JP2001237521A - Manufacturing method and manufacturing apparatus of circuit forming board - Google Patents

Manufacturing method and manufacturing apparatus of circuit forming board

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JP2001237521A JP2000372658A JP2000372658A JP2001237521A JP 2001237521 A JP2001237521 A JP 2001237521A JP 2000372658 A JP2000372658 A JP 2000372658A JP 2000372658 A JP2000372658 A JP 2000372658A JP 2001237521 A JP2001237521 A JP 2001237521A
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Toshihiro Nishii
利浩 西井
Toshiaki Takenaka
敏昭 竹中
Shinji Nakamura
眞治 中村
Akihiro Miura
章宏 三浦
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a circuit forming board of low cost and high reliability wherein hole work of high quality is realized without losing high speed property of laser work in a manufacturing method of a circuit forming board which is used for small-sized electronics or the like. SOLUTION: When ultrasonic cleaning is performed with an ultrasonic vibrator 13 in order to eliminate a hard and fragile denatured part 11 and wording powder 12 which are stuck on a wall surface of a hole 10 when the penetrating hole 10 is formed by irradiating board material 1 with a laser 9, eliminating work of the denatured part 11 and the working powder 12 from the board material 1 is performed so as not to peel PET sheets 4a, 4b without vibrating the board material 1 excessively. As a result, the board material 1 having a superior hole shape can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は回路形成基板の製造
方法およびその製造装置に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board and an apparatus for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の小型化・高密度化に伴
って、電子部品を搭載する回路形成基板も従来の片面基
板から両面、多層基板の採用が進み、より多くの回路を
基板上に集積可能な高密度回路形成基板の開発が行われ
ている。
2. Description of the Related Art With the recent miniaturization and high-density of electronic equipment, circuit-forming boards on which electronic components are mounted have been increasingly adopted from conventional single-sided boards to double-sided, multi-layer boards. Development of a high-density circuit formation substrate that can be integrated in a semiconductor device is underway.

【0003】高密度回路形成基板においては、従来広く
用いられてきたドリル加工による基板への穴(スルーホ
ール)加工に代わって、より高速で微細な加工が可能な
レーザー加工法の採用が検討されている(たとえば、Y.
Yamanaka et al.,ExcimerLaser Processing In The Mic
ro electronics Fields等)。また、レーザーによる微
細な穴加工と導電性ペースト等の接続手段を用いて層間
接続を行う回路形成基板も提案されている(特開平6−
268345号公報等)。
In the case of high-density circuit-forming substrates, the use of a laser processing method capable of higher-speed and finer processing has been studied instead of drilling (through-hole) processing on a substrate by drilling, which has been widely used in the past. (For example, Y.
Yamanaka et al., ExcimerLaser Processing In The Mic
ro electronics Fields etc.). In addition, a circuit forming substrate has been proposed in which interlayer connection is performed by using fine hole processing by a laser and a connection means such as a conductive paste (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-1994).
No. 268345).

【0004】微細な穴を形成し導電ペーストを用いて層
間を接続する技術においては、わずかな異物が接続不良
の原因となる。本技術においては基板材料に張り付けた
フィルムごと穴加工を行いフィルムは導電ペーストを微
細穴に充填するためのマスクとして用いられる。従っ
て、フィルムを含めて全てを清浄に保つ必要がある。
In the technique of forming a fine hole and connecting layers using a conductive paste, a slight foreign matter causes a connection failure. In the present technology, hole processing is performed on a film attached to a substrate material, and the film is used as a mask for filling a fine hole with a conductive paste. Therefore, it is necessary to keep everything including the film clean.

【0005】しかしながらドリル加工、レーザー加工と
もに大量の加工屑が発生するので基板材料に付着するこ
とで接続用の穴を塞ぐ事がある。その他、空気中のわず
かな塵埃が微細な穴を塞ぐ恐れがある。そのため、導電
ペースト充填前に基板材料の洗浄を行っているが基板材
料に張り付けたフィルムは導電ペーストの充填用マスク
として使用した後には剥がすので非常に弱い強度でしか
張り付いていないため剥がれやすい。
However, both drilling and laser processing generate a large amount of processing chips, so that they may adhere to the substrate material to block connection holes. In addition, a small amount of dust in the air may block the fine holes. Therefore, although the substrate material is cleaned before filling the conductive paste, the film adhered to the substrate material is peeled off after being used as a mask for filling the conductive paste, so that the film is adhered with only a very weak strength and thus easily peeled off.

【0006】図7に示すように基板材料1と接着強度の
特に弱い部分で張り付けたPETシート4a,4bが洗
浄中に剥がれる場合がある。このような剥がれが貫通穴
の周囲に発生すると接続用の導電ペースト31が剥離部
33内に滲み、32に示されるような隣接する貫通穴と
ショートする恐れがある。
As shown in FIG. 7, the PET sheets 4a and 4b adhered to the substrate material 1 at a portion where the adhesive strength is particularly weak may come off during cleaning. If such peeling occurs around the through-hole, the conductive paste 31 for connection may bleed into the peeling portion 33 and short-circuit with the adjacent through-hole as indicated by 32.

【0007】従って基板材料に大きなストレスを与えず
フィルムが剥がれないように洗浄を行う必要がある。そ
のため、基板材料の洗浄が十分に行えていない場合も発
生しうる。
Therefore, it is necessary to perform cleaning so as not to apply a large stress to the substrate material and not to peel off the film. Therefore, there may be a case where the substrate material is not sufficiently cleaned.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板材
料1に穴加工を行う目的は前述したように、基板の表裏
あるいは内層に形成された回路を相互に接続するためで
あり、穴加工を行った後にめっき、導電ペーストの充填
などの接続手段の形成が行われる。
However, as described above, the purpose of forming a hole in the substrate material 1 is to interconnect circuits formed on the front and back surfaces or the inner layer of the substrate. Thereafter, connection means such as plating and filling of a conductive paste are formed.

【0009】高密度回路形成基板では穴および接続手段
のサイズは非常に微小なものであるため、細かな異物で
も接続手段の信頼性に重大な影響を与える。そのため、
確実に異物を除去する必要がある。しかしながら現行の
方法では大きなストレスを基板材料に与えるとマスクと
なるフィルムが剥がれ、マスクとしての機能を失ったり
して導電ペーストが基板材料に滲み絶縁信頼性が悪化す
るなどの問題が発生する。
In a high-density circuit board, the size of the hole and the connecting means is very small, so that even a fine foreign matter has a significant effect on the reliability of the connecting means. for that reason,
It is necessary to reliably remove foreign matter. However, in the current method, when a large stress is applied to the substrate material, the film serving as the mask is peeled off, and the function as a mask is lost, and the conductive paste bleeds into the substrate material, resulting in a problem that insulation reliability is deteriorated.

【0010】本発明は高品質な微細穴を有した基板材料
を実現し、低コストで信頼性の高い回路形成基板の製造
方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a low-cost and highly reliable method for manufacturing a circuit-forming substrate and a manufacturing apparatus for the same, which realizes a high-quality substrate material having fine holes.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の回路形成基板の製造方法は、基板用基材の片
面あるいは両面にフィルム状材料を張り付けてフィルム
付き基板材料とする張り付け工程を含み、複数の材質よ
り構成される基板材料に貫通あるいは非貫通の穴加工を
行う穴形成工程と、前記穴形成工程にて形成された貫通
あるいは非貫通穴の穴に回路形成基板の表面に形成され
る回路または内部に形成される回路を相互に接続する接
続手段を形成する工程を含み、前記穴形成工程がレーザ
ーを前記基板材料に照射し貫通あるいは非貫通の穴形状
を形成する工程と、前記工程により前記基板材料表面お
よび貫通あるいは非貫通の穴形状内壁に形成された変質
部や前記工程中あるいは工程後に基板材料より遊離した
後に前記基板材料に再付着した粉状ないし塊状の変質物
質の少なくとも一方あるいは両方を前記基板材料から張
り付けたフィルムを剥がすことなく前記基板材料より選
択的に除去し、所望の貫通あるいは非貫通の穴形状と清
浄な基板材料を得るものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a circuit-forming substrate according to the present invention comprises a step of attaching a film-like material to one or both sides of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film. Including a hole forming step of performing a penetrating or non-perforating hole processing on a substrate material composed of a plurality of materials, and forming a through or non-through hole formed in the hole forming step on the surface of the circuit forming substrate. Forming a connection means for interconnecting a circuit to be formed or a circuit to be formed therein, wherein the hole forming step forms a through or non-through hole by irradiating the substrate material with a laser. The altered portion formed on the surface of the substrate material and the penetrating or non-penetrating hole-shaped inner wall by the step or the substrate material after being released from the substrate material during or after the step At least one or both of the re-attached powdery or massive alteration material is selectively removed from the substrate material without peeling off the film adhered from the substrate material, and a desired through or non-through hole shape and a clean substrate To get the material.

