JP2001254197A - Method of manufacturing printed circuit board and electroplating device used in its electroplating stage - Google Patents
Method of manufacturing printed circuit board and electroplating device used in its electroplating stageInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、両面プリント配線
板や多層プリント配線板等のプリント配線板を製造する
プリント配線板の製造方法と、同方法の電解メッキ工程
に用いるキャリア搬送方式の電解メッキ装置に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a printed wiring board for manufacturing a printed wiring board such as a double-sided printed wiring board or a multilayer printed wiring board, and a carrier transport type electrolytic plating used in the electrolytic plating step of the method. It concerns the device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、プリント配線板の製造方法として
は、代表的には以下に説明するパターン法、パネル・パ
ターン法及びパネル・テンティング法の3つの方法が採
られている。 (1)パターン法は、 1A:両面板又は多層板に穴明けする工程 1B:無電解銅メッキ等により、両面板又は多層板の穴
明けした内壁及び表面に導電性を付与する工程 1C:両面板又は多層板にプリント配線パターンを形成
するためのレジストパターンを形成する工程 1D:このレジストパターンをマスクとして、電解銅メ
ッキ・半田メッキを行う工程 1E:レジストパターンを剥離する工程 1F:半田メッキをエッチングレジストとして、露出し
た銅をエッチング液を用いて除去する工程 からなる方法である。2. Description of the Related Art Conventionally, three methods, that is, a pattern method, a panel pattern method, and a panel tenting method, which will be described below, are typically used as a method of manufacturing a printed wiring board. (1) The pattern method is as follows: 1A: a step of drilling a double-sided board or a multilayer board 1B: a step of imparting conductivity to the drilled inner wall and surface of the double-sided board or the multilayer board by electroless copper plating or the like 1C: double-sided board Step of forming a resist pattern for forming a printed wiring pattern on a board or multilayer board 1D: Step of performing electrolytic copper plating / solder plating using this resist pattern as a mask 1E: Step of removing resist pattern 1F: Solder plating This is a method comprising a step of removing exposed copper as an etching resist using an etching solution.
【0003】(2)パネル・パターン法は、 2A:両面板又は多層板に穴明けする工程 2B:無電解銅メッキ等により、両面板又は多層板の穴
明けした内壁及び表面に導電性を付与する工程 2C:パネル銅メッキを行う工程 2D:両面板又は多層板にプリント配線パターンを形成
するためのレジストパターンを形成する工程 2E:このレジストパターンをマスクとして、電解銅メ
ッキ・半田メッキを行う工程 2F:レジストパターンを剥離する工程 2G:半田メッキをエッチングレジストとして、露出し
た銅をエッチング液を用いて除去する工程 からなる方法である。(2) The panel pattern method is as follows: 2A: a step of perforating a double-sided board or a multilayer board 2B: imparting conductivity to the perforated inner wall and surface of the double-sided board or the multilayer board by electroless copper plating or the like. Step 2C: Step of performing panel copper plating 2D: Step of forming a resist pattern for forming a printed wiring pattern on a double-sided board or multilayer board 2E: Step of performing electrolytic copper plating / solder plating using this resist pattern as a mask 2F: Step of stripping resist pattern 2G: Step of removing exposed copper using an etching solution using solder plating as an etching resist.
【0004】(3)パネル・テンティング法は、 3A:両面板又は多層板に穴明けする工程 3B:無電解銅メッキ等により、両面板又は多層板の穴
明けした内壁及び表面に導電性を付与する工程 3C:パネル銅メッキを行う工程 3D:両面板又は多層板にプリント配線パターンを形成
するためのレジストパターンを形成する工程 3E:このレジストパターンをエッチングレジストとし
て、露出した銅をエッチング液を用いて除去する工程 3F:レジストパターンを剥離する工程 からなる方法である。(3) The panel tenting method is as follows: 3A: a step of making a hole in a double-sided board or a multilayer board. 3B: A conductive property is applied to the holed inner wall and surface of the double-sided board or the multilayer board by electroless copper plating or the like. Step of applying 3C: Step of performing copper plating on panel 3D: Step of forming a resist pattern for forming a printed wiring pattern on a double-sided board or a multilayer board 3E: Using this resist pattern as an etching resist, removing exposed copper with an etching solution 3F: removing the resist pattern.
【0005】これらの方法のうち、(1)のパターン法
の場合、基材銅箔(18μm)上に形成されたプリント
配線パターンの上にのみ30μm程度の電解銅メッキを
形成するものであるため、不要となる部分、すなわちエ
ッチングにより除去する銅の厚さを薄く、また、エッチ
ング時のサイドエッチングの大きさを小さくできること
から、均一な配線パターンの場合には、微細なパターン
を形成できるという利点を有する。しかしながら、配線
パターンに疎密がある場合には、疎な部分に電流が集中
することになるため、パターン上のメッキ厚さのバラツ
キが大きくなり、それがパターン形成上問題を生ずると
共に、隣接のパターン間のショート発生やソルダーレジ
スト形成上の問題を生ずる等の不具合を有していた。[0005] Among these methods, in the case of the pattern method (1), electrolytic copper plating of about 30 µm is formed only on a printed wiring pattern formed on a base copper foil (18 µm). Since the thickness of the unnecessary portion, that is, the thickness of copper removed by etching can be reduced and the size of side etching at the time of etching can be reduced, a fine pattern can be formed in the case of a uniform wiring pattern. Having. However, when the wiring pattern is dense and dense, current concentrates on the sparse part, so that the variation in plating thickness on the pattern becomes large, which causes a problem in pattern formation, and also causes a problem in pattern formation. There was a problem that a short circuit occurred between them and a problem in forming a solder resist.
