JP2015015546A - High frequency module - Google Patents

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祐治 片岡
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明彦 鎌田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high frequency module that has a smaller size and a lower height.SOLUTION: A high frequency module 1 includes: a mounting substrate 2 with mounting electrodes 3 formed on one main surface 2a thereof; a plurality of first components 5a-5d, 4a, 4b having piezoelectric substrates 10a-10d with interdigital electrodes 11a-11d formed on one main surface thereof, and connection terminals 12a-12d electrically connected to the interdigital electrodes 11a-11d, respectively, and mounted on the mounting substrate 2 in such a manner that there is a gap between the one main surface of the piezoelectric substrates 10a-10d and the mounting substrate 2; a plurality of second components 6, 7 mounted on the mounting substrate 2 together with the first components 5a-5d, 4a, 4b; a sealing film 8a sealing in the first components 5a-5d, 4a, 4b so as to seal the gap between the piezoelectric substrates 10a-10d and the mounting substrate 2; and a sealing resin layer 9 covering the one main surface 2a of the mounting substrate 2, the sealing film 8a and the second components 6, 7.

Description

本発明は、実装基板に実装された部品を封止してなる高周波モジュールに関する。 The present invention relates to a high-frequency module formed by sealing a component mounted on a mounting board.

携帯端末などに搭載される高周波モジュールでは、実装基板に実装する部品として、特定の周波数帯域の通信信号を取り出すために弾性表面波フィルタ(所謂、SAWフィルタ)が用いられる場合がある。このSAWフィルタは、一般的に、圧電体で形成された素子基板の一方主面に、機能素子として櫛型電極(IDT)が形成されたものである。ところで、この種のSAWフィルタを実装する方法には、機能素子が形成された素子基板の一方主面を実装基板に対向するようにSAWフィルタを配置して実装するフェースダウンボンディングと、機能素子が形成された素子基板の一方主面が実装基板と反対側に向くようにSAWフィルタを配置して実装するフェースアップボンディングがあるが、近年の高周波モジュールの小型化の要請から、SAWフィルタを実装する方法には、高周波モジュールの小型・低背化に有利なフェースダウンボンディングが広く用いられている。   In a high-frequency module mounted on a portable terminal or the like, a surface acoustic wave filter (so-called SAW filter) may be used as a component mounted on a mounting board in order to extract a communication signal in a specific frequency band. This SAW filter generally has a comb electrode (IDT) formed as a functional element on one main surface of an element substrate formed of a piezoelectric body. By the way, a method for mounting this type of SAW filter includes face down bonding in which a SAW filter is disposed and mounted such that one main surface of the element substrate on which the functional element is formed faces the mounting substrate, and the functional element includes There is face-up bonding in which a SAW filter is arranged and mounted so that one main surface of the formed element substrate faces the side opposite to the mounting substrate. However, in recent years, a SAW filter is mounted due to a demand for downsizing of a high-frequency module. As the method, face-down bonding, which is advantageous for reducing the size and height of high-frequency modules, is widely used.

また、この種の高周波モジュールでは、実装した部品を保護するなどの目的で、部品を実装した実装基板の一方主面に封止樹脂層が設けられる場合がある。しかしながら、上記したSAWフィルタは、機能素子が樹脂で覆われるとその機能が損なわれるため、例えばは、SAWフィルタをフェースダウンボンディングにより実装した場合には、機能素子が形成された素子基板の一方主面と実装基板との隙間を中空にした状態で、封止樹脂層によりSAWフィルタを封止する必要がある。そこで従来では、図7に示すように、SAWフィルタを備える電子装置が提案されている(特許文献1参照)。   In this type of high-frequency module, a sealing resin layer may be provided on one main surface of the mounting substrate on which the component is mounted for the purpose of protecting the mounted component. However, the above-described SAW filter loses its function when the functional element is covered with resin. For example, when the SAW filter is mounted by face-down bonding, one main substrate of the element substrate on which the functional element is formed is used. It is necessary to seal the SAW filter with the sealing resin layer in a state where the gap between the surface and the mounting substrate is hollow. Therefore, conventionally, as shown in FIG. 7, an electronic device including a SAW filter has been proposed (see Patent Document 1).

この電子装置100は、ベース基板101と、ベース基板101の一方主面に実装されたSAWフィルタ102と、ベース基板101の一方主面およびSAWフィルタ102を被覆する樹脂フィルム103とを備え、SAWフィルタ102がベース基板101に実装されてパッケージ化されたものである。このSAWフィルタ102は、圧電体で形成された素子基板102aの一方主面102bに、機能素子として櫛型電極の弾性表面波素子が形成されたものであり、素子基板102aの一方主面102bがベース基板101に対向するように、SAWフィルタ102をベース基板101に配置して、当該SAWフィルタ102がフェースダウンボンディングでベース基板101に実装される。また、SAWフィルタ102における素子基板102aのベース基板101との反対面に密着するようにSAWフィルタ102およびベース基板101を覆う樹脂フィルム103が設けられる。このようにすると、封止樹脂層を液状樹脂を硬化させて形成する場合とは異なり、樹脂フィルム103の樹脂が、素子基板102aの機能素子が形成された一方主面102bとベース基板101との隙間に流れ込まずに、当該隙間を中空状態で樹脂フィルム103により密封することができる。そのため、SAWフィルタ102の機能性を確保しつつ、SAWフィルタ102の保護を図ることができる。   The electronic device 100 includes a base substrate 101, a SAW filter 102 mounted on one main surface of the base substrate 101, and a resin film 103 that covers the one main surface of the base substrate 101 and the SAW filter 102, and includes a SAW filter. 102 is mounted on the base substrate 101 and packaged. This SAW filter 102 has a surface acoustic wave element of a comb-like electrode formed as a functional element on one main surface 102b of an element substrate 102a formed of a piezoelectric body. The one main surface 102b of the element substrate 102a The SAW filter 102 is disposed on the base substrate 101 so as to face the base substrate 101, and the SAW filter 102 is mounted on the base substrate 101 by face-down bonding. Further, a resin film 103 that covers the SAW filter 102 and the base substrate 101 is provided so as to be in close contact with the surface of the element substrate 102 a opposite to the base substrate 101 in the SAW filter 102. In this case, unlike the case where the sealing resin layer is formed by curing the liquid resin, the resin of the resin film 103 is formed between the main surface 102b on which the functional element of the element substrate 102a is formed and the base substrate 101. The gap can be sealed with the resin film 103 in a hollow state without flowing into the gap. Therefore, it is possible to protect the SAW filter 102 while ensuring the functionality of the SAW filter 102.

特開2002−184884号公報(段落0021〜0025、図1等参照)Japanese Patent Laid-Open No. 2002-184884 (see paragraphs 0021 to 0025, FIG. 1, etc.)

ところで、高周波モジュールの中には、SAWフィルタのみならず、チップインダクタ、チップコンデンサ、ICなどの他の部品も備えるものがあり、このような場合、従来では上記したSAWフィルタ102がパッケージ化された電子装置100を、他の部品とともに実装基板上に実装し、さらに、液状樹脂を用いて樹脂フィルム103および他の部品を被覆して封止樹脂層を形成することにより高周波モジュールを得ていた。このような構成によると、電子装置100内で、すでに樹脂フィルム103によりベース基板101とSAWフィルタ102との間の隙間が中空状態で密封されているため、封止樹脂層を形成する液状樹脂が、当該隙間に入り込むことがなく、SAWフィルタ102の機能を損なわずに高周波モジュールを形成することができる。しかしながら、SAWフィルタ102を実装基板に搭載するのに、さらにベース基板101が必要になるため、ベース基板101の厚みの分だけ、高周波モジュールの背が高くなる。   Incidentally, some high-frequency modules include not only SAW filters but also other components such as a chip inductor, a chip capacitor, and an IC. In such a case, the above-described SAW filter 102 is conventionally packaged. The electronic device 100 is mounted on a mounting substrate together with other components, and the resin film 103 and other components are covered with a liquid resin to form a sealing resin layer, thereby obtaining a high frequency module. According to such a configuration, since the gap between the base substrate 101 and the SAW filter 102 is already sealed in the electronic device 100 with the resin film 103 in a hollow state, the liquid resin that forms the sealing resin layer can be obtained. The high frequency module can be formed without entering the gap and without impairing the function of the SAW filter 102. However, since the base substrate 101 is further required to mount the SAW filter 102 on the mounting substrate, the height of the high-frequency module is increased by the thickness of the base substrate 101.

本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、小型・低背化を図ることができる高周波モジュールを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a high-frequency module that can be reduced in size and height.

上記した目的を達成するために、本発明の高周波モジュールは、その一方主面に接続電極が形成された実装基板と、その一方主面に機能素子が形成された素子基板と、該素子基板の一方主面に形成され前記機能素子に電気的に接続された接続端子とを有し、前記実装基板の一方主面に前記素子基板の一方主面が対向し、かつ、前記実装基板の一方主面と前記素子基板の一方主面との間に隙間が設けられた状態で、前記接続端子が前記実装基板の前記接続電極に接続されて前記実装基板の一方主面の所定領域に実装される第1部品と、前記第1部品とともに前記実装基板の一方主面の前記所定領域以外の領域に実装される第2部品と、前記第1部品を被覆して前記実装基板の一方主面の前記所定領域に設けられ、前記素子基板の一方主面と前記実装基板の一方主面との間の前記隙間を密封状態に封止する封止フィルムと、前記実装基板の一方主面、前記第1部品を被覆した前記封止フィルムの少なくとも一部および前記第2部品を被覆して設けられた封止樹脂層とを備えることを特徴としている。   In order to achieve the above object, a high-frequency module according to the present invention includes a mounting substrate having a connection electrode formed on one main surface thereof, an element substrate having a functional element formed on one main surface thereof, A connection terminal formed on one main surface and electrically connected to the functional element, wherein one main surface of the element substrate faces the one main surface of the mounting substrate, and one main surface of the mounting substrate The connection terminal is connected to the connection electrode of the mounting substrate and mounted in a predetermined region of the one main surface of the mounting substrate with a gap provided between the surface and the one main surface of the element substrate. A first component; a second component that is mounted together with the first component in a region other than the predetermined region of the one main surface of the mounting substrate; and the first component covering the first component and the one main surface of the mounting substrate. Provided in a predetermined region, one main surface of the element substrate and the A sealing film that seals the gap between the main surface of the packaging substrate in a sealed state, at least a part of the sealing film that covers the first main surface of the mounting substrate, the first component, and the first And a sealing resin layer provided so as to cover the two parts.