【0012】この方法によれば、高品質の穴加工をレー
ザー加工の高速性を失うことなく実現し、低コストで信
頼性の高い回路形成基板を提供できるものである。
According to this method, high-quality hole processing can be realized without losing the high speed of laser processing, and a low-cost and highly reliable circuit board can be provided.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、基板用基材の片面あるいは両面にフィルム状材料を
張り付けてフィルム付き基板材料とする張り付け工程
と、前記フィルム付き基板材料にレーザーを照射し、貫
通あるいは非貫通穴を形成する穴形成工程と、前記貫通
あるいは非貫通穴の内壁に形成された変質部または変質
物質の少なくとも一方あるいは両方を、水槽中に超音波
振動子を備え洗浄液を充たした水槽中において超音波洗
浄することにより選択的に除去する工程と、前記フィル
ム付き基板材料に付着した異物もしくは水滴を、気体を
吹き付けることによって除去するブロー工程からなる回
路形成基板の製造方法において、前記超音波振動子と前
記フィルム付き基板材料の間の洗浄液に流れを発生さ
せ、基板材料に水流を当てることを特徴とする回路形成
基板の製造方法というもので、振動の音場を拡散させる
ことでフィルム付き基板用基材へのダメージを抑制しフ
ィルムを剥がすことなく粉状ないし塊状の変質物質の少
なくとも一方あるいは両方を前記基板材料により選択的
に除去し、所望の貫通あるいは非貫通の穴形状を得、さ
らに前記基板材料表面を清浄にする作用を有する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The invention as set forth in claim 1 of the present invention comprises a step of attaching a film-like material to one or both sides of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film; Irradiate a laser, a hole forming step of forming a penetrating or non-through hole, at least one or both of the altered part or altered substance formed on the inner wall of the penetrating or non-through hole, an ultrasonic vibrator in a water tank. A step of selectively removing the substrate by ultrasonic cleaning in a water tank filled with a cleaning liquid, and a blow step of removing foreign matter or water droplets attached to the substrate material with a film by spraying a gas. In the manufacturing method, a flow is generated in the cleaning liquid between the ultrasonic vibrator and the substrate material with a film, and a water flow is applied to the substrate material. It is a method of manufacturing a circuit forming substrate, characterized in that it spreads a sound field of vibration, suppresses damage to a substrate for a film-attached substrate, and removes a powdery or massive alteration substance without peeling the film. At least one or both are selectively removed by the substrate material to obtain a desired penetrating or non-penetrating hole shape, and have an effect of cleaning the surface of the substrate material.

【0014】本発明の請求項2に記載の発明は、基板用
基材の片面あるいは両面にフィルム状材料を張り付けて
フィルム付き基板材料とする張り付け工程と、前記フィ
ルム付き基板材料にレーザーを照射し、貫通あるいは非
貫通穴を形成する穴形成工程と、前記貫通あるいは非貫
通穴の内壁に形成された変質部または変質物質の少なく
とも一方あるいは両方を、水槽中に超音波振動子を備え
洗浄液を充たした水槽中において超音波洗浄することに
より選択的に除去する工程と、前記フィルム付き基板材
料に付着した異物もしくは水滴を、気体を吹き付けるこ
とによって除去するブロー工程からなる回路形成基板の
製造方法において、前記超音波振動子と前記フィルム付
き基板材料の間に板材を配置することで振動を制御する
ことを特徴とする回路形成基板の製造方法というもの
で、振動のエネルギーを制御して振動の音場を抑制させ
ることでフィルム付き基板用基材からフィルムを剥がす
ことなく粉状ないし塊状の変質物質の少なくとも一方あ
るいは両方を前記基板材料により選択的に除去し、所望
の貫通あるいは非貫通の穴形状を得、さらに前記基板材
料表面を清浄にする作用を有する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an attaching step of attaching a film-like material to one or both sides of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating the substrate material with a film with a laser. A hole forming step of forming a penetrating or non-through hole, and at least one or both of the deteriorated portion and the deteriorated substance formed on the inner wall of the penetrating or non-through hole, provided with an ultrasonic vibrator in a water tank and filled with a cleaning liquid. A step of selectively removing by ultrasonic cleaning in a water bath, and a method of manufacturing a circuit-forming substrate, comprising a blow step of removing foreign matter or water droplets attached to the substrate material with a film by spraying a gas, Vibration is controlled by disposing a plate material between the ultrasonic vibrator and the substrate material with a film. A method of manufacturing a path-forming substrate, in which at least one or both of a powdery or massive alteration substance without peeling the film from the substrate for a film-equipped substrate by controlling the energy of the vibration and suppressing the sound field of the vibration. Is selectively removed by the substrate material to obtain a desired penetrating or non-penetrating hole shape, and has an effect of cleaning the surface of the substrate material.

【0015】本発明の請求項3に記載の発明は、基板用
基材の片面あるいは両面にフィルム状材料を張り付けて
フィルム付き基板材料とする張り付け工程と、前記フィ
ルム付き基板材料にレーザーを照射し、貫通あるいは非
貫通穴を形成する穴形成工程と、前記貫通あるいは非貫
通穴の内壁に形成された変質部または変質物質の少なく
とも一方あるいは両方を、水槽中に超音波振動子を備え
洗浄液を充たした水槽中において超音波洗浄することに
より選択的に除去する工程と、前記フィルム付き基板材
料に付着した異物もしくは水滴を、気体を吹き付けるこ
とによって除去するブロー工程からなる回路形成基板の
製造方法において、前記フィルム付き基板材料を板材で
挟持もしくは前記基板材料の片側に板材を張り付けた状
態で超音波洗浄することを特徴とした回路形成基板の製
造方法というもので、前記基板材料を板材で挟持して前
記基板材料の共振を抑制することで前記基板材料とフィ
ルム状材料の接着強度の弱い部分から剥がれるのを防止
することでフィルム付き基板用基材からフィルムを剥が
すことなく粉状ないし塊状の変質物質の少なくとも一方
あるいは両方を前記基板材料により選択的に除去し、所
望の貫通あるいは非貫通の穴形状を得、さらに前記基板
材料表面を清浄にする作用を有する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an attaching step of attaching a film-like material to one or both sides of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating the substrate material with a film with a laser. A hole forming step of forming a penetrating or non-through hole, and at least one or both of the deteriorated portion and the deteriorated substance formed on the inner wall of the penetrating or non-through hole, provided with an ultrasonic vibrator in a water tank and filled with a cleaning liquid. A step of selectively removing by ultrasonic cleaning in a water bath, and a method of manufacturing a circuit-forming substrate, comprising a blow step of removing foreign matter or water droplets attached to the substrate material with a film by spraying a gas, The substrate material with the film is sandwiched by a plate material or subjected to ultrasonic cleaning with the plate material adhered to one side of the substrate material. This is a method of manufacturing a circuit-formed substrate, characterized in that the substrate material is sandwiched between plate materials to suppress resonance of the substrate material, whereby the substrate material and the film material are separated from a portion having a weak adhesive strength. By removing at least one or both of the powdery or massive alteration substances by the substrate material without peeling the film from the substrate for a film-attached substrate by preventing the desired through or non-through hole shape. And has the effect of further cleaning the surface of the substrate material.

