JP2001272787A - Image forming material - Google Patents

Image forming material

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JP2001272787A
JP2001272787A JP2000084899A JP2000084899A JP2001272787A JP 2001272787 A JP2001272787 A JP 2001272787A JP 2000084899 A JP2000084899 A JP 2000084899A JP 2000084899 A JP2000084899 A JP 2000084899A JP 2001272787 A JP2001272787 A JP 2001272787A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative type image forming material capable of direct recording from digital data of a computer or the like by recording with IR laser and capable of giving a planographic printing plate excellent in image forming property and printing resistance. SOLUTION: The image forming material is obtained by successively disposing a silicate coating, a middle layer containing a silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction under a radical and a photosensitive layer containing (A) an IR absorbent, (B) a radical generating agent, (C) a radical polymerizable compound and (D) a binder polymer on an aluminum base. The middle layer may be disposed by bonding the addition reactive functional group to the surface of the aluminum substrate using the organic silicone compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づいて赤外線レーザを走査することに
より直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネ
ガ型画像形成材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called direct plate-making negative type image forming material which can directly make a plate by scanning an infrared laser based on a digital signal from a computer or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色又は緑色を発光するレーザを用い露光する
光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層した
もの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art Heretofore, as a system for directly making a plate from digital data of a computer, an electrophotographic system, a photopolymerization system for exposing with a laser emitting blue or green light, and a silver salt on a photosensitive resin are known. Laminated ones, silver salt diffusion transfer methods, and the like have been proposed.

【0003】しかしながら、の電子写真法を用いるも
のは、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑で
あり、装置が複雑で大がかりなものになる。また、の
光重合系によるものでは、青色や緑色の光に対して高感
度な版材を使用するため、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため現像等の処理
が煩雑になる、処理廃液中に銀が含まれる等の欠点があ
る。
However, in the case of using the electrophotographic method, the processes of image formation such as charging, exposure, and development are complicated, and the apparatus is complicated and large. In the case of the photopolymerization system, since a plate material having high sensitivity to blue or green light is used, handling in a bright room becomes difficult. The methods (1) and (2) have drawbacks in that processing such as development becomes complicated because silver salts are used, and silver is contained in the processing waste liquid.

【0004】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できるようになっている。コンピ
ュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が
760nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線
レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザ
で記録可能な材料が望まれている。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have become easily available with high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength in the visible light range of 760 nm or less, and therefore cannot record images with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0005】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料として、US4、708、925号に記載さ
れている、オニウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤
より成る記録材料がある。この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する現像液に対する溶
解抑止効果を利用したポジ型の画像記録材料であり、本
発明のようなネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録
材料としては、赤外線吸収剤、酸発生剤、レゾール樹脂
及びノボラック樹脂より成る記録材料がUS5,34
0,699号に記載されている。しかしながら、このよ
うなネガ型の画像記録材料は、画像形成のためにはレー
ザ露光後に140〜200℃で50〜120秒程度加熱
する加熱処理が必要であり、このため、露光後の加熱処
理に大掛かりな装置とエネルギーとを必要としていた。
例えば、特開平8−108621号公報には、光重合性
組成物を用いたネガ型の画像形成材料が開示され、ここ
では記録層の熱重合を促進させるために、画像露光と同
時に加熱を行う旨の記載がある。露光工程において同時
に加熱を行うことは、加熱により近傍の空気に熱ゆらぎ
を与え、レーザーの焦点をぼかし、画像形成性に影響を
与えたり、熱によりレーザー素子の寿命を短縮させるな
どの問題があり、好ましくない。
As an image recording material recordable by such an infrared laser, there is a recording material comprising an onium salt, a phenol resin and a spectral sensitizer described in US Pat. No. 4,708,925. This image recording material is a positive type image recording material utilizing the effect of suppressing dissolution in a developer, which is exhibited by an onium salt and a phenol resin, and is not a negative type as in the present invention. On the other hand, as a negative type image recording material, a recording material comprising an infrared absorber, an acid generator, a resol resin and a novolak resin is disclosed in US Pat.
0,699. However, such a negative type image recording material requires a heat treatment of heating at 140 to 200 ° C. for about 50 to 120 seconds after laser exposure in order to form an image. It required extensive equipment and energy.
For example, JP-A-8-108621 discloses a negative-type image forming material using a photopolymerizable composition. Here, in order to promote thermal polymerization of a recording layer, heating is performed simultaneously with image exposure. There is a statement to the effect. Simultaneous heating in the exposure process has problems such as heating giving thermal fluctuations to the nearby air, blurring the laser focus, affecting image forming properties, and shortening the life of the laser element due to heat. Is not preferred.

【0006】また、特公平7−103171号には、特
定の構造を有するシアニン色素、ヨードニム塩及びエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物よ
り成る、画像様露光後の加熱処理を必要としない記録材
料が記載されているが、この画像記録材料は、重合反応
時に空気中の酸素により重合阻害がおこり、感度の低下
や、形成された画像部の強度が不充分であるという問題
があった。
Japanese Patent Publication No. 7-103171 discloses a heat treatment after imagewise exposure comprising a cyanine dye having a specific structure, an iodonium salt and an addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond. Although a recording material that is not required is described, this image recording material has a problem that polymerization is inhibited by oxygen in the air during a polymerization reaction, resulting in a decrease in sensitivity and an insufficient strength of a formed image portion. was there.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接記録可能であり、画像形成性及び耐刷性
に優れた平版印刷版を得ることができるネガ型画像形成
材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to record directly using digital data from a computer or the like by recording using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays. An object of the present invention is to provide a negative image forming material capable of obtaining a lithographic printing plate having excellent printing durability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
形成材料の物性に着目し、鋭意検討の結果、支持体と画
像形成用の感光層との間に、特定の中間層を形成するこ
とで解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。即ち、本発明のネガ型画像形成材料は、赤外線レー
ザで記録可能であり、アルミニウム支持体上に、シリケ
ート皮膜、ラジカルによる付加反応を起こし得る官能基
を有するシリコーン化合物を含む中間層、(A)赤外線
吸収剤と、(B)ラジカル発生剤と、(C)ラジカル重
合性化合物と、(D)バインダーポリマーを含む感光層
を、順次設けてなることを特徴とする。
Means for Solving the Problems The present inventor paid attention to the physical properties of a negative-type image forming material, and as a result of intensive studies, formed a specific intermediate layer between a support and a photosensitive layer for image formation. The present invention has been found to be able to solve the problem, and the present invention has been completed. That is, the negative-type image forming material of the present invention can be recorded with an infrared laser, has a silicate film on an aluminum support, an intermediate layer containing a silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction by radicals, (A) A photosensitive layer containing an infrared absorber, (B) a radical generator, (C) a radical polymerizable compound, and (D) a binder polymer is sequentially provided.

【0009】本発明の作用は明確ではないが、アルミニ
ウム支持体上に、常法により陽極酸化皮膜やシリケート
皮膜を形成した後、ラジカルによる付加反応を起こし得
る官能基を有するシリコーン化合物を含む中間層を形成
することで、熱伝導性の高いアルミニウム支持体と感光
層との間に断熱層の機能を有する薄膜が形成されること
になり、露光により発生した熱は露光部の硬化反応に効
率よく使用されることになり、高感度でオン/オフがク
リアで良好な画像が形成され、さらに、中間層に含まれ
る付加反応を起こし得る官能基を有するシリコーン化合
物と感光層中のラジカル重合性化合物とが相互作用によ
り強固に結合し、画像部の密着性、即ち、耐刷性の向上
に寄与するものと考えられる。
Although the function of the present invention is not clear, an intermediate layer containing a silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction by radicals after forming an anodic oxide film or a silicate film on an aluminum support by a conventional method. By forming, a thin film having the function of a heat insulating layer is formed between the aluminum support having high thermal conductivity and the photosensitive layer, and the heat generated by the exposure is efficiently used for the curing reaction of the exposed portion. A silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction contained in the intermediate layer and having a functional group capable of causing an addition reaction, and a radical polymerizable compound in the photosensitive layer are formed. Are strongly bound by the interaction and contribute to the improvement of the adhesion of the image area, ie, the printing durability.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の画像形成材料は、アルミ
ニウム基板に陽極酸化処理などの公知の表面処理を行
い、シリケート皮膜を形成して親水化した後、ラジカル
による付加反応を起こし得る官能基を有するシリコーン
化合物を含む中間層を介して感光層を形成してなること
を特徴とする。この中間層を形成する前に、アルミニウ
ム基板に一般的な陽極酸化処理などの表面処理を行った
後、シリケート処理により親水化処理を行ったアルミニ
ウム支持体を用いることが好ましく、まず、この支持体
の調整方法について簡単に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The image forming material of the present invention is obtained by subjecting an aluminum substrate to a known surface treatment such as anodic oxidation treatment, forming a silicate film and hydrophilizing the functional group, which can cause an addition reaction by radicals. Characterized in that a photosensitive layer is formed via an intermediate layer containing a silicone compound having the following formula: Before forming this intermediate layer, it is preferable to use an aluminum support which has been subjected to a surface treatment such as a general anodic oxidation treatment on an aluminum substrate and then subjected to a hydrophilization treatment by a silicate treatment. The method of adjusting is briefly described.

【0011】[支持体]本発明の方法に係るネガ型画像
形成材料は、前記感光層を支持体上に塗布して形成され
る。ここで用い得る支持体としては、寸度的に安定な板
状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチッ
ク(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アル
ミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィル
ム等が例示される。好ましい支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。
[Support] The negative-working image forming material according to the method of the present invention is formed by coating the photosensitive layer on a support. The support that can be used here is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Examples thereof include cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited. Preferred supports include a polyester film or an aluminum plate.

【0012】本発明の画像形成材料に使用する支持体と
しては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れたア
ルミニウム板を使用することが好ましい。この目的に供
されるアルミニウム材質としては、JIS 1050
材、JIS 1100材、JIS 1070材、Al−
Mg系合金、Al−Mn系合金、Al−Mn−Mg系合
金、Al−Zr系合金。Al−Mg−Si系合金などが
挙げられる。
As the support used in the image forming material of the present invention, it is preferable to use an aluminum plate which is lightweight and has excellent surface treatment properties, workability and corrosion resistance. Aluminum materials used for this purpose include JIS 1050
Material, JIS 1100 material, JIS 1070 material, Al-
Mg-based alloy, Al-Mn-based alloy, Al-Mn-Mg-based alloy, Al-Zr-based alloy. Al-Mg-Si alloys and the like can be mentioned.

【0013】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む前記の如き合金板であり、更にアルミニウムがラミネ
ートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は10重量%以下である。アルミニウム板として
は、純アルミニウムが好ましいが、完全に純粋なアルミ
ニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元
素を含有するものでもよい。このように、アルミニウム
板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公
知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することが
できる。前記アルミニウム板の厚みとしては、およそ
0.1〜0.6mm程度が好ましく、0.15〜0.4
mmがより好ましく、0.2〜0.3mmが特に好まし
い。
The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or the above-mentioned alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon,
There are iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by weight or less. As the aluminum plate, pure aluminum is preferable. However, since pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, it may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate is preferably about 0.1 to 0.6 mm, and 0.15 to 0.4 mm.
mm is more preferable, and 0.2 to 0.3 mm is particularly preferable.

【0014】前記アルミニウム板を粗面化するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば
界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによ
る脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化
処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法により行
われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研
磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を
用いることができる。また、電気化学的な粗面化法とし
ては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行
う方法がある。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte.

【0015】この様に粗面化されたアルミニウム板は、
必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理さ
れた後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。陽極酸化による、陽極酸
化皮膜の量は、1.0g/m 2以上が好ましい。陽極酸
化皮膜の量が、1.0g/m2未満の場合には、耐刷性
が不十分であったり、平版印刷版として用いた場合に
は、非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分
にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる
ことがある。前記陽極酸化処理を施された後、前記アル
ミニウムの表面には、下記に詳述する親水化処理が施さ
れる。
[0015] The aluminum plate thus roughened is
Alkaline etching treatment and neutralization treatment as necessary
After removal, if necessary, the water retention and abrasion resistance of the surface can be increased.
Anodizing treatment is performed for the purpose. Anodizing, by anodizing
1.0 g / m TwoThe above is preferred. Anodic acid
1.0 g / mTwoIf less than, press life
Is insufficient or used as a lithographic printing plate
Indicates that the non-image area is easily scratched and
So-called "scratch stain" that ink adheres to the surface
Sometimes. After being subjected to the anodizing treatment,
The surface of the minium is subjected to a hydrophilization treatment described in detail below.
It is.

【0016】また、このようなアルミニウム支持体は陽
極酸化処理後に有機酸またはその塩による処理または、
感光層塗布の下塗り層を適用して用いることができる。
Further, such an aluminum support is treated with an organic acid or a salt thereof after anodizing treatment, or
An undercoat layer applied to a photosensitive layer can be applied for use.

【0017】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合
物および特開平6−35174号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
After the above-mentioned treatment or undercoating is applied to the surface of the support, a back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is used. It is preferably used.

