JP2001266410A - 表面読み出し型光記録媒体 - Google Patents
表面読み出し型光記録媒体Info
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- JP2001266410A JP2001266410A JP2000081804A JP2000081804A JP2001266410A JP 2001266410 A JP2001266410 A JP 2001266410A JP 2000081804 A JP2000081804 A JP 2000081804A JP 2000081804 A JP2000081804 A JP 2000081804A JP 2001266410 A JP2001266410 A JP 2001266410A
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 へッド浮上性、耐久性が良好であり、ＳＮＲ
も向上している表面読み出し型光記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも反射層、記録層およ
び保護層をこの順に積層してなる表面読み出し型光記録
媒体において、貴金属または貴金属どうしの合金を９
０．０〜９９．９原子％含有してなる反射層を用いる。
貴金属以外の成分としては、周期表ＩＶＡ族、ＶＡ族お
よびＶＩＡ族からなる群より選ばれる1種以上の元素が
好ましい。
も向上している表面読み出し型光記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも反射層、記録層およ
び保護層をこの順に積層してなる表面読み出し型光記録
媒体において、貴金属または貴金属どうしの合金を９
０．０〜９９．９原子％含有してなる反射層を用いる。
貴金属以外の成分としては、周期表ＩＶＡ族、ＶＡ族お
よびＶＩＡ族からなる群より選ばれる1種以上の元素が
好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、書き換えが可能な
表面読み出し型光記録媒体、特に、レーザービームと磁
界によって情報の記録、再生及び消去を行なう表面読み
出し型光磁気記録媒体、あるいはレーザービームのみに
よって情報の記録、再生及び消去を行なう表面読み出し
型相変化型記録媒体に関する。
表面読み出し型光記録媒体、特に、レーザービームと磁
界によって情報の記録、再生及び消去を行なう表面読み
出し型光磁気記録媒体、あるいはレーザービームのみに
よって情報の記録、再生及び消去を行なう表面読み出し
型相変化型記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、大容量・高密度記録が可
能な可搬型記録媒体であり、近年のマルチメディア化に
伴なうコンピュータの大容量ファイルや動画を記録する
書き換え型メディアとして需要が急増しつつある。
能な可搬型記録媒体であり、近年のマルチメディア化に
伴なうコンピュータの大容量ファイルや動画を記録する
書き換え型メディアとして需要が急増しつつある。
【０００３】光磁気記録媒体は、一般にプラスチック等
の透明な円盤状の基板に記録層を含む多層膜を形成し、
磁界を加えながらレーザーを照射して記録、消去を行
い、レーザーの反射光で再生する。記録方式は、従来、
固定磁界を加えて消去した後、反対方向の固定磁界を加
えて記録するいわゆる光変調記録が中心であったが、近
年、レーザーを照射しながら、磁界を記録パターンに従
って変調させる磁界変調方式が、１回転で記録（ダイレ
クトオーバーライト）可能でしかも高記録密度になって
も正確に記録できる方式として注目を浴びている。
の透明な円盤状の基板に記録層を含む多層膜を形成し、
磁界を加えながらレーザーを照射して記録、消去を行
い、レーザーの反射光で再生する。記録方式は、従来、
固定磁界を加えて消去した後、反対方向の固定磁界を加
えて記録するいわゆる光変調記録が中心であったが、近
年、レーザーを照射しながら、磁界を記録パターンに従
って変調させる磁界変調方式が、１回転で記録（ダイレ
