JP2001264567A - 光回路の製造方法 - Google Patents
光回路の製造方法Info
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Abstract
つ、製造が容易で安価な偏波分離機能を有する光回路を
提供することにある。 【解決手段】 平面基板11上に、石英系を主たる素材
として作製された光が伝播するコア部と、該コア部の周
りのコア部より屈折率の低いクラッド部からなる光導波
路12a,12b,12c,12dを有し、該光導波路
12a,12b,12c,12dにより形成された、光
結合器14,15と、該光結合器14,15に縦列する
2導波路であるアーム導波路16,17と、光結合器1
4,15により構成されたマッハツェンダ干渉計よりな
る光回路の製造方法において、該マッハツェンダ干渉計
光回路の2本のアーム導波路16,17に対し2カ所又
はそれ以上の異なる部位に、照射領域幅の異なる紫外或
いは可視領域の光を照射したことを特徴とする。
Description
理、光計測分野に於いて有用な平面基板上に光導波路を
配置した光回路の製造方法に関する。詳しくは、これら
の分野にて汎用される偏波分離機能を有する光回路に関
する。
定性、信頼性の点に関し、優れた物理的・化学的特質を
有し、更に、光通信の伝送路である石英系ファイバとほ
ぼ同一の屈折率値を有するためファイバとの整合性が良
いなどの特徴を持つ。この石英系光導波路を用いて平面
基板上に作製される、光波長合分波器、光スイッチなど
の光回路は、光通信、光情報処理、光計測などの分野で
実用的に有望な導波型光部品として研究開発が進められ
ている。石英系光導波路は、多くの場合、Si基板上
に、下部クラッド膜層堆積→コア膜層堆積及びコア部分
パターン化加工→上部クラッド層堆積の製造工程によ
り、製造されている。
リッタ、波長合分波器、フィルタ、スイッチなど実用的
に有望な様々な光回路に関する研究開発が行われてい
る。この導波路に於いて、可視、或いは紫外光、及び各
種波長の高強度レーザ光の照射により誘起される局所的
屈折率変化は、光回路に、光誘起グレーティングの様に
新機能を付加したり、光回路の特性の微調整・補償を行
う手段として、有望なものとなっている。一方、光通信
システムや光情報処理システムなどを構築する上で、し
ばしば、光の偏光方向によって空間的に分離を行うこと
(偏波分離)が求められる場合があり、この偏波分離機
能を有する光部品は、汎用光部品として重要なものであ
る。
ランデーラープリズム、グラントムソンプリズムなどの
プリズムを主としてバルク型部品を組み合わせて構成し
たもの(例えば、応用光電社製品)がある他、導波路型
デバイスとして、アモルファスシリコン(a−Si)膜
を装荷することにより、導波路の複屈折を調整し、マッ
ハツェンダ干渉計(Mach-Zhender:MZI)構成を利用
して実現しているものや(例えば、「M.Okuno,et al.,
J.Lightwave Technol.,Vol.12,No.4,pp.625-633,199
4.」)、紫外光照射により導波路に誘起される光誘起複
屈折を利用したもの(例えば、「特願平4−20788
2号」)などが提案、実現されている。
型部品により構成された光部品は、部品点数が多く、ま
た、部品組立コストの低減が困難であり、高価であると
いう問題があった。また、導波路型デバイスで実現され
ている偏波分離光デバイスのうち、アモルファスシリコ
ン膜を装荷したタイプでは、アモルファスシリコン膜の
製膜、パターン化加工といったプロセスを行うことが必
要であり、且つ、パターン化されたアモルファスシリコ
ン膜を光学特性にあわせてトリミングを図るプロセスも
必要であるなど、付加プロセスが多く、デバイスを安価
に供給することが困難であるという問題があった。
起複屈折を利用したタイプでは、付加的プロセスを必要
としないため、安価で、偏波分離光デバイスを供給する
可能性を有してはいるが、マッハツェンダ干渉計の位相
(マッハツェンダ干渉計のアーム導波路の光路長差)を
光回路設計段階であらかじめ所定の値に設定しておく必
要があり、設計の自由度が限定されるほか、導波路作製
誤差による光路長誤差を補償することが困難であるとい
う問題点を有していた。本発明は、上記従来技術に鑑み
てなされたものであり、低損失で高い安定性及び信頼性
を有し、且つ、製造が容易で安価な偏波分離機能を有す
る光回路を提供することにある。
に、本発明では、石英系導波路に紫外レーザ光を照射し
たときに誘起される複屈折の値が、照射するレーザのビ
ーム幅(照射領域幅)によってかわる現象を利用するも
ので、光回路中の2カ所以上複数箇所の導波路に対し異
なったビーム幅で光照射を行うことにより光回路中の導
波路における複屈折と光路長を自在に制御することによ
り、偏波分離を行うことを可能ならしめるものにした構
成を含むことを特徴とした光回路を提案する。
用性に優れた石英系光回路に対し、付加的に加工プロセ
スを行うことなく、紫外或いは可視領域の光を照射する
ことのみによって、偏波分離機能を付加できるため、簡
便且つ安価に偏波分離機能を有する光デバイスを製造、
提供することが可能となる。
す実施例を参照して詳細に説明する。
