JP2001265441A

JP2001265441A - 微細位置決め装置および微細位置決め方法

Info

Publication number: JP2001265441A
Application number: JP2000071791A
Authority: JP
Inventors: Hirotami Nakano; 博民中野; Hiroshi Eda; 弘江田
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2000-03-15
Filing date: 2000-03-15
Publication date: 2001-09-28

Abstract

(57)【要約】【目的】大荷重の物品を、オングストロームのレベルの
精度で極めて精密にかつ正確に変位させ位置決めするた
めの装置および該微細位置決め装置を用いた微細位置決
め方法を提供する。【構成】無摩擦で変位が可能な弾性変位テーブルと超磁
歪アクチュエータとによって構成され、該超磁歪アクチ
ュエータに設けられたロッドの変形によって前記弾性変
位テーブルを変位させ位置決めを行なうことを特徴とす
る微細位置決め装置である。また、超磁歪アクチュエー
タに所定の電流を印加して該超磁歪アクチュエータに設
けられたロッドを変形させ、弾性変位テーブルを微小変
位せしめ、その位置を標準位置とし、印加する電流値を
変化させることによって弾性変位テーブルを前記標準位
置を中心に自在に微小変位させることを特徴とする微細
位置決め方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、例えばトンオーダ
ーの大荷重の物品を、例えばオングストロームのレベル
の精度で極めて精密にかつ正確に変位させ位置決めする
ための装置および該微細位置決め装置を用いた微細位置
決め方法に係る。

【０００２】

【従来技術】従来、例えば比較的微小な距離を、極めて
精密にかつ正確に物品を変位させるためにはサーボモー
タによる方法や、例えばピエゾ素子を用いた圧電アクチ
ュエータによる方法、あるいは超磁歪アクチュエータを
用いて行なう方法が一般的に行なわれている。具体的に
は変位すべき物品の一端に前述のアクチュエータの先端
端子を当接し、必要に応じて直進運動の変位量を出力し
該物品を変位せしめるものである。

【０００３】前述の方法は、変位すべき物品が比較的軽
量な場合は問題なく実施可能であるが、例えば精密加工
機械およびその付属装置等を搭載した装置のような場
合、その重量が数百キロあるいはトンのオーダーになる
場合もあり、また、前記装置の載置方法によっては、変
位に際してはその物品の動きに伴い発生する摩擦（特に
静摩擦）が大きな抵抗となり、いずれの場合もその微小
変位に大きな障害となり、適切な方法がないことが実状
であった。即ち、特に、シリコンウェーハ等の超精密加
工に係わる大荷重の装置を、極めて微小な距離を精密に
動かすための装置の開発が待たれていた。

【０００４】例えば特開平１−１７１７４７号公報には
サーボモータを用いて精密な変位を行なう装置が記載さ
れているが、サーボモータの場合大荷重のものの移動に
適する大出力のものはなく、また回転を伴なうものであ
って、ナノメーターの精度での制御は到底困難であり実
用上使用は困難である。また、更に、例えばピエゾ素子
を用いた圧電アクチュエータを考えた場合（例えば特開
平１１−２５４３５６号公報に記載）も、同様に大荷重
のものの変位に適用した場合は素子が破壊してしまい使
用は困難である。即ち、これらの装置を大荷重で微細か
つ高精度の変位を行なうためのアクチュエータとして使
用することは現状では困難である。

【０００５】更に、例えば特開昭６４−３４６３１号公
報にはテルビウム、ジスプロシウムおよび鉄よりなる合
金系の単結晶または多結晶の磁歪材料を有することを特
徴とする超磁歪固体アクチュエータが記載されている
が、このような超磁歪アクチュエータの場合は、かかる
大荷重のものを変位させる出力を直接得るためには大電
流が必要となり、それに伴ないジュール熱が発生する。
ジュール熱の発生があると変位量の精度に大きな狂いが
生じナノメーターレベルの精密な制御は困難となる。そ
れを回避するためには強制水冷却による恒温装置の付設
あるいはドライアイスや液体窒素等を用いた強力な強制
冷却装置が必要であり、その煩雑さは否定できない。