この場合、その一方主面に機能素子が形成された素子基板と、該素子基板の一方主面に形成されて機能素子に電気的に接続された接続端子とを有する第1部品が、実装基板の一方主面に素子基板の一方主面が対向し、かつ、実装基板の一方主面と素子基板の一方主面との間に隙間が設けられた状態で実装基板に実装される。そして、素子基板の一方主面と実装基板の一方主面との間の隙間が密封された状態で第1部品が封止フィルムにより封止される。   In this case, a first component having an element substrate having a functional element formed on one main surface thereof and a connection terminal formed on one main surface of the element substrate and electrically connected to the functional element is a mounting substrate. The one main surface of the element substrate is opposed to the one main surface, and is mounted on the mounting substrate with a gap provided between the one main surface of the mounting substrate and the one main surface of the element substrate. Then, the first component is sealed with the sealing film in a state where the gap between the one main surface of the element substrate and the one main surface of the mounting substrate is sealed.

例えば、第1部品がSAWフィルタである場合、素子基板となる圧電基板の一方主面に機能素子となる櫛型電極が形成され、実装基板の一方主面に圧電基板の一方主面が対向し、かつ、実装基板の一方主面と圧電基板の一方主面との間に隙間が設けられた状態で、SAWフィルタが実装基板に実装される。換言すれば、ベアチップ構造のSAWフィルタが、フェースダウンボンディングにより、直接、実装基板に実装されて、封止フィルムによりSAWフィルタが封止される。このとき、SAWフィルタの機能素子(櫛型電極)が形成された圧電基板の一方主面と実装基板の一方主面との間の隙間が密封された状態で封止フィルムがSAWフィルタを封止するため、高周波モジュールにおけるSAWフィルタの機能が維持される。また、ベアチップ構造のSAWフィルタを直接実装基板に実装する構造とすることで、従来のSAWフィルタをベース基板に実装することでパッケージ化された電子装置を実装基板に実装する構成とは異なり、パッケージ内のベース基板が必要ないため、ベース基板の厚み分だけ、高周波モジュールの低背化を図ることができる。   For example, when the first component is a SAW filter, a comb-shaped electrode serving as a functional element is formed on one main surface of a piezoelectric substrate serving as an element substrate, and one main surface of the piezoelectric substrate is opposed to one main surface of the mounting substrate. In addition, the SAW filter is mounted on the mounting substrate in a state where a gap is provided between the one main surface of the mounting substrate and the one main surface of the piezoelectric substrate. In other words, the bare chip structure SAW filter is directly mounted on the mounting substrate by face-down bonding, and the SAW filter is sealed with the sealing film. At this time, the sealing film seals the SAW filter in a state where the gap between one main surface of the piezoelectric substrate on which the functional element (comb-shaped electrode) of the SAW filter is formed and one main surface of the mounting substrate is sealed. Therefore, the function of the SAW filter in the high frequency module is maintained. Also, the structure in which the bare chip structure SAW filter is directly mounted on the mounting substrate is different from the configuration in which the packaged electronic device is mounted on the mounting substrate by mounting the conventional SAW filter on the base substrate. Since the inner base substrate is not required, the height of the high-frequency module can be reduced by the thickness of the base substrate.

また、従来の電子装置では、SAWフィルタを実装するのにベース基板のサイズ(平面視での面積)をSAWフィルタよりも大きくする必要があり、これに伴って、実装基板にベース基板のサイズに応じた実装領域を確保しなければならないが、ベアチップ構造のSAWフィルタを直接実装基板に実装する構成にすると、SAWフィルタのサイズに応じた実装領域を実装基板に確保すればよいため、実装基板の主面の面積の小型化、ひいては、高周波モジュールの小型化を図ることができる。   In addition, in the conventional electronic device, it is necessary to make the size of the base substrate (area in plan view) larger than that of the SAW filter in order to mount the SAW filter. Although a mounting area corresponding to the size of the SAW filter may be secured on the mounting substrate when the bare chip structure SAW filter is directly mounted on the mounting substrate, the mounting substrate needs to be secured. It is possible to reduce the area of the main surface, and hence the high-frequency module.

また、第1部品とともに実装基板の一方主面に実装される第2部品が、封止樹脂層により被覆されるため、第2部品と実装基板との接続信頼性が向上する。   Further, since the second component mounted on the one main surface of the mounting substrate together with the first component is covered with the sealing resin layer, the connection reliability between the second component and the mounting substrate is improved.

また、前記実装基板の一方主面の前記所定領域に複数の前記第1部品が実装され、前記複数の第1部品が、単一の前記封止フィルムにより被覆されていてもよい。この場合、複数の第1部品を個別の封止フィルムで封止する場合と比較して、各第1部品間の搭載間隔を狭くすることができる。また、各第1部品を単一の封止フィルムにより一括で封止することで、封止フィルムを形成する作業工数を削減することができる。   In addition, a plurality of the first components may be mounted on the predetermined region of the one main surface of the mounting substrate, and the plurality of first components may be covered with a single sealing film. In this case, the mounting interval between the first components can be narrowed compared to the case where the plurality of first components are sealed with individual sealing films. Moreover, the work man-hour which forms a sealing film can be reduced by sealing each 1st part collectively with a single sealing film.

また、前記第1部品は、送信フィルタと受信フィルタとを備え、前記封止フィルムは、前記送信フィルタを被覆して設けられた第1封止フィルムと、前記受信フィルタを被覆して設けられた第2封止フィルムとを備えていてもよい。このように、第1部品が、送信フィルタと受信フィルタとを備える場合に、両フィルタを第1封止フィルムおよび第2封止フィルムにより個別に封止することで、送信フィルタと受信フィルタとの間に第1および第2封止フィルムが介在することになるため、両フィルタ間のアイソレーション特性が向上する。   The first component includes a transmission filter and a reception filter, and the sealing film is provided to cover the transmission filter and a first sealing film provided to cover the transmission filter. You may provide the 2nd sealing film. Thus, when a 1st component is provided with a transmission filter and a reception filter, by sealing both filters with a 1st sealing film and a 2nd sealing film separately, it is with a transmission filter and a reception filter. Since the first and second sealing films are interposed therebetween, the isolation characteristics between the two filters are improved.

また、前記第1部品は、第1デュプレクサと、該第1デュプレクサに用いられる通信信号と異なる周波数帯域の通信信号が用いられる第2デュプレクサとを備え、前記封止フィルムは、前記第1デュプレクサを被覆して設けられた第3封止フィルムと、前記第2デュプレクサを被覆して設けられた第4封止フィルムとを備えていてもよい。このように、第1部品が、第1デュプレクサと、該第1デュプレクサに用いられる通信信号と異なる周波数帯域の通信信号が用いられる第2デュプレクサとを備える場合に、両デュプレクサを第3封止フィルムおよび第4封止フィルムにより個別に封止することで、第1デュプレクサと第2デュプレクサとの間に第3および第4封止フィルムが介在することになるため、両デュプレクサ間のアイソレーション特性が向上する。   The first component includes a first duplexer and a second duplexer in which a communication signal having a frequency band different from that of the communication signal used in the first duplexer is used, and the sealing film includes the first duplexer. A third sealing film provided by coating and a fourth sealing film provided by covering the second duplexer may be provided. As described above, when the first component includes the first duplexer and the second duplexer in which a communication signal having a frequency band different from that of the communication signal used in the first duplexer is used, both duplexers are connected to the third sealing film. Since the third and fourth sealing films are interposed between the first duplexer and the second duplexer by individually sealing with the fourth sealing film, the isolation characteristics between the duplexers are improves.

また、前記封止フィルムが、熱硬化性導電性樹脂で形成され、当該封止フィルムが前記実装基板に形成されたグランド電極に接続されていてもよい。この場合、第1部品が、実装基板に形成されたグランド電極に接続された熱硬化性導電性樹脂からなる封止フィルムに覆われるため、第1部品のシールド性が向上する。   Further, the sealing film may be formed of a thermosetting conductive resin, and the sealing film may be connected to a ground electrode formed on the mounting substrate. In this case, since the first component is covered with the sealing film made of the thermosetting conductive resin connected to the ground electrode formed on the mounting substrate, the shielding performance of the first component is improved.

また、前記封止フィルムの熱伝導率が、前記封止樹脂層の熱伝導率よりも高くてもよい。このようにすると、封止フィルムの熱伝導率が、封止樹脂層の熱伝導率と同等か、あるいは、低い場合と比較して、第1部品から発生する熱の放熱特性が向上する。   Moreover, the thermal conductivity of the sealing film may be higher than the thermal conductivity of the sealing resin layer. If it does in this way, the thermal conductivity of the heat | fever which generate | occur | produces from 1st components will improve compared with the case where the thermal conductivity of a sealing film is equivalent to the thermal conductivity of a sealing resin layer, or is low.

