JP2001242295A - コリメーティングｘ線分光器およびコリメータ - Google Patents
コリメーティングｘ線分光器およびコリメータInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コリメータを試料に接近させて配置しても、
コリメータの反射面を常に清浄に保つことができるコリ
メーティングＸ線分光器およびコリメータを提供するこ
と。 【解決手段】 Ｘ線を透過させる保護薄膜２７が、コリ
メータのＸ線入射口２１を覆って設けられており、その
保護薄膜２７とＸ線入射口周縁部２３との間は密閉され
ている。このため、電子線照射によって試料から汚染物
質が発生したとしても、その汚染物質は、保護薄膜２７
で遮られてコリメータ１３の内部には入り込まず、ポリ
キャピラリ２５の反射面とコリメータ本体２０の反射面
は清浄に保たれる。この結果、それらの反射面でのＸ線
の反射率を高いまま保持でき、Ｘ線分光器の検出感度を
高く保つことができる。
コリメータの反射面を常に清浄に保つことができるコリ
メーティングＸ線分光器およびコリメータを提供するこ
と。 【解決手段】 Ｘ線を透過させる保護薄膜２７が、コリ
メータのＸ線入射口２１を覆って設けられており、その
保護薄膜２７とＸ線入射口周縁部２３との間は密閉され
ている。このため、電子線照射によって試料から汚染物
質が発生したとしても、その汚染物質は、保護薄膜２７
で遮られてコリメータ１３の内部には入り込まず、ポリ
キャピラリ２５の反射面とコリメータ本体２０の反射面
は清浄に保たれる。この結果、それらの反射面でのＸ線
の反射率を高いまま保持でき、Ｘ線分光器の検出感度を
高く保つことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、走査形電子顕微
鏡や電子プローブマイクロアナライザなどに用いられる
コリメーティングＸ線分光器、およびコリメータに関す
る。
鏡や電子プローブマイクロアナライザなどに用いられる
コリメーティングＸ線分光器、およびコリメータに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】 試料上のＸ線発生点からの発散Ｘ線を
平行ビームにするコリメータを備え、このコリメータで
平行ビーム化されたＸ線を平板分光結晶で分光し、分光
されたＸ線を比例計数管などで検出するコリメーティン
グＸ線分光器が、走査形電子顕微鏡や電子プローブマイ
クロアナライザなどに取り付けられ、試料の分析に用い
られている。
平行ビームにするコリメータを備え、このコリメータで
平行ビーム化されたＸ線を平板分光結晶で分光し、分光
されたＸ線を比例計数管などで検出するコリメーティン
グＸ線分光器が、走査形電子顕微鏡や電子プローブマイ
クロアナライザなどに取り付けられ、試料の分析に用い
られている。
【０００３】前記コリメータは、試料から発生したＸ線
のできるだけ多くをコリメータに入れるため、試料にで
きるだけ近づけて設けられている。また、このコリメー
タの内部はＸ線の反射面になっており、Ｘ線の反射率を
上げるために、その内面には金などがコーティングされ
ている。
のできるだけ多くをコリメータに入れるため、試料にで
きるだけ近づけて設けられている。また、このコリメー
タの内部はＸ線の反射面になっており、Ｘ線の反射率を
上げるために、その内面には金などがコーティングされ
ている。
【０００４】また、最近では、ミクロンオーダーのガラ
ス製のキャピラリを多数まとめた、いわゆるポリキャピ
ラリを、金などがコーティングされた反射面の内側部に
設けたコリメータも、上述した装置などに取り付けられ
ている。このようにポリキャピラリを設けることによっ
て、Ｘ線分光器の検出感度をさらに上げることができ
る。
ス製のキャピラリを多数まとめた、いわゆるポリキャピ
ラリを、金などがコーティングされた反射面の内側部に
設けたコリメータも、上述した装置などに取り付けられ
ている。このようにポリキャピラリを設けることによっ
て、Ｘ線分光器の検出感度をさらに上げることができ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】 さて、分析試料の中
には、電子線などの照射を受けると、その内部から汚染
物質を放出させるものがある。このとき、コリメータが
試料から十分に離れていればあまり問題とはならない
が、上述したように、コリメータは試料にできるだけ近
づけて設けられているので、試料から発生した汚染物質
はコリメータの反射面に付着してしまう。このように、
コリメータの反射面が汚れると、その反射面でのＸ線の
反射率が大きく減衰してしまう。なお、いったん汚染さ
れたコリメータの反射面をクリーニングすることは困難