【0016】請求項4に記載の発明は、清浄液に流れを
発生させる手段としてポンプを用いることで水流の流
速、量、方向を自由に制御できる作用を有する。
The invention described in claim 4 has the effect that the flow velocity, amount and direction of the water flow can be freely controlled by using a pump as a means for generating a flow in the cleaning liquid.

【0017】請求項5に記載の発明は、洗浄液に流れを
発生させる吐出装置の吐出口の形状をスリット形状にす
ることで被洗浄物に衝撃を与えず振動子の有効幅全域に
水流を発生させることのできる作用を有する。
According to a fifth aspect of the present invention, the discharge port of the discharge device for generating a flow of the cleaning liquid has a slit shape, so that a water flow is generated over the entire effective width of the vibrator without giving an impact to the object to be cleaned. It has an action that can be performed.

【0018】請求項6に記載の発明は、洗浄液に流れを
発生させる吐出装置の吐出口をシャワー状にすることで
水圧を容易に上げることができるので振動子が多連にな
った場合でも1台の吐出装置で全長に水流を与えること
のできる作用を有する。
According to the sixth aspect of the present invention, the water pressure can be easily increased by forming the discharge port of the discharge device for generating a flow in the cleaning liquid into a shower, so that even if the vibrator is connected in multiple units, the pressure can be increased. It has the function of giving a water flow to the entire length with the discharge device of the stand.

【0019】請求項7に記載の発明は、流れを発生させ
る吐出装置を1ヵ所以上に設置することで必要な部分に
有効に水流を発生させる作用を有する。
The seventh aspect of the present invention has an effect of effectively generating a water flow at a necessary portion by installing a discharge device for generating a flow at one or more locations.

【0020】請求項8に記載の発明は、超音波振動子と
基板材料の間に設置する板を平板にすることで複数枚重
ねることで超音波振動子エネルギーの制御を任意にでき
る作用を有する。
The invention described in claim 8 has the effect of making it possible to arbitrarily control the energy of the ultrasonic oscillator by stacking a plurality of plates by setting the plate placed between the ultrasonic oscillator and the substrate material to be a flat plate. .

【0021】請求項9に記載の発明は、超音波振動子と
基板材料の間に設置する板を波板にすることで超音波振
動エネルギーを広範囲に拡散することができる作用を有
する。
According to the ninth aspect of the present invention, the plate provided between the ultrasonic vibrator and the substrate material is made of a corrugated plate, so that the ultrasonic vibration energy can be diffused over a wide range.

【0022】請求項10に記載の発明は、超音波振動子
と基板材料の間に設置する板を定在波の1/4波長以下
の径の穴を1つ以上設けることによりキャビテーション
の影響を抑制し衝撃波を有効に得ることができる作用を
有する。
According to a tenth aspect of the present invention, the effect of cavitation can be reduced by providing at least one hole having a diameter equal to or less than a quarter wavelength of a standing wave in a plate provided between the ultrasonic vibrator and the substrate material. It has the effect of suppressing and effectively obtaining a shock wave.

【0023】請求項11に記載の発明は、超音波振動子
と基板材料の間に設置する板の材質を金属にすることに
より超音波でのエロージョンの影響を少なくし装置の寿
命を延ばすことができる作用を有する。
According to the eleventh aspect of the present invention, the effect of erosion by ultrasonic waves can be reduced and the life of the apparatus can be extended by using metal as the material of the plate provided between the ultrasonic vibrator and the substrate material. Has a function that can be.

【0024】請求項12に記載の発明は、超音波振動子
と基板材料の間に設置する板を薄板にして複数枚用いる
ことで音圧の制御が容易に行える作用を有する。
According to the twelfth aspect of the present invention, the sound pressure can be easily controlled by using a plurality of thin plates provided between the ultrasonic vibrator and the substrate material.

【0025】請求項13に記載の発明は、基板材料を挟
持する板の材質が空気層もしくは気泡を内部に持った板
にすることで前記基板材料が共振することを抑制する作
用を有する。
According to the thirteenth aspect of the present invention, the material of the plate sandwiching the substrate material is an air layer or a plate having air bubbles therein, thereby having an effect of suppressing the resonance of the substrate material.

【0026】請求項14に記載の発明は、基板材料を板
で挟持する前に前記基板材料を濡らすことで前記基板材
料と板がリンキングでより強く密着するためさらに共振
が抑制され、また、穴に入った洗浄液が穴内のクリーニ
ングをする作用を有する。
According to the present invention, the substrate material is wetted before the substrate material is sandwiched between the plates, so that the substrate material and the plate are more strongly adhered by linking, so that resonance is further suppressed. The cleaning liquid that has entered has the function of cleaning the inside of the hole.

【0027】請求項15に記載の発明は、音圧が9.5
5×1010μPa以上ある超音波振動子を用いた場合、
基板材料と超音波振動子の間に板材を設置し音圧を抑制
すると良好な穴形状が得られる条件の適性化がしやすく
なる作用を有する。
According to the fifteenth aspect, the sound pressure is 9.5.
When an ultrasonic vibrator having 5 × 10 10 μPa or more is used,
When a plate material is provided between the substrate material and the ultrasonic vibrator to suppress the sound pressure, it has an effect that the conditions for obtaining a good hole shape can be easily adjusted.

【0028】請求項16に記載の発明は、板を設置する
ことにより音圧を4.78×1010μPa以上9.55
×1010μPa以下にすることにより基板材料からフィ
ルム状材料を剥がすことなく良好な穴形状が得られる作
用を有する。
According to the present invention, the sound pressure can be set to 4.78 × 10 10 μPa or more and 9.55 by installing a plate.
By setting the pressure to 10 10 μPa or less, there is an effect that a good hole shape can be obtained without peeling the film material from the substrate material.

【0029】請求項17に記載の発明は、基板用基材の
片面あるいは両面にフィルム状材料を張り付けてフィル
ム付き基板材料とする張り付け工程と、前記フィルム付
き基板材料にレーザーを照射し、貫通あるいは非貫通穴
を形成する穴形成工程と、水槽の液体中において洗浄す
る工程と、前記フィルム付き基板材料に付着した異物も
しくは水滴を、気体を吹き付けることによって除去する
ブロー工程もしくは前記フィルム付き基板材料に付着す
る異物を回転ブラシ等によって除去する機械的クリーニ
ング工程からなる回路形成基板の製造方法において、前
記洗浄工程、ブロー工程、機械的クリーニング工程のう
ち少なくともひとつの工程において前記フィルム付き基
板材料を加熱手段を用いて加熱することを特徴とする回
路形成基板の製造方法というものであり、前記フィルム
付き基板材料を加熱する加熱手段を備えたことで工程中
に前記フィルム付き基板材料からのフィルムの剥がれを
防止することができる作用を有する。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided an attaching step of attaching a film-like material to one or both sides of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating the substrate material with a film with a laser beam to penetrate the substrate material. A hole forming step of forming a non-through hole, a step of washing in a liquid in a water tank, a foreign matter or a water droplet attached to the film-attached substrate material, or a blowing step of removing the gas-blasted substrate material or the film-attached substrate material. In a method of manufacturing a circuit-forming substrate, comprising a mechanical cleaning step of removing adhering foreign matter with a rotating brush or the like, wherein the substrate material with a film is heated in at least one of the cleaning step, the blowing step, and the mechanical cleaning step. Of a circuit forming substrate characterized by heating using a substrate Are those that law has the effect of peeling can be prevented in the film from the film-coated substrate material during the process by having heating means for heating the film with a substrate material.