また、前記封止樹脂層が、熱硬化性樹脂で形成され、前記封止フィルムの弾性率が前記封止樹脂層の弾性率よりも低くてもよい。第1部品を封止フィルムで封止する場合、封止フィルムの第1部品における素子基板のエッジ部に接触する部分の厚みが薄くなったり、素子基板のエッジ部と接触する部分で封止フィルムが破れたりする場合がある。そこで、封止フィルムの弾性率を封止樹脂層の弾性率よりも低くすることにより、封止フィルムの素子基板のエッジ部と接触する部分にかかる応力が封止フィルム全体に分散され易くなるため、封止フィルムの素子基板のエッジ部と接触する部分の薄化や破れを防止することができる。また、熱硬化性樹脂は、一般的に熱可塑性樹脂と比較して、硬度や機械的強度が高いため、封止樹脂層を熱硬化性樹脂で形成することで、第2部品の保護機能が向上する。   Moreover, the said sealing resin layer may be formed with a thermosetting resin, and the elasticity modulus of the said sealing film may be lower than the elasticity modulus of the said sealing resin layer. When the first component is sealed with the sealing film, the thickness of the portion of the first component that contacts the edge portion of the element substrate in the first component of the sealing film is reduced, or the sealing film is the portion that contacts the edge portion of the element substrate. May be torn. Therefore, by making the elastic modulus of the sealing film lower than the elastic modulus of the sealing resin layer, stress applied to the portion of the sealing film that contacts the edge portion of the element substrate is easily dispersed throughout the sealing film. Further, it is possible to prevent the portion of the sealing film that contacts the edge portion of the element substrate from being thinned or torn. Further, since the thermosetting resin generally has higher hardness and mechanical strength than the thermoplastic resin, the protective function of the second component can be achieved by forming the sealing resin layer with the thermosetting resin. improves.

また、前記封止フィルムは、前記第1部品を囲むように形成され、前記実装基板の一方主面に密着するのり代を有し、前記のり代の幅は前記封止フィルムの厚み以上であるのが好ましい。このように、封止フィルムに、該封止フィルムの厚み以上の幅を有する、実装基板の一方主面に密着するのり代を設けることで、封止フィルムと実装基板との密着強度が高まるため、第1部品の素子基板の一方主面と実装基板の一方主面との間の隙間を中空状態で密封する密封性が向上する。   In addition, the sealing film is formed so as to surround the first component, and has a glue margin that is in close contact with one main surface of the mounting substrate, and a width of the glue margin is equal to or greater than a thickness of the sealing film. Is preferred. In this way, the adhesive film has a width equal to or larger than the thickness of the sealing film, and the adhesion strength between the sealing film and the mounting substrate is increased by providing the adhesive margin in close contact with the one main surface of the mounting substrate. The hermeticity of sealing the gap between the one main surface of the element substrate of the first component and the one main surface of the mounting substrate in a hollow state is improved.

また、前記封止樹脂層が、前記素子基板の他方主面上の前記封止フィルムが露出した状態で、前記封止フィルムの前記素子基板の他方主面上以外の部分を被覆していてもよい。この場合、封止樹脂層が、封止フィルムの素子基板の他方主面上の部分も被覆する場合と比較して、高周波モジュールの低背化を図ることができる。   The sealing resin layer may cover a portion other than the other main surface of the element substrate of the sealing substrate in a state where the sealing film on the other main surface of the element substrate is exposed. Good. In this case, the height of the high-frequency module can be reduced as compared with the case where the sealing resin layer also covers a portion of the sealing film on the other main surface of the element substrate.

本発明によれば、その一方主面に機能素子が形成された素子基板と、該素子基板の一方主面に形成されて機能素子に電気的に接続された接続端子とを有する第1部品が、実装基板の一方主面に素子基板の一方主面が対向し、かつ、実装基板の一方主面と素子基板の一方主面との間に隙間が設けられた状態で実装基板に実装される。そして、素子基板の一方主面と実装基板の一方主面との間の隙間が密封された状態で第1部品が封止フィルムにより封止される。   According to the present invention, there is provided a first component having an element substrate having a functional element formed on one main surface thereof and a connection terminal formed on the one main surface of the element substrate and electrically connected to the functional element. The one main surface of the element substrate faces the one main surface of the mounting substrate, and is mounted on the mounting substrate with a gap provided between the one main surface of the mounting substrate and the one main surface of the element substrate. . Then, the first component is sealed with the sealing film in a state where the gap between the one main surface of the element substrate and the one main surface of the mounting substrate is sealed.

例えば、第1部品がSAWフィルタである場合、素子基板となる圧電基板の一方主面に機能素子となる櫛型電極が形成され、実装基板の一方主面に圧電基板の一方主面が対向し、かつ、実装基板の一方主面と圧電基板の一方主面との間に隙間が設けられた状態で、SAWフィルタが実装基板に実装される。換言すれば、ベアチップ構造のSAWフィルタが、フェースダウンボンディングにより直接、実装基板に実装されて、封止フィルムによりSAWフィルタが封止される。このとき、SAWフィルタの機能素子(櫛型電極)が形成された圧電基板の一方主面と実装基板の一方主面との間の隙間が密封された状態で封止フィルムより、SAWフィルタが封止されるため、高周波モジュールにおけるSAWフィルタの機能が維持される。また、ベアチップ構造のSAWフィルタを直接実装基板に実装する構造とすることで、従来のSAWフィルタがパッケージ化された電子装置を実装基板に実装する構成とは異なり、パッケージ内のベース基板が必要ないため、ベース基板の厚み分だけ、高周波モジュールの低背化を図ることができる。   For example, when the first component is a SAW filter, a comb-shaped electrode serving as a functional element is formed on one main surface of a piezoelectric substrate serving as an element substrate, and one main surface of the piezoelectric substrate is opposed to one main surface of the mounting substrate. In addition, the SAW filter is mounted on the mounting substrate in a state where a gap is provided between the one main surface of the mounting substrate and the one main surface of the piezoelectric substrate. In other words, the bare chip structure SAW filter is directly mounted on the mounting substrate by face-down bonding, and the SAW filter is sealed with the sealing film. At this time, the SAW filter is sealed from the sealing film in a state where the gap between the one main surface of the piezoelectric substrate on which the functional element (comb-shaped electrode) of the SAW filter is formed and the one main surface of the mounting substrate is sealed. Therefore, the function of the SAW filter in the high frequency module is maintained. Also, by adopting a structure in which a bare chip structure SAW filter is directly mounted on a mounting substrate, unlike a conventional configuration in which an electronic device packaged with a SAW filter is mounted on a mounting substrate, a base substrate in the package is not required. Therefore, the height of the high-frequency module can be reduced by the thickness of the base substrate.

本発明の第1実施形態にかかる高周波モジュールの平面図である。It is a top view of the high frequency module concerning a 1st embodiment of the present invention. 図1の高周波モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the high frequency module of FIG. 図1の高周波モジュールの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the high frequency module of FIG. 本発明の第2実施形態にかかる高周波モジュールの平面図である。It is a top view of the high frequency module concerning a 2nd embodiment of the present invention. 図4の高周波モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the high frequency module of FIG. 本発明の第3実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the high frequency module concerning 3rd Embodiment of this invention. 従来の高周波モジュールに実装される電子装置の断面図である。It is sectional drawing of the electronic device mounted in the conventional high frequency module.

<第1実施形態>
本発明の第1実施形態にかかる高周波モジュール1について、図1および図2を参照して説明する。なお、図1は第1実施形態にかかる高周波モジュール1の平面図、図2は高周波モジュール1の断面図であり、図1のA−A断面図を示す。また、図1では、実装基板の一方主面上に設けられた封止樹脂層を図示省略している。
<First Embodiment>
A high-frequency module 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. 1 is a plan view of the high-frequency module 1 according to the first embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view of the high-frequency module 1, and shows a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. Moreover, in FIG. 1, the sealing resin layer provided on the one main surface of the mounting substrate is not shown.

この実施形態にかかる高周波モジュール1は、図1および図2に示すように、その一方主面2aに部品実装用の実装電極3(本発明の接続電極に相当)が形成された実装基板2と、それぞれ実装基板2の一方主面2aの所定領域にまとめて実装された、第1および第2デュプレクサ4a,4b、2つの送信フィルタ5a,5b、2つの受信フィルタ5c,5dと、それぞれ実装基板2の一方主面2aの前記所定領域以外の領域に実装された複数(この実施形態では4つ)のチップ部品6およびIC7と、第1、第2デュプレクサ4a,4b、両送信フィルタ5a,5b、両受信フィルタ5c,5dを被覆して実装基板2の一方主面2aの前記所定領域に設けられた封止フィルム8aと、実装基板2の一方主面2a、封止フィルム8a、各チップ部品6およびIC7を被覆して設けられた封止樹脂層9とを備え、例えば、携帯端末装置が備えるマザー基板に搭載されるものである。   As shown in FIGS. 1 and 2, the high-frequency module 1 according to this embodiment includes a mounting substrate 2 in which a mounting electrode 3 for component mounting (corresponding to the connection electrode of the present invention) is formed on one main surface 2a. The first and second duplexers 4a and 4b, the two transmission filters 5a and 5b, and the two reception filters 5c and 5d, which are mounted together in a predetermined region on the one main surface 2a of the mounting substrate 2, respectively, A plurality of (four in this embodiment) chip components 6 and ICs 7 mounted in a region other than the predetermined region of the first main surface 2a, the first and second duplexers 4a and 4b, and both transmission filters 5a and 5b. The sealing film 8a that covers both the receiving filters 5c and 5d and is provided in the predetermined region of the one main surface 2a of the mounting substrate 2, the one main surface 2a of the mounting substrate 2, the sealing film 8a, each chip And a sealing resin layer 9 provided to cover the part 6 and IC 7, for example, is mounted on a mother board the portable terminal apparatus.

実装基板2は、ガラスエポキシ樹脂多層基板、低温同時焼成セラミック(LTCC)多層基板、フレキシブル多層配線基板などであり、上記したように、その一方主面2aに複数の部品実装用の実装電極3が形成される。また、その内部には、各種配線電極(図示せず)やビア導体(図示せず)なども形成されている。なお、実装基板2は、単層構造であってもかまわない。   The mounting substrate 2 is a glass epoxy resin multilayer substrate, a low temperature co-fired ceramic (LTCC) multilayer substrate, a flexible multilayer wiring substrate, or the like. As described above, a plurality of component mounting electrodes 3 are mounted on one main surface 2a. It is formed. In addition, various wiring electrodes (not shown), via conductors (not shown), and the like are also formed therein. The mounting substrate 2 may have a single layer structure.

