JP2001267460A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、CSP(Chip
Scale Package)型の半導体装置に係
る。特に、半導体チップと導体回路基板との間に熱拡散
機能を有する熱伝導性支持板を設け、且つ前記熱伝導性
支持基板に接続した放熱充填ビアを介して外部実装基板
への熱拡散経路を備えた半導体装置に関する。The present invention relates to a CSP (Chip)
The present invention relates to a semiconductor device of a (Scale Package) type. In particular, a heat conductive support plate having a heat diffusion function is provided between a semiconductor chip and a conductive circuit board, and a heat diffusion path to an external mounting board is provided through a heat dissipation via connected to the heat conductive support board. The present invention relates to a semiconductor device provided.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体チップの機能の増大、高集
積化に伴い、半導体チップの大型化(20mm〜40m
m)や電極数の増大(数百ピン)へ進み、一方では電子
機器の小型、軽量、薄型化に伴い、半導体チップの小型
化や実装の高密度化が要求されている。2. Description of the Related Art In recent years, as the functions of semiconductor chips have increased and the degree of integration has increased, the size of semiconductor chips has increased (from 20 mm to 40 m).
m) and an increase in the number of electrodes (several hundred pins). On the other hand, as electronic devices become smaller, lighter and thinner, there is a demand for smaller semiconductor chips and higher mounting density.
【0003】そして、上記の要求に対応して、表面実装
タイプのBGA(Ball Grid Array)や
半導体置チップの形状寸法に近いCSP(Chip S
ize Package)が開発されている。SBC法
と指称されるソルダー・ボールを介して外部実装基板上
に半導体装置を接続する方法が提案されている。この方
法によれば、半導体装置を外部実装基板(マザーボー
ド)上の配線パターンの接続端子ランドに位置決め載置
して、加熱を行って前記ソルダー・ボールをリフローす
ることにより、一括固着が可能となり実装が容易となる
ことから注目されている。In response to the above demand, a surface mount type BGA (Ball Grid Array) or a CSP (Chip S
size Package) has been developed. There has been proposed a method of connecting a semiconductor device on an external mounting board via a solder ball called an SBC method. According to this method, the semiconductor device is positioned and mounted on the connection terminal lands of the wiring pattern on the external mounting board (mother board), heated, and the solder balls are reflowed, so that the semiconductor device can be collectively fixed and mounted. Has attracted attention because it becomes easier.
【0004】この種のCSP(Chip Size P
akage)型の半導体装置の一例としては、特開平1
0−74807に示すように、表面に複数の電極(接続
用パッド)を有する半導体チップと、前記半導体チップ
に対向する面と反対側に延在して設けられた配線層を有
し、前記半導体チップの前記電極パッドに対向して開口
部が設けられ、該開口部を導電性物質で充填した複数の
充填ビアを有する樹脂テープ基板とをポリイミド系又は
エポキシ系絶縁性接着剤を介して接合した構成とされて
いる。[0004] This type of CSP (Chip Size P)
An example of a semiconductor device of the type (aka) is disclosed in
As shown in 0-74807, the semiconductor device includes a semiconductor chip having a plurality of electrodes (connection pads) on a surface thereof, and a wiring layer provided to extend on a side opposite to a surface facing the semiconductor chip. An opening is provided facing the electrode pad of the chip, and the opening is joined to a resin tape substrate having a plurality of filling vias filled with a conductive substance via a polyimide-based or epoxy-based insulating adhesive. It has a configuration.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、CSP
(Chip SizePakage)型の半導体装置
は、従来のQFP(Quad Flat Pakag
e)型半導体装置に比べて、大幅に小型化、軽量化され
たため、熱拡散機能を有する外部に突出した導体リード
がなくなり、熱拡散経路が半導体チップの領域に限ら
れ、その熱拡散表面積が狭くなり、半導体チップの高集
積化、大型化に伴う発熱量の増加に対応できず、半導体
装置の熱特性が低下するという問題があった。However, the CSP
The (Chip Size Package) type semiconductor device is a conventional QFP (Quad Flat Package).
e) Since the size and weight of the semiconductor device are greatly reduced as compared with the type semiconductor device, there are no conductor leads protruding to the outside having a heat diffusion function, and the heat diffusion path is limited to the region of the semiconductor chip. As a result, the semiconductor device cannot cope with an increase in the amount of heat generated due to the high integration and large size of the semiconductor chip, and the thermal characteristics of the semiconductor device are deteriorated.
【0006】また、樹脂テープ基板の機械的強度の不足
による、取扱性や平坦度の維持が困難という問題があっ
た。In addition, there is a problem that it is difficult to maintain handleability and flatness due to insufficient mechanical strength of the resin tape substrate.
【0007】さらに、半導体チップの機能の増大、信号
の高周波化、さらには電極数の増大(数百ピン)伴い、
導体リードの間隙が狭くなり、EMIノイズの発生によ
り電気的特性が低下するという問題があった。Further, with the increase in the function of the semiconductor chip, the increase in the frequency of the signal, and the increase in the number of electrodes (several hundred pins),
There has been a problem that the gap between the conductor leads is narrowed and the electrical characteristics are reduced due to the generation of EMI noise.
【0008】さらにまた、半導体チップと銅箔配線層と
の熱膨張係数差により、接合基部に熱応力破壊が発生し
電気的接合性を低下させるという問題があった。Further, there is a problem that thermal stress destruction occurs at the bonding base due to a difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor chip and the copper foil wiring layer, thereby deteriorating electrical bonding.
【0009】本発明は上記の実情に鑑みてなされたもの
であって、本発明の第1の目的は、半導体チップの発熱
を拡散する熱拡散機能を付与すると共に、外部実装基板
への熱拡散経路を形成し、半導体装置の熱特性を向上さ
せることにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide a heat diffusion function for diffusing heat generated by a semiconductor chip and to dissipate heat to an external mounting substrate. An object of the present invention is to form a path and improve thermal characteristics of a semiconductor device.
