JP2001233849A - Method for producing sulfonimide - Google Patents
Method for producing sulfonimideInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、パーハロゲン基を
有するスルホンイミドの新規有用な製造方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel and useful method for producing a sulfonimide having a perhalogen group.
【0002】[0002]
【従来の技術】パーハロゲン化アルキルスルホンイミド
は、医薬中間体、電池用電解質の中間体、ルイス酸触媒
等として有用な化合物である。2. Description of the Related Art Perhalogenated alkylsulfonimides are compounds useful as pharmaceutical intermediates, battery electrolyte intermediates, Lewis acid catalysts, and the like.
【0003】従来、[(RfSO2)2N]nM [式中、Rf、M及びnは請求項1に記載のものと同義
である。]で表されるパーハロゲン化アルキルスルホン
イミドは、 相当するパーハロゲン化アルキルスルホン
酸ハライドを液体アンモニアの使用によりアミド化した
後、ヘキサメチルジシラザンを使用して二量化すること
で合成されることが知られている(D.DesMarteauら、Ino
rganic Chem.、1984年、23巻、3720〜37
23頁)。Conventionally, [(RfSO 2 ) 2 N] n M [wherein Rf, M and n have the same meanings as in claim 1]. Is synthesized by amidating the corresponding perhalogenated alkyl sulfonic acid halide by using liquid ammonia and then dimerizing using hexamethyldisilazane. (D. DesMarteau et al., Ino
rganic Chem., 1984, 23, 3720-37.
23).
【0004】しかしこの方法は、反応工程が多く、また
高価な物質を利用することや収率が50%程度と小さい
ことから工業的な製造方法ではない。However, this method is not an industrial production method because it involves many reaction steps, uses expensive substances, and has a small yield of about 50%.
【0005】更に、相当するパーハロゲン化アルキルス
ルホン酸ハライドを−40℃程度の低温下、液体アンモ
ニア及び3級アミンで処理することにより、スルホンイ
ミドの3級アミン塩を合成する方法も提案されている
(特開平8−81436号)。しかし液体アンモニアを
用いた低温での反応条件は、冷却するための装置が大が
かりになると共に、アンモニアという危険なガスを取り
扱うため、安全上の配慮も必要である。Further, there has been proposed a method of synthesizing a tertiary amine salt of sulfonimide by treating a corresponding perhalogenated alkylsulfonic acid halide with liquid ammonia and a tertiary amine at a low temperature of about -40 ° C. (JP-A-8-81436). However, reaction conditions at a low temperature using liquid ammonia require a large-scale cooling device and also require safety considerations because it handles dangerous gas such as ammonia.
【0006】上記のごとく、パーハロゲン化アルキルス
ルホンイミドをはじめとするパーハロゲン基を有するス
ルホンイミドを工業的スケールで容易に製造する方法は
確立されていなかった。As described above, a method for easily producing a sulfonimide having a perhalogen group such as a perhalogenated alkylsulfonimide on an industrial scale has not been established.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、パーハロゲ
ン基を有するスルホンイミドの簡易的な製造方法を提供
することを目的とする。An object of the present invention is to provide a simple method for producing a sulfonimide having a perhalogen group.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、パーハロ
ゲン化アルキルスルホンイミド誘導体の製造方法につき
鋭意検討の結果、特定の原料を組み合わせてイミド化反
応を行った場合、得られた反応中間体がパーハロゲン基
の電子吸引特性のためか容易に分解してアミドとなり、
該アミドが更にイミド化反応することにより、目的とす
るスルホンイミドが短工程で容易に製造可能であること
を見いだした。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on a method for producing a perhalogenated alkylsulfonimide derivative. As a result, when an imidation reaction was carried out by combining specific raw materials, the obtained reaction intermediate was obtained. The body is easily decomposed to amide due to the electron withdrawing property of perhalogen group,
It has been found that the desired sulphonimide can be easily produced in a short step by further imidizing the amide.
【0009】更に、パーハロゲン化アルキル置換基及び
ハライドの異なった2種のスルホン酸ハロゲン化物(ハ
ライド)、例えばRf1SO2X1及びRf2SO2X
2を用いると、ハライド(ハロゲン種)の反応性の相違
により高収率、高選択率で特定のN−非対称型のスルホ
ンイミド(Rf1SO2NHSO2Rf2)が得られる
ことを見いだし(理論的には3種のスルホンイミドが得
られるがこの反応では反応性の相違により1つのものが
優先的に生成する)、かかる知見に基づいて本発明を完
成するに至った。In addition, two different sulfonic halides (halides) with different perhalogenated alkyl substituents and halides, such as Rf 1 SO 2 X 1 and Rf 2 SO 2 X
With 2, it found that halide high yield by the reaction of the difference (halogen species), certain N- asymmetric sulfonimide with high selectivity (Rf 1 SO 2 NHSO 2 Rf 2) is obtained ( Theoretically, three types of sulfonimides are obtained, but one is preferentially produced in this reaction due to a difference in reactivity.) Based on such findings, the present invention has been completed.
【0010】即ち、本発明は、一般式(1) RfSO2X (1) [式中、Rfは、炭素数1〜22のパーハロゲン化アル
キル基もしくはアルケニル基、又はパーハロゲン化芳香
族基を表す。Xはハロゲン原子を表す。]で表される1
種もしくは2種のスルホン酸ハロゲン化物と、一般式
(2) RCONH2 (2) [式中、Rはハロゲン置換基を有していてもよいアルキ
ル基を表す。]で表されるカルボン酸アミドを、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属、希土類金属又は遷移金属の
群から選択される金属を成分とする塩基性金属塩系触媒
存在下でイミド化反応させることを特徴とする、一般式
(3) [(RfSO2)2N]nM (3) [式中、2つのRfは、同一または異なって、一般式
(1)に記載のものと同じである。Mは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属又は遷移金属
を表す。nは1〜6の整数を表す。]で表されるスルホ
ンイミドの製造方法を提供する。That is, the present invention relates to a compound represented by the general formula (1): RfSO 2 X (1) wherein Rf represents a perhalogenated alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms or a perhalogenated aromatic group. Represent. X represents a halogen atom. 1 represented by
One or two kinds of sulfonic acid halides and a general formula (2) RCONH 2 (2) wherein R represents an alkyl group which may have a halogen substituent. Is carried out in the presence of a basic metal salt catalyst containing a metal selected from the group consisting of an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal and a transition metal. (3) [(RfSO 2 ) 2 N] n M (3) wherein two Rf are the same or different and are the same as those described in the general formula (1). M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal or a transition metal. n represents an integer of 1 to 6. A method for producing a sulfonimide represented by the formula:
【0011】又、本発明は、一般式(3) [(RfSO2)2N]nM (3) で表されるスルホンイミドが、下記の(a)〜(b)の工程に
より得られることを特徴とする一般式(3)で表される
スルホンイミドの製造方法をも提供する。 (a)一般式(1) RfSO2X (1) [式中、Rfは、請求項1に記載のものと同義であ
る。]で表される1種もしくは2種のスルホン酸ハロゲ
ン化物と、一般式(2) RCONH2 (2) [式中、Rは、請求項1に記載のものと同義である。]
で表されるカルボン酸アミドを、アルカリ金属、アルカ
リ土類金属、希土類金属又は遷移金属の群から選択され
る金属を成分とする塩基性金属塩系触媒存在下でイミド
化反応を行い、一般式(4) RfSO2NHCOR (4) [式中、Rf及びRは、一般式(1)及び一般式(2)
に記載のものと同義である。]で表されるイミドを得る
工程、(b)一般式(4)で表されるイミドが更に一般式
(1)で表されるスルホン酸ハロゲン化物とイミド化反
応することにより、一般式(3)で表されるスルホンイ
ミドを得る工程。In the present invention, a sulfonimide represented by the general formula (3) [(RfSO 2 ) 2 N] n M (3) is obtained by the following steps (a) and (b). And a method for producing a sulfonimide represented by the general formula (3). (a) General formula (1) RfSO 2 X (1) [wherein, Rf has the same meaning as in claim 1. And one or two kinds of sulfonic acid halides represented by the general formula (2) RCONH 2 (2) [wherein, R has the same meaning as in claim 1]. ]
The carboxylic acid amide represented by an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal or a metal selected from the group of transition metals in the presence of a basic metal salt-based catalyst having a metal component selected from the group, a general formula (4) RfSO 2 NHCOR (4) [wherein Rf and R represent the general formulas (1) and (2)
Has the same meaning as described in (B) an imide represented by the general formula (4) is further subjected to an imidation reaction with a sulfonic acid halide represented by the general formula (1) to obtain an imide represented by the general formula (3). A) obtaining a sulfonimide represented by
【0012】同時に、本発明は、一般式(1) RfSO2X (1) [式中、Rfは、請求項1に記載のものと同義であ
る。]で表されるスルホン酸ハロゲン化物と、一般式
(2) RCONH2 (2) [式中、Rは、請求項1に記載のものと同義である。]
で表されるカルボン酸アミドを、塩基性触媒存在下でイ
ミド化反応を行い、反応中間体として一般式(4) RfSO2NHCOR (4) [式中、Rf及びRは、一般式(1)及び一般式(2)
に記載のものと同義である。]で表されるイミドを得、
更に、一般式(4)で表されるイミドを加水分解するこ
とを特徴とする、一般式(5) RfSO2NH2 (5) [式中、Rfは、一般式(1)に記載のものと同義であ
る。]で表されるスルホンアミドの製造方法を提供す
る。At the same time, the present invention provides a compound represented by the general formula (1): RfSO 2 X (1) wherein Rf is as defined in claim 1. And a sulfonic acid halide represented by the general formula (2) RCONH 2 (2) [wherein, R has the same meaning as defined in claim 1]. ]
Is subjected to an imidation reaction in the presence of a basic catalyst to obtain a carboxylic acid amide represented by the general formula (4): RfSO 2 NHCOR (4) [wherein Rf and R represent the general formulas (1) and (2)
Has the same meaning as described in To obtain an imide represented by the formula
Furthermore, the imide represented by the general formula (4) is hydrolyzed, wherein the general formula (5) RfSO 2 NH 2 (5) wherein Rf is a compound represented by the general formula (1) Is synonymous with A method for producing a sulfonamide represented by the formula:
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】一般式(1)で表されるスルホン
酸ハロゲン化物中のRfとしては、炭素数1〜22のパ
ーハロゲン化アルキル基若しくはアルケニル基、又はパ
ーハロゲン化芳香族基が例示される。中でも反応性の面
からは、パーフルオロアルキル基、パークロロアルキル
基、パーフルオロ芳香族基、パークロロ芳香族基等が好
ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Rf in a sulfonic acid halide represented by the general formula (1) is exemplified by a perhalogenated alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms or a perhalogenated aromatic group. Is done. Among them, from the viewpoint of reactivity, a perfluoroalkyl group, a perchloroalkyl group, a perfluoroaromatic group, a perchloroaromatic group, and the like are preferable.