両送信フィルタ5a,5bおよび両受信フィルタ5c,5dは、それぞれ同様の構成であり、ベアチップ構造の弾性表面波フィルタ(所謂、SAWフィルタ)である。例えば、送信フィルタ5aを例として具体的に説明すると、送信フィルタ5aは、LiTiO3、LiNbO3、サファイアなどの圧電基板10a(本発明の素子基板に相当)と、当該圧電基板10aの一方主面に形成された櫛型電極11a(本発明の機能素子に相当)と、圧電基板10aの一方主面に形成され櫛型電極11aに電気的に接続された接続端子12aとを有し、図2に示すように、実装基板2の一方主面2aに圧電基板10aの一方主面が対向し、かつ、実装基板2の一方主面2aと圧電基板10aの一方主面との間に隙間が設けられた状態で、接続端子12aが実装基板2の実装電極3に半田バンプ13を介して接続されて、実装基板2の一方主面2aに実装、すなわち、フェースダウンボンディングにより実装基板2に実装される。なお、その他の送信フィルタ5b、両受信フィルタ5c,5dについても、送信フィルタ5aと同様に、それぞれ、圧電基板10b〜10d、櫛型電極11b〜11d、接続端子12b〜12dを有し、フェースダウンボンディングにより実装基板2の一方主面2aに実装される。   Both transmission filters 5a and 5b and both reception filters 5c and 5d have the same configuration and are surface acoustic wave filters (so-called SAW filters) having a bare chip structure. For example, the transmission filter 5a will be specifically described as an example. The transmission filter 5a is formed on one main surface of the piezoelectric substrate 10a (corresponding to the element substrate of the present invention) such as LiTiO3, LiNbO3, and sapphire, and the piezoelectric substrate 10a. FIG. 2 shows a comb-shaped electrode 11a (corresponding to the functional element of the present invention) and a connection terminal 12a formed on one main surface of the piezoelectric substrate 10a and electrically connected to the comb-shaped electrode 11a. As described above, the one main surface of the piezoelectric substrate 10a faces the one main surface 2a of the mounting substrate 2, and a gap is provided between the one main surface 2a of the mounting substrate 2 and the one main surface of the piezoelectric substrate 10a. In this state, the connection terminal 12a is connected to the mounting electrode 3 of the mounting substrate 2 via the solder bump 13 and mounted on one main surface 2a of the mounting substrate 2, that is, mounted on the mounting substrate 2 by face-down bonding. It is. The other transmission filters 5b and both reception filters 5c and 5d also have piezoelectric substrates 10b to 10d, comb-shaped electrodes 11b to 11d, and connection terminals 12b to 12d, respectively, like the transmission filter 5a. It is mounted on one main surface 2a of the mounting substrate 2 by bonding.

第1、第2デュプレクサ4a,4bは、ベアチップ構造の弾性表面波デュプレクサ(所謂、SAWデュプレクサ)であり、上記した各送信、受信フィルタ5a〜5dと同様に、それぞれ素子基板としての圧電基板、圧電基板の一方主面に形成された機能素子としての櫛型電極および圧電基板の一方主面に形成され当該櫛型電極に電気的に接続された接続端子とを有し、圧電基板の一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間に隙間が設けられた状態で実装基板2の一方主面2aに実装される。このとき、第2ディプレクサは、第1デュプレクサに用いられる通信信号と異なる周波数帯域の通信信号が用いられる。また、各送信、受信フィルタ5a〜5dおよび第1、第2デュプレクサ4a,4bは、実装基板2の一方主面2aの所定領域に固まって実装されている。なお、各送信、受信フィルタ5a〜5dおよび第1、第2デュプレクサ4a,4bそれぞれが、本発明の第1部品に相当する。以下、各送信、受信フィルタ5a〜5dおよび第1、第2デュプレクサ4a,4bをまとめて各第1部品5a〜5d,4a,4bと言う場合もある。   The first and second duplexers 4a and 4b are surface acoustic wave duplexers having a bare chip structure (so-called SAW duplexers). Like the transmission and reception filters 5a to 5d described above, a piezoelectric substrate and a piezoelectric substrate are used as element substrates, respectively. One main surface of the piezoelectric substrate having a comb-shaped electrode as a functional element formed on one main surface of the substrate and a connection terminal formed on one main surface of the piezoelectric substrate and electrically connected to the comb-shaped electrode And mounted on the one main surface 2a of the mounting substrate 2 with a gap provided between the main surface 2a and the one main surface 2a of the mounting substrate 2. At this time, a communication signal having a frequency band different from that of the communication signal used for the first duplexer is used for the second duplexer. Each of the transmission and reception filters 5a to 5d and the first and second duplexers 4a and 4b are fixedly mounted on a predetermined region of the one main surface 2a of the mounting board 2. Each of the transmission and reception filters 5a to 5d and the first and second duplexers 4a and 4b correspond to the first component of the present invention. Hereinafter, the transmission and reception filters 5a to 5d and the first and second duplexers 4a and 4b may be collectively referred to as the first components 5a to 5d, 4a, and 4b.

各チップ部品6は、例えば、インピーダンス整合用のチップコンデンサやチップインダクタ、IC7は、例えば、スイッチIC、パワーアンプ、RF−ICなどであり、それぞれ、実装基板2の一方主面2aにおける、各送信、受信フィルタ5a〜5dおよび第1、第2デュプレクサ4a,4bが実装された実装基板2の一方主面2aの所定領域とは異なる領域に周知の表面実装技術を用いて実装される。なお、各チップ部品6およびIC7それぞれが、本発明の第2部品に相当する。以下、各チップ部品6およびIC7をまとめて各第2部品6,7と言う場合もある。   Each chip component 6 is, for example, a chip capacitor or a chip inductor for impedance matching, and IC 7 is, for example, a switch IC, a power amplifier, an RF-IC, or the like, and each transmission on the one main surface 2a of the mounting substrate 2 is performed. The reception filters 5a to 5d and the first and second duplexers 4a and 4b are mounted using a known surface mounting technique in a region different from the predetermined region of the one main surface 2a of the mounting substrate 2. Each chip component 6 and IC 7 correspond to a second component of the present invention. Hereinafter, the chip parts 6 and the ICs 7 may be collectively referred to as the second parts 6 and 7.

封止フィルム8aは、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリイミド、ポリアミド等を主成分とした熱硬化性樹脂により形成されている。また、図1に示すように、封止フィルム8aは、各第1部品5a〜5d,4a,4bが実装された実装基板2の一方主面2aの所定領域に設けられ、各第1部品5a〜5d,4a,4bを一括で被覆する。このとき、封止フィルム8aは、図2に示すように、各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれにおいて、櫛型電極11a〜11dが形成された圧電基板10a〜10dの一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間の隙間を密封状態、すなわち、当該隙間を中空状態に封止する。なお、封止フィルム8aには、その線膨張係数や弾性率を調整するために、SiO2等のフィラを含有させてもよい。また、この実施形態では、封止フィルム8aの厚みは、10〜500μmで形成されている。   The sealing film 8a is formed of a thermosetting resin mainly composed of epoxy resin, silicon resin, polyimide, polyamide, or the like. Moreover, as shown in FIG. 1, the sealing film 8a is provided in the predetermined area | region of the one main surface 2a of the mounting substrate 2 in which each 1st components 5a-5d, 4a, 4b were mounted, and each 1st components 5a. .About.5d, 4a, 4b are coated at once. At this time, as shown in FIG. 2, the sealing film 8 a includes, on each of the first components 5 a to 5 d, 4 a and 4 b, one main surface of the piezoelectric substrates 10 a to 10 d on which the comb-shaped electrodes 11 a to 11 d are formed. The gap between the main surface 2a of the mounting substrate 2 is sealed, that is, the gap is sealed in a hollow state. The sealing film 8a may contain a filler such as SiO2 in order to adjust its linear expansion coefficient and elastic modulus. Moreover, in this embodiment, the thickness of the sealing film 8a is 10-500 micrometers.

また、図2に示すように、封止フィルム8aは、各第1部品5a〜5d,4a,4bを囲むように形成され、実装基板2の一方主面2aに密着するのり代8a1を有し、該のり代8a1の幅Wが封止フィルム8aの厚みd以上になるように形成されている(W>d)。封止フィルム8aと実装基板2との密着力が小さい場合、封止フィルム8aと実装基板2の界面で剥離が生じ、後述する封止樹脂層9を形成する際に、封止樹脂層9の樹脂が、封止フィルム8aと実装基板2の界面剥離により生じた隙間に入り込んで、各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれの圧電基板10a〜10dの一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間の隙間を中空状態に維持するのが困難になる場合がある。そこで、封止フィルム8aののり代8a1の幅Wを封止フィルム8aの厚み以上とすることで、封止フィルム8aと実装基板2との密着力が、所望の値となる接触面積(封止フィルム8と実装基板2との接触面積)を確保することができるため、各第1部品5a〜5d,4a,4bの上記した中空封止性が向上する。   As shown in FIG. 2, the sealing film 8a is formed so as to surround each of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b, and has a margin 8a1 that is in close contact with the one main surface 2a of the mounting substrate 2. The width W of the glue allowance 8a1 is formed to be equal to or greater than the thickness d of the sealing film 8a (W> d). When the adhesive force between the sealing film 8a and the mounting substrate 2 is small, peeling occurs at the interface between the sealing film 8a and the mounting substrate 2, and when the sealing resin layer 9 described later is formed, the sealing resin layer 9 The resin enters the gap generated by the interface peeling between the sealing film 8a and the mounting substrate 2, and one main surface of each of the first components 5a to 5d, 4a and 4b and one of the mounting substrates 2 is mounted. It may be difficult to maintain the gap between the main surface 2a in a hollow state. Therefore, by setting the width W of the adhesive margin 8a1 of the sealing film 8a to be equal to or greater than the thickness of the sealing film 8a, the contact area (sealing) where the adhesion between the sealing film 8a and the mounting substrate 2 becomes a desired value. Since the contact area between the film 8 and the mounting substrate 2 can be ensured, the above-described hollow sealing properties of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b are improved.