【0006】一方、(2)、(3)のパネル・パターン
法やパネル・テンティング法の場合には、一次銅として
20〜30μm程度のパネル銅メッキを行うため、疎密
パターンの場合のメッキ厚さのバラツキの問題を解決す
ることができるが、反面、不要となる部分の銅厚さが3
8〜48μm(基材銅箔18μm+パネル銅メッキ厚さ
20〜30μm)と厚くなり、このためエッチング時の
サイドエッチングの大きさも大きくなり、微細なパター
ンが形成し難くなる等の問題を有していた。また、メッ
キ工程に用いる装置の問題として、キャリア搬送方式の
電解メッキ装置の場合、整流器から出力された電流をキ
ャリアバー受け(=給電ブロック)を介してキャリアバ
ーの端部から給電するようにしているため、キャリアバ
ーの長さが長くなる程、長さ方向での電圧低下の影響を
大きく受け、キャリアバーの端部では電位が高く、中央
部では電位が低くなる。このため、同じキャリアにラッ
キングされたプリント配線板の間でメッキ厚さにバラツ
キが生じ、製品品質が不均一になる問題を有していた。On the other hand, in the case of the panel pattern method and the panel tenting method of (2) and (3), since the panel copper plating of about 20 to 30 μm is performed as the primary copper, the plating thickness in the case of the dense / dense pattern is obtained. Can solve the problem of variation in the thickness, but on the other hand, the copper thickness of the unnecessary portion is 3
The thickness is as large as 8 to 48 μm (base copper foil 18 μm + panel copper plating thickness 20 to 30 μm), and therefore, the size of side etching at the time of etching is also large, and there is a problem that it is difficult to form a fine pattern. Was. Also, as a problem of the apparatus used in the plating step, in the case of a carrier transport type electrolytic plating apparatus, the current output from the rectifier is supplied from the end of the carrier bar through the carrier bar receiver (= power supply block). Therefore, the longer the length of the carrier bar, the greater the effect of the voltage drop in the length direction. The potential is higher at the end of the carrier bar and lower at the center. For this reason, there has been a problem that the plating thickness varies between the printed wiring boards racked by the same carrier, and the product quality becomes non-uniform.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
に対処するためになされたものであり、その第一の課題
は、配線パターンに疎密がある場合の電解パターンメッ
キにおけるメッキ厚さのバラツキ、スローイングパワ
ー、光沢外観等の析出特性をパネルメッキによるものと
同等以上にできるプリント配線板の製造方法を提供する
ことにある。本発明のもう一つの課題は、疎密の大きな
パターンを有するプリント配線板をパターン法で製造す
ることを可能とし、微細なパターンを容易に形成できる
プリント配線板の製造方法を提供することにある。本発
明の更なる課題は、上記のプリント配線板の製造方法の
電解メッキ工程に用いるキャリア搬送方式の電解メッキ
装置であって、同一キャリアバーにラッキングされた複
数のプリント配線板のメッキ厚さのバラツキを解消でき
る電解メッキ装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to address the above-mentioned problems, and the first object of the present invention is to reduce the plating thickness in electrolytic pattern plating when the wiring patterns are sparse and dense. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a printed wiring board which can make deposition characteristics such as variation, throwing power, and gloss appearance equal to or more than those obtained by panel plating. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed wiring board that enables a printed wiring board having a large pattern of large and small densities to be manufactured by a pattern method and that can easily form a fine pattern. A further object of the present invention is a carrier transport type electrolytic plating apparatus used in the electrolytic plating step of the above-described method for manufacturing a printed wiring board, wherein the plating thickness of a plurality of printed wiring boards racked by the same carrier bar is reduced. An object of the present invention is to provide an electrolytic plating apparatus capable of eliminating variations.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ため、本発明に係るプリント配線板の製造方法は、表面
及びスルーホール内壁面に導電性を付与したプリント配
線板に、プリント配線パターンを形成するためのレジス
トパターンを形成する工程を経た後、キャリア搬送方式
の電解メッキ装置によりプリント配線パターン及びスル
ーホールに、正電流と負電流からなるパルス電流を用い
て電解メッキを析出させることを特徴とするもので、正
電流と負電流からなるパルス電流の電流値比率及び電流
時間比率を適切に設定することによって、パネルメッキ
によるものと同等以上の特性を有する電解メッキをプリ
ント配線パターン上にのみ析出させることができ、同一
キャリアバーにラッキングされた複数のプリント配線板
間のメッキ厚さのバラツキを抑え、疎密の大きなパター
ンを有するプリント配線板をパターン法で製造すること
を可能にできる。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention comprises a method of forming a printed wiring pattern on a printed wiring board having a surface and an inner wall surface provided with conductivity. After passing through the process of forming a resist pattern for forming, electrolytic plating is deposited on the printed wiring pattern and through holes using a pulse current consisting of a positive current and a negative current by a carrier transport type electrolytic plating device. By properly setting the current value ratio and the current time ratio of the pulse current composed of the positive current and the negative current, electrolytic plating having characteristics equal to or higher than that obtained by panel plating can be performed only on the printed wiring pattern. The plating thickness between multiple printed wiring boards that can be deposited and racked on the same carrier bar Suppressing the variability, it can allow for producing a printed wiring board by pattern method having a large pattern of density.
