JP2001245877A - X線診断装置 - Google Patents
X線診断装置Info
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- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 47
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 X線診断装置において、平板状検出部の個々
の半導体素子による欠陥画素の出力信号をより正しく補
正する。 【解決手段】 被検体の透過X線を複数の半導体素子を
利用して検出し電気信号に変換する平板状検出部と、該
変換された検出信号を読み出す信号読出部と、該読み出
された画像信号を入力し上記平板状検出部の個々の半導
体素子による欠陥画素の出力信号を補正するディフェク
ト処理部4と、該補正された画像信号を表示する画像表
示部とを有するX線診断装置において、上記ディフェク
ト処理部4は、上記平板状検出部の欠陥画素の出力信号
をその隣接画素の入出力特性のバラツキを検出して補正
する手段(12,13)を備えたものである。これによ
り、表示画像のディフェクト補正において、補正に使用
する各画素の入出力特性のバラツキに影響されることな
く、安定した補正処理を行うことができる。
の半導体素子による欠陥画素の出力信号をより正しく補
正する。 【解決手段】 被検体の透過X線を複数の半導体素子を
利用して検出し電気信号に変換する平板状検出部と、該
変換された検出信号を読み出す信号読出部と、該読み出
された画像信号を入力し上記平板状検出部の個々の半導
体素子による欠陥画素の出力信号を補正するディフェク
ト処理部4と、該補正された画像信号を表示する画像表
示部とを有するX線診断装置において、上記ディフェク
ト処理部4は、上記平板状検出部の欠陥画素の出力信号
をその隣接画素の入出力特性のバラツキを検出して補正
する手段(12,13)を備えたものである。これによ
り、表示画像のディフェクト補正において、補正に使用
する各画素の入出力特性のバラツキに影響されることな
く、安定した補正処理を行うことができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被検体にX線を照
射しその透過X線を半導体素子を利用した平板状検出部
で検出し画像化して診断に供するX線診断装置に関し、
特に、上記平板状検出部の個々の半導体素子による欠陥
画素の出力信号をより正しく補正するX線診断装置に関
する。
射しその透過X線を半導体素子を利用した平板状検出部
で検出し画像化して診断に供するX線診断装置に関し、
特に、上記平板状検出部の個々の半導体素子による欠陥
画素の出力信号をより正しく補正するX線診断装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種のX線診断装置は、被検体
の透過X線を複数の半導体素子を利用して検出し電気信
号に変換する平板状検出部と、該変換された検出信号を
読み出す信号読出部と、該読み出された画像信号を入力
し上記平板状検出部の個々の半導体素子による欠陥画素
の出力信号を補正するディフェクト処理部と、該補正さ
れた画像信号を表示する画像表示部とを有して成ってい
た。
の透過X線を複数の半導体素子を利用して検出し電気信
号に変換する平板状検出部と、該変換された検出信号を
読み出す信号読出部と、該読み出された画像信号を入力
し上記平板状検出部の個々の半導体素子による欠陥画素
の出力信号を補正するディフェクト処理部と、該補正さ
れた画像信号を表示する画像表示部とを有して成ってい
た。
【0003】上記平板状検出部は、例えば10cm×30
cmの大きさの平面に、フォトダイオード等の半導体素子
を例えば2000×3000=600万画素となるように2次元に
配列して成り、一般に平面X線センサと呼ばれているも
のである。そして、この平板状検出部は、その受光側の
面にX線が照射されて蛍光面で光が発生し、その後方に
配置された半導体素子が上記蛍光面の光を検出し、電気
信号に変換して検出信号を出力していた。
cmの大きさの平面に、フォトダイオード等の半導体素子
を例えば2000×3000=600万画素となるように2次元に
