JP2001262231A - METHOD FOR PRODUCING STOCK FOR Fe-Ni SERIES ALLOY SHADOW MASK EXCELLENT IN ETCHING PIERCEABILITY - Google Patents

METHOD FOR PRODUCING STOCK FOR Fe-Ni SERIES ALLOY SHADOW MASK EXCELLENT IN ETCHING PIERCEABILITY

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JP2001262231A
JP2001262231A JP2000075638A JP2000075638A JP2001262231A JP 2001262231 A JP2001262231 A JP 2001262231A JP 2000075638 A JP2000075638 A JP 2000075638A JP 2000075638 A JP2000075638 A JP 2000075638A JP 2001262231 A JP2001262231 A JP 2001262231A
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cold rolling
etching
ingot
shadow mask
producing
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芳久 喜多
Takatsugu Hatano
隆紹 波多野
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Nippon Mining and Metals Co Ltd
Nippon Mining Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a stock for an Fe-Ni series alloy shadow mask excellent in etching pierceability at low cost which stock can be subjected to etching piercing without damaging the out-of-roundness of the shape of the inside hole of an electron beam transmission hole even in the case an intermediate working degree is increased and which stock has, as a result, an electron beam transmission hole having good out-of-roundness. SOLUTION: In the method in which an ingot of an Fe-Ni series alloy containing 34 to 38% Ni and <=0.5% Mn, and in which the content of C is controlled to <=0.010%, S to <=0.005%, and P to <=0.005% as impurities is melted by using Al and Si as deoxidizers, in this case, T, i.e., the total weighted concentration of Al and Si in the ingot is controlled to the range of [%Al]+0.2[%Si]<=0.02% (wherein, [%Al]<=0.02%, and [%Si]<=0.025%), a hot rolling stock is produced from the ingot, and the hot rolling stock is subjected to intermediate cold rolling to produce a thin sheet, the intermediate cold rolling stage is performed under the condition of draft R=60-95%, preferably, R<=-1750T+95, recrystallization final annealing is performed, and, final finish cold rolling at a draft of 10 to 40% is performed. By the subsequent etching, the stock for an Fe-Ni series alloy shadow mask having an electron beam transmission hole having good out-of-roundness can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、微細エッチングに
より加工されるシャドウマスクに用いられるFe−Ni
系合金素材、特にエッチング加工により電子線の透過孔
を穿孔したときに良好な真円度を有する電子線透過孔を
形成することのできる、エッチング穿孔性に優れたFe
−Ni系合金シャドウマスク用素材を低コストで製造す
る方法に関するものである。本発明はまた、良好な真円
度を有する電子線透過孔を有するFe−Ni系合金シャ
ドウマスク用素材の製造方法にも関係する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to Fe--Ni used for a shadow mask processed by fine etching.
-Based alloy material, in particular, Fe having excellent etching piercing properties, which can form an electron beam transmitting hole having good roundness when the electron beam transmitting hole is pierced by etching.
The present invention relates to a method for manufacturing a material for a Ni-based alloy shadow mask at low cost. The present invention also relates to a method for producing a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask having electron beam transmitting holes having good roundness.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラ−ブラウン管用シャドウマス
クには一般に軟鋼が使用されていた。しかし、ブラウン
管を連続使用すると、シャドウマスクは電子線の照射に
よって温度が上昇し、熱膨張によって蛍光体と電子線の
照射位置が一致しなくなり色ズレを生じる。つまり、カ
ラ−受像管を動作させた際、シャドウマスクの開孔を通
過する電子ビ−ムは全体の1/3以下であり、残りの電
子ビ−ムはシャドウマスクに射突するため、シャドウマ
スクの温度上昇が起こるのである。そこで、近年、カラ
−ブラウン管用のシャドウマスクの分野でも、色ズレ防
止の観点から、低熱膨張係数の「36合金」と呼ばれる
Fe−Ni系合金が使用されつつある。
2. Description of the Related Art In the past, mild steel was generally used for shadow masks for color cathode-ray tubes. However, when a cathode ray tube is used continuously, the temperature of the shadow mask rises due to the irradiation of the electron beam, and the irradiation positions of the phosphor and the electron beam become inconsistent due to thermal expansion, causing a color shift. That is, when the color picture tube is operated, the electron beam passing through the opening of the shadow mask is less than 1/3 of the whole, and the remaining electron beam collides with the shadow mask. The temperature rise of the mask occurs. Therefore, in recent years, in the field of shadow masks for color cathode-ray tubes, an Fe-Ni alloy called "36 alloy" having a low coefficient of thermal expansion has been used from the viewpoint of preventing color shift.

【0003】Fe−Ni合金シャドウマスク素材の製造
方法として、所定のFe−Ni合金を脱酸剤としてAl
およびSiを使用して例えばVIM炉での真空溶解もし
くはLFでの炉外精練による溶製後、インゴットに鋳造
し、鍛造後、熱間圧延し、スラブの表面の酸化スケ−ル
を除去し、冷間圧延と焼鈍を繰り返す中間冷間圧延工程
を実施し、最終焼鈍後、厚さ0.3mm以下の所定のシ
−ト厚みまで仕上げる最終仕上げ冷間圧延が行われる。
その後、スリットして所定板幅として、シャドウマスク
素材を得る。シャドウマスク素材は、脱脂後、フォトレ
ジストを両面に塗付し、そしてパタ−ンを焼き付けて現
像後、エッチング液にて穿孔加工され、個々に切断され
てフラットマスクになる。フラットマスクは、非酸化性
雰囲気中で焼鈍されてプレス加工性を付与された後(プ
レアニ−ル法ではこの焼鈍がエッチング前に最終圧延材
に対して行なわれる)、プレスによりマスク形態に球面
成形される。そして最後に、球面成形されたマスクは、
脱脂後、水蒸気又は燃焼ガス雰囲気中で黒化処理を施さ
れて表面に黒化酸化膜を形成する。こうしてシャドウマ
スクが作製される。本発明においては、最終仕上げ圧延
後エッチングに供される材料を総称してシャドウマスク
素材と云う。また、フラットマスクを含め、電子線透過
孔を形成したプレス成形前の素材も包括される。
[0003] As a method of manufacturing an Fe-Ni alloy shadow mask material, a predetermined Fe-Ni alloy is used as a deoxidizing agent for Al.
For example, after vacuum melting in a VIM furnace or smelting by out-of-furnace refining in LF using Si and then casting into an ingot, forging, hot rolling, and removing the oxide scale on the surface of the slab, An intermediate cold rolling step of repeating cold rolling and annealing is performed, and after final annealing, final finish cold rolling is performed to finish the sheet to a predetermined sheet thickness of 0.3 mm or less.
Then, slitting is performed to obtain a predetermined plate width to obtain a shadow mask material. After degreasing, the shadow mask material is coated with a photoresist on both sides, and after baking and developing a pattern, it is perforated with an etchant, and cut into individual flat masks. The flat mask is annealed in a non-oxidizing atmosphere to give press workability (in the pre-anneal method, this annealing is performed on the final rolled material before etching), and then, is pressed into a spherical shape in a mask form by pressing. Is done. And finally, the spherical shaped mask is
After degreasing, a blackening treatment is performed in a steam or combustion gas atmosphere to form a blackened oxide film on the surface. Thus, a shadow mask is manufactured. In the present invention, a material to be subjected to etching after the final finish rolling is generically called a shadow mask material. In addition, the material including the flat mask and having the electron beam transmitting holes formed therein before press molding is also included.