【0010】本発明の第2の目的は、樹脂テープ基板に
形成された導体回路基板の機械的強度を付与し、長期信
頼性の高い半導体装置を提供することにある。A second object of the present invention is to provide a semiconductor device having a long-term reliability by imparting mechanical strength to a conductive circuit board formed on a resin tape substrate.
【0011】本発明の第3の目的は、磁気特性の改善、
及びEMIノイズ防止することにより電気的特性を向上
させることにある。A third object of the present invention is to improve magnetic characteristics,
And to improve electrical characteristics by preventing EMI noise.
【0012】本発明の第4の目的は、半導体チップと銅
箔配線層との熱膨張係数差を緩和することにある。A fourth object of the present invention is to reduce the difference in thermal expansion coefficient between a semiconductor chip and a copper foil wiring layer.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する請
求項1記載の半導体装置は、前記半導体チップと前記導
体回路基板との間に、金属性薄板部材から成り前記電極
パッドのそれぞれに対応する複数のスルーホールが穿孔
され、且つ絶縁性被覆部材で前記スルーホールの内面を
含めて全面コートされた熱伝導性支持基板を介在させた
構成とされている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device, comprising a metal thin plate member between the semiconductor chip and the conductive circuit board, corresponding to each of the electrode pads. A plurality of through-holes are perforated and a thermally conductive support substrate entirely coated with an insulating covering member including the inner surface of the through-hole is interposed.
【0014】上記のように構成されているので、金属性
薄板部材から成る熱伝導性支持基板は、半導体チップに
発生した熱を拡散するように機能し、半導体チップの発
熱量の増加に対応し、半導体装置の熱特性を向上させる
ことができる。[0014] With the above-described structure, the heat conductive support substrate formed of a metallic thin plate member functions to diffuse heat generated in the semiconductor chip and cope with an increase in the amount of heat generated by the semiconductor chip. In addition, the thermal characteristics of the semiconductor device can be improved.
【0015】さらに、前記熱伝導性支持基板は、樹脂テ
ープ基板に機械的強度を付与するように機能し、前記樹
脂テープ基板の平坦度を維持すると共に、搬送及びその
取扱を容易にすることができる。Further, the heat conductive support substrate functions to impart mechanical strength to the resin tape substrate, and maintains the flatness of the resin tape substrate, and facilitates transportation and handling thereof. it can.
【0016】さらに、熱伝導性支持板は、接地プレーン
として機能し、磁気特性の改善、及びEMIノイズの発
生を防ぎ電気的特性を向上させることができる。Furthermore, the heat conductive support plate functions as a ground plane, and can improve magnetic characteristics and prevent EMI noise from occurring, thereby improving electrical characteristics.
【0017】また、請求項2記載の半導体装置は、請求
項1記載の半導体装置にあって、前記絶縁性接着剤層
は、エラストマー系樹脂部材で構成されている。According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device of the first aspect, the insulating adhesive layer is formed of an elastomer resin member.
【0018】上記のように構成されているので、エラス
トマー系樹脂は、半導体チップと銅箔配線層との熱膨張
係数差により生じる熱応力緩和材として機能し、接合基
部に発生する応力破壊を防止することができる。[0018] With the above structure, the elastomer resin functions as a thermal stress relieving material generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor chip and the copper foil wiring layer, thereby preventing stress destruction occurring at the joint base. can do.
【0019】また、請求項3記載の半導体装置は、請求
項1又は2記載の半導体装置にあって、前記絶縁性被覆
部材及び絶縁性接着剤は、熱伝導性の優れたAl
2O3、AlN、BN、SiCのフィラーから選択され
た一種を混入させた構成とされている。According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device according to the first or second aspect, wherein the insulating covering member and the insulating adhesive are made of Al having excellent thermal conductivity.
It is configured to include one selected from fillers of 2 O 3 , AlN, BN, and SiC.
【0020】上記のように構成されているので、熱導電
性フィラー(好ましくはSiC)を混入した絶縁性部材
及び絶縁性接着剤は、半導体チップの発熱をより効率的
に拡散させることができると共に、外部実装基板と半導
体チップとの間に熱拡散経路を形成することができる。With the above-described structure, the insulating member and the insulating adhesive mixed with the thermally conductive filler (preferably SiC) can more efficiently diffuse heat generated by the semiconductor chip. A heat diffusion path can be formed between the external mounting substrate and the semiconductor chip.
【0021】また、請求項4記載の半導体装置は、請求
項1〜3記載の半導体装置にあって、前記金属性薄板部
材は、熱伝導性の優れた銅、アルミ、鉄、ケイ素鋼板の
部材から選択された一種で構成されている。According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device of the first to third aspects, the metallic thin plate member is made of a copper, aluminum, iron, or silicon steel plate having excellent heat conductivity. It is composed of a kind selected from:
【0022】上記のように構成されているので、前記熱
伝導性金属薄板部材(好ましくはケイ素鋼板)から成る
熱伝導性支持板は半導体チップに発生した熱を吸収・拡
散するように機能し、半導体チップの高集積化、大形化
に伴う発熱量の増加に対応することができ半導体装置の
熱特性をより向上させることができる。With the above configuration, the heat conductive support plate made of the heat conductive thin metal member (preferably a silicon steel plate) functions to absorb and diffuse heat generated in the semiconductor chip, It is possible to cope with an increase in the amount of heat generated due to high integration and size increase of the semiconductor chip, and it is possible to further improve the thermal characteristics of the semiconductor device.
【0023】また、請求項5記載の半導体装置は、請求
項1〜4記載の半導体装置にあって、前記熱伝導性支持
板は、前記スルーホールの内面を含めて、化学化成処理
で形成されたリン酸塩被膜層又はアルカリ黒色酸化被膜
層で全面コートされて成る構成とされている。According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor device of the first to fourth aspects, the heat conductive support plate is formed by a chemical conversion treatment including the inner surface of the through hole. The entire surface is coated with a phosphate coating layer or an alkali black oxide coating layer.