である。
には、電子線などの照射を受けると、その内部から汚染
物質を放出させるものがある。このとき、コリメータが
試料から十分に離れていればあまり問題とはならない
が、上述したように、コリメータは試料にできるだけ近
づけて設けられているので、試料から発生した汚染物質
はコリメータの反射面に付着してしまう。このように、
コリメータの反射面が汚れると、その反射面でのＸ線の
反射率が大きく減衰してしまう。なお、いったん汚染さ
れたコリメータの反射面をクリーニングすることは困難
である。
【０００６】また、ポリキャピラリをコリメータの反射
面の内側部に設けたコリメータを用いたときには、ポリ
キャピラリ内面が試料から発生した汚染物質で汚染され
てＸ線の反射率が大きく減衰する上に、試料に電子線を
照射したとき、試料から発生した電子や反射電子によっ
て、ガラス製のポリキャピラリがチャージアップしてし
まう。このように、ポリキャピラリがチャージアップす
ると、試料を照射する１次電子線が偏向されて、所望の
分析位置に電子線が照射されないという問題が発生す
る。
面の内側部に設けたコリメータを用いたときには、ポリ
キャピラリ内面が試料から発生した汚染物質で汚染され
てＸ線の反射率が大きく減衰する上に、試料に電子線を
照射したとき、試料から発生した電子や反射電子によっ
て、ガラス製のポリキャピラリがチャージアップしてし
まう。このように、ポリキャピラリがチャージアップす
ると、試料を照射する１次電子線が偏向されて、所望の
分析位置に電子線が照射されないという問題が発生す
る。
【０００７】本発明はこのような点に鑑みて成されたも
ので、その目的の１つは、コリメータを試料に接近させ
て配置しても、コリメータの反射面を常に清浄に保つこ
とができるコリメーティングＸ線分光器およびコリメー
タを提供することにある。
ので、その目的の１つは、コリメータを試料に接近させ
て配置しても、コリメータの反射面を常に清浄に保つこ
とができるコリメーティングＸ線分光器およびコリメー
タを提供することにある。
【０００８】また、ポリキャピラリを内部に設けている
コリメータを用いたときに、ポリキャピラリのチャージ
アップをも防止することができるコリメーティングＸ線
分光器およびコリメータを提供することも、本発明の目
的の１つである。
コリメータを用いたときに、ポリキャピラリのチャージ
アップをも防止することができるコリメーティングＸ線
分光器およびコリメータを提供することも、本発明の目
的の１つである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】 これらの目的を達成す
る本発明のコリメーティングＸ線分光器は、Ｘ線発生点
からの発散Ｘ線を平行ビームにするコリメータを備え、
そのコリメータで平行ビーム化されたＸ線を平板分光結
晶で分光するコリメーティングＸ線分光器において、前
記コリメータのＸ線入射口に、Ｘ線を透過させる保護薄
膜を設けたことを特徴とする。
る本発明のコリメーティングＸ線分光器は、Ｘ線発生点
からの発散Ｘ線を平行ビームにするコリメータを備え、
そのコリメータで平行ビーム化されたＸ線を平板分光結
晶で分光するコリメーティングＸ線分光器において、前
記コリメータのＸ線入射口に、Ｘ線を透過させる保護薄
膜を設けたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】 以下、図面を用いて本発明の実
施の形態について説明する。
施の形態について説明する。
【００１１】図１は、本発明のコリメーティングＸ線分
光器の一例を示した図であり、本発明のコリメーティン
グＸ線分光器を備えた電子プローブマイクロアナライザ
（ＥＰＭＡ:Electron Probe x-ray Micro Analyzer）を
示した図である。
光器の一例を示した図であり、本発明のコリメーティン
グＸ線分光器を備えた電子プローブマイクロアナライザ
（ＥＰＭＡ:Electron Probe x-ray Micro Analyzer）を
示した図である。
【００１２】図１において、１は試料室チャンバであ
り、試料室チャンバ１の内部、すなわち試料室２は、図
示していない排気装置により排気されている。
り、試料室チャンバ１の内部、すなわち試料室２は、図
示していない排気装置により排気されている。
【００１３】３は試料ステージであり、試料ステージ３
は試料室２に配置されていて、ｘ，ｙおよびｚ方向に移
動可能に構成されている。この試料ステージ３上には、
分析試料４がセットされている。
は試料室２に配置されていて、ｘ，ｙおよびｚ方向に移
動可能に構成されている。この試料ステージ３上には、
分析試料４がセットされている。
【００１４】５は鏡筒であり、鏡筒５は試料室チャンバ