なお、封止フィルム8aの熱伝導率は、封止樹脂層9の熱伝導率よりも高いことが好ましい。各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれは、上記したように、フェースダウンボンディングにより実装され、その圧電基板10a〜10dの一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間の隙間が中空状態で、封止フィルム8aにより封止される。この場合、当該隙間に空気が存在することになるが、空気は、金属からなる配線電極が設けられた実装基板と比較して熱伝導率が低い。そのため、圧電基板10a〜10dの一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間の隙間が中空状態で各第1部品5a〜5d,4a,4bを封止フィルム8aにより封止する構成では、各第1部品5a〜5d,4a,4bの圧電基板10a〜10dが実装基板2の一方主面2aに接した状態で各第1部品5a〜5d,4a,4bが実装されるフェースアップボンディング構成の高周波モジュールと比較して、各第1部品5a〜5d,4a,4bから発生した熱が外部に放出されにくい。そこで、封止フィルム8aの熱伝導率を封止樹脂層9の熱伝導率よりも高くすることで、各第1部品5a〜5d,4a,4bの放熱特性が向上する。   In addition, it is preferable that the thermal conductivity of the sealing film 8a is higher than the thermal conductivity of the sealing resin layer 9. As described above, each of the first components 5a to 5d, 4a and 4b is mounted by face-down bonding, and a gap between one main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d and one main surface 2a of the mounting substrate 2 is mounted. Is sealed by the sealing film 8a in a hollow state. In this case, air exists in the gap, but the air has lower thermal conductivity than the mounting substrate provided with the wiring electrode made of metal. Therefore, the first parts 5a to 5d, 4a, and 4b are sealed with the sealing film 8a while the gap between the one main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d and the one main surface 2a of the mounting substrate 2 is hollow. Then, the face-up in which the first components 5a to 5d, 4a and 4b are mounted in a state where the piezoelectric substrates 10a to 10d of the first components 5a to 5d, 4a and 4b are in contact with the one main surface 2a of the mounting substrate 2. Compared with the high-frequency module having a bonding configuration, heat generated from each of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b is hardly released to the outside. Therefore, by making the thermal conductivity of the sealing film 8a higher than the thermal conductivity of the sealing resin layer 9, the heat dissipation characteristics of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b are improved.

また、封止フィルム8aの弾性率は、封止樹脂層9の弾性率よりも低いことが好ましい。上記したように、封止フィルム8aは、その厚みが10〜500μmで形成されており、比較的薄いものであるため、各第1部品5a〜5d,4a,4bを封止フィルム8aで封止すると、封止フィルム8aの各第1部品5a〜5d,4a,4bの圧電基板10a〜10dのエッジ部に接触した部分が薄くなったり、その部分で封止フィルム8aが破れたりするおそれがある。そこで、封止フィルム8aの弾性率を封止樹脂層9の弾性率よりも低くすることで、封止フィルム8aの圧電基板10a〜10dのエッジ部に接触する部分にかかる応力が封止フィルム8a全体に分散され易くなるため、封止フィルム8aの圧電基板10a〜10dのエッジ部に接触する部分が薄くなったり、その部分で封止フィルム8aが破れたりするのを防止することができる。また、封止フィルム8aの線膨張係数を封止樹脂層9の線膨張係数よりも大きくすることでも、同様の効果を得ることができる。   Further, the elastic modulus of the sealing film 8 a is preferably lower than the elastic modulus of the sealing resin layer 9. As described above, since the sealing film 8a is formed with a thickness of 10 to 500 μm and is relatively thin, the first components 5a to 5d, 4a, and 4b are sealed with the sealing film 8a. As a result, the portions of the first parts 5a to 5d, 4a, and 4b of the sealing film 8a that are in contact with the edge portions of the piezoelectric substrates 10a to 10d may be thinned, or the sealing film 8a may be torn at that portion. . Therefore, by making the elastic modulus of the sealing film 8a lower than the elastic modulus of the sealing resin layer 9, the stress applied to the portion of the sealing film 8a that contacts the edge portions of the piezoelectric substrates 10a to 10d is reduced. Since it becomes easy to disperse | distribute to the whole, it can prevent that the part which contacts the edge part of piezoelectric substrate 10a-10d of the sealing film 8a becomes thin, or the sealing film 8a is torn at the part. Moreover, the same effect can be acquired also by making the linear expansion coefficient of the sealing film 8a larger than the linear expansion coefficient of the sealing resin layer 9.

また、封止フィルム8a内にAgまたはCuなどの金属で形成されたフィラを含有させて、封止フィルム8aを熱硬化性導電性樹脂で形成し、この封止フィルム8aを実装基板2に形成されたグランド電極に接続する構成であってもかまわない。この場合、実装基板2の一方主面2aの封止フィルム8aと接触する部分の少なくとも一部にグランド電極に接続された電極を形成し、当該電極と封止フィルム8aとを導通させればよい。このようにすると、各第1部品5a〜5d,4a,4bのシールド特性が向上する。   Further, a filler formed of a metal such as Ag or Cu is contained in the sealing film 8a, the sealing film 8a is formed of a thermosetting conductive resin, and the sealing film 8a is formed on the mounting substrate 2. It may be configured to be connected to the ground electrode. In this case, an electrode connected to the ground electrode may be formed on at least a part of the portion of the mounting substrate 2 that contacts the sealing film 8a, and the electrode and the sealing film 8a are electrically connected. . If it does in this way, the shielding characteristic of each 1st components 5a-5d, 4a, 4b will improve.

封止樹脂層9は、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂などで形成され、実装基板2の一方主面2a、封止フィルム8aおよび各第2部品6,7を被覆して設けられる。なお、この実施形態における封止樹脂層9は、熱硬化性のエポキシ樹脂で形成されている。   The sealing resin layer 9 is formed of, for example, an epoxy resin, a phenol resin, a cyanate resin, a polyimide resin, a bismaleimide resin, and the like. The one main surface 2a of the mounting substrate 2, the sealing film 8a, and the second components 6 and 7 are used. Is provided. In addition, the sealing resin layer 9 in this embodiment is formed with a thermosetting epoxy resin.

(高周波モジュール1の製造方法)
次に、高周波モジュール1の製造方法について、図3を参照して説明する。なお、図3は高周波モジュール1の製造方法を説明するための図であり、図2に対応する図である。また、(a)〜(d)はその各工程を示す。また、以下に示す、第2、第3実施形態にかかる高周波モジュール1a,1bにおいても、この製造方法を適用することができる。
(Manufacturing method of the high frequency module 1)
Next, the manufacturing method of the high frequency module 1 is demonstrated with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram for explaining a method of manufacturing the high-frequency module 1 and corresponds to FIG. Moreover, (a)-(d) shows each process. Also, this manufacturing method can be applied to the high-frequency modules 1a and 1b according to the second and third embodiments described below.

まず、第1部品として、それぞれベアチップ構造の第1、第2デュプレクサ4a,4bおよび各送信、受信フィルタ5a〜5dを準備する。例えば、送信フィルタ5aを例として説明すると、LiTiO3、LiNbO3、サファイアなどで形成された圧電基板10aの一方主面にそれぞれ4μm程度の厚みで櫛型電極11aおよび各接続端子12aを形成する。このとき、櫛型電極11aと各接続端子12aとは電気的に接続されている。次に、各接続端子12a上に半田バンプ13を形成してベアチップ構造の送信フィルタ5aを形成する。その他の各送信、受信フィルタ5b〜5dおよび第1、第2デュプレクサ4a,4bもほぼ同じプロセスで形成することができる。また、各第2部品として、各チップ部品6およびIC7も予め準備しておく。   First, first and second duplexers 4a and 4b having a bare chip structure and transmission and reception filters 5a to 5d are prepared as first components. For example, the transmission filter 5a will be described as an example. The comb-shaped electrode 11a and each connection terminal 12a are formed on one main surface of the piezoelectric substrate 10a formed of LiTiO3, LiNbO3, sapphire, etc. with a thickness of about 4 μm. At this time, the comb-shaped electrode 11a and each connection terminal 12a are electrically connected. Next, solder bumps 13 are formed on each connection terminal 12a to form a transmission filter 5a having a bare chip structure. The other transmission and reception filters 5b to 5d and the first and second duplexers 4a and 4b can be formed by substantially the same process. Each chip component 6 and IC 7 are also prepared in advance as each second component.