【0004】こうしたシャドウマスク素材は、一般的に
塩化第2鉄水溶液を使用しての周知のエッチングにより
電子線の透過孔を形成する。エッチングは、フォトリソ
グラフィ−技術を適用し、素材の片側表面に例えば直径
80μmの真円状開口部を多数有し、もう一方の表面の
相対する位置に例えば直径180μmの真円状開口部を
有するレジストマスクを形成した後に、塩化第2鉄水溶
液をスプレ−状に吹き付けることにより行われる。しか
しながら、Fe−Ni系合金は従来の軟鋼に比べてエッ
チング穿孔性が劣ることが問題となっていた。
[0004] Such a shadow mask material generally forms a transmission hole for an electron beam by well-known etching using an aqueous ferric chloride solution. Etching is performed by applying a photolithography technique, and has a large number of circular openings with a diameter of, for example, 80 μm on one surface of the material, and a circular opening with a diameter of, for example, 180 μm at the opposite position on the other surface. After the formation of the resist mask, this is performed by spraying an aqueous solution of ferric chloride in a spray shape. However, there has been a problem that the Fe—Ni alloy is inferior in etching piercing property as compared with conventional mild steel.

【0005】これに対して、結晶粒径が小さいほどエッ
チング後の孔形状および孔壁面が平滑になり、シャドウ
マスクの品質が向上することは従来より知られており、
特開昭59−149638号に記載されるように、結晶
粒を微細化するとともに圧延面への{100}集積度を高
めることにより、エッチングの均一性をはかることが行
われていた。
On the other hand, it is conventionally known that the smaller the crystal grain size, the smoother the hole shape and hole wall surface after etching, and the higher the quality of the shadow mask.
As described in JP-A-59-149638, the uniformity of etching has been achieved by making crystal grains finer and increasing the degree of {100} integration on the rolled surface.

【0006】しかし、最近になって、シャドウマスクの
高精細化とともに、生産性を上げるためにエッチング速
度の向上が要求されるようになると、{100}集積度の
高い材料では透過孔の形状が真円にならないといった新
たな問題が生じるようになった。
[0006] However, recently, as the definition of the shadow mask is increased and the improvement of the etching rate is required in order to increase the productivity, the shape of the transmission hole is increased in the material of high {100} integration. New problems, such as not being perfectly round, have arisen.

【0007】{100}集積度を高くした場合に透過孔の
形状が真円にならなくなる理由は、次のように考えるこ
とができる。面心立方晶であるNiを34%から38%
含むFe−Ni系合金は、エッチング速度の最も遅い面
(最密面)である(111)面が残るようにエッチングが
進行する。従って、圧延面に(100)面を揃えると、
圧延面と45度の角度を持つ4辺で構成される4面を側面
とする逆四角錘の形にエッチングされてしまう。これに
対して、特開平5−311357号のように、{10
0}集積度を低くしてエッチングをランダムに進行させ
る方法が提案されており、透過孔の真円度を主とした形
状の均一性を向上させるには、一応の効果が得られるよ
うになった。
The reason why the shape of the transmission hole does not become a perfect circle when the degree of {100} integration is increased can be considered as follows. 34% to 38% Ni, which is face-centered cubic
Fe-Ni-based alloy contains the slowest etching rate
The etching proceeds so that the (closest surface) (111) plane remains. Therefore, when the (100) plane is aligned with the rolling plane,
It is etched into the shape of an inverted square pyramid having four sides formed by four sides having an angle of 45 degrees with the rolling surface. On the other hand, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
A method has been proposed in which the degree of integration is reduced and the etching proceeds randomly, and a certain effect can be obtained in order to improve the uniformity of the shape mainly based on the roundness of the transmission hole. Was.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】一方、製造上の省コス
トの観点からは、最終製品までの焼鈍、圧延の回数を減
らすことが望ましい。ところが、この場合、各工程での
圧延加工度は大きくなり、特に最終焼鈍前の圧延加工度
が大きくなると、製品において{100}集合組織が著し
く発達し、エッチング孔の真円度が低下するという問題
が生じた。省コストの観点からは、中間冷間圧延工程で
の圧延加工度を大きくなし得ることが是非とも必要であ
る。本発明の課題は、エッチングに際してエッチング孔
の真円度の低下を生じることなく中間圧延工程での圧延
加工度を大きくとることできる、Fe−Ni系合金シャ
ドウマスク用素材の低コスト製造方法、その結果として
良好な真円度を有する電子線透過孔を有するFe−Ni
系合金シャドウマスク用素材の製造方法を確立すること
である。
On the other hand, from the viewpoint of cost reduction in production, it is desirable to reduce the number of times of annealing and rolling to the final product. However, in this case, the rolling degree in each step is large, and particularly when the rolling degree before final annealing is large, {100} texture is remarkably developed in the product, and the roundness of the etching hole is reduced. A problem arose. From the viewpoint of cost saving, it is absolutely necessary to be able to increase the rolling degree in the intermediate cold rolling step. An object of the present invention is to provide a low-cost method of manufacturing a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask, which can increase the rolling workability in an intermediate rolling step without causing a decrease in roundness of an etching hole during etching. As a result, Fe-Ni having electron beam transmitting holes having good roundness
It is an object of the present invention to establish a method for producing a material for a base alloy shadow mask.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく種々の検討を行ったところ、次のような新
しい知見を得ることができた。即ち、シャドウマスク用
Fe−Ni系合金中のAlおよびSi濃度が圧延時の
(200)面集合組織の発達に大きく影響を及ぼしてい
ることを見出した。具体的にはAl濃度およびSi濃度
の重みつき合計濃度(T)を、T=〔%Al〕十0.2
〔%Si〕≦0.02%の範囲に調整すれぱ、省コスト
の観点から中間圧延加工度(R)を60〜90%と高く設
定しても、(200)集合組織はそれほど発達せず、製
品として許容できるレベルの真円度を有するエッチング
孔が得られるとの知見を得た。さらに、R≦一1750
T+95の関係を満たせば、(200)集合組織の発達
度を非常に低いレベルまで抑制することができ、真円度
が極めて良好なエッチング孔が得られることをも見出し
た。なお、AlおよびSiの低減による(200)集合
組織抑制効果は、Niが34〜38%の範囲であれば不
純物の有無によらず認められる。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies to achieve the above object, and have obtained the following new findings. That is, it has been found that the Al and Si concentrations in the Fe—Ni-based alloy for the shadow mask greatly affect the development of the (200) plane texture during rolling. Specifically, the weighted total concentration (T) of the Al concentration and the Si concentration is defined as T = [% Al] 100.2
If it is adjusted to the range of [% Si] ≦ 0.02%, from the viewpoint of cost saving, even if the intermediate rolling degree (R) is set as high as 60 to 90%, the (200) texture does not develop much. It has been found that an etching hole having an acceptable level of roundness as a product can be obtained. Further, R ≦ 1750
It has also been found that if the relationship of T + 95 is satisfied, the degree of development of the (200) texture can be suppressed to a very low level, and an etching hole with extremely good roundness can be obtained. The (200) texture suppression effect due to the reduction of Al and Si is recognized regardless of the presence or absence of impurities when Ni is in the range of 34 to 38%.

