operation at MHz. The operating characteristics are Vtp2, Vtn2
It was also found that they hardly depended on. On the other hand, in the conventional circuit shown in FIG.
The threshold voltage of the FETs 701 and 702 is from 0 V to 0.05 V
Only the extremely narrow region was confirmed, and the superiority over the prior art was confirmed from the viewpoint of the allowance for the device characteristics.

【0047】また、電源電圧に関しても4電源の場合に
とどまらず、図6に示す3電源の場合即ちVDD=3
V、VD1=0.5V、VSI=0V、VSS=0Vの
場合、VDD=1.2V、及びVD1=0.5V、VS
I=0V、VSS=0Vの場合に関しても検討を行い、
問題なく動作することを確認した。
The power supply voltage is not limited to the case of four power supplies, but is the case of three power supplies shown in FIG. 6, ie, VDD = 3.
V, VD1 = 0.5V, VSI = 0V, VSS = 0V, VDD = 1.2V, VD1 = 0.5V, VS
Consider the case of I = 0V and VSS = 0V,
It works without any problems.

【0048】図1、図2、図3の回路はいずれも一つの
例であり、例えば1)電源電圧に関してもVDD≧VD
1>VS1≧VSSを満たせばよく、また2)出力回路
として単相出力とする、3)あるいは本回路を入出力回
路に適用する、3)ゲート接地回路に於けるウエル電位
あるいはボディ電位をソース電位と等しくする、等の種
々の構成を用いることができる。
Each of the circuits shown in FIGS. 1, 2 and 3 is one example. For example, 1) VDD ≧ VDD
1> VS1 ≧ VSS, and 2) a single-phase output as an output circuit 3) or this circuit is applied to an input / output circuit 3) A well potential or a body potential in a grounded gate circuit is a source Various configurations such as making the potential equal to the potential can be used.

【0049】また、図1においては、正側と負側それぞ
れについてレベル変換を行ったが、ゲート接地型のnチ
ャネルMOSFET102,103と、pチャネルMO
SFET104,105からなるpチャネル交差ラッチ
を用いて正側のレベル変換のみを行ったり、あるいはゲ
ート接地形のpチャネルMOSFET100,101
と、nチャネルMOSFET106,107からなるn
チャネル交差ラッチとを用いて負側のレベル変換のみを
行う構成にしても良い。また、出力バッファとしてCM
OSインバータを利用すれば、交差ラッチの相補出力信
号のいずれか一方のみを出力バッファに入力信号として
与える構成を利用することもできる。
In FIG. 1, the level conversion is performed for each of the positive side and the negative side. However, grounded n-channel MOSFETs 102 and 103 and a p-channel
Only the positive-side level conversion is performed using a p-channel crossing latch composed of SFETs 104 and 105, or p-channel MOSFETs 100 and 101 of a grounded gate type.
And n composed of n-channel MOSFETs 106 and 107
A configuration in which only the negative-side level conversion is performed using a channel crossing latch may be employed. In addition, CM as an output buffer
If an OS inverter is used, it is also possible to use a configuration in which only one of the complementary output signals of the cross latch is supplied to the output buffer as an input signal.

【0050】さらに、図2においても、互いに相補出力
の2つの出力バッファを用いたが、いずれか一方のみの
出力バッファのみを設ける構成であっても良い。また、
各FETとしては絶縁ゲート型のものを用いれば良く、
MOSに限らず、MIS型のFETを用いても良いこと
はもちろんである。
Further, in FIG. 2, two output buffers having mutually complementary outputs are used, but a configuration in which only one of the output buffers is provided may be used. Also,
Insulated gate type FETs may be used for each FET.
It goes without saying that an MIS type FET may be used instead of the MOS.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の半導体集
積回路によれば、相補入力のゲート接地回路を用いて交
差ラッチを駆動するように構成することにより、交差ラ
ッチの利得特性を高め、交差ラッチによる出力大振幅化
を実現し回路の低消費電力化を図れる。また相補入力と
することにより回路マージンの増大を図り、素子特性に
対する制限の緩やかなレベル変換回路を実現できる。
As described above in detail, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the gain characteristic of the cross latch is improved by driving the cross latch using the grounded gate circuit of the complementary input. In addition, a large output can be realized by a cross latch, and the power consumption of the circuit can be reduced. Further, by using complementary inputs, a circuit margin can be increased, and a level conversion circuit with a moderate restriction on element characteristics can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係る半導体集積回路で
用いられるレベル変換回路を示す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a level conversion circuit used in a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施形態に係る半導体集積回路で
用いられるレベル変換回路を示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a level conversion circuit used in a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図3】第1或いは第2実施形態のレベル変換回路内に
設けられるゲート接地回路の詳細を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing details of a gate ground circuit provided in the level conversion circuit according to the first or second embodiment.