クトオーバーライト）可能でしかも高記録密度になって
も正確に記録できる方式として注目を浴びている。
【０００４】また、結晶相とアモルファス相との間の可
逆的相変化を利用した相変化記録方式もダイレクトオー
バーライトが可能で最近使用されるようになっている。
逆的相変化を利用した相変化記録方式もダイレクトオー
バーライトが可能で最近使用されるようになっている。
【０００５】記録再生のためのレーザーは、従来、基板
を通して記録膜に照射されているが、最近、光学ヘッド
を記録膜に近付けて記録再生する、いわゆる、近接場光
記録が高密度化の手段として注目されている（Ａｐｐ
ｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６８，ｐ．１４１（１９９
６））。
を通して記録膜に照射されているが、最近、光学ヘッド
を記録膜に近付けて記録再生する、いわゆる、近接場光
記録が高密度化の手段として注目されている（Ａｐｐ
ｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６８，ｐ．１４１（１９９
６））。
【０００６】この記録方法の一つとして、Ｓｏｌｉｄ
Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｅｎｓ（以下ＳＩＬと略す）ヘ
ッドを使用し、レーザービームスポットサイズを縮小す
ることにより、光源のレーザー波長（λ）によって決ま
る従来の記録限界（〜λ／２ＮＡ：ＮＡは対物レンズの
開口数）より短いマークでの再生が可能となる方法があ
り、超高記録密度の記録再生が実現できる。
Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｅｎｓ（以下ＳＩＬと略す）ヘ
ッドを使用し、レーザービームスポットサイズを縮小す
ることにより、光源のレーザー波長（λ）によって決ま
る従来の記録限界（〜λ／２ＮＡ：ＮＡは対物レンズの
開口数）より短いマークでの再生が可能となる方法があ
り、超高記録密度の記録再生が実現できる。
【０００７】この近接場光記録では、光学ヘッドを記録
媒体に近付ける必要があるために（〜１００ｎｍ）、従
来の光記録媒体のように基板を通して記録膜にレーザー
ビームを照射するのではなく、基板を通さずに直接記録
膜にレーザービームを照射する方法を用いる。
媒体に近付ける必要があるために（〜１００ｎｍ）、従
来の光記録媒体のように基板を通して記録膜にレーザー
ビームを照射するのではなく、基板を通さずに直接記録
膜にレーザービームを照射する方法を用いる。
【０００８】すなわち、記録膜の構成が従来の光記録媒
体では基板／第１保護層／記録層／第２保護層／反射層
としているのが一般的であるのに対して、近接場光記録
では基板／反射層／第１保護層／記録層／第２保護層と
いう逆構成の膜構造として膜表面側からレーザービーム
を照射し、記録再生を行なう（表面読み出し型記録）。
体では基板／第１保護層／記録層／第２保護層／反射層
としているのが一般的であるのに対して、近接場光記録
では基板／反射層／第１保護層／記録層／第２保護層と
いう逆構成の膜構造として膜表面側からレーザービーム
を照射し、記録再生を行なう（表面読み出し型記録）。
【０００９】また、最近では、レンズＮＡを１以下とし
て薄膜上の保護コート層を通してレーザーを照射し、記
録再生を行なう表面記録方式も提案されている（Ｊ．Ｍ
ａｇｎ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６８，Ｓ１，ｐ．２６９（１
９９９））。
て薄膜上の保護コート層を通してレーザーを照射し、記
録再生を行なう表面記録方式も提案されている（Ｊ．Ｍ
ａｇｎ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６８，Ｓ１，ｐ．２６９（１
９９９））。
【００１０】近接場光記録では、記録膜とＳＩＬヘッド
とを近付けるために浮上式のスライダーヘッドを利用す
ることが多い。ヘッドと記録媒体との距離が非常に近く
なっているため（〜１００ｎｍ）、ハードディスクドラ