【０００６】また、前述のシリコンウェーハ等の超精密
加工用の装置において変位すべき部分は床に定置される
ものではなく、摺動可動な変位テーブル等の上に載置さ
れるものであるが、変位に際しては摺動に伴う摩擦抵抗
が極めて少ないものでなくてはならない。特に静止状態
から動き始める時点で発生する静摩擦が大きいと、その
抵抗に対し多大な出力が必要となる。かかる問題を回避
するためには、例えば抵抗の極めて少ない静圧空気案内
溝を用いて僅かな力で効果的にテーブルを移動させる方
法もあるが、この静圧空気案内溝を用いる方法は変位量
が比較的大きい場合有効であるが、大荷重のものをナノ
メーターレベルで正確に変位させるという目的から見れ
ば完全なものとは言えない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、上述の
従来の技術の持つ問題点に鑑み、鋭意検討を行ない、ト
ンオーダーの大荷重の物品を、ナノメーターあるいはオ
ングストロームのレベルで極めて精密にかつ正確に動か
すための装置について検討した結果、上記トンオーダー
の大荷重の加工装置を、無摩擦で変位可能な弾性変位テ
ーブル上に載置すれば、重力の方向に直交する方向への
変位は載置する物品の重量に影響を受けないことに着目
し、無摩擦で微細変位可能な弾性変位テーブルを開発し
たものである。そして、該弾性変位テーブルを超磁歪ア
クチュエータをもって変位せしめることによってナノメ
ーターあるいはオングストロームのレベルで極めて精密
にかつ正確に動かすことが可能であることを見出し本発
明を完成したものであって、その目的と成すところはゼ
ログラムからトンオーダーの荷重の物品を、ナノメータ
ーあるいはオングストロームのレベルで極めて精密にか
つ正確に動かすための微細位置決め装置を提供すること
にある。更に、本発明の他の目的は前記微細位置決め装
置を用いた微細位置決め方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の目的は、無摩擦で
変位が可能な弾性変位テーブルと超磁歪アクチュエータ
とによって構成され、該超磁歪アクチュエータに設けら
れたロッドの変形によって前記弾性変位テーブルを変位
させ位置決めを行なうことを特徴とする微細位置決め装
置により達成される。ここで用いられる無摩擦で変位が
可能な弾性変位テーブルは、架台と、弾性変位が可能な
支柱とから構成され、前記架台は前記支柱によりベース
に取り付けられたことを特徴とするものである。更に、
ここで用いる超磁歪アクチュエータは磁石入りのもので
あることが好ましい。

【０００９】ここでいう架台とは、例えば研削装置等、
数１００ｋｇからトンオーダーの大荷重の装置等よりな
る物品を載置するためのものであり、一本あるいは複数
本の支柱により基礎となるベースに取り付けられてい
る。また、ここでいう支柱とは、架台上に載置された物
品を含めて、これを安定にベースに取り付けるものであ
り、その材質は後述する理由により弾性変位が可能な材
料であることを特徴とするものである。また、ここでい
うベースとは、装置の下部に位置し、装置全体を支える
基礎となる台であり、構造によっては上部構造物である
枠体をも含むものである。

【００１０】更に本発明の他の目的は、超磁歪アクチュ
エータに所定の電流を印加して該超磁歪アクチュエータ
に設けられたロッドを変形させ、弾性変位テーブルを微
小変位せしめ、その位置を標準位置とし、印加する電流
値を変化させることによって弾性変位テーブルを前記標
準位置を中心に自在に微小変位させることを特徴とする
微細位置決め方法により達成される。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の微細位置決め装置におけ
る弾性変位テーブルは概略以下の如き構造を有するもの
である。即ち、本発明の１実施例を示す図１及び図２に
おいて、弾性変位テーブル１を構成する架台２は複数の
円柱状の支柱３を介してベース７上に取り付けられてい
る。弾性変位テーブル１を構成する架台２上には例えば
シリコンウェーハ研磨装置等数百ｋｇからトンのオーダ
ーの物品が載置されるものである。具体的には、この弾
性変位テーブル１は、例えば、ある程度の厚みを持った
一体構造の厚板ブロック状の架台２とそれをベースに取
り付けるための複数の支柱３よりなるものである。そし
て、その上に大荷重の物品を載置するものであるから、
この弾性変位テーブルの架台２は構造的にしっかりした
ものであることが要求され、また複数の支柱３は架台２
上に搭載される物品の重力、すなわちＹ軸方向の力を支
持するだけの強度を持ち、それにより撓んだり変形した
りすることのないようなものでなくてはならない。