【0009】また、本発明に係るプリント配線板の製造
方法は、上記したプリント配線板の製造方法において、
前記の電解メッキ工程において、前記プリント配線板を
ラッキングするキャリアバーの長さ方向の電位を略均等
化し、前記キャリアバーにラッキングされた複数の前記
プリント配線板に略均等に通電して電解メッキを析出さ
せることを特徴とするもので、キャリアバーにラッキン
グされた複数のプリント配線板に略均等に通電して電解
メッキを析出させることができるため、プリント配線板
に対するメッキ厚さのバラツキをなくすることができ
る。Further, the method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention is the same as the above-described method of manufacturing a printed wiring board,
In the electrolytic plating step, a potential in a longitudinal direction of a carrier bar racking the printed wiring board is substantially equalized, and a plurality of the printed wiring boards racked by the carrier bar are energized substantially uniformly to perform electrolytic plating. It is characterized in that it is deposited.Electroplating can be deposited by energizing a plurality of printed wiring boards racked by a carrier bar substantially uniformly, thereby eliminating variations in plating thickness on the printed wiring board. be able to.
【0010】更に、本発明に係るプリント配線板の製造
方法は、上記したプリント配線板の製造方法において、
前記の電解メッキ工程において、前記パルス電流におけ
る負電流値の正電流値に対する比率を2.O以下、正電
流時間と逆電流時間の比率を20〜30:1とし、光沢
外観を有する電解メッキを析出させることを特徴とする
もので、パルス電流における正電流と負電流の電流値の
比率及び電流時間の比率をそれぞれ2.O以下及び20
〜30:1とすることにより、均一電着性、スローイン
グパワーの低下を抑え、メッキ表面をパネルメッキによ
るものと同等の光沢状態とすることができる。Further, according to the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed wiring board, comprising the steps of:
In the electrolytic plating step, the ratio of the negative current value to the positive current value in the pulse current is set to 2. O or less, wherein the ratio of the positive current time to the reverse current time is set to 20 to 30: 1, and electrolytic plating having a glossy appearance is deposited, and the ratio of the positive current to the negative current in the pulse current is And the ratio of the current time to 2. Below O and 20
By setting the ratio to 3030: 1, a uniform electrodeposition property and a decrease in throwing power can be suppressed, and the plating surface can be brought into a gloss state equivalent to that obtained by panel plating.
【0011】更にまた、本発明に係るプリント配線板の
製造方法は、上記したプリント配線板の製造方法におい
て、前記の電解メッキ工程において、前記パルス電流を
用いて電解メッキを施した後、連続して直流電流による
メッキを上乗せすることを特徴とするもので、パルス電
流を用いた電解メッキ後、連続して直流電流によるメッ
キを薄く上乗せすることにより、メッキ表面をパネルメ
ッキによるものと同等の光沢状態とすることができる。Further, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, in the above-described method for manufacturing a printed wiring board, in the electrolytic plating step, after the electrolytic plating is performed by using the pulse current, the method is continuously performed. It is characterized by adding plating by DC current, and after electroplating using pulsed current, the plating surface with DC current is thinly added continuously, so that the plating surface is as bright as that by panel plating. State.
【0012】一方、本発明に係る電解メッキ装置は、上
記したプリント配線板の製造方法の電解メッキ工程に用
いるキャリア搬送方式の電解メッキ装置であって、キャ
リアバーにラッキングされたプリント配線板に、正電流
と負電流からなるパルス電流を給電するパルス電流給電
手段を備えたことを特徴とするもので、これによってレ
ジストパターンを形成し、キャリアバーにラッキングさ
れたプリント配線板のプリント配線パターン及びスルー
ホールに、正電流と負電流からなるパルス電流を給電し
て電解メッキを析出させることができる。On the other hand, an electrolytic plating apparatus according to the present invention is an electrolytic plating apparatus of a carrier transport type used in the electrolytic plating step of the above-described method for manufacturing a printed wiring board, wherein a printed wiring board racked by a carrier bar is provided. A pulse current supply means for supplying a pulse current composed of a positive current and a negative current, wherein a resist pattern is formed, and a printed wiring pattern and a through-hole of a printed wiring board racked by a carrier bar are provided. Electrolytic plating can be deposited by supplying a pulse current consisting of a positive current and a negative current to the hole.
【0013】また、本発明に係る電解メッキ装置は、上
記した電解メッキ装置であって、前記パルス電流給電手
段として、整流器から出力されたパルス電流をキャリア
バーにラッキングされたプリント配線板に給電するため
に、前記整流器とキャリアバー及び陽極ブスバー間に接
続する陽極ケーブル及び陰極ケーブルをツイスト配線構
造とすると共に、前記陽極ケーブル及び陰極ケーブルの
長さを同じ長さとしたことを特徴とするもので、かかる
構成によって整流器から出力されたパルス電流をなまら
せる(平滑化する)ことなく、キャリアバーにラッキン
グされた複数のプリント配線板に対して均等に通電しな
がら、電解メッキを行うことができる。[0013] The electroplating apparatus according to the present invention is the electroplating apparatus as described above, wherein the pulse current feeding means feeds a pulse current output from a rectifier to a printed wiring board racked by a carrier bar. Therefore, the anode cable and the cathode cable connected between the rectifier and the carrier bar and the anode bus bar have a twisted wiring structure, and the anode cable and the cathode cable have the same length, With such a configuration, it is possible to perform electrolytic plating while uniformly supplying current to a plurality of printed wiring boards racked by a carrier bar without smoothing (smoothing) the pulse current output from the rectifier.