イブの場合と同様に、ヘッドと記録媒体とのインターフ
ェイスの問題（ヘッドクラッシュ等）がある。また、薄
膜の表面性によるＳＮＲ低下の問題や記録媒体が直接大
気にさらされることに対する耐久性の確保が課題となっ
ている。
とを近付けるために浮上式のスライダーヘッドを利用す
ることが多い。ヘッドと記録媒体との距離が非常に近く
なっているため（〜１００ｎｍ）、ハードディスクドラ
イブの場合と同様に、ヘッドと記録媒体とのインターフ
ェイスの問題（ヘッドクラッシュ等）がある。また、薄
膜の表面性によるＳＮＲ低下の問題や記録媒体が直接大
気にさらされることに対する耐久性の確保が課題となっ
ている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヘッ
ド浮上特性が良好で耐久性に優れた、従来とは逆の膜構
成を有する表面読み出し型光記録媒体を提供することで
ある。
ド浮上特性が良好で耐久性に優れた、従来とは逆の膜構
成を有する表面読み出し型光記録媒体を提供することで
ある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述のよう
な現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成す
るに至った。
な現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成す
るに至った。
【００１３】すなわち、本発明は、基板上に少なくとも
反射層、記録層および保護層をこの順に積層してなる表
面読み出し型光記録媒体において、貴金属または貴金属
どうしの合金を９０．０〜９９．９原子％含有してなる
反射層を用いることを特徴とする表面読み出し型光記録
媒体に関する。
反射層、記録層および保護層をこの順に積層してなる表
面読み出し型光記録媒体において、貴金属または貴金属
どうしの合金を９０．０〜９９．９原子％含有してなる
反射層を用いることを特徴とする表面読み出し型光記録
媒体に関する。
【００１４】以下に本発明を更に詳細に説明する。
【００１５】図１に本発明の表面読み出し型光記録媒体
の一実施態様の部分断面図を示す。基板１１上に反射層
１２、記録層１３、保護層１４が積層されている。
の一実施態様の部分断面図を示す。基板１１上に反射層
１２、記録層１３、保護層１４が積層されている。
【００１６】基板１１としては機械特性などの媒体基板
としての特性を満たすものであれば特に限定されず、ガ
ラスや、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィ
ン、熱可塑性エンジニアリングプラスチック等の熱可塑
性樹脂を用いることができる。基板上には、情報を記録
するためにピット、ランド部や案内溝等を片面または両
面に射出成形等により設けることができ、近接場記録用
の基板としては、基板の両面にそれらを設けることが、
記録容量を増大させる点で好ましい。
としての特性を満たすものであれば特に限定されず、ガ
ラスや、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィ
ン、熱可塑性エンジニアリングプラスチック等の熱可塑
性樹脂を用いることができる。基板上には、情報を記録
するためにピット、ランド部や案内溝等を片面または両
面に射出成形等により設けることができ、近接場記録用
の基板としては、基板の両面にそれらを設けることが、
記録容量を増大させる点で好ましい。
【００１７】反射層１２は、貴金属または貴金属どうし
の合金を９０．０〜９９．９原子％含有してなる膜で構
成される。ここで、貴金属元素としては、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＡｇまたはＡｕを例示するこ
とができ、これらの中から１種以上の元素を用いればよ
いが、好ましくは、Ａｕ、Ｐｔ、ＰｄまたはＡｇより選
ばれる１種以上の元素、更に好ましくはＡｕを用いれば
よい。
の合金を９０．０〜９９．９原子％含有してなる膜で構