【0014】一般式(1)で表されるスルホン酸ハロゲ
ン化物中のXとしてはハロゲン原子であり、F、Cl、
Br、Iが例示され、好ましくはF、Clである。X in the sulfonic acid halide represented by the general formula (1) is a halogen atom, and F, Cl,
Examples of Br and I include, preferably, F and Cl.
【0015】一般式(1)で表される具体的なスルホン
酸ハロゲン化物としては、パーハロゲン化アルカン(C
1〜22)スルホン酸クロリド、パーハロゲン化アルカ
ン(C1〜22)スルホン酸フルオリド、パーハロゲン
化アルカン(C1〜22)スルホン酸ブロミド、パーハ
ロゲン化アルケン(C2〜22)スルホン酸クロリド、
パーハロゲン化アルケン(C2〜22)スルホン酸フル
オリド、パーハロゲン化アルケン(C2〜22)スルホ
ン酸ブロミド及びパーハロゲン化ベンゼンスルホン酸ク
ロリド、パーハロゲン化ベンゼンスルホン酸フルオリ
ド、パーハロゲン化ベンゼンスルホン酸ブロミド等のパ
ーハロゲン化芳香族スルホン酸ハロゲン化物等が例示さ
れる。中でも、パーハロゲン化アルカン(C1〜22)
スルホン酸ハロゲン化物(F、Cl)又はパーハロゲン
化ベンゼンスルホン酸ハロゲン化物(F、Cl)が推奨
される。Specific examples of the sulfonic acid halide represented by the general formula (1) include perhalogenated alkanes (C
1-22) sulfonic acid chloride, perhalogenated alkane (C1-22) sulfonic acid fluoride, perhalogenated alkane (C1-22) sulfonic acid bromide, perhalogenated alkene (C2-22) sulfonic acid chloride,
Perhalogenated alkene (C2-22) sulfonic acid fluoride, perhalogenated alkene (C2-22) sulfonic acid bromide and perhalogenated benzenesulfonic acid chloride, perhalogenated benzenesulfonic acid fluoride, perhalogenated benzenesulfonic acid bromide, etc. Perhalogenated aromatic sulfonic acid halide and the like. Among them, perhalogenated alkanes (C1-22)
Sulfonic acid halides (F, Cl) or perhalogenated benzene sulfonic acid halides (F, Cl) are recommended.
【0016】一般式(2)で表されるカルボン酸アミド
中の基Rとしては、アルキル基であれば特に限定され
ず、ハロゲン置換基を有していても差し支えないが、反
応性及び経済性を考慮すると立体障害の小さく、又、分
子量も少ないものが好ましく、例えば炭素数1〜12の
アルキル基が例示され、より具体的にはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル基等
のアルキル基が例示され、更にはトリフルオロメチル
基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロ
ロメチル基、モノフルオロメチル基、モノクロロメチル
基等が例示される。The group R in the carboxylic acid amide represented by the general formula (2) is not particularly limited as long as it is an alkyl group, and may have a halogen substituent. In consideration of the above, those having a small steric hindrance and a small molecular weight are preferable, and examples thereof include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more specifically, an alkyl group such as a methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, or isobutyl group. And a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, a difluoromethyl group, a dichloromethyl group, a monofluoromethyl group, a monochloromethyl group and the like.
【0017】一般式(2)で表されるカルボン酸アミド
中の具体的な化合物としては、酢酸アミド、プロピオン
酸アミド、酪酸アミド等のカルボン酸アミド、モノフル
オロ酢酸アミド、ジフルオロ酢酸アミド、トリフルオロ
酢酸アミド、モノクロロ酢酸アミド、ジクロロ酢酸アミ
ドトリクロロ酢酸アミド等のハロゲン化アルキルカルボ
ン酸アミドが例示され、なかでも酢酸アミド、トリフル
オロ酢酸アミド、トリクロロ酢酸アミド等が推奨され
る。Specific examples of the compound in the carboxylic acid amide represented by the general formula (2) include carboxylic acid amides such as acetic acid amide, propionic acid amide, butyric acid amide, monofluoroacetic acid amide, difluoroacetic acid amide, and trifluoroacetic acid. Halogenated alkylcarboxylic acid amides such as acetic acid amide, monochloroacetic acid amide, dichloroacetic acid amide, and trichloroacetic acid amide are exemplified, and among them, acetic acid amide, trifluoroacetic acid amide, and trichloroacetic acid amide are recommended.
【0018】本発明で使用可能なアルカリ金属、アルカ
リ土類金属、希土類金属又は遷移金属の群から選択され
る金属を成分とする塩基性金属塩系触媒としては、M’
mA nで表される金属塩類が例示される。Alkali metals and alka usable in the present invention
Selected from the group of lithium earth metals, rare earth metals or transition metals
Examples of basic metal salt catalysts containing a metal as a component include M ′
mA nAre exemplified.
【0019】M’mAnで表される金属塩類中のM’と
しては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属又
は希土類金属が例示される。m、nは同一又は異なっ
て、1〜6の整数を示す。アルカリ金属としては、リチ
ウム(Li)、カリウム(K)、ナトリウム(Na)等
が例示され、アルカリ土類金属としては、ベリリウム
(Be)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、ストロンチウム(Sr)等が例示され、遷移金属
としては、チタン(Ti)、鉄(Fe)、コバルト(C
o)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、
ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、銀(Ag)、
タングステン(W)等が例示され、更に希土類金属とし
ては、ネオジウム(Nd)、ユーロピウム(Eu)、テ
ルビウム(Tb)、セリウム(Ce)、エルビウム(E
r)、イッテルビウム(Yb)、サマリウム(Sm)等
が例示される。[0019] M 'm A n M in the metal salts represented by' is an alkali metal, alkaline earth metal, transition metal or rare earth metal is exemplified. m and n are the same or different and each represents an integer of 1 to 6. Examples of the alkali metal include lithium (Li), potassium (K), and sodium (Na). Examples of the alkaline earth metal include beryllium (Be), magnesium (Mg), and calcium (C).
a), strontium (Sr) and the like, and as the transition metal, titanium (Ti), iron (Fe), cobalt (C
o), nickel (Ni), copper (Cu), zinc (Zn),
Ruthenium (Ru), rhodium (Rh), silver (Ag),
Tungsten (W) and the like are exemplified, and as the rare earth metal, neodymium (Nd), europium (Eu), terbium (Tb), cerium (Ce), erbium (E
r), ytterbium (Yb), samarium (Sm) and the like.