【0030】請求項18に記載の発明は、洗浄あるいは
ブロー工程あるいは機械的クリーニング工程の前にフィ
ルム付き基板材料を加熱する予備加熱手段を備えたこと
によって各工程でストレスが加わる前にフィルムと基板
材料の接着強度を強化する作用を有する。
The invention according to claim 18 is characterized in that a preheating means for heating a substrate material with a film before a cleaning or blowing step or a mechanical cleaning step is provided, so that the film and the substrate are not subjected to stress in each step. It has the effect of enhancing the adhesive strength of the material.

【0031】請求項19に記載の発明は、洗浄工程で用
いる液体を加温することで洗浄中にフィルム付き基板材
料からのフィルムの剥がれを防止する作用を有する。
The invention according to claim 19 has the function of heating the liquid used in the cleaning step to prevent the film from peeling from the substrate material with the film during cleaning.

【0032】請求項20に記載の発明は、ブロー工程で
用いる気体を加温することでフィルム付き基板材料の接
着強度が強化されるので風圧によるフィルム剥がれを防
止する作用を有する。
According to the twentieth aspect of the present invention, by heating the gas used in the blowing step, the adhesive strength of the substrate material with a film is strengthened, and thus has the effect of preventing film peeling due to wind pressure.

【0033】請求項21に記載の発明は、張り付け工程
後の基板用材料とフィルム状材料の密着強度が温度に比
例する物性を備えており、加熱手段により加熱されたフ
ィルム付き基板材料の温度を、基板材料もしくはフィル
ム状材料の耐熱温度あるいは所望物性値の変化をまねく
限界温度以下で、搬送を含む洗浄工程あるいはブロー工
程でフィルム付き基板材料に印加される機械的あるいは
物理的ストレスによりフィルムの一部あるいは全体が基
板材料より剥離する限界に相当する前記密着強度が得ら
れる加熱温度以上にすることで材料物性を損なうことな
く確実にものが作れる作用を有する。
According to a twenty-first aspect of the present invention, the adhesive strength between the substrate material and the film material after the attaching step has a property of being proportional to the temperature, and the temperature of the substrate material with the film heated by the heating means is reduced. When the substrate material or film-like material is subjected to a mechanical or physical stress applied to the substrate material with a film in a washing step or a blowing step below the heat-resistant temperature of the substrate material or a limit temperature which causes a change in a desired physical property value. By setting the heating temperature equal to or higher than the heating temperature at which the adhesion strength corresponding to the limit at which the part or the whole is separated from the substrate material is obtained, the material can be reliably produced without impairing the material properties.

【0034】請求項22に記載の発明は、基板用基材が
補強材に熱硬化性樹脂を含浸してBステージ化したプリ
プレグとしたものであり、熱硬化性樹脂が未硬化分を含
むものに対しても水分の影響を最小限にできる作用を有
する。
According to a twenty-second aspect of the present invention, the base material for a substrate is a prepreg in which a reinforcing material is impregnated with a thermosetting resin to form a B-stage and the thermosetting resin contains an uncured portion. Has the effect of minimizing the effect of moisture.

【0035】請求項23に記載の発明は、補強材がガラ
ス繊維織布あるいは不織布であるものであり、熱硬化性
樹脂とガラス繊維の加工レートの差による穴内壁の凹凸
を低減できる作用を有する。
According to a twenty-third aspect of the present invention, the reinforcing material is a glass fiber woven fabric or a non-woven fabric, and has an effect of reducing unevenness of the inner wall of the hole due to a difference in processing rate between the thermosetting resin and the glass fiber. .

【0036】請求項24に記載の発明は、補強材を芳香
族ポリアミド繊維織布あるいは不織布としたことでレー
ザーによる貫通孔の加工性に優れた芳香族ポリアミド基
材を用いた場合におけるレーザー加工時の熱による溶融
した熱硬化型エポキシ樹脂が粘着性を有する加工屑とし
て貫通孔内に残存しても有効なクリーニングを行うこと
ができる回路形成基板の製造方法を提供できるものであ
る。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, there is provided a laser processing method using an aromatic polyamide base material which is excellent in workability of a through hole by a laser by using a woven or non-woven aromatic polyamide fiber as a reinforcing material. It is possible to provide a method of manufacturing a circuit-forming substrate that can perform effective cleaning even if the thermosetting epoxy resin melted by the heat remains in the through hole as processing dust having adhesiveness.

【0037】請求項25に記載の発明は、液体が水ある
いは精製された純水であるものであり、工程のランニン
グコストが安価で蒸発した液体の回収装置が不要である
という作用を有する。
According to the twenty-fifth aspect of the present invention, the liquid is water or purified pure water, and has the effect that the running cost of the process is low and a device for collecting the evaporated liquid is unnecessary.

【0038】請求項26に記載の発明は、液体が有機溶
剤であるものであり、除去加工後の基板材料の乾燥が容
易にできる作用を有する。
According to a twenty-sixth aspect of the present invention, the liquid is an organic solvent, and has an effect of easily drying the substrate material after the removal processing.

【0039】請求項27に記載の発明は、接続手段を形
成する工程中に基板材料に形成された穴に導電粒子を含
有するペーストを充填するものであり、穴内壁が凹凸の
少ない形状で加工粉の付着も無いことから、ペーストの
穴への充填性が良いという作用を有する。
According to a twenty-seventh aspect of the present invention, the holes formed in the substrate material are filled with a paste containing conductive particles during the step of forming the connection means, and the inner wall of the holes is processed with a shape having little unevenness. Since there is no adhesion of powder, it has an effect that the filling property of the paste into the hole is good.

【0040】請求項28に記載の発明は、接続手段を形
成する工程中にめっきを含むものであり、穴内壁が凹凸
の少ない形状で加工粉の付着も無いことからめっきの付
きまわり性が良いという作用を有する。
The invention according to claim 28 includes plating during the step of forming the connecting means, and has good throwing power of the plating since the inner wall of the hole has a shape with little unevenness and no processing powder adheres. It has the action of:

【0041】請求項29に記載の発明は、基板用材料の
両面に貼り付けるフィルム状材料がフィルム基材の両面
もしくは片面に熱硬化性エポキシ樹脂をコートすること
で基板用材料とフィルム状材料の適切な接着強度を得る
作用を有する。
According to a twenty-ninth aspect of the present invention, the film material to be bonded to both sides of the substrate material is formed by coating a thermosetting epoxy resin on both sides or one side of the film base material. It has the effect of obtaining appropriate adhesive strength.

【0042】請求項30に記載の発明は、水槽中に超音
波振動子と基板材料と同面積以上の面を有した板材で基
板材料を載せ超音波振動子上に基板材料を搬送できる手
段を有することで基板材料の共振を抑制して連続的に洗
浄できる作用を有する。
According to a thirtieth aspect of the present invention, there is provided means for placing a substrate material on a plate having a surface having the same area or more as the ultrasonic vibrator and the substrate material in a water tank, and transporting the substrate material onto the ultrasonic vibrator. Having such a function has the effect of suppressing resonance of the substrate material and enabling continuous cleaning.

【0043】請求項31に記載の発明は、基板材料と同
面積以上の面を有した板材で基板材料を挟持できる機能
を有したことで確実に基板材料の共振を抑制し搬送でき
る作用を有する。
According to the thirty-first aspect of the present invention, the substrate material has a function of sandwiching the substrate material with a surface having the same area or more than the surface of the substrate material. .

【0044】請求項32に記載の発明は、水槽中に超音
波振動子と水流を発生させる装置を有しかつ基板材料を
超音波振動子上に搬送する手段を有することで信頼性の
高い回路基板を製造できる作用を有する。
According to a thirty-second aspect of the present invention, a circuit having high reliability is provided by having an ultrasonic oscillator and a device for generating a water flow in a water tank and having means for transporting a substrate material onto the ultrasonic oscillator. It has the function of manufacturing a substrate.

