JP2001244781A - Surface acoustic wave device - Google Patents

Surface acoustic wave device

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JP2001244781A
JP2001244781A JP2000050997A JP2000050997A JP2001244781A JP 2001244781 A JP2001244781 A JP 2001244781A JP 2000050997 A JP2000050997 A JP 2000050997A JP 2000050997 A JP2000050997 A JP 2000050997A JP 2001244781 A JP2001244781 A JP 2001244781A
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JP
Japan
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acoustic wave
surface acoustic
base substrate
wave device
thermal expansion
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Application number
JP2000050997A
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Japanese (ja)
Inventor
Reiko Kobayashi
林 玲 子 小
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface acoustic wave device having a long chip length applicable to video applications, a low profile and high reliability against thermal shocks. SOLUTION: A piezoelectric body 1 used for an element 10 is made of a material containing lithium tantalite or lithium niobate, and a base substrate 20 is made of a material whose thermal expansion coefficient is 11-20 ppm/ deg.C. Thus, the difference between the thermal expansion coefficients of the both is small. Even when the element length is long, improper contact or bent in the base substrate is small and even when the surface acoustic wave device is subjected to a heat process, such as solder reflow, the surface acoustic wave device with high reliability can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、弾性表面波デバイ
スに係わり、特にTV等の映像用機器の周波数フィルタ
に好適なものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave device, and more particularly to a surface acoustic wave device suitable for a frequency filter of a video device such as a TV.

【0002】[0002]

【従来の技術】弾性表面波デバイスは、圧電体上に設け
られた薄膜金属から成る櫛歯状電極(IDT:Inter Digita
l Transducer)により、電気信号と弾性表面波(SAW)
との変換を行い、信号を送受信するデバイスであり、弾
性表面波フィルタ、弾性表面波共振子、遅延回路等を始
めとして幅広く用いられている。
2. Description of the Related Art A surface acoustic wave device is a comb-shaped electrode (IDT: Inter Digita) made of a thin film metal provided on a piezoelectric body.
l Transducer), electric signal and surface acoustic wave (SAW)
This is a device that performs the conversion to transmit and receive signals, and is widely used, including surface acoustic wave filters, surface acoustic wave resonators, delay circuits, and the like.

【0003】近年、特にTV用等の分野において、薄型
化・小型化が可能であるという長所により、弾性表面波
フィルタが広く用いられるに至っている。当該分野で用
いられる弾性表面波フィルタは、リードフレームを使用
したSIP(Single Inline Package)等、回路基板への実
装は挿入タイプが主流であった。
In recent years, particularly in the field of TVs and the like, surface acoustic wave filters have been widely used because of their advantages of being thinner and smaller. The surface acoustic wave filters used in this field are mainly of an insertion type for mounting on a circuit board such as a SIP (Single Inline Package) using a lead frame.

【0004】しかし、映像機器も小型化、低価格化に向
けて両面回路基板の導入が検討されており、それに伴い
弾性表面波フィルタも面実装タイプが望まれている。
However, the introduction of a double-sided circuit board has been studied to reduce the size and cost of video equipment, and accordingly, a surface acoustic wave filter is also desired to be a surface mount type.

【0005】従来の弾性表面波デバイスには、リードフ
レームを使用したものの変形品として、DIP(Dual Inli
ne Package)の足を曲げJリードとした構造のものも存
在する。しかし、このようなタイプのデバイスには、パ
ッケージ厚を薄くすることができないという問題点が存
在する。将来的には、カード内に収まるような厚さが要
求されており、DIPタイプ面実装品では対応することは
できない。
[0005] Conventional surface acoustic wave devices use a lead frame as a modified product.
ne Package) with a bent J-lead. However, such a device has a problem that the package thickness cannot be reduced. In the future, the thickness will be required to fit within the card, and DIP type surface mount products will not be able to cope.