【0020】又、M’mAnのAはアニオンを表し、具
体的には一価のアニオンとして水酸化アニオン(O
H−)、硝酸アニオン(NO3 −)、シアンアニオン
(CN−)、ハイドライドアニオン(H−)が、二価の
アニオンとして、炭酸アニオン(CO3 2−)、硫酸ア
ニオン(SO4 2−)が、三価のアニオンとしてリン酸
アニオン(PO4 3−)等が例示される。[0020] Also, M 'm A A of n represents an anion, in particular hydroxide anions as monovalent anion (O
H − ), nitrate anion (NO 3 − ), cyan anion (CN − ), and hydride anion (H − ) are carbonate anions (CO 3 2− ) and sulfate anions (SO 4 2− ) as divalent anions. but phosphate anion (PO 4 3-), and the like as a trivalent anion.
【0021】上記のアニオンの中でも水酸化アニオン、
炭酸アニオン等が推奨され、より好ましくは炭酸アニオ
ンが挙げられる。Among the above anions, a hydroxide anion,
A carbonate anion or the like is recommended, and more preferably a carbonate anion.
【0022】更に、四価以上のアニオンも使用可能であ
り、例えば、フェリシアンアニオン[Fe(CN)6]
4−等が例示される。Further, an anion having four or more valences can be used. For example, a ferricyan anion [Fe (CN) 6 ]
4- and the like.
【0023】又、一般式R-(COO)x、で表される
アニオン、一般式R’-(SO3)xで表されるアニオ
ン、R”-(OSO3)x等の各種有機酸のアニオンも
利用できる。ここで、R、R’、R”はそれぞれ炭素数
1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルキレン
基、芳香族基又は複素環基を表す。xは1〜6の整数を
示す。In addition, an anion represented by the general formula R- (COO) x , an anion represented by the general formula R ′-(SO 3 ) x , and various organic acids such as R ″-(OSO 3 ) x An anion can also be used, wherein R, R 'and R "each represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic group or a heterocyclic group. x shows the integer of 1-6.
【0024】本発明で用いる塩基性金属塩系触媒として
具体的にはLi2CO3、LiOH、Na2CO3、N
aOH、NaH、K2CO3、KOH、KH、BeCO
3、MgCO3、Ca2CO3、SrCO3、Ti
2(CO3)2、FeCO3、CoCO3、NiC
O3、CuCO3、ZnCO3、Ru2(CO3)3、
Rh2(CO3)3、Ag2CO3、Nd2(CO3)
3、Eu2(CO3)3、Tb 2(CO3)3、Ce2
(CO3)3、Sm2(CO3)3等が例示され、なか
でもLi2CO3、LiOH、K2CO3、KOH、N
a2CO3、NaOH、MgCO3、CaCO3等が反
応性の点から推奨され、より好ましくはLi2CO3、
Na2CO3、K2CO3、MgCO3、CaCO3が
推奨される。As the basic metal salt catalyst used in the present invention,
Specifically, Li2CO3, LiOH, Na2CO3, N
aOH, NaH, K2CO3, KOH, KH, BeCO
3, MgCO3, Ca2CO3, SrCO3, Ti
2(CO3)2, FeCO3, CoCO3, NiC
O3, CuCO3, ZnCO3, Ru2(CO3)3,
Rh2(CO3)3, Ag2CO3, Nd2(CO3)
3, Eu2(CO3)3, Tb 2(CO3)3, Ce2
(CO3)3, Sm2(CO3)3Etc. are exemplified.
But Li2CO3, LiOH, K2CO3, KOH, N
a2CO3, NaOH, MgCO3, CaCO3Etc. are anti
It is recommended from the viewpoint of responsiveness, and more preferably Li2CO3,
Na2CO3, K2CO3, MgCO3, CaCO3But
Recommended.
【0025】本発明では、触媒として塩基性金属塩系触
媒を用いているが、それ以外にも通常の塩基性触媒であ
る一級アミン、二級アミン、三級アミン等のアミン類が
使用可能である。例えば、モノメチルアミン、モノエチ
ルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等が例示され
る。In the present invention, a basic metal salt-based catalyst is used as a catalyst. In addition, amines such as primary amines, secondary amines and tertiary amines which are common basic catalysts can be used. is there. For example, monomethylamine, monoethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, triethylamine, pyridine and the like are exemplified.
【0026】更に、金属リチウム、金属カリウム、金属
ナトリウム、金属マグネシウム等の金属触媒、及びそれ
らの酸化物も使用することができる。Further, metal catalysts such as lithium metal, potassium metal, sodium metal, and magnesium metal, and oxides thereof can also be used.
【0027】本発明に係る一般式(3)で表されるスル
ホンイミドは、一般式(1)で表される1種もしくは2
種のスルホン酸ハロゲン化物と、一般式(2)で表され
るカルボン酸アミドを塩基性金属塩系触媒存在下でイミ
ド化反応させることにより得られる(この反応は、スル
ホン酸ハロゲン化物とカルボン酸アミドとがモル比で
2:1の反応である)。The sulfonimide represented by the general formula (3) according to the present invention comprises one or two of the sulfonimides represented by the general formula (1).
Is obtained by an imidation reaction between a sulfonic acid halide of any kind and a carboxylic acid amide represented by the general formula (2) in the presence of a basic metal salt-based catalyst (this reaction is carried out with sulfonic acid halide and carboxylic acid). Amide and a 2: 1 molar ratio reaction).
【0028】一般式(3)で表されるスルホンイミド中
のRfとしては、一般式(1)に記載のものと同義であ
る。Rf in the sulfonimide represented by the general formula (3) has the same meaning as that described in the general formula (1).
【0029】一般式(3)で表されるスルホンイミド中
のMとしては、反応に使用した塩基性金属塩系触媒M’
mAn由来のものであるか、或いは脱塩されて水素原子
となったものであり、具体的には、水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、遷移金属又は希土類金属が例
示される。M in the sulfonimide represented by the general formula (3) is the basic metal salt catalyst M ′ used in the reaction.
or it is derived from m A n, or are those in which a desalted hydrogen atoms, specifically, a hydrogen atom, an alkali metal, alkaline earth metal, transition metal or rare earth metal is exemplified.