【0014】更に、本発明に係る電解メッキ装置は、上
記した電解メッキ装置であって、前記パルス電流給電手
段として、整流器から出力されたパルス電流をキャリア
バーにラッキングされたプリント配線板に給電するため
に、前記キャリアバーを長さ方向に等分した複数位置に
給電ブロックを設けて給電するように構成したことを特
徴とするもので、かかる構成によってキャリアバーの長
さ方向全体にわたっての電位を略均等にし、ラッキング
された複数のプリント配線板の位置にかかわりなく、プ
リント配線板に均一な波形のパルス電流を給電しなが
ら、電解メッキを行うことができる。Further, the electrolytic plating apparatus according to the present invention is the electrolytic plating apparatus described above, wherein the pulse current supply means supplies the pulse current output from the rectifier to the printed wiring board racked by the carrier bar. Therefore, a power supply block is provided at a plurality of positions where the carrier bar is equally divided in the length direction to supply power. With this configuration, the potential over the entire length direction of the carrier bar is reduced. Electroplating can be performed while supplying a substantially uniform pulse current to the printed wiring board irrespective of the positions of the plurality of racked printed wiring boards.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図1乃
至図6に基づいて説明する。図1は本発明の第1実施形
態に用いるキャリア搬送方式の電解メッキ装置の構成を
示す縦断面図、図2はその配線構造を示す平面図、図3
は同電解メッキ装置のキャリアバーに対するパルス電流
の給電位置を示す図(A)とその長さ方向におけるパル
ス電流波形を示す図(B)及びパルス電流の電流値と電
流時間の比率を示す図(C)、図4は本発明の第2実施
形態に用いるキャリア搬送方式の電解メッキ装置の構成
を示す縦断面図、図5はその配線構造を示す平面図、図
6は同電解メッキ装置のキャリアバーに対するパルス電
流の給電位置を示す図(A)とその長さ方向におけるパ
ルス電流波形を示す図(B)及びパルス電流の電流値と
電流時間の比率を示す図(C)である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing the structure of a carrier transport type electroplating apparatus used in the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view showing its wiring structure, and FIG.
(A) shows a pulse current feeding position to the carrier bar of the electrolytic plating apparatus, (B) shows a pulse current waveform in the length direction thereof, and (B) shows a ratio of a current value of the pulse current to a current time ( C), FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing the structure of a carrier transport type electrolytic plating apparatus used in the second embodiment of the present invention, FIG. 5 is a plan view showing the wiring structure thereof, and FIG. 6 is a carrier of the electrolytic plating apparatus. FIG. 3A is a diagram showing a pulse current supply position to a bar, FIG. 3B is a diagram showing a pulse current waveform in the length direction thereof, and FIG. 3C is a diagram showing a ratio of a current value of the pulse current to a current time.
【0016】本発明は、疎密の大きなパターンを有する
プリント配線板をパターン法で製造することを可能と
し、微細なパターンを容易に形成できるようにしようと
するものであり、両面板又は多層板に穴明けした後、無
電解銅メッキ等により、穴明けした内壁及び表面に導電
性を付与したプリント配線板に、プリント配線パターン
を形成するためのレジストパターンを形成する工程を経
た後、キャリア搬送方式の電解メッキ装置を用いて電解
メッキする工程において、プリント配線板の配線パター
ン及びスルーホールに、正電流と負電流からなるパルス
電流を用いて電解メッキを析出させるようにしたもので
ある。このパルス電流による電解メッキ効果を最大限に
発揮させるためには、電解メッキ工程で整流器から出力
されたパルス電流波形をなまらせる(平滑化する)こと
なく、キャリアバーにラッキングされた複数のプリント
配線板に均等に通電することが重要である。An object of the present invention is to make it possible to manufacture a printed wiring board having a large pattern with high and low density by a pattern method and to easily form a fine pattern. After drilling, through a process of forming a resist pattern for forming a printed wiring pattern on a printed wiring board with conductivity imparted to the drilled inner wall and surface by electroless copper plating etc., the carrier transport method In the step of electrolytic plating using the electrolytic plating apparatus described above, the electrolytic plating is deposited on the wiring patterns and through holes of the printed wiring board using a pulse current composed of a positive current and a negative current. In order to maximize the effect of the electrolytic plating by the pulse current, a plurality of printed wirings racked by a carrier bar are used without smoothing (smoothing) the pulse current waveform output from the rectifier in the electrolytic plating process. It is important that the plate be evenly energized.
