JP2001237465A - 熱電素子とその製造方法 - Google Patents

熱電素子とその製造方法

Info

Publication number
JP2001237465A
JP2001237465A JP2000045300A JP2000045300A JP2001237465A JP 2001237465 A JP2001237465 A JP 2001237465A JP 2000045300 A JP2000045300 A JP 2000045300A JP 2000045300 A JP2000045300 A JP 2000045300A JP 2001237465 A JP2001237465 A JP 2001237465A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermoelectric
insulating resin
semiconductors
thermoelectric semiconductor
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000045300A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuhiro Nakamura
中村  哲浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
Priority to JP2000045300A priority Critical patent/JP2001237465A/ja
Publication of JP2001237465A publication Critical patent/JP2001237465A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の熱電素子の構造では、小型で高性能の
熱電素子を形成するためにp型とn型の熱電半導体の間
隔を狭め、密度を高める必要があり、熱電半導体端部に
導電膜をメッキ法で設ける際に、p型とn型の熱電半導
体の間隔が狭いために、各熱電半導体端部に設けた導電
膜同士がショートしてしまうという問題点を有してい
た。 【解決手段】 本発明では、一方の端部が細いp型とn
型の熱電半導体がエポキシ樹脂を介して交互に配置し、
熱電半導体端部に導電膜を設けたそれぞれの熱電半導体
と、基板上に形成した銅や金などからなる配線とをハン
ダや導電接着剤などの接続材料により、電気的に連結し
ている構造となっており、隣接する熱電半導体端部の間
隔が広がるため、導電膜同士のショートを防止すること
ができ、熱電素子の生産性を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱電素子の構造およ
びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】以下、図面を用いて従来技術の一例を説
明する。図26は従来例の熱電素子の構造を示す断面図
である。図26に記載するように棒状のp型とn型の熱
電半導体1を交互に配置し、熱電半導体1端部に導電膜
3を設けたそれぞれの熱電半導体1と、基板6上に形成
した銅や金などからなる配線5とを、ハンダや導電接着
剤などの接続材料4により電気的に連結している。p型
とn型の熱電半導体1の間には、絶縁樹脂としてエポキ
シ樹脂2を設けてあり、熱電半導体1間の絶縁を保って
いる。
【0003】熱電半導体としては、一般的に用いられる
ビスマス−テルル系、アンチモン−テルル系、ビスマス
−テルル−アンチモン系、ビスマス−テルル−セレン系
の他に、鉛−ゲルマニウム系、シリコン−ゲルマニウム
系など材料が用いられる。
【0004】基板6としてはシリコン、アルミナなどの
熱伝導の良い金属を用い、メッキ法、スパッタリング
法、真空蒸着法などにより形成された配線5をエッチン
グなどによりパターン化している。
【0005】熱電半導体1と配線5を導通させる接続材
料4としてハンダを用いた場合、ハンダ中のスズ成分が
熱電半導体1内に拡散して性能を劣化させるのを防止す
る目的と、ハンダの濡れ性を確保する目的で配線5と接
続する熱電半導体1の面には導電膜3を形成する必要が
ある。また、導電接着剤を用いて熱電半導体1と配線5
を導通させる場合にも、熱電半導体1と導電接着剤の接
触抵抗が大きいため、導電接着剤との接触抵抗が低い導
電膜3を形成しておく必要がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前述した熱電素子には
以下に記載するような問題点がある。従来の熱電素子の
構造では、小型で高性能の熱電素子を形成するためにp