成される。ここで、貴金属元素としては、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＡｇまたはＡｕを例示するこ
とができ、これらの中から１種以上の元素を用いればよ
いが、好ましくは、Ａｕ、Ｐｔ、ＰｄまたはＡｇより選
ばれる１種以上の元素、更に好ましくはＡｕを用いれば
よい。
【００１８】反射層１２における貴金属または貴金属ど
うしの合金の含有量は、記録感度および反射率の観点か
ら９５．０〜９９．９原子％が好ましい。
うしの合金の含有量は、記録感度および反射率の観点か
ら９５．０〜９９．９原子％が好ましい。
【００１９】反射層に存在する貴金属以外の成分元素と
しては、特に限定はないが、好ましくは、耐久性および
ヘッド浮上特性の点で、周期表のＩＶＡ族、ＶＡ族、Ｖ
ＩＡ族からなる群より選ばれる元素を1種以上用いる。
しては、特に限定はないが、好ましくは、耐久性および
ヘッド浮上特性の点で、周期表のＩＶＡ族、ＶＡ族、Ｖ
ＩＡ族からなる群より選ばれる元素を1種以上用いる。
【００２０】周期表のＩＶＡ族、ＶＡ族またはＶＩＡ族
の元素としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等を例示することができる。
の元素としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等を例示することができる。
【００２１】周期表のＩＶＡ族、ＶＡ族、ＶＩＡ族から
なる群より選ばれる元素の反射層における含有量は、
０．１原子％〜１０原子％、好ましくは、記録感度およ
び反射率の観点から０．１〜５．０原子％である。
なる群より選ばれる元素の反射層における含有量は、
０．１原子％〜１０原子％、好ましくは、記録感度およ
び反射率の観点から０．１〜５．０原子％である。
【００２２】貴金属または貴金属どうしの合金と、周期
表のＩＶＡ族、ＶＡ族またはＶＩＡ族の元素との好まし
い組み合わせとしては、ＡｕＣｒ、ＡｕＴａ、ＡｕＴ
ｉ、ＡｕＶ、ＡｕＮｂ、ＡｕＷ、ＡｕＺｒ等を例示する
ことができる。
表のＩＶＡ族、ＶＡ族またはＶＩＡ族の元素との好まし
い組み合わせとしては、ＡｕＣｒ、ＡｕＴａ、ＡｕＴ
ｉ、ＡｕＶ、ＡｕＮｂ、ＡｕＷ、ＡｕＺｒ等を例示する
ことができる。
【００２３】また、反射層を構成する材質として、一般
式Ａｇ1-X-YＡXＢYと表わされる合金も使用することが
できる。ここで、ＡはＡｕ、ＰｔまたはＰｄから選ばれ
る少なくとも1種以上の元素であり、ＢはＣｕ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、ＭｏまたはＷから
選ばれる少なくとも1種以上の元素であり、ＸおよびＹ
の範囲は、０．００１≦Ｘ≦０．１、０．００１≦Ｙ≦
０．１、好ましくは、０．００１≦Ｘ≦０．０８、０．
００１≦Ｙ≦０．０８かつＸ＋Ｙ≦０．１である。
式Ａｇ1-X-YＡXＢYと表わされる合金も使用することが
できる。ここで、ＡはＡｕ、ＰｔまたはＰｄから選ばれ
る少なくとも1種以上の元素であり、ＢはＣｕ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、ＭｏまたはＷから
選ばれる少なくとも1種以上の元素であり、ＸおよびＹ
の範囲は、０．００１≦Ｘ≦０．１、０．００１≦Ｙ≦
０．１、好ましくは、０．００１≦Ｘ≦０．０８、０．
００１≦Ｙ≦０．０８かつＸ＋Ｙ≦０．１である。
【００２４】このような材質で反射層を構成することに
より、ヘッド浮上性、耐久性向上のほかにＳＮＲが向上
するので好ましい。
より、ヘッド浮上性、耐久性向上のほかにＳＮＲが向上
するので好ましい。
【００２５】基板１１と反射層１２との間に、密着性を
向上させる目的等でＣｒ膜等からなる下地層を形成して
もよい。
向上させる目的等でＣｒ膜等からなる下地層を形成して
もよい。
【００２６】記録層１３としては、垂直磁化で保磁力が
大きい材料であればよく、例えば、ＴｂＦｅＣｏ又はＴ
ｂＦｅＣｏを主体とした材料を例示することができる。
記録層の保磁力は、記録された情報を安定に保持するた
め大きいほど好ましいが、近接場光磁気記録用の光磁気
記録媒体としては５ｋＯｅ以上であることが好ましい。
