JP2001237532A - Flux coating method - Google Patents

Flux coating method

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JP2001237532A
JP2001237532A JP2000047182A JP2000047182A JP2001237532A JP 2001237532 A JP2001237532 A JP 2001237532A JP 2000047182 A JP2000047182 A JP 2000047182A JP 2000047182 A JP2000047182 A JP 2000047182A JP 2001237532 A JP2001237532 A JP 2001237532A
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JP
Japan
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flux
circuit board
fine particles
spray
water
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JP2000047182A
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Japanese (ja)
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Katsuyuki Ichikawa
克之 市川
Toshiyuki Shimizu
俊幸 清水
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flux coating method wherein there is no effect exerted on quality as a circuit board, control is simple and a proper amount of flux can be continuously applied on a desired part of the circuit board, so that superior soldering is enabled. SOLUTION: This flux coating method is a method for applying flux whose base material is water on the circuit board 46. By sticking fine particles of the flux on the circuit board at a room temperature or in a dry atmosphere, the diameter of the flux fine particle stuck on the circuit board is set to be at most 30 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、水を基材としたフ
ラックスを用いることにより、半田付けに必要なフラッ
クスを回路基板の所望の箇所に連続的に適量供給するフ
ラックス塗布方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flux coating method for supplying a flux required for soldering to a desired portion of a circuit board continuously by using a flux based on water.

【0002】[0002]

【従来の技術】回路基板に電子部品を半田付け実装する
場合、回路基板の電極部との濡れ性を確保し、良好な半
田付けを行うため、半田付け実装前にフラックスを回路
基板上に塗布している。このフラックスとしては、ロジ
ン系のフラックスや水を基材としたフラックスなどが用
いられるが、VOC(揮発性有機化合物)を含まないこ
とが地球環境への影響の観点から望ましく、このため、
水を基材としたフラックスが用いられている。水を基材
としたフラックスは、水と活性成分とだけから構成され
るものである。
2. Description of the Related Art When an electronic component is mounted on a circuit board by soldering, a flux is applied to the circuit board before soldering and mounting in order to ensure wettability with an electrode portion of the circuit board and perform good soldering. are doing. As the flux, a rosin-based flux or a flux based on water is used. However, it is desirable that the flux does not contain VOC (volatile organic compound) from the viewpoint of impact on the global environment.
A flux based on water is used. The water-based flux is composed only of water and the active ingredient.

【0003】図7はフラックスを回路基板に連続的に塗
布するために用いられるスプレーフラクサ10を示す。
スプレーフラクサ10は、その入口11側から出口12
側に向かって走行する一対の搬送ベルト13を備えてい
る。搬送ベルト13は駆動ベルト19を介して駆動装置
18によって駆動される。
FIG. 7 shows a spray fluxer 10 used for continuously applying a flux to a circuit board.
The spray fluxer 10 has an inlet 11 and an outlet 12.
A pair of transport belts 13 running toward the side are provided. The transport belt 13 is driven by a driving device 18 via a driving belt 19.

【0004】搬送ベルト13の下方には、スプレーノズ
ル14が配置されている。スプレーノズル14には圧縮
空気とフラックスとが送り込まれることにより、先端の
噴霧口14aからフラックス微粒子15が上方に向けて
噴霧される。また、スプレーフレクサ10の上面部分
は、装置内部の空気を図示しない排気装置によって外部
へ排出する排気口17が形成されている。
[0004] A spray nozzle 14 is arranged below the conveyor belt 13. By sending compressed air and flux into the spray nozzle 14, the flux fine particles 15 are sprayed upward from the spray port 14a at the tip. An exhaust port 17 for discharging air inside the apparatus to the outside by an exhaust device (not shown) is formed in the upper surface portion of the spray flexure 10.

【0005】図8はスプレーノズル14の先端部分の内
部構造を示し、ノズル21がノズルカバー23内に挿入
されている。ノズル21には管状のフラックスの通路2
1aが形成されており、ノズル21内に導入されたフラ
ックス微粒子15は、ノズル21の先端部分に直径Dで
開口された噴霧口14aから噴射される。噴霧口14a
の直径Dは、0.5〜1.0mm程度であり、これに対
し、噴霧されるフラックス15の粒子径は、30〜40
μm程度であるが、最大の粒子径はさらに大きな値とな
る。
FIG. 8 shows the internal structure of the tip of the spray nozzle 14, in which a nozzle 21 is inserted into a nozzle cover 23. Nozzle 21 has a tubular flux passage 2
1 a is formed, and the flux fine particles 15 introduced into the nozzle 21 are jetted from a spray port 14 a having a diameter D at the tip of the nozzle 21. Spray port 14a
Has a diameter D of about 0.5 to 1.0 mm, whereas the particle diameter of the sprayed flux 15 is 30 to 40 mm.
Although it is on the order of μm, the maximum particle size becomes a larger value.

【0006】図8に示すように、ノズル21の内部に
は、ニードル22が挿入されている。ニードル22は図
示を省略するが、調整つまみによって、軸方向(上下)
方向に移動自在となっており、この移動によってフラッ
クスの通路21aの幅wを調整することができる。従っ
て、フラックス微粒子15の噴霧量を調節することが可
能となっている。
[0006] As shown in FIG. 8, a needle 22 is inserted inside the nozzle 21. The needle 22 is not shown, but is adjusted in the axial direction (up and down) by an adjustment knob.
The width w of the flux passage 21a can be adjusted by this movement. Therefore, it is possible to adjust the spray amount of the flux fine particles 15.

【0007】ノズルカバー23とノズル21との間は、
空気通路23aとなっており、この空気通路23a内に
は、矢印で示す方向に空気が流れている。この空気の圧
力を変えることにより、フラックス微粒子15への吹き
付け圧力が変化するため、噴霧されるフラックス微粒子
15の吹き出し角度θを調整することができる。
The space between the nozzle cover 23 and the nozzle 21 is
An air passage 23a is formed, and air flows in the air passage 23a in a direction indicated by an arrow. By changing the pressure of the air, the blowing pressure to the flux fine particles 15 changes, so that the blowing angle θ of the sprayed flux fine particles 15 can be adjusted.

【0008】以上の装置では、駆動装置18により駆動
ベルト19を介して、搬送ベルト13を走行させ、入口
11から導入された回路基板16を搬送ベルト13上に
載置して出口12方向に搬送する。この搬送によって回
路基板16がスプレーノズル14の上方を通過する際
に、スプレーノズル14からフラックス微粒子15を霧
状に吹き付けて回路基板16にフラックスを塗布する。
そして、フラックスが塗布された回路基板16は、搬送
ベルト13によって搬送され、出口12から搬出され
る。
In the above-described apparatus, the transport belt 13 is caused to travel by the drive device 18 via the drive belt 19, and the circuit board 16 introduced from the entrance 11 is placed on the transport belt 13 and transported in the direction of the exit 12. I do. When the circuit board 16 passes above the spray nozzle 14 by this conveyance, the flux fine particles 15 are sprayed from the spray nozzle 14 in the form of mist to apply the flux to the circuit board 16.
Then, the circuit board 16 to which the flux has been applied is transported by the transport belt 13 and is carried out from the outlet 12.