【0010】圧延加工度(R)は、圧延前の板厚をt0
圧延後の板厚をtとして、R=(t0−t)/t0×100
(%)で定義した。ここで、{100}面と(200)面は
等価であり、(200)面の回折強度の構成比率とは、
次の式で計算した値であり、本発明で使用する値は、C
o管球を使用したX線回折の測定値をもとに計算してい
る。透過孔の真円度は、その中孔の最大径の2乗を面積
で割った値を100倍した形状係数で評価した。真円の
場合、形状係数は400となる。したがって400から
数値が増すに従い真円度が悪くなる。真円度の良否は形
状係数が400〜440の場合を○(良)、441〜46
0の場合を△(やや不良)、そして461以上の場合を
(不良)×として評価した。
[0010] The rolling degree (R) is defined as a sheet thickness before rolling t 0 ,
The plate thickness after rolling as t, R = (t 0 -t ) / t 0 × 100
(%). Here, the {100} plane is equivalent to the (200) plane, and the component ratio of the diffraction intensity of the (200) plane is
The value calculated by the following equation, and the value used in the present invention is C
o Calculated based on measured values of X-ray diffraction using a tube. The roundness of the perforation hole was evaluated by a shape factor obtained by multiplying a value obtained by dividing the square of the maximum diameter of the perforation by the area by 100 times. In the case of a perfect circle, the shape factor is 400. Therefore, the roundness becomes worse as the numerical value increases from 400. The roundness was evaluated as good when the shape factor was 400 to 440 (good), 441 to 46.
場合 (somewhat bad) if 0, and 461 or more
(Poor) x was evaluated.

【数1】 (Equation 1)

【0011】本発明は、上記知見事項等に基づいてなさ
れたものであり、エッチング加工に際して良好な真円度
を有するエッチング孔の形成を可能とする、エッチング
穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材
の製造方法を提供するものであり、(1)(イ)質量百
分率(%)に基づいて(以下、%と表記する)、Niを
34〜38%およびMnを0.5%以下含有し、不純物
として0.010%以下のC、0.005%以下のSお
よび0.005%以下のPを含有するFe−Ni系合金
のインゴットを脱酸剤としてAlおよびSiを使用して
溶製し、その場合、インゴットにおけるAlおよびSi
の重みつき合計濃度T=〔%Al〕+0.2〔%Si〕
を、T=〔%Al〕+0.2〔%Si〕≦0.02%
(但し、〔%Al〕≦0.02%そして〔%Si〕≦
0.025%とする)の範囲に調整し、(ロ)該インゴ
ットから熱間圧延素材を製造し、(ハ)その後、該熱間
圧延素材に対して中間冷間圧延を行い、必要に応じて焼
鈍と中間冷間圧延を繰り返して、薄板を製造する中間冷
間圧延工程を加工度R=60〜95%として実施し、
(ニ)次いで、水素を含有する雰囲気中で連続再結晶最
終焼鈍を行い、(ホ)最後に、目標厚さまで加工度10
〜40%の最終仕上げ冷間圧延を行なうことを特徴とす
る。
[0011] The present invention has been made based on the above findings and the like, and is an Fe-Ni-based alloy excellent in etching piercing properties, capable of forming an etching hole having good roundness during etching. It is intended to provide a method for producing a material for a shadow mask, wherein (1) (a) 34 to 38% of Ni and 0.5% of Mn based on mass percentage (%) (hereinafter, referred to as%). Al and Si are used as deoxidizers in an ingot of a Fe-Ni alloy containing 0.010% or less of C, 0.005% or less of S, and 0.005% or less of P as impurities. In that case, Al and Si in the ingot
Weighted total concentration T = [% Al] +0.2 [% Si]
T = [% Al] +0.2 [% Si] ≦ 0.02%
(However, [% Al] ≦ 0.02% and [% Si] ≦
(B) a hot-rolled material is manufactured from the ingot, and (c) an intermediate cold-rolling is performed on the hot-rolled material. The intermediate cold rolling step of manufacturing a thin plate by repeating annealing and intermediate cold rolling is performed with a working ratio of R = 60 to 95%,
(D) Next, continuous recrystallization final annealing is performed in an atmosphere containing hydrogen, and (e) finally, a workability of 10% to a target thickness.
It is characterized by performing final finish cold rolling of 4040%.