大きい材料であればよく、例えば、ＴｂＦｅＣｏ又はＴ
ｂＦｅＣｏを主体とした材料を例示することができる。
記録層の保磁力は、記録された情報を安定に保持するた
め大きいほど好ましいが、近接場光磁気記録用の光磁気
記録媒体としては５ｋＯｅ以上であることが好ましい。
【００２７】また、記録層として結晶相とアモルファス
相との間の可逆的相変化を利用した相変化記録媒体も使
用することができる。この場合、記録層で発生する熱が
大きいため反射層１２と記録層１３との間に保護層を形
成することが好ましい。しかしながら、記録層としては
磁気超解像などの高記録密度化技術の点で光磁気記録媒
体の方がより好ましい。
相との間の可逆的相変化を利用した相変化記録媒体も使
用することができる。この場合、記録層で発生する熱が
大きいため反射層１２と記録層１３との間に保護層を形
成することが好ましい。しかしながら、記録層としては
磁気超解像などの高記録密度化技術の点で光磁気記録媒
体の方がより好ましい。
【００２８】保護層１４としては、ＳｉＮ、ＡｌＮ、Ｓ
ｉＡｌＯＮ、Ｔａ2Ｏ5、ＺｎＳとＳｉＯ2との混合材料
などの透明な誘電体で構成さることができる。スライダ
ーヘッドの浮上特性を良好なものとするために、保護層
１４は、透明な誘電体層と、カーボンに水素や窒素を添
加させたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）固体潤
滑層との積層であってもよい。
ｉＡｌＯＮ、Ｔａ2Ｏ5、ＺｎＳとＳｉＯ2との混合材料
などの透明な誘電体で構成さることができる。スライダ
ーヘッドの浮上特性を良好なものとするために、保護層
１４は、透明な誘電体層と、カーボンに水素や窒素を添
加させたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）固体潤
滑層との積層であってもよい。
【００２９】また、さらにこの保護層１４の上に、極薄
いパーフルオロポリエーテルなどの液体の潤滑層をディ
ップ引き上げ法等の方法で形成することによりスライダ
ーヘッドの浮上特性が更に良好となる。
いパーフルオロポリエーテルなどの液体の潤滑層をディ
ップ引き上げ法等の方法で形成することによりスライダ
ーヘッドの浮上特性が更に良好となる。
【００３０】以上の下地層、反射層、記録層、保護層、
固体潤滑層の形成には真空蒸着法やスパッタ法などの真
空薄膜形成技術を使用することができる。
固体潤滑層の形成には真空蒸着法やスパッタ法などの真
空薄膜形成技術を使用することができる。
【００３１】また、当表面読み出し型光記録媒体は保護
層１４の形成後にアクリル系紫外線硬化樹脂などからな
る保護コート層を形成することによって、ＮＡが１以下
の光学系に対する表面読み出し型光記録媒体としても利
用することができる。保護コート層の形成には真空薄膜
形成技術やディップ引き上げ法、スピンコート法などが
利用できる。
層１４の形成後にアクリル系紫外線硬化樹脂などからな
る保護コート層を形成することによって、ＮＡが１以下
の光学系に対する表面読み出し型光記録媒体としても利
用することができる。保護コート層の形成には真空薄膜
形成技術やディップ引き上げ法、スピンコート法などが
利用できる。
【００３２】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるも
のではない。
明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるも
のではない。
【００３３】実施例１ 図２に示すような構造の表面読み出し型光磁気記録用の
媒体を製造した。すなわち、トラックピッチ０．４５μ
ｍの案内溝の付いたポリカーボネート製の基板２１上
に、反射層２２として膜厚５０ｎｍのＡｕ0.98Ｃｒ0.02
合金膜をスパッタ法により形成した。この上にＴｂ0.20
（Ｆｅ0.76Ｃｏ0.20Ｔａ0.04）0.80からなる記録層２３
を２０ｎｍの厚みにＤＣスパッタ法により形成した。
媒体を製造した。すなわち、トラックピッチ０．４５μ
ｍの案内溝の付いたポリカーボネート製の基板２１上