マッハツェンダ干渉計を図1に示す。図1において、1
1はシリコン(Si)基板、12a,12b,13a及
び13bは入出力導波路、14,15は方向性光結合
器、16,17は2つの方向性光結合器を結ぶアーム導
波路である。各導波路12a〜13bは、GeO2を添加
した石英系コアと、その周りの該コアよりも屈折率の低
い石英系クラッドによって構成されている。コア寸法
は、7μm×7μmとし、コアとクラッドの比屈折率差
Δは0.7%にした。
が1:1に設定されている(3dB結合器)。このマッ
ハツェンダ干渉計のアーム導波路16,17の一方の導
波路上に、図2に示すように、長さL1、幅w1にわたっ
て紫外レーザ光の照射を行った。図2において、21は
アーム導波路、22は石英系クラッド部分、23はAr
Fレーザの照射領域である。このとき、照射した長さL
1とコア部分に誘起された実効屈折率変化量Δn1によ
り、光路長の変化量Δn1・L1に応じてマッハツェンダ
干渉計の位相が変化し、導波路12a或いは12bより
光を入力したときの、導波路13aと導波路13bから
の光出力強度が変化する。
般に下式で表すことができる。 I3a=I0(1/2)[1−cos(2π(Δn1・L1
/λ1)+φ0)] I3b=I0(1/2)[1+cos(2π(Δn1・L1
/λ1)+φ0)] 但し、I0は導波路13aと導波路13bからの出力光
強度の和に相当した実数であり、φ0はマッハツェンダ
干渉計の初期位相を定めた実数である。実際に、紫外レ
ーザとしてArFエキシマレーザ(レーザの波長:193n
m)を用い、レーザ光照射長L1=10mm、照射域幅w1=
2mmとして導波路上部より光照射を行い、マッハツェン
ダ干渉計の位相変化量を評価して、光が照射された導波
路の実効屈折率変化Δnを評価した。
率変化量ΔnTEとTM偏波にて評価を行った変化量Δn
TMの大きさには、差異がみられ、ΔnTEの方がΔnTMよ
りも大きく変化した。即ち「ΔnTE>ΔnTM」であっ
た。図3にレーザ光の照射時間に対する屈折率変化量Δ
nを示す。このときのレーザ光強度は100mJ/cm2/puls
e、パルス線り返し20ppsであった。また、照射域幅w1
=0.02mmとして、同様にレーザ光照射を行ったときに誘
起された屈折率変化Δnを図3にあわせて示す。このと
きのレーザ光強度は150mJ/cm2/pulseであった。
を金属スリットを用いて、ビームの一部だけを透過さ
せ、その後で、凸型円筒レンズを用いて導波路に対し平
行な方向に縦長に集光して行った。今回は、凸型円筒レ
ンズを用いたが、凸レンズ、凹型円筒レンズ、凹レンズ
を組み合わせて、集光光学系を組み立てることも可能で
ある。照射域幅w1が0.02mmのときには、TE偏波とT
M偏波、それぞれの屈折率変化量はほぼ同じ値であった
(ΔnTE≒ΔnTM)。屈折率変化量がTE偏波とTM偏
波で等しくなる照射域幅w1は、導波路幅、クラッド
厚、導波路組成、クラッド組成によって異なるもので、
おおよそ、0.05mm以下0.005mm以上の値をとる。
ハツェンダ干渉計石英系光回路をもとに偏波分離光回路
の作製を行った。このマッハツェンダ干渉計のアーム導
波路16,17は等長であるように設計した。このマッ
ハツェンダ干渉計に対し、先ず1.55μmレーザダイオー
ド米を用いて、その初期特性を評価した後、アーム導波
路16に対し、ArFエキシマレーザ光を、強度100mJ/
cm2/pulse、パルス線り返し20pps、照射領域幅w1=2
mm、長さL1=10mmとして55分間照射した。
度は150mJ/cm2/pulse、パルス線り返し20pps、照射領
域幅w1=0.02mm、長さL1=10mmで70分間、光照射を行
った。光照射後、1.55μmレーザダイオード光を導波路
12bより入力し、特性を評価した。先ず、TE偏波の
光を導波路12bより入力したとき、ほとんど全ての光
は導波路13bより出力した。これは、TM偏波光に対
しては、マッハツェンダ干渉計のアーム導波路に於いて
光路長髪が無く、TE偏波光に対しては、λ1/2相当
の位相差を有していることを示す。光学特性を評価しつ
つ、照射領域幅w1=0.02mmでアーム導波路に光を照射
し、特性の微調整を行った。
I3aと導波路13bからの出射光強度I3bの強度比I3a
/I3bは約300倍、25dBであった。また、TM偏波の
光を入射すると、ほとんど全ての光は導波路13aから
出射し、導波路13bからの出射光強度との比は約800
倍、29dBであった。最後に、偏波分離機能を確認する
ために、TE偏波とTM偏波の光を同強度で同時に入力
したところ、導波路13aからは、TM偏波の光が出力
し、導波路13bからはTE偏波の光が出力し、偏波分
離機能が確認された。尚、このときの導波路13aに於
ける偏波消光比(TM偏波出力光強度I3aTMのTE偏波
出力光強度I3aTEに対する比;I3aTM/I3aTE)は28d
B、導波路13bに於ける偏波消光比(TM偏波出力光
強度I3bTMのTE偏波出力光強度I3b TEに対する比;I
3bTM/I3bTE)は24dBであった。以上、この光回路が
偏波分離機能を有することが確認できた。
た偏波分離光回路の斜視図を図4に示す。図4におい
て、41はシリコン基板、42a、42b、42c、4