【0009】しかしながら、このようなスプレーフレク
サを使用して、水を基材としたフラックスを塗布する
と、フラックス微粒子15の粒子径が、平均で30〜4
0μmであり、最大粒子径がこれよりもさらに大きいた
め、回路基板16の電極部に付着したフラックス微粒子
が相互に密着して水滴状となって、半田付けの品質に影
響を与えることがある。特に、水が90重量%以上を占
めるフラックスでは、付着した微粒子が大きくなるた
め、半田付けの品質に与える影響が顕著となっている。
However, when a flux based on water is applied using such a spray flexor, the average particle diameter of the flux fine particles 15 is 30 to 4%.
Since the maximum particle diameter is 0 μm and the maximum particle diameter is larger than the above, the fine particles of the flux adhered to the electrode portion of the circuit board 16 may adhere to each other to form water droplets, which may affect the quality of soldering. In particular, in a flux in which water accounts for 90% by weight or more, the attached fine particles become large, and the influence on the soldering quality is remarkable.

【0010】すなわち、スプレーノズル14から噴霧さ
れて回路基板16の電極部に付着したフラックス微粒子
は、その付着の瞬間では、電極部上に一様に分布する
が、水が90重量%以上を占めるフラックスでは、水の
蒸発潜熱が大きいため、フラックス微粒子中の水分が蒸
発しにくく、水分を多く含んだ状態でフラックス微粒子
が電極部上に残留する。しかも、水は表面張力が大きい
ため、水分を多く含んだ微粒子ほど後から噴霧された微
粒子や隣接している微粒子と密着し易く、速やかに水滴
状となる。そして、この水滴状で回路基板の電極部上に
点在する。また、水滴状となったフラックス微粒子は、
さらに水分が蒸発しにくくなる。そして、このような水
分を含んだ状態で半田付けを行うと、蒸発せずに残って
いる水分がフラックス作用を阻害し、半田の不濡れや未
半田等の半田付け不良を引き起こす。さらに、半田付け
の直前に水分が蒸発した場合でも、回路基板の電極上に
活性成分が断続的に斑状に残留しているため、良好な半
円付け性を得ることができないものとなる。
That is, the flux fine particles sprayed from the spray nozzle 14 and adhered to the electrode portion of the circuit board 16 are uniformly distributed on the electrode portion at the moment of the adhesion, but water accounts for 90% by weight or more. In the flux, since the latent heat of vaporization of water is large, the moisture in the flux fine particles hardly evaporates, and the flux fine particles remain on the electrode portion in a state containing a large amount of water. In addition, since water has a large surface tension, fine particles containing a large amount of water are more likely to adhere to fine particles sprayed later or fine particles adjacent to the fine particles, and quickly become water droplets. The water droplets are scattered on the electrode portion of the circuit board. In addition, the flux particles that have become water droplets are:
Further, the moisture is less likely to evaporate. Then, when soldering is performed in a state containing such moisture, the moisture remaining without evaporating impairs the flux action, and causes soldering failure such as non-wetting of the solder and unsoldering. Furthermore, even if moisture evaporates immediately before soldering, good semicircularity cannot be obtained because the active component remains intermittently on the electrodes of the circuit board.

【0011】特開平8−229674号公報は、このよ
うな問題点を解決するために提案されたものである。こ
の方法は、付着したフラックス微粒子の水分を速やかに
蒸発させ、連続的な活性成分の被膜を形成するために、
100〜250℃に加熱されたスプレーノズルを用い
て、水を基材としたフラックスを回路基板上に噴霧して
いる。また、回路基板を予め100℃程度に加熱し、こ
の加熱された回路基板に対して、水を基材とするフラッ
クスを噴霧している。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-229674 has been proposed to solve such a problem. This method quickly evaporates the moisture of the adhered flux fine particles and forms a continuous active ingredient film.
Using a spray nozzle heated to 100 to 250 ° C., a flux based on water is sprayed on the circuit board. Further, the circuit board is heated to about 100 ° C. in advance, and a flux containing water as a base material is sprayed on the heated circuit board.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た特開平8−229674号公報による方法では、以下
のような問題点を有している。
However, the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-229674 has the following problems.

【0013】(1)スプレーノズルの加熱では、フラッ
クスがスプレーノズル内を通過する際に、フラックスも
加熱されるため、フラックスの活性化が促進され、フラ
ックス中の活性成分が大気中の酸素やフラックスに含ま
れる水分と反応し、活性能力が低下する。その結果、フ
ラックスの効力を十分に発揮できず、半田付け不良を生
じることがある。
(1) In the heating of the spray nozzle, when the flux passes through the spray nozzle, the flux is also heated, so that the activation of the flux is promoted, and the active component in the flux is reduced to oxygen or flux in the atmosphere. Reacts with water contained in water, and its activity ability is reduced. As a result, the effect of the flux cannot be sufficiently exerted, and soldering failure may occur.

【0014】(2)回路基板の加熱の熱負荷により、回
路基板や電子部品に熱的なダメージを与える。すなわ
ち、回路基板の加熱温度が高過ぎると、回路基板や電子
部品の熱的ダメージが大きくなり、場合によっては、そ
れらが損傷する。
(2) The circuit board and electronic components are thermally damaged by the heat load of heating the circuit board. That is, if the heating temperature of the circuit board is too high, thermal damage to the circuit board and electronic components increases, and in some cases, they are damaged.

【0015】(3)回路基板の加熱が不十分な場合に
は、フラックス中に含まれる水分蒸発に時間がかかるた
め、回路基板の電極部に付着した微粒子が密着して水滴
になる確率が増え、フラックス中の活性成分による被膜
が回路基板の表面に断続的に形成される危険性が増え
る。その結果、半田付けの品質が不安定な状態となるこ
とがある。
(3) If the heating of the circuit board is insufficient, it takes time to evaporate the moisture contained in the flux, so that the probability that the fine particles attached to the electrode portion of the circuit board adhere to each other and become water droplets increases. In addition, there is an increased risk that a film formed by the active component in the flux is intermittently formed on the surface of the circuit board. As a result, the quality of soldering may become unstable.

【0016】(4)スプレーノズルや回路基板を加熱す
るには、これらに対しての温度を十分に管理する必要が
ある。例えば、スプレーノズルの温度が所定の温度より
高くなると、フラックス中の水分が蒸発し過ぎて、フラ
ックス濃度が高くなり、その結果、ノズルが目詰まりを
起こし易くなる。一方、スプレーノズルの温度が、所定
の温度より低くなると、フラックス微粒子の粒子径が小
さくならず、フラックス中の水分が蒸発するのに時間が
かかる。このため、フラックス微粒子が相互に密着して
大きな粒子となって、連続したフラックスの活性成分の
被膜が形成できず、その結果、半田付け不良を起こし易
くなる。
(4) In order to heat the spray nozzle and the circuit board, it is necessary to sufficiently control the temperatures of these. For example, if the temperature of the spray nozzle is higher than a predetermined temperature, the moisture in the flux evaporates too much and the flux concentration becomes high, and as a result, the nozzle tends to be clogged. On the other hand, when the temperature of the spray nozzle is lower than the predetermined temperature, the particle diameter of the flux fine particles does not decrease, and it takes time for the moisture in the flux to evaporate. For this reason, the flux fine particles adhere to each other and become large particles, so that a coating of the active component of the continuous flux cannot be formed, and as a result, poor soldering tends to occur.