【0030】一般式(3)で表されるスルホンイミドの
具体的な化合物としては、 1)N−対称型(窒素原子に同一の置換基が2つ結合し
ているもの) ・(CxF2x+1SO2)2NnM(x=1〜2
2)、 ・(CxCl2x+1SO2)2NnM(x=1〜2
2)、 ・(CxF2x−1SO2)2NnM(x=2〜2
2)、 ・(CnxCl2nx−1SO2)2NnM(x=2〜
22)、 ・(C6F5SO2)2NnM、 ・(CF3−C6F5SO2)2NnM、 ・(CCl3−C6Cl5SO2)2NnM、 2)N−非対称型(窒素原子に異なる置換基が2つ結合
しているもの) ・(CxF2x+1SO2)(CyF2y+1SO2)
NnM(x、y=1〜22)、 ・(CxCl2x+1SO2)(CyCl2y+1SO
2)NnM(x、y=1〜22)、 ・(CxF2x+1SO2)(CyCl2y+1S
O2)NnM(x、y=1〜22)、 ・(CxF2x―1SO2)(CyF2y―1SO2)
NnM(x、y=2〜22)、 ・(CxCl2x―1SO2)(CyCl2y―1SO
2)NnM(x、y=2〜22)、 ・(CxF2x―1SO2)(CyCl2y―1S
O2)NnM(x、y=2〜22)、 ・(C6F5SO2)(CxF2x+1SO2)NnM
(x=1〜22)、 ・(CF3−C6F4SO2)(CxF2x+1S
O2)NnM(x=1〜22)、 ・(CCl3−C6Cl4SO2)(CxF2x+1S
O2)NnM(x=1〜22)、 ・(C6Cl5SO2)(CxF2x+1SO2)Nn
M(x=1〜22)、 ・(C6F5SO2)(CxCl2x+1SO2)Nn
M(x=1〜22)、 ・(C6Cl5SO2)(CxCl2x+1SO2)N
nM(x=1〜22)、 等が例示される。Specific examples of the sulfonimide compound represented by the general formula (3) include: 1) N-symmetric type (a compound in which two identical substituents are bonded to a nitrogen atom). (C x F 2x + 1 SO 2 ) 2 N n M (x = 1 to 2
2), · (C x Cl 2x + 1 SO 2) 2 N n M (x = 1~2
2), · (C x F 2x-1 SO 2) 2 N n M (x = 2~2
2), · (C nx Cl 2nx-1 SO 2 ) 2 N nm (x = 2 to 2 )
22), · (C 6 F 5 SO 2) 2 N n M, · (CF 3 -C 6 F 5 SO 2) 2 N n M, · (CCl 3 -C 6 Cl 5 SO 2) 2 N n M , 2) N-asymmetric (of different substituents on the nitrogen atom is bonded two) · (C x F 2x + 1 SO 2) (C y F 2y + 1 SO 2)
N n M (x, y = 1~22), · (C x Cl 2x + 1 SO 2) (C y Cl 2y + 1 SO
2 ) N n M (x, y = 1 to 22), (C x F 2x + 1 SO 2 ) (C y Cl 2y + 1 S
O 2) N n M (x , y = 1~22), · (C x F 2x-1 SO 2) (C y F 2y-1 SO 2)
N n M (x, y = 2~22), · (C x Cl 2x-1 SO 2) (C y Cl 2y-1 SO
2 ) N n M (x, y = 2 to 22), (C x F 2x-1 SO 2 ) (C y Cl 2y-1 S
(O 2 ) N n M (x, y = 2 to 22), (C 6 F 5 SO 2 ) (C x F 2x + 1 SO 2 ) N n M
(X = 1 to 22), (CF 3 -C 6 F 4 SO 2 ) (C x F 2x + 1 S
O 2 ) N n M (x = 1 to 22), (CCl 3 -C 6 Cl 4 SO 2 ) (C x F 2x + 1 S
O 2 ) N n M (x = 1 to 22), (C 6 Cl 5 SO 2 ) (C x F 2x + 1 SO 2 ) N n
M (x = 1 to 22), (C 6 F 5 SO 2 ) (C x Cl 2x + 1 SO 2 ) N n
M (x = 1 to 22), (C 6 Cl 5 SO 2 ) (C x Cl 2x + 1 SO 2 ) N
n M (x = 1~22), etc. are exemplified.
【0031】なかでも好ましくは、N−対称型として ・(CxF2x+1SO2)2NnM(x=1〜2
2)、 ・(CxCl2x+1SO2)2NnM(x=1〜2
2)、 ・(C6F5SO2)2NnM、 ・(CCl3−C6Cl5SO2)2NnMが推奨さ
れ、 N−非対称型として ・(CxF2x+1SO2)(CyF2y+1SO2)
NnM(x、y=1〜22)、 ・(C6F5SO2)(CxF2x+1SO2)NnM
(x=1〜22)、等が推奨される。Among them, it is preferable to use an N-symmetric type: (C x F 2x + 1 SO 2 ) 2 N n M (x = 1 to 2 )
2), · (C x Cl 2x + 1 SO 2) 2 N n M (x = 1~2
2), · (C 6 F 5 SO 2) 2 N n M, · (CCl 3 -C 6 Cl 5 SO 2) 2 N n M is recommended, N- asymmetric as · (C x F 2x + 1 SO 2 ) (C y F 2y + 1 SO 2)
N n M (x, y = 1~22), · (C 6 F 5 SO 2) (C x F 2x + 1 SO 2) N n M
(X = 1 to 22), etc. are recommended.
【0032】一般式(3)で表されるイミドの具体的な
製造方法としては、以下の3段階(スキーム1)によ
る。A specific method for producing the imide represented by the general formula (3) is based on the following three steps (scheme 1).
【0033】スキーム1 Scheme 1
【0034】第1段階(ルートa) 一般式(1) RfSO2X (1) で表される1種もしくは2種のスルホン酸ハロゲン化物
と、一般式(2) RCONH2 (2) で表されるパーハロゲン化カルボン酸アミドを、有機溶
媒中、塩基性触媒下でイミド化反応させることにより、
反応中間体として一般式(4) RfSO2NHCOR (4) で表されるイミドを得る。 First Step (Route a) One or two sulfonic acid halides represented by the general formula (1) RfSO 2 X (1) and the general formula (2) RCONH 2 (2) By subjecting the perhalogenated carboxylic acid amide to an imidization reaction in an organic solvent under a basic catalyst,
General formula (4) RfSO 2 NHCOR as a reaction intermediate (4) An imide represented by the following formula is obtained.
【0035】第二段階(ルートb) 一般式(4)のイミドは、反応条件下で加水分解され
て、一般式(5) RfSO2NH2 (5) で表されるスルホンアミドを形成する。 Second Step (Route b) The imide of general formula (4) is hydrolyzed under the reaction conditions to form a sulfonamide of general formula (5) RfSO 2 NH 2 (5).
【0036】第三段階(ルートc) 一般式(5)で表されるスルホンアミドは、一般式
(1)で表されるスルホン酸ハロゲン化物と更にイミド
化反応し、目的とする一般式(3)で表されるスルホン
イミドとなる。 Third Step (Route c) The sulfonamide represented by the general formula (5) further undergoes an imidation reaction with the sulfonic acid halide represented by the general formula (1) to obtain the desired compound represented by the general formula (3) ).
【0037】上記三段階の反応は、各々の段階で単離す
ることも可能であるが、ワンポットで行うことが好まし
い。特に、一般式(4)で表されるイミドは、加水分解
されて一般式(5)で表されるスルホンアミドを形成す
る場合(ルートc)と、一般式(1)のスルホン酸ハロ
ゲン化物と反応するとともにパーハロゲン化アルキルカ
ルボニル基が脱離し、目的の一般式(3)で表されるス
ルホンイミド塩となる場合(ルートd)が考えられる。
(しかしながら一般式(5)で表されるスルホンアミド
が単離可能であり、ルートcが主要なルートと考えられ
る。)The above three-stage reaction can be isolated at each stage, but is preferably performed in one pot. In particular, the imide represented by the general formula (4) is hydrolyzed to form a sulfonamide represented by the general formula (5) (route c), and the imide represented by the general formula (1) It is conceivable that the perhalogenated alkylcarbonyl group is eliminated while reacting to give the desired sulfonimide salt represented by the general formula (3) (route d).
(However, the sulfonamide represented by the general formula (5) can be isolated, and route c is considered to be the main route.)
【0038】尚、イミド化の反応触媒として一級アミ
ン、二級アミン、三級アミン等のアミン系の触媒を用い
た場合は、その反応が第一段階(ルートa)で止まり、
得られる生成物が一般式(4)で表されるイミドとなる
場合がある。When an amine catalyst such as a primary amine, a secondary amine or a tertiary amine is used as a reaction catalyst for imidization, the reaction stops at the first stage (route a),
The resulting product may be an imide represented by the general formula (4).
【0039】それに対し、M’mAnで表される塩基性
金属塩類系触媒を用いた場合、一般式(4)で表される
イミドが容易に加水分解し、一般式(5)のアミドを経
由し目的とする一般式(3)のスルホンイミドを形成す
る。[0039] In contrast, when a basic metal salt-based catalyst represented by M 'm A n, imides represented by the general formula (4) is easily hydrolyzed, amides of the general formula (5) To form the desired sulfonimide of the general formula (3).
【0040】以下、本発明のイミド化反応を詳細に説明
する。尚、イミド化反応の反応条件については、ルート
a、b、c、全て溶媒、反応温度等は同様のものであ
り、ルートaからルートcまでワンポットで行う反応で
あっても、ルートa、b、cを個々に行う場合であって
も以下の反応条件を適用することができる。Hereinafter, the imidization reaction of the present invention will be described in detail. Regarding the reaction conditions of the imidation reaction, the routes a, b, and c, the solvents, the reaction temperatures, and the like are all the same, and even if the reaction is performed in one pot from the route a to the route c, the routes a, b , C can be applied individually, the following reaction conditions can be applied.
【0041】イミド化反応に使用する有機溶媒として
は、非プロトン性溶媒が用いられ、例えば、THF、ジ
エチルエーテル、ジグライムなどのエーテル系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジエチルホルムアミドなどのアミ
ド系溶媒、DMSO等が例示され、好ましくは各種基質
(スルホン酸ハロゲン化物、カルボン酸アミド及び触
媒)の溶解性が高く、後処理の容易なTHFが挙げられ
る。As the organic solvent used for the imidization reaction, an aprotic solvent is used, and examples thereof include ether solvents such as THF, diethyl ether and diglyme, amide solvents such as dimethylformamide and diethylformamide, and DMSO. Examples include preferably THF, which has high solubility of various substrates (sulfonic acid halides, carboxylic acid amides, and catalysts) and is easily post-treated.