次に、図3(a)に示すように、実装基板2の一方主面2aに各第1部品5a〜5d,4a,4bおよび各第2部品6,7を実装する。例えば、第1部品5a〜5d,4a,4bの実装方法を例として説明すると、予め実装基板2の各実装電極3上に半田ペーストを、印刷方式、ディスペンス方式、転写方式などにより塗布し、その上に半田バンプ13付の各第1部品5a〜5d,4a,4bを搭載したあと、リフローにより実装基板2と各第1部品5a〜5d,4a,4bとを接続する。また、実装基板2に各第1部品5a〜5d,4a,4bを搭載する方法の他の例としては、予め実装基板2上にフラックスを印刷方式、ディスペンス方式、転写方式などにより塗布した上で、その上に半田バンプ13付の各第1部品5a〜5d,4a,4bを搭載する方法、各第1部品5a〜5d,4a,4bの半田バンプ13にフラックスを転写した上で、各第1部品5a〜5d,4a,4bを実装基板2上に搭載する方法、各第1部品5a〜5d,4a,4bの半田バンプ13にフラックス入りの半田ペーストを転写した上で、各第1部品5a〜5d,4a,4bを実装基板2上に搭載する方法などがある。なお、各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれにおいて、実装基板2に実装された状態で、圧電基板10a〜10dの一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間に隙間を形成するために、各第1部品5a〜5d,4a,4bの半田バンプ13は、その高さが70〜100μmとなるよう形成されている。   Next, as shown in FIG. 3A, the first components 5 a to 5 d, 4 a, 4 b and the second components 6, 7 are mounted on the one main surface 2 a of the mounting substrate 2. For example, the mounting method of the first components 5a to 5d, 4a, 4b will be described as an example. A solder paste is applied in advance on each mounting electrode 3 of the mounting substrate 2 by a printing method, a dispensing method, a transfer method, etc. After mounting the first components 5a to 5d, 4a and 4b with the solder bumps 13 thereon, the mounting substrate 2 and the first components 5a to 5d, 4a and 4b are connected by reflow. As another example of the method of mounting the first components 5a to 5d, 4a, 4b on the mounting substrate 2, a flux is applied to the mounting substrate 2 in advance by a printing method, a dispensing method, a transfer method, or the like. A method of mounting the first parts 5a to 5d, 4a and 4b with the solder bumps 13 thereon, and transferring the flux to the solder bumps 13 of the first parts 5a to 5d, 4a and 4b, A method of mounting the one component 5a-5d, 4a, 4b on the mounting substrate 2, and transferring the solder paste containing flux to the solder bump 13 of each first component 5a-5d, 4a, 4b, There is a method of mounting 5a to 5d, 4a, 4b on the mounting substrate 2. In each of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b, a gap is formed between one main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d and one main surface 2a of the mounting substrate 2 in a state of being mounted on the mounting substrate 2. In order to form, the solder bumps 13 of the first components 5a to 5d, 4a and 4b are formed to have a height of 70 to 100 μm.

次に、各第1部品5a〜5d,4a,4bおよび各第2部品6,7を実装した実装基板2を洗浄する。洗浄方法としては、実装基板2をグリコール系・アルコール系の洗浄液に10分程度浸漬したあと、さらに純水洗浄を行って実装基板2を乾燥させる方法、実装基板2をアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)等の溶剤に10分程度浸漬したあと、さらに純水洗浄を行って実装基板2を乾燥させる方法、酸素プラズマを用いて洗浄する方法などがある。なお、各第1部品5a〜5d,4a,4bは、その櫛型電極11a〜11d部分に、フラックス残渣、洗浄液残渣があると十分な特性が得られないため、残渣がないように確実に洗浄する必要がある。   Next, the mounting substrate 2 on which the first components 5a to 5d, 4a, 4b and the second components 6, 7 are mounted is cleaned. As a cleaning method, the mounting substrate 2 is dipped in a glycol-based / alcohol-based cleaning solution for about 10 minutes, and then the mounting substrate 2 is dried by washing with pure water. The mounting substrate 2 is acetone, isopropyl alcohol (IPA). For example, there are a method in which the mounting substrate 2 is dried by further cleaning with pure water after being immersed in a solvent such as 10 minutes, and a method in which cleaning is performed using oxygen plasma. The first parts 5a to 5d, 4a and 4b cannot be sufficiently cleaned if there are flux residues and cleaning liquid residues at the comb-shaped electrodes 11a to 11d. There is a need to.

次に、図3(b)に示すように、各第1部品5a〜5d,4a,4bを実装した実装基板2の一方主面2aの所定領域上に、半硬化状態の平板状の封止フィルム8aを配置して、封止フィルム8aの上から所定の押圧部材14を用いて真空状態で加熱・加圧することにより、図3(c)に示すように、封止フィルム8aにより各第1部品5a〜5d,4a,4bのみを一括で封止する。このように各第1部品5a〜5d,4a,4bを封止フィルム8aで封止すると、各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれの上記した隙間が中空状態で封止される。また、このとき、封止フィルム8aに、実装基板2の一方主面2aに密着するのり代8a1が形成される。なお、この実施形態における封止フィルム8aは、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリイミドアミド等を主成分として、SiO2等のフィラを含有している。   Next, as shown in FIG. 3B, a semi-cured flat plate-like seal is formed on a predetermined region of the one main surface 2a of the mounting substrate 2 on which the first components 5a to 5d, 4a, and 4b are mounted. By placing the film 8a and heating and pressing in a vacuum state using a predetermined pressing member 14 from above the sealing film 8a, each of the first films is sealed by the sealing film 8a as shown in FIG. Only the parts 5a to 5d, 4a and 4b are sealed together. Thus, when each 1st components 5a-5d, 4a, 4b are sealed with the sealing film 8a, each above-mentioned clearance gap between each 1st components 5a-5d, 4a, 4b will be sealed in a hollow state. At this time, a margin 8a1 is formed on the sealing film 8a so as to be in close contact with the one main surface 2a of the mounting substrate 2. In addition, the sealing film 8a in this embodiment contains a filler such as SiO 2 with an epoxy resin, polyimide, polyimide amide or the like as a main component.

また、各第1部品5a〜5d,4a,4bの実装基板2への搭載に関しては、例えば、平板状の封止フィルム8aの所定の位置に各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれの圧電基板10a〜10dの他方主面を貼り付けた第1部品付封止フィルムを用意して、この第1部品付封止フィルムを、実装基板2に搭載するようにしてもよい。   Moreover, regarding the mounting of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b on the mounting substrate 2, for example, each of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b is placed at a predetermined position on the flat sealing film 8a. A sealing film with a first component to which the other main surface of the piezoelectric substrates 10 a to 10 d is attached may be prepared, and the sealing film with the first component may be mounted on the mounting substrate 2.

次に、図3(d)に示すように、SiO2などのフィラを含有する液状のエポキシ樹脂を、実装基板2の一方主面2a、封止フィルム8aおよび各第2部品6,7を被覆するように塗布し、真空脱泡を行ってエポキシ樹脂内部の気泡を除去したあとに、エポキシ樹脂を硬化させて封止樹脂層9を形成し、高周波モジュール1を製造する。このとき、封止樹脂層9は、塗布方式、印刷方式、コンプレッションモールド方式、トランスファモールド方式などで形成することができる。なお、液状樹脂の代わりに、固形樹脂、シート状樹脂を用いて封止樹脂層9を形成してもかまわない。   Next, as shown in FIG. 3 (d), a liquid epoxy resin containing a filler such as SiO2 covers the one main surface 2a of the mounting substrate 2, the sealing film 8a, and the second components 6 and 7. After the application and vacuum defoaming to remove bubbles inside the epoxy resin, the epoxy resin is cured to form the sealing resin layer 9, and the high frequency module 1 is manufactured. At this time, the sealing resin layer 9 can be formed by a coating method, a printing method, a compression mold method, a transfer mold method, or the like. Note that the sealing resin layer 9 may be formed using a solid resin or a sheet-like resin instead of the liquid resin.

したがって、上記した実施形態によれば、各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれにおいて、圧電基板10a〜10dの一方主面に櫛型電極11a〜11dが形成され、実装基板2の一方主面2aに圧電基板10a〜10dの一方主面が対向し、かつ、実装基板2の一方主面2aと圧電基板10a〜10dの一方主面との間に隙間が設けられた状態で、各第1部品5a〜5d,4a,4bが実装基板2の一方主面2aに実装される。換言すれば、ベアチップ構造の各第1部品5a〜5d,4a,4bが、フェースダウンボンディングにより、直接、実装基板2に実装される。そして、封止フィルム8aにより、各第1部品それぞれの上記した隙間が密封された状態で封止されるため、各第1部品5a〜5d,4a,4bのフィルタまたはデュプレクサとしての機能が維持される。また、ベアチップ構造の各第1部品5a〜5d,4a,4bを、直接、実装基板2に実装する構造とすることで、図7に示した、従来のSAWフィルタ102をベース基板101に実装してパッケージ化した電子装置100を実装基板2に実装する構成とは異なり、パッケージ内のベース基板101が必要ないため、ベース基板101の厚み分だけ、高周波モジュール1の低背化を図ることができる。   Therefore, according to the above-described embodiment, in each of the first components 5a to 5d, 4a and 4b, the comb-shaped electrodes 11a to 11d are formed on one main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d, and the one main component of the mounting substrate 2 is formed. Each main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d faces the surface 2a, and a gap is provided between the one main surface 2a of the mounting substrate 2 and the one main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d. One component 5a to 5d, 4a, 4b is mounted on one main surface 2a of the mounting substrate 2. In other words, each first component 5a to 5d, 4a, 4b having a bare chip structure is directly mounted on the mounting substrate 2 by face-down bonding. And since the sealing film 8a seals the above-described gaps of the respective first components, the function as the filter or duplexer of each of the first components 5a to 5d, 4a, 4b is maintained. The Further, the conventional SAW filter 102 shown in FIG. 7 is mounted on the base substrate 101 by adopting a structure in which the first components 5a to 5d, 4a, and 4b having the bare chip structure are directly mounted on the mounting substrate 2. Unlike the configuration in which the packaged electronic device 100 is mounted on the mounting substrate 2, the base substrate 101 in the package is not required, so that the height of the high-frequency module 1 can be reduced by the thickness of the base substrate 101. .

また、図7に示した従来の電子装置100では、SAWフィルタ102を実装するのにベース基板101のサイズ(平面視での面積)をSAWフィルタ102よりも大きくする必要があり、例えば、実装基板2に、この電子装置100を実装する構成にすると、実装基板2にベース基板101のサイズに応じた実装領域を確保しなければならない。そこで、この実施形態の高周波モジュール1のように、それぞれベアチップ構造の各第1部品5a〜5d,4a,4bを、直接、実装基板2に実装する構成にすると、各第1部品5a〜5d,4a,4bのサイズに応じた実装領域を実装基板2の一方主面2aに確保すればよいため、実装基板2の主面の面積の小型化、ひいては、高周波モジュール1の小型化を図ることができる。   Further, in the conventional electronic device 100 shown in FIG. 7, the size (area in plan view) of the base substrate 101 needs to be larger than that of the SAW filter 102 in order to mount the SAW filter 102. 2, when the electronic device 100 is mounted, a mounting area corresponding to the size of the base substrate 101 must be secured on the mounting substrate 2. Therefore, when the first components 5a to 5d, 4a and 4b having the bare chip structure are directly mounted on the mounting substrate 2 as in the high-frequency module 1 of this embodiment, the first components 5a to 5d, Since a mounting area corresponding to the sizes of 4a and 4b may be ensured on the one main surface 2a of the mounting substrate 2, the area of the main surface of the mounting substrate 2 can be reduced, and consequently the high-frequency module 1 can be reduced. it can.