【0006】そこで、平板状のベース基板上に弾性表面
波素子をフェイスダウンボンディングし、素子を覆うよ
うにキャップを被せる構造とすることで、より薄型化す
ることが提案されるに至っている。
Therefore, it has been proposed to make the surface acoustic wave element face-down bonded on a flat base substrate and cover the element with a cap so as to further reduce the thickness.

【0007】しかし、映像用の弾性表面波素子は素子長
が長く、これに伴いベース基板も長さの長いものが用い
られる。このため、半田リフロー等の加熱工程において
生ずる熱膨張の影響を無視することができない。
However, a surface acoustic wave element for video has a long element length, and accordingly, a base substrate having a long length is used. For this reason, the influence of thermal expansion generated in a heating step such as solder reflow cannot be ignored.

【0008】素子を形成している圧電体とベース基板と
の熱膨張係数の差が大きいと、素子とベース基板とを接
続しているバンプ等にストレスが印加され、熱衝撃で接
続が外れてしまうおそれがある。
If the difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body forming the element and the base substrate is large, stress is applied to bumps and the like connecting the element and the base substrate, and the connection is released by thermal shock. There is a possibility that it will.

【0009】さらに、ベース基板とキャップ間とは封止
材で接着されているため、両者の間の熱膨張係数の差が
大きいと、デバイスに反りが発生してしまう。
Furthermore, since the base substrate and the cap are bonded with a sealing material, if the difference in thermal expansion coefficient between the two is large, the device will be warped.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上述のように従来は、
映像用弾性表面波素子のように素子長が長いものでは、
素子を形成している圧電体とベース基板の熱膨張係数の
差が大きいと、半田リフロー等の加熱工程において生ず
る熱膨張差でベース基板と素子との間を接続しているバ
ンプ等にストレスが印加され、熱衝撃で接続が外れてし
まう可能性が有る。
As described above, conventionally,
If the element length is long like a surface acoustic wave element for video,
If the difference between the coefficients of thermal expansion of the piezoelectric body forming the element and the base substrate is large, stress will be applied to the bumps connecting the base substrate and the element due to the difference in thermal expansion generated in the heating process such as solder reflow. The connection may be disconnected due to the applied thermal shock.

【0011】また同様に、ベース基板とキャップとの間
は封止材で接着されているため、熱膨張係数の差が大き
いと、デバイスに反りが発生してしまうという問題があ
った。
[0011] Similarly, since the base substrate and the cap are bonded with a sealing material, there is a problem that if the difference in the coefficient of thermal expansion is large, the device will be warped.

【0012】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、映像用途等のチップ長の長い弾性表面波デバイス
において、薄型でかつ熱衝撃に対する信頼性が高いデバ
イスを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a thin and highly reliable thermal shock device for a surface acoustic wave device having a long chip length such as an image application. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の弾性表面波デバ
イスは、圧電体上に櫛歯状電極及び端子電極が形成され
た弾性表面波素子と、外部接続端子及び素子接続端子が
表面上に形成されたベース基板と、前記弾性表面波素子
の前記端子電極と前記ベース基板の前記素子接続端子と
を電気的に接続する接続体と、前記弾性表面波素子を覆
うキャップと、前記弾性表面波素子が表面上に載置され
た前記ベース基板と前記キャップとを封止する封止材と
を備え、前記圧電体はタンタル酸リチウム又はニオブ酸
リチウム材料を用いて形成され、前記べース基板は熱膨
張係数が11〜20ppm/℃であることを特徴としてい
る。
A surface acoustic wave device according to the present invention comprises a surface acoustic wave element having a comb-shaped electrode and a terminal electrode formed on a piezoelectric body, and an external connection terminal and an element connection terminal on the surface. A formed base substrate, a connection body for electrically connecting the terminal electrode of the surface acoustic wave element and the element connection terminal of the base substrate, a cap covering the surface acoustic wave element, and the surface acoustic wave An element comprising: a sealing material for sealing the base substrate and the cap on which a device is mounted; and the piezoelectric body is formed using a lithium tantalate or lithium niobate material; Is characterized by having a coefficient of thermal expansion of 11 to 20 ppm / ° C.