１に固定されている。この鏡筒５の内部には電子光学手
段が配置されており、上から順に、電子銃６、集束レン
ズ７、スキャンコイル８、対物レンズ９が配置されてい
る。
１に固定されている。この鏡筒５の内部には電子光学手
段が配置されており、上から順に、電子銃６、集束レン
ズ７、スキャンコイル８、対物レンズ９が配置されてい
る。
【００１５】前記電子銃６からの電子線は、集束レンズ
７と対物レンズ９により試料４上に集束される。この電
子線照射により、試料４から特性Ｘ線や２次電子などが
発生する。
７と対物レンズ９により試料４上に集束される。この電
子線照射により、試料４から特性Ｘ線や２次電子などが
発生する。
【００１６】また、試料４の２次電子像を得るときに
は、電子線はスキャンコイル８により偏向されて、試料
４上を２次元的に走査する。この電子線走査により試料
４から２次電子が発生するが、その２次電子は２次電子
検出器１０で検出され、２次電子検出器１０の出力が供
給される表示装置１１は、その表示画面上に２次電子像
を表示させる。
は、電子線はスキャンコイル８により偏向されて、試料
４上を２次元的に走査する。この電子線走査により試料
４から２次電子が発生するが、その２次電子は２次電子
検出器１０で検出され、２次電子検出器１０の出力が供
給される表示装置１１は、その表示画面上に２次電子像
を表示させる。
【００１７】また、図１において、１２はコリメーティ
ングＸ線分光器であり、コリメーティングＸ線分光器１
２は、コリメータ１３と平板分光結晶１４とＸ線検出器
１５で構成されている。このコリメーティングＸ線分光
器１２は、前記試料室チャンバ１に取り付けられてお
り、コリメータ１３は、試料４から発生した特性Ｘ線の
できるだけ多くをコリメータに入れるため、試料４にで
きるだけ接近して配置されている。
ングＸ線分光器であり、コリメーティングＸ線分光器１
２は、コリメータ１３と平板分光結晶１４とＸ線検出器
１５で構成されている。このコリメーティングＸ線分光
器１２は、前記試料室チャンバ１に取り付けられてお
り、コリメータ１３は、試料４から発生した特性Ｘ線の
できるだけ多くをコリメータに入れるため、試料４にで
きるだけ接近して配置されている。
【００１８】そして、図１に示すように、コリメータ１
３は、そのＸ線入射側先端に保護薄膜部材１６を備えて
いる。この保護薄膜部材１６を備えたことが、本発明の
コリメーティングＸ線分光器１２およびコリメータ１３
の特徴であり、以下、図２を用いてコリメータ１３の構
成について詳しく説明する。
３は、そのＸ線入射側先端に保護薄膜部材１６を備えて
いる。この保護薄膜部材１６を備えたことが、本発明の
コリメーティングＸ線分光器１２およびコリメータ１３
の特徴であり、以下、図２を用いてコリメータ１３の構
成について詳しく説明する。
【００１９】図２において、図２（ａ）は、前記保護薄
膜部材１６をコリメータ本体２０に取り付ける前の状態
を示した図であり、図２（ｂ）は、保護薄膜部材１６を
コリメータ本体２０に取り付けた後の状態を示した図で
ある。
膜部材１６をコリメータ本体２０に取り付ける前の状態
を示した図であり、図２（ｂ）は、保護薄膜部材１６を
コリメータ本体２０に取り付けた後の状態を示した図で
ある。
【００２０】まず、前記コリメータ本体２０について説
明すると、コリメータ本体２０は筒状であり、その内部
はＸ線の反射面となっていて、Ｘ線の反射率を上げるた
めに、その内面には金などがコーティングされている。
２１は、コリメータ本体２０に設けられたＸ線入射口で
あり、２２はＸ線取出口である。そして、Ｘ線入射口２
１の周縁部２３には、Ｏリング溝２４が切られている。
また、コリメータ本体２０内部のＸ線入射口側端部に
は、ガラス製のポリキャピラリ２５が設けられている。
明すると、コリメータ本体２０は筒状であり、その内部
はＸ線の反射面となっていて、Ｘ線の反射率を上げるた
めに、その内面には金などがコーティングされている。
２１は、コリメータ本体２０に設けられたＸ線入射口で
あり、２２はＸ線取出口である。そして、Ｘ線入射口２
１の周縁部２３には、Ｏリング溝２４が切られている。
また、コリメータ本体２０内部のＸ線入射口側端部に
は、ガラス製のポリキャピラリ２５が設けられている。
【００２１】次に、前記保護薄膜部材１６について説明
すると、図２（ａ）に示すように、保護薄膜部材１６
は、Ｏリング２６と、保護薄膜２７と、Ｘ線通過孔２８
を有するキャップ２９で構成されている。この保護薄膜
２７は、円盤状の金属薄膜であり、アルミニウムやベリ
リウムやカーボンやボロンなどで形成されている。そし
て、保護薄膜２６は、試料から発生した特性Ｘ線が透過
しやすいようにかなり薄く形成されている。
すると、図２（ａ）に示すように、保護薄膜部材１６
