JP2001261370A - Glass frit and glass substrate - Google Patents

Glass frit and glass substrate

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JP2001261370A
JP2001261370A JP2000078350A JP2000078350A JP2001261370A JP 2001261370 A JP2001261370 A JP 2001261370A JP 2000078350 A JP2000078350 A JP 2000078350A JP 2000078350 A JP2000078350 A JP 2000078350A JP 2001261370 A JP2001261370 A JP 2001261370A
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JP
Japan
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glass
powder
glass frit
transparent electrode
frit
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000078350A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Onoda
仁 小野田
Yumiko Aoki
由美子 青木
Tsuneo Manabe
恒夫 真鍋
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
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Publication of JP2001261370A publication Critical patent/JP2001261370A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass frit capable of heightening the transparency of a sintered compact for covering a transparent electrode of a plasma display panel. SOLUTION: This glass frit usable for the cover for an electrode comprises one or more kinds of compound powders selected from the group consisting of PbO2, Pb3O4, Pb(NO3)2, PbSO4, CuO, SnO2, Sb2O3, Sb2O5 and CeO2, and a glass powder, and is regulated so that the content of the powders of the compounds may be <=3.7 wt.%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)、蛍光表示管(VFD)等におけ
る電極被覆または隔壁形成に好適なガラスフリットに関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass frit suitable for electrode coating or partition wall formation in a plasma display panel (PDP), a fluorescent display tube (VFD) and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】大型の薄型平板型カラー表示装置として
近年注目を集めているPDPにおいては、表示面として
使用される前面基板と背面基板と隔壁とによりセルが区
画形成されており、該セル中でプラズマ放電を発生させ
ることにより画像が形成される。前記前面基板の表面に
はITO(スズがドープされた酸化インジウム)、酸化
スズ等からなる透明電極が形成されている。
2. Description of the Related Art In a PDP that has recently attracted attention as a large thin flat panel color display device, a cell is defined by a front substrate, a rear substrate, and a partition used as a display surface. Generates an image by forming a plasma discharge. On the surface of the front substrate, a transparent electrode made of ITO (indium oxide doped with tin), tin oxide or the like is formed.

【0003】この透明電極をプラズマから保護するため
に、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記透明電極
を被覆することが必須である。この被覆は、通常、ガラ
ス粉末を含有するガラスフリットを有機ビヒクルによっ
てペースト化したガラスペーストを透明電極に塗布し焼
成することによって行われる。前記有機ビヒクルは樹脂
等のバインダとその溶剤を含有する。また、前記ガラス
フリットを樹脂と混練して作製したシートを透明電極に
貼り付け焼成することも行われている。
In order to protect the transparent electrode from plasma, it is essential to cover the transparent electrode with glass having excellent plasma durability. This coating is usually performed by applying a glass paste obtained by forming a glass frit containing a glass powder into a paste using an organic vehicle to a transparent electrode and baking it. The organic vehicle contains a binder such as a resin and its solvent. Further, a sheet prepared by kneading the glass frit with a resin is attached to a transparent electrode and fired.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】PDPの画質向上のた
めに、前記透明電極の被覆に用いられるガラスフリット
に対しては、その焼成によって得られる焼成体の透明性
をより高くすることが求められている。本発明は、この
課題を解決するガラスフリットおよびそのガラスフリッ
トを用いたガラス基板の提供を目的とする。
In order to improve the image quality of the PDP, it is required that the glass frit used for coating the transparent electrode has higher transparency of a fired body obtained by firing the glass frit. ing. An object of the present invention is to provide a glass frit that solves this problem and a glass substrate using the glass frit.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、PbO2、P
b(NO32、PbSO4、CuO、SnO2、Sb
2 3、Sb25およびCeO2からなる群から選ばれる
1種以上の化合物粉末とガラス粉末とを含有し、該化合
物粉末の含有量が質量百分率表示で3.7%以下である
ガラスフリットを提供する(第1のガラスフリット)。
また、PbO2、Pb34、Pb(NO32、PbS
4、CuO、SnO2、Sb23、Sb25およびCe
2からなる群から選ばれる1種以上の化合物粉末とガ
ラス粉末とを含有し、該化合物粉末の含有量が質量百分
率表示で3.7%以下である、電極被覆に用いられるガ
ラスフリットを提供する(第2のガラスフリット)。さ
らに、透明電極が形成されているガラス基板であって、
前記ガラスフリットの焼成体によって該透明電極が被覆
されているガラス基板を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a PbOTwo, P
b (NOThree)Two, PbSOFour, CuO, SnOTwo, Sb
TwoO Three, SbTwoOFiveAnd CeOTwoSelected from the group consisting of
A powder containing at least one compound powder and glass powder;
Content is 3.7% or less in terms of mass percentage
Provide a glass frit (first glass frit).
Also, PbOTwo, PbThreeOFour, Pb (NOThree)Two, PbS
OFour, CuO, SnOTwo, SbTwoOThree, SbTwoOFiveAnd Ce
OTwoOne or more compound powders selected from the group consisting of
Glass powder, and the content of the compound powder is in terms of mass percentage.
Gas used for electrode coating, which is 3.7% or less in terms of percentage
Provide a lath frit (second glass frit). Sa
Further, a glass substrate on which a transparent electrode is formed,
The transparent electrode is covered with the fired body of the glass frit.
To provide a glass substrate.