【0017】以上のように、回路基板やスプレーノズル
を加熱して、フラックス中の水分を蒸発させ連続的な活
性成分の被膜を形成する従来の方法では、フラックスの
活性力低下による半田付け品質の低下、回路基板や電子
部品への悪影響、温度管理が不十分な状態になった際の
半田付け性の不安定化やノズル保守回数の増加などの品
質面だけでなく、生産性の面においても問題を有してい
る。
As described above, in the conventional method of heating the circuit board and the spray nozzle to evaporate the moisture in the flux to form a continuous coating of the active component, the soldering quality due to the decrease in the active power of the flux is reduced. Not only in terms of quality, such as deterioration, adverse effects on circuit boards and electronic components, instability of solderability when temperature control is inadequate, and an increase in the number of nozzle maintenance, but also in terms of productivity. Have a problem.

【0018】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、回路基板としての品質に影響
を与えることなく、しかも管理が簡単で、回路基板の所
望の箇所に適量なフラックスを連続杓に塗布でき、これ
により、良好な半円付けが可能なフラックスの塗布方法
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of such conventional problems, and does not affect the quality of the circuit board, is easy to manage, and has an appropriate amount at a desired position on the circuit board. It is an object of the present invention to provide a method of applying a flux that can apply a suitable flux to a continuous ladle, thereby enabling a good semicircle.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、水を基材としたフラックスを回
路基板に塗布する方法であって、前記フラックスの微粒
子を室温中で回路基板に付着させることにより、回路基
板に付着したフラックス微粒子の径を30μm以下とす
ることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is a method of applying a water-based flux to a circuit board, the method comprising applying fine particles of the flux to a circuit board at room temperature. It is characterized in that the diameter of the flux fine particles adhered to the circuit board is reduced to 30 μm or less by being adhered to the substrate.

【0020】水を基材としたフラックスを従来の方法に
よって回路基板に塗布する場合、回路基板に付着するフ
ラックス微粒子を制限しないため、噴霧されるフラック
ス微粒子径が大きくなり、これが回路基板に付着する。
しかも水の蒸発潜熱が大きいため、粒子径が大きいフラ
ックス微粒子中の水分は蒸発しにくく、水分蒸発が不十
分な状態で、連続的にフラックス微粒子が吹き付けられ
ると、粒子が相互に密着して、さらに大きなフラックス
粒子になる。水の表面張力は大きく、回路基板は疎水性
のため、密着して大きくなったフラックス粒子は、濡れ
広がらずに、水滴となって回路基板上に点在する。水滴
となって点在するフラックス粒子は、さらに蒸発しにく
くなる。そして、フラックス中に水分を多く含む状態
で、半田付けを行うと、残留した水分がフラックス作用
に悪影響を及ぼし、半田付け不良を引き起こす。仮に、
水分が完全に蒸発した状態で半田付けを行っても、フラ
ックスの活性成分は断続的に斑点状に存在するため、良
好な半田付けを行うことができない。
When a flux based on water is applied to a circuit board by a conventional method, since the flux fine particles adhering to the circuit board are not restricted, the diameter of the flux fine particles to be sprayed becomes large and this adheres to the circuit board. .
In addition, since the latent heat of vaporization of water is large, the moisture in the fine particles having a large particle diameter is difficult to evaporate, and when the fine particles are continuously sprayed with insufficient water evaporation, the particles adhere to each other, It becomes larger flux particles. Since the surface tension of water is large and the circuit board is hydrophobic, the flux particles that have increased due to close contact do not spread out but spread as water droplets on the circuit board. Flux particles scattered as water droplets are more difficult to evaporate. When soldering is performed in a state where the flux contains a large amount of moisture, the remaining moisture has an adverse effect on the flux action, resulting in poor soldering. what if,
Even if the soldering is performed in a state where the moisture is completely evaporated, the active component of the flux is intermittently present in a spot-like manner, so that it is not possible to perform a good soldering.

【0021】これに対し、粒子径のさらに小さなフラッ
クスを回路基板に塗布できる場合には、水分の蒸発時間
が速くなり、フラックス微粒子が互いに密着して大きな
粒子になることがなくなり、その結果、回路基板の所望
の箇所に適量なフラックスを連続的に塗布でき、フラッ
クスの活性成分の連続した被膜が形成でき、良好な半田
付けを行うことが可能となる。
On the other hand, when a flux having a smaller particle diameter can be applied to the circuit board, the evaporation time of water becomes faster, and the fine flux particles do not adhere to each other to form larger particles. An appropriate amount of flux can be continuously applied to a desired portion of the substrate, a continuous film of the active component of the flux can be formed, and good soldering can be performed.

【0022】本発明者は、このような観点から、フラッ
クス微粒子が回路基板に付着したときの粒子とその蒸発
時間との関係について研究したところ、粒子径が小さく
なるにしたがって、蒸発時間が早まることを見出した。
この関係について、さらに追求したところ、40℃以下
の室温で、回路基板に付着したときのフラックス微粒子
の径を30μm以下とすると、回路基板に付着したフラ
ックス微粒子が相互に密着して大きな粒子になる前に粒
子中の水分が蒸発し、これにより連続的にフラックスの
活性成分が回路基板上に形成されることが判明した。
From the above viewpoint, the present inventors have studied the relationship between the particles when the flux fine particles adhere to the circuit board and the evaporation time. As the particle diameter becomes smaller, the evaporation time becomes shorter. Was found.
When this relation was further pursued, when the diameter of the flux fine particles attached to the circuit board was set to 30 μm or less at room temperature of 40 ° C. or less, the flux fine particles attached to the circuit board adhered to each other to become large particles. It has previously been found that the water in the particles evaporates, thereby continuously forming the active component of the flux on the circuit board.

【0023】請求項1の発明では、フラックスを室温中
で回路基板に塗布するため、ノズル又は回路基板を加熱
して塗布する従来方法に比べ、加熱によるフラックスの
活性能力が低下することがなく、回路基板にダメージを
与えることなく、フラックスの活性成分が回路基板上に
断続して形成されることなく、ノズルの目詰まりを起こ
すことなく、連続的で均一なフラックスの被膜を回路基
板上に形成できる。これにより、良好な半田付けを行う
ことができる。
According to the first aspect of the present invention, the flux is applied to the circuit board at room temperature. Therefore, compared to the conventional method in which the nozzle or the circuit board is heated and applied, the activity of the flux is not reduced by heating. Form a continuous and uniform flux coating on the circuit board without damaging the circuit board, without forming active flux components on the circuit board intermittently, and without causing nozzle clogging it can. Thereby, good soldering can be performed.

【0024】請求項2の発明は、請求項1記載の発明で
あって、前記回路基板へのフラックスの塗布を、乾燥雰
囲気中で行うことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the flux is applied to the circuit board in a dry atmosphere.