は、Ｏリング２６と、保護薄膜２７と、Ｘ線通過孔２８
を有するキャップ２９で構成されている。この保護薄膜
２７は、円盤状の金属薄膜であり、アルミニウムやベリ
リウムやカーボンやボロンなどで形成されている。そし
て、保護薄膜２６は、試料から発生した特性Ｘ線が透過
しやすいようにかなり薄く形成されている。
【００２２】さて、このような保護薄膜部材１６をコリ
メータ本体２０に取り付けるときには、まず、Ｏリング
溝２４にＯリング２６をはめ込む。そして、保護薄膜２
７をＸ線入射口周縁部２３上に置いた状態で、キャップ
２９をＸ線入射口周縁部２３に取り付ける。この結果、
保護薄膜２７は、キャップ２９によりＸ線入射口周縁部
２３に押し付けられ、保護薄膜２７とＸ線入射口周縁部
２３との間は、Ｏリング２６を介して密閉される。
メータ本体２０に取り付けるときには、まず、Ｏリング
溝２４にＯリング２６をはめ込む。そして、保護薄膜２
７をＸ線入射口周縁部２３上に置いた状態で、キャップ
２９をＸ線入射口周縁部２３に取り付ける。この結果、
保護薄膜２７は、キャップ２９によりＸ線入射口周縁部
２３に押し付けられ、保護薄膜２７とＸ線入射口周縁部
２３との間は、Ｏリング２６を介して密閉される。
【００２３】以上、図２を用いて、図１におけるコリメ
ータ１３の構成について説明したが、図１において、保
護薄膜部材１６の保護薄膜２７はアースに落とされてい
る。
ータ１３の構成について説明したが、図１において、保
護薄膜部材１６の保護薄膜２７はアースに落とされてい
る。
【００２４】また、図１において、１７は制御装置であ
る。この制御装置１７は、前記平板分光結晶１４および
Ｘ線検出器１５を駆動制御すると共に、Ｘ線検出器１５
の検出出力に基づいて試料の定性および定量分析を行う
ものである。
る。この制御装置１７は、前記平板分光結晶１４および
Ｘ線検出器１５を駆動制御すると共に、Ｘ線検出器１５
の検出出力に基づいて試料の定性および定量分析を行う
ものである。
【００２５】なお、前記平板分光結晶１４は、図１の紙
面に垂直な軸１４’のまわりに回動可能であり、また、
Ｘ線検出器１５は、ブラッグの条件を満足するように、
平板分光結晶１４の回動に応じて移動制御される。
面に垂直な軸１４’のまわりに回動可能であり、また、
Ｘ線検出器１５は、ブラッグの条件を満足するように、
平板分光結晶１４の回動に応じて移動制御される。
【００２６】以上、図１の装置構成について説明した
が、以下、このような装置の動作説明を行う。
が、以下、このような装置の動作説明を行う。
【００２７】まず、試料上の分析点が決められると、そ
の分析点に細く絞られた電子線が照射される。すると、
その電子線照射点から、その位置に存在する元素特有の
特性Ｘ線が発生する。
の分析点に細く絞られた電子線が照射される。すると、
その電子線照射点から、その位置に存在する元素特有の
特性Ｘ線が発生する。
【００２８】そして、試料上のＸ線発生点Ｓで発生した
発散Ｘ線のうち、コリメータ１３の方へ飛び出した発散
Ｘ線は、前記保護薄膜２７を透過して、コリメータ本体
２０内部の金などがコーティングされたコリメータの反
射面およびポリキャピラリ２５に入射する。入射したＸ
線は、コリメータの反射面やポリキャピラリ２５の各キ
ャピラリ内面で全反射されると共に平行化される。
発散Ｘ線のうち、コリメータ１３の方へ飛び出した発散
Ｘ線は、前記保護薄膜２７を透過して、コリメータ本体
２０内部の金などがコーティングされたコリメータの反
射面およびポリキャピラリ２５に入射する。入射したＸ
線は、コリメータの反射面やポリキャピラリ２５の各キ
ャピラリ内面で全反射されると共に平行化される。
【００２９】このようにしてコリメータ１３で平行ビー
ム化されたＸ線１８は、平板分光結晶１４に達し、平板
分光結晶１４で回折されたＸ線１９がＸ線検出器１５で
検出される。
ム化されたＸ線１８は、平板分光結晶１４に達し、平板
分光結晶１４で回折されたＸ線１９がＸ線検出器１５で
検出される。
【００３０】さて、図１の装置においては、Ｘ線を透過
させる保護薄膜２７が、コリメータのＸ線入射口２１を
覆って設けられており、その保護薄膜２７とＸ線入射口
周縁部２３との間は密閉されている。このため、電子線
照射によって試料から汚染物質が発生したとしても、そ
の汚染物質は、保護薄膜２７で遮られてコリメータ１３
の内部には入り込まず、ポリキャピラリ２５の反射面と
コリメータ本体２０の反射面は清浄に保たれる。この結
果、それらの反射面でのＸ線の反射率を高いまま保持で
き、Ｘ線分光器の検出感度を高く保つことができる。
させる保護薄膜２７が、コリメータのＸ線入射口２１を
覆って設けられており、その保護薄膜２７とＸ線入射口
周縁部２３との間は密閉されている。このため、電子線