また、この実施形態の封止樹脂層9は、熱硬化性のエポキシ樹脂で形成されているが、熱硬化性樹脂は、一般的に熱可塑性樹脂と比較して、硬度や機械的強度が高いため、このように封止樹脂層9を熱硬化性樹脂で形成することで、各第2部品6,7への保護機能が向上する。また、封止樹脂層9を形成する液状樹脂で各第2部品6,7を被覆すると、各第2部品6,7は、それぞれの実装基板2の一方主面2aとの隙間に封止樹脂層9の樹脂が充填された状態で、封止樹脂層9により被覆されることになるため、各第2部品6,7と実装基板2との接続信頼性が向上する。   In addition, the sealing resin layer 9 of this embodiment is formed of a thermosetting epoxy resin, but the thermosetting resin generally has higher hardness and mechanical strength than the thermoplastic resin. Therefore, by forming the sealing resin layer 9 with the thermosetting resin in this way, the protection function for the second components 6 and 7 is improved. Further, when each of the second components 6 and 7 is covered with a liquid resin that forms the sealing resin layer 9, each of the second components 6 and 7 is sealed in the gap between the main surface 2 a of each mounting substrate 2. Since the resin of the layer 9 is filled with the sealing resin layer 9, the connection reliability between the second components 6 and 7 and the mounting substrate 2 is improved.

また、各第1部品5a〜5d,4a,4bが、実装基板2の一方主面2aの所定領域にまとめて実装され、同じ封止フィルム8aにより一括で封止されているため、各第1部品5a〜5d,4a,4bを個別のフィルムで封止する場合と比較して、各第1部品5a〜5d,4a,4bの搭載間隔を狭くすることができる。また、各第1部品5a〜5d,4a,4bを同じ封止フィルム8aで一括封止することで、封止フィルム8aを形成する作業工数を削減することができる。   Moreover, since each 1st components 5a-5d, 4a, 4b are collectively mounted in the predetermined area | region of the one main surface 2a of the mounting substrate 2, and are sealed collectively with the same sealing film 8a, each 1st Compared with the case where the components 5a to 5d, 4a, and 4b are sealed with individual films, the mounting interval between the first components 5a to 5d, 4a, and 4b can be narrowed. Moreover, the work man-hour which forms the sealing film 8a can be reduced by collectively sealing each 1st components 5a-5d, 4a, 4b with the same sealing film 8a.

<第2実施形態>
本発明の第2実施形態にかかる高周波モジュール1aについて、図4および図5を参照して説明する。なお、図4は高周波モジュール1aの平面図、図5は図4のB−B断面図である。また、図4において、封止樹脂層9を図示省略している。
Second Embodiment
A high frequency module 1a according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 is a plan view of the high-frequency module 1a, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. In FIG. 4, the sealing resin layer 9 is not shown.

この実施形態にかかる高周波モジュール1aが、図1および図2を参照して説明した第1実施形態の高周波モジュール1と異なるところは、各第1部品5a〜5d,4a,4bが個別に封止されている点である。その他の構成は、第1実施形態の高周波モジュール1と同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。   The high-frequency module 1a according to this embodiment differs from the high-frequency module 1 of the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 in that the first components 5a to 5d, 4a, and 4b are individually sealed. It is a point that has been. Since other configurations are the same as those of the high-frequency module 1 of the first embodiment, description thereof is omitted by attaching the same reference numerals.

この場合、図4および図5に示すように、2つの送信フィルタ5a,5bが第1封止フィルム8bにより一括で封止されるとともに、2つの受信フィルタ5c,5dが第2封止フィルム8cにより一括で封止される。また、第1、第2デュプレクサ4a,4bが、第3、第4封止フィルム8d,8eによりそれぞれ個別に封止される。なお、2つの送信フィルタ5a,5b並びに2つの受信フィルタ5c,5dそれぞれについても、別の封止フィルムにより個別に封止する構成であってもかまわない。   In this case, as shown in FIGS. 4 and 5, the two transmission filters 5a and 5b are collectively sealed by the first sealing film 8b, and the two reception filters 5c and 5d are the second sealing film 8c. Are collectively sealed. The first and second duplexers 4a and 4b are individually sealed with the third and fourth sealing films 8d and 8e, respectively. The two transmission filters 5a and 5b and the two reception filters 5c and 5d may be individually sealed with another sealing film.

このように構成すると、例えば、送信フィルタ5a,5bと受信フィルタ5c,5dとの間に第1封止フィルム8bおよび第2封止フィルム8cが介在することになるため、送信フィルタ5a,5bと受信フィルタ5c,5dとの間のアイソレーション特性が向上する。また、それぞれ異なる周波数帯域の通信信号が用いられる第1、第2デュプレクサ4a,4bについても同様に、両者間のアイソレーション特性が向上する。   With this configuration, for example, the first sealing film 8b and the second sealing film 8c are interposed between the transmission filters 5a and 5b and the reception filters 5c and 5d, so that the transmission filters 5a and 5b Isolation characteristics between the reception filters 5c and 5d are improved. Similarly, the isolation characteristics between the first and second duplexers 4a and 4b using communication signals of different frequency bands are improved.

<第3実施形態>
本発明の第3実施形態にかかる高周波モジュール1bについて、図6を参照して説明する。なお、図6は高周波モジュール1bの断面図であり、図2に対応する図である。
<Third Embodiment>
A high frequency module 1b according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of the high-frequency module 1b and corresponds to FIG.

この実施形態にかかる高周波モジュール1bが、図1および図2を参照して説明した第1実施形態の高周波モジュール1と異なるところは、図6に示すように、封止樹脂層9が、各第1部品5a〜5d,4a,4bの圧電基板10a〜10dの他方主面上の封止フィルム8aが露出した状態で、当該封止フィルム8aの露出した部分以外の部分を被覆している点である。その他の構成は、第1実施形態の高周波モジュール1と同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。   The high-frequency module 1b according to this embodiment is different from the high-frequency module 1 according to the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 as shown in FIG. In a state where the sealing film 8a on the other main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d of the one component 5a to 5d, 4a and 4b is exposed, a portion other than the exposed portion of the sealing film 8a is covered. is there. Since other configurations are the same as those of the high-frequency module 1 of the first embodiment, description thereof is omitted by attaching the same reference numerals.

この場合、封止樹脂層9は、各第1部品5a〜5d,4a,4bそれぞれにおける、圧電基板10a〜10dの櫛型電極11a〜11dが形成された一方主面の反対面である圧電基板10a〜10dの他方主面上の封止フィルム8aが露出した状態で、封止フィルム8aのその他の部分を被覆して設けられる。このようにすると、第1実施形態の高周波モジュール1のように、封止樹脂層9が封止フィルム8aの全体を被覆する構成と比較して、高周波モジュール1bの低背化を図ることができる。   In this case, the sealing resin layer 9 is a piezoelectric substrate that is opposite to the main surface on which the comb electrodes 11a to 11d of the piezoelectric substrates 10a to 10d are formed in each of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b. With the sealing film 8a on the other main surface of 10a to 10d exposed, the other part of the sealing film 8a is covered and provided. If it does in this way, compared with the structure which the sealing resin layer 9 coat | covers the whole sealing film 8a like the high frequency module 1 of 1st Embodiment, the height reduction of the high frequency module 1b can be achieved. .

また、封止フィルム8aおよび封止樹脂層9の色が異なる場合は、封止フィルム8aの封止樹脂層9から露出した部分を、高周波モジュール1bの方向認識マークとして活用することができる。   Moreover, when the colors of the sealing film 8a and the sealing resin layer 9 are different, the portion exposed from the sealing resin layer 9 of the sealing film 8a can be used as a direction recognition mark of the high-frequency module 1b.

なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能であり、例えば、上記した各実施形態の高周波モジュール1,1a,1bの製造方法では、各第1部品5a〜5d,4a,4bの接続端子12a〜12d上に半田バンプ13を形成する場合について説明したが、当該半田バンプ13の代わりに、各第1部品5a〜5d,4a,4bの接続端子12a〜12d上にAuからなるスタッドバンプを設けたり、Auめっきなどによりポスト電極を設けたりする構成であってもかまわない。この場合、AuスタッドバンプおよびAuポスト電極それぞれの高さを70μm程度に形成し、各第1部品5a〜5d,4a,4bの実装基板2への搭載時に、加圧・加熱・超音波振動を行うことで各第1部品5a〜5d,4a,4bを実装基板2に接続すればよい。このように接続すると、各第1部品5a〜5d,4a,4bを実装基板2に接続させた後のAuスタッドバンプまたはAuポスト電極の高さが15μm程度になるが、上記したように、各第1部品5a〜5d,4a,4bの櫛型電極11a〜11dの厚みが4μm程度で形成されているので、各第1部品5a〜5d,4a,4bを実装基板2に接続させた後でも、各第1部品5a〜5d,4a,4bの櫛型電極11a〜11dが実装基板2の一方主面2aに接触することがない。そのため、各第1部品5a〜5d,4a,4bの圧電基板10a〜10dの一方主面と実装基板2の一方主面との間に隙間が設けられた状態になり、各第1部品5a〜5d,4a,4bのフィルタまたはデュプレクサとしての機能が損なわれることがない。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the invention. In the method of manufacturing the high-frequency modules 1, 1a, 1b, the case where the solder bumps 13 are formed on the connection terminals 12a-12d of the first components 5a-5d, 4a, 4b has been described. The stud bumps made of Au may be provided on the connection terminals 12a to 12d of the first components 5a to 5d, 4a and 4b, or the post electrodes may be provided by Au plating or the like. In this case, the height of each Au stud bump and Au post electrode is formed to about 70 μm, and pressure, heating, and ultrasonic vibration are applied when the first components 5a to 5d, 4a, and 4b are mounted on the mounting substrate 2. By doing so, the first components 5a to 5d, 4a, and 4b may be connected to the mounting board 2. When connected in this way, the height of the Au stud bump or Au post electrode after connecting the first components 5a to 5d, 4a, 4b to the mounting substrate 2 is about 15 μm. Since the comb-shaped electrodes 11a to 11d of the first components 5a to 5d, 4a and 4b are formed with a thickness of about 4 μm, even after the first components 5a to 5d, 4a and 4b are connected to the mounting substrate 2. The comb-shaped electrodes 11a to 11d of the first components 5a to 5d, 4a and 4b do not come into contact with the one main surface 2a of the mounting substrate 2. Therefore, a gap is provided between one main surface of the piezoelectric substrates 10a to 10d of each of the first components 5a to 5d, 4a, and 4b and one main surface of the mounting substrate 2, and each of the first components 5a to 5d. The function as a filter or duplexer of 5d, 4a, 4b is not impaired.

また、上記した各実施形態では、フェースダウンボンディングにより実装した場合に、その機能を発揮させるために、素子基板(圧電基板10a〜10d)の一方主面と実装基板2の一方主面2aとの間の隙間を中空状態で封止する必要がある第1部品が、それぞれ弾性表面波フィルタ(各送信、受信フィルタ5a〜5d)や弾性表面波デュプレクサ(第1、第2デュプレクサ4a,4b)である場合について説明したが、その他の第1部品として、BAWフィルタやMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)を用いてもかまわない。   Further, in each of the above-described embodiments, when mounted by face-down bonding, the one main surface of the element substrate (piezoelectric substrates 10a to 10d) and the one main surface 2a of the mounting substrate 2 are used in order to exhibit the function. The first parts that need to be sealed in a hollow state are surface acoustic wave filters (respective transmission and reception filters 5a to 5d) and surface acoustic wave duplexers (first and second duplexers 4a and 4b). Although a certain case has been described, a BAW filter or MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) may be used as the other first component.

また、上記した各実施形態にかかる高周波モジュール1,1a,1bの製造方法では、各第1部品5a〜5d,4a,4bの接続端子12a〜12dに半田バンプ13を設ける場合について説明したが、実装基板2の実装電極3上に半田バンプを設けるようにしてもよい。   Moreover, in the manufacturing method of the high frequency module 1, 1a, 1b according to each of the above-described embodiments, the case where the solder bumps 13 are provided on the connection terminals 12a-12d of the first components 5a-5d, 4a, 4b has been described. Solder bumps may be provided on the mounting electrodes 3 of the mounting substrate 2.

また、本発明は、実装基板に実装された上記構成の部品を封止してなる種々の高周波モジュールに適用することができる。   Further, the present invention can be applied to various high-frequency modules formed by sealing the components having the above-described configuration mounted on a mounting board.

1,1a,1b 高周波モジュール
2 実装基板
3 実装電極(接続電極)
4a 第1デュプレクサ(第1部品)
4b 第2ディプレクサ(第1部品)
5a,5b 送信フィルタ(第1部品)
5c,5d 受信フィルタ(第1部品)
6 チップ部品(第2部品)
7 IC(第2部品)
8a 封止フィルム
8b 第1封止フィルム
8c 第2封止フィルム
8d 第3封止フィルム
8e 第4封止フィルム
9 封止樹脂層
10a〜10d 圧電基板(素子基板)
11a〜11d 櫛型電極(機能素子)
12a〜12d 接続端子
8a1 のり代
1, 1a, 1b High-frequency module 2 Mounting substrate 3 Mounting electrode (connection electrode)
4a First duplexer (first part)
4b Second diplexer (first part)
5a, 5b Transmission filter (first part)
5c, 5d Receive filter (first part)
6 Chip parts (second part)
7 IC (second part)
8a sealing film 8b first sealing film 8c second sealing film 8d third sealing film 8e fourth sealing film 9 sealing resin layer 10a to 10d piezoelectric substrate (element substrate)
11a to 11d Comb electrodes (functional elements)
12a-12d connection terminal 8a1 paste allowance

Claims (9)

その一方主面に接続電極が形成された実装基板と、
その一方主面に機能素子が形成された素子基板と、該素子基板の一方主面に形成され前記機能素子に電気的に接続された接続端子とを有し、前記実装基板の一方主面に前記素子基板の一方主面が対向し、かつ、前記実装基板の一方主面と前記素子基板の一方主面との間に隙間が設けられた状態で、前記接続端子が前記実装基板の前記接続電極に接続されて前記実装基板の一方主面の所定領域に実装される第1部品と、
前記第1部品とともに前記実装基板の一方主面の前記所定領域以外の領域に実装される第2部品と、
前記第1部品を被覆して前記実装基板の一方主面の前記所定領域に設けられ、前記素子基板の一方主面と前記実装基板の一方主面との間の前記隙間を密封状態に封止する封止フィルムと、
前記実装基板の一方主面、前記第1部品を被覆した前記封止フィルムの少なくとも一部および前記第2部品を被覆して設けられた封止樹脂層と
を備えることを特徴とする高周波モジュール。
A mounting substrate having a connection electrode formed on one main surface thereof;
It has an element substrate having a functional element formed on one main surface thereof, and a connection terminal formed on one main surface of the element substrate and electrically connected to the functional element, on one main surface of the mounting substrate. The connection terminal is connected to the mounting substrate in a state where the one main surface of the element substrate faces and a gap is provided between the one main surface of the mounting substrate and the one main surface of the element substrate. A first component connected to an electrode and mounted on a predetermined region of one main surface of the mounting substrate;
A second component that is mounted together with the first component in a region other than the predetermined region on one main surface of the mounting substrate;
Covering the first component, provided in the predetermined region of the one main surface of the mounting substrate, and sealing the gap between the one main surface of the element substrate and the one main surface of the mounting substrate in a sealed state Sealing film to be
A high-frequency module, comprising: one main surface of the mounting substrate; at least a part of the sealing film covering the first component; and a sealing resin layer provided covering the second component.
前記実装基板の一方主面の前記所定領域に複数の前記第1部品が実装され、
前記複数の第1部品が、単一の前記封止フィルムにより被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の高周波モジュール。
A plurality of the first components are mounted on the predetermined region of the one main surface of the mounting substrate,
The high-frequency module according to claim 1, wherein the plurality of first parts are covered with a single sealing film.
前記第1部品は、送信フィルタと受信フィルタとを備え、
前記封止フィルムは、
前記送信フィルタを被覆して設けられた第1封止フィルムと、
前記受信フィルタを被覆して設けられた第2封止フィルムとを備えることを特徴とする請求項1に記載の高周波モジュール。
The first component includes a transmission filter and a reception filter,
The sealing film is
A first sealing film provided to cover the transmission filter;
The high-frequency module according to claim 1, further comprising a second sealing film provided so as to cover the reception filter.
前記第1部品は、第1デュプレクサと、該第1デュプレクサに用いられる通信信号と異なる周波数帯域の通信信号が用いられる第2デュプレクサとを備え、
前記封止フィルムは、
前記第1デュプレクサを被覆して設けられた第3封止フィルムと、
前記第2デュプレクサを被覆して設けられた第4封止フィルムとを備えることを特徴とする請求項1に記載の高周波モジュール。
The first component includes a first duplexer and a second duplexer in which a communication signal having a frequency band different from that of the communication signal used in the first duplexer is used.
The sealing film is
A third sealing film provided to cover the first duplexer;
The high-frequency module according to claim 1, further comprising a fourth sealing film provided so as to cover the second duplexer.
前記封止フィルムが、熱硬化性導電性樹脂で形成され、
当該封止フィルムが前記実装基板に形成されたグランド電極に接続されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の高周波モジュール。
The sealing film is formed of a thermosetting conductive resin,
The high-frequency module according to claim 1, wherein the sealing film is connected to a ground electrode formed on the mounting substrate.
前記封止フィルムの熱伝導率が、前記封止樹脂層の熱伝導率よりも高いことを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の高周波モジュール。   The high frequency module according to claim 1, wherein a thermal conductivity of the sealing film is higher than a thermal conductivity of the sealing resin layer. 前記封止樹脂層が、熱硬化性樹脂で形成され、
前記封止フィルムの弾性率が前記封止樹脂層の弾性率よりも低いことを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の高周波モジュール。
The sealing resin layer is formed of a thermosetting resin;
The high-frequency module according to claim 1, wherein an elastic modulus of the sealing film is lower than an elastic modulus of the sealing resin layer.
前記封止フィルムは、前記第1部品を囲むように形成され、前記実装基板の一方主面に密着するのり代を有し、前記のり代の幅は前記封止フィルムの厚み以上であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の高周波モジュール。   The sealing film is formed so as to surround the first component, and has a glue margin that is in close contact with one main surface of the mounting substrate, and the width of the glue margin is equal to or greater than the thickness of the sealing film. The high frequency module according to claim 1, wherein the high frequency module is characterized in that: 前記封止樹脂層が、前記素子基板の他方主面上の前記封止フィルムが露出した状態で、前記封止フィルムの前記素子基板の他方主面上以外の部分を被覆していることを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の高周波モジュール。   The sealing resin layer covers a portion of the sealing film other than on the other main surface of the element substrate in a state where the sealing film on the other main surface of the element substrate is exposed. A high-frequency module according to any one of claims 1 to 8.
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