【００１２】弾性変位テーブル１を構成する架台２の一
つの端面には、超磁歪アクチュエータ５のロッド６の先
端が当接するように配設されている。また、超磁歪アク
チュエータ５の本体はベース７に直交して設けられた支
持板４に固定されている。架台２は超磁歪アクチュエー
タ５のロッド６のＸ軸方向への直進運動作用によりＸ軸
方向に微小変位が可能となっている。架台２のＸ軸方向
への微小変位は、架台２に与えられた力により、弾性変
位が可能な複数の支柱３が微小変位するのであるが、弾
性構造体であるがために変位と同時に、該変位に対して
バネ状に反発弾性作用を発現するものである。

【００１３】支柱３は、前述の如くバネ状に反発弾性作
用を発現するものであると同時に弾性変位テーブル１上
に載置されたゼログラムからトンオーダーの物品の重
量、即ちＹ軸方向の力を受けとめ支える強度を持つもの
でなければならない。従って、総合的な支柱部分３の構
造的強度は極めて高いものであることが求められる。一
方、該弾性変位テーブル１は上記Ｙ軸方向の力と直交す
るＸ軸方向の力を受けた場合は、その力により無摩擦の
状態で変位することができる。変位に要する力は支柱部
分３の高い構造的強度に対応するものでなくてはならな
いが、弾性変位テーブル１の架台２上に搭載される物品
の重量には全く左右されるものではない。即ち、どのよ
うな重量のものが搭載されようが、該弾性変位テーブル
１は、Ｘ軸方向にはその重量には関わりなく全く同じ力
で変位可能である。このような構造的強度を有する支柱
３に支持された架台２をＸ軸方向に変位させるためには
数百ｋｇ程度の高い出力が必要となる。支柱３がバネと
しての効果を発揮するためには、細い方がよいが、大荷
重の物品を載置、支持するため、即ちＹ軸方向の力に対
応するためには太いほうがよいので、本発明実施のため
にはこの双方のことを勘案した形状とすることが求めら
れる。本図面に示す具体例においては、支柱の太さをベ
ースに近い部分で細くし、その部分でバネ弾性を発現さ
せることをその好ましい例としている。

【００１４】図３は本発明の他の実施例を示す図面であ
る。架台２はベース７の上部構造物である枠体８の内面
に複数の板状の弾性構造体である支柱３を介して支持懸
垂され、弾性変位テーブル１を形成している。超磁歪ア
クチュエータ５は枠体８の内面に固定されており、その
ロッド６の先端が架台２の一つの端面中央部に当接する
ように配置されている。架台２は超磁歪アクチュエータ
５のロッド６のＸ軸方向への直進運動作用によりＸ軸方
向に微小変位が可能となっており、変位と同時に板状の
弾性構造体である支柱３の作用により、バネ弾性を発現
するようになっている。

【００１５】図４は本発明の更に他の実施例を示す図面
であり図５はその側面図である。図３と同様に架台２は
枠体８の内面に複数の板状の支柱３を介して支持懸垂さ
れ弾性変位テーブル１を形成しており、枠体８はベース
７上に固定されている。架台２の縁部に円形の孔１０を
設け、またベース７上に前記円形孔１０を貫通するよう
な直柱１１が設けられている。円形孔１０の内周と直柱
１１の外周は接触しない構造とする。枠体８の内側部の
一辺の中央部に超磁歪アクチュエータ５ａが取付けられ
ており、そのロッド６ａの先端が架台２の一辺の中央部
に当接するように配置されている。架台２は超磁歪アク
チュエータ５ａのロッド６ａのＸ軸方向への直進運動作
用によりＸ軸方向に微小変位が可能となっている。

【００１６】図４および図５においては、架台２の前述
の辺に直交する一辺の中央部から離れた位置に先端ロッ
ド６ｂが当接するように超磁歪アクチュエータ５ｂが取
付けられている。超磁歪アクチュエータ５ｂの取付け位
置は図４に示す通り、前述の円形孔１０の位置とは相対
する位置にあるようにする。かかる構造とすることによ
りロッド６ｂのＹ軸方向への直進運動作用により架台２
は、円形孔１０を貫通する直柱１１回りの微小回転運動
を行なうことが可能となる。