照射によって試料から汚染物質が発生したとしても、そ
の汚染物質は、保護薄膜２７で遮られてコリメータ１３
の内部には入り込まず、ポリキャピラリ２５の反射面と
コリメータ本体２０の反射面は清浄に保たれる。この結
果、それらの反射面でのＸ線の反射率を高いまま保持で
き、Ｘ線分光器の検出感度を高く保つことができる。
【００３１】また、電子線照射によって試料から発生し
た電子や反射電子は、保護薄膜２７によって遮られて、
ポリキャピラリ２５内部には入り込まない。このため、
ポリキャピラリ２５がチャージアップすることはなく、
さらに、アース電位にある導電性保護薄膜２７はチャー
ジアップしないので、従来の問題であった１次電子線の
偏向を防止することができる。この結果、試料上の所望
の分析位置に電子線を照射することができる。
た電子や反射電子は、保護薄膜２７によって遮られて、
ポリキャピラリ２５内部には入り込まない。このため、
ポリキャピラリ２５がチャージアップすることはなく、
さらに、アース電位にある導電性保護薄膜２７はチャー
ジアップしないので、従来の問題であった１次電子線の
偏向を防止することができる。この結果、試料上の所望
の分析位置に電子線を照射することができる。
【００３２】なお、保護薄膜２７の汚れがひどくなれ
ば、保護薄膜自体を新しいものに交換すれば、簡単にＸ
線分光器を初期性能に回復することができる。
ば、保護薄膜自体を新しいものに交換すれば、簡単にＸ
線分光器を初期性能に回復することができる。
【００３３】以上、図１および図２を用いて本発明の一
例を説明したが、本発明はこの例に限定されるものでは
ない。
例を説明したが、本発明はこの例に限定されるものでは
ない。
【００３４】たとえば、上記例では、保護薄膜として金
属薄膜を用いたが、ポリプロピレンやマイラーなどで形
成された有機薄膜を代わりに用いて、汚染物質のコリメ
ータ内への進入を防止するようにしても良い。その場合
にも、有機薄膜の厚さを、試料から発生した特性Ｘ線が
透過しやすいように薄くすることが必要である。
属薄膜を用いたが、ポリプロピレンやマイラーなどで形
成された有機薄膜を代わりに用いて、汚染物質のコリメ
ータ内への進入を防止するようにしても良い。その場合
にも、有機薄膜の厚さを、試料から発生した特性Ｘ線が
透過しやすいように薄くすることが必要である。
【００３５】さらに、保護薄膜としてこのように有機薄
膜を用いたときには、その有機薄膜のＸ線発生点Ｓ側を
向く面のみ、または両面共に導電性コーティングを施し
て、そのコーティング面をアースに落とすようにすれば
良い。そのようにすれば、電子線照射によって試料から
発生した電子や反射電子によって、非導電性の有機薄膜
がチャージアップすることを防止できる。
膜を用いたときには、その有機薄膜のＸ線発生点Ｓ側を
向く面のみ、または両面共に導電性コーティングを施し
て、そのコーティング面をアースに落とすようにすれば
良い。そのようにすれば、電子線照射によって試料から
発生した電子や反射電子によって、非導電性の有機薄膜
がチャージアップすることを防止できる。
【００３６】また、図２では、Ｏリング２６を用いて、
保護薄膜とコリメータのＸ線入射口との間は完全密閉構
造としたが、保護膜と周縁部２３との間からの汚染物質
や電子のコリメータ内部への侵入を充分に防げる構造で
あれば、完全密閉構造でなくてもよい。この場合はＯリ
ング溝２４はなくてもよい。
保護薄膜とコリメータのＸ線入射口との間は完全密閉構
造としたが、保護膜と周縁部２３との間からの汚染物質
や電子のコリメータ内部への侵入を充分に防げる構造で
あれば、完全密閉構造でなくてもよい。この場合はＯリ
ング溝２４はなくてもよい。
【００３７】また、図３に示すように、コリメータのＸ
線入射口側とＸ線取出口側の両方に交換可能な保護薄膜
を取り付けるようにしても良い。
線入射口側とＸ線取出口側の両方に交換可能な保護薄膜
を取り付けるようにしても良い。
【００３８】図３において、Ｘ線入射口側の保護薄膜部
材１６は、前記図１および図２に示したものと同様のも
のである。そして、図３のコリメータにおいては、保護
薄膜３０が、キャップ３１によりＸ線取出口周縁部３２
に取り付けられている。
材１６は、前記図１および図２に示したものと同様のも
のである。そして、図３のコリメータにおいては、保護
薄膜３０が、キャップ３１によりＸ線取出口周縁部３２
に取り付けられている。
【００３９】また、図３のコリメータにおいては、コリ
メータ本体３３側面に空気抜き穴３４が開けられてお
り、前記試料室２が真空排気されたときに、このコリメ
ータの内部も、空気抜き穴３４を通じて同様に排気され
るようになっている。このため、コリメータの内外にお
いて圧力差が生じることはなく、前記保護薄膜２７（第
１の保護薄膜）や保護薄膜３０（第２の保護薄膜）の破