【0018】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと感光層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.
65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難くく、著しく検版性が悪いものとなってしまう。
The preferred characteristics of the lithographic printing plate support are center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. If it is less than 0.10 μm, the adhesion to the photosensitive layer is reduced,
Significant reduction in printing durability occurs. If it is larger than 1.2 μm, the stain on printing will be deteriorated. Further, the color density of the support is 0.15 to 0.5 as a reflection density value.
65, and when it is whiter than 0.15, the halation at the time of image exposure is too strong and hinders image formation.
When it is darker than 0.65, the image is difficult to see in the plate inspection work after development, and the plate inspection property is extremely poor.

【0019】ここで、前記陽極酸化処理が施された後に
施される親水化処理について説明する。本発明における
親水化処理はシリケート皮膜の形成であり、シリケート
皮膜はSi元素量として2〜40mg/m2、より好ま
しくは4〜30mg/m2形成される。塗布量はケイ光
X線分析法により測定でき、Si元素量を測定すること
ができる。上記の親水化処理は、例えば米国特許第2,
714,066号、第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法を適用することができる。この方
法に従い、アルカリ金属ケイ酸塩が1〜30重量%、好
ましくは2〜15重量%であり、25℃のpHが10〜
13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば15〜80℃で0.5〜120秒
浸漬する。
Here, the hydrophilizing treatment performed after the anodic oxidation treatment is described. Hydrophilic treatment in the present invention is the formation of a silicate coating, silicate coating to 40 mg / m 2 as a Si element content, more preferably 4 to 30 mg / m 2 formed. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis, and the Si element amount can be measured. The above-mentioned hydrophilization treatment is performed, for example, in US Pat.
No. 714,066, No. 3,181,461, No. 3,2
The alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method disclosed in JP-A-80,734 and JP-A-3,902,734 can be applied. According to this method, the alkali metal silicate is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C is 10 to 10% by weight.
The aluminum substrate on which the anodized film is formed is immersed in the aqueous solution of No. 13 at, for example, 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

【0020】本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩と
しては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム
などが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを
高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。
なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IV
B族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩とし
ては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩
酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性
の塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。ア
ルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族金属塩は単独又は
2以上組み合わせて使用することができる。これらの金
属塩の好ましい範囲は0.01〜10重量%であり、更
に好ましい範囲は0.05〜5.0重量%である。
As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide.
In addition, alkaline earth metal salts or IV
A group B metal salt may be blended. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. No. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride and the like. Can be. Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and the more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.

【0021】このような親水化処理を行ったAl支持体
にラジカルによって付加反応を起こし得る官能基(以
下、付加反応性官能基と呼ぶ)を有するシリコーン化合
物を含む中間層を形成するものであるが、この中間層の
形成は、有機シリコーン化合物を原料として用いた中間
層塗布液を調製し、前記支持体に塗設する方法により行
われるのが好ましい。具体的には、付加反応性官能基を
1と表わした時、下記式(1)で表わされる有機シリ
コーン化合物(以下、有機シリコーン化合物(1)と称
する)を用いてアルミニウム基板を処理することによ
り、基板表面の金属、金属酸化物、水酸化物、−OH
基、又は基板の化成処理によって形成されたシラノール
基などと反応させて基板表面と共有結合を形成させ、下
記式(2)で示される官能基を基板表面に結合(又は植
え付け)させればよい。 R1Si(OR2)3 (1) 式中、−OR2は加水分解可能なアルコキシ基又は−O
COCH3基を表す。
An intermediate layer containing a silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction by radicals (hereinafter referred to as an addition-reactive functional group) is formed on the Al support subjected to such a hydrophilic treatment. However, the formation of the intermediate layer is preferably performed by a method of preparing an intermediate layer coating solution using an organic silicone compound as a raw material and coating the intermediate layer with the support. Specifically, when the addition-reactive functional group is represented by R 1 , treating an aluminum substrate with an organic silicone compound represented by the following formula (1) (hereinafter referred to as an organic silicone compound (1)): The metal, metal oxide, hydroxide, -OH on the substrate surface
By reacting with a group or a silanol group formed by chemical conversion treatment of the substrate to form a covalent bond with the substrate surface, a functional group represented by the following formula (2) may be bonded (or implanted) to the substrate surface. . R 1 Si (OR 2 ) 3 (1) wherein —OR 2 is a hydrolyzable alkoxy group or —O
Represents a COCH 3 group.

【0022】[0022]

【化1】 Embedded image

【0023】式中、R3はR2と同種もしくは異種のアル
キル基又は水素原子、もしくは隣接する別のSi原子と
の結合を表わす。上記において、付加反応性官能基(R
1)が中央のSi原子に2個以上結合した下記式(1
a)又は(1b)で表わされる有機シリコ−ン化合物
(1a)(1b)を用いることもできる。
In the formula, R 3 represents the same or different alkyl group or hydrogen atom as R 2 , or a bond to another adjacent Si atom. In the above, the addition reactive functional group (R
1 ) wherein at least two Si atoms are bonded to the central Si atom,
The organic silicone compounds (1a) and (1b) represented by a) or (1b) can also be used.

【0024】[0024]

【化2】 Embedded image

【0025】また、付加反応性官能基(R1)が−O−
を介して中央のSi原子に結合する官能基である場合
は、下記構造で表される有機シリコーン化合物(1c)
を用いることもできる。
Further, when the addition-reactive functional group (R 1 ) is —O—
When the functional group is bonded to the central Si atom via
Can also be used.

【0026】[0026]

【化3】 Embedded image

【0027】有機シリコーン化合物(1)は、中央のS
i原子に結合する4個のR1のうち少なくとも1個が加
水分解されずに残っている状態の時にアルミニウム基板
に塗布される。有機シリコーン化合物(1)をアルミニ
ウム基板上に塗設する際、このものを単独で用いてもよ
く、又は適当な溶媒で希釈して用いてもよい。アルミニ
ウム基板上で有機シリコーン化合物(1)をより強固に
結合させるために、水及び/又は触媒を加えることがで
きる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキ
シレングリコール等のアルコール類が好ましく、触媒と
しては塩酸、酢酸、リン酸、硫酸などの酸、又はアンモ
ニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの塩
基が使用できる。
The organic silicone compound (1) has
It is applied to the aluminum substrate when at least one of the four R 1 bonded to the i atom remains without being hydrolyzed. When the organic silicone compound (1) is applied on an aluminum substrate, it may be used alone or may be used after being diluted with a suitable solvent. Water and / or a catalyst can be added to bind the organosilicone compound (1) more firmly on the aluminum substrate. As the solvent, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, and hexylene glycol are preferable.As the catalyst, acids such as hydrochloric acid, acetic acid, phosphoric acid, and sulfuric acid, or ammonia, and tetramethylammonium hydroxide and the like Bases can be used.

【0028】アルミニウム基板上の付加反応性官能基の
量は、結合させる付加反応性官能基の種類によって異な
るが、100Å2当り一般に0.01〜400個、好ま
しくは0.05〜40個、更に好ましくは0.1〜5個
とすることが適当である。付加反応性官能基量が100
2当り0.01個より少ないと十分な光接着強度が得
られ難い。有機シリコーン化合物(1)を厚く塗り重ね
ることによって、100Å2当りの付加反応性官能基の
量は実質的に幾らでも多くすることが可能であるが、最
表面に露出して反応に与る付加反応性官能基の量は10
0Å2当り高々10個程度であるので、厚く塗り過ぎて
も機能向上に関与しない官能基が増えるのみとなり無駄
になる。ここで、付加反応性官能基の量が多すぎること
により、画像形成後に平版印刷版として使用した時の非
画像部の親水性が不足する現象を防止するため、100
2当りの付加反応性官能基の量は400個以内とする
のが好ましい。
The amount of addition-reactive functional groups on the aluminum substrate varies depending on the type of addition-reactive functional group to be bonded, 2 per generally 0.01 to 400 pieces 100 Å, preferably from 0.05 to 40, still Preferably, it is appropriate to set the number to 0.1 to 5. The amount of the addition reactive functional group is 100
と If the number is less than 0.01 per 2, it is difficult to obtain a sufficient optical adhesive strength. Organic silicone compounds by overlaying thick painted (1), the amount of addition-reactive functional groups per 100 Å 2 is capable of many substantially much additional partake in the reaction exposed on the outermost surface The amount of reactive functional groups is 10
Because it is 0Å 2 per sales people 10 or so, wasted will only increase the functional groups which do not participate in the function improved too coating thick. Here, in order to prevent a phenomenon that the hydrophilicity of the non-image portion becomes insufficient when used as a lithographic printing plate after image formation due to an excessive amount of the addition-reactive functional group,
量 The amount of the addition-reactive functional group per 2 is preferably 400 or less.

【0029】従って、有機シリコーン化合物を用いてア
ルミニウム基板表面に付加反応性官能基を結合し(植え
付け)、中間層を形成する際には、有機シリコーン化合
物を希釈する溶媒の種類と量、基板表面上での加水分解
用に加える水の量(加える場合)、基板表面上での加水
分解を促進するための触媒の種類と量(加える場合)、
有機シリコーン化合物の溶液を基板上に施用する方法、
基板に施用した後の乾燥雰囲気、乾燥温度、乾燥時間等
のプロセスパラメータを種々変更し、基板表面に保持さ
れる付加反応性官能基量が上記の量の範囲内となるよう
に制御することが必要である。アルミニウム基板表面に
保持される付加反応性官能基の量は、処理後の基板表面
を適当な方法、例えばケイ光X線分析法、赤外線吸収法
等の方法で測定し、表面にあるSi原子量の定量、炭素
−炭素の多重結合量の定量等を行なうことによって決定
することができる。
Accordingly, when an addition-reactive functional group is bonded (planted) to the aluminum substrate surface using an organic silicone compound and an intermediate layer is formed, the type and amount of a solvent for diluting the organic silicone compound, the substrate surface The amount of water to add for hydrolysis above (if any), the type and amount of catalyst to promote hydrolysis on the substrate surface (if any),
A method of applying a solution of an organic silicone compound on a substrate,
The process parameters such as the drying atmosphere, the drying temperature, and the drying time after being applied to the substrate are variously changed, and the amount of the addition-reactive functional group retained on the substrate surface can be controlled to be within the above range. is necessary. The amount of the addition-reactive functional group retained on the aluminum substrate surface is measured by an appropriate method such as a fluorescent X-ray analysis method or an infrared absorption method on the substrate surface after the treatment, and the amount of the Si atom on the surface is determined. It can be determined by performing quantification, quantification of the amount of carbon-carbon multiple bonds, and the like.

【0030】上記の如くアルミニウム基板上に陽極酸化
皮膜及びシリケート皮膜を形成し、更にその表面に前記
の如き手段により付加反応性官能基を結合させることに
より中間層を形成する。このような中間層を形成した支
持体を用いて画像形成材料を構成する場合、前記式
(1)の有機シリコーン化合物のみを用いた場合、印刷
汚れを生じる場合がある。これは、有機シリコーン化合
物の有機官能基が、現像液で感光層を除去された後の未
露光部(親水性の撥インク領域となる)の表面に露出す
ることになり、これらの有機官能基の影響により、水の
他にインクも付着し易くなるためのと考えられる。この
ため、このような有機官能基の影響を抑制し、より親水
性を高くするために、付加反応性官能基(R1)の他に
OH基を多く固定して親水性を強くすることが好まし
い。好ましくは、アルミニウム基板表面への付加反応性
官能基の結合において、式(1)で表わされる有機シリ
コーン化合物(1)〔R1Si(OR2)3〕の他に、下記式
(3)で表わされる有機シリコーン化合物を併用し、基
板表面に前記式(2)で示される反応サイトを結合する
と同時に、下記式(4)で示される親水性サイトを結合
することが好ましい。 Si(OR4)4 (3) 式中、−OR4は加水分解可能なアルコキシ基、アルコ
キシアルコキシ基、アリールオキシ基又は−OCOCH
3基である。なお、R4は併用される有機シリコーン化合
物(1)におけるR2と同じであっても異なってもよ
い。
An anodic oxide film and a silicate film are formed on an aluminum substrate as described above, and an additional reactive functional group is bonded to the surface of the anodic oxide film and the silicate film to form an intermediate layer. When an image forming material is formed using a support having such an intermediate layer formed thereon, when only the organosilicone compound of the above formula (1) is used, printing smear may occur. This means that the organic functional groups of the organosilicone compound are exposed on the surface of the unexposed portion (which becomes a hydrophilic ink-repellent area) after the photosensitive layer is removed with a developer, and these organic functional groups are exposed. It is considered that due to the influence of the ink, the ink easily adheres in addition to the water. Therefore, in order to suppress the influence of such organic functional groups and increase the hydrophilicity, it is necessary to fix a large number of OH groups in addition to the addition-reactive functional groups (R 1 ) to enhance the hydrophilicity. preferable. Preferably, in addition of the organosilicone compound (1) [R 1 Si (OR 2 ) 3 ] represented by the formula (1), the addition of the addition-reactive functional group to the surface of the aluminum substrate is represented by the following formula (3). It is preferred that the organic silicone compound represented by the formula (2) is used in combination to bind the reaction site represented by the formula (2) to the substrate surface and, at the same time, bind the hydrophilic site represented by the following formula (4). Si (OR 4 ) 4 (3) wherein —OR 4 is a hydrolyzable alkoxy group, alkoxyalkoxy group, aryloxy group or —OCOCH
There are three . R 4 may be the same as or different from R 2 in the organic silicone compound (1) used in combination.