型とn型の熱電半導体の間隔を狭め、密度を高める必要
がある。熱電半導体における端部に導電膜をメッキ法で
設ける際に、p型とn型の熱電半導体の間隔が狭いため
に、各熱電半導体の端部に設けた導電膜同士がショート
してしまうという問題点を有していた。
【0007】本発明の目的は、上記課題を解決して、熱
電半導体端部に設ける導電膜同士のショートを防止し、
生産性に優れた熱電素子およびその製造方法を提供する
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明における熱電素子の構造およびその製造方
法は、下記記載の構成と製造方法を採用する。
【0009】本発明の熱電素子は複数の棒状の熱電半導
体が絶縁樹脂を介して配列し、それぞれの熱電半導体の
一方、あるいは両方の端部が細くなっていることを特徴
としている。
【0010】または棒状の熱電半導体における一方の端
部のみが細くなっており、熱電半導体の細くなっている
端部と細くなっていない端部とが上下交互に、配列して
いることを特徴としている。
【0011】本発明の熱電素子は棒状の熱電半導体にお
ける端部と、絶縁樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導
体における端部との間が、狭い、広いと交互に配置して
いることを特徴としている。さらに、それぞれの熱電半
導体の一方、あるいは両方の端部が細くなっていてもよ
い。
【0012】本発明の熱電素子は複数の棒状の熱電半導
体が絶縁樹脂を介して配列し、それぞれの熱電半導体に
おける長手方向の断面が台形状であることを特徴として
いる。さらに、台形の細くなっている端部と細くなって
いない端部とが上下交互に配列していてもよい。さらに
好ましくは、絶縁樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導
体における端部との間が、狭い、広いと交互に配置して
いることを特徴としている。
【0013】それぞれの熱電半導体は配線によって電気
的に連結されていることを特徴し、さらに熱電半導体が
p型とn型の熱電半導体であることを特徴としている。
【0014】本発明の熱電素子の製造方法は、棒状の熱
電半導体における一方または両方の端部を細くする工程
と、絶縁樹脂を介して配列している複数の熱電半導体を
用意する工程と、絶縁樹脂を介して配列する各熱電半導
体を電気的に連結する工程とを有している。
【0015】または、棒状の熱電半導体における端部
と、絶縁樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導体におけ
る端部との間が、狭い、広いと交互に配置するように、
絶縁樹脂を介して配列している複数の熱電半導体を用意
する工程と、絶縁樹脂を介して配列する各熱電半導体を
電気的に連結する工程とを有している。
【0016】棒状の熱電半導体における一方または両方
の端部を細くする工程としては、熱電半導体のブロック
に第1の溝を設け、次に第1の溝よりも細くて深い第2
の溝を設けて、櫛歯部と台座部とを備える熱電半導体を
形成する工程を備えている。または、熱電半導体におけ
る長手方向の断面が台形状である櫛歯部と、台座部とを
備える熱電半導体を形成する工程を備えていてもよい。
【0017】あるいは絶縁樹脂を介して配列している複
数の熱電半導体を用意する工程の後に行われ、絶縁樹脂
の端部と絶縁樹脂を介して隣り合う熱電半導体の両方を
またぐように、かつ形成される絶縁樹脂と形成されない
絶縁樹脂が交互に設置されるように溝を形成する工程
と、溝に絶縁樹脂を設置する工程とを備えていてもよ
い。
【0018】絶縁樹脂を介して配列している複数の熱電
半導体を用意する工程としては、櫛歯部と台座部を有す
る二つの熱電半導体を組み合わせる工程と、各熱電半導
体の隙間に、絶縁樹脂を設置する工程と、台座部を除去
する工程とを備えている。
【0019】絶縁樹脂を介して配列する各熱電半導体を
電気的に連結する工程は、熱電半導体の一方の端部表面
に無電解メッキを行うことができる導電膜を設置する工
程と、無電解メッキ液に浸漬し、熱電半導体の両方の端
部で導電膜を等方成長する工程とを有することを特徴と
している。特に棒状の熱電半導体における端部と、絶縁
樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導体における端部と
の間が、狭い、広いと交互に配置された熱電素子には効
果的である。
【0020】また、先に述べた熱電半導体における長手
方向の断面が台形状である櫛歯部と、台座部とを備える
熱電半導体を形成する工程を経て、絶縁樹脂を介して配
列する熱電半導体を形成する工程を行うことは、絶縁樹
脂を介して隣接する棒状の熱電半導体における端部との