【0006】本発明者は、透明電極の被覆に用いられる
ガラスフリットの焼成体の透明性を低下させている原因
が、該焼成体の着色および/または該焼成体中の気泡に
あり、さらに、前記着色および/または前記気泡の原因
が、以下に述べる炭素含有不純物の前記焼成体への残留
であると推定し、本発明に至った。
The inventor of the present invention has found that the cause of the reduction in the transparency of the fired body of glass frit used for coating the transparent electrode is the coloring of the fired body and / or bubbles in the fired body. The present inventors have presumed that the cause of the coloring and / or the bubbles is residual carbon-containing impurities described below in the fired body, and have reached the present invention.

【0007】すなわち、有機ビヒクル等に存在する炭素
含有不純物の大部分はガラスフリット焼成時に焼成雰囲
気中の酸素等との反応その他によって揮散・逸出する
が、一部の炭素含有不純物については前記揮散・逸出が
起こらずガラスフリットの焼成体に残留する。この残留
炭素含有不純物は焼成体を着色する。また、前記残留炭
素含有不純物は前記焼成時に炭酸ガス等の気泡を生成す
る。
That is, most of the carbon-containing impurities present in the organic vehicle and the like are volatilized and escaped by the reaction with oxygen and the like in the firing atmosphere during firing of the glass frit, but some of the carbon-containing impurities are volatilized.・ Escape does not occur and remains on the sintered body of glass frit. The residual carbon-containing impurities color the fired body. In addition, the residual carbon-containing impurities generate bubbles such as carbon dioxide gas during the firing.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明のガラスフリットは、通
常、有機ビヒクルによってガラスペーストとされ、この
ガラスペーストをガラス基板等に塗布し、焼成すること
によって焼成体とされる。前記焼成体を形成する方法は
これに限られず、たとえば、ガラスフリットを樹脂と混
練、成形してシートを作製し、このシートをガラス基板
等に貼り付け、焼成してもよい。PDP等に用いられる
ガラス基板のガラス転移点は、通常、550〜620℃
であり、このガラス基板に塗布されたガラスフリットの
焼成は620℃以下で行われる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The glass frit of the present invention is usually made into a glass paste by an organic vehicle, and this glass paste is applied to a glass substrate or the like and fired to obtain a fired body. The method for forming the fired body is not limited to this. For example, a sheet may be prepared by kneading and molding a glass frit with a resin, and the sheet may be attached to a glass substrate or the like and fired. The glass transition point of a glass substrate used for a PDP or the like is usually 550 to 620 ° C.
The firing of the glass frit applied to the glass substrate is performed at 620 ° C. or lower.

【0009】本発明の第1のガラスフリットは、前記残
留炭素含有不純物を減少させるために、PbO2、Pb
(NO32、PbSO4、CuO、SnO2、Sb23
Sb25およびCeO2からなる群から選ばれる1種以
上の化合物粉末を必須成分として含有する。本発明の第
2のガラスフリットは、前記残留炭素含有不純物を減少
させるために、PbO2、Pb34、Pb(NO32
PbSO4、CuO、SnO2、Sb23、Sb25およ
びCeO2からなる群から選ばれる1種以上の化合物粉
末を必須成分として含有する。
[0009] The first glass frit of the present invention comprises PbO 2 , Pb
(NO 3 ) 2 , PbSO 4 , CuO, SnO 2 , Sb 2 O 3 ,
One or more compound powders selected from the group consisting of Sb 2 O 5 and CeO 2 are contained as essential components. The second glass frit of the present invention includes PbO 2 , Pb 3 O 4 , Pb (NO 3 ) 2 ,
One or more compound powders selected from the group consisting of PbSO 4 , CuO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 and CeO 2 are contained as essential components.