配列して成り、一般に平面X線センサと呼ばれているも
のである。そして、この平板状検出部は、その受光側の
面にX線が照射されて蛍光面で光が発生し、その後方に
配置された半導体素子が上記蛍光面の光を検出し、電気
信号に変換して検出信号を出力していた。
【0004】ここで、上記の平板状検出部は半導体素子
を例えば600万画素ぐらい2次元に配列して成るので、
該平板状検出部の製造において、その中には適正な出力
が出ない、或いは感度が低いなどの欠陥画素が存在する
ことがある。この場合は、その欠陥画素が存在する部分
は適正な画像出力が得られず、いわゆるディフェクト
(画像の欠損)が発生するものであった。
を例えば600万画素ぐらい2次元に配列して成るので、
該平板状検出部の製造において、その中には適正な出力
が出ない、或いは感度が低いなどの欠陥画素が存在する
ことがある。この場合は、その欠陥画素が存在する部分
は適正な画像出力が得られず、いわゆるディフェクト
(画像の欠損)が発生するものであった。
【0005】これに対し、上記平板状検出部の欠陥画素
に由来するディフェクトを補正するために、図4に示す
処理を行っていた。図4は、ディフェクト画素Pdを中
心として、3×3画素のカーネルKを設定して処理する
例を示している。すなわち、図4(a)は、ディフェク
ト画素Pdを中心としてこれに隣接する8画素の中から
複数の画素を選択して補正処理を行うことを示してい
る。図4(b)はディフェクト画素Pdの上下左右の4
画素から補正を行う場合を示し、図4(c)はディフェ
クト画素Pdの斜め方向の4画素から補正を行う場合を
示し、図4(d)はディフェクト補正を図4(c)に示
す処理を行う場合の各画素に対する重み付けの状態を示
している。
に由来するディフェクトを補正するために、図4に示す
処理を行っていた。図4は、ディフェクト画素Pdを中
心として、3×3画素のカーネルKを設定して処理する
例を示している。すなわち、図4(a)は、ディフェク
ト画素Pdを中心としてこれに隣接する8画素の中から
複数の画素を選択して補正処理を行うことを示してい
る。図4(b)はディフェクト画素Pdの上下左右の4
画素から補正を行う場合を示し、図4(c)はディフェ
クト画素Pdの斜め方向の4画素から補正を行う場合を
示し、図4(d)はディフェクト補正を図4(c)に示
す処理を行う場合の各画素に対する重み付けの状態を示
している。
【0006】図4(d)に示す補正処理では、ディフェ
クト画素Pdに隣接する各画素の入出力特性が一定であ
るとして、各画素の画素値の25%の値を用いてディフ
ェクト画素Pdの画素値として補正していた。この場
合、上記隣接する各画素に対する重み付けは一定とされ
ていた。なお、このようなディフェクト補正の技術は、
米国特許第5,657,400号の明細書に記載されている。
クト画素Pdに隣接する各画素の入出力特性が一定であ
るとして、各画素の画素値の25%の値を用いてディフ
ェクト画素Pdの画素値として補正していた。この場
合、上記隣接する各画素に対する重み付けは一定とされ
ていた。なお、このようなディフェクト補正の技術は、
米国特許第5,657,400号の明細書に記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来のX線診断装置においては、ディフェクト処理部は、
平板状検出部の欠陥画素に由来するディフェクトを補正
する際に、ディフェクト画素Pdに隣接する各画素の入
出力特性が一定であるとしていたので、各画素の入出力
特性にバラツキがあると、ディフェクト画素Pdの画素
値の補正に誤差が生じ、正しく補正できないことがあっ
た。例えば、均一な領域の一部にディフェクトがあった
場合、低輝度領域となった場合と高輝度領域となった場
合とで、結果が異なる場合がある。実際の平板状検出部
では、半導体素子による画素が100万画素を超える場合
が多く、総ての画素で入出力特性を完全に揃えることは
困難であり、ディフェクトの補正が正しく行えないこと
が多かった。
来のX線診断装置においては、ディフェクト処理部は、
平板状検出部の欠陥画素に由来するディフェクトを補正
する際に、ディフェクト画素Pdに隣接する各画素の入
出力特性が一定であるとしていたので、各画素の入出力