間が、狭い、広いと交互に熱電半導体を配置する工程を
も、同時に行うことが出来る。
【0021】
【発明の実施の形態】図1は本発明の熱電素子を示す断
面図である。図1に記載するように一方の端部が細くな
っているp型とn型の熱電半導体1を、絶縁樹脂である
エポキシ樹脂2を介して交互に配置し、熱電半導体1の
端部に導電膜3を設け、それぞれの熱電半導体1と、基
板6上に形成した銅や金などからなる配線5とを、ハン
ダや導電接着剤などの接続材料4により電気的に連結し
ている。
【0022】さらに、棒状の熱電半導体1における一方
の端部のみが細くなっており、熱電半導体1の細くなっ
ている端部と細くなっていない端部とが上下交互に、配
列している。
【0023】上記のような、p型とn型の熱電半導体の
一方の端部が細い熱電素子は、p型の熱電半導体とn型
の熱電半導体との間隔を広げることができる。それぞれ
の熱電半導体の端部に導電膜を形成する際に、導電膜同
士のショートを防止することができ、熱電素子の生産性
を向上させることができる。
【0024】図9は本発明の他の熱電素子を示す断面図
である。図9に記載するように熱電半導体1における両
方の端部が細くなっている。そして絶縁樹脂であるエポ
キシ樹脂2を介して隣接する熱電半導体1における端部
との間が、狭い部分(d1)、広い部分(d2)と交互
に配置し、熱電半導体1端部に設けた導電膜3によって
熱電半導体1を電気的に連結させている構造となってい
る。
【0025】図19は本発明の実施例である熱電素子の
構造を示す断面図である。図19に記載するように熱電
半導体1の長手方向の断面が台形状になっているため、
一方の端部が細くなっており、さらに、細くなっている
端部、つまり台形の上辺部と細くなっていない端部、つ
まり台形の下辺部とが上下交互に配列している。よっ
て、熱電半導体1の端部と、エポキシ樹脂2を介して隣
接する熱電半導体1との間が、広い部分(d2)、狭い
部分(d1)と交互に配置される。そして熱電半導体1
端部に設けた導電膜3によって熱電半導体1を電気的に
連結させている構造となっている。
【0026】このような図9または図19の熱電素子
は、p型の熱電半導体とn型の熱電半導体を直列に電気
的な連結を行う箇所、つまり図中では導電膜3を形成す
る箇所は熱電半導体間の距離は短く、導電膜を形成しな
い熱電半導体間の距離は広い。よって、導電膜同士のシ
ョートを防止することができる。さらに、導電膜を形成
する際には、このような熱電素子を無電解メッキ液に浸
漬する事で、図9または図19に記載するように導電膜
3が等方成長していき、距離の近い熱電半導体同士が電
気的に連結され、容易に電気的な連結を行うことが出来
る。
【0027】
【実施例】(実施例1)次に図1で示した、本発明の熱
電素子の製造方法を説明する。図1から図8は、実施例
の熱電素子の製造工程を示す断面図である。
【0028】図2に示すようにp型、n型の熱電半導体
1のブロックに本来加工するより太い第1の溝を設けて
おき、図3に示すように、第1の溝よりも細くて深い第
2の溝を設け、櫛歯状の櫛歯部10と台座部11を備え
る熱電半導体1を形成する。図2では第1の溝を浅く緩
やかなカーブ状の溝に加工したが、V状の鋭角な溝で
も、箱型の四角い溝でもよく、溝の形状は如何なるもの
でもよい。
【0029】次に、絶縁樹脂を介して複数の熱電半導体
をp型、n型の熱電半導体1を櫛歯状に加工したもの
を、図4に示すように組み合わせ、p型、n型の熱電半
導体1の隙間に、絶縁樹脂としてエポキシ樹脂2を流し
込む。熱処理によりエポキシ樹脂2を硬化させ、各熱電
半導体1の間にエポキシ樹脂2を設置した。その後、不
要な部分である、台座部11を研削により除去し、図5
に示すような、熱電半導体1の細くなっている端部と細
くなっていない端部とが、上下交互に配列している熱電
素子を得た。
【0030】熱電半導体としては、一般的に用いられる
ビスマス−テルル系、アンチモン−テルル系、ビスマス
−テルル−アンチモン系、ビスマス−テルル−セレン系
などを用いることができるが、鉛−ゲルマニウム系、シ
リコン−ゲルマニウム系などの熱電半導体を用いても良
く、特に制限されるものではない。
【0031】熱電半導体1の端部にはハンダの濡れ性向
上、導電接着剤の接続抵抗を低減するなどの目的で、金
属からなる導電膜3を形成しておく必要がある。例えば
金などが導電膜として適当であるが、金を直接熱電半導
体上に形成すると、熱電半導体中へ金が拡散してしま
い、熱電素子の特性が変わってしまうために、金属の拡
散防止効果の高いニッケルを形成しておくのが望まし
い。
【0032】図6に示すように熱電素子の一方の面に金
属部材7を真空蒸着法、スパッタリング法などで形成す