に、反射層２２として膜厚５０ｎｍのＡｕ0.98Ｃｒ0.02
合金膜をスパッタ法により形成した。この上にＴｂ0.20
（Ｆｅ0.76Ｃｏ0.20Ｔａ0.04）0.80からなる記録層２３
を２０ｎｍの厚みにＤＣスパッタ法により形成した。
【００３４】さらにその上に、ＳｉＮからなる保護層２
４をＡｒとＮ2との混合雰囲気中でＳｉターゲットを使
用した反応性ＤＣスパッタ法で６５ｎｍ、ＤＬＣからな
る固体潤滑層２５をＡｒとＣＨ4の混合雰囲気中でＣタ
ーゲットを使用した反応性ＲＦスパッタ法で１５ｎｍ形
成した。ＤＬＣ層を形成した後、パーフルオロポリエー
テル系の潤滑層２６を引き上げ法で１ｎｍ塗布して光磁
気記録媒体を製造した。
４をＡｒとＮ2との混合雰囲気中でＳｉターゲットを使
用した反応性ＤＣスパッタ法で６５ｎｍ、ＤＬＣからな
る固体潤滑層２５をＡｒとＣＨ4の混合雰囲気中でＣタ
ーゲットを使用した反応性ＲＦスパッタ法で１５ｎｍ形
成した。ＤＬＣ層を形成した後、パーフルオロポリエー
テル系の潤滑層２６を引き上げ法で１ｎｍ塗布して光磁
気記録媒体を製造した。
【００３５】実施例２ 反射層２２をＡｕ0.98Ｔａ0.02、Ａｕ0.98Ｔｉ0.02、Ａ
ｕ0.98Ｖ0.02、Ａｕ0.98Ｎｂ0.02、Ａｕ0.98Ｗ0.02とそ
れぞれ変えた他は、実施例１と同様の方法で表面読み出
し型光磁気記録媒体を製造した。
ｕ0.98Ｖ0.02、Ａｕ0.98Ｎｂ0.02、Ａｕ0.98Ｗ0.02とそ
れぞれ変えた他は、実施例１と同様の方法で表面読み出
し型光磁気記録媒体を製造した。
【００３６】実施例３ 反射層２２をＡｇ0.98Ｐｄ0.01Ｔａ0.01、Ａｇ0.98Ｐｔ
0.01Ｔｉ0.01、Ａｇ0.98Ａｕ0.01Ｚｒ0.01とそれぞれ変
えた他は、実施例１と同様の方法で表面読み出し型光磁
気記録媒体を製造した。
0.01Ｔｉ0.01、Ａｇ0.98Ａｕ0.01Ｚｒ0.01とそれぞれ変
えた他は、実施例１と同様の方法で表面読み出し型光磁
気記録媒体を製造した。
【００３７】実施例４ トラックピッチ０．５５μｍの基板を使用し、ＤＬＣ層
の形成後、アクリル系紫外線硬化樹脂からなる保護コー
ト層をスピンコート法で１０μｍの厚みに形成し、更に
パーフルオロポリエーテル系の潤滑層を引き上げ法で１
ｎｍ塗布した他は、実施例１と同様の方法で表面読み出
し型光磁気記録媒体を製造した。
の形成後、アクリル系紫外線硬化樹脂からなる保護コー
ト層をスピンコート法で１０μｍの厚みに形成し、更に
パーフルオロポリエーテル系の潤滑層を引き上げ法で１
ｎｍ塗布した他は、実施例１と同様の方法で表面読み出
し型光磁気記録媒体を製造した。
【００３８】実施例５ 基板両面にトラックピッチ０．４５μｍの案内溝の付い
たポリカーボネート製基板を用いて、その両面に実施例
１と同様な構成の膜を形成した。膜形成後にパーフルオ
ロポリエーテル系潤滑層を引き上げ法で１ｎｍ塗布して
表面読み出し型光磁気記録媒体を製造した。
たポリカーボネート製基板を用いて、その両面に実施例
１と同様な構成の膜を形成した。膜形成後にパーフルオ
ロポリエーテル系潤滑層を引き上げ法で１ｎｍ塗布して
表面読み出し型光磁気記録媒体を製造した。
【００３９】比較例１ 図３に示すような構造の表面読み出し型光磁気記録用の
媒体を製造した。すなわち、トラックピッチ０．４５μ
ｍの案内溝の付いたポリカーボネート製の基板３１上に
反射層３２として膜厚５０ｎｍのＡｕ、あるいはＡｇの
膜をスパッタ法により形成した。この上にＴｂ0.20（Ｆ
ｅ0.76Ｃｏ0.20Ｔａ0.04）0.80からなる記録層３３を２
０ｎｍの厚みにＤＣスパッタ法により形成した。
媒体を製造した。すなわち、トラックピッチ０．４５μ
ｍの案内溝の付いたポリカーボネート製の基板３１上に
反射層３２として膜厚５０ｎｍのＡｕ、あるいはＡｇの
膜をスパッタ法により形成した。この上にＴｂ0.20（Ｆ
ｅ0.76Ｃｏ0.20Ｔａ0.04）0.80からなる記録層３３を２
０ｎｍの厚みにＤＣスパッタ法により形成した。
【００４０】さらにその上に、ＳｉＮからなる保護層３
４をＡｒとＮ2の混合雰囲気中でＳｉターゲットを使用
した反応性ＤＣスパッタ法で６５ｎｍ、ＤＬＣからなる