【0010】本発明の第1のガラスフリットおよび第2
のガラスフリットにおいて、前記化合物粉末は、ガラス
フリット焼成時に、ガラス粉末またはガラス粉末が軟化
もしくは溶融して生成したガラスと反応して酸素を発生
し、該酸素が炭素含有不純物と反応することにより、前
記残留炭素含有不純物を減少させる、と考えられる。
[0010] The first glass frit and the second glass frit of the present invention.
In the glass frit, the compound powder, during firing of the glass frit, reacts with the glass powder or glass generated by softening or melting the glass powder to generate oxygen, and the oxygen reacts with carbon-containing impurities, It is believed that the residual carbon-containing impurities are reduced.

【0011】また、前記化合物粉末の含有量の合計は、
質量百分率表示で3.7%以下である。3.7%超で
は、前記酸素の発生が多くなりすぎ、これに起因する気
泡発生が増加してかえって焼成体の透明性を低下させ
る。好ましくは3%以下、より好ましくは2%以下、特
に好ましくは1%以下である。以下、本発明における含
有量は質量百分率表示で示す。
The total content of the compound powder is as follows:
It is 3.7% or less in terms of mass percentage. If it exceeds 3.7%, the generation of the oxygen is too large, and the generation of bubbles due to this is increased, which in turn lowers the transparency of the fired body. It is preferably at most 3%, more preferably at most 2%, particularly preferably at most 1%. Hereinafter, the content in the present invention is shown by mass percentage.

【0012】また、前記化合物粉末の含有量の合計は
0.1%以上であることが好ましい。0.1%未満で
は、残留炭素含有不純物を減少させる効果が小さくなり
すぎるおそれがある。より好ましくは0.2%以上、特
に好ましくは0.3%以上である。
The total content of the compound powder is preferably 0.1% or more. If it is less than 0.1%, the effect of reducing residual carbon-containing impurities may be too small. It is more preferably at least 0.2%, particularly preferably at least 0.3%.

【0013】また、前記化合物粉末の平均粒径は0.5
μm以上であることが好ましい。0.5μm未満では、
焼成体の気泡が多くなり焼成体の透明性が低下するおそ
れがある、または粉末にするための時間が増大しすぎる
おそれがある。より好ましくは0.7μm以上である。
また、前記化合物粉末の最大粒径は35μm以下である
ことが好ましい。PDPの透明電極を被覆する焼成体の
厚さは通常40μm以下であるが、前記最大粒径が35
μm超ではこの焼成体に凹凸が発生し、焼成体の透明性
が低下するおそれがある。より好ましくは20μm以下
である。
The average particle size of the compound powder is 0.5
It is preferably at least μm. If it is less than 0.5 μm,
There is a possibility that the number of air bubbles in the fired body is increased and the transparency of the fired body is reduced, or a time for forming the powder is too long. It is more preferably at least 0.7 μm.
Further, the maximum particle size of the compound powder is preferably 35 μm or less. The thickness of the fired body covering the transparent electrode of PDP is usually 40 μm or less, but the maximum particle size is 35 μm.
If it exceeds μm, irregularities are generated in the fired body, and the transparency of the fired body may be reduced. More preferably, it is 20 μm or less.

【0014】第1のガラスフリットおよび第2のガラス
フリットはガラス粉末を必須成分として含有する。ガラ
ス粉末の軟化点は450〜650℃であることが好まし
い。650℃超では焼成時のガラス流動が不充分になる
おそれがある。より好ましくは640℃以下、特に好ま
しくは630℃以下である。金属電極との接触がない場
合等には軟化点は500℃以下であることがさらに好ま
しく、490℃以下であることが最も好ましい。
The first glass frit and the second glass frit contain glass powder as an essential component. The softening point of the glass powder is preferably from 450 to 650 ° C. If it exceeds 650 ° C., the glass flow during firing may be insufficient. It is more preferably 640 ° C or lower, particularly preferably 630 ° C or lower. When there is no contact with a metal electrode, the softening point is more preferably 500 ° C or lower, and most preferably 490 ° C or lower.