特性にバラツキがあると、ディフェクト画素Pdの画素
値の補正に誤差が生じ、正しく補正できないことがあっ
た。例えば、均一な領域の一部にディフェクトがあった
場合、低輝度領域となった場合と高輝度領域となった場
合とで、結果が異なる場合がある。実際の平板状検出部
では、半導体素子による画素が100万画素を超える場合
が多く、総ての画素で入出力特性を完全に揃えることは
困難であり、ディフェクトの補正が正しく行えないこと
が多かった。
【0008】そこで、本発明は、このような問題点に対
処し、平板状検出部の個々の半導体素子による欠陥画素
の出力信号をより正しく補正することができるX線診断
装置を提供することを目的とする。
処し、平板状検出部の個々の半導体素子による欠陥画素
の出力信号をより正しく補正することができるX線診断
装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるX線診断装置は、被検体の透過X線を
複数の半導体素子を利用して検出し電気信号に変換する
平板状検出部と、該変換された検出信号を読み出す信号
読出部と、該読み出された画像信号を入力し上記平板状
検出部の個々の半導体素子による欠陥画素の出力信号を
補正するディフェクト処理部と、該補正された画像信号
を表示する画像表示部とを有するX線診断装置におい
て、上記ディフェクト処理部は、上記平板状検出部の欠
陥画素の出力信号をその隣接画素の入出力特性のバラツ
キを検出して補正する手段を備えたものである。
に、本発明によるX線診断装置は、被検体の透過X線を
複数の半導体素子を利用して検出し電気信号に変換する
平板状検出部と、該変換された検出信号を読み出す信号
読出部と、該読み出された画像信号を入力し上記平板状
検出部の個々の半導体素子による欠陥画素の出力信号を
補正するディフェクト処理部と、該補正された画像信号
を表示する画像表示部とを有するX線診断装置におい
て、上記ディフェクト処理部は、上記平板状検出部の欠
陥画素の出力信号をその隣接画素の入出力特性のバラツ
キを検出して補正する手段を備えたものである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明によるX
線診断装置の実施の形態を示すブロック図である。この
X線診断装置は、被検体にX線を照射しその透過X線を
半導体素子を利用した平板状検出部で検出し画像化して
診断に供するもので、図1に示すように、平板状検出部
1と、信号読出部2と、ゲイン/オフセット補正部3
と、ディフェクト処理部4と、画像表示部5と、システ
ム制御部6とを有して成る。
図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明によるX
線診断装置の実施の形態を示すブロック図である。この
X線診断装置は、被検体にX線を照射しその透過X線を
半導体素子を利用した平板状検出部で検出し画像化して
診断に供するもので、図1に示すように、平板状検出部
1と、信号読出部2と、ゲイン/オフセット補正部3
と、ディフェクト処理部4と、画像表示部5と、システ
ム制御部6とを有して成る。
【0011】上記平板状検出部1は、被検体の透過X線
を複数の半導体素子を利用して検出し電気信号に変換す
るもので、例えば10cm×30cmの大きさの平面に、フ
ォトダイオード等の半導体素子を例えば2000×3000=60
0万画素となるように2次元に配列して成り、一般に平
面X線センサと呼ばれている。そして、この平板状検出
部1は、その受光側の面にX線が照射されて蛍光面で光
が発生し、その後方に配置された半導体素子が上記蛍光
面の光を検出し、電気信号に変換して検出信号を出力す
るようになっている。
を複数の半導体素子を利用して検出し電気信号に変換す
るもので、例えば10cm×30cmの大きさの平面に、フ
ォトダイオード等の半導体素子を例えば2000×3000=60
0万画素となるように2次元に配列して成り、一般に平
面X線センサと呼ばれている。そして、この平板状検出
部1は、その受光側の面にX線が照射されて蛍光面で光
が発生し、その後方に配置された半導体素子が上記蛍光
面の光を検出し、電気信号に変換して検出信号を出力す
るようになっている。