【0014】ここで、前記圧電体と前記ベース基板との
熱膨張係数の差が、5ppm/℃以内であることが好まし
い。
Here, it is preferable that the difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body and the base substrate is within 5 ppm / ° C.

【0015】また前記ベース基板が、ガラス基材・エポ
キシ樹脂系プリント配線板であってもよく、あるいはガ
ラス基材・BTレジンプリント配線板であってもよい。
あるいはまた、熱膨張係数が11〜20ppm/℃に調整
されたセラミック基板であってもよい。
The base substrate may be a glass substrate / epoxy resin printed wiring board, or a glass substrate / BT resin printed wiring board.
Alternatively, a ceramic substrate having a coefficient of thermal expansion adjusted to 11 to 20 ppm / ° C. may be used.

【0016】前記接続体は、金属バンプを含むものであ
ってもよく、あるいは導電性接着剤を含むものであって
もよい。
The connection body may include a metal bump, or may include a conductive adhesive.

【0017】前記圧電体と前記キャップとの熱膨張係数
の差は、5ppm/℃以内であることが望ましい。
It is desirable that the difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body and the cap be within 5 ppm / ° C.

【0018】前記キャップが、熱膨張係数が11〜20
ppm/℃に調整された液晶ポリマーを用いて成形されて
いてもよい。
The cap has a coefficient of thermal expansion of 11 to 20.
It may be molded using a liquid crystal polymer adjusted to ppm / ° C.

【0019】このように、圧電体とべース基板との熱膨
張係数の差が小さいことから、半田リフロー等の加熱工
程においても両者の間で熱膨張差が小さく、接続体がは
ずれたり、べース基板等のそりの発生を抑制することが
できる。
As described above, since the difference in the coefficient of thermal expansion between the piezoelectric body and the base substrate is small, the difference in thermal expansion between the two is small even in a heating step such as solder reflow, so that the connecting member may come off, It is possible to suppress the occurrence of warpage of the source substrate or the like.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】本実施の形態による表面弾性波デバイスに
ついて、図1及び図2を参照して説明する。
The surface acoustic wave device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0022】図1(a)に示されたように、圧電体1の
表面上に櫛歯状電極2及び端子電極3を設けて、弾性表
面波素子10を形成する。得られた弾性表面波素子10
の平面構造は図2(a)に示されたようであるが、上述
したように映像用途ではチップ長が長く端子電極3間も
同様に長くなっている。
As shown in FIG. 1A, a surface acoustic wave element 10 is formed by providing a comb-like electrode 2 and a terminal electrode 3 on the surface of a piezoelectric body 1. Obtained surface acoustic wave device 10
2A is as shown in FIG. 2A, but as described above, the chip length is long for the video application, and the distance between the terminal electrodes 3 is also long.

【0023】図2(b)のように、弾性表面波素子10
の両端部に、端面からの反射波を吸収する吸音材5をス
クリーン印刷等にて塗布する。
As shown in FIG. 2B, the surface acoustic wave element 10
The sound absorbing material 5 that absorbs the reflected wave from the end face is applied to both end portions by screen printing or the like.

【0024】図1(c)に示されたように、弾性表面波
素子10の端子電極3上に金属バンプ等の凸状導電物4
を、ボンディング又はスクリーン印刷等にて形成する。
As shown in FIG. 1C, a convex conductive material 4 such as a metal bump is formed on the terminal electrode 3 of the surface acoustic wave device 10.
Is formed by bonding, screen printing, or the like.

【0025】一方、図3のように、外部接続端子12及
び素子接続端子13を予め形成した平板状のベース基板
20において、スクリーン印刷等により素子接続端子1
3上に導電性接着剤14を塗布する。
On the other hand, as shown in FIG. 3, on the flat base substrate 20 on which the external connection terminals 12 and the element connection terminals 13 are formed in advance, the element connection terminals 1 are formed by screen printing or the like.
3 is coated with a conductive adhesive 14.