【0031】[0031]

【化4】 Embedded image

【0032】ここで、式(4)中、R3はアルキル基、
水素原子、又は隣接する別のSi原子との結合を表わす
が、R3が水素原子であることが親水性の面からは最も
好ましい。なお、R3が水素原子以外のもののときは、
必要に応じて、表面をアルカリ溶液で洗うことによっ
て、親水性を高めることができる。
Here, in the formula (4), R 3 is an alkyl group,
It represents a hydrogen atom or a bond with another adjacent Si atom, and it is most preferable that R 3 is a hydrogen atom from the viewpoint of hydrophilicity. When R 3 is other than a hydrogen atom,
If necessary, the hydrophilicity can be increased by washing the surface with an alkaline solution.

【0033】前記式(1)で表される有機シリコーン化
合物(1)と式(3)で表される有機シリコーン化合物
(3)との混合比は、支持体の性状によってそれぞれの
ものの支持体表面への結合(植えつけ)効率が変動する
ため、一概に好適な範囲を決めることができない。しか
し、具体的には、両者の比を種々に変えて支持体処理を
行ない、付加反応性官能基R1に基づく光接着性と、式
(4)で示される部分構造に由来する親水性とが両立す
る条件を実験的に確定して使用することになる。いずれ
にしても、付加反応性官能基の密度が前記範囲内になる
ようにすればよい。具体的には、有機シリコーン化合物
(1)に対する有機シリコーン化合物(3)の混合モル
比は0.05〜200が適当であるが、好ましくは0.
2〜100、更に好ましくは1〜40である。またこの
範囲内で、有機シリコーン化合物(3)に由来する親水
性基の量を多くすればするほど非画像部の親水性が増
す。ただし、親水性基の密度が低い場合でも、先にのべ
たように、形成された塗膜表面をアルカリ溶液で処理す
るなどの付加反応性官能基を親水化処理することによっ
て親水性基の密度を向上させることができる。
The mixing ratio of the organosilicone compound (1) represented by the formula (1) and the organosilicone compound (3) represented by the formula (3) depends on the properties of the support and the surface of the support. Since the efficiency of binding (planting) to the fluctuates, a suitable range cannot be determined. However, specifically, the support is treated by changing the ratio of the two, and the photo-adhesion based on the addition-reactive functional group R 1 and the hydrophilicity derived from the partial structure represented by the formula (4) are obtained. Are determined experimentally and used. In any case, the density of the addition-reactive functional group should be within the above range. Specifically, the mixing molar ratio of the organosilicone compound (3) to the organosilicone compound (1) is suitably from 0.05 to 200, preferably from 0.1 to 200.
It is 2-100, more preferably 1-40. Further, within this range, as the amount of the hydrophilic group derived from the organic silicone compound (3) increases, the hydrophilicity of the non-image portion increases. However, even when the density of the hydrophilic group is low, as described above, the density of the hydrophilic group is obtained by hydrophilizing the addition-reactive functional group such as treating the surface of the formed coating film with an alkaline solution. Can be improved.

【0034】アルミニウム基板表面への付加反応性官能
基の結合させ、本発明に係る中間層を形成には、大別す
ると、有機シリコーン化合物をそのまま用いることから
なる上述の方法(以下、SC法と呼ぶ)の他に、有機シ
リコーン化合物を加水分解するとともに重縮合させて得
られた−Si−O−Si−結合を含む無機高分子に付加
反応性官能基が固定された形の有機無機複合体を用いる
ことからなる方法(以下、SG法と呼ぶ)がある。この
有機無機複合体をアルミニウム基板に塗布して乾燥させ
ると、無機高分子部分が基板と密着し、付加反応性官能
基はそのまま基板表面上に残る。
The bonding of the addition-reactive functional group to the surface of the aluminum substrate to form the intermediate layer according to the present invention can be roughly classified into the above-described methods (hereinafter, referred to as SC method) using an organic silicone compound as it is. In addition, an organic-inorganic composite in which an addition-reactive functional group is fixed to an inorganic polymer having a -Si-O-Si- bond obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic silicone compound. (Hereinafter referred to as SG method). When this organic-inorganic composite is applied to an aluminum substrate and dried, the inorganic polymer portion adheres to the substrate, and the addition-reactive functional group remains on the substrate surface as it is.

【0035】SC法の場合、アルミニウム基板表面にお
ける付加反応性官能基の結合位置は基板表面上の特定の
性質をもった位置となりやすく、基板表面上に一様に分
布させるのが困難な場合がある。つまり、特定の酸点や
塩基点においてのみSi原子との間の共有結合が形成さ
れ、付加反応性官能基の分布がアルミニウム基板表面の
酸点や塩基点の分布に支配されやすい。従って、光接着
強度や非画像部親水性にムラを生じる場合がある。こう
した状況の時はSG法に従うのが有利である。
In the case of the SC method, the bonding position of the addition-reactive functional group on the surface of the aluminum substrate tends to be a position having a specific property on the substrate surface, and it may be difficult to uniformly distribute the functional group on the surface of the substrate. is there. That is, a covalent bond with the Si atom is formed only at a specific acid point or base point, and the distribution of the addition-reactive functional group is likely to be controlled by the distribution of acid points or base points on the aluminum substrate surface. Therefore, unevenness may occur in the optical adhesive strength and the non-image area hydrophilicity. In such situations, it is advantageous to follow the SG method.

【0036】細かく見れば、SC法、SG法の他に、両
者の方法の中間の態様、例えば式(1)で表される有機
シリコーン化合物(1)中の−OR2基の一部もしくは
全部が加水分解して2分子又は3分子が結合した形の有
機シリコーン化合物を出発原料として用いる処理も可能
である。SG法による付加反応性官能基の結合法に従え
ば、有機シリコーン化合物(1)を、場合により有機シ
リコーン化合物(3)と所望の混合比に混合し、液中
で、必要により触媒の存在下で、付加反応性官能基R1
では反応を起さずに−OR2及び−OR4の部位において
加水分解させるとともに重縮合反応を行なわせて、中心
のSi原子が−Si−O−Si−結合で連結された無機
高分子を含む液状組成物として、これを前記アルミニウ
ム基板表面に塗布し、場合により乾燥させることによっ
て、基板上に付加反応性官能基により結合された中間層
を形成する。SG法を用いると、アルミニウム基板表面
上に結合固定される付加反応性官能基の分布が基板表面
の酸点や塩基点などの化学的な性質の分布に左右される
ことが少ない。また、出発原料として有機シリコーン化
合物(1)の他に有機シリコーン化合物(3)を併用す
る場合、上記式(2)で示される付加反応性官能基サイ
トと上記式(4)で示される親水性サイトとの相対比が
有機シリコーン化合物(1)及び化合物(3)の仕込み
比でほぼ決められるため、最適表面を得るための処方決
定がSC法よりも容易に行えるという利点がある。
In detail, in addition to the SC method and the SG method, in addition to the intermediate methods of both methods, for example, a part or all of the —OR 2 group in the organosilicone compound (1) represented by the formula (1) It is also possible to use a treatment in which an organosilicone compound in which two or three molecules are hydrolyzed and bonded is used as a starting material. According to the method of bonding the addition-reactive functional group by the SG method, the organosilicone compound (1) is optionally mixed with the organosilicone compound (3) at a desired mixing ratio, and the mixture is added in a liquid, if necessary, in the presence of a catalyst. And the addition-reactive functional group R 1
In it causes hydrolysis at the site of -OR 2 and -OR 4 without causing the reaction to perform the polycondensation reaction, an inorganic polymer Si atoms in the center are connected with -Si-O-Si- bonds A liquid composition containing the composition is applied to the surface of the aluminum substrate and, if necessary, dried to form an intermediate layer bonded by an addition-reactive functional group on the substrate. When the SG method is used, the distribution of the addition-reactive functional group bonded and fixed on the aluminum substrate surface is hardly influenced by the distribution of chemical properties such as acid sites and base sites on the substrate surface. When the organic silicone compound (3) is used in combination with the organic silicone compound (1) as a starting material, the addition-reactive functional group site represented by the above formula (2) and the hydrophilicity represented by the above formula (4) are used. Since the relative ratio to the site is substantially determined by the charged ratio of the organic silicone compound (1) and the compound (3), there is an advantage that the prescription for obtaining the optimum surface can be determined more easily than the SC method.

【0037】本発明で使用する上記式(1)で示される
有機シリコーン化合物(1)の具体例として、以下のも
のを挙げることができる。
Specific examples of the organic silicone compound (1) represented by the above formula (1) used in the present invention include the following.

【0038】[0038]

【化5】 Embedded image

【0039】[0039]

【化6】 Embedded image

【0040】[0040]

【化7】 Embedded image

【0041】また、式(3)で示される有機シリコーン
化合物(3)の具体例としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン、テトラ(n−プロポキシ)シラン、テトラ(n−ブ
トキシ)シラン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シ
ラン、テトラキス(2−エチルヘキシルオキシ)シラ
ン、テトラキス(2−メトキシエトキシ)シラン、テト
ラフェノキシシラン、テトラアセトキシシランなどを挙
げることができ、中でもテトラエトキシシランが好まし
い。
Specific examples of the organic silicone compound (3) represented by the formula (3) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra (n-propoxy) silane, tetra (n-butoxy) ) Silane, tetrakis (2-ethylbutoxy) silane, tetrakis (2-ethylhexyloxy) silane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane, tetraphenoxysilane, tetraacetoxysilane, etc., among which tetraethoxysilane is preferable. .

【0042】アルミニウム基板表面へ中間層を形成する
のにSC法を用いる場合、SG法を用いる場合のいずれ
においても、溶媒の種類、基板への施用方法、乾燥方法
等は共通であるが、SG法の場合、付加反応性官能基が
保持された無機高分子組成物を予め調液しておく必要が
ある。以下にその好ましい具体例を示す。有機シリコー
ン化合物(1)及び有機シリコーン化合物(3)を加水
分解とともに重縮合させてSG法に好適な組成物とする
のに使用できる溶媒は、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘ
キシレングリコール等のアルコール類である。溶媒の使
用量は、使用する有機シリコーン化合物(1)及び
(3)の総重量に基づいて、一般に0.2〜500倍、
好ましくは0.5〜50倍、更に好ましくは1〜3倍で
ある。使用量が0.2倍より少ないと反応液が経時でゲ
ル化しやすく不安定となり好ましくない。また、500
倍より多いと、反応が数日を要するようになり好ましく
ない。有機シリコーン化合物を加水分解するために加え
る水の量は、一般に有機シリコーン化合物1モル当り
0.5〜1000モル、好ましくは1〜100モル、更
に好ましくは1.5〜10モルである。水の量が有機シ
リコーン化合物1モル当り、0.5モルより少ない時
は、加水分解とそれに続く重縮合反応の進行が非常に遅
くなり、安定な表面処理が可能となるまでに数日を要し
好ましくない。一方、水の量が有機シリコーン化合物1
モル当り1000モルより多くなると、生成した組成物
を金属表面に塗設した場合密着不良を起す他、組成物の
経時安定性が悪く、すぐにゲル化してしまうことが多い
ため、塗布作業を安定して行ないにくくなる。
When the SC method is used to form the intermediate layer on the surface of the aluminum substrate, or when the SG method is used, the type of solvent, the method of applying to the substrate, and the method of drying are the same. In the case of the method, it is necessary to prepare an inorganic polymer composition having an addition reactive functional group in advance. Preferred examples are shown below. Solvents that can be used to polycondensate the organosilicone compound (1) and the organosilicone compound (3) together with hydrolysis to obtain a composition suitable for the SG method include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, and hexylene. Alcohols such as glycols. The amount of the solvent used is generally 0.2 to 500 times, based on the total weight of the organosilicone compounds (1) and (3) used,
Preferably it is 0.5 to 50 times, more preferably 1 to 3 times. If the used amount is less than 0.2 times, the reaction solution is apt to gel over time and becomes unstable, which is not preferable. Also, 500
If it is more than twice, the reaction takes several days, which is not preferable. The amount of water added to hydrolyze the organic silicone compound is generally 0.5 to 1000 mol, preferably 1 to 100 mol, more preferably 1.5 to 10 mol, per 1 mol of the organic silicone compound. When the amount of water is less than 0.5 mol per mol of the organic silicone compound, the progress of the hydrolysis and the subsequent polycondensation reaction becomes very slow, and it takes several days for stable surface treatment to be possible. But not preferred. On the other hand, when the amount of water is
If the amount is more than 1000 moles per mole, when the resulting composition is applied to a metal surface, poor adhesion may occur, and the composition may have poor stability over time and gelate immediately, often stabilizing the coating operation. It becomes difficult to do.