る。このとき形成する金属部材7は、無電解メッキ膜が
析出可能な金属、つまり無電解メッキ液の析出反応が起
こる金属であればよい。例えば無電解ニッケルメッキを
行う場合であれば、パラジウム、白金、ニッケルなどの
金属部材2を形成する。
【0033】次に、金属部材7を形成した熱電素子を無
電解メッキ液に浸漬する。その際、図7に示すように金
属部材7上で析出反応が起こると同時に、その裏側の熱
電半導体1面にも無電解メッキの析出反応が起こり、熱
電半導体1にのみ直接導電膜3を形成することができ
る。
【0034】金属部材7と金属部材7上に形成された導
電膜3をエッチングにより除去し、もう一度無電解メッ
キ液に熱電素子を浸漬することで、図8に示すように熱
電素子の熱電半導体1が露出している部分にのみ選択的
に導電膜3を得ることができる。エッチングを行う場合
には、選択的に形成された導電膜3をレジストにより保
護することで確実に不要な部分のみを除去できる。エッ
チング以外に金属部材7や導電膜3を除去する方法とし
ては研削による方法で除去してもかまわない。
【0035】無電解メッキで形成する導電膜3はスズや
銅などの熱電半導体1への拡散を防止する効果の高い、
ニッケルであることが望ましいが、特に制限されるもの
ではない。
【0036】その後、図1に示すように熱電半導体1端
部に形成した導電膜3と基板6上に形成した配線5と
を、ハンダや導電接着剤などの接続材料4により接続
し、それぞれの熱電半導体1を電気的に連結させる。
【0037】基板6としてはシリコン、アルミナなどの
熱伝導の良い金属を用い、メッキ法、スパッタリング
法、真空蒸着法などにより形成された配線5をエッチン
グなどによりパターン化している。
【0038】上記記載の方法により熱電素子を形成する
ことで、p型とn型の熱電半導体1の一方の端部が細い
熱電素子を得ることができ、絶縁樹脂を介して隣接する
熱電半導体端部との間隔を広げることができた。よっ
て、熱電半導体における端部に導電膜を形成する際に導
電膜同士のショートは起きなかった。
【0039】(実施例2)次に本発明の他の熱電素子を
製造する方法について説明する。図9から図18は熱電
素子の製造工程を示す断面図である。また、各製造工程
で用いた材料は実施例1と同様のものを使用した。
【0040】最初に絶縁樹脂を介して配列している熱電
半導体を用意する。図10に示すように、p型、n型の
熱電半導体1のブロックを櫛歯部10と台座部11を有
するように加工したものを、図11に示すように組み合
わせ、p型、n型の熱電半導体1の隙間に、絶縁樹脂と
してエポキシ樹脂2を流し込み、熱処理によりエポキシ
樹脂2を硬化させ設置する。その後、不要な部分である
一方の台座部を研削により除去し、図12に示すような
構造の熱電素子を得た。
【0041】次に、図13に記載するように、熱電半導
体1の端部とエポキシ樹脂2を介して隣接する、熱電半
導体1の端部との間、つまりエポキシ樹脂2が露出して
いる部分に溝を形成する。この溝はエポキシ樹脂2の端
部とエポキシ樹脂2を介して隣り合う二つの熱電半導体
1をまたぐように形成する。また、この溝が形成される
エポキシ樹脂2の端部と、形成されないエポキシ樹脂2
の端部とが、交互に位置する箇所に形成する。その後、
図14に記載するように熱電半導体1間に溝を形成した
面にエポキシ樹脂2を塗布し、熱処理により硬化させて
設置し、図15に記載するように研削により余分なエポ
キシ樹脂2層を除去する。
【0042】櫛歯状に残っている熱電半導体1の表面に
電解メッキを行い、図16に記載するように、櫛歯状の
熱電半導体1の細くなっている端部に無電解メッキが可
能な材質の導電膜3を設ける。導電膜3を形成した面と
は逆の不要な部分である台座を、図17に記載するよう
に研削により除去する。その後電界メッキを施していな
い面に、先ほどの図13から図15のように溝を形成
し、その溝の部分にエポキシ樹脂を設置し、図18に示
すような熱電素子を得る。
【0043】この熱電素子は熱電半導体における両方の
端部が細くなっており、かつ熱電半導体の端部と絶縁樹
脂を介して隣接する、熱電半導体の端部との間が、狭い
(d1)、広い(d2)と交互に配列している構造とな
っている。
【0044】その後、図18に示した熱電素子を無電解
メッキ液に浸漬する事で、図9に記載するように、熱電
半導体の両方の端部で、導電膜3が等方成長していき、
距離の近い熱電半導体1同士が電気的に連結される。電
気的に連結する際に、実施例1で記載したような配線を
有する基板を用いなくても良いので、工程の簡略化が行
える。
【0045】上記記載の方法により熱電素子を形成する
ことで、p型とn型の隣接する熱電半導体の端部で間隔
が広い部分と狭い部分が交互に形成され、導電膜を形成