【0026】図4(a)に示されたように、ベース基板
20に対して弾性表面波素子10をフェイスダウンボン
ディングする。この後、熱工程を経て導電性接着剤14
を硬化させ、素子10をベース基板20上に固定すると
ともに、電気的に接続する。
As shown in FIG. 4A, the surface acoustic wave element 10 is face-down bonded to the base substrate 20. Thereafter, the conductive adhesive 14 is subjected to a heat process.
Is cured, and the element 10 is fixed on the base substrate 20 and electrically connected.

【0027】図4(b)のように、素子10の外側を覆
うように、キャップ21を接着剤を用いてベース基板2
0上にマウントして固定し、ベース基板20を個片に切
断して図4(c)のように弾性表面波デバイスを得る。
As shown in FIG. 4B, the cap 21 is attached to the base substrate 2 using an adhesive so as to cover the outside of the element 10.
Then, the base substrate 20 is cut into individual pieces to obtain a surface acoustic wave device as shown in FIG.

【0028】図5に、得られた弾性表面波デバイスの外
観を示す。図5(a)〜(d)は、順に平面図、正面
図、底面図及び右側面図である。
FIG. 5 shows the appearance of the obtained surface acoustic wave device. FIGS. 5A to 5D are a plan view, a front view, a bottom view, and a right side view, respectively.

【0029】従来、弾性表面波デバイスのベース基板と
しては、アルミナ系セラミック基板が一般に用いられて
いた。しかし、アルミナ系セラミック基板の熱膨張係数
は、7ppm/℃付近である。また、素子の形成に用いら
れる圧電体は、タンタル酸リチウムは16ppm/℃、ニ
オブ酸リチウムは15.4ppm/℃である。よって、両
者の間には、8ppm/℃以上の熱膨張係数の差がある。
従って、室温から半田リフローにおけるピーク温度24
0℃まで温度が変化すると、約10mm長の素子ではベー
ス基板において18〜20μmの寸法差が生ずる。
Conventionally, an alumina ceramic substrate has been generally used as a base substrate of a surface acoustic wave device. However, the thermal expansion coefficient of the alumina-based ceramic substrate is around 7 ppm / ° C. The piezoelectric material used for forming the element has a lithium tantalate content of 16 ppm / ° C. and a lithium niobate content of 15.4 ppm / ° C. Therefore, there is a difference in thermal expansion coefficient of 8 ppm / ° C. or more between the two.
Therefore, the peak temperature in the solder reflow from room temperature to 24
When the temperature changes to 0 ° C., a dimensional difference of 18 to 20 μm occurs in the base substrate for an element having a length of about 10 mm.

【0030】バンプや導電性接着剤は、通常100〜2
00μm(Φ又は□)程度であり、素子/べース基板間
のギャップが40〜50μm程度であるとすると、この
寸法差を吸収することはできない。
The bump and the conductive adhesive are usually 100 to 2
If the gap is about 00 μm (Φ or □) and the gap between the element and the base substrate is about 40 to 50 μm, this dimensional difference cannot be absorbed.

【0031】この結果、バンプ等から成る接続体が外れ
てしまい、電気的接続が確保されないという不良が発生
していた。
As a result, a connection body made of bumps or the like comes off, and a defect that electrical connection is not ensured occurs.

【0032】べース基板とキャップ間では、キャップの
端面に沿って環状に封止材を用いて接着することで高い
接着力が得られ、剥がれてしまうことは通常はないが、
デバイスに反りが発生する場合があった。
A high adhesive strength is obtained between the base substrate and the cap by using a sealing material in a ring shape along the end face of the cap, and the cap is usually not peeled off.
The device sometimes warped.