【0043】SG法に好適な組成物を調液するための反
応温度は室温〜100℃程度が常用されるが、以下に述
べる触媒の種類によっては室温以下あるいは100℃以
上の温度を用いることもできる。溶媒の沸点よりも高い
温度で反応させることも可能であり、必要に応じて反応
器に還流冷却器を付設するのがよい。必要に応じて使用
される触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢
酸、リンゴ酸、シュウ酸などの酸、又はアンモニア、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウムなどの塩基が使用できる。触媒の
添加量は、有機シリコーン化合物(1)及び場合により
追加される有機シリコーン化合物(3)の合計量を基準
として、有機シリコーン化合物1モル当り0.001〜
1モル、好ましくは0.002〜0.7モル、更に好ま
しくは0.003〜0.4モルである。触媒添加量を1
モルより多くしても、その添加効果に比べて経済的に特
に利益があるわけではない。
The reaction temperature for preparing a composition suitable for the SG method is usually from room temperature to about 100 ° C., but depending on the type of catalyst described below, a temperature below room temperature or above 100 ° C. may be used. it can. It is also possible to carry out the reaction at a temperature higher than the boiling point of the solvent, and if necessary, a reflux condenser may be provided in the reactor. Examples of the catalyst used as necessary include acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, malic acid, and oxalic acid, and bases such as ammonia, tetramethylammonium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium hydroxide. Can be used. The catalyst is added in an amount of 0.001 to 0.001 mol per mol of the organic silicone compound based on the total amount of the organic silicone compound (1) and the organic silicone compound (3) optionally added.
1 mol, preferably 0.002 to 0.7 mol, more preferably 0.003 to 0.4 mol. Add 1 catalyst
More than a mole does not have a particular economic benefit compared to its additive effect.

【0044】酢酸、リンゴ酸等の弱酸を触媒として使用
する時は、反応温度を40℃〜100℃の範囲とするの
が有利であるが、硫酸、硝酸等の強酸を触媒として使用
する時は10℃〜60℃の範囲がよい。リン酸を触媒と
して用いる場合は10℃〜90℃で反応を行なわせるこ
とができる。SG法に用いる組成物の調液工程、及びこ
れをアルミニウム基板に塗布し乾燥する工程で、多くの
場合熱が加えられるが、揮発性の酸を触媒として使用す
ると、周囲の装置に揮発して付着し、これを腐食させる
場合がある。主として鉄を素材として用いる工程で本方
法を使用する場合は、不揮発性の硫酸及び/又はリン酸
を触媒として用いるのが好ましい。
When a weak acid such as acetic acid or malic acid is used as a catalyst, the reaction temperature is preferably in the range of 40 ° C. to 100 ° C. However, when a strong acid such as sulfuric acid or nitric acid is used as a catalyst, The range of 10 ° C to 60 ° C is good. When phosphoric acid is used as a catalyst, the reaction can be performed at 10 ° C to 90 ° C. In the process of preparing the composition used in the SG method, and in the process of applying and drying the composition on an aluminum substrate, heat is often applied. However, when a volatile acid is used as a catalyst, the volatile acid volatilizes in peripheral devices. It may adhere and corrode it. When the present method is used in a step mainly using iron as a raw material, it is preferable to use nonvolatile sulfuric acid and / or phosphoric acid as a catalyst.

【0045】以上述べたように、式(1)及び(3)で
表わされる有機シリコーン化合物と、有機溶媒、水、及
び場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、
反応時間、及び場合により適当な攪拌条件を選んで反応
させると、加水分解とともに重縮合反応が起りSi−O
−Si結合を含む高分子又はコロイド状高分子が生成
し、液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。有機シリ
コーン化合物(1)及び有機シリコーン化合物(3)の
両方使用してゾル液を調製する場合、両方の有機シリコ
ーン化合物を反応の最初から反応容器内に装荷してもよ
く、あるいは一方のみで加水分解と重縮合反応をある程
度進めた後に他方の有機シリコーン化合物を加え、反応
を終了させてもよい。SG法で用いる上記ゾル液は、室
温で放置すると重縮合反応が引き続き進行しゲル化する
ことがある。従って、一度上記の方法で調液したゾル液
を、アルミニウム基板への塗布時に希釈のために使用す
る予定の溶媒で予じめ希釈して、ゾル液のゲル化を防止
ないし遅延させる方法をとることもできる。
As described above, the composition comprising the organosilicone compound represented by the formulas (1) and (3), the organic solvent, water, and optionally the catalyst is mixed at an appropriate reaction temperature,
When the reaction is carried out by selecting the reaction time and, in some cases, appropriate stirring conditions, a polycondensation reaction occurs together with the hydrolysis, and Si—O
-A polymer or a colloidal polymer containing a Si bond is generated, and the viscosity of the liquid composition is increased to form a sol. When preparing a sol solution using both the organosilicone compound (1) and the organosilicone compound (3), both the organosilicone compounds may be loaded into the reaction vessel from the beginning of the reaction, or only one of them may be used for hydrolyzing. After the decomposition and polycondensation reactions have proceeded to some extent, the other organosilicone compound may be added to terminate the reaction. When the sol liquid used in the SG method is left at room temperature, the polycondensation reaction may continue to proceed and gel. Therefore, the sol liquid once prepared by the above method is diluted in advance with a solvent to be used for dilution at the time of application to an aluminum substrate, and a method of preventing or delaying the gelation of the sol liquid is adopted. You can also.

【0046】SC法及びSG法のいずれにおいても、支
持体上に目的量の有機シリコーン化合物もしくは付加反
応性官能基を結合するために、また支持体上での有機シ
リコーン化合物もしくは付加反応性官能基の分布ムラが
無いようにするために、これらの処理液を支持体に塗布
する前に溶媒を加えて濃度調整を行なうことが好まし
い。この目的に使用する溶媒としてはアルコール類、殊
にメタノールが好適であるが、他の溶剤、有機化合物、
無機添加剤、界面活性剤などを加えることもできる。他
の溶剤の例としては、メチルエチルケトン、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、アセチルアセトン、エチ
レングリコール等を挙げることができる。添加すること
のできる有機化合物の例としては、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ノボラック
樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。無機添
加剤の例としては、コロイダルシリカ、コロイダルアル
ミナなどを挙げることができる。エチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル等の高沸点溶剤
は、支持体に塗布する濃度にまで希釈された液の安定性
を高め、支持体に結合された付加反応性官能基の反応再
現性を保証する働きがある。ノボラック樹脂、ピロガロ
ール−アセトン樹脂等の有機化合物も同様の効果を有す
るが、得られる支持体の表面の親水性を低下させる副作
用があり、添加量を細かく調整する必要がある。
In both the SC method and the SG method, in order to bind a desired amount of an organosilicone compound or an addition-reactive functional group to a support, the organic silicone compound or an addition-reactive functional group on the support is required. It is preferable to adjust the concentration by adding a solvent before applying these treatment liquids to the support in order to eliminate the distribution unevenness of the treatment liquid. Alcohols, especially methanol, are preferred as solvents for this purpose, but other solvents, organic compounds,
Inorganic additives, surfactants and the like can also be added. Examples of other solvents include methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-
Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, acetylacetone, ethylene glycol and the like can be mentioned. Examples of organic compounds that can be added include epoxy resins, acrylic resins, butyral resins, urethane resins, novolak resins, pyrogallol-acetone resins, polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polypropylene glycol, and the like. Examples of the inorganic additive include colloidal silica and colloidal alumina. ethylene glycol,
High-boiling solvents such as ethylene glycol monomethyl ether work to increase the stability of the solution diluted to the concentration applied to the support and ensure the reproducibility of the addition-reactive functional groups bound to the support. . Organic compounds such as a novolak resin and a pyrogallol-acetone resin have the same effect, but have a side effect of reducing the hydrophilicity of the surface of the obtained support, and it is necessary to finely adjust the addition amount.

【0047】SG法に好適なゾル液もしくは液状組成物
は、アルミニウム基板表面に塗設後、風乾ないし加熱乾
燥させると、Si−O−Si結合からなる無機高分子が
ゲル化すると同時に基板表面と共有結合する。乾燥は溶
媒、残留水及び場合により触媒を揮散させるために行な
うものであるが、処理後の基板の使用目的によっては工
程を省くこともできる。SC法においても、この乾燥工
程は溶媒、残留水等の揮散という意味の他に、有機シリ
コーン化合物とアルミニウム基板との密着を確実にする
という意味を有する。従って、目的によっては、乾燥終
了後にも更に温度をかけ、加熱を継続してもよい。乾燥
及び場合により継続されるその後の加熱における最高温
度は付加反応性官能基R1が分解しない範囲にあること
が好ましい。従って、使用できる乾燥温度条件は室温〜
200℃、好ましくは室温〜150℃、更に好ましくは
室温〜120℃である。乾燥時間は一般に30秒〜30
分間、好ましくは45秒〜10分間、更に好ましくは1
分〜3分間である。本発明において用いられる液状組成
物(有機シリコーン化合物もしくはその溶液又はゾル
液)の施工方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジン
グ、スピンコーティング、ドクターブレード塗布等、各
種のものも使用することができ、アルミニウム基板表面
の形状や必要とする処理膜厚等を勘案して決められる。
A sol solution or a liquid composition suitable for the SG method is applied to the surface of an aluminum substrate and then air-dried or heated and dried. Covalently bond. The drying is performed to volatilize the solvent, residual water and optionally the catalyst, but the step can be omitted depending on the purpose of use of the treated substrate. Also in the SC method, this drying step has the meaning of ensuring the close contact between the organosilicone compound and the aluminum substrate in addition to the volatilization of the solvent, residual water and the like. Therefore, depending on the purpose, after the drying is completed, the temperature may be further increased and the heating may be continued. The maximum temperature in the drying and, optionally, subsequent heating is preferably in a range in which the addition-reactive functional group R 1 does not decompose. Therefore, the drying temperature conditions that can be used are from room temperature to
The temperature is 200 ° C, preferably room temperature to 150 ° C, and more preferably room temperature to 120 ° C. Drying time is generally 30 seconds to 30
Minutes, preferably 45 seconds to 10 minutes, more preferably 1 minute
Minutes to 3 minutes. As a method of applying the liquid composition (organic silicone compound or its solution or sol solution) used in the present invention, various types such as brush coating, dip coating, atomizing, spin coating, doctor blade coating, and the like can be used. The thickness is determined in consideration of the shape of the surface of the aluminum substrate, the required film thickness to be processed, and the like.

【0048】上記の如くアルミニウム基板上に、陽極酸
化皮膜及びシリケート皮膜を設け、更に中間層を形成し
てなる支持体上に、後述する感光層を形成することで、
本発明の画像形成材料が得られるが、感光層を塗設する
前に中間層上に、有機下塗層を設けることもできる。こ
の有機下塗層に用いられる有機化合物としては、例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸および
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩など
から選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
By forming an anodized film and a silicate film on an aluminum substrate as described above, and further forming a photosensitive layer described later on a support having an intermediate layer formed thereon,
Although the image forming material of the present invention is obtained, an organic undercoat layer may be provided on the intermediate layer before coating the photosensitive layer. As the organic compound used in the organic undercoat layer, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, organic phosphinic acid such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine Hydroxy Although selected from such as hydrochloric acid salt of an amine having a group, it may be used as a mixture of two or more thereof.

【0049】このような有機下塗層は、次のような方法
で設けることが出来る。即ち、水またはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくは
それらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液
をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水
またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンな
どの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化
合物を溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して
上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって
洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の
方法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%
の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布
などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶
液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム
などの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によ
りpHを調節し、pH1〜12の範囲で使用することも
できる。
Such an organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate and dried to provide water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. An aluminum substrate is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and thereafter, washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, 0.005 to 10% by weight of the above organic compound is used.
Can be applied in various ways. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C.
Preferably, the temperature is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to
20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this can be adjusted with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide or the like, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.

【0050】以上のようにして、所定の処理を行って得
られた支持体上に、先に述べた中間層、下記に詳述する
感光層、さらには、所望により、表面保護層、バックコ
ート層等の他の任意の層を形成することで、本発明のネ
ガ型画像形成材料を得ることができる。
The above-mentioned intermediate layer, the photosensitive layer described in detail below, and, if desired, a surface protective layer and a back coat By forming another optional layer such as a layer, the negative image forming material of the present invention can be obtained.

【0051】本発明の画像形成材料に設けられる感光層
は、(A)赤外線吸収剤と、(B)ラジカル発生剤と、
(C)ラジカル重合性化合物と、(D)バインダーポリ
マーを含み、赤外線レーザで記録可能であることを特徴
とするものである。また、この感光層の上部には、酸素
による(C)ラジカル重合性化合物の重合阻害を防止
し、感光層を保護するためのオーバーコート層をもうけ
ることが好ましい。
The photosensitive layer provided on the image forming material of the present invention comprises (A) an infrared absorber, (B) a radical generator,
It comprises (C) a radical polymerizable compound and (D) a binder polymer, and is recordable by an infrared laser. Further, it is preferable to form an overcoat layer on the photosensitive layer to prevent polymerization inhibition of the (C) radical polymerizable compound by oxygen and to protect the photosensitive layer.