【図4】複数の電源を供給する半導体集積回路とその電
源系の構成を示すブロック図。
FIG. 4 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit that supplies a plurality of power supplies and a power supply system thereof.

【図5】低電圧で動作する論理回路を有し複数の電源を
供給する半導体集積回路とその電源系の構成を示すブロ
ック図。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit having a logic circuit operating at a low voltage and supplying a plurality of power supplies, and a power supply system thereof;

【図6】低電圧で動作する論理回路を有し複数の電源を
供給する半導体集積回路とその電源系の構成を示すブロ
ック図。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit having a logic circuit operating at a low voltage and supplying a plurality of power supplies, and a power supply system thereof;

【図7】CMOSインバータを用いた従来のレベル変換
回路の回路図。
FIG. 7 is a circuit diagram of a conventional level conversion circuit using a CMOS inverter.

【図8】交差ラッチを用いた従来のレベル変換回路の回
路図。
FIG. 8 is a circuit diagram of a conventional level conversion circuit using a cross latch.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,101 ゲート接地pチャネルMOSFET 102,103 ゲート接地nチャネルMOSFET 104,105 交差ラッチを構成するpチャネルM
OSFET 106,107 交差ラッチを構成するnチャネルM
OSFET 10A,10B 論理回路からの相補信号 10C,10D レベル1を出力する相補信号 10E,10F レベル2を出力する相補信号 200 レベル変換回路 201,202 pチャネルMOSFET 203,204 nチャネルMOSFET 20A,20B 論理回路からの相補信号 20C,20D レベル1を出力する相補信号 20E,20F レベル2を出力する相補信号 20G,20H レベル3を出力する相補信号 400 リチウムイオン2次電池 401 電源電圧変換回路 402 論理回路 403 オンチップ記憶回路 404 レベル変換回路 500 リチウムイオン2次電池 501 電源電圧変換回路 502 論理回路 503 オンチップ記憶回路 504 オンチップ記憶回路 505 オンチップ記憶回路 506 半導体集積回路 507 pチャネルMOSFET 508 nチャネルMOSFET 600 NiH2次電池 601 電源電圧変換回路 602 論理回路 603 pチャネルMOSFET 604 オンチップ記憶回路 605 半導体集積回路 700 CMOSインバータ回路 800 ゲート接地pチャネルMOSFET 801 ゲート接地nチャネルMOSFET 802 pチャネルMOSFETによる交差ラッチ 803 nチャネルMOSFETによる交差ラッチ
100, 101 Common-gate p-channel MOSFET 102, 103 Common-gate n-channel MOSFET 104, 105 p-channel M constituting crossing latch
OSFETs 106 and 107 n-channel M constituting crossing latch
OSFET 10A, 10B Complementary signal 10C, 10D from logic circuit Complementary signal 10E, 10F outputting level 1 Complementary signal outputting level 2 200 Level conversion circuit 201, 202 p-channel MOSFET 203, 204 n-channel MOSFET 20A, 20B logic Complementary signals from the circuit 20C, 20D Complementary signals 20E, 20F outputting level 1 Complementary signals 20G, 20H outputting level 2 Complementary signals outputting level 3 400 Lithium ion secondary battery 401 Power supply voltage conversion circuit 402 Logic circuit 403 On-chip storage circuit 404 Level conversion circuit 500 Lithium ion secondary battery 501 Power supply voltage conversion circuit 502 Logic circuit 503 On-chip storage circuit 504 On-chip storage circuit 505 On-chip storage circuit 506 Semiconductor integrated circuit 507 p-channel MOSFET 508 n-channel MOSFET 600 NiH secondary battery 601 power supply voltage conversion circuit 602 logic circuit 603 p-channel MOSFET 604 on-chip storage circuit 605 semiconductor integrated circuit 700 CMOS inverter circuit 800 gate-grounded p-channel MOSFET 801 gate-grounded n-channel MOSFET 802 Cross latch with p-channel MOSFET 803 Cross latch with n-channel MOSFET