【0024】上記のように構成されているので、化学化
成処理された熱伝導性支持基板は、電気的不良導体を形
成するように機能すると共に、絶縁性接着剤層との密着
性をより向上させ、熱伝導性支持基板と半導体チップ及
び導体回路基板との接合をより強固化なものとすること
ができる。With the above-described structure, the thermally conductive support substrate subjected to the chemical conversion treatment functions to form an electrically defective conductor and further improves the adhesion to the insulating adhesive layer. As a result, the bonding between the heat conductive support substrate and the semiconductor chip and the conductor circuit substrate can be further strengthened.
【0025】また、請求項6記載の半導体装置は、請求
項1〜5のいずれか1項記載の半導体装置にあって、前
記接地用ソルダーボールは、前記接地用外部接続端子ラ
ンドと前記前記熱伝導性支持基板との間に形成された複
数の放熱ビアを介して前記熱伝導性支持基板に接合し、
熱拡散経路を形成した構成とされている。According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the first to fifth aspects, the solder ball for grounding includes the external connection terminal land for grounding and the thermal connection. Bonded to the heat conductive support substrate through a plurality of heat dissipation vias formed between the conductive support substrate,
The heat diffusion path is formed.
【0026】上記のように構成されているので、前記接
地用ソルダーボールが放熱ソルダー・ボールとして機能
し、熱伝導性支持基板を経由し、放熱ビア、外部接続端
子ランド、接地用ソルダーボールを経て、半導体チップ
の発熱を外部実装基板に拡散する熱拡散経路が形成され
ると共に、熱導伝性支持基板が接地プレーンとして機能
し、半導体装置の熱特性及び電気的特性を著しく改善さ
せることができる。With the above configuration, the grounding solder ball functions as a heat radiating solder ball, passes through a heat conductive support substrate, passes through a heat radiating via, an external connection terminal land, and a grounding solder ball. In addition, a heat diffusion path for diffusing the heat generated by the semiconductor chip to the external mounting substrate is formed, and the heat conductive support substrate functions as a ground plane, thereby significantly improving the thermal characteristics and electrical characteristics of the semiconductor device. .
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係る一例で
あるCSP型の半導体装置について、添付した図面に基
づいて説明する。ここで、図1は本発明の第1の実施の
形態に係る半導体装置の構成を示す断面図、図2は本発
明の第1の実施の形態に係る半導体チップの構成を示す
断面図、図3は本発明の第1の実施の形態に係る半導体
装置を構成する熱導伝性支持基板を示す断面図、図4は
本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置を構成する
導体回路基板を示す断面図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A CSP type semiconductor device as an example according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Here, FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of a semiconductor chip according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a heat conductive support substrate constituting the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a conductor circuit constituting the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. It is sectional drawing which shows a board | substrate.
【0028】まず、図1に示すように本発明の一実施の
形態に係るCSP型の半導体装置100は、半導体基板
10の表面に形成された複数の電極パッド11を備えた
半導体チップ12と、前記熱伝導性金属薄板部材13の
表面に、熱伝導性フィラー14を混入した絶縁性被覆部
材15を前記複数の電極パッド11のそれぞれに対応す
るスルーホール16の内面を含めて全面コートされた熱
伝導性支持基板17と、樹脂テープ基材18の一例であ
る耐熱性の高いポリイミド樹脂テープの半導体素子チッ
プ搭載面側Aには、その一端部に前記電極パット11に
対応する内部接続端子ランド19に接続し、内部接続端
子20の一例であるCuポストを備え、その他端部に外
部接続端子ランド21に接続し、前記樹脂テープ基材1
8にエリアアレイ状に形成された充填ビア22を介して
外部実装基板面側Bに突出した外部接続端子23の一例
である信号、電源用ソルダーボール23a、及び接地用
ソルダーボール23bを備えた複数の導体リード24を
具備する導体回路パターン25を有する導体回路基板
(インターポーザ)26とを具備しており、前記熱伝導
性支持基板17の一面側に前記半導体チップ12が、他
面側に前記導体回路基板(インターポーザ)26が、熱
伝導性の良好なフィラーを混入した絶縁性接着剤27を
介して接合され、且つ前記電極パッド11と前記外部接
続端子ランド21に形成された前記信号、電源用ソルダ
ー・ボール23aのそれぞれとの間に電気的導通回路
が、前記接地用ソルダー・ボール23bのそれぞれとの
間に熱拡散経路が形成された構成とされている。First, as shown in FIG. 1, a CSP type semiconductor device 100 according to an embodiment of the present invention includes a semiconductor chip 12 having a plurality of electrode pads 11 formed on a surface of a semiconductor substrate 10; The entire surface of the heat conductive thin metal plate 13 is coated with an insulating coating member 15 mixed with a heat conductive filler 14 including the inner surface of the through hole 16 corresponding to each of the plurality of electrode pads 11. A conductive support substrate 17 and an internal connection terminal land 19 corresponding to the electrode pad 11 are provided at one end of the semiconductor element chip mounting surface side A of a highly heat-resistant polyimide resin tape as an example of the resin tape base material 18. And a Cu post, which is an example of the internal connection terminal 20, and connected to an external connection terminal land 21 at the other end.
8, a plurality of external connection terminals 23 protruding to the external mounting board surface side B via filling vias 22 formed in an area array shape, including a signal, a power supply solder ball 23a, and a ground solder ball 23b. And a conductor circuit board (interposer) 26 having a conductor circuit pattern 25 having conductor leads 24 of the type described above. The semiconductor chip 12 is provided on one surface of the heat conductive support substrate 17 and the conductor is provided on the other surface thereof. A circuit board (interposer) 26 is joined via an insulating adhesive 27 mixed with a filler having good thermal conductivity, and the signal and power supply formed on the electrode pads 11 and the external connection terminal lands 21 are formed. An electric conduction circuit is formed between each of the solder balls 23a and a heat diffusion path is formed between each of the solder balls 23b. There is a configuration.