【0025】この発明では、回路基板へのフラックスの
塗布を、乾燥雰囲気中で行うため、回路基板に付着した
微粒子の蒸発をさらに速くすることができ、基材の水に
溶解する活性成分の重量%を低くできる。従って、複数
のノズルによりフラックスを複数回塗布する場合におい
ても、フラックス微粒子が相互に密着することが全くな
く、連続した均一のフラックスの被膜を回路基板上に形
成することができ、良好な半田付けが可能となる。な
お、ここで乾燥雰囲気とは、室温における湿度が40%
以下の雰囲気を示すものである。
In the present invention, since the application of the flux to the circuit board is performed in a dry atmosphere, the evaporation of the fine particles adhering to the circuit board can be further accelerated, and the weight of the active ingredient dissolved in the water of the base material can be increased. % Can be lowered. Therefore, even when the flux is applied by a plurality of nozzles a plurality of times, the flux fine particles do not adhere to each other at all, and a continuous and uniform coating of the flux can be formed on the circuit board. Becomes possible. Here, the dry atmosphere means that the humidity at room temperature is 40%.
It shows the following atmosphere.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)この実施の形態
におけるフラックスの塗布条件の設定について説明す
る。回路基板の電極上に付着したフラックス微粒子が互
いに密着して水滴とならない条件を設定するために、2
5℃/60%RHの環境下で、回路基板の電極と同じ材
質である銅板上に、アジピン酸(HOOC(CH
COOH)2重量%、残部が蒸留水からなる水を基材と
したフラックスを、ノズル径が0.2mmのスプレーノ
ズルを用いて、銅板から50mmの距離で噴霧した。こ
こで、スプレーノズルとして0.2mmのノズル径を使
用しているが、水を基材としたフラックスでは、水が9
8重量%を占めるため、ノズルの日詰まりの危険性が非
常に小さく、0.2mmのノズルの径でも容易にフラッ
クスを噴霧することができる。
(Embodiment 1) Setting of flux application conditions in this embodiment will be described. In order to set conditions under which the fine flux particles adhering to the electrodes of the circuit board do not adhere to each other to form water droplets, 2
Under an environment of 5 ° C./60% RH, adipic acid (HOOC (CH 2 ) 4 ) was placed on a copper plate made of the same material as the electrodes of the circuit board.
A flux based on water consisting of 2% by weight (COOH) and the balance distilled water was sprayed at a distance of 50 mm from the copper plate using a spray nozzle having a nozzle diameter of 0.2 mm. Here, a nozzle diameter of 0.2 mm is used as the spray nozzle.
Since it occupies 8% by weight, the risk of clogging of the nozzle is extremely small, and the flux can be easily sprayed even with a nozzle diameter of 0.2 mm.

【0027】このような条件下で、フラックスの噴霧量
や粒子径を変化させながら銅板上にフラックスを塗布
し、フラックスが銅板上に付着する様子を顕徹鏡で拡大
表示した映像をビデオカメラで録画し、これをスロー再
生あるいは静止させることによって、フラックスの付
着、蒸発の時間的変化の様子を観察した。その結果、噴
霧圧力0.1MPa、噴霧量を平方センチメートル当た
り0.15cc/分以下としたときに、銅板上に付着し
たフラックス粒子は互いに密着せず速やかに蒸発するこ
とが判った。
Under these conditions, the flux is applied to the copper plate while changing the spray amount and the particle size of the flux, and the image of the state in which the flux adheres to the copper plate is magnified and displayed with a microscope through a video camera. By recording the video and slow-playing or stopping it, the state of the time change of the adhesion and evaporation of the flux was observed. As a result, it was found that when the spray pressure was 0.1 MPa and the spray amount was 0.15 cc / min or less per square centimeter, the flux particles adhering to the copper plate evaporated quickly without adhering to each other.

【0028】そして、上記条件で噴霧をし、銅板上に付
着したフラックス微粒子の粒子径とその粒子中の水分の
蒸発時間を複数回計測した。その結果、粒子径が30μ
mを超えるフラックス微粒子は全くなく、その水分蒸発
時間は1秒未満であることが判った。図1はこの結果を
グラフ化したものである。
Then, spraying was performed under the above conditions, and the particle size of the flux fine particles adhering to the copper plate and the evaporation time of water in the particles were measured a plurality of times. As a result, the particle diameter was 30 μm.
It was found that there were no flux fine particles exceeding m, and the water evaporation time was less than 1 second. FIG. 1 is a graph of this result.

【0029】図1に示すように、フラックス微粒子の径
が30μmの場合、約1秒で水分が蒸発し、径が10μ
mの微粒子の場合、0.2秒未満で蒸発している。これ
に対し、フラックス微粒子の径が30μmを超える場合
は、蒸発時間が1秒を超えており、さらにフラッス微粒
子の径が大きくなると、上記観察により、フラックスの
微粒子が密着して大きくなって、蒸発時間が極端に長く
なる。そして、フラックス微粒子の径が40μmに達す
る場合は、その直後にフラックス微粒子の密着が多数と
なり、蒸発時間が図示できないほど長くなって、フラッ
クスの連続した均一な被膜が形成されないことも判明し
た。
As shown in FIG. 1, when the diameter of the flux fine particles is 30 μm, water evaporates in about 1 second, and the diameter becomes 10 μm.
In the case of the fine particles of m, they evaporate in less than 0.2 seconds. On the other hand, when the diameter of the flux fine particles exceeds 30 μm, the evaporation time exceeds 1 second, and when the diameter of the flash fine particles further increases, the above observation shows that the fine particles of the flux adhere to each other and become large. Time becomes extremely long. When the diameter of the flux fine particles reached 40 μm, it was found that immediately after that, the adhesion of the flux fine particles became large, and the evaporation time became too long to show, so that a continuous and uniform coating of the flux was not formed.

【0030】なお、上記観察では、フラックスの微粒子
が回路基板に付着した時の径を測定したが、フラックス
微粒子の径にはバラツキがあるところから、上記説明で
の「フラックスの微位子の径が30μmを超えない」記
載は、バラツキの範囲のなかで最大値が30μmを超え
ないという意味である。
In the above observation, the diameter when the fine particles of the flux adhered to the circuit board was measured. However, since the diameter of the fine particles of the flux varies, the "fine particle diameter of the flux is not The phrase “not exceeding 30 μm” means that the maximum value does not exceed 30 μm in the range of variation.

【0031】図2はこの実施の形態に用いるフラックス
塗布装置であるスプレーフラクサ40を示す。塗布室3
9の左右壁には、回路基板46の入口41及び出口42
が開口されており、その内部には、入口41側から出口
42側に走行する一対の搬送ベルト43が配置されてい
る。搬送ベルト43は、駆動ベルト49を介して駆動装
置48によって駆動される。
FIG. 2 shows a spray fluxer 40 which is a flux coating device used in this embodiment. Coating room 3
9, the entrance 41 and the exit 42 of the circuit board 46
A pair of transport belts 43 running from the entrance 41 side to the exit 42 side are arranged inside. The transport belt 43 is driven by a drive device 48 via a drive belt 49.