【００１７】更に、図４および図５において、弾性変位
テーブル１の架台２の超磁歪アクチュエータ５ａが設置
されている位置の下部のベース７に超磁歪アクチュエー
タ５ｃが取付けられており、架台２は超磁歪アクチュエ
ータ５ｃのロッド６ｃのＺ軸方向への直進運動作用によ
り、円形孔１０を貫通する直柱１１を基点としたＺ軸方
向への微小傾斜運動を行なうことが可能となる。即ち、
架台２は超磁歪アクチュエータ５ａ、５ｂ、５ｃに付属
するロッド６ａ、６ｂ、６ｃの作用により、Ｘ軸方向へ
の微小直進運動、Ｚ軸回りＹ軸方向への微小回転運動、
Ｚ軸方向の微小傾斜運動が可能となる。

【００１８】本発明の支柱３の材質については特に限定
するものではないが、上述の通り構造的に強靱であり、
かつ好ましい弾性を有し、バネとしての機能を発現する
ものであることが求められるのであるから、具体的には
金属製のものであることが好ましく、特に好ましくはス
テンレス製のものを挙げることができる。また、架台
２、支持板４、ベース７、枠体８の材質についても特に
限定を行なうものではないが、構造的に剛性が強く変形
の少ない素材、具体的には剛性の高い金属製のものを用
いることが好ましい。

【００１９】本発明でいう超磁歪アクチュエータとは、
特定の希土類元素と、ニッケル、コバルト、鉄からなる
鉄族元素との特定割合での合金の多結晶あるいは単結晶
であって、磁界を与えると強い寸法変化を起こす超磁歪
材料をアクチュエータとして応用したものである。通常
は超磁歪材料よりなるロッドを中央におき、その周囲を
駆動用のコイルで囲んだものであるが、上下に永久磁石
を配したものは、オフセット電流により磁気バイアスを
かける必要がなくその分だけジュール発熱を抑えること
ができる。本発明の超磁歪アクチュエータ６は、前述の
弾性変位テーブル１を大荷重の物品を載置した状態で数
十μｍの距離をナノメーターの精度で変位させるもので
あるから、ジュール発熱による変位量の狂いをできる限
り少なくすることが求められ、従って、前述の永久磁石
を内蔵するものを用いることが好ましい。

【００２０】図６は本発明において使用する位置決め機
構のシステム図の１例である。このシステムは、位置制
御部（ＰＣ）、電流制御部、精密アンプ、超磁歪アクチ
ュエータ（ＧＭＡ）、弾性変位テーブル、静電容量セン
サーによって構成される。位置指令値Ｘ＊は位置制御部
において電流指令値ｉ＊に変換され電流制御部へ送ら
れ、更に精密アンプへ送られる。精密アンプにおいて増
幅された電流が超磁歪アクチュエータに印加され、超磁
歪アクチュエータのロッドを変形させそれが弾性変位テ
ーブルを変位させる。弾性変位テーブルの実際の変位量
は静電容量センサーにより検知され、実測位置情報Ｘと
して位置制御部へフィードバックされる。超磁歪アクチ
ュエータに印加される実際の電流値は電流センサーで検
知され電流制御部へフィードバックされる。

【００２１】本発明の微細位置決め装置における位置制
御は様々な方法によって行なうことが可能であり特に限
定を受けるものではないが、例えばＰＩ制御を挙げるこ
とができる。図７はＰＩ制御による位置制御部の１例で
あって、この例では、発振器による変位の指令値と、静
電容量変位センサーからの弾性変位テーブルの実際の変
位の値とを比較し、その差分にＰＩ制御を行なう。この
制御回路には変位の指令値と実際の弾性変位テーブルの
変位値が同時に取り込むことができるようになっている
ため、実質的位置制御を可能にしている。ここでいうＰ
制御とは比例制御であり制御量の目標値に対する速応性
を調整するものである。また、Ｉ制御とは積分制御であ
り、目標値に対する定常偏差を調整するものである。こ
の他にＰＩＥ制御、Ｈ∞制御等を挙げることができる。