【0029】ここで、前記絶縁性被覆部材15及び前記
絶縁性接着剤27として、Al2O 3、AlN、BN、
SiCなどの熱伝導性の優れたフィラー(好ましくはS
iC)を混入させた構成としてもよい。これによって外
部実装基板と半導体チップとの間に熱拡散経路が形成さ
れる。Here, the insulating covering member 15 and the
Al as the insulating adhesive 272O 3, AlN, BN,
A filler having excellent thermal conductivity such as SiC (preferably S
iC) may be mixed. By this outside
A heat diffusion path is formed between the chip mounting substrate and the semiconductor chip.
It is.
【0030】続いて、図2、図3、図4を参照しつつ、
本発明の半導体装置を構成する前記半導体チップ12、
前記熱伝導性支持基板17、前記導体回路基板26のそ
れぞれの構成について説明する。Subsequently, referring to FIGS. 2, 3 and 4,
The semiconductor chip 12 constituting the semiconductor device of the present invention,
The respective configurations of the heat conductive support board 17 and the conductive circuit board 26 will be described.
【0031】まず、図2に示すように、前記半導体チッ
プ12は、半導体基板10の表面に複数のアルミ電極1
1aを設けた図示していない半導体素子集積回路パター
ンが形成されており、前記表面はアルミ電極11aを除
き不動態の保護膜層11cで被覆され、且つ前記アルミ
電極11aにはバリアメタル11bから成る複数の電極
パッド11を配置した一般的に知られた構成とされてい
る。First, as shown in FIG. 2, the semiconductor chip 12 has a plurality of aluminum electrodes 1 on a surface of a semiconductor substrate 10.
A semiconductor element integrated circuit pattern (not shown) provided with 1a is formed, the surface is covered with a passivation protective film layer 11c except for the aluminum electrode 11a, and the aluminum electrode 11a is formed of a barrier metal 11b. It has a generally known configuration in which a plurality of electrode pads 11 are arranged.
【0032】次に、図3に示すように、前記熱伝導性支
持基板17は、熱伝導性金属薄板部材13の一例である
ケイ素鋼板を、例えばプレス加工により、前記電極パッ
ド11のそれぞれに対応する複数のスルーホール16を
穿孔した所要の形状を成形し、その表面に絶縁性被覆部
材15の一例であるエポキシ樹脂を前記スルーホール1
6の内面を含めて全面コートした構成とされている。Next, as shown in FIG. 3, the heat conductive support substrate 17 is formed by pressing a silicon steel plate, which is an example of the heat conductive thin metal plate member 13, with each of the electrode pads 11 by pressing, for example. A plurality of through-holes 16 are formed in a required shape, and an epoxy resin, which is an example of an insulating covering member 15, is formed on the surface of the through-hole 1 through the through-holes 1.
6 and the entire surface including the inner surface.
【0033】ここで、熱伝導性金属薄板部材13として
は、上記ケイ素鋼板の外に銅、アルミ、鉄等を用いるこ
ともできる。そして、絶縁性被覆部材15としては、エ
ポキシ樹脂の外にガラスエポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリアミド樹脂などを用いることもできる。Here, as the heat conductive thin metal plate member 13, copper, aluminum, iron or the like can be used in addition to the silicon steel plate. As the insulating covering member 15, a glass epoxy resin, a polyimide resin, a polyamide resin, or the like can be used in addition to the epoxy resin.
【0034】また、前記熱導電性支持基板17として
は、熱伝導性金属薄板部材13の一例であるケイ素鋼板
に、前記スルーホール16を含む全表面に化学化成処理
を行い、化学化成処理被膜層29の一例であるリン酸塩
処理したリン酸塩被膜層を形成した構成としたものを用
いることもできる。ここで、熱伝導性金属薄板部材13
としては、上記ケイ素鋼板の外に銅、アルミ、鉄等を用
いることもできる。更に、化学化成処理被膜層29の一
例であるリン酸塩被膜層の外にアルカリ黒色酸化処理し
たアルカリ黒色酸化被膜層を形成したものであってもよ
い。これによって熱導電性支持基板17は電気的不良導
体を形成すると共に、絶縁性樹脂接着剤27との密着性
をより向上させることができる。As the heat conductive support substrate 17, a silicon steel plate as an example of the heat conductive metal sheet member 13 is subjected to a chemical conversion treatment on the entire surface including the through holes 16, and a chemical conversion treatment coating layer is formed. It is also possible to use a structure in which a phosphate coating layer treated with a phosphate, which is an example of the embodiment 29, is formed. Here, the heat conductive metal sheet member 13
For example, copper, aluminum, iron or the like can be used in addition to the silicon steel plate. Further, an alkali black oxide film layer which has been subjected to an alkali black oxidation treatment may be formed in addition to a phosphate film layer which is an example of the chemical conversion treatment film layer 29. As a result, the thermally conductive support substrate 17 can form an electrically defective conductor and can further improve the adhesion with the insulating resin adhesive 27.
【0035】さらにまた、前記スルーホール16内に半
導体チップ12の電極パッド11と複数の導体リード2
4の内部接続端子ランド19との間に電気的導通回路を
形成する導電性部材30を充填した充填ビアを形成した
構成のものであってよい。これによって、前記導体回路
基板26と前記半導体チップ12との電気的接続が容易
になる。Further, the electrode pads 11 of the semiconductor chip 12 and the plurality of conductor leads 2 are provided in the through holes 16.
A configuration in which a filling via filled with a conductive member 30 forming an electrical conduction circuit is formed between the internal connection terminal land 19 of FIG. This facilitates electrical connection between the conductive circuit board 26 and the semiconductor chip 12.