【0012】本発明はまた、(2)(イ)質量百分率
(%)に基づいて(以下、%と表記する)、Niを34
〜38%およびMnを0.5%以下含有し、不純物とし
て0.010%以下のC、0.005%以下のSおよび
0.005%以下のPを含有するFe−Ni系合金のイ
ンゴットを脱酸剤としてAlおよびSiを使用して溶製
し、その場合、インゴットにおけるAlおよびSiの重
みつき合計濃度T=〔%Al〕+0.2〔%Si〕を、
T=〔%Al〕+0.2〔%Si〕≦0.02%(但
し、〔%Al〕≦0.02%そして〔%Si〕≦0.0
25%とする)の範囲に調整し、(ロ)該インゴットか
ら熱間圧延素材を製造し、(ハ)その後、該熱間圧延素
材に対して中間冷間圧延を行い、必要に応じて焼鈍と中
間冷間圧延を繰り返して、薄板を製造する中間冷間圧延
工程を加工度R=60〜95%として、かつR≦−17
50T+95の範囲となる条件で実施し、(ニ)次い
で、水素を含有する雰囲気中で連続再結晶最終焼鈍を行
い、(ホ)最後に、目標厚さまで加工度10〜40%の
最終仕上げ冷間圧延を行なうことを特徴とする、エッチ
ング加工に際して良好な真円度を有するエッチング孔の
形成を可能とする、エッチング穿孔性に優れたFe−N
i系合金シャドウマスク用素材の製造方法をも提供す
る。本発明は更に、(3)(イ)質量百分率(%)に基
づいて(以下、%と表記する)、Niを34〜38%お
よびMnを0.5%以下含有し、不純物として0.01
0%以下のC、0.005%以下のSおよび0.005
%以下のPを含有するFe−Ni系合金のインゴットを
脱酸剤としてAlおよびSiを使用して溶製し、その場
合、インゴットにおけるAlおよびSiの重みつき合計
濃度T=〔%Al〕+0.2〔%Si〕を、T=〔%A
l〕+0.2〔%Si〕≦0.02%(但し、〔%A
l〕≦0.02%そして〔%Si〕≦0.025%とす
る)の範囲に調整し、(ロ)該インゴットから熱間圧延
素材を製造し、(ハ)その後、該熱間圧延素材に対して
中間冷間圧延を行い、必要に応じて焼鈍と中間冷間圧延
を繰り返して、薄板を製造する中間冷間圧延工程を加工
度R=60〜95%として、かつR≦−1750T+9
5の範囲となる条件で実施し、(ニ)次いで、水素を含
有する雰囲気中で連続再結晶最終焼鈍を行い、(ホ)目
標厚さまで加工度10〜40%の最終仕上げ冷間圧延を
行ない、(ヘ)前記最終仕上げ冷間圧延された素材をエ
ッチングして電子線透過孔を形成することを特徴とす
る、透過孔の中孔の真円度を、その最大径の2乗を面積
で割った値を100倍した形状係数が400〜440で
ある、良好な真円度を有する電子線透過孔を有するFe
−Ni系合金シャドウマスク用素材の製造方法を提供す
る。
The present invention also relates to (2) (A) Ni based on the mass percentage (%) (hereinafter referred to as%).
Fe-Ni-based alloy ingots containing -38% and Mn of 0.5% or less and containing 0.010% or less of C, 0.005% or less of S, and 0.005% or less of P as impurities. Melting is performed using Al and Si as deoxidizing agents, in which case the weighted total concentration of Al and Si in the ingot T = [% Al] +0.2 [% Si]
T = [% Al] +0.2 [% Si] ≦ 0.02% (provided that [% Al] ≦ 0.02% and [% Si] ≦ 0.0
(B) a hot-rolled material is manufactured from the ingot, and (c) thereafter, the hot-rolled material is subjected to intermediate cold rolling, and if necessary, annealed. And the intermediate cold rolling are repeated, and the intermediate cold rolling step for producing a thin plate is performed at a working ratio R = 60 to 95%, and R ≦ −17.
(D) Then, continuous recrystallization final annealing is performed in an atmosphere containing hydrogen, and (E) Finally, final finishing cold working with a workability of 10 to 40% to the target thickness is performed. Fe-N excellent in etching piercing property, capable of forming an etching hole having good roundness during etching, characterized by performing rolling.
A method for producing a material for an i-based alloy shadow mask is also provided. The present invention further includes (3) (a) 34-38% of Ni and 0.5% or less of Mn based on mass percentage (%) (hereinafter referred to as%), and 0.01% or less as an impurity.
0% or less of C, 0.005% or less of S and 0.005%
% Of P-containing ingot of Fe-Ni alloy is melted using Al and Si as a deoxidizing agent, in which case the weighted total concentration of Al and Si in the ingot T = [% Al] +0 .2 [% Si], T = [% A
l] +0.2 [% Si] ≦ 0.02% (However, [% A
l] ≦ 0.02% and [% Si] ≦ 0.025%), and (b) a hot-rolled material is manufactured from the ingot. Cold rolling is performed on the steel sheet, and annealing and intermediate cold rolling are repeated as necessary, and the intermediate cold rolling step for manufacturing a thin plate is performed at a working ratio of R = 60 to 95% and R ≦ −1750T + 9.
5). (D) Then, continuous recrystallization final annealing is performed in an atmosphere containing hydrogen, and (e) final finishing cold rolling is performed at a workability of 10 to 40% to a target thickness. (F) The final finish cold-rolled material is etched to form an electron beam transmission hole, and the roundness of the medium hole of the transmission hole is determined by the square of the maximum diameter in area. Fe having an electron beam transmitting hole having good roundness and having a shape factor obtained by multiplying the divided value by 100 is 400 to 440.
A method for producing a material for a Ni-based alloy shadow mask is provided.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明は、製造工程自体は従来か
らの方法を踏襲する。先に述べたように、Fe−Ni合
金シャドウマスクの製造においては、所定のFe−Ni
合金を脱酸剤としてAlおよびSiを使用して例えばV
IM炉での真空溶解もしくはLFでの炉外精練による溶
製後、インゴットに鋳造し、鍛造後、熱間圧延し、スラ
ブの表面の酸化スケ−ルを除去し、冷間圧延と焼鈍を繰
り返す中間冷間圧延工程を実施し、最終焼鈍後、厚さ
0.3mm以下の所定のシ−ト厚みまで仕上げる最終仕
上げ冷間圧延が行われる。その後、スリットして所定板
幅として、シャドウマスク素材を得る。シャドウマスク
素材は、脱脂後、フォトレジストを両面に塗付し、そし
てパタ−ンを焼き付けて現像後、エッチング液にて穿孔
加工され、個々に切断されてフラットマスクになる。フ
ラットマスクは、非酸化性雰囲気中で焼鈍されてプレス
加工性を付与された後(プレアニ−ル法ではこの焼鈍が
エッチング前に最終圧延材に対して行なわれる)、プレ
スによりマスク形態に球面成形される。そして最後に、
球面成形されたマスクは、脱脂後、水蒸気又は燃焼ガス
雰囲気中で黒化処理を施されて表面に黒化酸化膜を形成
する。こうしてシャドウマスクが作製される。本発明に
より、エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャ
ドウマスク用素材並びに良好な真円度を有する電子線透
過孔を有するFe−Ni系合金シャドウマスク用素材の
製造方法が提供される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the present invention, the manufacturing process itself follows a conventional method. As described above, in the production of the Fe—Ni alloy shadow mask, a predetermined Fe—Ni
Using Al and Si as deoxidizers for alloys
After vacuum melting in an IM furnace or smelting by out-of-pile smelting in an LF, it is cast into an ingot, forged, hot rolled, the oxide scale on the surface of the slab is removed, and cold rolling and annealing are repeated. An intermediate cold rolling step is performed, and after final annealing, final finishing cold rolling is performed to finish to a predetermined sheet thickness of 0.3 mm or less. Then, slitting is performed to obtain a predetermined plate width to obtain a shadow mask material. After degreasing, the shadow mask material is coated with a photoresist on both sides, and after baking and developing a pattern, it is perforated with an etchant, and cut into individual flat masks. The flat mask is annealed in a non-oxidizing atmosphere to give press workability (in the pre-anneal method, this annealing is performed on the final rolled material before etching), and then spherically formed into a mask form by pressing. Is done. And finally,
After degreasing, the spherical shaped mask is subjected to a blackening treatment in a steam or combustion gas atmosphere to form a blackened oxide film on the surface. Thus, a shadow mask is manufactured. According to the present invention, there is provided a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask having excellent etching piercing properties and a method for producing a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask having electron beam transmitting holes having good roundness.

【0014】本発明におけるFe−Ni系合金素材のN
i含有量は34〜38%の範囲である。34%未満では
また38%を超えると、合金素材の熱膨張係数が大き
く、シャドウマスク用として不適当であるために、34
〜38%の範囲に限定した。さらに、当該合金素材の不
純物及ぴ随伴元素の量は以下説明する理由により上限を
限定している。
In the present invention, the Fe—Ni-based alloy
The i content is in the range of 34-38%. If it is less than 34% and if it exceeds 38%, the coefficient of thermal expansion of the alloy material is large and is unsuitable for shadow masks.
Limited to the range of ~ 38%. Furthermore, the upper limits of the amounts of impurities and accompanying elements of the alloy material are limited for the reasons described below.