【0033】上述した本実施の形態では、圧電体1がL
iNbO3(熱膨張係数15.4ppm//℃)又はLiTaO3
(熱膨張係数16ppm/℃)を用いて形成されている。
In the above-described embodiment, the piezoelectric body 1 is L
iNbO3 (coefficient of thermal expansion 15.4ppm // ° C) or LiTaO3
(Coefficient of thermal expansion 16 ppm / ° C.).

【0034】また、ベース基板20は、FR−4、FR
−5相当品等のガラス基材・エポキシ樹脂系プリント配
線板(熱膨張係数14〜16ppm/℃)又はBTレジン
(ガラス基材で、ビスマレイミド及びトリアジンを基本
成分とするBTレジンを用いたプリント配線板、熱膨張
係数13〜16ppm/℃)を用いて形成されている。よっ
て、両者の間の熱膨張係数の差は5pp/℃の範囲内にあ
る。
The base substrate 20 is made of FR-4, FR
-5 resin or equivalent glass substrate / epoxy resin printed wiring board (coefficient of thermal expansion: 14 to 16 ppm / ° C) or BT resin (glass substrate, printed using BT resin containing bismaleimide and triazine as basic components) The wiring board is formed using a coefficient of thermal expansion of 13 to 16 ppm / ° C.). Therefore, the difference in the coefficient of thermal expansion between the two is within the range of 5 pp / ° C.

【0035】さらに、キャップ21は液晶ポリマーの成
形品を用いて形成されている。液晶ポリマーは、成形時
における樹脂の流動方向Xとその垂直方向Y(長手方
向)とで熱膨張係数が異なる。
Further, the cap 21 is formed using a molded product of a liquid crystal polymer. The liquid crystal polymer has a different thermal expansion coefficient between the flow direction X of the resin during molding and the vertical direction Y (longitudinal direction) thereof.

【0036】X方向の熱膨張係数を10ppm/℃、Y方
向の熱膨張係数を26ppm/℃とする。この間の所望の
熱膨張係数を得ることができるように、成形時の樹脂の
流し込みゲート位置をほぼ中央位置に設定することによ
り、ベース基板20に近い熱膨張係数11〜20ppm/
℃を得ることが可能である。
The thermal expansion coefficient in the X direction is 10 ppm / ° C., and the thermal expansion coefficient in the Y direction is 26 ppm / ° C. In order to obtain a desired coefficient of thermal expansion during this time, by setting the pouring gate position of the resin at the time of molding substantially at the center position, a coefficient of thermal expansion close to the base substrate 20 of 11 to 20 ppm /
° C can be obtained.

【0037】本実施の形態によれば、圧電体とべース基
板との熱膨張係数が、5ppm/℃という範囲内に収まっ
ていることにより、半田リフロー等の加熱工程において
も両者の間で熱膨張差を小さく抑制することができる。
これにより、接続体がはずれて電気的接続不良が発生し
たり、ベース基板にそりが発生する等の不具合を防止す
ることが可能である。
According to the present embodiment, since the coefficient of thermal expansion between the piezoelectric body and the base substrate is within the range of 5 ppm / ° C., even in the heating step such as solder reflow, the heat between the piezoelectric body and the base substrate is maintained. The difference in expansion can be suppressed small.
Thus, it is possible to prevent a problem such as disconnection of the connection body, occurrence of electrical connection failure, and occurrence of warpage of the base substrate.

【0038】これにより、映像向けのデバイスのように
チップ長が長い場合にも、薄型でかつ熱衝撃に対する信
頼性の高い弾性表面波デバイスを得ることができる。
Thus, even when the chip length is long, such as a device for video, a surface acoustic wave device that is thin and has high reliability against thermal shock can be obtained.