【0042】用いる溶媒の量としては、特に制限されな
いが、経済性、反応速度などを考慮し、スルホン酸ハロ
ゲン化物とカルボン酸アミドとの総量(1重量部とす
る)に対して、1〜100重量部、好ましくは3〜30
重量部程度用いる。The amount of the solvent used is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 parts by weight based on the total amount (1 part by weight) of the sulfonic acid halide and the carboxylic acid amide in consideration of economy, reaction rate and the like. Parts by weight, preferably 3 to 30
Use about parts by weight.
【0043】この反応はスルホン酸ハロゲン化物とカル
ボン酸アミドとがモル比で2:1の反応であるため、ス
ルホン酸ハロゲン化物とカルボン酸アミドの使用量とし
ては、スルホン酸ハロゲン化物2モルに対しカルボン酸
アミド0.5〜2.5モルが例示され、好ましくは0.
8〜1.5モルが推奨される。In this reaction, the sulfonic acid halide and the carboxylic acid amide are reacted at a molar ratio of 2: 1. Therefore, the amount of the sulfonic acid halide and the carboxylic acid amide used is 2 moles per 2 moles of the sulfonic acid halide. Examples of the carboxylic acid amide include 0.5 to 2.5 mol, preferably 0.1 to 2.5 mol.
8-1.5 moles is recommended.
【0044】塩基性触媒(塩基性金属塩系あるいはアミ
ン系触媒)の使用量としては、特に限定されないが、反
応収率などを考慮すると、反応時に副生するハロゲンイ
オンをトラップする必要から、酸ハロゲン化物1モルに
対して、1.0〜10.0モル程度、好ましくは2.0
〜6.0モルが推奨される。The amount of the basic catalyst (basic metal salt-based or amine-based catalyst) is not particularly limited, but considering the reaction yield and the like, it is necessary to trap by-product halogen ions during the reaction. About 1.0 to 10.0 moles, preferably 2.0 moles per mole of halide
~ 6.0 mol is recommended.
【0045】反応を一般式(4)の化合物で止めたい場
合はアミン系の触媒が有利であり、一方、更に反応を進
めて一般式(3)のイミドとする場合はM’nAmで表
される金属塩系触媒が有利である。When it is desired to terminate the reaction with the compound of the general formula (4), an amine-based catalyst is advantageous. On the other hand, when the reaction is further carried out to obtain an imide of the general formula (3), M ′ n Am The metal salt-based catalysts represented are advantageous.
【0046】又、後述するように、反応を一般式(5)
で表されるアミドで止めたい場合は、触媒としてM’n
Amで表される金属塩系触媒を用い、更に、スルホン酸
ハロゲン化物とカルボン酸アミドとの使用量として、モ
ル比で、スルホン酸ハロゲン化物1モルに対しカルボン
酸アミド0.5〜1.5モル、好ましくは0.8〜1.
2モル使用することがが推奨される。As will be described later, the reaction is represented by the general formula (5)
In If you want to stop an amide represented, M as the catalyst 'n
Using a metal salt catalyst represented by A m, further, as the amount of the sulfonic acid halide and a carboxylic acid amide, a molar ratio, the carboxylic acid amide 0.5 to sulfonic acid halide mole. 5 moles, preferably 0.8-1.
It is recommended to use 2 moles.
【0047】イミド化反応の反応圧力としては、常圧ま
たは加圧下が挙げられ、例えば1〜1000気圧が例示
され、好ましくは1〜10気圧が推奨される。The reaction pressure for the imidization reaction may be normal pressure or under pressure, for example, 1 to 1000 atm, preferably 1 to 10 atm.
【0048】反応温度としては、−70℃〜150℃が
例示され、好ましくは、30〜130℃が推奨される。The reaction temperature is, for example, from -70 ° C to 150 ° C, preferably from 30 to 130 ° C.
【0049】反応時間としては、反応条件、原料の種類
によって異なるが、1時間〜100時間が例示され、好
ましくは、1〜10時間が推奨される。The reaction time varies depending on the reaction conditions and the type of the starting material, but is preferably 1 hour to 100 hours, and preferably 1 hour to 10 hours.
【0050】尚、本発明において、一般式(1)で表さ
れるスルホン酸ハロゲン化物としてアルキル置換基の異
なるスルホン酸ハロゲン化物2種類を使用する場合、例
えば、一般式(6)で表される化合物と一般式(7)で
表される化合物の混合物である場合、 Rf1−SO2X1 (6) Rf2−SO2X2 (7) [式中、Rf1及びRf2は互いに異なって、Rfと同
義である。X1及びX2は互いに異なって、Xと同義で
ある。]、第一段階では反応性の高いハロゲンを有する
スルホン酸ハロゲン化物(6)が選択的にイミド化反応
し、一般式(4)で表されるイミドを形成する。該イミ
ドは引き続き、一般式(5)で表されるアミドに分解し
たのち、反応性の低いハロゲンを有するスルホン酸ハロ
ゲン化物(7)と反応することにより、一般式(3)で
表されるスルホンイミド(ここでは一般式(8)で表さ
れる)を得る。上記工程につき、スキーム2に示す。こ
こで、Rf1及びRf2は異なったものでありRfと同
義であり、X1及びX2も異なったものであり、Xと同
義である。更に、ハロゲンの反応性はX2よりX1の方
が高いものとする。In the present invention, when two kinds of sulfonic acid halides having different alkyl substituents are used as the sulfonic acid halide represented by the general formula (1), for example, they are represented by the general formula (6) In the case of a mixture of a compound and a compound represented by the general formula (7), Rf 1 —SO 2 X 1 (6) Rf 2 —SO 2 X 2 (7) [wherein, Rf 1 and Rf 2 are different from each other. And is synonymous with Rf. X 1 and X 2 are different from each other and have the same meaning as X. In the first step, the sulfonic acid halide (6) having a highly reactive halogen selectively undergoes an imidization reaction to form an imide represented by the general formula (4). The imide is subsequently decomposed into an amide represented by the general formula (5), and then reacted with a sulfonic acid halide (7) having a halogen with low reactivity, thereby obtaining a sulfone represented by the general formula (3). An imide (here represented by the general formula (8)) is obtained. The above steps are shown in Scheme 2. Here, Rf 1 and Rf 2 are different and have the same meaning as Rf, and X 1 and X 2 are also different and have the same meaning as X. Furthermore, the reactivity of the halogen shall have higher X 1 than X 2.
【0051】スキーム2 Scheme 2
【0052】本発明に係る反応性の異なる2種のスルホ
ン酸ハロゲン化物を用いて特定のスルホンイミドを優先
的に得る方法は、 1)ハライドとしてX1及びX2という、反応性の異な
る2種のハライドを用いていること、 2)スルホン酸ハライド構造中に、パーハロゲン化アル
キル基等の電子吸引基を有していること、 3)使用する塩基性触媒の塩基性が適度であり(炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム程度の塩基性を
要す。)、得られた中間体である一般式(4)の化合物
がこの塩基により容易に分解すること、の3つの要因に
より、初めて達成し得るものである。The method for preferentially obtaining a specific sulfonimide using two kinds of sulfonic acid halides having different reactivities according to the present invention is as follows: 1) X 1 and X 2 as halides having different reactivities 2) that the sulfonic acid halide structure has an electron-withdrawing group such as a perhalogenated alkyl group; 3) the basicity of the basic catalyst used is moderate It requires basicity of about sodium, potassium carbonate and lithium carbonate.), And the obtained intermediate compound of the general formula (4) is easily decomposed by this base. What you get.
【0053】特に、理論的には一般式(8)で表される
化合物以外に、(Rf1SO2)2NH、(Rf2SO
2)2NH、が得られるはずであるが、X1、X2の反
応性の相違により一般式(8)の化合物を優先的に製造
できることは画期的である。Particularly, theoretically, in addition to the compound represented by the general formula (8), (Rf 1 SO 2 ) 2 NH, (Rf 2 SO
Although 2 ) 2 NH should be obtained, it is epoch-making that the compound of the general formula (8) can be preferentially produced due to the difference in reactivity between X 1 and X 2 .
【0054】更に、本発明は一般式(5)で表されるス
ルホンアミドを製造する方法を提供する。この製造方法
は一般式(1)のスルホン酸ハロゲン化物と、カルボン
酸アミドを原料として、一般式(3)で表されるスルホ
ンイミドを製造する工程において見出したものである。Further, the present invention provides a method for producing a sulfonamide represented by the general formula (5). This production method was found in the step of producing a sulfonimide represented by the general formula (3) using a sulfonic acid halide of the general formula (1) and a carboxylic acid amide as raw materials.