【0015】a)Al、Si含有量 AlおよびSiは、脱酸目的のためにインゴット溶製時
に添加される。生成されたインゴット中のAlおよびS
i含有量の合計量が多いと、(200)集合組織が著し
く発達し、エッチング孔の真円度が低下するので、Al
およびSi含有量の重みつき合計量T=〔%Al〕+
0.2〔%Si〕≦0.02%(但し、〔%Al〕≦
0.02%そして〔%Si〕≦0.025%とする)と
定めた。Niを34%から38%含むFe−Ni系合金
は面心立方晶である。そこに存在するAlおよびSiは
共に(200)集合組織の発達を促す。このように(2
00)集合組織の発達にはAlおよびSi含有量の合計
量(T)が大きく影響するが、AlとSiとではその寄
与度が異なるので、それを考慮して、合計量として、A
lおよびSi含有量の重みつき合計量T=〔%Al〕+
0.2〔%Si〕を採用した。エッチング孔の真円度が
低下するのを防止するに充分な程度まで(200)集合
組織の発達を抑制するには、重みつきの合計量(T)が
0.02%以下である必要があることを多くの実験の結
果見いだしたものである。この場合、AlおよびSiの
絶対量の規制もまたシャドウマスク素材のエッチング性
その他の考慮から必要であり、上記の通り、〔%Al〕
≦0.02%そして〔%Si〕≦0.025%と定め
た。
A) Al and Si contents Al and Si are added at the time of ingot melting for the purpose of deoxidation. Al and S in the produced ingot
If the total amount of the i content is large, the (200) texture is remarkably developed, and the roundness of the etching hole is reduced.
And weighted total amount of Si content T = [% Al] +
0.2 [% Si] ≦ 0.02% (However, [% Al] ≦
0.02% and [% Si] ≦ 0.025%). An Fe-Ni alloy containing 34% to 38% of Ni is face-centered cubic. Both Al and Si present there promote the development of the (200) texture. Thus (2
00) The total amount (T) of the Al and Si contents has a great influence on the development of the texture, but the contribution of Al and Si is different.
Weighted sum of l and Si contents T = [% Al] +
0.2 [% Si] was adopted. In order to suppress the (200) texture development to a degree sufficient to prevent the roundness of the etched hole from being reduced, the total weight (T) needs to be 0.02% or less. This is the result of many experiments. In this case, regulation of the absolute amounts of Al and Si is also necessary in consideration of the etching property of the shadow mask material and other considerations.
≤ 0.02% and [% Si] ≤ 0.025%.

【0016】b)Mn含有量 Mnは、熱間加工性を阻害するSを無害化するために鉄
系合金に随伴されている。その含有量が少ないと十分な
効果は得られない。しかしながら、0.5%を超える
と、素材が硬くなり、素材の加工性が劣ることになる。
従って、Mn含有量の上限を0.5%と定めた。
B) Mn Content Mn is included in iron-based alloys to detoxify S, which inhibits hot workability. If the content is small, a sufficient effect cannot be obtained. However, when the content exceeds 0.5%, the material becomes hard, and the workability of the material becomes poor.
Therefore, the upper limit of the Mn content is set to 0.5%.

【0017】c)C含有量 Cが0.10%を超えると、炭化物の生成によってエッ
チング穿孔性が阻害され、素材がシャドウマスク用とし
て適さなくなる。従って、C含有量の上限を0.010
%と定めた。
C) C content If C exceeds 0.10%, the formation of carbides impairs the etching piercing property, making the material unsuitable for use as a shadow mask. Therefore, the upper limit of the C content is 0.010
%.

【0018】d)S含有量 Sは、0.005%を超えると素材の熱間加工性を著し
く阻害する。従って、S含有量の上限を0.005%と
定めた。
D) S content If S exceeds 0.005%, the hot workability of the material is significantly impaired. Therefore, the upper limit of the S content is set to 0.005%.

【0019】e)P含有量 Pは、0.005%を超えると素材のエッチング穿孔性
を阻害し、素材がシャドウマスク用として適さなくな
る。従って、P含有量の上限を0.005%と定めた。
E) P content If the P content exceeds 0.005%, the etching piercing property of the material is hindered, and the material is not suitable for use as a shadow mask. Therefore, the upper limit of the P content is set to 0.005%.

【0020】f)中間圧延の加工度 加工度が95%を超えると、AlとSi渡度を上記範囲
に調整しても、(200)集合組織が著しく発達し、エ
ッチング孔の真円度が低下する。一方、加工度が60%
を下回ると、製品での(200)面の回折強度の構成比
率が低くなりすぎてエッチング速度が低下し、さらにコ
スト削減の効果も低くなる。そこで、加工度を60〜9
5%の範囲に規定した。ここで、「中間冷間圧延」と
は、インゴットから鍛造および熱間圧延を経由して生成
された熱間圧延素材に対して中間冷間圧延と焼鈍とを少
なくとも1回行うことにより薄板を生成する、最終仕上
げ冷間圧延前までの中間冷間圧延工程を意味し、その回
数は制限されない。但し、本発明では中間圧延加工度を
大きくとれるので、中間冷間圧延回数は従来より少なく
することができる。1回の中間冷間圧延でも、所期の目
的を達成することができる。さらに、R≦一1750T
+95の関係を満たせば、(200)集合組織の発達度
を非常に低いレベルまで抑制することができ、真円度が
極めて良好なエッチング孔が得られる。この関係式は、
T=〔%Al〕+0.2〔%Si〕≦0.02%である
から、T=0〜0.02%の範囲でR=60〜95%を
実現する、RとTとの関係を定量化したものである。こ
の関係式により、インゴット中のAlとSi合計渡度に
応じて、採用しうる中間圧延加工度範囲を定量的に決定
することができる。
F) Workability of Intermediate Rolling When the workability exceeds 95%, the (200) texture is remarkably developed and the roundness of the etched hole is reduced even if the Al and Si transfer rates are adjusted to the above ranges. descend. On the other hand, processing degree is 60%
When the value is less than the above, the composition ratio of the diffraction intensity of the (200) plane in the product becomes too low, the etching rate is reduced, and the effect of cost reduction is also reduced. Therefore, the degree of processing is 60 to 9
It was specified in the range of 5%. Here, "intermediate cold rolling" means that a thin plate is produced by performing intermediate cold rolling and annealing at least once on a hot-rolled material produced from an ingot through forging and hot rolling. The intermediate cold rolling step before the final finish cold rolling is performed, and the number of times is not limited. However, in the present invention, since the degree of intermediate rolling can be increased, the number of times of intermediate cold rolling can be reduced as compared with the conventional case. The intended purpose can be achieved even by one intermediate cold rolling. Further, R ≦ 1750T
If the relationship of +95 is satisfied, the degree of development of the (200) texture can be suppressed to a very low level, and an etching hole with extremely good roundness can be obtained. This relation is
Since T = [% Al] +0.2 [% Si] ≦ 0.02%, R = 60 to 95% is realized in the range of T = 0 to 0.02%. It is quantified. With this relational expression, the range of the intermediate rolling workability that can be employed can be quantitatively determined according to the total transferability of Al and Si in the ingot.

【0021】g)最終焼鈍 最終焼鈍は最終冷間圧延に先立って再結晶最終焼鈍を行
う工程である。水素を含有する雰囲気中で連続的に実施
される。
G) Final annealing Final annealing is a step of performing recrystallization final annealing prior to final cold rolling. It is performed continuously in an atmosphere containing hydrogen.