【0012】信号読出部2は、上記平板状検出部1で電
気信号に変換された検出信号を読み出すものである。ま
た、ゲイン/オフセット補正部3は、上記信号読出部2
で読み出した画像信号を入力して、画素毎の感度とオフ
セットの補正を行うものである。
気信号に変換された検出信号を読み出すものである。ま
た、ゲイン/オフセット補正部3は、上記信号読出部2
で読み出した画像信号を入力して、画素毎の感度とオフ
セットの補正を行うものである。
【0013】ディフェクト処理部4は、上記信号読出部
2で読み出されゲイン/オフセット補正部3で所要の補
正をされた画像信号を入力し上記平板状検出部1の個々
の半導体素子による欠陥画素の出力信号を補正するもの
で、図2に示すように、画像信号を書き込み、読み出す
画像記憶部7と、この画像記憶部7から画像信号を取り
込んで各画素値を予め想定した値と比較してディフェク
トの有無を検出しディフェクト画素のアドレスを出力す
るディフェクト検出部8と、このディフェクト検出部8
から出力されたディフェクト画素のアドレスを入力して
記録しディフェクトマップを作成するディフェクトマッ
プ作成部9と、このディフェクトマップ作成部9からの
ディフェクトの有無の信号と上記画像記憶部7からの画
像信号とを入力して補正処理を行う演算部10と、上記
各構成要素を制御する制御部11とを有している。
2で読み出されゲイン/オフセット補正部3で所要の補
正をされた画像信号を入力し上記平板状検出部1の個々
の半導体素子による欠陥画素の出力信号を補正するもの
で、図2に示すように、画像信号を書き込み、読み出す
画像記憶部7と、この画像記憶部7から画像信号を取り
込んで各画素値を予め想定した値と比較してディフェク
トの有無を検出しディフェクト画素のアドレスを出力す
るディフェクト検出部8と、このディフェクト検出部8
から出力されたディフェクト画素のアドレスを入力して
記録しディフェクトマップを作成するディフェクトマッ
プ作成部9と、このディフェクトマップ作成部9からの
ディフェクトの有無の信号と上記画像記憶部7からの画
像信号とを入力して補正処理を行う演算部10と、上記
各構成要素を制御する制御部11とを有している。
【0014】また、画像表示部5は、上記ディフェクト
処理部4で補正された画像信号を表示するもので、例え
ばテレビモニタから成る。さらに、システム制御部6
は、以上の装置を構成する全体の動作を制御するもので
ある。
処理部4で補正された画像信号を表示するもので、例え
ばテレビモニタから成る。さらに、システム制御部6
は、以上の装置を構成する全体の動作を制御するもので
ある。
【0015】ここで、本発明においては、上記ディフェ
クト処理部4は、上記平板状検出部1の欠陥画素の出力
信号をその隣接画素の入出力特性のバラツキを検出して
補正する手段を備えている。すなわち、図2において、
補正定数検出部12と、補正テーブル13とが追加され
ている。上記補正定数検出部12は、前記画像記憶部7
から画像信号を読み出し、欠陥画素の出力信号を補正
(ディフェクト補正)するのに使用する画素の平均輝度
を計算してその画素の平均輝度を補正テーブル13に送
るものである。また、補正テーブル13は、前記ディフ
ェクト検出部8からのディフェクト画素の画素値に基づ
く重み付けテーブルと、前記ディフェクトマップ作成部
9からのディフェクト情報と、上記補正定数検出部12
からの画素の平均輝度とを入力し、該画素の平均輝度に
応じた重み付け定数を求めて前記演算部10へ送出する
ものである。
クト処理部4は、上記平板状検出部1の欠陥画素の出力
信号をその隣接画素の入出力特性のバラツキを検出して
補正する手段を備えている。すなわち、図2において、
補正定数検出部12と、補正テーブル13とが追加され
ている。上記補正定数検出部12は、前記画像記憶部7
から画像信号を読み出し、欠陥画素の出力信号を補正
(ディフェクト補正)するのに使用する画素の平均輝度
を計算してその画素の平均輝度を補正テーブル13に送
るものである。また、補正テーブル13は、前記ディフ
ェクト検出部8からのディフェクト画素の画素値に基づ
く重み付けテーブルと、前記ディフェクトマップ作成部
9からのディフェクト情報と、上記補正定数検出部12
からの画素の平均輝度とを入力し、該画素の平均輝度に