【００２２】図８に本発明の微細位置決め装置における
電流制御部の１例を示し、この電流制御部は、電流検出
部（センサー）、フィードバック制御部保護回路部によ
って構成される。変位指令値Ｘ*は、前述の位置制御部
で電流指令値ｉ*に変換されこの電流制御部に送られて
来る。超磁歪アクチュエータに流れる電流値ｉは電流検
出部で検出され、フィードバック制御部に送られ制御さ
れる。フィードバック制御部よりの電流指令値ｉ*は精
密アンプにより超磁歪アクチュエータに送られ、超磁歪
アクチュエータに高精度に制御された電流を印加する。
電流を印加されることにより、超磁歪アクチュエータ中
の超磁歪ロッドがジュール効果により変形し、微小変位
を弾性変位テーブルに伝えるものである。

【００２３】本発明の変位センサーは弾性変位テーブル
の実際の変位量Ｘを検知し、位置制御部へフィードバッ
クする機能を有するものである。変位センサーのタイプ
については特に限定を受けるものではないが、具体的に
は例えば静電容量変位センサー、レーザー変位センサー
等を使用することができる。

【００２４】本発明の微細位置決め方法の具体例を図面
をもって具体的に説明するが、特にこれにより限定を行
うものではない。図１は本発明の微細位置決め装置の１
実施例を示す平面図であり、図２はその側面図である。
図面において、架台２は４本の円柱状の支柱３とともに
弾性変位テーブル１を形成している。支柱３の他端は例
えば螺着あるいは熔接等の手段によりベース７上に固定
されており、全体として弾性変位テーブルがベース７上
に取り付けられる構造となっている。また、超磁歪アク
チュエータ５が支持板４の面に固定されており、該アク
チュエータ５のロッド６の先端は架台２の側面に当接す
るように配置されており他端はアクチュエータに固定さ
れている。微細送り変位センサー９が架台上に載置され
ており、弾性変位テーブル１の変位を検知するようにな
っている。

【００２５】本発明の微細位置決め装置の実際の使用に
おいては、まず、超磁歪アクチュエータ５に所定の電流
を印加してロッド６を変形させて予荷重を与え、Ｘ軸方
向に弾性変位テーブル１を数μｍ程度微小変位せしめ、
その位置を標準位置とする。トンオーダーの物品を載置
するに耐える構造の弾性変位テーブル１を数μｍ程度微
小変位させるために要する予荷重は大略２００ないし１
０００ｋｇ程度である。超磁歪アクチュエータ５に印加
する電流値を更に上げれば弾性変位テーブル１は標準位
置から更に正方向に変位し、また印加する電流値を下げ
れば弾性変位テーブル１は支柱３のバネとしての反発弾
性作用により押し戻され標準位置から負の方向に変位す
ることができる。即ち、印加する電流値をコントロール
することによって、前記標準位置を中心として弾性変位
テーブルをＸ軸方向にオングストロームあるいはｎｍの
精度で自在に微小変位させることができる。

【００２６】図４および図５に示すように変位方向をＸ
軸方向のみとせず、Ｙ軸あるいはＺ軸方向にも微小変位
させる場合においても、その基本的な変位の方法および
制御方法、システムは全く同じである。Ｘ軸方向、Ｙ軸
方向およびＺ軸方向の微小変位は各々独立に制御される
ものであり、各々の方向への変位は単独で行なってもよ
いし組み合わせておこなってもよい。

【００２７】

【実施例】以下実施例、比較例に従い本発明の微細位置
決め装置による変位の具体例を説明する。実験結果を各
図のグラフにて示すが、グラフにおいて横軸は時間、縦
軸は変位量を示す。変位量については指令値と実測値と
を併記するが、両者の差異を判りやすくするために上下
２段に分けて示してある。上段が指令値、下段が実測値
である。グラフ中の上下２段に示したＧＮＤ表示は各々
指令値、実測値のグランドレベルを示している。実施例１図９は自重１５０ｋｇの架台を用い、載置荷重０ｋｇに
おいて、ワンステップ１．８７５ｎｍ／０．５ｓｅｃで
最大変位幅１５ｎｍの変位指令を与えた際の実験結果を
示す。