【0017】そのため、キャリア搬送方式の電解メッキ
装置においては、整流器からキャリアバー及び陽極ブス
バーへの配線構造と、キャリアバーに対してその長さ方
向にラッキングされた複数のプリント配線板に均一な波
形の電流を給電するための構成が必要となる。図1、2
はその電解メッキ装置の構成を示すもので、図中におい
て、1はメッキ液2が満たされたメッキ槽であり、プリ
ント配線板3がキャリアバー4にクリップ5を介してラ
ッキングされた状態で浸漬されるようになっている。キ
ャリアバー4は給電ブロック6を介してキャリアバー受
け7により支持されており、給電ブロック6とキャリア
バー受け7との接触によりキャリアバー4に通電される
ようになっている。また、キャリアバー4と平行にその
両側に陽極ブスバー8が設けられている。For this reason, in a carrier transport type electroplating apparatus, a wiring structure from a rectifier to a carrier bar and an anode bus bar and a uniform waveform on a plurality of printed wiring boards racked in the length direction with respect to the carrier bar. A configuration for supplying the current is required. Figures 1 and 2
In the drawing, reference numeral 1 denotes a plating tank filled with a plating solution 2, which is immersed in a state in which the printed wiring board 3 is racked through a clip 5 on a carrier bar 4. It is supposed to be. The carrier bar 4 is supported by a carrier bar receiver 7 via a power supply block 6, and the carrier bar 4 is energized by contact between the power supply block 6 and the carrier bar receiver 7. An anode bus bar 8 is provided on both sides of the carrier bar 4 in parallel.
【0018】このキャリアバー4と陽極ブスバー8に、
整流器9から出力された正電流と負電流からなるパルス
電流を給電するための陰極ケーブル10と陽極ケーブル
11が、キャリアバー受け7を介して配線接続されてい
る。陰極ケーブル10と陽極ケーブル11は、整流器9
から出力されたパルス電流波形のリアクタンスによるな
まり(平滑化)を防止して、キャリアバー4にラッキン
グされた複数のプリント配線板3に均等に通電するた
め、図2のS部に示すようにツイスト配線構造とされ、
キャリアバー4及び陽極ブスバー8の両端に均等な長さ
で接続されている。The carrier bar 4 and the anode bus bar 8
A cathode cable 10 and an anode cable 11 for supplying a pulse current composed of a positive current and a negative current output from the rectifier 9 are wired and connected via a carrier bar receiver 7. The cathode cable 10 and the anode cable 11 are connected to the rectifier 9
In order to prevent rounding (smoothing) due to reactance of the pulse current waveform output from the circuit board and to evenly energize the plurality of printed wiring boards 3 racked by the carrier bar 4, twist as shown in S part of FIG. Wiring structure
Both ends of the carrier bar 4 and the anode bus bar 8 are connected with an equal length.
【0019】かかる実施形態によると、表面及びスルー
ホール内壁面に導電性を付与したプリント配線板3に、
プリント配線パターンを形成するためのレジストパター
ンを形成する工程を経た後、キャリア搬送方式の電解メ
ッキ装置を用いて電解メッキする工程において、プリン
ト配線板3の配線パターン及びスルーホールに、図3
(A)に示すようにキャリアバー4及び陽極ブスバー8
の両端から給電し、図3(B)に示すような出力波形の
正電流と負電流からなるパルス電流を図3(C)に示す
ように電流値比率及び電流時間比率を適切に設定して通
電することによって、パネルメッキと同等以上の特性を
もつ電解メッキをプリント配線パターン上にのみ析出さ
せることができる。According to this embodiment, the printed wiring board 3 having conductivity provided on the surface and the inner wall surface of the through hole is provided with:
After a step of forming a resist pattern for forming a printed wiring pattern, in a step of electroplating using a carrier transport type electroplating apparatus, a wiring pattern and a through hole of the printed wiring board 3 are added to FIG.
As shown in (A), the carrier bar 4 and the anode bus bar 8
And a pulse current composed of a positive current and a negative current having an output waveform as shown in FIG. 3 (B) and a current value ratio and a current time ratio appropriately set as shown in FIG. 3 (C). By energizing, it is possible to deposit electrolytic plating having characteristics equal to or higher than that of panel plating only on the printed wiring pattern.
【0020】そして、パルス電流を用いて電解メッキを
析出させると共に、キャリアバー4の長さ方向にラッキ
ングされた複数のプリント配線板3に対し均等に通電す
ることによって、同一キャリアバー4内のプリント配線
板3間のメッキ厚さのバラツキを抑えて均一にメッキす
ることができるため、疎密の大きなパターンを有するプ
リント配線板3をパターン法で製造することを可能と
し、微細なパターンの形成を容易にすることができる。Then, the electrolytic plating is deposited using a pulse current, and the plurality of printed wiring boards 3 racked in the longitudinal direction of the carrier bar 4 are evenly energized, so that the printing within the same carrier bar 4 is performed. Since it is possible to suppress the variation in plating thickness between the wiring boards 3 and to perform uniform plating, it is possible to manufacture the printed wiring board 3 having a large density pattern by a pattern method, and it is easy to form a fine pattern. Can be
【0021】なお、正電流と負電流からなるパルス電流
を用いて電解メッキを行う場合、負電流によるメッキ剥
離作用があるため、負電流値の正電流値に対する比率が
大きく、負電流時間が長い程、メッキ表面に微細な凹凸
が生じ、析出するメッキは無光沢状態になる。そこで、
反射方式の光学検査機での検査を容易にすること、もし
くは外観上の問題から光沢外観を得ることを目的とし
て、析出する電解メッキ表面をパネルメッキによるもの
と同等の光沢状態とするために、以下の2つの方法をと
ることができる。When electrolytic plating is performed using a pulse current composed of a positive current and a negative current, the negative current has a plating peeling action, so that the ratio of the negative current value to the positive current value is large and the negative current time is long. Thus, fine irregularities occur on the plating surface, and the deposited plating becomes dull. Therefore,
For the purpose of facilitating inspection with a reflection type optical inspection machine, or to obtain a glossy appearance due to appearance problems, in order to make the electrolytic plating surface to be deposited the same glossy state as that by panel plating, The following two methods can be used.