しても、ショートすることはなかった。さらに導電膜の
等方成長によって、各熱電半導体同士が電気的に連結さ
れるので、熱応力に強く、コンパクトで生産性に優れた
熱電素子を得ることができた。
【0046】(実施例3)次に本発明の他の熱電素子の
製造方法を説明する。図19から図24は、実施例の熱
電素子の製造工程を示す断面図である。また、各製造工
程で用いた材料は実施例1と同様のものを使用した。
【0047】p型、n型の熱電半導体1を図20に示す
ようにダイシングソーの刃を傾けて切削し、長手方向の
断面が台形状である櫛歯部10と台座部11とを加工す
る。または図25に示すような、熱電半導体の端部が細
くなっている櫛歯部10を有する熱電半導体1も同様に
使用することができる。図25に示した熱電半導体1は
実施例1で示したような、図2のp型、n型の熱電半導
体1のブロックに本来加工するより太い第1の溝を設け
ておき、次に第1の溝よりも細くて深い第2の溝を設け
て加工する。第2の溝を設ける箇所を、図3で加工した
位置より少しずらすことによって、図25のような櫛歯
部10を加工することができる。
【0048】このような図20または図25の形のp
型、n型の熱電半導体とを図21に示すように組み合わ
せ、1の隙間に、絶縁樹脂としてエポキシ樹脂2を流し
込み、熱処理によりエポキシ樹脂2を硬化させる。その
後、不要な部分である一方の台座11を研削により除去
し、図22に示すような構造の熱電素子を得た。ただ
し、図22は図20の形の熱電半導体1を使用した場合
の熱電素子の図である。
【0049】櫛歯状に残っている熱電半導体1の表面に
電解メッキを行い、図23に記載するように、櫛歯状の
熱電半導体1の細くなっている端部に無電解メッキが可
能な材質の導電膜3を設ける。導電膜3を形成した面と
は逆の、不要な部分である台座を図24に記載するよう
に研削により除去する。このように、熱電半導体1端部
と、エポキシ樹脂を介して隣接する熱電半導体1との間
が広い部分、狭い部分と交互に配置されるように、台形
のn型の熱電半導体1がエポキシ樹脂2を介して交互に
配置された熱電素子を得た。
【0050】その後、無電解メッキ液に浸漬する事で、
図19に記載するように導電膜3が等方成長していき、
距離の近い熱電半導体1同士が電気的に連結される。
【0051】上記記載の方法により熱電素子を形成する
ことで、p型とn型の隣接する熱電半導体の端部で間隔
が広い部分と狭い部分が交互に形成され、導電膜を形成
しても、ショートすることはなかった。さらに導電膜の
等方成長によって、各熱電半導体同士が電気的に連結さ
れるので、熱応力に強く、コンパクトで生産性に優れた
熱電素子を得ることができた。
【0052】実施例1から3に記載した各工程の間にア
ルカリ脱脂、超音波洗浄、流水洗浄などの洗浄工程を行
うことで導電膜と熱電半導体との密着力を向上させるこ
とができ、より効果的である。
【0053】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明で
は、一方の端部が細いp型とn型の熱電半導体がエポキ
シ樹脂を介して交互に配置し、熱電半導体端部に導電膜
を設けたそれぞれの熱電半導体と、基板上に形成した銅
や金などからなる配線とをハンダや導電接着剤などの接
続材料により電気的に連結している構造となっており、
隣接する熱電半導体端部の間隔が広がるため、導電膜同
士のショートを防止することができ、熱電素子の生産性
を向上させることができる。
【0054】また本発明では、熱電半導体端部の隣接す
る熱電半導体との距離が広い部分、狭い部分と交互に配
置されるように、p型とn型の熱電半導体がエポキシ樹
脂を介して交互に配置し、熱電半導体端部に設けた導電
膜3によって各熱電半導体を電気的に連結させている構
造となっており、熱応力に強く、コンパクトで生産性に
優れた熱電素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の熱電素子を示す断面図である。
【図2】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図3】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図4】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図5】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図6】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図7】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図8】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図であ