【0045】請求項33に記載の発明は、超音波振動子
と搬送された基板材料間に水流を流すことで基板材料付
近に滞留している音場を確実に拡散できる作用を有す
る。
The invention according to claim 33 has the effect of reliably diffusing the sound field staying near the substrate material by flowing a water flow between the ultrasonic vibrator and the transported substrate material.

【0046】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図4を用いて説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0047】(実施の形態1)図1(a)〜(g)は、
本発明の多層回路基板の製造方法の工程断面図である。
図1(a)において、1は、250nm角、厚さ約15
0μmの絶縁基材としての基板材料であり、例えば芳香
族ポリアミド繊維2(以下アラミド繊維と称する)で構
成された不織布に熱硬化性エポキシ樹脂3(以下エポキ
シ樹脂と称する)を含浸させた複合材からなる樹脂含浸
基材が用いられる。エポキシ樹脂3は完全に硬化したも
のではなく、未硬化分を含むいわゆるBステージ状態で
ある。基板材料1は通常プリプレグと呼ばれるものであ
る。
(Embodiment 1) FIGS. 1 (a) to 1 (g)
It is process sectional drawing of the manufacturing method of the multilayer circuit board of this invention.
In FIG. 1A, 1 is a 250 nm square, about 15 mm thick.
A composite material obtained by impregnating a thermosetting epoxy resin 3 (hereinafter referred to as an epoxy resin) into a nonwoven fabric composed of, for example, an aromatic polyamide fiber 2 (hereinafter referred to as an aramid fiber), which is a substrate material as an insulating base material having a thickness of 0 μm. A resin-impregnated base material consisting of The epoxy resin 3 is not completely cured and is in a so-called B-stage state including an uncured portion. The substrate material 1 is usually called a prepreg.

【0048】4a,4bは、基板用材料との接着面に約
1μm厚の熱硬化性エポキシ樹脂層(図示せず)を備え
た厚さ約10μmの剥離可能な樹脂製フィルムであり、
例えばポリエチレンテレフタレート(以下PETシート
と称する)が用いられる。マスクフィルムとして後工程
で用いられた後に剥離し廃棄されるため非常に弱い強度
(ピール強度:1g/cm幅)でしか接着されていな
い。
Reference numerals 4a and 4b denote releasable resin films each having a thickness of about 10 μm and having a thermosetting epoxy resin layer (not shown) having a thickness of about 1 μm on the bonding surface with the substrate material.
For example, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as a PET sheet) is used. After being used as a mask film in a subsequent process, it is peeled off and discarded, so that it is bonded only with very low strength (peel strength: 1 g / cm width).

【0049】次に図1(b)に示すようにレーザー9を
基板材料1上に照射して貫通穴10を形成する。その際
に基板材料1中の熱硬化性エポキシ樹脂およびアラミド
繊維は熱により昇華して周囲に飛散する。しかし、穴壁
面には昇華しきれなかった熱硬化性エポキシ樹脂あるい
はアラミド繊維が硬く脆い変質部11として残る。ま
た、熱硬化性エポキシ樹脂と比較してアラミド繊維は耐
熱性が高くレーザーによる加工レートが低いため、昇華
しきれずに残りやすく穴内壁は図中に示すような凹凸形
状となる。一方、周囲に飛散した熱硬化性エポキシ樹脂
あるいはアラミド繊維の一部は加工粉12となって基板
材料1の表面あるいは貫通穴10の内部に付着する。
Next, as shown in FIG. 1B, a laser 9 is irradiated on the substrate material 1 to form a through hole 10. At that time, the thermosetting epoxy resin and the aramid fiber in the substrate material 1 are sublimated by heat and scattered around. However, the thermosetting epoxy resin or aramid fiber, which could not be sublimated, remains on the hole wall surface as a hard and brittle deteriorated portion 11. Further, since the aramid fiber has higher heat resistance and a lower processing rate by laser as compared with the thermosetting epoxy resin, the aramid fiber easily remains without being sublimated and the inner wall of the hole has an uneven shape as shown in the figure. On the other hand, a part of the thermosetting epoxy resin or aramid fiber scattered around becomes a processing powder 12 and adheres to the surface of the substrate material 1 or the inside of the through hole 10.

【0050】次に図1(c)に示すように水温60℃に
保たれ、水中ポンプ18によって水流の発生した超音波
水洗槽の超音波振動子13に基板材料1を近づけて、水
流を当てながら基板材料1を振動させる。超音波振動子
13から放射される音波エネルギーによって基板材料1
は振動し、変質部11および加工粉12が基板材料1よ
り脱落、剥離する除去が行われ、図1(d)に示すよう
な良好に穴形状を持つ基板材料1が得られる。また、基
板材料1が水中を移動しながら、洗浄される場合は図1
(h)に示すように、複数の超音波振動子13を配置、
前記超音波振動子13ごとに水流を発生させる吐出口2
6を設けると連続処理においても効果が得られる。除去
加工工程において、Bステージ状態の熱硬化性エポキシ
樹脂を用いているため接着強度に図2に示す温度特性が
ありエポキシが硬化しない程度の熱を加えることで接着
力が格段に増すため全体のピール強度が向上する。
Next, as shown in FIG. 1 (c), the substrate material 1 is brought close to the ultrasonic vibrator 13 in the ultrasonic washing tank where the water flow is generated by the submersible pump 18 while the water temperature is maintained at 60 ° C., and the water flow is applied. While the substrate material 1 is vibrated. Substrate material 1 due to sound energy radiated from ultrasonic transducer 13
Vibrates, and the deteriorated portion 11 and the processing powder 12 fall off and separate from the substrate material 1, thereby obtaining the substrate material 1 having a good hole shape as shown in FIG. 1D. When the substrate material 1 is washed while moving in water, FIG.
As shown in (h), a plurality of ultrasonic transducers 13 are arranged,
Discharge port 2 for generating a water flow for each ultrasonic transducer 13
When 6 is provided, an effect can be obtained also in continuous processing. In the removal process, the thermosetting epoxy resin in the B-stage state is used, so that the adhesive strength has the temperature characteristic shown in FIG. 2 and the adhesive strength is remarkably increased by applying heat to such an extent that the epoxy is not cured. The peel strength is improved.

【0051】また、水を基板材料1と超音波振動子13
の間に流すことにより剥離の原因となるキャビテーショ
ンの滞留を無くす効果があるため振動によってのダメー
ジを受けることはなく、硬く脆い変質部11および加工
粉12が選択的に除去される。超音波振動子が多連にな
った場合水流の吐出口を超音波振動子と同数にすること
で弱い水流で剥離防止の効果が出る。
Further, water is added to the substrate material 1 and the ultrasonic vibrator 13.
By flowing between them, there is an effect of eliminating stagnation of cavitation causing peeling, so that there is no damage due to vibration, and the hard and brittle deteriorated portion 11 and the processing powder 12 are selectively removed. When the number of ultrasonic vibrators is multiplied, by setting the number of discharge ports of the water flow equal to that of the ultrasonic vibrators, the effect of preventing peeling with a weak water flow can be obtained.

【0052】その他、図1(c)の工程を次の二つの例
の様にしても有効である。
In addition, the process of FIG. 1 (c) is effective even if it is performed in the following two examples.

【0053】図3に示すように超音波振動子13から発
振された音圧が9.55×1010μPa以上ある場合と
超音波振動子13と基板材料1の間に拡散板17を設置
して音圧を4.78×1010μPa以上9.55×10
10μPa以下に制御することで基板材料からのフィルム
剥離を防止しかつ硬く脆い変質部11および加工粉12
が選択的に除去できる。
As shown in FIG. 3, when the sound pressure oscillated from the ultrasonic vibrator 13 is equal to or greater than 9.55 × 10 10 μPa, a diffusion plate 17 is provided between the ultrasonic vibrator 13 and the substrate material 1. The sound pressure is 4.78 × 10 10 μPa or more and 9.55 × 10
By controlling the pressure to 10 μPa or less, the peeling of the film from the substrate material is prevented, and the hard and brittle deteriorated portion 11 and the processing powder 12 are formed.
Can be selectively removed.