【0022】(1)図3(C)に示した負電流値の正電
流値に対する比率を2.0以下、正電流時間と逆電流時
間の比率を20〜30:1とする。但し、負電流値の比
率を小さくする程、又、正電流時間と逆電流時間の比率
を大きくする程、均一電着性、スローイングパワーが低
下するため、負電流値の正電流値に対する比率は2.
0、正電流時間と逆電流時間の比率は20:1が好まし
い。 (2)スローイングパワー100%以上、パターンの疎
密にかかわらず回路厚さが一定となる特性を確保しつつ
光沢外観を得るため、電解メッキ工程で負電流値の正電
流値に対する比率が2.5〜3.5のパルス電流を用い
て電解メッキした後、連続して直流電流によるメッキを
薄く上乗せする。(1) The ratio of the negative current value to the positive current value shown in FIG. 3C is 2.0 or less, and the ratio of the positive current time to the reverse current time is 20 to 30: 1. However, as the ratio of the negative current value decreases and the ratio of the positive current time to the reverse current time increases, the uniform electrodeposition and the throwing power decrease. 2.
0, the ratio of the positive current time to the reverse current time is preferably 20: 1. (2) The ratio of the negative current value to the positive current value in the electrolytic plating process is 2.5 in order to obtain a glossy appearance while ensuring characteristics that the circuit thickness is constant irrespective of the density of the pattern, with a throwing power of 100% or more. After electroplating using a pulse current of ~ 3.5, plating by direct current is added thinly continuously.
【0023】しかして、上記の実施形態によると、パネ
ルメッキによるものと同等以上の特性、すなわちメッキ
厚さのバラツキ、スローイングパワー、光沢外観を有す
る電解メッキをプリント配線パターン上にのみ析出させ
ることができるため、エッチングによる微細パターンの
形成が容易となり、プリント配線板間のメッキ厚さのバ
ラツキも少なくでき、パターン法の利点を生かしつつ、
その不具合点を解消し、安定した品質の製品を製造でき
るようになる。Thus, according to the above-described embodiment, it is possible to deposit electrolytic plating having characteristics equal to or higher than those obtained by panel plating, that is, variations in plating thickness, throwing power, and glossy appearance only on a printed wiring pattern. Since it is possible to form a fine pattern by etching, it is possible to reduce the variation in plating thickness between printed wiring boards, while taking advantage of the pattern method,
The problem can be solved and a product of stable quality can be manufactured.
【0024】なお、キャリアバー4にラッキングされた
複数のプリント配線板3への給電方法は、キャリアバー
4及び陽極ブスバー8の端部から給電した場合、電圧降
下の影響を受け、図3(A)に示すようにキャリアバー
4及び陽極ブスバー8の端部では電位が高く、中央部で
は電位が低くなるため、整流器9から出力された電流波
形に比べ、キャリアバー4の端部にラッキングされたプ
リント配線板3に伝わる電流波形は、図3(B)に示す
ように正電流及び逆電流が大きくなる方向に波形が乱
れ、キャリアバー4の中央部に行く程正電流及び逆電流
が弱まる方向に波形が乱れてしまうことになる。The method of supplying power to the plurality of printed wiring boards 3 racked by the carrier bar 4 is affected by the voltage drop when power is supplied from the ends of the carrier bar 4 and the anode bus bar 8, and FIG. ), The potential is high at the ends of the carrier bar 4 and the anode bus bar 8, and the potential is low at the center. Therefore, compared to the current waveform output from the rectifier 9, the carrier is racked at the end of the carrier bar 4. As shown in FIG. 3B, the waveform of the current transmitted to the printed wiring board 3 is distorted in a direction in which the positive current and the reverse current increase, and the positive current and the reverse current weaken toward the center of the carrier bar 4. The waveform will be disturbed.
【0025】そこで、キャリアバー4及び陽極ブスバー
8の端部に整流器9からのパルス電流を直接通電せず、
図4に示す第2実施形態のようにキャリアバー4を長さ
方向に等分した複数位置に銅及びチタン等の給電ブロッ
ク12を設けて給電することによって、図6(A)に示
すようにキャリアバー4の長さ方向の電位を全長にわた
って略均等にすることができるため、キャリアバー4に
ラッキングされた複数のプリント配線板3のラッキング
位置に関係なく、図6(B)に示すようにプリント配線
板3に給電されるパルス電流波形を均一にすることがで
きる。この場合、図4に示すようにキャリアバー4の端
部からの通電をカットするため、給電ブロック6とキャ
リアバー4端部との間に絶縁材13を介在させてキャリ
アバー4を設けている。Therefore, the pulse current from the rectifier 9 is not directly applied to the ends of the carrier bar 4 and the anode bus bar 8,
As shown in FIG. 6A, power is supplied by providing a power supply block 12 made of copper, titanium, or the like at a plurality of positions where the carrier bar 4 is equally divided in the length direction as in the second embodiment shown in FIG. Since the potential in the length direction of the carrier bar 4 can be made substantially uniform over the entire length, regardless of the racking positions of the plurality of printed wiring boards 3 racked by the carrier bar 4, as shown in FIG. The pulse current waveform supplied to the printed wiring board 3 can be made uniform. In this case, as shown in FIG. 4, the carrier bar 4 is provided with an insulating material 13 interposed between the power supply block 6 and the end of the carrier bar 4 in order to cut off the current supply from the end of the carrier bar 4. .