【0052】ここで、このネガ型画像形成材料の感光層
について説明する。このような画像形成材料では赤外線
レーザによる画像様露光により、露光部の(A)赤外線
吸収剤が光熱変換し、発生した熱により(B)ラジカル
発生剤が分解してラジカルが発生し、このラジカルによ
り(C)ラジカル重合性化合物と、(D)バインダーポ
リマーとを含む感光層が硬化して画像部を形成し、さら
に、前記中間層と感光層中のラジカル重合性化合物とが
強固に結合する。その後、後述するアルカリ性現像液に
より現像することで、硬化していない未露光の感光層及
び中間層が除去され、親水性のシリケート皮膜が露出
し、非画像部を形成するものである。
Here, the photosensitive layer of this negative image forming material will be described. In such an image forming material, the (A) infrared absorbent in the exposed portion undergoes photothermal conversion by imagewise exposure with an infrared laser, and the generated heat decomposes (B) the radical generator to generate radicals. As a result, the photosensitive layer containing the (C) radical polymerizable compound and the (D) binder polymer is cured to form an image area, and the intermediate layer and the radical polymerizable compound in the photosensitive layer are firmly bonded. . Thereafter, by developing with an alkaline developer described later, the uncured unexposed photosensitive layer and the intermediate layer are removed, the hydrophilic silicate film is exposed, and a non-image portion is formed.

【0053】感光層の各構成成分につき、順次説明す
る。 [(A)赤外線吸収剤]本発明の目的は、赤外線を発す
るレーザで画像記録することである。このためには、赤
外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤
は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。
この際発生した熱により、ラジカル発生剤が分解し、ラ
ジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸
収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大を
有する染料又は顔料である。
Each component of the photosensitive layer will be described sequentially. [(A) Infrared absorbing agent] An object of the present invention is to record an image with a laser emitting infrared rays. To this end, it is essential to use an infrared absorber. The infrared absorbent has a function of converting the absorbed infrared light into heat.
The heat generated at this time decomposes the radical generator to generate radicals. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

【0054】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as “Dye Handbook” (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned.

【0055】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.

【0056】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.

【0057】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
As another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses a compound represented by the formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.

【0058】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (I) is most preferable.

【0059】[0059]

【化8】 Embedded image

【0060】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R1およびR2は、それぞれ独立に、炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の
保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2
とは互いに結合し、5員環または6員環を形成している
ことが特に好ましい。
In the general formula (I), X 1 is a halogen atom,
Or an X 2 -L 1. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of a photosensitive layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having two or more carbon atoms, further, R 1 and R 2
And particularly preferably combine with each other to form a 5- or 6-membered ring.

【0061】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Z1-は必要
ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred examples of the substituent include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms,
Examples include a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R
7 and R 8 may be the same or different,
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the viewpoint of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferable. Z 1- represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Z 1- is not required. Preferred Z 1− is, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution, a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion,
And sulfonate ions, particularly preferably perchlorate ion, hexafluorophosphate ion and arylsulfonate ion.

【0062】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特願平11−310623号明細書の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (I) which can be suitably used include paragraph [0] of Japanese Patent Application No. 11-310623.
017] to [0019].

【0063】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
The pigment used in the present invention includes
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used.

【0064】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0065】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0066】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution of the image-sensitive layer.

【0067】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0068】これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加して
もよいが、ネガ型画像形成材料を作成した際に、感光層
の波長760nm〜1200nmの範囲における吸収極
大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが好
ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向
がある。光学濃度は前記赤外線吸収剤の添加量と記録層
の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者
の条件を制御することにより得られる。記録層の光学濃
度は常法により測定することができる。測定方法として
は、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の
塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定
された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測
定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録
層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided. However, when a negative image forming material is prepared, It is preferable that the optical density of the photosensitive layer at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is between 0.1 and 3.0. Outside of this range, sensitivity tends to decrease. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorbing agent added and the thickness of the recording layer, a predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a transparent or white support, a coating layer after drying is formed to a recording layer having a thickness appropriately determined in a range necessary for a lithographic printing plate, and a transmission type optical densitometer is used. Examples include a method of measuring, a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum, and measuring a reflection density.

【0069】[(B)ラジカル発生剤]本発明において
用いられるラジカル発生剤は、(A)赤外線吸収剤と組
み合わせて用い、赤外線レーザを照射した際にラジカル
を発生する化合物を指す。ラジカル発生剤としては、オ
ニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合
物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノ
ンジアジドなどが挙げられるが、オニウム塩が高感度で
あり、好ましい。本発明においてラジカル重合開始剤と
して好適に用い得るオニウム塩について説明する。好ま
しいオニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウ
ム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、
これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合
の開始剤として機能する。本発明において好適に用いら
れるオニウム塩は、下記一般式(III)〜(V)で表さ
れるオニウム塩である。
[(B) Radical generator] The radical generator used in the present invention refers to a compound which is used in combination with (A) an infrared absorber and generates a radical when irradiated with an infrared laser. Examples of the radical generator include an onium salt, a triazine compound having a trihalomethyl group, a peroxide, an azo-based polymerization initiator, an azide compound, and quinonediazide. An onium salt is preferable because of its high sensitivity. The onium salt that can be suitably used as a radical polymerization initiator in the present invention will be described. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention,
These onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. Onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (III) to (V).

【0070】[0070]

【化9】 Embedded image

【0071】式(III)中、Ar11とAr12は、それぞ
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。
In the formula (III), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. When the aryl group has a substituent, preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a 12 or less carbon atom. Aryloxy groups. Z 11- represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and is preferably a perchlorate ion or a hexafluorophosphate. And arylsulfonate ions.

【0072】式(IV)中、Ar21は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数1
2個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21 -はZ11-
と同義の対イオンを表す。
In the formula (IV), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and a 12 or less carbon atom. Alkylamino group, dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, 1 carbon atom
An arylamino group having 2 or less or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms is exemplified. Z 21 - is Z 11-
Represents a counter ion having the same meaning as

【0073】式(V)中、R31、R32及びR33は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。
In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

【0074】本発明において、ラジカル発生剤として好
適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、
特願平11−310623号明細書の段落番号[003
0]〜[0033]に記載されたものを挙げることがで
きる。
In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used as a radical generator include:
Paragraph number [003 of Japanese Patent Application No. 11-310623]
0] to [0033].

【0075】本発明において用いられるラジカル発生剤
は、極大吸収波長が400nm以下であることが好まし
く、さらに360nm以下であることが好ましい。この
ように吸収波長を紫外線領域にすることにより、画像形
成材料の取り扱いを白灯下で実施することができる。
The radical generator used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, more preferably 360 nm or less. By setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the image forming material can be handled under a white light.

【0076】これらのラジカル発生剤は、感光層塗布液
の全固形分に対し0.1〜50重量%、好ましくは0.
5〜30重量%、特に好ましくは1〜20重量%の割合
で感光層塗布液中に添加することができる。添加量が
0.1重量%未満であると感度が低くなり、また50重
量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これ
らのラジカル発生剤は、1種のみを用いても良いし、2
種以上を併用しても良い。また、これらのラジカル発生
剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を
設けそこへ添加してもよい。
These radical generators are used in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight, based on the total solid content of the coating solution for the photosensitive layer.
It can be added to the photosensitive layer coating solution at a ratio of 5 to 30% by weight, particularly preferably 1 to 20% by weight. If the amount is less than 0.1% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the non-image area is stained during printing. One of these radical generators may be used alone, or 2
More than one species may be used in combination. In addition, these radical generators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

【0077】[(C)ラジカル重合性化合物]本発明に
使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。こ
の様な化合物群は当該産業分野において広く知られるも
のであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用い
る事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。
[(C) Radical polymerizable compound] The radical polymerizable compound used in the present invention is a radical polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has a terminal ethylenically unsaturated bond. At least one
, Preferably two or more compounds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the invention without any particular limitation. These have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters and amides thereof, and are preferred. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an epoxy, a monofunctional or A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving group such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like.

【0078】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特願平11−3
10623号明細書の段落番号[0037]〜[004
2]に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。
Specific examples of acrylates, methacrylates, itaconic esters, crotonic esters, isocrotonic esters, and maleic esters which are radically polymerizable compounds which are esters of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid For example, Japanese Patent Application No. 11-3
No. 10623, paragraphs [0037] to [004]
2], and these can be applied to the present invention.

【0079】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, and JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

【0080】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0081】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Examples of other preferable amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0082】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。
Further, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group are also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule to which a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (VI) is added. And vinyl urethane compounds containing at least two polymerizable vinyl groups.

【0083】一般式(VI) CH2=C(R41)COOCH2CH(R42)OH (ただし、R41およびR42は、HまたはCH3を示
す。)
Formula (VI) CH 2 CC (R 41 ) COOCH 2 CH (R 42 ) OH (where R 41 and R 42 represent H or CH 3 )

【0084】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and
No. 49860, No. 56-17654, No. 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0085】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
するラジカル重合性化合物類を用いても良い。
Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 can be used. good.

【0086】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。
Another example is disclosed in JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
No. 490, polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in each publication. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Japan Adhesion Association Journal vol. 20, No. 7, pages 300-308 (198
(4 years) as photocurable monomers and oligomers can also be used.

【0087】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以
上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性
基を有する化合物(例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等)を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
無い場合がある。また、感光層中の他の成分(例えばバ
インダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分
散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は
重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2
種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうるこ
とがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性
を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり
得る。画像記録層中のラジカル重合性化合物の配合比に
関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場
合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像記録層の
粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録層成分の
転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出
が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、ラジ
カル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組
成物全成分に対して5〜80重量%、好ましくは20〜
75重量%である。また、これらは単独で用いても2種
以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物
の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、か
ぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構
造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっ
ては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し
うる。
For these radical polymerizable compounds,
Details of the method of use, such as what kind of structure is used, whether it is used alone or in combination, and how much is added, can be arbitrarily set in accordance with the final performance design of the recording material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large content of unsaturated groups per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or more functional structure is preferable. In order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, a compound having three or more functional groups is preferable, and a compound having a different functional number and a different polymerizable group (for example, an acrylate compound, a methacrylate ester) It is also effective to control both the photosensitivity and the intensity by using a combination of a compound and a styrene compound. Compounds with large molecular weight and compounds with high hydrophobicity are excellent in sensitivity and film strength,
It may not be preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use of the radical polymer compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, a binder polymer, an initiator, a colorant, and the like) in the photosensitive layer. Use of low purity compounds, 2
The compatibility may be improved by the combined use of at least one compound. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the support, the overcoat layer, and the like. Regarding the compounding ratio of the radical polymerizable compound in the image recording layer, a higher ratio is advantageous in sensitivity, but if the ratio is too large, undesired phase separation occurs or the production process due to the stickiness of the image recording layer. (For example, poor production resulting from transfer of recording layer components and adhesion) and problems such as precipitation from a developer. From these viewpoints, the preferable compounding ratio of the radical polymerizable compound is, in many cases, 5 to 80% by weight, preferably 20 to 80% by weight, based on all components of the composition.
75% by weight. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the method of using the radical polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of the degree of inhibition of polymerization with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface tackiness, etc. Depending on the case, a layer structure and a coating method such as undercoating and overcoating may be performed.

【0088】[(D)バインダーポリマー]本発明にお
いては、さらにバインダーポリマーを使用する。バイン
ダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好まし
い。このような「線状有機ポリマー」としては、どれを
使用しても構わない。好ましくは水現像あるいは弱アル
カリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ
水可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが選択さ
れる。線状有機ポリマーは、感光層を形成するための皮
膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは
有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。
例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能
になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖に
カルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公昭54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無
水物を付加させたものなどが有用である。
[(D) Binder polymer] In the present invention, a binder polymer is further used. It is preferable to use a linear organic polymer as the binder. Any of such “linear organic polymers” may be used. Preferably, a linear organic polymer which is soluble or swellable in water or weakly alkaline water is selected to enable development with water or weakly alkaline water. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent for forming a photosensitive layer but also as a developer for water, weakly alkaline water or an organic solvent.
For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic polymer include a radical polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example,
Nos. 9-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048. Those described, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, and the like. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, a polymer obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group is useful.

【0089】特にこれらの中で、ベンジル基またはアリ
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。
Among these, a (meth) acrylic resin having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in the side chain is particularly preferred because of its excellent balance of film strength, sensitivity and developability.

【0090】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
In addition, Japanese Patent Publication No. 7-12004,
JP-A-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271174,
The urethane-based binder polymer containing an acid group described in Japanese Patent Application No. 10-116232 is very excellent in strength, and therefore is advantageous in terms of printing durability and low exposure suitability.

【0091】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。
Further, as the water-soluble linear organic polymer, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

【0092】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは5000以上であり、さらに
好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは1000以上であり、さらに好まし
くは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably at least 5,000, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably at least 1,000, more preferably Ranges from 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably in the range of 1.1 to 10.

【0093】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。
These polymers are random polymers,
Any of a block polymer and a graft polymer may be used, but a random polymer is preferable.