【0015】450℃未満では金属電極が侵食された
り、金属電極を介しての透明電極の侵食が促進されたり
するおそれがある。より好ましくは460℃以上、特に
好ましくは470℃以上である。金属電極との接触があ
る場合等には軟化点は550℃以上であることがさらに
好ましく、560℃以上であることが最も好ましい。こ
こでいう金属電極は、透明電極のみでは電気抵抗が高す
ぎる場合に透明電極上に形成される金属層であり、Ag
層、Al層、三層構造のCr−Cu−Cr層等が例示さ
れる。
If the temperature is lower than 450 ° C., the metal electrode may be eroded or the erosion of the transparent electrode via the metal electrode may be accelerated. It is more preferably at least 460 ° C, particularly preferably at least 470 ° C. When there is contact with a metal electrode or the like, the softening point is more preferably 550 ° C or more, most preferably 560 ° C or more. The metal electrode referred to here is a metal layer formed on the transparent electrode when the electric resistance of the transparent electrode alone is too high.
Examples thereof include a layer, an Al layer, and a Cr-Cu-Cr layer having a three-layer structure.

【0016】ガラス粉末の50〜350℃における平均
線膨張係数αは、60×10-7〜100×10-7/℃で
あることが好ましい。60×10-7/℃未満ではガラス
基板に反りが発生するおそれがある。より好ましくは7
0×10-7/℃以上である。100×10-7/℃超では
ガラス基板の強度が低下するおそれがある。より好まし
くは90×10-7/℃以下、特に好ましくは85×10
-7/℃以下である。
The average linear expansion coefficient α of the glass powder at 50 to 350 ° C. is preferably 60 × 10 −7 to 100 × 10 −7 / ° C. If it is less than 60 × 10 −7 / ° C., the glass substrate may be warped. More preferably 7
0 × 10 −7 / ° C. or higher. If it exceeds 100 × 10 −7 / ° C., the strength of the glass substrate may decrease. More preferably 90 × 10 −7 / ° C. or less, particularly preferably 85 × 10 −7 / ° C.
-7 / ° C or less.

【0017】ガラス粉末は、下記酸化物基準の質量百分
率表示で、 PbO 25〜85%、 B23 0〜60%、 SiO2 0〜40%、 Al23 0〜25%、 Bi23 0〜35%、 MgO+CaO+SrO+BaO 0〜40%、 ZnO 0〜55%、 Li2O+Na2O+K2O 0〜20%、 から実質的になることが好ましい。なお、上記成分以外
の成分を、本発明の目的を損なわない範囲で含有しても
よいが、それら成分の含有量は20%以下であることが
好ましい。より好ましくは10%以下である。
The glass powder is represented by the following oxide percentage mass percentage: 25 to 85% of PbO, 0 to 60% of B 2 O 3, 0 to 40% of SiO 2, 0 to 25% of Al 2 O 3 , Bi 2 O 3 0~35%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~40%, ZnO 0~55%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~20%, preferably consists essentially of. In addition, components other than the above components may be contained within a range that does not impair the object of the present invention, but the content of these components is preferably 20% or less. It is more preferably at most 10%.

【0018】本発明のガラスフリットは、前記化合物粉
末、ガラス粉末の他に、本発明の目的を損なわない範囲
でその他の粉末を含有してもよい。そのような粉末とし
て、フィラー、顔料等が挙げられるが、前記その他の粉
末の含有量は30%以下であることが好ましい。
The glass frit of the present invention may contain other powders in addition to the compound powder and the glass powder as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of such a powder include fillers and pigments, and the content of the other powder is preferably 30% or less.

【0019】本発明のガラス基板は、たとえば次のよう
にして製造される。すなわち、その表面に形成されてい
る透明電極の上に本発明のガラスフリットを塗布し、焼
成して、該透明電極を被覆する焼成体を作製する。
The glass substrate of the present invention is manufactured, for example, as follows. That is, the glass frit of the present invention is applied on the transparent electrode formed on the surface thereof and fired, thereby producing a fired body covering the transparent electrode.

【0020】[0020]

【実施例】調合された原料を白金ルツボで1350℃で
1時間溶解し、質量百分率表示の組成が、PbO:4
0.5%、B23:30.3%、SiO2:8.2%、
Al23:3.7%、BaO:17.3%、である薄板
状のガラスを作製した。この薄板状のガラスをボールミ
ルで粉砕し、ガラス粉末Aを作製した。なお、このガラ
ス粉末Aの軟化点は595℃、αは75×10-7/℃で
あった。
EXAMPLE A prepared raw material was melted in a platinum crucible at 1350 ° C. for 1 hour, and the composition expressed by mass percentage was PbO: 4.
0.5%, B 2 O 3: 30.3%, SiO 2: 8.2%,
Al 2 O 3 : 3.7%, BaO: 17.3%, a thin plate glass was produced. This thin glass was pulverized with a ball mill to produce glass powder A. The softening point of this glass powder A was 595 ° C., and α was 75 × 10 −7 / ° C.