【0032】搬送ベルト43の下方には、回路基板46
に対してフラックスを噴霧する2本のスプレーノズル4
41,442が配置されている。スプレーノズルを2本
としたのは、確実に連続的なフラックスの活性成分の被
膜を回路基板46に形成するためであり、その本数は限
定されるものではない。従って、連続したフラックスの
活性成分を確実に塗布することができる場合には、1本
のスプレーノズルであっても良く、2本でも連続したフ
ラックスの活性成分の塗布ができない場合には、3本以
上であっても良い。これらのスプレーノズル441、4
42は、図示しない移動手段によって、搬送ベルト43
のベルト幅方向に任意の速度で往復移動することが可能
となっている。ここで使用しているスプレーノズル44
1、442は、上述の塗布条件の設定で用いたスプレー
ノズルと同種のものである。
Below the conveyor belt 43, a circuit board 46 is provided.
Spray nozzles 4 for spraying flux against
41 and 442 are arranged. The reason for using two spray nozzles is to surely form a continuous flux active component coating on the circuit board 46, and the number of spray nozzles is not limited. Therefore, one spray nozzle may be used when the active ingredient of the continuous flux can be applied reliably, and three spray nozzles may be used when the active ingredient of the continuous flux cannot be applied even with two nozzles. It may be above. These spray nozzles 441, 4
Reference numeral 42 denotes a transport belt 43 by a moving unit (not shown).
It is possible to reciprocate at an arbitrary speed in the belt width direction. The spray nozzle 44 used here
Reference numerals 1 and 442 are the same type as the spray nozzles used for setting the above-described application conditions.

【0033】スプレーノズル441、442には、圧縮
空気とフラックスが送り込まれており、スプレーノズル
441、442の先端の噴霧口441a、442aから
フラックス微粒子45が噴霧される。また、塗布室39
の上面には、内部の空気を図示しない排気装置によっ
て、外部へ排気する排気口47が開口されている。
Compressed air and flux are fed into the spray nozzles 441 and 442, and the flux fine particles 45 are sprayed from the spray ports 441a and 442a at the tips of the spray nozzles 441 and 442. The coating chamber 39
An exhaust port 47 for exhausting the internal air to the outside by an exhaust device (not shown) is opened on the upper surface of the.

【0034】図3はスプレーノズル441の先端部の詳
細を示す。なお、スプレーノズル442の先端部は、ス
プレーノズル441と同形状となっている。また、図3
では、その左側半分が断面を示すものである。
FIG. 3 shows the details of the tip of the spray nozzle 441. The tip of the spray nozzle 442 has the same shape as the spray nozzle 441. FIG.
Then, the left half thereof shows a cross section.

【0035】スプレーノズル441はノズル51を有し
ており、ノズル51の内部は、管状のフラックス通路5
3となっている。ノズル51の先端は、直径D(D=
0.2mm)の噴霧口441aとなっており、フラック
ス通路52の内部には、ニードル52が挿入されてい
る。ニードル52は図示していない調整つまみによっ
て、ノズル51の軸方向(上下方向)移動自在となって
いる。このニードル52の移動によって、フラックス通
路53の幅wが変化するため、フラックス微粒子45の
噴霧量を調節することができる。
The spray nozzle 441 has a nozzle 51, and the inside of the nozzle 51 is provided with a tubular flux passage 5.
It is 3. The tip of the nozzle 51 has a diameter D (D =
The nozzle 52 is inserted into the flux passage 52. The needle 52 can be freely moved in the axial direction (vertical direction) of the nozzle 51 by an adjustment knob (not shown). The movement of the needle 52 changes the width w of the flux passage 53, so that the spray amount of the flux fine particles 45 can be adjusted.

【0036】このスプレーフラクサ40では、駆動装置
48が駆動することにより、駆動ベルト49を介して搬
送ベルト43が入口41から出口42に向かって走行す
る。そして、入口41から導入した回路基板46を走行
している搬送ベルト43上に載置して出口42方向に搬
送する。この搬送によって回路基板46がスプレーノズ
ル441の上方を通過する際に、スプレーノズル441
の噴霧口441aから噴霧されているフラックス45が
回路基板46の下面に塗布される。スプレーノズル44
1は、回路基板46の基板幅に合わせて搬送ベルト43
のベルト幅方向への往復移動を繰り返しながらフラック
ス微粒子45を噴霧するため、回路基板46の下面の全
体に対してフラックスを塗布することができる。
In the spray fluxer 40, the drive belt 48 drives the transport belt 43 via the drive belt 49 from the entrance 41 to the exit 42. Then, the circuit board 46 introduced from the entrance 41 is placed on the traveling conveyor belt 43 and transported in the direction of the exit 42. When the circuit board 46 passes above the spray nozzle 441 by this conveyance, the spray nozzle 441
The flux 45 sprayed from the spray port 441 a is applied to the lower surface of the circuit board 46. Spray nozzle 44
1 is a conveyor belt 43 according to the board width of the circuit board 46.
The flux particles 45 are sprayed while repeating the reciprocating movement in the belt width direction, so that the entire lower surface of the circuit board 46 can be coated with the flux.

【0037】続いて、回路基板46がスプレーノズル4
42の上方を通過する際に、スプレーノズル442の噴
霧口442aから噴霧されているフラックス微粒子45
が回路基板46の下面に塗布される。このスプレーノズ
ル442も回路基板46の基板幅に合わせて、搬送ベル
ト43のベルト幅方向への往復移動を繰り返しながらフ
ラックス微粒子45を噴霧しているため、回路基板46
の下面の全体に対してフラックスが塗布される。従っ
て、回路基板46に対しては、スプレーノズル441に
よるフラックス塗布に加え、スプレーノズル442によ
るフラックスの塗布が行われる。この塗布の後、回路基
板46は搬送ベルト43によって搬送され、出口42か
ら搬出される。以上のようにして、回路基板46には適
量なフラックスが塗布され、連続したフラックスの活性
成分の被膜を形成することができる。
Subsequently, the circuit board 46 is connected to the spray nozzle 4
The flux fine particles 45 sprayed from the spray port 442a of the spray nozzle 442 when passing above the
Is applied to the lower surface of the circuit board 46. The spray nozzle 442 sprays the fine particles 45 while repeating the reciprocating movement of the conveyor belt 43 in the belt width direction in accordance with the width of the circuit board 46.
Is applied to the entire lower surface of the substrate. Therefore, in addition to the flux application by the spray nozzle 441, the flux application by the spray nozzle 442 is performed on the circuit board 46. After this application, the circuit board 46 is transported by the transport belt 43 and is discharged from the outlet 42. As described above, an appropriate amount of flux is applied to the circuit board 46, and a film of the active component of the continuous flux can be formed.

【0038】この実施の形態では、フラックス45の噴
霧条件を、噴霧圧力0.1MPa、噴霧量を平方センチ
メートル当たり0.12cc/分とした。また、回路基
板46とスプレーノズル441、442との距離Lを5
0mmに設定した。回路基板46の搬送速度は毎分1m
とし、スプレーノズル441と442の間隔を5cmと
した。このような条件の下で、回路基板46を搬送ベル
ト43で搬送させ、アジピン酸2重量%、残部が蒸留水
からなる水を基材としたフラックスを、回路基板46に
塗布した。
In this embodiment, the spray conditions of the flux 45 are a spray pressure of 0.1 MPa and a spray amount is 0.12 cc / min per square centimeter. The distance L between the circuit board 46 and the spray nozzles 441 and 442 is set to 5
It was set to 0 mm. The transfer speed of the circuit board 46 is 1 m per minute
The distance between the spray nozzles 441 and 442 was set to 5 cm. Under such conditions, the circuit board 46 was transported by the transport belt 43, and a flux containing water as a base material consisting of 2% by weight of adipic acid and the balance of distilled water was applied to the circuit board 46.