【0054】また、図4に示す様にシャワーなど予め水
(洗浄液と同じ成分のもの、図示せず)で濡らした基板
材料1を共振抑制板20で挟み超音波洗浄することで基
板材料1とPETシート4a,4bを剛体化させること
で基板材料1とPETシート4a,4bの接着強度の弱
い部分の共振を抑制し基板材料1からのPETシート浮
きを防止する。このとき貫通穴10内には予め濡らした
ときに洗浄液19が充満しているので超音波は到達する
ため硬く脆い変質部11および加工粉12が選択的に除
去される。
Further, as shown in FIG. 4, the substrate material 1 wetted with water (having the same components as the cleaning liquid, not shown) such as a shower is sandwiched between the resonance suppressing plates 20 and subjected to ultrasonic cleaning. By making the PET sheets 4a and 4b rigid, the resonance of a portion where the bonding strength between the substrate material 1 and the PET sheets 4a and 4b is weak is suppressed, and the floating of the PET sheet from the substrate material 1 is prevented. At this time, since the cleaning liquid 19 is filled in the through hole 10 when wetted in advance, the ultrasonic waves reach and the hard and brittle altered portion 11 and the processing powder 12 are selectively removed.

【0055】次に図1(e)に示すように印刷等の手段
を用いて導電性ペースト14を貫通穴10に充填する。
貫通穴10は良好な形状であるために導電性ペースト1
4の充填は全く妨げられることなく、貫通穴10の内部
に完全に充填される。充填後マスクフィルムであるPE
Tシートを剥離する。
Next, as shown in FIG. 1E, the conductive paste 14 is filled in the through-holes 10 by means such as printing.
Since the through hole 10 has a good shape, the conductive paste 1
4 is completely filled in the through hole 10 without any hindrance. PE which is a mask film after filling
Peel off the T sheet.

【0056】次に図1(f)に示すように金属箔15で
基板材料1を挟み込み、熱プレス装置(図示せず)を用
いて加熱加圧することにより基板材料1は成形されると
同時に導電性ペースト14によって金属箔15と金属箔
15は電気的に接続される。次に金属箔15を所望の形
状にパターンニングすることにより図1(g)に示すよ
うな回路パターン16を有する両面回路形成基板が得ら
れる。
Next, as shown in FIG. 1 (f), the substrate material 1 is sandwiched between metal foils 15 and heated and pressed using a hot press device (not shown) so that the substrate material 1 is simultaneously formed and conductive. Metallic foil 15 and metallic foil 15 are electrically connected by conductive paste 14. Next, the metal foil 15 is patterned into a desired shape to obtain a double-sided circuit forming substrate having a circuit pattern 16 as shown in FIG.

【0057】なお、本実施の形態では両面回路形成基板
について説明したが、工程を複数回繰り返すことにより
多層回路形成基板が得られることはいうまでもない。
In this embodiment, the double-sided circuit forming substrate has been described. However, it is needless to say that a multilayer circuit forming substrate can be obtained by repeating the steps a plurality of times.

【0058】(実施の形態2)図5に示すように搬送板
を兼ねた共振抑制板21をベルトコンベアーに見立て、
下側の搬送板上に投入装置22で基板材料1を投入し順
次超音波洗浄槽内に流れていくことで自動的に基板材料
1の洗浄が実施され洗浄後取り出し装置23で基板材料
を取り出す構造にすることで効率的な回路基板製造装置
が提供できる。
(Embodiment 2) As shown in FIG. 5, the resonance suppressing plate 21 also serving as a transport plate is regarded as a belt conveyor.
The substrate material 1 is loaded on the lower transport plate by the loading device 22 and sequentially flows into the ultrasonic cleaning tank, whereby the substrate material 1 is automatically washed, and the substrate material is removed by the removal device 23 after cleaning. With this structure, an efficient circuit board manufacturing apparatus can be provided.

【0059】(実施の形態3)図6は、水中に設置した
水中ポンプ18で発生させた水流によってキャビテーシ
ョンを拡散させた超音波振動子上に基板材料1を搬送で
きるので基板材料1にキャビテーションが作用せずPE
Tシートの剥離を防止しつつ硬く脆い変質部11および
加工粉12が選択的に除去できるため高品質の回路基板
を提供できる装置である。
(Embodiment 3) FIG. 6 shows that the substrate material 1 can be transferred onto the ultrasonic vibrator in which the cavitation is diffused by the water flow generated by the submersible pump 18 installed in the water. PE does not work
This is an apparatus that can provide a high-quality circuit board because the hard and brittle deteriorated portion 11 and the processing powder 12 can be selectively removed while preventing peeling of the T sheet.

【0060】本発明では導電ペースト充填での説明を行
ったが、めっきを用いても同様の結果が得られる。
Although the present invention has been described with respect to filling with a conductive paste, similar results can be obtained by using plating.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のように本発明の回路形成基板の製
造方法および製造装置は、レーザーを前記基板材料に照
射し第1段階の貫通あるいは非貫通の穴形状を形成する
工程と、前記工程により前記基板材料の表面および前記
第1段階の貫通あるいは非貫通の穴形状内壁に形成され
た変質部や前記工程中あるいは工程後に基板材料より遊
離した後に前記基板材料に再付着した粉状ないし塊状の
変質物質の少なくとも一方あるいは両方を除去する際に
前記基板材料を振動させることにより前記基板材料より
選択的に除去する工程で前記基板材料が振動しすぎて前
記基板材料に張り付けたPETシートが剥離しないよう
にし、所望の貫通あるいは非貫通の穴形状を得る工程か
ら構成されているため、高品質の穴加工をレーザー加工
の高速性を失うことなく実現し、低コストで信頼性の高
い回路形成基板の製造方法を提供できるものである。
As described above, according to the method and apparatus for manufacturing a circuit-forming substrate of the present invention, a step of irradiating a laser to the substrate material to form a first or second through-hole or non-through-hole shape is provided. The altered part formed on the surface of the substrate material and the inner wall of the through hole or non-penetration hole of the first stage, or the powdery or lumpy material which is detached from the substrate material during or after the process and then reattached to the substrate material Vibrating the substrate material when removing at least one or both of the degenerated substances, the substrate material vibrates too much in the step of selectively removing the substrate material from the substrate material, and the PET sheet adhered to the substrate material peels off. The process consists of obtaining the desired through or non-penetrating hole shape so that high quality hole drilling can lose the speed of laser processing. Realized without those that can provide a method of manufacturing a highly reliable circuit forming substrate at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における回路形成基
板の製造方法の工程断面図
FIG. 1 is a process cross-sectional view of a method of manufacturing a circuit formation substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態における接着強度と水温との関係
を示す特性図
FIG. 2 is a characteristic diagram showing a relationship between adhesive strength and water temperature in the embodiment.

【図3】図1(c)に代わる回路基板の製造方法の概略
工程断面図
FIG. 3 is a schematic cross-sectional process view of a method of manufacturing a circuit board instead of FIG. 1 (c).

【図4】図1(c)に代わる回路基板の製造方法の概略
工程断面図
FIG. 4 is a schematic cross-sectional process view of a method for manufacturing a circuit board instead of FIG. 1 (c).