【0055】即ち、一般式(5)で表されるスルホンア
ミドの製造方法としては、スキーム1でのルートa及び
ルートbを経ることにより達成される。That is, the method for producing the sulfonamide represented by the general formula (5) is achieved through the route a and the route b in the scheme 1.
【0056】従って、原料となる一般式(1)のスルホ
ン酸ハロゲン化物、カルボン酸アミド及び金属触媒は、
一般式(3)で表されるスルホンイミドを製造する工程
において使用したものを転用可能である。Accordingly, the sulfonic acid halide, carboxylic acid amide and metal catalyst of the general formula (1) as starting materials are as follows:
Those used in the process for producing the sulfonimide represented by the general formula (3) can be diverted.
【0057】中でも、原料となるスルホン酸ハロゲン化
物とカルボン酸アミドとの使用比率を、モル比で、スル
ホン酸ハロゲン化物1モルに対しカルボン酸アミド0.
5〜1.5モル、好ましくは0.8〜1.2モル使用し
て反応を行うことにより、一般式(5)で表されるスル
ホンアミドが優先的に得られる(本反応は、スルホン酸
ハロゲン化物とカルボン酸アミドとがモル比で1:1の
反応である)。Among them, the molar ratio of the sulfonic acid halide and the carboxylic acid amide used as raw materials is 1 mol of the carboxylic acid amide to 1 mol of the carboxylic acid amide.
By carrying out the reaction using 5 to 1.5 mol, preferably 0.8 to 1.2 mol, the sulfonamide represented by the general formula (5) is preferentially obtained (this reaction is carried out using sulfonic acid The reaction between the halide and the carboxylic acid amide is a 1: 1 molar ratio).
【0058】上記方法で得られた一般式(3)で表され
るスルホンイミド、あるいは一般式(5)で表されるス
ルホンアミドは、従来公知の精製方法、例えば晶析、カ
ラムクロマトグラフィー(イオン交換、シリカゲル)等
により精製を行っても差し支えない。The sulfonimide represented by the general formula (3) or the sulfonamide represented by the general formula (5) obtained by the above method can be purified by a conventionally known purification method such as crystallization and column chromatography (ion chromatography). (Exchange, silica gel) or the like.
【0059】尚、本発明の製造方法で得られる一般式
(3)で表されるスルホンイミドは、通常、触媒として
用いた塩基性触媒の塩として得られる(一般式(3)に
おけるM=アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金
属又は遷移金属)場合が多い。この場合、1N−HC
l、1N−H2SO4等の希酸で処理する或いはイオン
交換処理等により遊離型(一般式(3)におけるM=
H)とすることが可能である。The sulfonimide represented by the general formula (3) obtained by the production method of the present invention is usually obtained as a salt of a basic catalyst used as a catalyst (where M = alkali in the general formula (3)) Metal, alkaline earth metal, rare earth metal or transition metal) in many cases. In this case, 1N-HC
1, free form by treatment with a dilute acid such as 1N-H 2 SO 4 or ion exchange treatment (M =
H).
【0060】本発明で得られるスルホンイミドは、その
リチウム塩はリチウム電池の電解質として有用であり、
更に、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩、ラン
タン等の希土類錯体、スカンジウム等の遷移金属錯体は
ルイス酸触媒として各種反応の触媒として有用である。The sulfonimide obtained in the present invention has a lithium salt useful as an electrolyte for a lithium battery,
Further, alkali metal salts such as sodium and potassium, rare earth complexes such as lanthanum, and transition metal complexes such as scandium are useful as Lewis acid catalysts and catalysts for various reactions.
【0061】更に、Eu、Nd等の希土類金属イオンと
スルホンイミドとの錯体は発光材料として非常に有用で
ある。Further, a complex of a rare earth metal ion such as Eu and Nd with a sulfonimide is very useful as a light emitting material.
【0062】[0062]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づきより詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0063】・19F、13C及び1H−NMRは、日
本電子NMR EX−270を用いて測定した。 ・IRは、Perkin-Elmer 1720−Xを用いて測定し
た。 ・吸収特性は、島津 UV−2100を用いて測定し
た。 ・元素分析は、Perkin-Elmer 240Cを用いて測定し
た。 ・発光特性は、日本分光SS−25を用いて測定した。 19 F, 13 C and 1 H-NMR were measured using JEOL NMR EX-270. -IR was measured using Perkin-Elmer 1720-X. -The absorption characteristics were measured using Shimadzu UV-2100. Elemental analysis was measured using Perkin-Elmer 240C. -The light emission characteristic was measured using JASCO SS-25.
【0064】実施例1 C4F9SO2NKSO2C4F9の製造 冷却管付きの100ml三口フラスコ中に、THF30m
l、CF3CONH2(3.3g、28mmol)(和
光純薬社製)及び炭酸カリウム(10.0g、72mm
ol)(関東化学社製)を加え、窒素雰囲気下室温で1
時間攪拌した。引き続き、C4F9SO2F(8.5
g、28mmolモル)(東京化成社製)を加え、3時間
還流を行った。この時点で、反応液を分析したところC
4F9SO2NH2が生成していていることを確認し
た。次いで反応液中にC4F9SO2F(8.5g、2
8mmol)を加え、更に3時間還流を行った。Example 1 Preparation of C 4 F 9 SO 2 NKSO 2 C 4 F 9 In a 100 ml three-necked flask equipped with a cooling tube, 30 m of THF was added.
1, CF 3 CONH 2 (3.3 g, 28 mmol) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and potassium carbonate (10.0 g, 72 mm)
ol) (manufactured by Kanto Chemical Co.) at room temperature under nitrogen atmosphere
Stirred for hours. Subsequently, C 4 F 9 SO 2 F (8.5
g, 28 mmol) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and refluxed for 3 hours. At this point, the reaction mixture was analyzed and found to be C
It was confirmed that 4 F 9 SO 2 NH 2 was generated. Then, C 4 F 9 SO 2 F (8.5 g, 2
8 mmol), and the mixture was further refluxed for 3 hours.
【0065】続いて、減圧下でTHFを留去したのち、
残査をアセトンに溶解し、K2C0 3、KF等の不溶塩
類を濾過により除去した。引き続きアセトンを留去して
得られた固形物を、エーテルで洗浄し、更にエタノール
中で再結晶して、無色針状結晶C4F9SO2NKSO
2C4F9(13.4g、収率77%)を得た。Subsequently, THF was distilled off under reduced pressure.
Dissolve the residue in acetone,2C0 3, KF and other insoluble salts
Were removed by filtration. Continue to evaporate acetone
The obtained solid is washed with ether, and further washed with ethanol.
Recrystallized in water to give colorless needle crystals C4F9SO2NKSO
2C4F9(13.4 g, yield 77%) was obtained.
【0066】19F−NMR (溶媒CD3OD、標準
試薬ヘキサフルオロベンゼン):−79.37(t,6
F,CF3)、−111.57(t,4F,CF2)、
−119.29(br,4F,CF2)、−124.3
5(br,4F,CF2)ppm 19 F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): −79.37 (t, 6
F, CF 3), - 111.57 (t, 4F, CF 2),
-119.29 (br, 4F, CF 2 ), - 124.3
5 (br, 4F, CF 2 ) ppm
【0067】IR:1347(S=O)、1235(C
−F)、1201(C−F)、1126(S−O)cm
−1 IR: 1347 (S = O), 1235 (C
-F), 1201 (CF), 1126 (SO) cm
-1
【0068】実施例2 C6F5S02NKSO2C6
F5 実施例1においてC4F9SO2Fを使用する代わりに
C6F5SO2Cl(15.0g、56mmol)(東
京化成社製)を使用し、更に、CF3CONH 2の代わ
りにCH3CONH2(1.7g、28mmolモル)
を使用した他は実施例1と同様の方法により白色結晶C
6F5SO2NKSO2C6F5(7.8g、収率54
%)を得た。Example 2 C6F5S02NKSO2C6
F5 In Example 1, C4F9SO2Instead of using F
C6F5SO2Cl (15.0 g, 56 mmol) (East
(Kyo Kasei Co., Ltd.)3CONH 2Instead of
CH3CONH2(1.7 g, 28 mmol mol)
The same procedure as in Example 1 was repeated except that white crystals C were used.
6F5SO2NKSO2C6F5(7.8 g, yield 54
%).