【0022】h)最終圧延加工度 最終圧延は、最終焼鈍後、目標とするシャドウマスク素
材厚さに仕上げるために実施される最終仕上げ冷間圧延
工程である。この後、シャドウマスク素材は、エッチン
グに供され、切断されて、フラットマスクとなり、その
後、プレス成形性を付与するための焼鈍を施される(プ
レアニール法の場合には、この焼鈍はエッチング前に行
われる。)。最終焼鈍は、水素を含有する雰囲気中で連
続再結晶最終焼鈍を行う工程である。最終圧延加工度が
40%を超えると、圧延集合組織が極度に発達し、エッ
チング速度が低下する。一方、最終圧延加工度が10%
を下回ると、プレス加工の前の焼鈍において、未再結晶
組織が残留してプレス性が低下する。そこで最終圧延加
工度を10〜40%に規定した。
H) Final Rolling Degree The final rolling is a final finishing cold rolling step which is performed to finish to a target shadow mask material thickness after final annealing. Thereafter, the shadow mask material is subjected to etching, cut into a flat mask, and then subjected to annealing for imparting press formability (in the case of a pre-annealing method, this annealing is performed before etching). Done.) Final annealing is a step of performing continuous recrystallization final annealing in an atmosphere containing hydrogen. If the final rolling degree exceeds 40%, the rolling texture develops extremely, and the etching rate decreases. On the other hand, the final rolling degree is 10%
If the value is lower than the above range, an unrecrystallized structure remains in the annealing before the press working, and the pressability decreases. Therefore, the final rolling degree was set to 10 to 40%.

【0023】[0023]

【実施例】まず、真空溶解法にて脱酸剤として使用する
AlおよびSi濃度を変化させてFe−Ni系合金イン
ゴットを溶解鋳造した。なお、AlとSi以外の元素の
濃度は次の範囲に調整した:Ni:34.0%〜38.
0%、Mn:0.5%以下、C:0.010%以下、S:
0.005%以下、P:0.005%以下。次に、イン
ゴットを熱間鍛造および熱間圧延した。ついで、表面の
酸化スケ−ル除去後に、1回の中間冷間圧延(中間加工
度R)を行った。その後、最終焼鈍および最終仕上げ冷
間圧延を行って、0.13mm厚さのシャドウマスク素
材合金帯を製造した。なお、最終の冷間圧延はダル圧延
で行った。従って、製造工程をまとめて示せば、次の順
序となる:インゴット→熱間鍛造→熱間圧延→中間冷間
圧延→最終焼鈍→最終仕上げ冷間圧延(ダル圧延)。表
1に、各試料の成分組成、T(=Al%+0.2Si
%)および中間加工度R、(200)面回折強度構成比
(前述の算出式による)を示す。
EXAMPLE First, an Fe-Ni-based alloy ingot was melt-cast by changing the concentrations of Al and Si used as deoxidizing agents by a vacuum melting method. The concentrations of the elements other than Al and Si were adjusted to the following ranges: Ni: 34.0% to 38.
0%, Mn: 0.5% or less, C: 0.010% or less, S:
0.005% or less, P: 0.005% or less. Next, the ingot was hot forged and hot rolled. Then, after removing the oxide scale on the surface, one intermediate cold rolling (intermediate working degree R) was performed. Thereafter, final annealing and final finishing cold rolling were performed to produce a shadow mask material alloy strip having a thickness of 0.13 mm. The final cold rolling was performed by dull rolling. Therefore, the manufacturing process can be summarized as follows: ingot → hot forging → hot rolling → intermediate cold rolling → final annealing → final finish cold rolling (dull rolling). Table 1 shows the component composition of each sample, T (= Al% + 0.2Si).
%), The degree of intermediate working R, and the (200) plane diffraction intensity composition ratio (according to the above formula).

【0024】ここで得られた合金帯のうち、試料No.
1〜12が本発明の要件を満たす実施例であり、そして
No.13〜19および20〜25は比較例である。
Of the alloy strips obtained here, sample no.
Nos. 1 to 12 are examples satisfying the requirements of the present invention. 13 to 19 and 20 to 25 are comparative examples.

【0025】次にこれらの合金帯に周知のフォトリソグ
ラフィ−技術を適用し、合金帯の片側表面に直径80μ
mの真円状開口部を多数有し、もう一方の表面の相対す
る位置に直径180μmの真円状開口部を有するレジス
トマスクを形成した後に、塩化第2鉄水溶液の水溶液を
スプレー状に吹き付け、透過孔を形成した。そして、透
過孔の中孔の真円度を、その最大径の2乗を面積で割っ
た値を100倍した形状係数で評価した。真円の場合、
形状係数は400となる。したがって400から数値が
増すに従い真円度が悪くなる。真円度の良否は形状係数
が400〜440の場合を○(良)、441〜460の場
合を△(やや不良)、そして461以上の場合を(不良)×
として評価した。評価結果を表1に併せて示す。
Next, a well-known photolithography technique is applied to these alloy strips, and a diameter of 80 μm is applied to one surface of the alloy strip.
After forming a resist mask having a large number of m-shaped circular openings and a 180 μm-diameter perfectly circular opening at a position opposite to the other surface, an aqueous solution of an aqueous ferric chloride solution is sprayed. , A transmission hole was formed. Then, the roundness of the middle hole of the transmission hole was evaluated by a shape factor obtained by multiplying the square of the maximum diameter by the area by 100 times. In the case of a perfect circle,
The shape factor is 400. Therefore, the roundness becomes worse as the numerical value increases from 400. The roundness was evaluated as good (good) when the shape factor was 400 to 440, poor (somewhat bad) when 441 to 460, and (bad) when it was 461 or more.
Was evaluated. The evaluation results are also shown in Table 1.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】表1に示した結果から、本発明に係わる試
料No.1〜12のようにAlおよびSi濃度の重みつ
き合計濃度TがT=〔%Al〕+0.2〔%Si〕≦
0.02%を満たす試料は、すべての透過孔の中孔の真
円度が損なわれず、良好なエッチング穿孔性を示した。
特に、試料No.7は、中間加工度Rが95%と高いに
もかかわらず、良好な真円度を示した。ただし、試料N
o.3およびNo.5のように、AlおよびSiの合計
濃度TがT=〔%Al〕+0.2〔%Si〕≦0.02
%の範囲内あっても、中間加工度RがR≦一1750T
+95の関係を超えたものは形状係数が良の領域をわず
かに超えた。
From the results shown in Table 1, the sample No. As shown in 1 to 12, the weighted total concentration T of the Al and Si concentrations is T = [% Al] +0.2 [% Si] ≦
The sample satisfying 0.02% showed good etching piercing properties without impairing the roundness of the intermediate holes of all the transmission holes.
In particular, the sample No. No. 7 showed good roundness even though the intermediate processing degree R was as high as 95%. However, sample N
o. 3 and No. 3 5, the total concentration T of Al and Si is T = [% Al] +0.2 [% Si] ≦ 0.02
%, The intermediate working ratio R is R ≦ -1750T.
Those exceeding the relationship of +95 slightly exceeded the region where the shape factor was good.