【0039】このように回路基板46の搬送速度を毎分
1m、スプレーノズル441と442の間隔を5cmに
設定することによって、スプレーノズル441から噴霧
されたフラックス微粒子が回路基板46に最後に付着し
てから、次のスプレーノズル442から噴霧されたフラ
ックス微粒子が回路基板46に最初に付着するまでに
は、1秒以上の時間間隔となる。従って、スプレーノズ
ル441から噴霧されて回路基板46に付着したフラッ
クス微粒子の径は30μmを超えることがなく、その水
分が1秒以内に完全に蒸発した後に、次のスプレーノズ
ル442によって再び回路基板46にフラックス微粒子
が付着する。このため、フラックス微位子が相互に密着
して大きな粒子となることはない。
By setting the transport speed of the circuit board 46 at 1 m per minute and the interval between the spray nozzles 441 and 442 at 5 cm, the flux fine particles sprayed from the spray nozzle 441 finally adhere to the circuit board 46. After that, a time interval of 1 second or more is required until the flux fine particles sprayed from the next spray nozzle 442 first adhere to the circuit board 46. Therefore, the diameter of the flux fine particles sprayed from the spray nozzle 441 and adhering to the circuit board 46 does not exceed 30 μm, and after the moisture is completely evaporated within one second, the circuit board 46 is re-spun by the next spray nozzle 442. Flux particles adhere to the surface. Therefore, the flux fine particles do not adhere to each other to form large particles.

【0040】この実施の形態では、以上によってフラッ
クスを塗布した後に、回路基板46の電極部表面を拡大
観察した。その結果、活性成分であるアジピン酸が電極
部表面上に連続体となって残留している様子が確認でき
た。
In this embodiment, after the flux was applied as described above, the surface of the electrode portion of the circuit board 46 was observed under magnification. As a result, it was confirmed that adipic acid as an active ingredient remained as a continuous body on the surface of the electrode portion.

【0041】さらに、アジピン酸が電極部表面上に連続
体となっていることを定量的に証明するために以下の方
法で評価した。従来技術の方法では、連続的なフラック
スの活性成分の被膜が形成されないために、半田付け時
に、半田の不濡れが発生している。このことを逆に捉え
た場合、半田の濡れが良ければ、フラックスの活性成分
の被膜が連続的に形成されたということである。そこ
で、半田の濡れ性を直接的に評価することにより、フラ
ックスのアジピン酸の被膜が連続的に形成されているこ
とを証明した。なお、半田の濡れ性を評価する方法とし
て、メニスカス試験法(メニスコグラフ)を用いた。
Further, the following method was used to quantitatively prove that adipic acid was a continuum on the surface of the electrode. In the method of the prior art, the solder is not wetted at the time of soldering because a continuous coating of the active component of the flux is not formed. When this fact is taken in reverse, if the wettability of the solder is good, it means that the coating of the active component of the flux was continuously formed. Then, by directly evaluating the wettability of the solder, it was proved that the coating of the flux with adipic acid was continuously formed. As a method for evaluating the wettability of the solder, a meniscus test method (meniscograph) was used.

【0042】メニスカス試験法とは、試験片を一定の深
さ、速度、時間間隔で、溶融半田内に浸漬させたときの
濡れの時間的変化を測定する試験方法である。この方法
では、図4に示すように、試験時に得られた濡れの時間
的変化を記録した曲線からゼロクロスタイム(t)を測
定することによって、濡れ性を判断することができる。
ゼロクロスタイム(t)とは、試験片が溶融半田に接触
してから、試験片の濡れ部分が半田浴槽の表面まで濡れ
上がる(すなわち、試験片の浮力と溶融半田の表面張力
が平衡状態になった時点)までの時間である。すなわ
ち、濡れが良好な試験片ほど、ゼロクロスタイム(t)
の値が小さくなる。試験片が良好な濡れを得るために
は、試験片に対してフラックスが連続的に塗布されるこ
とが必要であり、試験片に対してフラックスが連続的に
塗布されていれば、ゼロクロスタイム(t)の値が小さ
くなる。
The meniscus test method is a test method for measuring a temporal change in wetting when a test piece is immersed in molten solder at a constant depth, speed, and time interval. In this method, as shown in FIG. 4, the wettability can be determined by measuring the zero cross time (t) from a curve that records the temporal change of the wetting obtained during the test.
The zero cross time (t) means that after the test piece comes into contact with the molten solder, the wet portion of the test piece wets up to the surface of the solder bath (that is, the buoyancy of the test piece and the surface tension of the molten solder become equilibrium). Time). That is, the test piece having better wettability has a zero cross time (t).
Becomes smaller. In order to obtain good wettability of the test piece, it is necessary that the flux is continuously applied to the test piece. If the flux is applied continuously to the test piece, the zero cross time ( The value of t) becomes smaller.

【0043】この実施の形態では、メニスカス試験法を
行うのに際し、表1の条件を設定し、この条件下で、試
験が行い易いように、50×10×0.5(厚さ)mm
の銅板(図5参照)を試験片として用い、ゼロクロスタ
イム(t)を測定することにより定量的に評価した。こ
の場合、メニスカス試験法には、規格化された明確な基
準がなく、絶対値的な評価は難しいため、予め基準とな
る値を設定し、その値との比較試験で評価を行った。な
お、参考のため、従来技術による塗布方法によっても試
料を作製して評価を行った。
In this embodiment, the conditions shown in Table 1 are set when performing the meniscus test method, and 50 × 10 × 0.5 (thickness) mm is set so that the test can be easily performed under these conditions.
The copper plate (see FIG. 5) was used as a test piece and quantitatively evaluated by measuring a zero cross time (t). In this case, since the meniscus test method does not have a standardized clear standard and it is difficult to evaluate the absolute value, a reference value is set in advance, and evaluation is performed by a comparison test with that value. For reference, a sample was also prepared by a coating method according to a conventional technique and evaluated.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】評価における基準値を設定するため、アジ
ピン酸の連続した被膜が確実に銅板表面に形成された試
験片を基準試料として、次の方法で作製した。まず、ア
ジピン酸の連続した被膜が確実に形成された基準試料
を、水を基材としない従来のフラックスを用いて、以下
の手順で作製した。
In order to set a reference value in the evaluation, a test piece in which a continuous film of adipic acid was surely formed on the surface of a copper plate was used as a reference sample, and the test piece was prepared by the following method. First, a reference sample on which a continuous film of adipic acid was reliably formed was prepared by the following procedure using a conventional flux not using water as a base material.