応じた重み付け定数を求めて前記演算部10へ送出する
ものである。
【0016】次に、このように構成されたX線診断装置
の動作について説明する。図1において、図示外のX線
源から被検体にX線を照射し、該被検体を透過したX線
は平板状検出部1で検出して電気信号に変換される。こ
の変換された検出信号は、信号読出部2により上記平板
状検出部1から読み出され、次のゲイン/オフセット補
正部3により画素毎に感度とオフセットの補正が行われ
る。その後、この感度とオフセットの補正が行われた画
像信号は、ディフェクト処理部4により前記平板状検出
部1の個々の半導体素子による欠陥画素の出力信号を補
正するディフェクト補正が行われる。そして、上記ディ
フェクト処理部4で補正して出力された画像信号は、画
像表示部5へ入力して画像として表示される。
の動作について説明する。図1において、図示外のX線
源から被検体にX線を照射し、該被検体を透過したX線
は平板状検出部1で検出して電気信号に変換される。こ
の変換された検出信号は、信号読出部2により上記平板
状検出部1から読み出され、次のゲイン/オフセット補
正部3により画素毎に感度とオフセットの補正が行われ
る。その後、この感度とオフセットの補正が行われた画
像信号は、ディフェクト処理部4により前記平板状検出
部1の個々の半導体素子による欠陥画素の出力信号を補
正するディフェクト補正が行われる。そして、上記ディ
フェクト処理部4で補正して出力された画像信号は、画
像表示部5へ入力して画像として表示される。
【0017】次に、本発明におけるディフェクト処理部
4の動作について、図2及び図3を参照して説明する。
最初に、図1に示す平板状検出部1に、被検体を介在さ
せずに図示外のX線源から均一なX線を照射して、図2
に示すディフェクトマップ作成部9によりディフェクト
マップを作成する。このとき、上記平板状検出部1の検
出信号を信号読出部2で読み出し、この読み出された画
像信号はゲイン/オフセット補正部3を介して図2に示
すディフェクト処理部4内の画像記憶部7に記録され
る。
4の動作について、図2及び図3を参照して説明する。
最初に、図1に示す平板状検出部1に、被検体を介在さ
せずに図示外のX線源から均一なX線を照射して、図2
に示すディフェクトマップ作成部9によりディフェクト
マップを作成する。このとき、上記平板状検出部1の検
出信号を信号読出部2で読み出し、この読み出された画
像信号はゲイン/オフセット補正部3を介して図2に示
すディフェクト処理部4内の画像記憶部7に記録され
る。
【0018】次に,ディフェクト検出部8は、画像記憶
部7から画像信号を取り込んで各画素値を予め想定した
値と比較してディフェクトの有無を検出し、ディフェク
ト画素のアドレスをディフェクトマップ作成部9に出力
する。すると、ディフェクトマップ作成部9は、入力し
たディフェクト画素のアドレスを記録してディフェクト
マップを作成する。
部7から画像信号を取り込んで各画素値を予め想定した
値と比較してディフェクトの有無を検出し、ディフェク
ト画素のアドレスをディフェクトマップ作成部9に出力
する。すると、ディフェクトマップ作成部9は、入力し
たディフェクト画素のアドレスを記録してディフェクト
マップを作成する。
【0019】これと同時に、上記ディフェクト検出部8
は、上記ディフェクトが検出された画素に対して予め補
正に使用する画素値をチェックし、重み付けテーブルを
作成して補正テーブル13に記録する。このとき、総て
の画素が均一でその入出力特性が揃っていれば、図3
(a)に示すような重み付けテーブルを作成して記録す
る。この重み付けテーブルは、図4に示すと同様に、デ
ィフェクト画素Pdを中心として3×3画素のカーネル
Kを設定し、上記ディフェクト画素Pdに隣接する斜め
方向の4画素について例えば“0.25”という一定の重み
付けとしたものである。
は、上記ディフェクトが検出された画素に対して予め補
正に使用する画素値をチェックし、重み付けテーブルを
作成して補正テーブル13に記録する。このとき、総て
の画素が均一でその入出力特性が揃っていれば、図3
(a)に示すような重み付けテーブルを作成して記録す
る。この重み付けテーブルは、図4に示すと同様に、デ