フロントページの続き (72)発明者 大内 和則 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 吉田 雅子 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 Fターム(参考) 5B024 AA01 BA29 CA07 5F038 BG03 BG10 BH07 BH19 EZ20 5J056 AA32 BB01 BB17 BB49 CC00 CC21 DD13 DD28 DD29 EE06 FF09 GG06 Continuing on the front page (72) Inventor Kazunori Ouchi 1 Toshiba-cho, Komukai Toshiba-cho, Saitama-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture (72) Masako Yoshida Inventor 1 Masako Yoshida 1 Address F-term in Toshiba R & D Center (reference) 5B024 AA01 BA29 CA07 5F038 BG03 BG10 BH07 BH19 EZ20 5J056 AA32 BB01 BB17 BB49 CC00 CC21 DD13 DD28 DD29 EE06 FF09 GG06

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いにレベルが異なる第1及び第2の電
源を有する半導体集積回路において、 論理回路部からの第1の論理出力とその反転信号である
第2の論理出力にそれぞれの一端が接続され、それぞれ
のゲートが前記第1及び第2の電源の一方に接続された
第1導電型の第1及び第2のFETと、前記第1及び第
2の電源の他方にそれぞれの一端が接続され、それぞれ
の他端が相手のゲートに接続された第2導電型の第3及
び第4のFETとを有し、前記第1導電型の第1及び第
2のFETそれぞれの他端を前記第2導電型の第3及び
第4のFETそれぞれの他端に接続し、前記第2導電型
の第3または第4のFETの他端の信号を出力信号とし
て出力することを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having first and second power supplies having different levels from each other, one end of each of which is connected to a first logic output from a logic circuit unit and a second logic output which is an inverted signal thereof. And first and second FETs of the first conductivity type, each having a gate connected to one of the first and second power supplies, and one end connected to the other of the first and second power supplies. And a third and fourth FET of the second conductivity type having the other end connected to the gate of the other party, and the other end of the first and second FETs of the first conductivity type, respectively. A semiconductor connected to the other end of each of the third and fourth FETs of the second conductivity type, and outputting a signal at the other end of the third or fourth FET of the second conductivity type as an output signal; Integrated circuit.
【請求項2】 前記第1の電源は前記第2の電源よりも
高レベルの電源であり、 前記第1及び第2のFETの各々はゲートが前記第2の
電源に接続されたnチャネル型のFETであり、 前記第3及び第4のFETの各々はソースが前記第1の
電源に接続されたpチャネル型のFETであることを特
徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
2. The first power supply is a power supply having a higher level than the second power supply. Each of the first and second FETs is an n-channel type having a gate connected to the second power supply. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein each of said third and fourth FETs is a p-channel FET whose source is connected to said first power supply.
【請求項3】 前記第1及び第2の電源とは異なるレベ
ルの第3の電源をさらに有し、 前記第1及び第2の電源の他方と前記第3の電源が動作
電源として供給され、前記第3または第4のFETの他
端の信号に応じた出力信号を出力するバッファ回路をさ
らに具備することを特徴とする請求項1記載の半導体集
積回路。
A third power supply having a different level from the first and second power supplies, wherein the other of the first and second power supplies and the third power supply are supplied as operation power supplies; 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a buffer circuit that outputs an output signal according to a signal at the other end of the third or fourth FET.
【請求項4】 それぞれの電位レベルがV1≧V2>V
3≧V4の関係を満たす接地を含む第1から第4の電源
を有し、前記第2及び第3の電源を用いた論理回路部を
含む半導体集積回路において、 前記論理回路部の第1の論理出力にソースが接続されゲ
ートが前記第2の電源に接続された第1のnチャネルF
ETと、前記第1の論理出力にソースが接続されゲート
が前記第3の電源に接続された第1のpチャネルFET
と、前記第1の論理出力の反転信号である第2の論理出
力にソースが接続されゲートが前記第2の電源に接続さ
れた第2のnチャネルFETと、前記第2の論理出力に
ソースが接続されゲートが前記第3の電源に接続された
第2のpチャネルFETと、それぞれのソースが前記第
1の電源に接続され、且つそれぞれのドレインが相手の
ゲートに接続された第3及び第4のpチャネルFET
と、それぞれのソースが前記第4の電源に接続され、且
つそれぞれのドレインが相手のゲートに接続された第3
及び第4のnチャネルFETとを有し、前記第1のnチ
ャネルFETのドレインを前記第3のpチャネルFET
のドレインに接続し、前記第2のnチャネルFETのド
レインを前記第4のpチャネルFETのドレインに接続
し、前記第1のpチャネルFETのドレインを前記第3
のnチャネルFETのドレインに接続し、前記第2のp
チャネルFETのドレインを前記第4のnチャネルFE
Tのドレインに接続し、前記第3及び第4のpチャネル