【0094】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。本発明で
使用されるポリマーを合成する際に用いられるラジカル
重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等
公知の化合物が使用できる。
The polymer used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method. As a solvent used in the synthesis, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-
Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate,
Dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. As the radical polymerization initiator used for synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0095】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、感光層塗布液の全固形分に対し20〜95重量%、
好ましくは30〜90重量%の割合で感光層中に添加さ
れる。添加量が20重量%未満の場合は、画像形成した
際、画像部の強度が不足する。また添加量が95重量%
を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状
有機ポリマーは、重量比で1/9〜7/3の範囲とする
のが好ましい。
The binder polymer used in the present invention may be used alone or as a mixture. These polymers are 20 to 95% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer coating solution,
Preferably, it is added to the photosensitive layer at a ratio of 30 to 90% by weight. When the addition amount is less than 20% by weight, the strength of the image portion is insufficient when an image is formed. 95% by weight
If the number exceeds, no image is formed. The weight ratio of the radical polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and the linear organic polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3.

【0096】[感光層のその他の成分]本発明では、さ
らに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加して
もよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画
像の着色剤として使用することができる。具体的には、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505
(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。
[Other Components of Photosensitive Layer] In the present invention, various compounds other than these may be further added, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. In particular,
Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black B
Y, oil black BS, oil black T-505
(Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., and JP-A-62-29324
No. 7 can be mentioned. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can be suitably used.

【0097】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、感光層塗布液全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
It is preferable to add these colorants since the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is based on the total solid content of the photosensitive layer coating solution.
The ratio is 0.01 to 10% by weight.

【0098】また、本発明においては、感光層塗布液の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を
阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望
ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、
p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾ
ール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキ
ノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フ
ェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられ
る。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して
約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.
1重量%〜約10重量%が好ましい。
In the present invention, a small amount of thermal polymerization inhibitor is used to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated double bond during preparation or storage of a photosensitive layer coating solution. It is desirable to add an agent. Hydroquinone, as a suitable thermal polymerization inhibitor,
p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4 -Methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% by weight based on the weight of the whole composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative to be added is about 0.1% of the total composition.
1% to about 10% by weight is preferred.

【0099】また、本発明における感光層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
The photosensitive layer coating solution of the present invention may contain a nonionic solvent such as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 in order to increase the stability of processing under development conditions. Surfactant, JP-A-59
An amphoteric surfactant as described in JP-A-121044 and JP-A-4-13149 can be added.

【0100】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like.

【0101】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光
層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0102】さらに、本発明に係る感光層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。
Further, a plasticizer is added to the coating solution for the photosensitive layer according to the present invention, if necessary, for imparting flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.

【0103】本発明に係る画像形成材料を製造するに
は、通常、感光層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶
かして、適当な支持体上に塗布し、その後、所望により
後述するオーバーコート層塗布液を塗布すればよい。感
光層塗布液に使用する溶媒としては、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げること
ができるがこれに限定されるものではない。これらの溶
媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。
In order to produce the image-forming material according to the present invention, the above-mentioned components necessary for the coating solution for the photosensitive layer are usually dissolved in a solvent and coated on a suitable support. What is necessary is just to apply a coating liquid for a coat layer. Examples of the solvent used for the photosensitive layer coating solution include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, and 1-methoxy-2.
-Propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide,
N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-
Examples include, but are not limited to, methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 5
0% by weight.

【0104】また塗布、乾燥後に得られる感光層塗布量
(固形分)は、用途によって異なるが、画像形成材料に
ついていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好まし
い。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録の機能を果たす感光層の皮膜特性は低
下する。
The coating amount (solid content) of the photosensitive layer obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferable for the image forming material. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive layer that performs the function of image recording deteriorate.

【0105】本発明に係る感光層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−17
0950号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全感光層
の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。
The photosensitive layer coating solution according to the present invention may contain a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-17.
No. 0950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire photosensitive layer.

【0106】本発明のネガ型画像記録材料においては、
照射された赤外線レーザー等のエネルギーが(A)赤外
線吸収剤によって熱に変換され、(B)ラジカル発生剤
がその熱によりラジカルを発生する。このラジカルの働
きにより(C)ラジカル重合性化合物と、(D)バイン
ダーポリマーとが、重合、硬化反応を促進することによ
り画像記録即ち記録材料の製版が行われるものである。
しかし、空気中には感光層中で露光の際に発生したラジ
カルをトラップし、重合反応を阻害する水、塩基、酸、
酸素などの化合物が浮遊している。これらの浮遊物が熱
による上記重合反応を阻害するため、本発明の方法を適
用するネガ型画像形成材料には、オーバーコート層を設
けることが好ましい。
In the negative type image recording material of the present invention,
The energy of the irradiated infrared laser or the like is converted into heat by the infrared absorbent (A), and the radical generator (B) generates radicals by the heat. By the action of the radical, the radical polymerizable compound (C) and the binder polymer (D) accelerate the polymerization and curing reaction, thereby performing image recording, that is, plate making of the recording material.
However, in the air, water, bases, acids, which trap radicals generated during exposure in the photosensitive layer and inhibit the polymerization reaction,
Compounds such as oxygen are floating. Since these suspended matters inhibit the above-mentioned polymerization reaction due to heat, it is preferable to provide an overcoat layer in the negative image forming material to which the method of the present invention is applied.

【0107】[オーバーコート層]本発明に係るオーバ
ーコート層は活性光線、即ち、画像露光に使用する光線
に対して透明であり、隣接する感光層とある程度の接着
性を有するものであれば特に制限はなく、公知のものを
選択して使用することができる。このようなオーバーコ
ート層は、感光層中の化合物及び、活性光線の露光によ
り生じた化合物への外気からの影響を阻害するために設
ける。そのため、空気中に存在する低分子化合物や感光
層中で発生する低分子化合物の透過性が低いものである
ことが好ましい。すなわち、オーバーコート層は、感光
層中で露光の際に発生した化合物をトラップするような
物質や、感光層で生じる反応を阻害する空気中に存在す
る水、塩基、酸や酸素などの化合物の感光層中への混入
を防止でき、かつ非画像部のオーバーコート層が現像前
または現像時に除去が可能で有れば何でも良い。すなわ
ち、ガス透過性の低いフイルムもしくは、膜を形成する
ものが好ましい。
[Overcoat layer] The overcoat layer according to the present invention is particularly transparent as long as it is transparent to actinic rays, that is, rays used for image exposure, and has a certain degree of adhesiveness to an adjacent photosensitive layer. There is no limitation, and known ones can be selected and used. Such an overcoat layer is provided in order to inhibit the compound in the photosensitive layer and the compound generated by exposure to actinic light from being affected by the outside air. Therefore, it is preferable that the low molecular compound existing in the air and the low molecular compound generated in the photosensitive layer have low permeability. That is, the overcoat layer is formed of a substance that traps a compound generated during exposure in the photosensitive layer, or a compound such as water, a base, an acid or oxygen that exists in the air that inhibits a reaction that occurs in the photosensitive layer. Any material can be used as long as it can be prevented from being mixed into the photosensitive layer and the overcoat layer in the non-image area can be removed before or during development. That is, a film having low gas permeability or a film is preferable.

【0108】オーバーコート層を形成する化合物として
は、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホ
ン、アセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビ
ニル、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリエチ
レン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリアミド、セロハン、アクリル樹脂、ゼラチン、
アラビアゴムなどが挙げられる。これらは単独または、
併用して用いても良い。より好ましくは、現像時の除去
性および塗設のし易さから、水溶性ポリマーであるポリ
ビニルアルコール、水溶性アクリル樹脂、ポリビニルピ
ロリドン、ゼラチン、アラビアゴムなどが挙げれらる。
さらにより好ましくは、水を溶媒にして塗布可能で、か
つ水系現像液で除去が可能な、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴムがよ
く、これらの除去性を向上させるため、これらの水溶性
ポリマーに、アミンなどの部分構造を有する含窒素水溶
性ポリマー、スルホン酸等の酸基を有する水溶性ポリマ
ーなどを併用してもよい。
Specific examples of the compound forming the overcoat layer include polyvinyl alcohol, polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, acetylcellulose, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, and ethylene-vinyl alcohol copolymer. Coalescence, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polyamide, cellophane, acrylic resin, gelatin,
Gum arabic and the like. These can be used alone or
You may use together. More preferably, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, water-soluble acrylic resin, polyvinylpyrrolidone, gelatin, and gum arabic can be mentioned from the viewpoint of ease of removal during development and ease of coating.
Still more preferably, polyvinyl alcohol, which can be coated with water as a solvent and can be removed with an aqueous developer,
Polyvinylpyrrolidone, gelatin, and gum arabic are preferred, and in order to improve their removability, these water-soluble polymers include a nitrogen-containing water-soluble polymer having a partial structure such as an amine, and a water-soluble polymer having an acid group such as sulfonic acid. You may use together.

【0109】本発明のオーバーコート層に用いるポリビ
ニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未
置換ビニルアルコール単位を含有してさえいれば、一部
がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されて
いても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を含有
しても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては、
71〜100%加水分解され、重合度が300〜240
0の範囲のものがあげられる。具体的には株式会社クラ
レ(株)製、(商品名)PVA−105、PvA−11
0、PVA−117、PVA−117H、PVA−12
0、PVA−124、PVA−124H、PVA−C
S、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、
PVA−204、PVA−205、PVA−210、P
VA−217、PVA−220、PVA−224、PV
A−217EE、PVA−220、PVA−224、P
VA−217EE、PVA−217E、PVA−220
E、PVA−224、PVA−405、PVA−42
0、PVA−613、L−8等が挙げられる。上記の共
重合体としては、88〜100%加水分解されたポリビ
ニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネー
ト、ポリビエルホルマールおよびポリビエルアセタール
およびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用な重
合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびア
ラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併用して
用いても良い。
The polyvinyl alcohol used in the overcoat layer of the present invention can be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. May be. In addition, similarly, a part thereof may contain another copolymerization component. As specific examples of polyvinyl alcohol,
71-100% hydrolyzed, polymerization degree 300-240
And those in the range of 0. Specifically, Kuraray Co., Ltd. (trade name) PVA-105, PvA-11
0, PVA-117, PVA-117H, PVA-12
0, PVA-124, PVA-124H, PVA-C
S, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203,
PVA-204, PVA-205, PVA-210, P
VA-217, PVA-220, PVA-224, PV
A-217EE, PVA-220, PVA-224, P
VA-217EE, PVA-217E, PVA-220
E, PVA-224, PVA-405, PVA-42
0, PVA-613, L-8 and the like. The above-mentioned copolymers include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polybierformal and polybieracetal hydrolyzed 88 to 100%, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, which may be used alone or in combination.

【0110】オーバーコート層を塗布する際用いる溶媒
としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンな
どのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液
中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当である。
As a solvent used for applying the overcoat layer, pure water is preferable, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with the pure water. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably from 1 to 20% by weight.

【0111】また、オーバーコート層にはさらに塗布性
を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良する
ための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。
The overcoat layer may further contain known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, and sorbitol. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.

【0112】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1/m
2〜約15/m2の範囲が適当である。より好ましくは
1.0/m2〜約5.0/m2である。
The amount of the coating is about 0.1 / m 2 after drying.
A range from 2 to about 15 / m 2 is suitable. More preferably, it is 1.0 / m 2 to about 5.0 / m 2 .

【0113】本発明の方法では、この画像形成材料に、
赤外線レーザで画像記録を行う。また、紫外線ランプや
サーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明
においては、波長760nmから1200nmの赤外線
を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光
されることが好ましい。レーザの出力は100mW以上
が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレ
ーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あ
たりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。
記録材料に照射されるエネルギーは10〜300mJ/
cm2であることが好ましい。
In the method of the present invention, this image forming material is
Image recording is performed with an infrared laser. Also, thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is possible. In the present invention, it is preferable that the image is exposed by a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. The output of the laser is preferably 100 mW or more, and in order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. Further, the exposure time per pixel is preferably within 20 μsec.
The energy applied to the recording material is 10 to 300 mJ /
cm 2 is preferred.

【0114】この画像形成材料は赤外線レーザにより露
光した後、現像液にて現像され、平版印刷版が得られ
る。
The image forming material is exposed by an infrared laser and then developed with a developing solution to obtain a lithographic printing plate.

【0115】本発明の画像形成方法に用いる現像液およ
び補充液のベースとしては、従来から知られているアル
カリ水溶液が使用できるが、感光層の傷の発生抑制効果
の観点から、pHが7〜12の範囲にある弱アルカリ性
水溶液を用ることが好ましく、さらにpH8〜10程度
の弱アルカリ性水溶液が好ましい。従来の汎用の現像液
pHは12.5〜13.5であるが、本発明の方法によ
れば、未露光部には影響を与えることなく画像部の硬化
のみが促進されるため、現像液として弱アルカリ性水溶
液を用いても残膜の発生などの懸念がなく、画像部の耐
刷性を損なわずに、良好な現像を行い得るという利点も
有する。
As a base of the developing solution and the replenishing solution used in the image forming method of the present invention, a conventionally known aqueous alkali solution can be used. It is preferable to use a weak alkaline aqueous solution in the range of 12, and more preferably a weak alkaline aqueous solution having a pH of about 8 to 10. The conventional general-purpose developer has a pH of 12.5 to 13.5, but according to the method of the present invention, only the curing of the image area is promoted without affecting the unexposed area. Even if a weak alkaline aqueous solution is used, there is no concern that a residual film is generated, and there is also an advantage that good development can be performed without impairing the printing durability of the image area.