【0039】上述した実施の形態は一例であり、本発明
を限定するものではない。例えば、ベース基板や圧電
体、キャップの材料は、上記実施の形態において用いて
いるものに限らない。ベース基板と圧電体との両者、あ
るいは望ましくはベース基板、圧電体及びキャップの三
者の熱膨張係数の差が5ppm/℃の範囲内に収まる組合
せであれば、セラミック材料など他の材料を用いてもよ
い。
The above embodiment is merely an example and does not limit the present invention. For example, the materials of the base substrate, the piezoelectric body, and the cap are not limited to those used in the above embodiment. Other materials such as a ceramic material may be used as long as the combination of the base substrate and the piezoelectric material, or desirably, the difference between the coefficients of thermal expansion of the base substrate, the piezoelectric material and the cap is within the range of 5 ppm / ° C. You may.

【0040】また、上記実施の形態では、ベース基板と
素子との接続体として、バンプと導電性接着剤とを併用
しているが、これに限定されず他の材料を用いてもよ
い。
In the above-described embodiment, the bump and the conductive adhesive are used in combination as the connection body between the base substrate and the element. However, the present invention is not limited to this, and another material may be used.

【0041】ところで、べース基板は、通常多数個取り
で形成した後、素子を実装した後に個片素子に切断する
ことが多い。
By the way, the base substrate is usually formed in a large number of pieces, and after mounting the elements, it is often cut into individual pieces.

【0042】また弾性表面波素子は、ウェーハの状態か
ら個片に切断した後、ベース基板にフェイスダウンボン
ディングを行うことが多い。しかし、切断工程のタイミ
ングに関して本発明は限定しない。よって、べ一ス基板
を多数個取りで形成した後、実装前に個片素子に切断し
てもよく、また弾性表面波素子を、ウェーハの状態から
個片に切断する前に、ベース基板にフェイスダウンボン
ディングを行ってもよい。
In many cases, the surface acoustic wave element is cut into individual pieces from the state of a wafer and then subjected to face-down bonding to a base substrate. However, the present invention does not limit the timing of the cutting step. Therefore, after the base substrate is formed in multiple pieces, it may be cut into individual pieces before mounting, or the surface acoustic wave element may be cut into individual pieces from the wafer state before being cut into individual pieces. Face-down bonding may be performed.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の弾性表面
波デバイスは、圧電体がタンタル酸リチウム又はニオブ
酸リチウムを含む材料から形成され、べ一ス基板が熱膨
張係数が11〜20ppm/℃であることから、両者の熱
膨張係数の差が小さく、素子長が長い場合であっても、
半田リフロー等の加熱工程を通した場合に接続不良やべ
一ス基板等の反りが発生せず、信頼性の高い弾性表面波
デバイスを得ることができる。
As described above, in the surface acoustic wave device of the present invention, the piezoelectric body is formed from a material containing lithium tantalate or lithium niobate, and the base substrate has a thermal expansion coefficient of 11 to 20 ppm /. ° C., the difference between the two thermal expansion coefficients is small, even if the element length is long,
When a heating process such as solder reflow is performed, poor connection and warpage of the base substrate do not occur, and a highly reliable surface acoustic wave device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態による弾性表面波デバイス
の構成及びその製造方法を工程別に示した素子の縦断面
図。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an element showing a configuration of a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same in each step.

【図2】同実施の形態による弾性表面波デバイスで用い
られる素子の平面構成を示した平面図。
FIG. 2 is a plan view showing a plane configuration of an element used in the surface acoustic wave device according to the embodiment.

【図3】同実施の形態による弾性表面波デバイスの構成
及びその製造方法を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the element showing the configuration of the surface acoustic wave device according to the embodiment and a method of manufacturing the same in each step.

【図4】同実施の形態による弾性表面波デバイスの構成
及びその製造方法を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the element showing the configuration of the surface acoustic wave device according to the embodiment and the method of manufacturing the same in each step.