【0036】次に、図4に示すように、前記導体回路基
板26は、半導体素子チップ搭載面側A、外部実装面側
Bを有し、内部接続端子ランド19、外部接続端子ラン
ド21に対応して穿孔されたスルーホール18aを備
え、前記スルーホール18aには前記外部接続端子ラン
ド21に接続した導電性部材30の一例であるCuポス
トを備えた樹脂テープ基板18の一例であるポリイミド
テープ基板と、該樹脂テープ基板18の半導体チップ搭
載面側Aに形成され、一端部に前記電極パッド11に対
応する内部接続端子ランド19を、他端部に内部接続端
子ランド19から離間して外部接続端子ランド21を備
えた複数の導体リード24を有し、しかも前記各導体リ
ード24の前記外部接続端子ランド21はエリアアレイ
状に配置された導体回路パターン25と、前記内部接続
端子ランド19に接続して前記半導体チップ搭載面側A
に突出し、前記導電性支持基板17のスルーホール16
を貫通する内部接続端子20の一例であるCuポストを
備え、さらに外部実装基板面側Bに突出し、前記Cuポ
スト20aの先端に接続された外部接続端子23の一例
である信号、電源用ソルダーボール23aと接地用ソル
ダーボール23bを設けた構成とされている。Next, as shown in FIG. 4, the conductive circuit board 26 has a semiconductor element chip mounting surface side A and an external mounting surface side B, and corresponds to the internal connection terminal lands 19 and the external connection terminal lands 21. A polyimide tape substrate, which is an example of a resin tape substrate 18 that is provided with a Cu post as an example of the conductive member 30 connected to the external connection terminal land 21 in the through hole 18a, And an internal connection terminal land 19 formed on one side of the semiconductor chip mounting surface A of the resin tape substrate 18 and corresponding to the electrode pad 11 at one end, and separated from the internal connection terminal land 19 at the other end. A plurality of conductor leads 24 having terminal lands 21 are provided, and the external connection terminal lands 21 of each conductor lead 24 are conductors arranged in an area array. A road pattern 25, the connected to the internal connection terminal lands 19 semiconductor chip mounting surface A
Through the through hole 16 of the conductive support substrate 17.
And a solder ball for signal and power supply, which is an example of the external connection terminal 23 which is an example of the external connection terminal 23 which protrudes to the external mounting board surface B and is connected to the tip of the Cu post 20a. 23a and a grounding solder ball 23b are provided.
【0037】ここで、導体回路基板(インターポーザ)
26は、前記樹脂テープ基材18の半導体素子チップ搭
載面側Aに導体回路パターン25を形成した構成とした
が、図示していない外部実装面側Bに導体回路パターン
25を形成した構成とすることもできる。この場合、導
体回路パターン25の外部実装基板側Bには、前記外部
接続端子ランド21を露出する図示していないカバーコ
ート層を設け、該外部接続端子ランド21に接続する前
記ソルダーボール23a、23bを設けるようにしても
よい。Here, the conductive circuit board (interposer)
26 has a configuration in which the conductor circuit pattern 25 is formed on the semiconductor element chip mounting surface side A of the resin tape base material 18, but has a configuration in which the conductor circuit pattern 25 is formed on the external mounting surface B (not shown). You can also. In this case, a cover coat layer (not shown) that exposes the external connection terminal lands 21 is provided on the external mounting board side B of the conductive circuit pattern 25, and the solder balls 23a, 23b connected to the external connection terminal lands 21 are provided. May be provided.
【0038】本発明の他の実施の形態に係るCSP型の
半導体装置200について、添付した図面に基づいて説
明する。A CSP type semiconductor device 200 according to another embodiment of the present invention will be described with reference to the attached drawings.
【0039】ここで、図5は本発明の第2の実施の形態
に係る半導体装置の構成を示す断面図、図6は本発明の
第2の実施の形態に係る半導体装置を構成する半導体チ
ップを示す断面図、図7は本発明の第2の実施の形態に
係る半導体装置を構成する熱導伝性支持基板を示す断
面、図8は本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置
を構成する導体回路基板を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a semiconductor chip constituting the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a heat conductive support substrate constituting the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conductor circuit board that constitutes the present invention.
【0040】図5に示すように、本発明の第2の実施の
形態に係るCSP型の半導体装置200は、半導体基板
50の表面に形成された複数の電極パッド51を備えた
半導体チップ52と(図6参照)、前記熱伝導性金属薄
板部材53の表面には、絶縁性被覆部材54の一例であ
るエポキシ樹脂を前記複数の電極パッド51のそれぞれ
に対応するスルーホール55の内面を含めて全面コート
された熱伝導性支持基板56(図7参照)と、樹脂テー
プ基材57の一例である耐熱性の高いポリイミド樹脂テ
ープの半導体素子チップ搭載面側Aには、一端部には前
記電極パット51に対応する内部接続端子ランド58を
設け、該内部接続端子ランド58に接続し、内部接続端
子59の一例であるCuポストを備え、他端部には信
号、電源用外部接続端子ランド60及び接地用外部接続
端子ランド61を設け、前記信号、電源用外部接続端子
ランド60及び接地用外部接続端子ランド61に接続
し、前記樹脂テープ基材57にエリア・アレイ状に形成
された充填ビア62を介して外部実装基板面側Bに突出
した外部接続端子63の一例である信号、電源用ソルダ
ーボール63a、及び接地用ソルダーボール63bを備
え、且つ前記接地用ソルダーボール63bに対応し、前
記接地用外部接続端子ランド61に接続して半導体チッ
プ搭載面側Aに突出した放熱用充填ビア64の一例であ
るCuポストを形成した複数の導体リード65を具備す
る導体回路パターン66を有する導体回路基板(インタ
ーポーザ)67(図7参照)とを具備しており、前記熱
伝導性支持基板56の一面側に前記半導体チップ52
が、他面側に前記導体回路基板(インターポーザ)67
が絶縁性接着剤68の一例である熱硬化性樹脂接着剤を
介して接合され、且つ前記電極パッド51と前記外部接
続端子ランド63に形成された内部接続端子59とが接
続されて前記信号、電源用ソルダー・ボール63aのそ
れぞれとの間に電気的導通回路が、更に前記外部接続端