【0021】同様にして、質量百分率表示の組成が、P
bO:65%、B23:21.3%、SiO2:2.3
%、Al23:3.9%、ZnO:7.5%、であるガ
ラス粉末Bを作製した。なお、このガラス粉末Bの軟化
点は485℃、αは81×10-7/℃であった。
Similarly, the composition expressed by mass percentage is P
bO: 65%, B 2 O 3: 21.3%, SiO 2: 2.3
%, Al 2 O 3 : 3.9%, ZnO: 7.5%, to prepare a glass powder B. The softening point of this glass powder B was 485 ° C., and α was 81 × 10 −7 / ° C.

【0022】次に、ガラス粉末AまたはBと、PbO2
粉末と、Pb34粉末とを、表に質量百分率表示で示す
割合で含有する試料粉末を作製した。試料粉末1〜6に
おけるガラス粉末はガラス粉末Aであり、試料粉末7〜
12におけるガラス粉末はガラス粉末Bである。また、
PbO2粉末とPb34粉末の平均粒径はいずれも0.
8μm、最大粒径はいずれも5μmであった。試料粉末
1〜4、7〜10は実施例、試料粉末5、6、11、1
2は比較例である。
Next, glass powder A or B and PbO 2
A sample powder containing the powder and the Pb 3 O 4 powder in the proportions shown by mass percentage in the table was prepared. Glass powder in sample powders 1 to 6 is glass powder A, and sample powder 7 to
The glass powder in 12 is glass powder B. Also,
The average particle size of both the PbO 2 powder and the Pb 3 O 4 powder is 0.1.
8 μm and the maximum particle size were all 5 μm. Sample powders 1 to 4, 7 to 10 are examples, and sample powders 5, 6, 11, 1
2 is a comparative example.

【0023】さらに、試料粉末1〜6については、それ
ぞれ80gと有機ビヒクル20gとを混練し、ガラスペ
ーストとした。有機ビヒクルとしては、α−テルピネオ
ールにエチルセルロースを質量百分率表示で10%溶解
したものを用いた。また、試料粉末7〜12について
は、それぞれ60gと有機ビヒクル40gとを混練し、
ガラスペーストとした。有機ビヒクルとしては、α−テ
ルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で2
0%溶解したものを用いた。
Further, with respect to the sample powders 1 to 6, 80 g and 20 g of the organic vehicle were kneaded to obtain glass paste. As the organic vehicle, a solution prepared by dissolving 10% by mass of ethyl cellulose in α-terpineol was used. For sample powders 7 to 12, 60 g and 40 g of organic vehicle were kneaded, respectively.
Glass paste was used. As the organic vehicle, ethyl cellulose was added to α-terpineol in terms of mass percentage.
A solution dissolved at 0% was used.

【0024】厚さ2.8mm、大きさ50mm×75m
mのソーダライムシリカガラス板の表面にITO透明電
極が形成されているガラス基板(α:87×10-7
℃)に、前記ガラスペーストをスクリーン印刷法等によ
り塗布した。ガラスペーストが塗布されたガラス基板を
120℃で10分間乾燥後、570℃で30分間焼成
し、ITO透明電極上に焼成体を形成した。
2.8 mm thick, 50 mm × 75 m
m glass substrate having an ITO transparent electrode formed on the surface of a soda lime silica glass plate (α: 87 × 10 −7 /
C), the glass paste was applied by a screen printing method or the like. The glass substrate on which the glass paste was applied was dried at 120 ° C. for 10 minutes, and then fired at 570 ° C. for 30 minutes to form a fired body on the ITO transparent electrode.