【0046】(1)アジピン酸をIPA(イソプロピル
アルコール)に溶かしてアジピン酸のIPA溶液を作製
した。比率は、アジピン酸が2重量%、IPAが98重
量%である。 (2)このアジピン酸のIPA溶液に、基準試料となる
銅板を数秒間浸漬して引き上げた。 (3)引き上げ後において、IPAは表面張力が小さい
ため銅板表面に濡れ広がり、また揮発性が高いためで数
秒で自然蒸発し、その結果、アジピン酸が連続的に残留
した被膜が銅板表面に形成された。
(1) Adipic acid was dissolved in IPA (isopropyl alcohol) to prepare an IPA solution of adipic acid. The ratio is 2% by weight of adipic acid and 98% by weight of IPA. (2) A copper plate as a reference sample was immersed in this IPA solution of adipic acid for several seconds and pulled up. (3) After lifting, IPA has a small surface tension and spreads on the surface of the copper plate, and because of its high volatility, it spontaneously evaporates within a few seconds. Was done.

【0047】以上の(1)〜(3)の方法によれば、ア
ジピン酸の被膜が連続的に銅板表面に確実に形成でき
る。このようにしてアジピン酸のIPA溶液を塗布した
基準試料を、溶液塗布後5秒以内にメニスカス試験にか
け、メニスカスを示すパラメータであるゼロクロスタイ
ム(TBASE)を測定し、この値を基準値とした。
According to the above-mentioned methods (1) to (3), a coating film of adipic acid can be reliably and continuously formed on the surface of the copper plate. The reference sample to which the IPA solution of adipic acid was applied in this manner was subjected to a meniscus test within 5 seconds after application of the solution, and a zero cross time (T BASE ) as a parameter indicating the meniscus was measured, and this value was used as a reference value. .

【0048】ここで、フラックスを塗布した試験片に対
して、アジピン酸の連続した被膜が形成できている場合
には、 その試料のゼロクロスタイム(t)は、t≒T
BASEとなる。逆に、アジピン酸の連続した被膜が形
成できていない場合には、その試料のゼロクロスタイム
(t)は、t≫TBASEとなる。
Here, when a continuous film of adipic acid is formed on the test piece to which the flux is applied, the zero cross time (t) of the sample is t ≒ T
BASE . Conversely, when a continuous film of adipic acid has not been formed, the zero cross time (t) of the sample is t≫T BASE .

【0049】以下にメニスカス試験の実施内容とその結
果を説明する。図2のスプレーフラクサを使用し、この
実施の形態によるフラックス塗布方法により、まず、図
5に示す試験片のA面に水を基材としたフラックスを適
量塗布した。続いて、数秒以内にA面の裏側に相当する
B面に前記フラックスを塗布した。B面に塗布後、5秒
以内にメニスカス試験を行い、ゼロクロスタイムを測定
した。この方法で作製した試験片を、「試料1」とし、
試料1のゼロクロスタイムを(t)とした。一方、図
7のスプレーフラクサを使用して、従来技術の方法によ
り、試料1と同様な手順で水を基材としたフラックスを
塗布し、ゼロクロスタイムを測定した試験片を、「試料
2」とし、試料2のゼロクロスタイムを(t)とし
た。
Hereinafter, the contents of the meniscus test and the results thereof will be described. Using the spray fluxer of FIG. 2 and the flux application method according to the present embodiment, first, an appropriate amount of a flux based on water was applied to the surface A of the test piece shown in FIG. Subsequently, the flux was applied to surface B corresponding to the back side of surface A within several seconds. A meniscus test was performed within 5 seconds after application on the B side, and a zero cross time was measured. The test piece prepared by this method is referred to as “Sample 1”
The zero cross time of Sample 1 was set to (t 1 ). On the other hand, using the spray fluxer shown in FIG. 7, a test piece obtained by applying a water-based flux in the same procedure as that of the sample 1 and measuring the zero-cross time by the method of the prior art was referred to as “sample 2”. And the zero cross time of Sample 2 was (t 2 ).

【0050】基準試料、試料1、試料2のメニスカス試
験によるゼロクロスタイムの測定結果を表2および図6
に示す。試料1(本実施の形態による方法で塗布した試
験片)のゼロクロスタイム(t)を基準試料のゼロク
ロスタイム(TBASE)と比較すると、試料1は、ゼ
ロクロスタイム(t)の平均値が1.29秒であり、
基準試料のゼロクロスタイム(TBASE)の平均値
1.04秒とほぼ同じ値を示しており、従って、t
BASEが成立する。よって、アジピン酸の連続した
被膜が形成できていることが推測できる。
Table 2 and FIG. 6 show the measurement results of the zero cross times of the reference sample, sample 1 and sample 2 by the meniscus test.
Shown in Compared to Sample 1 zero cross time (t 1) the zero crossing time of the reference sample (the test piece was applied with a method according to the embodiment) (T BASE), sample 1, an average value of zero cross time (t 1) 1.29 seconds,
The average value of the zero cross time (T BASE ) of the reference sample is almost the same as 1.04 seconds, and therefore, t 1
T BASE is established. Therefore, it can be inferred that a continuous film of adipic acid was formed.

【0051】同様に、試料2(従来技術による方法で塗
布した試験片)のゼロクロスタイム(t)を基準試料
のゼロクロスタイム(TBASE)と比較すると、試料
2は、ゼロクロスタイム(t)の平均値が2.98秒
であり、基準試料のゼロクロスタイム(TBASE)の
平均値1.04秒より高い値を示しており、従って、t
≫TBASEとなる。よって、アジピン酸の連続した
被膜が形成できていないことが推測できる。
Similarly, comparing the zero cross time (t 2 ) of sample 2 (the test piece coated by the method according to the prior art) with the zero cross time (T BASE ) of the reference sample, sample 2 has a zero cross time (t 1 ). Has an average value of 2.98 seconds, which is higher than the average value of the reference sample zero-cross time (T BASE ) of 1.04 seconds.
2 ≫T BASE . Therefore, it can be inferred that a continuous film of adipic acid was not formed.

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】以上の2つの結果から、本実施の形態によ
るフラックス塗布方法では、水を基材としたフラックス
が、IPAを基材としたフラックスと同等レベルのアジ
ピン酸の連続的な被膜が形成できることが判明した。こ
れは、回路基板の電極部上に、(a)フラックス微粒子
が付着し、(b)付着したフラックス中に含まれる水分
が速やかに蒸発することによってフラックスが凝縮し、
(c)活性成分であるアジピン酸だけが残留する、とい
う(a)〜(c)の作用が、フラックス微粒子が相互に
密着することなく繰り返され、その結果、回路基板上に
連続したアジピン酸の被膜が形成されたためである。
From the above two results, in the flux coating method according to the present embodiment, the water-based flux can form a continuous film of adipic acid at the same level as the IPA-based flux. There was found. This is because (a) the flux fine particles adhere to the electrode portion of the circuit board, and (b) the moisture contained in the attached flux evaporates quickly, whereby the flux is condensed.
(C) The actions (a) to (c) in which only the adipic acid as the active ingredient remains are repeated without the flux fine particles adhering to each other, and as a result, the adipic acid continuous on the circuit board is formed. This is because a coating was formed.