2d、43a、43b、43c及び43dは入出力導波
路である。光回路の構成は、実施例1に用いたマッハツ
ェンダ干渉計と全く同様な対称マッハツェンダ干渉計で
あり、その後段に、全く同様なマッハツェンダ干渉計が
2個縦列に配置されている。
ェンダ干渉計のアーム導波路部分にレーザビーム幅w1
=2mm、w1=0.02mmで光照射を行い、光学特性の調整
を行った。その結果、入出力導波路42bから入力した
光に対し、TE偏波の光は導波路43aから、TM偏波
の光は入出力導波路43dから出力し、その偏波消光比
は、50dB以上を確保することができた。以上の実施例
では、マッハツェンダ干渉計についてのみ記載している
が、光グレーティングなどにも本発明を適用することは
勿論可能である。
たように、本発明では、石英系導波路に対し、ビーム幅
を制御して紫外レーザ光照射を行うことにより、光誘起
屈折率変化Δnの偏波依存性、即ちΔnTEとΔnTMの大
きさを個別に制御することにより、石英系導波路により
構成された光回路に於ける光路長、及び偏波特性を自在
に調整することが可能となるため、石英系光回路をもと
に、ウェハプロセスの必要なアモルファスシリコン膜や
薄膜ヒーターなどの付加を行うことなく、光照射を行う
だけで、偏波分離機能を有する光回路を実現することが
できた。
渉計石英系光回路の斜視図である。
渉計アーム導波路部分の上面図である。
起屈折率変化Δnの照射時間依存性を示すグラフであ
る。
斜視図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 平面基板上に、石英系を主たる素材とし
て作製された光が伝播するコア部と、該コア部の周りの
コア部より屈折率の低いクラッド部からなる光導波路を
有し、該光導波路により形成された、光結合器と、該光
結合器に縦列する2導波路であるアーム導波路と、光結
合器により構成されたマッハツェンダ干渉計よりなる光
回路の製造方法において、該マッハツェンダ干渉計の2
本のアーム導波路に対し2カ所又はそれ以上の異なる部
位に、照射領域幅の異なる紫外或いは可視領域の光を照
射したことを特徴とする光回路の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の前記コア部にGeが添加
されていることを特徴とする光回路の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1記載の異なる前記照射領域幅の
うち、少なくとも1つの照射領域に於いて、その照射領
域幅が0.05mm以下であることを特徴とする光回路の製造
方法。 - 【請求項4】 請求項3記載の前記コア部にGeが添加
されていることを特徴とする光回路の製造方法。 - 【請求項5】 請求項2記載のマッハツェンダ干渉計か
らの出力光のある偏波に於ける光強度が、該偏波方向に
対し垂直方向の偏波に於ける光強度に対し5倍以上の強
度を有することを特徴とする光回路の製造方法。 - 【請求項6】 請求項4記載のマッハツェンダ干渉計か
らの出力光のある偏波に於ける光強度が、該偏波方向に
対し垂直方向の偏波に於ける光強度に対し5倍以上の強
度を有することを特徴とする光回路の製造方法。
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JP2000081438A JP3616549B2 (ja) | 2000-03-23 | 2000-03-23 | 光回路の製造方法 |
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JP3616549B2 JP3616549B2 (ja) | 2005-02-02 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006013928A1 (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-09 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | 光回路装置 |
-
2000
- 2000-03-23 JP JP2000081438A patent/JP3616549B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2006013928A1 (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-09 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | 光回路装置 |
US7492983B2 (en) | 2004-08-04 | 2009-02-17 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical circuit device |
JP4927548B2 (ja) * | 2004-08-04 | 2012-05-09 | 古河電気工業株式会社 | 光回路装置 |
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