【0028】これに対して、試料No.13〜17は、
AlおよびSi濃度がT=〔%Al〕+0.2〔%Si〕
が0.02%を超えたものであり、(200)面の回折
強度の講成比率が92〜100%となり、形状係数が不
良となった。なお、試料No.18はAlおよびSi濃
度が規定の範囲を満たしているが、中間圧延加工度が9
5%を超えるため、(200)面の回折強度の構成比率
が高くなり、形状係数が不良となった。また、試料N
o.19はAlおよびSi濃度が規定の範囲を満たして
いるが、中間圧延加工度が50%と低いため、(20
0)面の回折強度の構成比率が低くなりすぎ、エッチン
グ速度が低下したため、同一エッチング条件下では所定
の形状が得られなかったため不良とした。更に、試料N
o.20、21は、AlおよびSi濃度、形状係数は規
定の範囲を満たしているが、Ni濃度が規定の範囲から
外れており、熱膨張係数が大きくなり、シャドウマスク
としては不適当であり、不良とした。試料No.22
は、AlおよびSi濃度が規定の範囲を満たしている
が、C濃度が規定の範囲を超えており、合金中に炭化物
が生成したため、エッチング速度が低下し、同一エッチ
ング条件下では所定の形状が得られなかったため不良と
なった。試料No.23は、Mn濃度は規定の範囲を超
えたため、素材が著しく硬くなり、冷間加工時に割れが
発生し、所定の厚さまで加工できなかった。試料No.
24は、S濃度が規定の範囲を超えたため、熱間圧延時
に割れが発生し、所定の厚さまで加工できなかった。試
料No.25は、AlおよびSi濃度が規定の範囲を満
たしているが、P濃度が規定の範囲を超えたため、エッ
チング速度が低下し、同一エッチング条件下では所定の
形状が得られなかったため不良となった。
On the other hand, the sample No. 13-17 are
Al and Si concentrations are T = [% Al] +0.2 [% Si]
Exceeded 0.02%, the ratio of diffraction intensity of the (200) plane was 92 to 100%, and the shape factor was poor. The sample No. No. 18 has the Al and Si concentrations satisfying the specified ranges, but has an intermediate rolling degree of 9
Since it exceeds 5%, the composition ratio of the diffraction intensity of the (200) plane is high, and the shape factor is poor. Sample N
o. In No. 19, although the Al and Si concentrations satisfy the specified ranges, the intermediate rolling degree is as low as 50%.
Since the composition ratio of the diffraction intensity of the 0) plane was too low and the etching rate was lowered, a predetermined shape could not be obtained under the same etching conditions, so that the sample was regarded as defective. Further, the sample N
o. In Nos. 20 and 21, the Al and Si concentrations and the shape coefficient satisfy the specified ranges, but the Ni concentration is out of the specified ranges, the thermal expansion coefficient is large, and it is unsuitable as a shadow mask. And Sample No. 22
Although the Al and Si concentrations satisfy the specified ranges, the C concentration exceeds the specified ranges, and carbides are generated in the alloy, so that the etching rate is reduced, and a predetermined shape is formed under the same etching conditions. It was defective because it could not be obtained. Sample No. In No. 23, since the Mn concentration exceeded the specified range, the material became extremely hard, cracks occurred during cold working, and the working could not be performed to a predetermined thickness. Sample No.
In No. 24, since the S concentration exceeded the specified range, cracks occurred during hot rolling, and processing could not be performed to a predetermined thickness. Sample No. In No. 25, the Al and Si concentrations satisfied the specified ranges, but the P concentration exceeded the specified ranges, so that the etching rate was reduced, and a predetermined shape could not be obtained under the same etching conditions, and the sample was defective. .

【0029】つまり、上記結果から、本発明の要件を満
足することによって、中間加工度を大きくしても、エッ
チング加工時に真円度を損なわずに優れたエッチング穿
孔性をFe−Ni系合金のシャドウマスク用素材に付与
することが初めて可能になったのである。
That is, from the above results, by satisfying the requirements of the present invention, even if the intermediate working degree is increased, the excellent etching piercing property can be obtained without impairing the roundness at the time of etching, and the Fe—Ni-based alloy can be improved. It became possible for the first time to apply it to materials for shadow masks.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上に説明したごとく、本発明によれ
ば、Fe−Ni系合金のシャドウマスク素材において、
エッチング加工により形成する電子線の透過孔を真円度
を損なわずに穿孔することができ、特に省コストの観点
から、最終焼鈍前の圧延加工度を大きくしても{100}
集合組織が発達しにくいシャドウマスク用Fe−Ni系
合金素材が製造できる。Fe−Ni系合金シャドウマス
ク用素材の低コスト製造方法を確立することに成功した
本発明の工業的意義は大きい。
As described above, according to the present invention, in a shadow mask material of an Fe-Ni alloy,
The electron beam transmission holes formed by the etching process can be perforated without impairing the roundness. In particular, from the viewpoint of cost saving, even if the rolling degree before final annealing is increased, {100}
An Fe-Ni-based alloy material for a shadow mask in which a texture is difficult to develop can be manufactured. The industrial significance of the present invention, which succeeded in establishing a low-cost production method of a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask, is significant.

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年5月1日(2000.5.1)[Submission date] May 1, 2000 (2000.5.1)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく種々の検討を行ったところ、次のような新
しい知見を得ることができた。即ち、シャドウマスク用
Fe−Ni系合金中のAlおよびSi濃度が圧延時の
(200)面集合組織の発達に大きく影響を及ぼしてい
ることを見出した。具体的にはAl濃度およびSi濃度
の重みつき合計濃度(T)を、T=〔%Al〕0.2
〔%Si〕≦0.02%の範囲に調整すれ、省コスト
の観点から中間圧延加工度(R)を60〜95%と高く設
定しても、(200)集合組織はそれほど発達せず、製
品として許容できるレベルの真円度を有するエッチング
孔が得られるとの知見を得た。さらに、R≦1750
T+95の関係を満たせば、(200)集合組織の発達
度を非常に低いレベルまで抑制することができ、真円度
が極めて良好なエッチング孔が得られることをも見出し
た。なお、AlおよびSiの低減による(200)集合
組織抑制効果は、Niが34〜38%の範囲であれば不
純物の有無によらず認められる。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies to achieve the above object, and have obtained the following new findings. That is, it has been found that the Al and Si concentrations in the Fe—Ni-based alloy for the shadow mask greatly affect the development of the (200) plane texture during rolling. Specifically weighted total concentration of Al concentration and Si concentration in the (T), T = [% Al] + 0.2
If it is adjusted to the range of [% Si] ≦ 0.02%, the (200) texture does not develop so much even if the intermediate rolling degree (R) is set as high as 60 to 95 % from the viewpoint of cost saving. It has been found that an etching hole having an acceptable level of roundness as a product can be obtained. Furthermore, R ≦ - 1750
It has also been found that if the relationship of T + 95 is satisfied, the degree of development of the (200) texture can be suppressed to a very low level, and an etching hole with extremely good roundness can be obtained. The (200) texture suppression effect due to the reduction of Al and Si is recognized regardless of the presence or absence of impurities when Ni is in the range of 34 to 38%.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C22C 38/08 C22C 38/08 Fターム(参考) 4K037 EA01 EA05 EA15 EA21 EA23 EA25 EA27 FG03 FH01 FM01 HA04 JA02 JA06 5C027 HH02 5C031 EE05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) C22C 38/08 C22C 38/08 F term (Reference) 4K037 EA01 EA05 EA15 EA21 EA23 EA25 EA27 FG03 FH01 FM01 HA04 JA02 JA06 5C027 HH02 5C031 EE05