【0116】現像液には、ケイ酸アルカリを用い、二酸
化ケイ素を含有する、所謂、「シリケート現像液」と、
非還元糖と塩基、又は、界面活性剤と塩基、からなり、
実質上、二酸化ケイ素を含有しない「非シリケート現像
液」がある。なお、ここで「実質上」とは不可避の不純
物及び副生成物としての微量の二酸化ケイ素の存在を許
容することを意味する。本発明の画像形成材料の現像工
程においては、前記現像液のいずれも適用することがで
きるが、傷の発生抑制効果の観点からは、非シリケート
現像液を用いることが好ましい。
As a developing solution, a so-called “silicate developing solution” using an alkali silicate and containing silicon dioxide,
A non-reducing sugar and a base, or a surfactant and a base,
There are "non-silicate developers" that are substantially free of silicon dioxide. Here, “substantially” means that the presence of trace amounts of silicon dioxide as unavoidable impurities and by-products is allowed. In the developing step of the image forming material of the present invention, any of the above-mentioned developing solutions can be applied, but from the viewpoint of the effect of suppressing the generation of scratches, it is preferable to use a non-silicate developing solution.

【0117】まず、「シリケート現像液」について述べ
る。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したときに
アルカリ性を示すものであり、例えば、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム等のアルカリ金属
ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。前記ケ
イ酸アルカリは、1種単独でも、2種以上を組合わせて
用いてもよい。前記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分
である酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2O(M
は、アルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)との混
合比率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節す
ることができ、例えば、特開昭54−62004号公
報、特公昭57−7427号公報に記載されているよう
なアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。前記アル
カリ水溶液の中でも、前記酸化ケイ素SiO2とアルカ
リ酸化物M2Oとの混合比率(SiO2/M2O:モル
比)が0.5〜3.0のものが好ましく、1.0〜2.
0のものがより好ましい。前記SiO2/M2Oが、0.
5未満であると、アルカリ強度が強くなっていくため、
平版印刷用原版の支持体として汎用のアルミニウム板等
をエッチングしてしまうといった弊害を生ずることがあ
り、3.0を超えると、現像性が低下することがある。
First, the "silicate developer" will be described. The alkali silicate exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate, and ammonium silicate. The alkali silicate may be used alone or in combination of two or more. The aqueous alkali solution contains silicon oxide SiO 2 as a component of silicate and alkali oxide M 2 O (M
Represents an alkali metal or ammonium group. ) Can be easily adjusted by adjusting the mixing ratio and the concentration, for example, an alkali metal described in JP-A-54-62004 and JP-B-57-7427. Silicates are used effectively. Among the alkali aqueous solutions, those having a mixing ratio (SiO 2 / M 2 O: molar ratio) of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O of 0.5 to 3.0 are preferable, and 1.0 to 3.0. 2.
0 is more preferred. When the SiO 2 / M 2 O is 0.
If it is less than 5, the alkali strength increases,
When a general-purpose aluminum plate or the like is etched as a support for a lithographic printing original plate, a bad effect may occur, and when it exceeds 3.0, developability may be reduced.

【0118】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の重量に対して1〜10重量%
が好ましく、3〜8重量%がより好ましく、4〜7重量
%が最も好ましい。前記濃度が、1重量%未満である
と、現像性、処理能力が低下することがあり、10重量
%を超えると、沈殿や結晶を生成しやすくなり、さらに
廃液時の中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支
障をきたすことがある。
The concentration of the alkali silicate in the developer is 1 to 10% by weight based on the weight of the aqueous alkali solution.
Is preferably 3 to 8% by weight, and most preferably 4 to 7% by weight. If the concentration is less than 1% by weight, the developability and the processing capacity may be reduced. If the concentration is more than 10% by weight, precipitates and crystals are easily formed. And it may interfere with waste liquid treatment.

【0119】次に、「非シリケート現像液」について説
明する。本発明の方法に好適な非シリケート現像液は、
前記したように、非還元糖と塩基とからなるものであ
り、ここで、非還元糖とは、遊離性のアルデヒド基やケ
トン基を持たないために、還元性を有しない糖類を意味
し、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類
の還元基と非糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加し
て還元した糖アルコールに分類される。本発明において
は、これらのいずれも好適に用いることができる。
Next, the “non-silicate developer” will be described. Non-silicate developers suitable for the method of the present invention include:
As described above, a non-reducing sugar is composed of a non-reducing sugar and a base.Here, the non-reducing sugar means a saccharide having no reducing property because it has no free aldehyde group or ketone group, Trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, glycosides in which a reducing group of a saccharide is bonded to a non-saccharide, and sugar alcohols obtained by hydrogenating and reducing saccharides are classified. In the present invention, any of these can be suitably used.

【0120】前記トレハロース型少糖類としては、例え
ば、サッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配糖
体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖
体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコール
としては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キ
シリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニット、
D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、ア
ロズルシット等が挙げられる。さらには、二糖類の水素
添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得
られる還元体(還元水あめ)等も好適に挙げることがで
きる。
The trehalose-type oligosaccharides include, for example, saccharose and trehalose, and the glycosides include, for example, alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, ribit, xylit, D, L-sorbit, D, L-annit,
D, L-idit, D, L-talit, zuricit, allozurcit and the like. Further, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reductant (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can also be preferably mentioned.

【0121】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが、適度なpH領域
に緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖
は、単独でも、二種以上を組合せてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30重量%が好ましく、
1〜20重量%がより好ましい。
Among the non-reducing sugars, sugar alcohols and saccharose are preferred, and D-sorbitol, saccharose, and reduced starch syrup are more preferred because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and the ratio in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight,
1-20% by weight is more preferred.

【0122】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが、適度なpH領域
に緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖
は、単独でも、二種以上を組合せてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30重量%が好ましく、
1〜20重量%がより好ましい。
Among the non-reducing sugars, sugar alcohols and saccharose are preferred, and D-sorbitol, saccharose, and reduced starch syrup are more preferred because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and the ratio in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight,
1-20% by weight is more preferred.

【0123】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を、従来公知のものの中から
適宜選択して組合せることができる。前記アルカリ剤と
しては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウ
ム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ
酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム等
の無機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリ
ウム、クエン酸ナトリウム等が挙げられる。さらに、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
トリイソプロピルァミン、n−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソブロパノー
ルアミシ、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ン等の有機アルカリ剤も好適に挙げることができる。こ
れらのアルカリ剤は、単独で用いても、二種以上を組合
わせて用いてもよい。
The alkali silicate or the non-reducing sugar can be combined with an alkali agent as a base by appropriately selecting it from conventionally known ones. Examples of the alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate And inorganic alkali agents such as ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate and ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate and sodium citrate. In addition, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine,
Monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine,
Organic alkali agents such as triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanol amici, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine can also be suitably mentioned. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.

【0124】なかでも、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好ましい。その理由は、非還元糖に対する添加量
を調整することにより、広いpH領域においてpH調整
が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、
リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等も
それ自身に緩衝作用があるので好ましい。
Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that adjusting the amount of addition to the non-reducing sugar enables pH adjustment in a wide pH range. Also, trisodium phosphate,
Tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, and the like are also preferable because they themselves have a buffering action.

【0125】本発明において好適に用いることができる
非シリケート現像液としては、さらに、界面活性剤と塩
基よりなるpH7〜12の弱アルカリ性水溶液を挙げる
ことができる。この現像液に用い得る好ましい界面活性
剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル
類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪
酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エ
ステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル
類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
ソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリ
コール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エ
ステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキ
シエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジ
エタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシア
ルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、
トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルア
ミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩
類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸
塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこは
く酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩
類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオ
キシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル
−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルス
ルホこはく酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホ
ン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アル
キルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エス
テル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル
硫酸エステル塩類、アルキルりん酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類りん酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルりん
酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の
部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物
の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン性界面活性剤、
The non-silicate developer which can be suitably used in the present invention further includes a weakly alkaline aqueous solution of a surfactant and a base having a pH of 7 to 12. Preferred surfactants that can be used in this developer include polyoxyethylene alkyl ethers,
Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid Esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene Glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, Polyoxyethylene alkyl amines,
Nonionic surfactants such as triethanolamine fatty acid esters and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid ester salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts , Branched-chain alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxyethylenealkylsulfophenylether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkylsulfosuccinic acid Monoamide disodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated tallow oil, sulfates of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates, polyoxy Tylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ethers phosphates, Anions such as polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, partially saponified styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified olefin-maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates Surfactants,

【0126】アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム
塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエ
チレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、
カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
の両性界面活性剤があげられる。なお、以上挙げた界面
活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオ
キシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチ
レンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもで
き、それらの界面活性剤もまた包含される。
Cationic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylenepolyamine derivatives;
Examples include amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. Among the surfactants mentioned above, those with polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, and polyoxybutylene, and these surfactants are also included. You.

【0127】また、好ましい塩基としては、炭酸塩、炭
酸水素塩、又はアミン類を挙げることができうる。好適
な炭酸塩、炭酸水素塩としては、アルカリ金属の炭酸塩
及び炭酸水素塩、アルカリ土類金属の炭酸塩及び炭酸水
素塩、アンモニウムの炭酸塩及び炭酸水素塩等が挙げら
れる。特に好ましくは、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等である。こ
れらの炭酸塩及び炭酸水素塩は、無水物を用いてもよい
し、水和物を用いてもよい。また、2種以上の炭酸塩及
び炭酸水素塩を混合して用いることができる。また、好
ましいアミン類としては、前述したアミン類を挙げるこ
とができる。
Preferred bases include carbonates, bicarbonates, and amines. Suitable carbonates and bicarbonates include alkali metal carbonates and bicarbonates, alkaline earth metal carbonates and bicarbonates, ammonium carbonates and bicarbonates, and the like. Particularly preferred are sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like. These carbonates and bicarbonates may be anhydrous or hydrated. Further, two or more kinds of carbonates and bicarbonates can be used as a mixture. Preferred amines include the amines described above.

【0128】本発明の方法に用いる現像液には、必要に
応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、公知の添加
剤を併用することができる。このような添加剤として
は、界面活性剤、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫
酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩等の還元剤、有機カルボン酸、ベンジルアルコール
等の有機溶剤、消泡剤、硬水軟化剤等が挙げられる。
The developer used in the method of the present invention may contain, if necessary, known additives in a range not to impair the effects of the present invention. Examples of such additives include surfactants, reducing agents such as sodium salts and potassium salts of inorganic acids such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid and bisulfite, organic carboxylic acids, organic solvents such as benzyl alcohol, and defoaming agents. And water softeners.

【0129】自動現像機を用いて現像する場合には、現
像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像
液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液
を交換する事なく、多量の平版印刷版を処理できること
が知られている。本発明においてもこの補充方式が好ま
しく適用されるが、補充液に用いる水溶液のpHも7〜
12の範囲であることが好ましい。
When developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is added to the developing solution, so that the developing solution in the developing tank can be replaced for a long time without replacement. It is known that large quantities of lithographic printing plates can be processed. In the present invention, this replenishment method is preferably applied.
It is preferably in the range of 12.

【0130】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された画像形成材料は、所望により水洗水、界面
活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導
体を含む不感脂化液で後処理されたのち、平版印刷版と
して使用される。
The image-forming material which has been developed using the above-described developing solution and replenishing solution may be, if desired, a washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, or a desensitizing solution containing gum arabic or a starch derivative. After post-processing, it is used as a lithographic printing plate.

【0131】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate material, each processing solution tank, and a spray device. The developing process is performed by spraying each pumped processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like into a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such automatic processing,
Processing can be performed while replenishing each processing solution with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, the electric conductivity can be detected by a sensor and replenished automatically. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0132】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired. Is subjected to a burning process.

【0133】平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
In the case of burning a lithographic printing plate, prior to burning, Japanese Patent Publication Nos. 61-2518 and 55-280.
No. 62, JP-A-62-131859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each of the publications No. 55.

【0134】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
[0134] As a method for this, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied onto a lithographic printing plate,
A method in which a printing plate is immersed in a vat filled with a surface conditioning liquid to apply the printing plate, an application using an automatic coater, or the like is applied. Further, it is preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is appropriate.

【0135】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried, if necessary, and then burned by a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature by a burning processor (BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred.

【0136】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。
The burn-processed lithographic printing plate can be subjected to a conventional treatment such as washing with water or gumming, if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0137】本発明の画像形成材料を露光、現像して得
られる平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多
数枚の印刷に用いられる。
A lithographic printing plate obtained by exposing and developing the image forming material of the present invention is applied to an offset printing machine or the like, and used for printing a large number of sheets.