損を防ぐことができる。
メータ本体３３側面に空気抜き穴３４が開けられてお
り、前記試料室２が真空排気されたときに、このコリメ
ータの内部も、空気抜き穴３４を通じて同様に排気され
るようになっている。このため、コリメータの内外にお
いて圧力差が生じることはなく、前記保護薄膜２７（第
１の保護薄膜）や保護薄膜３０（第２の保護薄膜）の破
損を防ぐことができる。
【００４０】なお、前記保護薄膜３０としては、金属薄
膜を用いても良いし、また、有機薄膜を用いても良い。
そして、有機薄膜を用いたときには、その有機薄膜の分
光結晶側の面または両面に導電性コーティングを施し
て、そのコーティング面をアースに落とすようにしても
良い。
膜を用いても良いし、また、有機薄膜を用いても良い。
そして、有機薄膜を用いたときには、その有機薄膜の分
光結晶側の面または両面に導電性コーティングを施し
て、そのコーティング面をアースに落とすようにしても
良い。
【００４１】また、前記図２、図３に示したコリメータ
において、保護薄膜２７の片面、または両面をメッシュ
などでサポートした状態で、それらをキャップ２９でコ
リメータ本体に固定するようにしても良い。同様に、図
３に示したコリメータにおいて、保護薄膜３０の片面、
または両面をメッシュなどでサポートした状態で、それ
らをキャップ３１でコリメータ本体に固定するようにし
ても良い。
において、保護薄膜２７の片面、または両面をメッシュ
などでサポートした状態で、それらをキャップ２９でコ
リメータ本体に固定するようにしても良い。同様に、図
３に示したコリメータにおいて、保護薄膜３０の片面、
または両面をメッシュなどでサポートした状態で、それ
らをキャップ３１でコリメータ本体に固定するようにし
ても良い。
【００４２】また、上記例では、本発明のコリメーティ
ングＸ線分光器を電子プローブマイクロアナライザに適
用した場合について説明したが、本発明のコリメーティ
ングＸ線分光器を走査形電子顕微鏡や、試料にＸ線を照
射して試料からの蛍光Ｘ線をＸ線分光器を用いて検出す
る蛍光Ｘ線分析装置に適用することもできる。
ングＸ線分光器を電子プローブマイクロアナライザに適
用した場合について説明したが、本発明のコリメーティ
ングＸ線分光器を走査形電子顕微鏡や、試料にＸ線を照
射して試料からの蛍光Ｘ線をＸ線分光器を用いて検出す
る蛍光Ｘ線分析装置に適用することもできる。
【００４３】また、図１では、試料室２内に平板分光結
晶１４とＸ線検出器１５を配置している例であるが、コ
リメータ１３と平板分光結晶１４の間の距離は任意にと
れるため、コリメータ１３と平板分光結晶１４の間に真
空隔離窓を設けて、平板分光結晶１４とＸ線検出器１５
は試料室２と隔離し、大気中または試料室２内よりもわ
るい真空中に置くようにしてもよい。
晶１４とＸ線検出器１５を配置している例であるが、コ
リメータ１３と平板分光結晶１４の間の距離は任意にと
れるため、コリメータ１３と平板分光結晶１４の間に真
空隔離窓を設けて、平板分光結晶１４とＸ線検出器１５
は試料室２と隔離し、大気中または試料室２内よりもわ
るい真空中に置くようにしてもよい。
【図１】 本発明のコリメーティングＸ線分光器を電子
プローブマイクロアナライザに取り付けた例を示した図
である。
プローブマイクロアナライザに取り付けた例を示した図
である。
【図２】 図１のコリメータ１３を説明するために示し
た図である。
た図である。
【図３】 Ｘ線入射口側とＸ線取出口側の両方に保護薄
膜を設けた、本発明のコリメータの例を示した図であ
る。
膜を設けた、本発明のコリメータの例を示した図であ
る。
１…試料室チャンバ、２…試料室、３…試料ステージ、
４…試料、５…鏡筒、６…電子銃、７…集束レンズ、８
…スキャンコイル、９…対物レンズ、１０…２次電子検
出器、１１…表示装置、１２…コリメーティングＸ線分
光器、１３…コリメータ、１４…平板分光結晶、１５…
Ｘ線検出器、１６…保護薄膜部材、１７…制御装置、２
０、３３…コリメータ本体、２１…Ｘ線入射口、２２…
Ｘ線取出口、２３…Ｘ線入射口周縁部、２４…Ｏリング
溝、２５…ポリキャピラリ、２６…Ｏリング、２７、３
０…保護薄膜、２８…Ｘ線通過孔、２９、３１…キャッ
プ、３２…Ｘ線取出口周縁部、３４…空気抜き穴
４…試料、５…鏡筒、６…電子銃、７…集束レンズ、８
…スキャンコイル、９…対物レンズ、１０…２次電子検
出器、１１…表示装置、１２…コリメーティングＸ線分
光器、１３…コリメータ、１４…平板分光結晶、１５…
Ｘ線検出器、１６…保護薄膜部材、１７…制御装置、２
０、３３…コリメータ本体、２１…Ｘ線入射口、２２…
Ｘ線取出口、２３…Ｘ線入射口周縁部、２４…Ｏリング
溝、２５…ポリキャピラリ、２６…Ｏリング、２７、３