ィフェクト画素Pdを中心として3×3画素のカーネル
Kを設定し、上記ディフェクト画素Pdに隣接する斜め
方向の4画素について例えば“0.25”という一定の重み
付けとしたものである。
【0020】次に、上記平板状検出部1に照射するX線
量を前回と変更して、再度上述と同様の処理を行いディ
フェクトマップを作成してディフェクトマップ作成部9
に記録すると共に、重み付けテーブルを作成して補正テ
ーブル13に記録する。このとき、各画素の入出力特性
にバラツキがある場合は、図3(b)に示すような異な
る重み付け値となる。この重み付け値の計算は、図3
(b)において、ディフェクト画素Pdに隣接する8画
素全体の画素値の平均値をAとし、各画素の実際の画素
値をそれぞれBとし、補正に使用する画素はディフェク
ト画素Pdを中心として隣接する4画素とすると、個々
の画素について次の式で求められる。 重み付け値=(A/B)÷4 図3(b)の例は、斜め方向の4画素について総て重み
付けが異なる場合である。
量を前回と変更して、再度上述と同様の処理を行いディ
フェクトマップを作成してディフェクトマップ作成部9
に記録すると共に、重み付けテーブルを作成して補正テ
ーブル13に記録する。このとき、各画素の入出力特性
にバラツキがある場合は、図3(b)に示すような異な
る重み付け値となる。この重み付け値の計算は、図3
(b)において、ディフェクト画素Pdに隣接する8画
素全体の画素値の平均値をAとし、各画素の実際の画素
値をそれぞれBとし、補正に使用する画素はディフェク
ト画素Pdを中心として隣接する4画素とすると、個々
の画素について次の式で求められる。 重み付け値=(A/B)÷4 図3(b)の例は、斜め方向の4画素について総て重み
付けが異なる場合である。
【0021】そして、上述の処理を低輝度から高輝度ま
で複数回繰り返して、重み付けテーブルを作成して補正
テーブル13に記録する。このようにして、ディフェク
トマップ作成部9のディフェクトマップの一つのディフ
ェクトに対して、複数の補正テーブルが準備される。例
えば、図3(a),(b)の他に、図3(c)のように
一方の斜め方向の2画素の重み付け値は等しく、他方の
斜め方向の重み付け値が異なるもの、図3(d)のよう
に上下方向の2画素の重み付け値は等しく、左右方向の
重み付け値が異なるもの、さらに図3(e)のように左
右方向の2画素の重み付け値は等しく、上下方向の重み
付け値が異なるもの等がある。
で複数回繰り返して、重み付けテーブルを作成して補正
テーブル13に記録する。このようにして、ディフェク
トマップ作成部9のディフェクトマップの一つのディフ
ェクトに対して、複数の補正テーブルが準備される。例
えば、図3(a),(b)の他に、図3(c)のように
一方の斜め方向の2画素の重み付け値は等しく、他方の
斜め方向の重み付け値が異なるもの、図3(d)のよう
に上下方向の2画素の重み付け値は等しく、左右方向の
重み付け値が異なるもの、さらに図3(e)のように左
右方向の2画素の重み付け値は等しく、上下方向の重み
付け値が異なるもの等がある。
【0022】次に、図2に示す制御部11により、ディ
フェクト処理部4内の各部の制御を切り換えて画像表示
を行う。このとき、ディフェクトマップ作成部9でディ
フェクトマップを作成する場合と同様に、図1に示す平
板状検出部1に照射されたX線を検出して、信号読出部
2によって読み出した画像信号をゲイン/オフセット補
正部3を介して画像記憶部7に記録する。そして、この
画像記憶部7から画像信号を演算部10へ読み出すと共
に、上記ディフェクトマップ作成部9からはディフェク
トの有無の情報を上記演算部10へ送る。
フェクト処理部4内の各部の制御を切り換えて画像表示
を行う。このとき、ディフェクトマップ作成部9でディ
フェクトマップを作成する場合と同様に、図1に示す平
板状検出部1に照射されたX線を検出して、信号読出部
2によって読み出した画像信号をゲイン/オフセット補
正部3を介して画像記憶部7に記録する。そして、この
画像記憶部7から画像信号を演算部10へ読み出すと共
に、上記ディフェクトマップ作成部9からはディフェク
トの有無の情報を上記演算部10へ送る。
【0023】一方、補正定数検出部12では、画像記憶
部7から画像を読み出し、その画像のディフェクト補正