固体潤滑層３５をＡｒとＣＨ4の混合雰囲気中でＣター
ゲットを使用した反応性ＲＦスパッタ法で１５ｎｍ形成
した。ＤＬＣ層を形成した後、パーフルオロポリエーテ
ル系の潤滑層３６を引き上げ法で１ｎｍ塗布して光磁気
記録媒体を製造した。
４をＡｒとＮ2の混合雰囲気中でＳｉターゲットを使用
した反応性ＤＣスパッタ法で６５ｎｍ、ＤＬＣからなる
固体潤滑層３５をＡｒとＣＨ4の混合雰囲気中でＣター
ゲットを使用した反応性ＲＦスパッタ法で１５ｎｍ形成
した。ＤＬＣ層を形成した後、パーフルオロポリエーテ
ル系の潤滑層３６を引き上げ法で１ｎｍ塗布して光磁気
記録媒体を製造した。
【００４１】実施例１〜３および比較例１の光磁気記録
媒体に対して以下に示すようなグライドテストを行なっ
た。
媒体に対して以下に示すようなグライドテストを行なっ
た。
【００４２】スピンドル上に光磁気記録媒体をセットし
て回転させる。はじめにワッフルバーニッシュヘッド
（グライドハイト社製、フライングハイト：２５ｎｍ）
を用いて半径２０〜６０ｍｍの間を１回シークする。次
にピエゾ素子のついたグライドヘッド（グライドハイト
社製、フライングハイト：５０ｎｍ）でディスク上をシ
ークし、ピエゾ素子に誘起される電圧値をモニターす
る。この電圧値が５００ｍＶ以上をヒットとしてカウン
トする。ヒットカウントが０〜２を非常に良好、３〜５
を良好、６〜９をやや良好、１０以上を不良とする。
て回転させる。はじめにワッフルバーニッシュヘッド
（グライドハイト社製、フライングハイト：２５ｎｍ）
を用いて半径２０〜６０ｍｍの間を１回シークする。次
にピエゾ素子のついたグライドヘッド（グライドハイト
社製、フライングハイト：５０ｎｍ）でディスク上をシ
ークし、ピエゾ素子に誘起される電圧値をモニターす
る。この電圧値が５００ｍＶ以上をヒットとしてカウン
トする。ヒットカウントが０〜２を非常に良好、３〜５
を良好、６〜９をやや良好、１０以上を不良とする。
【００４３】表１にグライドテスト結果及び８０℃、８
５％ＲＨの環境で２５０時間の加速耐久性テストの結果
を示す。表の中の×は不良、△はやや良好、○は良好、
◎は非常に良好であることを示す。また、レーザー波長
６８０ｎｍ、有効開口数１．２のスライダーＳＩＬヘッ
ドを用いて０．３μｍのマーク長の信号を記録再生した
ときのＳＮＲの値も同時に示す。
５％ＲＨの環境で２５０時間の加速耐久性テストの結果
を示す。表の中の×は不良、△はやや良好、○は良好、
◎は非常に良好であることを示す。また、レーザー波長
６８０ｎｍ、有効開口数１．２のスライダーＳＩＬヘッ
ドを用いて０．３μｍのマーク長の信号を記録再生した
ときのＳＮＲの値も同時に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】表１から、各実施例の光記録媒体は、比較
例１の光記録媒体と比べてヘッド浮上性、耐久性だけで
なくＳＮＲも向上していることがわかる。
例１の光記録媒体と比べてヘッド浮上性、耐久性だけで
なくＳＮＲも向上していることがわかる。
【００４６】実施例４の表面読み出し型光磁気記録媒体
に対してレーザー波長６８０ｎｍ、有効開口数０．８の
光学系を有するスライダーヘッドを使用して記録特性を
測定したところ、マーク長０．４μｍにおいて２３ｄＢ
の良好なＳＮＲ値が得られ、オーバーコートを施した表
面読み出し型光磁気記録媒体としても使用可能であるこ
とが確かめられた。
に対してレーザー波長６８０ｎｍ、有効開口数０．８の
光学系を有するスライダーヘッドを使用して記録特性を
測定したところ、マーク長０．４μｍにおいて２３ｄＢ
の良好なＳＮＲ値が得られ、オーバーコートを施した表
面読み出し型光磁気記録媒体としても使用可能であるこ
とが確かめられた。
【００４７】また、実施例５の表面読み出し型光磁気記
録媒体に対して、レーザー波長６８０ｎｍ、有効開口数
１．２のスライダーＳＩＬヘッドを使用して記録特性を
測定したところ、両面ともマーク長０．３μｍにおいて
２１ｄＢの良好なＳＮＲ値が得られ、両面光記録媒体と
しても使用可能であることが確認できた。
録媒体に対して、レーザー波長６８０ｎｍ、有効開口数