る。
【図9】本発明の熱電素子を示す断面図である。
【図10】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図11】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図12】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図13】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図14】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図15】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図16】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図17】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図18】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図19】本発明の熱電素子を示す断面図である。
【図20】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図21】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図22】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図23】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図24】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図25】本発明の熱電素子の製造方法を示す断面図で
ある。
【図26】従来例における熱電素子の構造を示す断面図
である。
【符号の説明】
1 熱電半導体 2 エポキシ樹脂 3 導電膜 4 接続材料 5 配線 6 基板 7 金属部材 10 櫛歯部 11 台座部

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の棒状の熱電半導体が絶縁樹脂を介
    して配列し、それぞれの熱電半導体の一方、あるいは両
    方の端部が細くなっていることを特徴とする熱電素子。
  2. 【請求項2】 複数の棒状の熱電半導体が絶縁樹脂を介
    して配列し、それぞれの熱電半導体における長手方向の
    断面が台形状であることを特徴とする熱電素子。
  3. 【請求項3】 棒状の熱電半導体における一方の端部の
    みが細くなっており、熱電半導体の細くなっている端部
    と、細くなっていない端部とが上下交互に配列している
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱電
    半導体素子。
  4. 【請求項4】 棒状の熱電半導体における端部と、絶縁
    樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導体における端部と
    の間が、狭い、広いと交互に配置していることを特徴と
    する熱電素子。
  5. 【請求項5】 棒状の熱電半導体における端部と、絶縁
    樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導体における端部と
    の間が、狭い、広いと交互に配置していることを特徴と
    する請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の熱電
    素子。
  6. 【請求項6】 それぞれの熱電半導体は電気的に連結さ
    れていることを特徴とする請求項1から請求項5のいず
    れか1項に記載の熱電素子。
  7. 【請求項7】 複数の熱電半導体がp型とn型の熱電半
    導体であることを特徴とする請求項1から請求項6のい
    ずれか一項に記載の熱電素子。
  8. 【請求項8】 棒状の熱電半導体における一方または両
    方の端部を細くする工程と、絶縁樹脂を介して配列して
    いる複数の熱電半導体を用意する工程と、絶縁樹脂を介
    して配列する各熱電半導体を電気的に連結する工程とを
    有する熱電素子の製造方法。
  9. 【請求項9】 棒状の熱電半導体における端部と、絶縁