【図5】同実施の形態による弾性表面波デバイスの外観
を示した平面図、正面図、底面図及び右側面図。
FIG. 5 is a plan view, a front view, a bottom view, and a right side view showing the appearance of the surface acoustic wave device according to the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 圧電体 2 櫛歯状電極 3 端子電極 4 金属バンプ 5 吸音材 10 弾性表面波素子 11 平板 12 外部接続端子 13 素子接続端子 14 導電性接着剤 20 べ一ス基板 21 キャップ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Piezoelectric body 2 Comb-shaped electrode 3 Terminal electrode 4 Metal bump 5 Sound absorbing material 10 Surface acoustic wave element 11 Flat plate 12 External connection terminal 13 Element connection terminal 14 Conductive adhesive 20 Base board 21 Cap

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】圧電体上に櫛歯状電極及び端子電極が形成
された弾性表面波素子と、 外部接続端子及び素子接続端子が表面上に形成されたベ
ース基板と、 前記弾性表面波素子の前記端子電極と前記ベース基板の
前記素子接続端子とを電気的に接続する接続体と、 前記弾性表面波素子を覆うキャップと、 前記弾性表面波素子が表面上に載置された前記ベース基
板と前記キャップとを封止する封止材と、 を備え、 前記圧電体はタンタル酸リチウム又はニオブ酸リチウム
材料を用いて形成され、前記べース基板は熱膨張係数が
11〜20ppm/℃であることを特徴とする弾性表面波
デバイス。
A surface acoustic wave element having a comb-shaped electrode and terminal electrodes formed on a piezoelectric body; a base substrate having external connection terminals and element connection terminals formed on a surface; A connection body for electrically connecting the terminal electrode and the element connection terminal of the base substrate; a cap covering the surface acoustic wave element; and the base substrate on which the surface acoustic wave element is mounted. A sealing material for sealing the cap, wherein the piezoelectric body is formed using a lithium tantalate or lithium niobate material, and the base substrate has a thermal expansion coefficient of 11 to 20 ppm / ° C. A surface acoustic wave device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】前記圧電体と前記ベース基板との熱膨張係
数の差が、5ppm/℃以内であることを特徴とする請求
項1記載の弾性表面波デバイス。
2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein a difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body and the base substrate is within 5 ppm / ° C.
【請求項3】前記ベース基板は、ガラス基材・エポキシ
樹脂系プリント配線板であることを特徴とする請求項1
又は2記載の弾性表面波デバイス。
3. The printed circuit board according to claim 1, wherein said base substrate is a glass substrate / epoxy resin-based printed wiring board.
Or the surface acoustic wave device according to 2.
【請求項4】前記ベース基板は、ガラス基材・BTレジ
ンプリント配線板であることを特徴とする請求項1又は
2記載の弾性表面波デバイス。
4. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein said base substrate is a glass base material / BT resin printed wiring board.
【請求項5】前記ベース基板は、熱膨張係数が11〜2
0ppm/℃に調整されたセラミック基板であることを特
徴とする請求項1又は2記載の弾性表面波デバイス。
5. The base substrate has a coefficient of thermal expansion of 11 to 2.
3. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the surface acoustic wave device is a ceramic substrate adjusted to 0 ppm / ° C.
【請求項6】前記接続体は、金属バンプを含むことを特
徴とする請求項1又は5のいずれかに記載の弾性表面波
デバイス。
6. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the connection body includes a metal bump.
【請求項7】前記接続体は、導電性接着剤を含むことを
特徴とする請求項1又は5のいずれかに記載の弾性表面
波デバイス。
7. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the connection body includes a conductive adhesive.
【請求項8】前記圧電体と前記キャップとの熱膨張係数
の差が、5ppm/℃以内であることを特徴とする請求項
1乃至7のいずれかに記載の弾性表面波デバイス。
8. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein a difference in thermal expansion coefficient between the piezoelectric body and the cap is within 5 ppm / ° C.
【請求項9】前記キャップは、熱膨張係数が11〜20
ppm/℃に調整された液晶ポリマーを用いて成形された
ものであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか
に記載の弾性表面波デバイス。
9. The cap has a coefficient of thermal expansion of 11 to 20.
The surface acoustic wave device according to any one of claims 1 to 8, wherein the device is formed using a liquid crystal polymer adjusted to ppm / ° C.
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