【図5】本発明の第2の実施の形態における回路形成基
板の製造装置の概略断面図
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a circuit forming substrate manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施の形態における回路形成基
板の製造装置の概略断面図
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a circuit forming substrate manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図7】(a)従来の回路形成基板の製造方法における
穴加工部平面図 (b)同穴加工部断面図
FIG. 7A is a plan view of a drilled portion in a conventional method of manufacturing a circuit-formed board, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the drilled portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板材料 2 アラミド繊維 3 エポキシ樹脂 4a,4b PETシート 9 レーザー 10 貫通穴 11 変質部 12 加工粉 13 超音波振動子 14 導電性ペースト 15 金属箔 16 回路パターン 17 拡散板 18 ポンプ 19 洗浄液 20 共振抑制板 21 搬送板を兼ねた共振抑制板 22 投入装置 23 取り出し装置 26 吐出口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate material 2 Aramid fiber 3 Epoxy resin 4a, 4b PET sheet 9 Laser 10 Through hole 11 Transformed part 12 Processing powder 13 Ultrasonic vibrator 14 Conductive paste 15 Metal foil 16 Circuit pattern 17 Diffusion plate 18 Pump 19 Cleaning liquid 20 Resonance suppression Plate 21 Resonance suppression plate also serving as transport plate 22 Input device 23 Extraction device 26 Discharge port