    樹脂を介して隣接する棒状の熱電半導体における端部と
    の間が、狭い、広いと交互に配置するように、絶縁樹脂
    を介して配列している複数の熱電半導体を用意する工程
    と、絶縁樹脂を介して配列する各熱電半導体を電気的に
    連結する工程とを有する熱電素子の製造方法。
  10. 【請求項10】 請求項8に記載の棒状の熱電半導体に
    おける一方または両方の端部を細くする工程は、熱電半
    導体のブロックに第1の溝を設け、次に第1の溝よりも
    細くて深い第2の溝を設けて、櫛歯部と台座部とを備え
    る熱電半導体を形成する工程を有することを特徴とする
    熱電素子の製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項8に記載の棒状の熱電半導体に
    おける一方または両方の端部を細くする工程は、熱電半
    導体における長手方向の断面が台形状である櫛歯部と、
    台座部とを備える熱電半導体を形成する工程を有するこ
    とを特徴とする熱電素子の製造方法。
  12. 【請求項12】 請求項8に記載の絶縁樹脂を介して配
    列している複数の熱電半導体を用意する工程は、櫛歯部
    と台座部を有する二つの熱電半導体を組み合わせる工程
    と、各熱電半導体の隙間に、絶縁樹脂を設置する工程
    と、台座部を除去する工程とを有することを特徴とする
    熱電素子の製造方法。
  13. 【請求項13】 請求項8に記載の棒状の熱電半導体に
    おける一方または両方の端部を細くする工程は、絶縁樹
    脂を介して配列している複数の熱電半導体を用意する工
    程の後に行われ、絶縁樹脂の端部と絶縁樹脂を介して隣
    り合う二つの熱電半導体をまたぐように溝を形成し、か
    つこの溝が形成される絶縁樹脂の端部と形成されない絶
    縁樹脂の端部とが、交互に位置する箇所に溝を形成する
    工程と、溝に絶縁樹脂を設置する工程とを有することを
    特徴とする熱電素子の製造方法。
  14. 【請求項14】 請求項8または請求項9に記載の、絶
    縁樹脂を介して配列する各熱電半導体を電気的に連結す
    る工程は、熱電半導体の一方の端部表面に導電膜を設置
    する工程と、無電解メッキ液に浸漬し、熱電半導体の両
    方の端部で導電膜を等方成長する工程とを有することを
    特徴とする熱電素子の製造方法。
  15. 【請求項15】 請求項9に記載の棒状の熱電半導体に
    おける端部と、絶縁樹脂を介して隣接する棒状の熱電半
    導体における端部との間が、狭い、広いと交互に配置す
    るように、絶縁樹脂を介して配列している複数の熱電半
    導体を用意する工程は、絶縁樹脂を介して配列している
    複数の熱電半導体を用意する工程と、絶縁樹脂の端部と
    絶縁樹脂を介して隣り合う熱電半導体の両方をまたぐよ
    うに、かつ形成される絶縁樹脂と形成されない絶縁樹脂
    が交互に設置されるように溝を形成する工程と、溝に絶
    縁樹脂を設置する工程とを有することを特徴とする熱電
    素子の製造方法。
  16. 【請求項16】 請求項9に記載の棒状の熱電半導体に
    おける端部と、絶縁樹脂を介して隣接する棒状の熱電半
    導体における端部との間が、狭い、広いと交互に配置す
    るように、絶縁樹脂を介して配列している複数の熱電半
    導体を用意する工程は、熱電半導体における長手方向の
    断面が台形状である櫛歯部と台座部とを備える熱電半導
    体を形成する工程と、台形状である櫛歯部と台座部を有
    する二つの熱電半導体を組み合わせる工程と、各熱電半
    導体の隙間に、絶縁樹脂を設置する工程と、台座部を除
    去する工程とを有することを特徴とする熱電素子の製造
    方法。
JP2000045300A 2000-02-23 2000-02-23 熱電素子とその製造方法 Pending JP2001237465A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000045300A JP2001237465A (ja) 2000-02-23 2000-02-23 熱電素子とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000045300A JP2001237465A (ja) 2000-02-23 2000-02-23 熱電素子とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001237465A true JP2001237465A (ja) 2001-08-31