【0069】19F-NMR (溶媒CD3OD、標準試薬ヘキ
サフルオロベンゼン):−137.13(o−,4F,
CF2),−153.00(p−,2F,CF),−1
61.66(m−,4F,CF2)ppm19F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): -137.13 (o-, 4F,
CF 2), - 153.00 (p- , 2F, CF), - 1
61.66 (m-, 4F, CF 2 ) ppm
【0070】IR:1489(C6F5),1306
(S=O)、1252(C−F)、1226(C−
F)、1116(S−O)cm−1 IR: 1489 (C 6 F 5 ), 1306
(S = O), 1252 (C-F), 1226 (C-
F), 1116 (SO) cm -1
【0071】実施例3 C8F17SO2NKSO2C8F17 冷却管付きの100ml三口フラスコ中に、THF30m
l、CF3CONH2(3.3g、28mmol)(和
光純薬社製)及びトリエチルアミン(11.5g、11
4mmol)を加え、窒素雰囲気下室温で1時間攪拌し
た。引き続き、C8F17SO2F(14.1g、28
mmol)(東京化成社製)を加え、3時間還流を行っ
た。この時点で、C8F17SO2NHCOCF3のト
リエチルアミン塩が生成していていることを確認した。
反応液をエーテル中に注ぎ、エーテル層をイオン交換水
で洗浄した。更に、エーテル層を硫酸マグネシウムを用
いて乾燥し、引き続きエーテル層を濃縮しC8F17S
O2NHCOCF3・トリエチルアミン塩(15.6
g、80%)を得た。Example 3 C 8 F 17 SO 2 NKSO 2 C 8 F 17 In a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser, 30 m of THF was added.
1, CF 3 CONH 2 (3.3 g, 28 mmol) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and triethylamine (11.5 g, 11
4 mmol), and the mixture was stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere for 1 hour. Subsequently, C 8 F 17 SO 2 F (14.1 g, 28
mmol) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and refluxed for 3 hours. At this point, it was confirmed that a triethylamine salt of C 8 F 17 SO 2 NHCOCF 3 was generated.
The reaction solution was poured into ether, and the ether layer was washed with ion-exchanged water. Further, the ether layer was dried using magnesium sulfate, and then the ether layer was concentrated to obtain C 8 F 17 S
O 2 NHCOCF 3 triethylamine salt (15.6
g, 80%).
【0072】19F-NMR (溶媒CD3OD、標準試薬ヘキ
サフルオロベンゼン):−73.29(m、3F、CF
3)、−79.23(t、3F、CF3)、−112.
32(t、2F、CF2)、−118.32(br、2
F、CF2)、−120.05(br、6F、C
F2)、−124.40(br、2F、CF2)ppm19F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): -73.29 (m, 3F, CF
3), - 79.23 (t, 3F, CF 3), - 112.
32 (t, 2F, CF 2 ), - 118.32 (br, 2
F, CF 2), - 120.05 (br, 6F, C
F 2 ), -124.40 (br, 2F, CF 2 ) ppm
【0073】1H−NMR(CD3OD、標準試薬ヘキ
サフルオロベンゼン):1.3(t、9H、CH3)、
3.3(q、6H、CH2)ppm1H-NMR (CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): 1.3 (t, 9H, CH 3),
3.3 (q, 6H, CH2) ppm
【0074】IR:3106(N−H)、2822(C
−H)、1664(C=O)、1326(S=O)、1
220(C−F)、1138((C−F)、1122
(S−O)cm−1 IR: 3106 (NH), 2822 (C
-H), 1664 (C = O), 1326 (S = O), 1
220 (CF), 1138 ((CF), 1122
(SO) cm -1
【0075】続いて、C8F17SO2NHCOCF3
・トリエチルアミン塩をTHF(30ml)に溶解さ
せ、更に、炭酸カリウム(15.0g)及びC8F17
SO2F(14.1g、28mmolモル)を加え3時間
環流した。反応の途中で、反応液をHPLCで分析した
ところ、C8F17SO2NH2が一部生成しているこ
とがわかった。その後、減圧下でTHFを留去したの
ち、残査をアセトンに溶解し、K2C03、KF等の不
溶塩類を濾過により除去した。引き続きアセトンを留去
して得られた固形物を、エーテルで洗浄し、更にエタノ
ール中で再結晶して、無色針状結晶C8F17SO2N
KSO2C8F17(20.5g,収率72%)を得
た。Subsequently, C 8 F 17 SO 2 NHCOCF 3
-Dissolve the triethylamine salt in THF (30 ml), further add potassium carbonate (15.0 g) and C 8 F 17
SO 2 F (14.1 g, 28 mmol) was added and refluxed for 3 hours. During the reaction, the reaction solution was analyzed by HPLC, and it was found that C 8 F 17 SO 2 NH 2 was partially generated. Thereafter, THF was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in acetone, and insoluble salts such as K 2 CO 3 and KF were removed by filtration. Subsequently, acetone was distilled off, and the solid obtained was washed with ether and further recrystallized in ethanol to obtain colorless needle crystals C 8 F 17 SO 2 N
KSO 2 C 8 F 17 (20.5 g, yield 72%) was obtained.
【0076】19F-NMR (溶媒CD3OD、標準試薬ヘ
キサフルオロベンゼン):−79.20(t,6F,C
F3)、−112.57(t,4F,CF2)、−11
8.27(br,4F,CF2)、−119.39(b
r,12F,CF2)、−120.61(br,4F,
CF2)、−124.17(br,4F,CF2)ppm 19 F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): −79.20 (t, 6F, C
F 3 ), −112.57 (t, 4F, CF 2 ), −11
8.27 (br, 4F, CF 2 ), - 119.39 (b
r, 12F, CF 2), - 120.61 (br, 4F,
CF 2), - 124.17 (br , 4F, CF 2) ppm
【0077】IR:1354(S=O)、1249(C
−F)、1202(C−F)、1152(S−O)cm
−1 IR: 1354 (S = O), 1249 (C
-F), 1202 (CF), 1152 (SO) cm
-1
【0078】実施例4 C4F9SO2NKSO2C6F5 C4F9SO2Fを使用する代わりにC4F9SO2F
(8.5g、28mmol)及びC6F5SO2Cl
(7.5g、28mmolモル)を使用した他は実施例
1と同様の方法によりC4F9SO2NKS02C6F
5を白色結晶で得た(10.8g、収率68%)。Example 4 Instead of using C 4 F 9 SO 2 NKSO 2 C 6 F 5 C 4 F 9 SO 2 F, C 4 F 9 SO 2 F
(8.5 g, 28 mmol) and C 6 F 5 SO 2 Cl
(7.5 g, 28 mmol mol) C 4 F 9 SO 2 in the same way as any other embodiment 1 using NKS0 2 C 6 F
5 was obtained as white crystals (10.8 g, yield 68%).
【0079】19F−NMR (溶媒CD3OD、標準
試薬ヘキサフルオロベンゼン):−79.38(m,3
F,CF3)、−111.57(t,2F,CF2)、
−119.29(br,2F,CF2)、−124.3
4(br,2F,CF2)、−135.56(o−,2
F,CF2)、−151.12(p−,1F,CF)、
−162.20(m−,2F,CF2)ppm 19 F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): −79.38 (m, 3
F, CF 3), - 111.57 (t, 2F, CF 2),
-119.29 (br, 2F, CF 2 ), - 124.3
4 (br, 2F, CF 2 ), - 135.56 (o-, 2
F, CF 2), - 151.12 (p-, 1F, CF),
-162.20 (m-, 2F, CF 2 ) ppm
【0080】IR:1495(C6F5)、1349
(S=O)、1236(C−F)、1205(C−
F)、1149(S−O)cm−1 IR: 1495 (C6F5), 1349
(S = O), 1236 (C-F), 1205 (C-
F), 1149 (SO) cm -1
【0081】UV(溶媒メタノール):227nm(K
吸収帯)、268nm(B吸収帯)UV (solvent methanol): 227 nm (K
Absorption band), 268 nm (B absorption band)
【0082】実施例5 C4F9SO2NH2 冷却管付きの三口フラスコ100ml中に、窒素雰囲気下で
THF30mlを加え、引き続き、CF3CONH
2(3.3g、28mmol)(和光純薬社製)及び炭酸
カリウム(10.0g)(関東化学社製)を加え、1時間攪拌し
た。引き続き、C4F9SO2F(6.5g、22mm
ol)(東京化成社製)を加え、常圧下3時間還流を行っ
た。続いて、減圧下THFを留去したのち、残査をエー
テルに溶解させ、水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、濾過した後エーテルを留去した。続い
て、残査を2mmHg、55℃で昇華することによりよ
り白色結晶C4F9SO2NH2(3.7g、58%)を
得た。Example 5 30 ml of THF was added to a 100 ml three-necked flask equipped with a C 4 F 9 SO 2 NH 2 condenser under a nitrogen atmosphere, and then CF 3 CONH
2 (3.3 g, 28 mmol) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and potassium carbonate (10.0 g) (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred for 1 hour. Subsequently, C 4 F 9 SO 2 F (6.5 g, 22 mm
ol) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and refluxed under normal pressure for 3 hours. Subsequently, THF was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in ether, washed with water three times, dried over magnesium sulfate, filtered, and then ether was distilled off. Subsequently, the residue was sublimated at 2 mmHg and 55 ° C. to obtain white crystals C 4 F 9 SO 2 NH 2 (3.7 g, 58%).