【0025】この焼成体を形成したガラス基板につい
て、以下に述べる方法により透過率(単位:%)および
濁度(単位:%)を測定した。結果を表に示す。 透過率:積分球型の自記分光光度計((株)日立製作所
製、商品名:U−3500)を用いて、波長550nm
における透過率を測定した。80%以上であることが好
ましい。 濁度:C光源を使用する積分球型のヘーズメータ(スガ
試験機(株)製)により、全光線透過率Ttおよび拡散
透過率Tdを測定し、(Td/Tt)×100を濁度とし
た。15%以下であることが好ましい。
The transmittance (unit:%) and turbidity (unit:%) of the glass substrate on which the fired body was formed were measured by the methods described below. The results are shown in the table. Transmittance: wavelength of 550 nm using an integrating sphere type self-recording spectrophotometer (trade name: U-3500, manufactured by Hitachi, Ltd.)
Was measured. It is preferably at least 80%. Turbidity: Total light transmittance Tt and diffuse transmittance Td were measured with an integrating sphere type haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) using a C light source, and ( Td / Tt ) × 100 was measured. Turbidity was taken. It is preferably at most 15%.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によれば、PDPやVFDの透明
電極を被覆する焼成体の透明性を高くでき、その結果P
DPやVFDの画質が向上する。
According to the present invention, it is possible to increase the transparency of a fired body covering a transparent electrode of PDP or VFD, and as a result, P
The image quality of DP and VFD is improved.

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Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】PbO2、Pb(NO32、PbSO4、C
uO、SnO2、Sb23、Sb2 5およびCeO2から
なる群から選ばれる1種以上の化合物粉末とガラス粉末
とを含有し、該化合物粉末の含有量が質量百分率表示で
3.7%以下であるガラスフリット。
(1) PbOTwo, Pb (NOThree)Two, PbSOFour, C
uO, SnOTwo, SbTwoOThree, SbTwoO FiveAnd CeOTwoFrom
At least one compound powder and glass powder selected from the group consisting of:
And the content of the compound powder is represented by mass percentage.
Glass frit of not more than 3.7%.
【請求項2】PbO2、Pb34、Pb(NO32、P
bSO4、CuO、SnO2、Sb2 3、Sb25および
CeO2からなる群から選ばれる1種以上の化合物粉末
とガラス粉末とを含有し、該化合物粉末の含有量が質量
百分率表示で3.7%以下である、電極被覆に用いられ
るガラスフリット。
2. PbOTwo, PbThreeOFour, Pb (NOThree)Two, P
bSOFour, CuO, SnOTwo, SbTwoO Three, SbTwoOFiveand
CeOTwoAt least one compound powder selected from the group consisting of
And glass powder, and the content of the compound powder is mass
3.7% or less in percent, used for electrode coating
Glass frit.
【請求項3】ガラス粉末の軟化点が450〜650℃で
ある請求項1または2に記載のガラスフリット。
3. The glass frit according to claim 1, wherein the softening point of the glass powder is 450 to 650 ° C.
【請求項4】ガラス粉末の50〜350℃における平均
線膨張係数が60×10-7〜100×10-7/℃の範囲
にある請求項1、2または3に記載のガラスフリット。
4. The glass frit according to claim 1, wherein the average thermal expansion coefficient of the glass powder at 50 to 350 ° C. is in the range of 60 × 10 −7 to 100 × 10 −7 / ° C.
【請求項5】ガラス粉末が、下記酸化物基準の質量百分
率表示で、 PbO 25〜85%、 B23 0〜60%、 SiO2 0〜40%、 Al23 0〜25%、 Bi23 0〜35%、 MgO+CaO+SrO+BaO 0〜40%、 ZnO 0〜55%、 Li2O+Na2O+K2O 0〜20%、 から実質的になる請求項1、2、3または4に記載のガ
ラスフリット。
5. A glass powder comprising: 25 to 85% of PbO, 0 to 60% of B 2 O 3, 0 to 40% of SiO 2, 0 to 25% of Al 2 O 3 , in terms of mass percentage based on the following oxides: 5. The method according to claim 1, which substantially consists of 0 to 35% of Bi 2 O 3 , 0 to 40% of MgO + CaO + SrO + BaO, 0 to 55% of ZnO, and 0 to 20% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O. Glass frit.
【請求項6】透明電極が形成されているガラス基板であ
って、請求項1〜5のいずれかに記載のガラスフリット
の焼成体によって該透明電極が被覆されているガラス基
板。
6. A glass substrate on which a transparent electrode is formed, wherein the transparent electrode is covered with the fired body of the glass frit according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8156763B2 (en) 2005-11-15 2012-04-17 Avanstrate, Inc. Method of producing glass
WO2020220393A1 (en) * 2019-04-29 2020-11-05 南通天盛新能源股份有限公司 Glass powder and silver aluminum paste comprising the same and used on front side of n-type double-sided solar cell

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