子ランド63bに形成された前記放熱用充填ビア64が
前記熱伝導性支持基板56に接続されて前記接地用ソル
ダー・ボール62bのそれぞれとの間に熱拡散経路が形
成された構成とされている。As shown in FIG. 5, a CSP type semiconductor device 200 according to a second embodiment of the present invention includes a semiconductor chip 52 having a plurality of electrode pads 51 formed on a surface of a semiconductor substrate 50. (Refer to FIG. 6) On the surface of the heat conductive thin metal plate member 53, an epoxy resin, which is an example of the insulating covering member 54, is coated, including the inner surface of the through hole 55 corresponding to each of the plurality of electrode pads 51. One end of the heat conductive supporting substrate 56 (see FIG. 7) coated on the entire surface and the semiconductor element chip mounting surface side A of a polyimide resin tape having high heat resistance, which is an example of the resin tape base material 57, An internal connection terminal land 58 corresponding to the pad 51 is provided, connected to the internal connection terminal land 58, and provided with a Cu post as an example of the internal connection terminal 59. A child land 60 and an external connection terminal land 61 for grounding are provided, connected to the external connection terminal land 60 for signal and power supply and the external connection terminal land 61 for ground, and formed in an area array on the resin tape base material 57. And a solder ball 63a for power supply and a solder ball 63b for grounding, which are examples of the external connection terminal 63 protruding to the external mounting board surface side B via the filled via 62, and correspond to the solder ball 63b for grounding. A conductor circuit pattern 66 having a plurality of conductor leads 65 formed with Cu posts, which is an example of a heat-filled via 64 protruding toward the semiconductor chip mounting surface side A by being connected to the ground external connection terminal land 61, is formed. And a conductive circuit board (interposer) 67 (see FIG. 7). Chip 52
However, the conductor circuit board (interposer) 67 is provided on the other side.
Are bonded via a thermosetting resin adhesive, which is an example of the insulating adhesive 68, and the electrode pads 51 and the internal connection terminals 59 formed on the external connection terminal lands 63 are connected to each other to form the signal, An electric conduction circuit is provided between each of the power supply solder balls 63a, and the heat dissipation filling vias 64 formed on the external connection terminal lands 63b are connected to the heat conductive support substrate 56 so as to be connected to the ground. A heat diffusion path is formed between each of the solder balls 62b.
【0041】ここで、熱伝導性金属薄板部材53として
は、上記ケイ素鋼板の外に銅、アルミ、鉄等を用いるこ
ともできる。そして、絶縁性被覆部材54としては、エ
ポキシ樹脂の外にガラスエポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリアミド樹脂などを用いることもできる。また、
前記熱導電性支持基板56としては、熱伝導性金属薄板
部材53の一例であるケイ素鋼板に、前記スルーホール
55を含む全表面に化学化成処理を行い、化学化成処理
被膜層69の一例であるリン酸塩処理したリン酸塩被膜
層を形成した構成としたものを用いることもできる。更
に、化学化成処理被膜層69の一例であるリン酸塩被膜
層の外にアルカリ黒色酸化処理したアルカリ黒色酸化被
膜層を形成したものであってもよい。これによって熱導
電性支持基板56は電気的不良導体を形成すると共に、
絶縁性樹脂接着剤68との密着性がより向上する。そし
て、前記接地用ソルダーボール63bが放熱用ソルダー
ボールとして機能すると共に、前記熱伝導性支持基板5
6が接地基板として機能する。Here, as the heat conductive metal sheet member 53, copper, aluminum, iron or the like can be used in addition to the silicon steel sheet. As the insulating covering member 54, a glass epoxy resin, a polyimide resin, a polyamide resin, or the like can be used in addition to the epoxy resin. Also,
The thermal conductive support substrate 56 is an example of a chemical conversion coating layer 69 in which a silicon steel plate, which is an example of the thermally conductive metal sheet member 53, is subjected to chemical conversion treatment on the entire surface including the through holes 55. It is also possible to use one having a configuration in which a phosphate coating layer subjected to a phosphate treatment is formed. Further, an alkali black oxide film layer subjected to an alkali black oxidation treatment may be formed in addition to a phosphate film layer which is an example of the chemical conversion film layer 69. Thereby, the heat conductive support substrate 56 forms an electrically defective conductor,
Adhesion with the insulating resin adhesive 68 is further improved. The ground solder balls 63b function as heat radiation solder balls, and the heat conductive support substrate 5
6 functions as a ground substrate.