０…保護薄膜、２８…Ｘ線通過孔、２９、３１…キャッ
プ、３２…Ｘ線取出口周縁部、３４…空気抜き穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA01 AA03 BA04 BA05 BA07 BA11 CA03 EA01 FA12 GA01 GA06 GA08 JA02 JA03 JA04 JA05 JA14 KA01 PA11 SA01 SA02 SA04 2G020 CB03 CB07 CB36 CB45 CC01 CC07 CC56 CD12 CD25 CD51 CD56 5C033 PP02
Claims (20)
- 【請求項１】 Ｘ線発生点からの発散Ｘ線を平行ビーム
にするコリメータを備え、そのコリメータで平行ビーム
化されたＸ線を平板分光結晶で分光するコリメーティン
グＸ線分光器において、前記コリメータのＸ線入射口
に、Ｘ線を透過させる保護薄膜を設けたことを特徴とす
るコリメーティングＸ線分光器。 - 【請求項２】 前記保護薄膜は、着脱可能に前記コリメ
ータのＸ線入射口に取り付けられていることを特徴とす
る請求項１記載のコリメーティングＸ線分光器。 - 【請求項３】 前記保護薄膜と前記コリメータのＸ線入
射口との間は、密閉構造とされていることを特徴とする
請求項１記載のコリメーティングＸ線分光器。 - 【請求項４】 前記保護薄膜として金属薄膜が用いられ
ていることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載
のコリメーティングＸ線分光器。 - 【請求項５】 前記保護薄膜として有機薄膜が用いら
れ、その有機薄膜のＸ線発生点側の面のみ、または両面
共に導電性コーティングが施され、そのコーティング面
がアースに落とされていることを特徴とする請求項１か
ら３の何れかに記載のコリメーティングＸ線分光器。 - 【請求項６】 Ｘ線発生点からの発散Ｘ線を平行ビーム
にするコリメータを備え、そのコリメータで平行ビーム
化されたＸ線を平板分光結晶で分光するコリメーティン
グＸ線分光器において、前記コリメータのＸ線入射口
に、Ｘ線を透過させる第１の保護薄膜を設けると共に、
前記コリメータのＸ線取出口に、Ｘ線を透過させる第２
の保護薄膜を設けたことを特徴とするコリメーティング
Ｘ線分光器。 - 【請求項７】 前記第１の保護薄膜は、着脱可能に前記
コリメータのＸ線入射口に取り付けられ、前記第２の保
護薄膜は、着脱可能に前記コリメータのＸ線取出口に取
り付けられていることを特徴とする請求項６記載のコリ
メーティングＸ線分光器。 - 【請求項８】 前記第１の保護薄膜と前記コリメータの
Ｘ線入射口との間は密閉構造とされ、前記第２の保護薄
膜と前記コリメータのＸ線取出口との間は非密閉構造と
されていることを特徴とする請求項６記載のコリメーテ
ィングＸ線分光器。 - 【請求項９】 前記第１および第２の保護薄膜として金
属薄膜が用いられていることを特徴とする請求項６から
８の何れかに記載のコリメーティングＸ線分光器。 - 【請求項１０】 前記第１および第２の保護薄膜として
有機薄膜が用いられ、第１の保護薄膜のＸ線発生点側の
面のみ、または両面共に導電性コーティングが施され、
そのコーティング面がアースに落とされていることを特
徴とする請求項６から８の何れかに記載のコリメーティ
ングＸ線分光器。 - 【請求項１１】 発散Ｘ線を平行ビームにするコリメー
タにおいて、そのＸ線入射口に、Ｘ線を透過させる保護
薄膜を設けたことを特徴とするコリメータ。 - 【請求項１２】 前記保護薄膜は、着脱可能に前記Ｘ線
入射口に取り付けられていることを特徴とする請求項１
１記載のコリメータ。 - 【請求項１３】 前記保護薄膜と前記Ｘ線入射口との間
は、密閉構造とされていることを特徴とする請求項１１
記載のコリメータ。 - 【請求項１４】 前記保護薄膜として金属薄膜が用いら
れていることを特徴とする請求項１１から１３の何れか
に記載のコリメータ。 - 【請求項１５】 前記保護薄膜として有機薄膜が用いら
れ、その有機薄膜の外側の面のみ、または両面共に導電
性コーティングが施されていることを特徴とする請求項
１１から１３の何れかに記載のコリメータ。 - 【請求項１６】 発散Ｘ線を平行ビームにするコリメー
タにおいて、そのＸ線入射口に、Ｘ線を透過させる第１
の保護薄膜を設けると共に、そのＸ線取出口に、Ｘ線を
透過させる第２の保護薄膜を設けたことを特徴とするコ
リメータ。 - 【請求項１７】 前記第１の保護薄膜は、着脱可能に前
記Ｘ線入射口に取り付けられ、前記第２の保護薄膜は、
着脱可能に前記Ｘ線取出口に取り付けられていることを
特徴とする請求項１６記載のコリメータ。 - 【請求項１８】 前記第１の保護薄膜と前記Ｘ線入射口
との間は密閉構造とされ、前記第２の保護薄膜と前記Ｘ