に使用する画素の平均輝度を計算し、補正テーブル13
へ送出する。補正テーブル13は、ディフェクト検出部
8からの重み付けテーブルと、ディフェクトマップ作成
部9からのディフェクト情報と、補正定数検出部12か
らの画素の平均輝度を入力し、各画素の輝度に応じた重
み付け定数を演算部10へ送出する。
部7から画像を読み出し、その画像のディフェクト補正
に使用する画素の平均輝度を計算し、補正テーブル13
へ送出する。補正テーブル13は、ディフェクト検出部
8からの重み付けテーブルと、ディフェクトマップ作成
部9からのディフェクト情報と、補正定数検出部12か
らの画素の平均輝度を入力し、各画素の輝度に応じた重
み付け定数を演算部10へ送出する。
【0024】この状態で、演算部10は、上記画像記憶
部7から読み出した画像について、ディフェクトマップ
作成部9のディフェクトマップによるディフェクト情報
と補正テーブル13からの重み付け定数とを用いて、デ
ィフェクトが発生していない画素では画像記憶部7から
入力した画像データをそのまま出力し、ディフェクトが
発生している画素では画像記憶部7から入力した画像デ
ータについて補正テーブル13からの重み付け定数を用
いて補正処理を行って出力する。
部7から読み出した画像について、ディフェクトマップ
作成部9のディフェクトマップによるディフェクト情報
と補正テーブル13からの重み付け定数とを用いて、デ
ィフェクトが発生していない画素では画像記憶部7から
入力した画像データをそのまま出力し、ディフェクトが
発生している画素では画像記憶部7から入力した画像デ
ータについて補正テーブル13からの重み付け定数を用
いて補正処理を行って出力する。
【0025】これにより、ディフェクト処理部4でディ
フェクトの補正処理が行われた画像データが図1に示す
画像表示部5へ送られ、平板状検出部1の欠陥画素の出
力信号をその隣接画素の入出力特性のバラツキを検出し
て補正した画像が表示される。
フェクトの補正処理が行われた画像データが図1に示す
画像表示部5へ送られ、平板状検出部1の欠陥画素の出
力信号をその隣接画素の入出力特性のバラツキを検出し
て補正した画像が表示される。
【0026】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
被検体の透過X線を複数の半導体素子を利用して検出し
電気信号に変換する平板状検出部の個々の半導体素子に
よる欠陥画素の出力信号を補正するディフェクト処理部
が、上記平板状検出部の欠陥画素の出力信号をその隣接
画素の入出力特性のバラツキを検出して補正する手段を
備えたことにより、平板状検出部の個々の半導体素子に
よる欠陥画素の出力信号をより正しく補正することがで
きる。したがって、表示画像のディフェクト補正におい
て、補正に使用する各画素の入出力特性のバラツキに影
響されることなく、安定した補正処理を行うことができ
る。特に、臓器等の均一な輝度の領域での表示において
有効である。
被検体の透過X線を複数の半導体素子を利用して検出し
電気信号に変換する平板状検出部の個々の半導体素子に
よる欠陥画素の出力信号を補正するディフェクト処理部
が、上記平板状検出部の欠陥画素の出力信号をその隣接
画素の入出力特性のバラツキを検出して補正する手段を
備えたことにより、平板状検出部の個々の半導体素子に
よる欠陥画素の出力信号をより正しく補正することがで
きる。したがって、表示画像のディフェクト補正におい
て、補正に使用する各画素の入出力特性のバラツキに影
響されることなく、安定した補正処理を行うことができ
る。特に、臓器等の均一な輝度の領域での表示において
有効である。
【図1】本発明によるX線診断装置の実施の形態を示す
ブロック図である。
ブロック図である。
【図2】上記X線診断装置におけるディフェクト処理部
の内部構成を示すブロック図である。
の内部構成を示すブロック図である。
【図3】上記ディフェクト処理部における補正テーブル
の内容例を示す説明図である。
の内容例を示す説明図である。
【図4】従来のディフェクト処理部におけるディフェク
ト補正の状態を示す説明図である。
ト補正の状態を示す説明図である。