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 X (72)発明者 竹中 敏昭 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 中村 眞治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 三浦 章宏 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 X (72) Inventor Toshiaki Takenaka 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma, Osaka Matsushita Electric Industrial Inside (72) Inventor Shinji Nakamura 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Akihiro Miura 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (33)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板用基材の片面あるいは両面にフィル
ム状材料を張り付けてフィルム付き基板材料とする張り
付け工程と、前記フィルム付き基板材料にレーザーを照
射し、貫通あるいは非貫通穴を形成する穴形成工程と、
前記貫通あるいは非貫通穴の内壁に形成された変質部ま
たは変質物質の少なくとも一方あるいは両方を、水槽中
に超音波振動子を備え洗浄液を充たした水槽中において
超音波洗浄することにより選択的に除去する工程と、前
記フィルム付き基板材料に付着した異物もしくは水滴
を、気体を吹き付けることによって除去するブロー工程
からなる回路形成基板の製造方法であって、前記超音波
振動子と前記フィルム付き基板材料の間の洗浄液に流れ
を発生させることを特徴とする回路形成基板の製造方
法。
1. A laminating step of laminating a film-like material on one or both sides of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating a laser to the substrate material with a film to form a through hole or a non-through hole. Forming step;
At least one or both of the degenerated portion and the degenerated substance formed on the inner wall of the through or non-through hole are selectively removed by ultrasonic cleaning in a water tank provided with an ultrasonic vibrator in a water tank and filled with a cleaning liquid. And a blow step of removing foreign matter or water droplets attached to the film-attached substrate material by spraying a gas, the method comprising the steps of: A method for producing a circuit-forming substrate, characterized in that a flow is generated in a cleaning liquid between the substrates.
【請求項2】 基板用基材の片面あるいは両面にフィル
ム状材料を張り付けてフィルム付き基板材料とする張り
付け工程と、前記フィルム付き基板材料にレーザーを照
射し、貫通あるいは非貫通穴を形成する穴形成工程と、
前記貫通あるいは非貫通穴の内壁に形成された変質部ま
たは変質物質の少なくとも一方あるいは両方を、水槽中
に超音波振動子を備え洗浄液を充たした水槽中において
超音波洗浄することにより選択的に除去する工程と、前
記フィルム付き基板材料に付着した異物もしくは水滴
を、気体を吹き付けることによって除去するブロー工程
からなる回路形成基板の製造方法であって、前記超音波
振動子と前記フィルム付き基板材料の間の板材を配置す
ることで振動を制御することを特徴とする回路形成基板
の製造方法。
2. A bonding step of bonding a film material to one or both surfaces of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating the film material with a laser to form a through hole or a non-through hole. Forming step;
At least one or both of the degenerated portion and the degenerated substance formed on the inner wall of the through or non-through hole are selectively removed by ultrasonic cleaning in a water tank provided with an ultrasonic vibrator in a water tank and filled with a cleaning liquid. And a blow step of removing foreign matter or water droplets attached to the film-attached substrate material by spraying a gas, the method comprising the steps of: A method for manufacturing a circuit-formed substrate, wherein vibration is controlled by arranging a plate material between them.
【請求項3】 基板用基材の片面あるいは両面にフィル
ム状材料を張り付けてフィルム付き基板材料とする張り
付け工程と、前記フィルム付き基板材料にレーザーを照
射し、貫通あるいは非貫通穴を形成する穴形成工程と、
前記貫通あるいは非貫通穴の内壁に形成された変質部ま
たは変質物質の少なくとも一方あるいは両方を、水槽中
に超音波振動子を備え洗浄液を充たした水槽中において
超音波洗浄することにより選択的に除去する工程と、前
記フィルム付き基板材料に付着した異物もしくは水滴
を、気体を吹き付けることによって除去するブロー工程
からなる回路形成基板の製造方法であって、前記フィル
ム付き基板材料を板材で挟持もしくは前記基板材料の片
側に板材を張り付けた状態で超音波洗浄することを特徴
とする回路形成基板の製造方法。
3. A bonding step of bonding a film material to one or both surfaces of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating a laser to the substrate material with a film to form a through hole or a non-through hole. Forming step;
At least one or both of the degenerated portion and the degenerated substance formed on the inner wall of the through or non-through hole are selectively removed by ultrasonic cleaning in a water tank provided with an ultrasonic vibrator in a water tank and filled with a cleaning liquid. And a blow step of removing foreign matter or water droplets adhering to the substrate material with a film by blowing a gas, wherein the substrate material with a film is sandwiched by a plate material or the substrate. A method for manufacturing a circuit-formed substrate, comprising performing ultrasonic cleaning while a plate material is adhered to one side of a material.
【請求項4】 ポンプと吐出口を備えた吐出装置を用い
て洗浄液に流れを発生させることを特徴とする請求項1
に記載の回路形成基板の製造方法。
4. The cleaning liquid is generated by using a discharge device having a pump and a discharge port.
3. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to 1.
【請求項5】 吐出口がスリット形状である吐出装置を
用いた請求項4に記載の回路形成基板の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the discharge port has a slit shape.
【請求項6】 吐出口がシャワー状である吐出装置を用
いた請求項4に記載の回路形成基板の製造方法。
6. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 4, wherein a discharge device having a shower-like discharge port is used.
【請求項7】 1ヵ所以上の吐出口を備えた吐出装置を
用いた請求項5または6に記載の回路形成基板の製造方
法。
7. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 5, wherein a discharge device having one or more discharge ports is used.
【請求項8】 板材が平板である請求項2に記載の回路
形成基板の製造方法。
8. The method according to claim 2, wherein the plate material is a flat plate.
【請求項9】 板材が波板である請求項2に記載の回路
形成基板の製造方法。
9. The method according to claim 2, wherein the plate member is a corrugated plate.
【請求項10】 板材は定在波の1/4波長以下の径の
穴を1つ以上有したものである請求項8または9に記載
の回路形成基板の製造方法。
10. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 8, wherein the plate material has at least one hole having a diameter equal to or less than 1 / wavelength of the standing wave.
【請求項11】 板材が金属である請求項2に記載の回
路形成基板の製造方法。
11. The method according to claim 2, wherein the plate material is a metal.
【請求項12】 板材が複数の薄板で構成されている請
求項11に記載の回路形成基板の製造方法。
12. The method according to claim 11, wherein the plate member is composed of a plurality of thin plates.
【請求項13】 板材の材質が空気層もしくは気泡を内
部に持ったものである請求項3に記載の回路形成基板の
製造方法。
13. The method according to claim 3, wherein the material of the plate material has an air layer or air bubbles therein.
【請求項14】 基板材料を板材で挟持する前に前記基
板材料を濡らす工程を備えたことを特徴とする請求項3
に記載の回路形成基板の製造方法。
14. The method according to claim 3, further comprising the step of wetting the substrate material before sandwiching the substrate material with the plate material.
3. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to 1.
【請求項15】 超音波振動子から発せられる音圧が
9.55×1010μPa以上あることを特徴とする請求
項2または3に記載の回路形成基板の製造方法。
15. The method according to claim 2, wherein the sound pressure emitted from the ultrasonic vibrator is 9.55 × 10 10 μPa or more.
【請求項16】 板材を設置することにより音圧を4.
78×1010μPa以上9.55×1010μPa以下に
することを特徴とした請求項2または3に記載の回路形
成基板の製造方法。
16. The sound pressure is increased by installing a plate material.
4. The method according to claim 2, wherein the pressure is set to 78 × 10 10 μPa or more and 9.55 × 10 10 μPa or less.
【請求項17】 基板用基材の片面あるいは両面にフィ
ルム状材料を張り付けてフィルム付き基板材料とする張
り付け工程と、前記フィルム付き基板材料にレーザーを
照射し、貫通あるいは非貫通穴を形成する穴形成工程
と、水槽の液体中において洗浄する工程と、前記フィル
ム付き基板材料に付着した異物もしくは水滴を、気体を
吹き付けることによって除去するブロー工程もしくは前
記フィルム付き基板材料に付着する異物を回転ブラシ等
によって除去する機械的クリーニング工程からなる回路
形成基板の製造方法であって、前記洗浄工程、ブロー工
程、機械的クリーニング工程のうち少なくともひとつの
工程において前記フィルム付き基板材料を加熱手段を用
いて加熱することを特徴とする回路形成基板の製造方
法。
17. A bonding step of bonding a film-like material to one or both surfaces of a substrate for a substrate to form a substrate material with a film, and irradiating a laser to the substrate material with a film to form a through hole or a non-through hole. A forming step, a step of washing in a liquid in a water tank, a blowing step of removing foreign matter or water droplets adhered to the substrate material with a film by spraying a gas, or a rotating brush for removing foreign matter adhered to the substrate material with a film. Wherein the substrate material with a film is heated using a heating means in at least one of the cleaning step, the blowing step, and the mechanical cleaning step. A method for manufacturing a circuit forming substrate, comprising:
【請求項18】 洗浄工程あるいはブロー工程あるいは
機械的クリーニング工程前にフィルム付き基板材料を加
熱する予備加熱手段を備えた請求項1〜3記載または1
7のいずれかに記載の回路形成基板の製造方法。
18. The method according to claim 1, further comprising a preheating means for heating the substrate material with the film before the cleaning step, the blowing step or the mechanical cleaning step.
8. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to any one of items 7.
【請求項19】 洗浄工程で用いる液体を加温すること
を特徴とする請求項1〜3または17のいずれかに記載
の回路形成基板の製造方法。
19. The method according to claim 1, wherein the liquid used in the cleaning step is heated.
【請求項20】 ブロー工程で用いる気体を加温するこ
とを特徴とする請求項1〜3記載または17のいずれか
に記載の回路形成基板の製造方法。
20. The method according to claim 1, wherein the gas used in the blowing step is heated.
【請求項21】 加熱手段による加熱温度を、基板材料
もしくはフィルム状材料の耐熱温度あるいは所望する物
性変化に達する温度以下で、かつ機械的あるいは物理的
ストレスによりフィルムの一部あるいは全体が基板材料
より剥離しない温度以上とすることを特徴とする請求項
17に記載の回路形成基板の製造方法。
21. The heating temperature of the heating means is not higher than the heat resistance temperature of the substrate material or the film material or a temperature at which a desired change in physical properties is reached, and a part or the whole of the film is higher than the substrate material due to mechanical or physical stress. The method according to claim 17, wherein the temperature is not lower than a temperature at which the substrate is not peeled.
【請求項22】 基板用基材が補強材に熱硬化性樹脂を
含浸してBステージ化したプリプレグからなることを特
徴とする請求項1〜3または17に記載の回路形成基板
の製造方法。
22. The method for producing a circuit-formed substrate according to claim 1, wherein the substrate for a substrate is made of a prepreg which is B-staged by impregnating a reinforcing material with a thermosetting resin.
【請求項23】 補強材がガラス繊維織布あるいは不織
布である請求項22に記載の回路形成基板の製造方法。
23. The method according to claim 22, wherein the reinforcing material is a glass fiber woven fabric or a nonwoven fabric.
【請求項24】 補強材が芳香族ポリアミド繊維織布あ
るいは不織布である請求項22に記載の回路形成基板の
製造方法。
24. The method according to claim 22, wherein the reinforcing material is an aromatic polyamide fiber woven or nonwoven fabric.
【請求項25】 洗浄する液体が水あるいは精製された
純水である請求項1〜3または17のいずれかに記載の
回路形成基板の製造方法。
25. The method according to claim 1, wherein the liquid to be washed is water or purified pure water.
【請求項26】 洗浄する液体が有機溶剤である請求項
1〜3または17に記載の回路形成基板の製造方法。
26. The method according to claim 1, wherein the liquid to be washed is an organic solvent.
【請求項27】 請求項1に記載の回路形成基板の製造
方法の後、穴形成工程にて形成された貫通あるいは非貫
通の穴に回路形成基板の表面に形成される回路または内
部に形成される回路を相互に接続する接続手段を形成す
る工程を設け、前記接続手段を形成する工程中に基板材
料に形成された穴に導電粒子を含有するペーストを充填
することを特徴とする回路形成基板の製造方法。
27. A circuit formed on the surface of the circuit forming substrate or in a through hole or a non-through hole formed in the hole forming step after the method of manufacturing a circuit forming substrate according to claim 1. Forming a connection means for connecting circuits to each other, and filling a hole formed in the substrate material with a paste containing conductive particles during the step of forming the connection means. Manufacturing method.
【請求項28】 請求項1に記載の回路形成基板の製造
方法の後、穴形成工程にて形成された貫通あるいは非貫
通の穴に回路形成基板の表面に形成される回路または内
部に形成される回路を相互に接続する接続手段を形成す
る工程を設け、前記接続手段を形成する工程中にめっき
を含むことを特徴とする回路形成基板の製造方法。
28. After the method of manufacturing a circuit-forming substrate according to claim 1, the circuit formed on the surface of the circuit-forming substrate or inside the through-hole or the non-penetrating hole formed in the hole forming step. A step of forming connecting means for connecting circuits to each other, and plating is included in the step of forming the connecting means.
【請求項29】 基板用材料の両面に貼り付けるフィル
ム状材料がフィルム基材の両面もしくは片面に熱硬化性
エポキシ樹脂をコートしたものである請求項1〜3また
は17のいずれかに記載の回路形成基板の製造方法。
29. The circuit according to claim 1, wherein the film-like material to be attached to both sides of the substrate material is a film base material having both sides or one side coated with a thermosetting epoxy resin. A method for manufacturing a formed substrate.
【請求項30】 超音波振動子を槽中に備えた水槽と、
基板材料と同等以上の面積を有する搬送部材と、前記搬
送部材にて基板材料を水槽中の超音波振動子の一定距離
上方を通過搬送する手段を備えた回路形成基板の製造装
置。
30. A water tank having an ultrasonic transducer in the tank,
An apparatus for manufacturing a circuit-formed substrate, comprising: a transport member having an area equal to or greater than the substrate material; and means for transporting the substrate material by a predetermined distance above an ultrasonic vibrator in a water tank.
【請求項31】 搬送部材が板材で基板材料を挟持する
機構を備えた請求項30に記載の回路形成基板の製造装
置。
31. The apparatus for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 30, wherein the transport member includes a mechanism for holding the substrate material between the plate members.
【請求項32】 水槽に水流発生装置を備えた請求項2
9,30に記載の回路形成基板の製造装置。
32. The water tank is provided with a water flow generator.
30. The apparatus for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 9, 30.
【請求項33】 水槽中の搬送する手段と超音波振動子
の間に水流が発生するような位置に水流発生装置を備え
た請求項32に記載の回路形成基板の製造装置。
33. The apparatus according to claim 32, wherein a water flow generator is provided at a position where a water flow is generated between the conveying means in the water tank and the ultrasonic vibrator.
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