【0054】以上のように、この実施の形態によれば、
室温で、回路基板に付着する時のフラックス微粒子の径
を30μmを超えないように塗布条件を設定するため、
回路基板に付着したフラックス微粒子から短時間に水分
が蒸発し、フラックス微粒子が相互に密着することがな
く、その結果、連続したフラックスの活性成分の被膜が
回路基板上に形成され、半田の濡れ性が良く、良好な半
田付けを行うことが可能となる。
As described above, according to this embodiment,
At room temperature, in order to set the application conditions so that the diameter of the flux fine particles when adhering to the circuit board does not exceed 30 μm,
Moisture evaporates in a short time from the flux fine particles attached to the circuit board, and the flux fine particles do not adhere to each other. As a result, a continuous flux active component film is formed on the circuit board, and the wettability of the solder is reduced. And good soldering can be performed.

【0055】なお、この実施の形態では、25℃の場合
について説明したが、40℃以下の室温であれば、同様
に半田付けが良好なフラックスの塗布が可能である。こ
れに対し、40℃を超える場合には、ノズルの日詰まり
等の問題がある。また、この実施の形態では、塗布条件
として、噴霧圧力を0.1MPa、回路基板とスプレー
ノズルの距離を50mmとしていたが、フラックスの塗
布量が平方センチメートル当たり0.15cc/分以下
であれば、塗布条件は問わない。
In this embodiment, the case where the temperature is 25 ° C. has been described. However, if the room temperature is 40 ° C. or less, it is possible to apply a flux having good solderability. On the other hand, when the temperature exceeds 40 ° C., there is a problem such as a clogged nozzle. Further, in this embodiment, as the application conditions, the spray pressure is 0.1 MPa and the distance between the circuit board and the spray nozzle is 50 mm. However, if the flux application amount is 0.15 cc / min or less per square centimeter, the application is performed. The condition does not matter.

【0056】(実施の形態2)この実施の形態では、図
2のスプレーフラクサを温度25℃、湿度30%RHの
乾燥した環境下に設置し、実施の形態1と同様な方法に
よって、塗布条件の設定を行った後、回路基板に水を基
材としたフラックスを塗布し、実施の形態1と同様に、
回路基板に付着したフラックス微粒子を顕微鏡で拡大表
示した映像をビデオカメラで録画し、スロー再生あるい
は静止させることにより、フラックス微粒子の付着、蒸
発の時間的変化の様子を観察した。その結果、付着した
直後のフラックス微粒子の径に変化は見られなかった
が、水分の蒸発時間は実施の形態1の図1に示す蒸発時
間より短くなっていることが判明した。
(Embodiment 2) In this embodiment, the spray fluxer shown in FIG. 2 is installed in a dry environment at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 30% RH. After setting the conditions, a flux containing water as a base material is applied to the circuit board, and the same as in Embodiment 1,
An image of the flux fine particles adhering to the circuit board enlarged and displayed by a microscope was recorded by a video camera, and the state of the change of the adhesion and evaporation of the flux fine particles was observed by slow reproduction or stationary. As a result, no change was observed in the diameter of the flux fine particles immediately after the attachment, but it was found that the evaporation time of water was shorter than the evaporation time shown in FIG.

【0057】その後、回路基板上の電極部表面を拡大し
て観察を行った結果、実施の形態1と同様に、活性成分
であるアジピン酸が電極部表面上に連続体となって残留
している様子が確認できた。
Thereafter, the surface of the electrode portion on the circuit board was enlarged and observed. As a result, as in the first embodiment, adipic acid as an active ingredient remained as a continuous body on the surface of the electrode portion. I was able to confirm that I was there.

【0058】さらに、連続したアジピン酸の被膜が形成
されていることを定量的に証明するため、実施の形態1
と同様の方法によって、メニスカス試験を行い、評価し
た。その結果、実施の形態1とほば同様な結果が得られ
た。これにより、乾燥した雰囲気中で、フラックス微粒
子を回路基板に塗布することによって、連続したアジピ
ン酸の被膜を形成できることが判明した。
Further, in order to quantitatively prove that a continuous adipic acid film was formed, the first embodiment was used.
A meniscus test was performed and evaluated in the same manner as described above. As a result, almost the same results as in the first embodiment were obtained. As a result, it was found that a continuous coating film of adipic acid can be formed by applying the flux fine particles to the circuit board in a dry atmosphere.

【0059】[0059]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、フラックスの
活性成分の被膜を連続的に回路基板に形成することがで
き、従って、電子部品へのダメージや、フラックスの活
性能力低下による塗布ムラを防止することができ、良好
な半田付け性を得ることができる。また、加熱手段が不
必要となるため、塗布のための設備を簡単とすることが
できる。
According to the first aspect of the present invention, a coating of the active component of the flux can be continuously formed on the circuit board. Therefore, damage to the electronic components and uneven coating due to a decrease in the activity of the flux can be achieved. Can be prevented, and good solderability can be obtained. In addition, since heating means is not required, equipment for coating can be simplified.

【0060】請求項2の発明によれば、乾燥された雰囲
気中で、フラックス微粒子を回路基板上に付着するた
め、付着した微粒子の蒸発速度が速くなり、より多くの
微粒子を回路基板に付着させることができる。従って、
請求項1の効果に加えて、早期にフラックスの活性成分
の被膜を得ることができる。
According to the second aspect of the present invention, since the flux fine particles adhere to the circuit board in a dry atmosphere, the evaporation speed of the attached fine particles is increased, and more fine particles adhere to the circuit board. be able to. Therefore,
In addition to the effect of the first aspect, it is possible to obtain a film of the active ingredient of the flux at an early stage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態1における粒子径と蒸発時間の関係
を示す特性図である。
FIG. 1 is a characteristic diagram showing a relationship between a particle diameter and an evaporation time in Embodiment 1.

【図2】実施の形態のフラックス塗布に用いるスプレー
フラクサの断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a spray fluxer used for flux application according to the embodiment.

【図3】スプレーノズルの部分破断斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view of a spray nozzle.

【図4】メニスカス試験の測定グラフである。FIG. 4 is a measurement graph of a meniscus test.

【図5】試験片の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a test piece.

【図6】実施の形態1におけるメニスカス試験結果の特
性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram of a meniscus test result in the first embodiment.

【図7】従来のスプレーフラクサの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a conventional spray fluxer.

【図8】従来のスプレーフラクサに用いるスプレーノズ
ルの断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a spray nozzle used for a conventional spray fluxer.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水を基材としたフラックスを回路基板に
塗布する方法であって、前記フラックスの微粒子を室温
中で回路基板に付着させることにより、回路基板に付着
したフラックス微粒子の径を30μm以下とすることを
特徴とするフラックス塗布方法。
1. A method of applying a flux containing water as a base material to a circuit board, wherein the flux fine particles adhere to the circuit board at room temperature to reduce the diameter of the flux fine particles attached to the circuit board to 30 μm. A flux coating method characterized by the following.
【請求項2】 前記回路基板へのフラックスの塗布を、
乾燥雰囲気中で行うことを特徴とする請求項1記載のフ
ラックス塗布方法。
2. A method for applying a flux to the circuit board, comprising:
The flux coating method according to claim 1, wherein the flux coating is performed in a dry atmosphere.
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