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (イ)質量百分率(%)に基づいて(以
下、%と表記する)、Niを34〜38%およびMnを
0.5%以下含有し、不純物として0.010%以下の
C、0.005%以下のSおよび0.005%以下のP
を含有するFe−Ni系合金のインゴットを脱酸剤とし
てAlおよびSiを使用して溶製し、その場合、インゴ
ットにおけるAlおよびSiの重みつき合計濃度T=
〔%Al〕+0.2〔%Si〕を、T=〔%Al〕+
0.2〔%Si〕≦0.02%(但し、〔%Al〕≦
0.02%そして〔%Si〕≦0.025%とする)の
範囲に調整し、 (ロ)該インゴットから熱間圧延素材を製造し、 (ハ)その後、該熱間圧延素材に対して中間冷間圧延を
行い、必要に応じて焼鈍と中間冷間圧延を繰り返して、
薄板を製造する中間冷間圧延工程を加工度R=60〜9
5%として実施し、 (ニ)次いで、水素を含有する雰囲気中で連続再結晶最
終焼鈍を行い、 (ホ)最後に、目標厚さまで加工度10〜40%の最終
仕上げ冷間圧延を行なうことを特徴とする、エッチング
加工に際して良好な真円度を有するエッチング孔の形成
を可能とする、エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系
合金シャドウマスク用素材の製造方法。
1. (a) Based on mass percentage (%) (hereinafter referred to as%), contains 34 to 38% of Ni and 0.5% or less of Mn, and contains 0.010% or less of impurities as impurities. C, S up to 0.005% and P up to 0.005%
Is melted using Al and Si as deoxidizing agents, in which case the weighted total concentration T of Al and Si in the ingot is T =
[% Al] +0.2 [% Si], T = [% Al] +
0.2 [% Si] ≦ 0.02% (However, [% Al] ≦
0.02% and [% Si] ≦ 0.025%) (b) producing a hot-rolled material from the ingot; Perform intermediate cold rolling, repeat annealing and intermediate cold rolling as necessary,
The intermediate cold rolling process for producing a thin plate is performed at a working degree R = 60-9.
(D) Next, continuous recrystallization final annealing is performed in an atmosphere containing hydrogen. (E) Finally, final finish cold rolling with a workability of 10 to 40% to a target thickness is performed. A method for producing a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask excellent in etching piercing property, which enables formation of an etching hole having good roundness during etching.
【請求項2】 (イ)質量百分率(%)に基づいて(以
下、%と表記する)、Niを34〜38%およびMnを
0.5%以下含有し、不純物として0.010%以下の
C、0.005%以下のSおよび0.005%以下のP
を含有するFe−Ni系合金のインゴットを脱酸剤とし
てAlおよびSiを使用して溶製し、その場合、インゴ
ットにおけるAlおよびSiの重みつき合計濃度T=
〔%Al〕+0.2〔%Si〕を、T=〔%Al〕+
0.2〔%Si〕≦0.02%(但し、〔%Al〕≦
0.02%そして〔%Si〕≦0.025%とする)の
範囲に調整し、 (ロ)該インゴットから熱間圧延素材を製造し、 (ハ)その後、該熱間圧延素材に対して中間冷間圧延を
行い、必要に応じて焼鈍と中間冷間圧延を繰り返して、
薄板を製造する中間冷間圧延工程を加工度R=60〜9
5%として、かつR≦−1750T+95の範囲となる
条件で実施し、 (ニ)次いで、水素を含有する雰囲気中で連続再結晶最
終焼鈍を行い、 (ホ)最後に、目標厚さまで加工度10〜40%の最終
仕上げ冷間圧延を行なうことを特徴とする、エッチング
加工に際して良好な真円度を有するエッチング孔の形成
を可能とする、エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系
合金シャドウマスク用素材の製造方法。
2. (a) Based on the mass percentage (%) (hereinafter referred to as%), it contains 34 to 38% of Ni and 0.5% or less of Mn, and contains 0.010% or less as an impurity. C, S up to 0.005% and P up to 0.005%
Is melted using Al and Si as deoxidizing agents, in which case the weighted total concentration T of Al and Si in the ingot is T =
[% Al] +0.2 [% Si], T = [% Al] +
0.2 [% Si] ≦ 0.02% (However, [% Al] ≦
0.02% and [% Si] ≦ 0.025%) (b) producing a hot-rolled material from the ingot; Perform intermediate cold rolling, repeat annealing and intermediate cold rolling as necessary,
The intermediate cold rolling process for producing a thin plate is performed at a working degree R = 60-9.
5% and R ≦ -1750T + 95. (D) Next, continuous recrystallization final annealing is performed in an atmosphere containing hydrogen, and (e) finally, a workability of 10% to a target thickness. Fe-Ni-based alloy shadow mask excellent in etching piercing property, capable of forming an etching hole having good roundness during etching, characterized by performing final finish cold rolling of up to 40%. Material manufacturing method.
【請求項3】 (イ)質量百分率(%)に基づいて(以
下、%と表記する)、Niを34〜38%およびMnを
0.5%以下含有し、不純物として0.010%以下の
C、0.005%以下のSおよび0.005%以下のP
を含有するFe−Ni系合金のインゴットを脱酸剤とし
てAlおよびSiを使用して溶製し、その場合、インゴ
ットにおけるAlおよびSiの重みつき合計濃度T=
〔%Al〕+0.2〔%Si〕を、T=〔%Al〕+
0.2〔%Si〕≦0.02%(但し、〔%Al〕≦
0.02%そして〔%Si〕≦0.025%とする)の
範囲に調整し、 (ロ)該インゴットから熱間圧延素材を製造し、 (ハ)その後、該熱間圧延素材に対して中間冷間圧延を
行い、必要に応じて焼鈍と中間冷間圧延を繰り返して、
薄板を製造する中間冷間圧延工程を加工度R=60〜9
5%として、必要ならR≦−1750T+95の範囲と
なる条件で実施し、 (ニ)次いで、水素を含有する雰囲気中で連続再結晶最
終焼鈍を行い、 (ホ)目標厚さまで加工度10〜40%の最終仕上げ冷
間圧延を行ない、 (ヘ)前記最終仕上げ冷間圧延された素材をエッチング
して電子線透過孔を形成することを特徴とする、透過孔
の中孔の真円度を、その最大径の2乗を面積で割った値
を100倍した形状係数が400〜460である、良好
な真円度を有する電子線透過孔を有するFe−Ni系合
金シャドウマスク用素材の製造方法。
3. (a) Based on the mass percentage (%) (hereinafter referred to as%), contains 34 to 38% of Ni and 0.5% or less of Mn, and contains 0.010% or less as an impurity. C, S up to 0.005% and P up to 0.005%
Is melted using Al and Si as deoxidizing agents, in which case the weighted total concentration T of Al and Si in the ingot is T =
[% Al] +0.2 [% Si], T = [% Al] +
0.2 [% Si] ≦ 0.02% (However, [% Al] ≦
0.02% and [% Si] ≦ 0.025%) (b) producing a hot-rolled material from the ingot; Perform intermediate cold rolling, repeat annealing and intermediate cold rolling as necessary,
The intermediate cold rolling process for producing a thin plate is performed at a working degree R = 60-9.
5%, if necessary, under the condition of R ≦ -1750T + 95. (D) Next, continuous recrystallization final annealing is performed in an atmosphere containing hydrogen, and (e) working ratio of 10 to 40 to the target thickness. % Final finish cold rolling, and (f) etching the final finish cold rolled material to form electron beam transmitting holes, A method for producing a material for an Fe-Ni-based alloy shadow mask having electron beam transmitting holes having good roundness, wherein the shape factor obtained by multiplying the value obtained by dividing the square of the maximum diameter by the area by 100 is 400-460. .
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