Family

ID=18567908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000045300A Pending JP2001237465A (ja) 2000-02-23 2000-02-23 熱電素子とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001237465A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015133430A1 (ja) * 2014-03-04 2015-09-11 日立化成株式会社 熱電変換モジュール
JP7401361B2 (ja) 2020-03-17 2023-12-19 リンテック株式会社 熱電変換モジュール

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015133430A1 (ja) * 2014-03-04 2015-09-11 日立化成株式会社 熱電変換モジュール
JP2015167195A (ja) * 2014-03-04 2015-09-24 日立化成株式会社 熱電変換モジュール
CN105765749A (zh) * 2014-03-04 2016-07-13 日立化成株式会社 热电转换模块
JP7401361B2 (ja) 2020-03-17 2023-12-19 リンテック株式会社 熱電変換モジュール

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4536469A (en) Semiconductor structures and manufacturing methods
KR950034644A (ko) 입방형 집적회로 장치 제조 방법
US3993515A (en) Method of forming raised electrical contacts on a semiconductor device
GB1316830A (en) Methods of manufacturing semiconductor devices
JPH05343406A (ja) 半導体装置
US4023260A (en) Method of manufacturing semiconductor diodes for use in millimeter-wave circuits
JP2007266435A (ja) 半導体装置および半導体パッケージ
US4595603A (en) Method of making diamond heatsink assemblies
EP1227173B1 (en) Electroless plating method
US4698901A (en) Mesa semiconductor device
JP2001237465A (ja) 熱電素子とその製造方法
JP4199513B2 (ja) 熱電素子の製造方法
JP2001320096A (ja) 熱電素子およびその製造方法
JPH06232250A (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置
US5236873A (en) Method for contacting a semiconductor component
JP2003273413A (ja) 熱電素子およびその製造方法
US5144413A (en) Semiconductor structures and manufacturing methods
JP2002076449A (ja) 熱電素子およびその製造方法
JP2001257383A (ja) 熱電素子およびその製造方法
US4307131A (en) Method of manufacturing metal-semiconductor contacts exhibiting high injected current density
JPH0399470A (ja) 半導体装置の製造方法
US4525924A (en) Method for producing a plurality of semiconductor circuits
JPS5892277A (ja) 電界効果トランジスタの製造方法
US5855954A (en) Composite structure for manufacturing a microelectronic component and a process for manufacturing the composite structure
JPS6265346A (ja) 半導体装置の製造方法