１．２のスライダーＳＩＬヘッドを使用して記録特性を
測定したところ、両面ともマーク長０．３μｍにおいて
２１ｄＢの良好なＳＮＲ値が得られ、両面光記録媒体と
しても使用可能であることが確認できた。
【００４８】
【発明の効果】本発明の表面読み出し型光記録媒体は、
ヘッド浮上性、耐久性が良好であり、更にＳＮＲも向上
した優れた特性をもつ表面読み出し型光記録媒体であ
る。
ヘッド浮上性、耐久性が良好であり、更にＳＮＲも向上
した優れた特性をもつ表面読み出し型光記録媒体であ
る。
【図１】 本発明の表面読み出し型光記録媒体の一例の
構造を示す部分断面図である。
構造を示す部分断面図である。
【図２】 本発明の実施例１の構造を示す部分断面図で
ある。
ある。
【図３】 本発明の比較例１の構造を示す部分断面図で
ある。
ある。
１１、２１、３１：基板 １２、２２、３２：反射層 １３、２３、３３：記録層 １４、２４、３４：保護層 ２５、３５：固体潤滑層 ２６、３６：潤滑層
Claims (5)
- 【請求項１】 基板上に少なくとも反射層、記録層およ
び保護層をこの順に積層してなる表面読み出し型光記録
媒体において、貴金属または貴金属どうしの合金を９
０．０〜９９．９原子％含有してなる反射層を用いるこ
とを特徴とする表面読み出し型光記録媒体。 - 【請求項２】 周期表ＩＶＡ族、ＶＡ族およびＶＩＡ族
からなる群より選ばれる1種以上の元素を、０．１〜１
０．０原子％の範囲で反射層に含有することを特徴とす
る請求項１記載の表面読み出し型光記録媒体。 - 【請求項３】 貴金属元素がＡｕであることを特徴とす
る請求項１または請求項２に記載の表面読み出し型光記
録媒体。 - 【請求項４】 基板上に少なくとも反射層、記録層およ
び保護層をこの順に積層してなる表面読み出し型光記録
媒体において、一般式Ａｇ1-X-YＡXＢY（但し、ＡはＡ
ｕ、ＰｔまたはＰｄから選ばれる少なくとも1種以上の
元素、ＢはＣｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、
Ｃｒ、ＭｏまたはＷから選ばれる少なくとも1種以上の
元素、０．００１≦Ｘ≦０．１、０．００１≦Ｙ≦０．
１である）で表される合金を反射層とすることを特徴と
する表面読み出し型光記録媒体。 - 【請求項５】 反射層と磁気光学効果を有する記録層と
が直接積層されていることを特徴とする請求項１〜４の
いずれか１項に記載の表面読み出し型光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000081804A JP2001266410A (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | 表面読み出し型光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000081804A JP2001266410A (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | 表面読み出し型光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001266410A true JP2001266410A (ja) | 2001-09-28 |
Family
ID=18598689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000081804A Pending JP2001266410A (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | 表面読み出し型光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001266410A (ja) |
-
2000
- 2000-03-17 JP JP2000081804A patent/JP2001266410A/ja active Pending
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