【0042】[0042]
【発明の効果】請求項1記載の半導体装置は、半導体チ
ップと導体回路基板との間に熱伝導性支持基板を介在さ
せた構成としているので、外部実装基板(マザーボー
ド)実装後には、熱伝導性支持基板が半導体チップに発
生した熱を拡散するように機能し、半導体チップの発熱
量の増加に対応することができ半導体装置の熱特性を向
上させることができる。さらに、熱伝導性支持基板は樹
脂テープ基板に機械的強度を付与するように機能し、前
記樹脂テープ基板の平坦度を維持すると共に、搬送及び
その取扱を容易にすることができる。さらに、熱伝導性
支持板が接地プレーンとして機能し、磁気特性の改善、
及びEMIノイズの発生を防ぎ電気的特性を向上させる
ことができる。請求項2記載の半導体装置は、請求項1
記載の半導体装置にあって、絶縁性接着剤としてエラス
トマー系接着剤を用いているので、エラストマー系接着
剤が半導体チップと導体回路基板との間の熱膨張係数差
により生じる熱応力緩和材として機能し、半導体装置の
応力破壊を防止することができ半導体装置の長期信頼性
を維持することができる。請求項3記載の半導体装置
は、請求項1又は2記載の半導体装置にあって、絶縁性
被覆部材及び絶縁性接着剤に熱伝導性フィラーを混入し
ているので、熱伝導性フィラーが半導体チップの発熱を
より効率的に拡散するように機能し、外部実装基板と半
導体チップとの間に熱拡散経路を形成することができ半
導体装置の熱特性を向上させることができる。請求項4
記載の半導体装置は、請求項1から3記載の半導体装置
にあって、熱拡散性の良好な銅、アルミ、鉄、ケイ素鋼
板などを用いているので、熱拡散性が向上する。請求項
5記載の半導体装置は、請求項1から4記載の半導体装
置にあって、熱導電性支持基板には、化学化成処理被膜
層でコートされているので、電気的不良導体を形成する
と共に、絶縁性樹脂接着剤27との密着性がより向上す
る。請求項6記載の半導体装置は、請求項1から5記載
の半導体装置にあって、熱伝導性支持基板に接続した放
熱用充填ビアを形成しているので、前記接地用ソルダー
ボールが放熱ソルダー・ボールとして機能し、熱伝導性
支持基板を経由し、放熱ビア、外部接続端子ランド、接
地用ソルダーボールを経て、半導体チップの発熱を外部
実装基板に拡散する熱拡散経路が形成されると共に、熱
導伝性支持基板が接地プレーンとして機能し、寄生電
流、放熱性、電気的効率性を改善し半導体装置の熱特性
及び電気的特性を著しく改善させることができる。According to the first aspect of the present invention, since the heat conductive supporting substrate is interposed between the semiconductor chip and the conductive circuit board, the heat conductive after the external mounting board (mother board) is mounted. The conductive support substrate functions to diffuse the heat generated in the semiconductor chip, and can cope with an increase in the amount of heat generated by the semiconductor chip, thereby improving the thermal characteristics of the semiconductor device. Further, the heat conductive support substrate functions to impart mechanical strength to the resin tape substrate, and can maintain the flatness of the resin tape substrate, and facilitate transport and handling thereof. Furthermore, the heat conductive support plate functions as a ground plane, improving magnetic properties,
In addition, generation of EMI noise can be prevented and electrical characteristics can be improved. The semiconductor device according to the second aspect is the first aspect.
In the semiconductor device described above, since an elastomeric adhesive is used as the insulating adhesive, the elastomeric adhesive functions as a thermal stress relieving material caused by a difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor chip and the conductive circuit board. However, stress destruction of the semiconductor device can be prevented, and long-term reliability of the semiconductor device can be maintained. A semiconductor device according to a third aspect is the semiconductor device according to the first or second aspect, wherein the heat conductive filler is mixed in the insulating covering member and the insulating adhesive, so that the heat conductive filler is a semiconductor chip. Functioning to diffuse heat more efficiently, a heat diffusion path can be formed between the external mounting substrate and the semiconductor chip, and the thermal characteristics of the semiconductor device can be improved. Claim 4
The semiconductor device according to the present invention is the same as the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, and uses copper, aluminum, iron, silicon steel plate, or the like having a good heat diffusion property, so that the heat diffusion property is improved. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device according to the first to fourth aspects, wherein the thermally conductive support substrate is coated with the chemical conversion coating layer, thereby forming an electrically defective conductor. Thus, the adhesion with the insulating resin adhesive 27 is further improved. According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device according to the first to fifth aspects, wherein a heat-dissipating filling via connected to the heat-conductive support substrate is formed. It functions as a ball, passes through the heat conductive support substrate, passes through heat dissipation vias, external connection terminal lands, and grounding solder balls, and forms a heat diffusion path that diffuses the heat generated by the semiconductor chip to the external mounting substrate. The conductive support substrate functions as a ground plane, thereby improving parasitic current, heat dissipation, and electrical efficiency, and significantly improving the thermal and electrical characteristics of the semiconductor device.
【図1】本発明の実施の形態に係る半導体装置を示す断
面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態に係る半導体装置を構成す
る半導体チップを示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a semiconductor chip constituting the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図3】本発明の実施の形態に係る半導体装置を構成す
る熱導伝性支持基板を示す断面である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a heat conductive support substrate constituting the semiconductor device according to the embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施の形態に係る半導体装置を構成す
る導体回路基板を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conductive circuit board constituting the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図5】本発明の他の実施の形態に係る半導体装置の構
成を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【図6】本発明の他実施の形態に係る半導体装置を構成
する半導体チップを示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a semiconductor chip constituting a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【図7】本発明の他実施の形態に係る半導体装置を構成
する熱導伝性支持基板を示す断面である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a heat conductive support substrate constituting a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【図8】本発明の他実施の形態に係る半導体装置を構成
する導体回路基板を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a conductive circuit board included in a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