【0026】かかる第2実施形態によっても、前記した
同様にパルス電流による効果を最大限に発揮させること
ができ、電解メッキ工程において整流器9から出力され
たパルス電流波形をなまらせる(平滑化する)ことなく
均一にし、キャリアバー4にラッキングされた複数のプ
リント配線板3に均等に通電して、メッキ厚さのバラツ
キを抑えた電解メッキをすることができる。なお、給電
ブロック12をキャリアバー4を長さ方向に等分した複
数位置に設けて給電しているが、この給電ブロック12
は2以上であればよく、多いほうが長さ方向の電位をよ
り均等化することができる。According to the second embodiment as well, the effect of the pulse current can be maximized as described above, and the pulse current waveform output from the rectifier 9 in the electrolytic plating step is smoothed (smoothed). It is possible to carry out electrolytic plating with a uniform plating without causing variations in plating thickness by uniformly supplying power to the plurality of printed wiring boards 3 racked by the carrier bar 4. The power supply block 12 is provided at a plurality of positions where the carrier bar 4 is equally divided in the length direction to supply power.
Should be 2 or more, and the larger the value, the more uniform the potential in the length direction.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上に詳細に説明したように、本発明に
係るプリント配線板の製造方法とその電解メッキ工程に
用いる電解メッキ装置によると、正電流と負電流からな
るパルス電流を用いて、パネルメッキと同等以上の特性
をもつ電解メッキをプリント配線パターン上にのみ析出
させることができる。従って、エッチングによる微細パ
ターンの形成が容易となり、パターン法の利点を生かし
つつその不具合点を解消し、プリント配線板間のメッキ
厚さのバラツキを少なくして製品品質の安定化を図るこ
とができるようになる。As described above in detail, according to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention and the electrolytic plating apparatus used in the electrolytic plating step, a pulse current consisting of a positive current and a negative current is used. Electrolytic plating having characteristics equal to or higher than panel plating can be deposited only on a printed wiring pattern. Therefore, it is easy to form a fine pattern by etching, to eliminate the disadvantages while taking advantage of the patterning method, to reduce the variation in plating thickness between printed wiring boards, and to stabilize product quality. Become like
【図1】本発明の第1実施形態に用いるキャリア搬送方
式の電解メッキ装置の構成を示す縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of a carrier transport type electrolytic plating apparatus used in a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施形態に係る電解メッキ装置の
配線構造を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a wiring structure of the electroplating apparatus according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施形態に係る電解メッキ装置におけ
るキャリアバーに対するパルス電流の給電位置を示す図
(A)とその長さ方向におけるパルス電流波形を示す図
(B)及びパルス電流の電流値と電流時間の比率を示す
図(C)である。FIG. 3A is a diagram showing a pulse current supply position to a carrier bar in an electrolytic plating apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3B is a diagram showing a pulse current waveform in a length direction thereof, and FIG. FIG. 9C is a diagram showing a ratio between the current and the current time.
【図4】本発明の第2実施形態に用いるキャリア搬送方
式の電解メッキ装置の構成を示す縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view illustrating a configuration of a carrier transport type electroplating apparatus used in a second embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第2実施形態に係る電解メッキ装置の
配線構造を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a wiring structure of an electrolytic plating apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図6】本発明の実施形態に係る電解メッキ装置におけ
るキャリアバーに対するパルス電流の給電位置を示す図
(A)とその長さ方向におけるパルス電流波形を示す図
(B)及びパルス電流の電流値と電流時間の比率を示す
図(C)である。FIG. 6A is a diagram showing a pulse current supply position to a carrier bar in the electrolytic plating apparatus according to the embodiment of the present invention, FIG. 6B is a diagram showing a pulse current waveform in the length direction thereof, and FIG. FIG. 9C is a diagram showing a ratio between the current and the current time.