FETのドレインの2端子を第1のレベルとして出力
し、前記第3,第4のnチャネルFETのドレインの2
端子を第2のレベルとして出力するレベル変換回路を具
備することを特徴とする半導体集積回路。
4. Each potential level is V1 ≧ V2> V
A semiconductor integrated circuit including first to fourth power supplies including a ground satisfying a relationship of 3 ≧ V4 and including a logic circuit unit using the second and third power supplies; A first n-channel F having a source connected to the logic output and a gate connected to the second power supply
ET and a first p-channel FET having a source connected to the first logic output and a gate connected to the third power supply
A second n-channel FET having a source connected to a second logic output, which is an inverted signal of the first logic output, and a gate connected to the second power supply; and a source connected to the second logic output. And a second p-channel FET having a gate connected to the third power supply, a third p-channel FET having a source connected to the first power supply, and a drain connected to a counterpart gate. Fourth p-channel FET
And a third source in which each source is connected to the fourth power source and each drain is connected to the gate of the other.
And a fourth n-channel FET, wherein the drain of the first n-channel FET is connected to the third p-channel FET.
, The drain of the second n-channel FET is connected to the drain of the fourth p-channel FET, and the drain of the first p-channel FET is connected to the third
And the drain of the second p-channel FET
The drain of the channel FET is connected to the fourth n-channel FE
T, the drain of the third and fourth p-channel FETs are output as a first level, and the drain of the third and fourth n-channel FETs is output as a first level.
A semiconductor integrated circuit comprising a level conversion circuit that outputs a terminal as a second level.
【請求項5】 前記第1の電源と前記第4の電源との間
にソース・ドレイン間の電流通路が直列接続されたpチ
ャネルFETおよびnチャネルFETを含むバッファ回
路をさらに具備し、 前記レベル変換回路の第1レベル出力または第2レベル
出力の一方を、前記バッファ回路を構成するpチャネル
FETおよびnチャネルFETのゲートに共通接続した
ことを特徴とする請求項4記載の半導体集積回路。
5. A buffer circuit comprising a p-channel FET and an n-channel FET in which a current path between a source and a drain is connected in series between the first power supply and the fourth power supply, 5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein one of the first level output and the second level output of the conversion circuit is commonly connected to gates of a p-channel FET and an n-channel FET constituting the buffer circuit.
【請求項6】 前記第1及び第2のpチャネルFETの
ウエル電位は前記第3の電源に等しく、前記第1及び第
2のnチャネルFETのウエル電位は前記第2の電源に
等しいことを特徴とする請求項4または5記載の半導体
集積回路。
6. The method according to claim 1, wherein the well potentials of the first and second p-channel FETs are equal to the third power supply, and the well potentials of the first and second n-channel FETs are equal to the second power supply. The semiconductor integrated circuit according to claim 4 or 5, wherein:
【請求項7】 前記第1及び第2のpチャネルFETは
n型の同一のウェル内に形成され、且つ前記第1及び第
2のnチャネルFETはp型の同一のウェル内に形成さ
れていることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1
項記載の半導体集積回路。
7. The first and second p-channel FETs are formed in the same n-type well, and the first and second n-channel FETs are formed in the same p-type well. 7. The method according to claim 4, wherein
13. A semiconductor integrated circuit according to claim 1.
【請求項8】 前記バッファ回路内の各FETの閾値電
圧の絶対値は、前記レベル変換回路内の各FETの閾値
電圧の絶対値よりも大きく設定されていることを特徴と
する請求項4記載の半導体集積回路。
8. An absolute value of a threshold voltage of each FET in the buffer circuit is set to be larger than an absolute value of a threshold voltage of each FET in the level conversion circuit. Semiconductor integrated circuit.
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