【００２８】比較例１図１０は実施例１と同じ条件で弾性変位テーブルの下部
に障害を置き変位に対して若干の抵抗を与えた際の実験
結果を示す。

【００２９】実施例２、３また、図１１、図１２は大振幅動作時の実験結果であっ
て、同じく自重１５０ｋｇの架台を用い、載置荷重０ｋ
ｇと３５０ｋｇにおいて、ワンステップ１２５ｎｍ／
０．５ｓｅｃで最大変位幅５００ｎｍの変位指令を与え
た際の実験結果を示す。

【００３０】実施例４図１３は実施例１と同じ装置を用い、載置荷重０ｋｇに
おいて、ワンステップ６．２５オングストローム／０．
５ｓｅｃで最大振幅２．５ｎｍの変位指令を与えた際の
実験結果を示す。

【００３１】実施例１、２、３、４いずれの場合にも指
令値に対して正確な変位が行なわれているのが判る。特
に、図１１と図１２（実施例２、３）を比較してみる
と、載置荷重の有無にかかわらず、変位は同じであり、
本発明の特徴をよく示している。また、図１３（実施例
４）ではオングストローム単位での超微細変位も正確に
行なわれていることを示す。更に、弾性変位テーブルに
若干の抵抗を与えた場合はその指令値に対して、応答は
正確でなくなることが実施例１との比較においてよく判
る。

【００３２】

【発明の効果】以上述べた通り、本発明の微細送り装置
を用いれば、大荷重の物品の微細送りを正確にかつ繰り
返し精度よく行なうことができる。これにより例えば半
導体材料等の超精密加工の送り装置として応用可能であ
り、超精密加工を効率的に行なうことができるようにな
る。特にオングストロームレベルの超微細変位が正確に
行なわれるようになったことは画期的なことである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の微細位置決め装置の平面図である。

【図２】図１の微細位置決め装置の側面図を示す。

【図３】本発明の微細位置決め装置の他の実施例を示す
平面図である。

【図４】本発明の更に他の実施例を示す平面図である。

【図５】図４の微細位置決め装置の側面図である。

【図６】本発明で使用する微細位置決め機構のシステム
図の１例である。

【図７】本発明の微細位置決め装置の制御部のシステム
の１例である。

【図８】同じく電流制御部のシステムの１例である。

【図９】実施例１の実験結果を示すグラフである。

【図１０】比較例１の実験結果を示すグラフである。

【図１１】実施例２の実験結果を示すグラフである。

【図１２】実施例３の実験結果を示すグラフである。

【図１３】実施例４の実験結果を示すグラフである。

【符号の説明】

１：弾性変位テーブル、２：架台、３：支柱、
４：支持板、５：超磁歪アクチュエータ、５
ａ、５ｂ、５ｃ：超磁歪アクチュエータ、６：ロッド、
６ａ、６ｂ、６ｃ：ロッド、７：ベース、８：
枠体、９：変位センサー、９ａ、９ｂ、９ｃ：
変位センサー、１０：円形孔、１１：直柱

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 3C016 HA00 HB00 5H303 AA01 AA06 BB02 BB07 CC01 DD14 FF04 FF08 GG11 HH02 KK02 KK03 LL03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】無摩擦で変位が可能な弾性変位テーブルと
超磁歪アクチュエータとによって構成され、該超磁歪ア
クチュエータに設けられたロッドの変形によって前記弾
性変位テーブルを変位させ位置決めを行なうことを特徴
とする微細位置決め装置。
【請求項２】弾性変位テーブルが、架台と、弾性変位が
可能な支柱とから構成され、前記架台は前記支柱により
ベースに取り付けられていることを特徴とする請求項第
１項に記載の微細位置決め装置。
【請求項３】超磁歪アクチュエータが、位置制御部、電
流制御部、精密アンプによって駆動されることを特徴と
する請求項第１項または第２項いずれかに記載の微細位
置決め装置。
【請求項４】超磁歪アクチュエータが内蔵磁石を有する
ものであることを特徴とする請求項第１項ないし第３項
いずれかに記載の微細位置決め装置。
【請求項５】請求項第１項ないし第４項のいずれかに記
載の微細位置決め装置を用い、超磁歪アクチュエータに
所定の電流を印加して該超磁歪アクチュエータに設けら
れたロッドを変形させ、弾性変位テーブルを微小変位せ
しめ、その位置を標準位置とし、印加する電流値を変化
させることによって弾性変位テーブルを前記標準位置を
中心に自在に微小変位させることを特徴とする微細位置
決め方法。