100 半導体装置 A 半導体素子チップ搭載面側 B 外部実装基板面側 10 半導体基板 11 電極パッド 11a アルミ電極 11b バリアメタル 11c 保護膜層 12 半導体チップ 13 熱伝導性金属薄板部材 14 熱伝導性フィラー 15 絶縁性被覆部材 16 スルーホール 17 熱伝導性支持基板 18 樹脂テープ基材(耐熱性の高いポリイミド樹脂テ
ープ) 18a スルーホール 19 内部接続端子ランド 20 内部接続端子 21 外部接続端子ランド 22 充填ビア 23 外部接続端子 23a 信号、電源用ソルダーボール 23b 接地用ソルダーボール 24 導体リード 25 導体回路パターン 26 導体回路基板(インターポーザ) 27 絶縁性接着剤 29 化学化成処理被膜層 30 導電性部材 200 半導体装置 50 半導体基板 51 電極パッド 52 半導体チップ 53 熱伝導性金属薄板部材 54 絶縁性被覆部材 55 スルーホール 56 熱伝導性支持基板 57 樹脂テープ基材 58 内部接続端子ランド 59 内部接続端子 60 信号、電源用外部接続端子ランド 61 接地用外部接続端子ランド 62 充填ビア 63 外部接続端子 63a 信号、電源用ソルダーボール 63b 接地用ソルダーボール 64 放熱用充填ビア 65 導体リード 66 導体回路パターン 67 導体回路基板(インターポーザ) 68 絶縁性接着剤 69 化学化成処理被膜層Reference Signs List 100 semiconductor device A semiconductor element chip mounting surface side B external mounting substrate surface side 10 semiconductor substrate 11 electrode pad 11a aluminum electrode 11b barrier metal 11c protective film layer 12 semiconductor chip 13 heat conductive metal sheet member 14 heat conductive filler 15 insulation Covering member 16 Through hole 17 Thermal conductive support substrate 18 Resin tape base material (polyimide resin tape with high heat resistance) 18a Through hole 19 Internal connection terminal land 20 Internal connection terminal 21 External connection terminal land 22 Filling via 23 External connection terminal 23a Solder ball for signal and power supply 23b Solder ball for grounding 24 Conductor lead 25 Conductor circuit pattern 26 Conductor circuit board (interposer) 27 Insulating adhesive 29 Chemical conversion coating layer 30 Conductive member 200 Semiconductor device 50 Semiconductor substrate 51 Electricity Pad 52 Semiconductor chip 53 Heat conductive thin metal plate member 54 Insulating covering member 55 Through hole 56 Heat conductive support substrate 57 Resin tape base material 58 Internal connection terminal land 59 Internal connection terminal 60 External connection terminal land for signal and power supply 61 Ground External connection terminal land 62 Filling via 63 External connection terminal 63a Solder ball for signal and power supply 63b Solder ball for ground 64 Filling via for heat radiation 65 Conductor lead 66 Conductor circuit pattern 67 Conductor circuit board (interposer) 68 Insulating adhesive 69 Chemical Chemical conversion coating layer
Claims (6)
集積回路パターンが形成された半導体チップと、エリア
アレイ状に配置された複数の充填ビアを有する樹脂テー
プ基板とその一方の面に、一端部に信号、電源及び接地
用外部接続端子ランドを、他端部に信号、電源及び接地
用内部接続端子ランドを設けた複数の導体リードを備え
た導体回路パターンが形成され、その他方の面に、前記
信号、電源及び接地用外部接続端子ランドのそれぞれに
接続された複数の信号、電源及び接地用ソルダーボール
が形成された導体回路基板とが絶縁性接着剤層を介して
接合され、しかも前記電極パッドと前記ソルダー・ボー
ルとの間に電気的導通回路が形成された半導体装置にお
いて、 前記半導体チップと前記導体回路基板との間に、金属性
薄板部材から成り、前記電極パッドのそれぞれに対応す
る複数のスルーホールが穿孔され、且つ絶縁性被覆部材
で前記スルーホールの内面を含めて全面コートされた熱
伝導性支持基板を介在させた構成としたことを特徴とす
る半導体装置。1. A semiconductor chip on which a semiconductor element integrated circuit pattern having a plurality of electrode pads is formed, a resin tape substrate having a plurality of filling vias arranged in an area array, and one end portion on one surface thereof. A conductor circuit pattern having a plurality of conductor leads provided with a signal, a power supply and a grounding external connection terminal land, and a signal, a power supply and a grounding internal connection terminal land on the other end, is formed on the other surface. A plurality of signals connected to each of the signal, power and ground external connection terminal lands, and a conductor circuit board on which power and ground solder balls are formed are joined via an insulating adhesive layer, and In a semiconductor device in which an electric conduction circuit is formed between a pad and the solder ball, a metal thin plate member is provided between the semiconductor chip and the conductive circuit board. A plurality of through-holes corresponding to each of the electrode pads are perforated, and a thermally conductive support substrate entirely coated with the insulating covering member including the inner surface of the through-hole is interposed. Characteristic semiconductor device.
記絶縁性接着剤層は、エラストマー系樹脂部材であるこ
とを特徴とする半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said insulating adhesive layer is an elastomer resin member.
て、前記絶縁性被覆部材及び絶縁性接着剤は、熱伝導性
の優れたAl2O3、AlN、BN、SiCのフィラー
から選択された一種を混入させた構成としたことを特徴
とする半導体装置。3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating covering member and the insulating adhesive are selected from Al 2 O 3 , AlN, BN, and SiC fillers having excellent thermal conductivity. A semiconductor device having a configuration in which a selected type is mixed.
体装置にあって、前記金属性薄板部材は、熱伝導性の優
れた部材である銅、アルミ、鉄、ケイ素鋼板から選択さ
れた一種であることを特徴とする半導体装置。4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said metallic thin plate member is selected from copper, aluminum, iron, and silicon steel plate having excellent thermal conductivity. A semiconductor device characterized by being a kind.
て、前記熱伝導性支持板は、前記スルーホールの内面を
含めて、化学化成処理で形成されたリン酸塩被膜層又は
アルカリ黒色酸化被膜層で全面コートされて成る構成と
したことを特徴とする半導体装置。5. The semiconductor device according to claim 1, wherein said heat conductive support plate includes a phosphate coating layer or an alkali black layer formed by a chemical conversion treatment, including an inner surface of said through hole. A semiconductor device having a configuration in which the entire surface is coated with an oxide film layer.
体装置にあって、前記接地用ソルダーボールは、前記接
地用外部接続端子ランドと前記熱伝導性支持基板との間
に形成され、前記接地用ソルダーボールに対応する複数
の放熱ビアを介して前記熱伝導性支持基板に接合し、熱
拡散経路を形成した構成とされていることを特徴とする
半導体装置。6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the ground solder ball is formed between the ground external connection terminal land and the heat conductive support substrate. A semiconductor device having a configuration in which a heat diffusion path is formed by bonding to the heat conductive support substrate via a plurality of heat radiation vias corresponding to the solder balls for grounding.
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