1…平板状検出部 2…信号読出部 3…ゲイン/オフセット補正部 4…ディフェクト処理部 5…画像表示部 6…システム制御部 7…画像記憶部 8…ディフェクト検出部 9…ディフェクトマップ作成部 10…演算部 11…制御部 12…補正定数検出部 13…補正テーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 7/18 A61B 6/00 350Z
Claims (1)
- 【請求項1】 被検体の透過X線を複数の半導体素子を
利用して検出し電気信号に変換する平板状検出部と、該
変換された検出信号を読み出す信号読出部と、該読み出
された画像信号を入力し上記平板状検出部の個々の半導
体素子による欠陥画素の出力信号を補正するディフェク
ト処理部と、該補正された画像信号を表示する画像表示
部とを有するX線診断装置において、上記ディフェクト
処理部は、上記平板状検出部の欠陥画素の出力信号をそ
の隣接画素の入出力特性のバラツキを検出して補正する
手段を備えたことを特徴とするX線診断装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000060224A JP2001245877A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | X線診断装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000060224A JP2001245877A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | X線診断装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001245877A true JP2001245877A (ja) | 2001-09-11 |
Family
ID=18580570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000060224A Pending JP2001245877A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | X線診断装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001245877A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005000666A (ja) * | 2003-06-12 | 2005-01-06 | General Electric Co <Ge> | デジタルx線撮影において非機能画素をリアルタイムで修正する方法 |
WO2011013390A1 (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-03 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 放射線画像撮影装置 |
-
2000
- 2000-03-06 JP JP2000060224A patent/JP2001245877A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005000666A (ja) * | 2003-06-12 | 2005-01-06 | General Electric Co <Ge> | デジタルx線撮影において非機能画素をリアルタイムで修正する方法 |
JP4636526B2 (ja) * | 2003-06-12 | 2011-02-23 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | デジタルx線撮影において非機能画素をリアルタイムで修正する方法 |
WO2011013390A1 (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-03 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 放射線画像撮影装置 |
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