線取出口との間は非密閉構造とされていることを特徴と
する請求項１６記載のコリメータ。 - 【請求項１９】 前記第１および第２の保護薄膜として
金属薄膜が用いられていることを特徴とする請求項１６
から１８の何れかに記載のコリメータ。 - 【請求項２０】 前記第１および第２の保護薄膜として
有機薄膜が用いられ、第１の保護薄膜の外側の面のみ、
または両面共に導電性コーティングが施されていること
を特徴とする請求項１６から１８の何れかに記載のコリ
メータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000055230A JP3869995B2 (ja) | 2000-03-01 | 2000-03-01 | コリメーティングｘ線分光器およびコリメータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000055230A JP3869995B2 (ja) | 2000-03-01 | 2000-03-01 | コリメーティングｘ線分光器およびコリメータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001242295A true JP2001242295A (ja) | 2001-09-07 |
| JP3869995B2 JP3869995B2 (ja) | 2007-01-17 |
Family
ID=18576389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000055230A Expired - Lifetime JP3869995B2 (ja) | 2000-03-01 | 2000-03-01 | コリメーティングｘ線分光器およびコリメータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3869995B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006337301A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
| JP2006337290A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP2006337122A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP2007256038A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Jeol Ltd | 表面分析装置 |
| JP2012088284A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-05-10 | Shimadzu Corp | Ｘ線検出器及びそれを備えた表面分析装置 |
-
2000
- 2000-03-01 JP JP2000055230A patent/JP3869995B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006337122A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP2006337301A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
| JP2006337290A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP4639971B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2011-02-23 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析装置 |
| JP2007256038A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Jeol Ltd | 表面分析装置 |
| JP2012088284A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-05-10 | Shimadzu Corp | Ｘ線検出器及びそれを備えた表面分析装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3869995B2 (ja) | 2007-01-17 |
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