【0138】[0138]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 (実施例1) [支持体の作成]厚さ0.30mmの材質1Sのアルミニ
ウム板を8号ナイロンブラシと800メッシュのパミス
トンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よ
く水で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で6
0秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20
%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7
Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水
溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗
面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ0.
45μ(Ra表示)であった。ひきつづいて30%のH
2SO4水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットし
た後、33℃、20%H2SO4水溶液中で、砂目立てし
た面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において
50秒間陽極酸化したところ厚さが2.7g/m2であ
った。更に3号ケイ酸ソーダ(SiO2=28〜30
%、Na2O=9〜10%、Fe=0.02%以下)の
2.5重量%、pH=11.2、70℃の水溶液に種々
の時間浸漬し、続いて水洗、乾燥させ、シリケート処理
した基板を得た。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. (Example 1) [Preparation of support] An aluminum plate of material 1S having a thickness of 0.30 mm was grained with a No. 8 nylon brush and an aqueous suspension of 800 mesh pumistone, and the surface thereof was grained. And washed. 6% in 10% sodium hydroxide at 70 ° C
After immersion for 0 seconds and etching, washing with running water,
The resultant was neutralized and washed with% HNO 3 and water. VA = 12.7
Under a condition of V, an electrolytic surface roughening treatment was performed in a 1% nitric acid aqueous solution using an alternating current of a sine wave at an anode electricity of 300 coulomb / dm 2 . The surface roughness was measured.
It was 45 μ (Ra indication). 30% H
After immersion in a 2 SO 4 aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, a cathode was placed on the grained surface in a 20% H 2 SO 4 aqueous solution at 33 ° C., and a cathode was placed at a current density of 5 A / dm 2 . After anodizing for 2 seconds, the thickness was 2.7 g / m 2 . No. 3 sodium silicate (SiO 2 = 28-30)
%, Na 2 O = 9-10%, Fe = 0.02% or less), 2.5% by weight, pH = 11.2, 70 ° C. for various times, followed by washing with water and drying, A silicate-treated substrate was obtained.

【0139】[中間層の形成]次に下記の手順によりS
G法の液状組成物(ゾル液)を調整した。ビーカーに下
記組成物を秤量し、25℃で20分間攪拌した。 Si(OC25)4 38g 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 13g 85%リン酸水溶液 12g イオン交換水 15g メタノール 100g
[Formation of Intermediate Layer] Next, S
A liquid composition (sol solution) of Method G was prepared. The following composition was weighed into a beaker and stirred at 25 ° C. for 20 minutes. Si (OC 2 H 5 ) 4 38 g 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 13 g 85% phosphoric acid aqueous solution 12 g ion-exchanged water 15 g methanol 100 g

【0140】前記溶液を三口フラスコに移し、還流冷却
器を取り付け三口フラスコを室温のオイルバスに浸し
た。三口フラスコの内容物をマグネティックスターラー
で攪拌しながら、30分間で50℃まで上昇させた。浴
温を50℃に保ったまま、更に1時間反応させ液組成物
(ゾル液)を得た。このゾル液をメタノール/エチレン
グリコール=20/1(重量比)で0.5重量%になる
ように希釈して上記シリケート処理した基板にホイラー
塗布し、100℃1分乾燥させた。その時の塗布量は4
mg/m2であった。この塗布量もケイ光X線分析法に
よりSi元素量を求め、それを塗布量とした。
The above solution was transferred to a three-necked flask, fitted with a reflux condenser, and the three-necked flask was immersed in an oil bath at room temperature. The contents of the three-necked flask were heated to 50 ° C. in 30 minutes while stirring with a magnetic stirrer. While maintaining the bath temperature at 50 ° C, the reaction was further performed for 1 hour to obtain a liquid composition (sol liquid). This sol solution was diluted with methanol / ethylene glycol = 20/1 (weight ratio) so as to be 0.5% by weight, applied with a wheeler to the silicate-treated substrate, and dried at 100 ° C. for 1 minute. The coating amount at that time is 4
mg / m 2 . The amount of the Si element was also determined by the fluorescent X-ray analysis method, and this amount was used as the amount of the Si coating.

【0141】[感光層]次に、下記感光層塗布液[P]
を調整し、上記中間層を形成し、下塗り済みのアルミニ
ウム板にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置
にて115℃で45秒間乾燥して感光層を形成し、ネガ
型平版印刷版原版[P−1]を得て実施例1とした。乾
燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であっ
た。
[Photosensitive layer] Next, the following photosensitive layer coating solution [P]
The intermediate layer was formed, and the coated intermediate layer was coated on a pre-coated aluminum plate using a wire bar, and dried at 115 ° C. for 45 seconds in a hot-air drying apparatus to form a photosensitive layer. An original plate [P-1] was obtained, and this was designated as Example 1. The coating amount after drying was in the range of 1.2 to 1.3 g / m 2.

【0142】 <感光層塗布液[P]> ・赤外線吸収剤[IR−6] 0.08g ・オニウム塩[OI−6] 0.30g ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 1.00g ・アリルメタクリレートとメタクリル酸の モル比80:20の共重合体 (重量平均分子量12万) 1.00g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g<Coating solution for photosensitive layer [P]> • Infrared absorber [IR-6] 0.08 g • Onium salt [OI-6] 0.30 g • Dipentaerythritol hexaacrylate 1.00 g • Allyl methacrylate and methacrylic acid Copolymer having a molar ratio of 80:20 (weight average molecular weight 120,000) 1.00 g ・ Victoria pure blue naphthalene sulfonate 0.04 g ・ Fluorine surfactant 0.01 g・ Methyl ethyl ketone 9.0g ・ Methanol 10.0g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0g

【0143】[0143]

【化10】 Embedded image

【0144】(比較例1)上記実施例1において、中間
層を設けなかった他は、実施例1と同様にして、シリケ
ート処理した支持体上に直接感光層を形成し、ネガ型平
版印刷版原版[P−2]を得て比較例1とした。
Comparative Example 1 A negative-type lithographic printing plate was prepared by forming a photosensitive layer directly on a silicate-treated support in the same manner as in Example 1 except that the intermediate layer was not provided. An original plate [P-2] was obtained and used as Comparative Example 1.

【0145】[露光]得られたネガ型平版印刷版原版
[P−1]及び[P−2]を、水冷式40W赤外線半導
体レーザを搭載したCreo社製Trendsette
r3244VFSにて、版面エネルギーを20〜200
mJ/cm2の範囲で条件を変えながら露光した。
[Exposure] The obtained negative type lithographic printing plate precursors [P-1] and [P-2] were prepared by using a Trendset with Creo Corporation equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
With r3244VFS, the plate surface energy is 20 to 200
Exposure was performed while changing the conditions in the range of mJ / cm 2 .

【0146】[現像処理]露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに下記処方の現
像液[1](25℃におけるpH9.9)を用いた。現
像浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を
用いた。なお、以下に示す現像液のpHはいずれも25
℃で測定した結果を示す。
[Development processing] After exposure, development processing was carried out using an automatic developing machine Stublon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As a developing solution, a developing solution [1] (pH at 9.9 at 25 ° C.) having the following formulation was used for both the charging solution and the replenishing solution. The temperature of the developing bath was 30 ° C. Also, the finisher
A 1: 1 aqueous dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used. The pH of the developing solution shown below was 25
The result measured at ° C is shown.

【0147】 <現像液[1]> ・炭酸ナトリウムの1水和物 10g ・炭酸水素カリウム 10g ・イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム 15g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 15g ・エチレングリコールモノナフチルエーテル モノスルフェートのナトリウム塩 10g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム 0.1g ・イオン交換水 938.9g<Developing solution [1]>-Sodium carbonate monohydrate 10 g-Potassium hydrogen carbonate 10 g-Sodium isopropylnaphthalenesulfonate 15 g-Sodium dibutylnaphthalenesulfonate 15 g-Sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether monosulfate 10g ・ Sodium sulfite 1g ・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium 0.1g ・ Ion exchange water 938.9g

【0148】[感度の評価]前記露光条件において、画
像が形成される最低版面エネルギーを感度とした。実施
例1のネガ型平版印刷版[P−1]では版面エネルギー
50mJ/cm2で画像形成したが、比較例1の平版印
刷版[P−2]では画像を形成するのに80mJ/cm
2を必要とした。これにより、実施例1は比較例1より
も感度が向上していることが確認された。これは、実施
例1には断熱層としての機能を有する中間層が形成され
ているため、露光により発生した熱が感光層の硬化反応
に効率よく使用されたためと考えられる。
[Evaluation of Sensitivity] Under the above exposure conditions, the minimum plate surface energy at which an image was formed was defined as the sensitivity. In the negative type lithographic printing plate [P-1] of Example 1, an image was formed at a plate surface energy of 50 mJ / cm 2 , but in the lithographic printing plate [P-2] of Comparative Example 1, 80 mJ / cm was required to form an image.
Needed two . As a result, it was confirmed that the sensitivity of Example 1 was higher than that of Comparative Example 1. This is probably because the intermediate layer having a function as a heat insulating layer was formed in Example 1, and the heat generated by the exposure was efficiently used for the curing reaction of the photosensitive layer.

【0149】[耐刷性、耐薬品性、汚れの評価]次に平
版印刷版[P−1]及び[P−2]を版面エネルギー1
00mJ/cm 2の条件で露光し、上記現像液で現像し
て印刷版を作成した。得られた印刷版を用いて、小森コ
ーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷し
た。インキとしては、大日本インキ社製ジオスG(N)
を使用した。プレートクリーナーとしては、酸性のPS
マルチクリーナー(富士写真フイルム(株)製)を用い
た。印刷スタートから5000枚目にマルチクリーナー
を印刷用スポンジにしみこませ、網点部をふき版面のイ
ンキを洗浄した。その後5000枚毎に50000枚目
まで同様にマルチクリーナーで版面のインキを洗浄し
た。5000枚毎に印刷物を抜き取り、マルチクリーナ
ーで版面を洗浄した網点と洗浄しない網点を評価した。
また、印刷物を目視で観察し、画像部、非画像部の汚れ
について評価した。
[Evaluation of Printing Durability, Chemical Resistance, and Dirt]
The plate printing plates [P-1] and [P-2] were converted to plate energy 1
00mJ / cm TwoExposure under the conditions of
Created a printing plate. Using the obtained printing plate, Komori Ko
Printing using Lislon printing machine manufactured by
Was. As ink, Geos G (N) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
It was used. Acidic PS as a plate cleaner
Using a multi-cleaner (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Was. Multi-cleaner on 5000th sheet from the start of printing
Into the printing sponge, wipe the halftone dots
The ink was washed. 50,000th sheet after every 5,000 sheets
Wash the ink on the printing plate with the multi-cleaner
Was. Remove the printed matter every 5,000 sheets and use a multi-cleaner
The halftone dots that washed the plate surface and the halftone dots that were not washed were evaluated.
In addition, the printed matter is visually observed, and stains on the image area and the non-image area are observed.
Was evaluated.

【0150】その結果、実施例1では5万枚の良好な印
刷物が得られたが、比較例1の場合は、2万枚にとどま
った。また、得られた印刷物の非画像部に汚れの発生は
認められなかった。中間層を形成しなかった比較例1
は、マルチプレートクリーナーで洗浄するとハイライト
の網点が早く飛んでいる事が判明したが、実施例1で
は、網点のとびは観察されなかった。このことから、中
間層の形成により、感光層の密着性が向上するため、酸
性のプレートクリーナーに対する耐薬品性が向上し、網
点や細線のとびやかすれがなく、また、耐刷性が向上す
ることが判った。
As a result, in Example 1, 50,000 good prints were obtained, but in Comparative Example 1, only 20,000 prints were obtained. Further, no stain was observed on the non-image portion of the obtained printed matter. Comparative Example 1 in which no intermediate layer was formed
It was found that, when washed with a multi-plate cleaner, the dots of highlights were flying quickly, but in Example 1, the jump of dots was not observed. As a result, the formation of the intermediate layer improves the adhesion of the photosensitive layer, thereby improving the chemical resistance to acidic plate cleaners, preventing dot and thin lines from jumping and blurring, and improving printing durability. I found out.

【0151】[0151]

【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能で
あり、画像形成性及び耐刷性に優れた平版印刷版に好適
な画像形成材料を提供することができる。
According to the present invention, recording is performed using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light.
An image forming material suitable for a lithographic printing plate which can be directly recorded from digital data of a computer or the like and has excellent image forming properties and printing durability can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC31 CB00 CC11 DA18 DA35 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA05 CA05 EA04 EA23 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC31 CB00 CC11 DA18 DA35 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA05 CA05 EA04 EA23

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム支持体上に、シリケート皮
膜、ラジカルによる付加反応を起こし得る官能基を有す
るシリコーン化合物を含む中間層、(A)赤外線吸収剤
と、(B)ラジカル発生剤と、(C)ラジカル重合性化
合物と、(D)バインダーポリマーを含む感光層を、順
次設けてなるネガ型画像形成材料。
1. An aluminum support, a silicate film, an intermediate layer containing a silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction by radicals, (A) an infrared absorber, (B) a radical generator, and (C) A) a negative-type image forming material in which a photosensitive layer containing a radically polymerizable compound and a binder polymer (D) is sequentially provided.
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