【符号の説明】 1…メッキ槽、3…プリント配線板、4…キャリアバ
ー、6,12…給電ブロック、7…キャリアバー受け、
8…陽極ブスバー、9…整流器、10…陰極ケーブル、
11…陽極ケーブル[Description of Signs] 1 ... Plating tank, 3 ... Printed wiring board, 4 ... Carrier bar, 6, 12 ... Power supply block, 7 ... Carrier bar receiver,
8 ... Anode busbar, 9 ... Rectifier, 10 ... Cathode cable,
11… Anode cable
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/42 620 H05K 3/42 620B Fターム(参考) 4K024 AB01 AB08 BB11 BC01 CA08 CB04 CB05 EA07 FA07 FA08 GA02 GA16 5E317 AA24 BB01 BB11 CC32 CC33 CC42 CC44 CD15 GG01 5E343 AA07 BB24 DD46 FF16 FF18 GG06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/42 620 H05K 3/42 620B F term (Reference) 4K024 AB01 AB08 BB11 BC01 CA08 CB04 CB05 EA07 FA07 FA08 GA02 GA16 5E317 AA24 BB01 BB11 CC32 CC33 CC42 CC44 CD15 GG01 5E343 AA07 BB24 DD46 FF16 FF18 GG06
Claims (7)
付与したプリント配線板に、プリント配線パターンを形
成するためのレジストパターンを形成する工程を経た
後、 キャリア搬送方式の電解メッキ装置によりプリント配線
パターン及びスルーホールに、正電流と負電流からなる
パルス電流を用いて電解メッキを析出させることを特徴
とするプリント配線板の製造方法。1. A process for forming a resist pattern for forming a printed wiring pattern on a printed wiring board having conductivity imparted to the surface and the inner wall surface of a through hole, and then performing a printed wiring by a carrier transport type electrolytic plating apparatus. A method for manufacturing a printed wiring board, wherein electrolytic plating is deposited on a pattern and a through hole using a pulse current composed of a positive current and a negative current.
リント配線板をラッキングするキャリアバーの長さ方向
の電位を略均等化し、 前記キャリアバーにラッキングされた複数の前記プリン
ト配線板に略均等に通電して電解メッキを析出させるこ
とを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造
方法。2. In the electroplating step, a potential in a longitudinal direction of a carrier bar racking the printed wiring board is substantially equalized, and a plurality of printed wiring boards racked by the carrier bar are substantially uniformly energized. The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein electrolytic plating is performed by depositing.
ルス電流における負電流値の正電流値に対する比率を
2.O以下、正電流時間と逆電流時間の比率を20〜3
0:1とし、 光沢外観を有する電解メッキを析出させることを特徴と
する請求項1又は2に記載のプリント配線板の製造方
法。3. In the electroplating step, a ratio of a negative current value to a positive current value in the pulse current is set to 2. O or less, the ratio of the positive current time to the reverse current time is 20 to 3
The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein electrolytic plating having a glossy appearance is deposited at a ratio of 0: 1.
ルス電流を用いて電解メッキを施した後、 連続して直流電流によるメッキを上乗せすることを特徴
とする請求項1又は2に記載のプリント配線板の製造方
法。4. The printed wiring according to claim 1, wherein, in the electroplating step, after electroplating is performed using the pulse current, plating by direct current is continuously added. Plate manufacturing method.
ント配線板の製造方法の電解メッキ工程に用いるキャリ
ア搬送方式の電解メッキ装置であって、 キャリアバーにラッキングされたプリント配線板に、正
電流と負電流からなるパルス電流を給電するパルス電流
給電手段を備えたことを特徴とする電解メッキ装置。5. A carrier transport type electroplating apparatus used in an electroplating step of the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board racked by a carrier bar comprises: An electrolytic plating apparatus comprising: a pulse current supply unit that supplies a pulse current including a positive current and a negative current.
から出力されたパルス電流をキャリアバーにラッキング
されたプリント配線板に給電するために、前記整流器と
キャリアバー及び陽極ブスバー間に接続する陽極ケーブ
ル及び陰極ケーブルをツイスト配線構造とすると共に、 前記陽極ケーブル及び陰極ケーブルの長さを同じ長さと
したことを特徴とする請求項5に記載の電解メッキ装
置。6. An anode cable connected between the rectifier and the carrier bar and the anode busbar to supply the pulse current output from the rectifier to the printed wiring board racked by the carrier bar, as the pulse current supply means. The electrolytic plating apparatus according to claim 5, wherein the cathode cable has a twisted wiring structure, and the anode cable and the cathode cable have the same length.
から出力されたパルス電流をキャリアバーにラッキング
されたプリント配線板に給電するために、前記キャリア
バーを長さ方向に等分した複数位置に給電ブロックを設
けて給電するように構成したことを特徴とする請求項5
に記載の電解メッキ装置。7. A power supply means for supplying a pulse current output from a rectifier to a plurality of positions equally divided in a length direction of the carrier bar in order to supply a pulse current output from a rectifier to a printed wiring board racked by the carrier bar. 6. A power supply system comprising a block.
An electroplating apparatus according to item 1.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000069636A JP4339980B2 (en) | 2000-03-14 | 2000-03-14 | Electrolytic plating equipment |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003033775A1 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Method of copper-plating small-diameter holes |
JP2004198744A (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Ricoh Co Ltd | Electrostatic carrying device, developing device, process cartridge and image forming apparatus |
KR100877605B1 (en) | 2007-07-20 | 2009-01-07 | 주식회사 익스톨 | The electroplating device for printed circuit board |
CN103590079A (en) * | 2012-08-14 | 2014-02-19 | 亚洲电镀器材有限公司 | Electroplating method |
CN110366320A (en) * | 2019-08-19 | 2019-10-22 | 江苏上达电子有限公司 | Improve the copper plating device and its method of flexible circuitry slab warping |
-
2000
- 2000-03-14 JP JP2000069636A patent/JP4339980B2/en not_active Expired - Lifetime
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CN110366320A (en) * | 2019-08-19 | 2019-10-22 | 江苏上达电子有限公司 | Improve the copper plating device and its method of flexible circuitry slab warping |
CN110366320B (en) * | 2019-08-19 | 2022-03-25 | 江苏上达电子有限公司 | Copper plating device and method for improving warping of flexible circuit board |
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