【0083】19F-NMR (溶媒アセトン−d6、標準試薬
ヘキサフルオロベンゼン):−79.33(t,3F,
CF3)、−112.21(t,2F,CF2)、−1
19.51(p,2F,CF2)、−124.33
(h,2F,CF2)ppm19F-NMR (solvent acetone-d 6 , standard reagent hexafluorobenzene): -79.33 (t, 3F,
CF 3), - 112.21 (t , 2F, CF 2), - 1
19.51 (p, 2F, CF 2 ), - 124.33
(H, 2F, CF 2 ) ppm
【0084】1H-NMR (溶媒アセトン−d6、標準試薬
ヘキサフルオロベンゼン):8.1(br,H,NH)
ppm1H-NMR (solvent acetone-d 6 , standard reagent hexafluorobenzene): 8.1 (br, H, NH)
ppm
【0085】IR:3347,3181,3071(N
−H),1379(S=O)、1200(C−F)、1
140(C−F)、1045(S−F)cm−1 IR: 3347, 3181, 3071 (N
-H), 1379 (S = O), 1200 (C-F), 1
140 (CF), 1045 (SF) cm -1
【0086】実施例6 C4F9SO2NKSO2C6F5 冷却管付きの100ml三口フラスコ中に、THF20m
l、実施例5で得たC4F9SO2NH2(5.6g、
19mmol)(東京化成社製)及び炭酸カリウム(1
0.0g、72mmol)を添加し、窒素雰囲気下、室
温にて1時間攪拌した。引き続き、C6F5SO2Cl
(5.0g、19mmol)(東京化成社製)を加え、常圧
下3時間還流を行った。続いて、減圧下THFを留去し
たのち、残査をアセトンに溶解し、K2C03、KFな
どを濾過により除去した。引き続きアセトンを留去して
得られた残渣を、エーテルで洗浄し、次いでエタノール
中で再結晶することによりC4F9SO2NKSO2C
6F5を白色結晶状で得た(10.4g、収率94
%)。Example 6 In a 100 ml three-necked flask equipped with a C 4 F 9 SO 2 NKSO 2 C 6 F 5 condenser, THF 20 m
l, C 4 F 9 SO 2 NH 2 obtained in Example 5 (5.6 g,
19 mmol) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and potassium carbonate (1
(0.0 g, 72 mmol) and stirred for 1 hour at room temperature under a nitrogen atmosphere. Subsequently, C 6 F 5 SO 2 Cl
(5.0 g, 19 mmol) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and the mixture was refluxed under normal pressure for 3 hours. Subsequently, THF was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in acetone, and K 2 CO 3 , KF and the like were removed by filtration. Subsequently, the residue obtained by distilling off acetone is washed with ether and then recrystallized in ethanol to give C 4 F 9 SO 2 NKSO 2 C
The 6 F 5 as a white crystalline (10.4 g, yield 94
%).
【0087】19F-NMR (溶媒CD3OD、標準試薬ヘ
キサフルオロベンゼン):−79.37(m,3F,C
F3)、−111.57(t,2F,CF2)、−11
9.29(br,2F,CF2)、−124.35(b
r,2F,CF2)、−135.56(o−,2F,C
F2)、−151.11(p−,1F,CF)、−16
2.20(m−,2F,CF2)ppm 19 F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): −79.37 (m, 3F, C
F 3), - 111.57 (t , 2F, CF 2), - 11
9.29 (br, 2F, CF 2 ), - 124.35 (b
r, 2F, CF 2), - 135.56 (o-, 2F, C
F 2 ), −151.11 (p−, 1F, CF), −16
2.20 (m-, 2F, CF 2 ) ppm
【0088】IR:1495(C6F5)、1347
(S=O)、1235(C−F)、1203(C−
F)、1147(S−O)cm−1 IR: 1495 (C6F5), 1347
(S = O), 1235 (C-F), 1203 (C-
F), 1147 (SO) cm -1
【0089】UV(溶媒メタノール):227nm(K
吸収帯)、268nm(B吸収帯)UV (solvent methanol): 227 nm (K
Absorption band), 268 nm (B absorption band)
【0090】C4F9SO2NKSO2C6F5の脱塩 実施例6で得られたC4F9SO2NKSO2C6F5
(10.4g、18mmol)を25%H2SO4水溶
液中で1時間攪拌した後、反応液をエーテル抽出し、更
にエーテル層を留去した後残査を2mmHg、100℃
にて昇華することによりC4F9SO2NHSO2C6
F5(7.8g、収率80%)を得た。[0090] C 4 F 9 SO 2 NKSO C 4 F 9 SO 2 obtained in desalination Example 6 2 C 6 F 5 NKSO 2 C 6 F 5
(10.4 g, 18 mmol) was stirred in a 25% H 2 SO 4 aqueous solution for 1 hour, the reaction solution was extracted with ether, and the ether layer was further distilled off.
C 4 F 9 SO 2 NHSO 2 C 6
F 5 (7.8 g, yield 80%) was obtained.
【0091】19F−NMR (溶媒CD3OD、標準
試薬ヘキサフルオロベンゼン):−79.39(m,3
F,CF3)、−111.54(t,2F,CF3)、
−119.27(br,2F,CF2)、−124.3
4(br,2F,CF2)、−135.32(o−,2
F,CF)、−149.53(p−,1F,CF)、−
161.50(m−,2F,CF3)ppm 19 F-NMR (solvent CD 3 OD, standard reagent hexafluorobenzene): −79.39 (m, 3
F, CF 3), - 111.54 (t, 2F, CF 3),
-119.27 (br, 2F, CF2), -124.3
4 (br, 2F, CF2), -135.32 (o-, 2
F, CF), -149.53 (p-, 1F, CF),-
161.50 (m-, 2F, CF 3 ) ppm
【0092】IR:1495(C6F5)、1345
(S=O)、1235(C−F)、1202(C−
F)、1146(S−O)cm−1 IR: 1495 (C 6 F 5 ), 1345
(S = O), 1235 (C-F), 1202 (C-
F), 1146 (SO) cm -1
【0093】UV:(溶媒メタノール)227nm(K
吸収帯)、268nm(B吸収帯)UV: (solvent methanol) 227 nm (K
Absorption band), 268 nm (B absorption band)
【0094】応用例 実施例3で得たC8F17SO2NKSO2C8F17
(20.5g、20mmol)を25%H2SO4水溶
液中で1時間攪拌した後、反応液をエーテル抽出し、更
にエーテル層を留去した後残査を2mmHg、100℃
にて昇華することによりC8F17SO2NHSO2C
8F17(16.0g、82%)を得た。Application Example C 8 F 17 SO 2 NKSO 2 C 8 F 17 obtained in Example 3
(20.5 g, 20 mmol) was stirred in a 25% H 2 SO 4 aqueous solution for 1 hour, the reaction solution was extracted with ether, and the ether layer was further distilled off.
By sublimation at C 8 F 17 SO 2 NHSO 2 C
8 F 17 (16.0 g, 82%) was obtained.
【0095】C8F17SO2NHSO2C8F
17(1.0g、1mmolモル)を30mlの蒸留水
に溶かした後、Nd2O3(600mg、1.8mmo
lモル)を加え、室温で3日間撹拌した。沈殿した固体
を濾過、水洗後、メタノールに溶解させて遠心分離し、
濾過を行って未反応のNd2O3を除去した。メタノー
ルを留去して錯体[(C8F17SO2)2N]3Nd
(206mg、収率20%)を得た。C 8 F 17 SO 2 NHSO 2 C 8 F
17 (1.0 g, 1 mmol) was dissolved in 30 ml of distilled water, and then Nd 2 O 3 (600 mg, 1.8 mmol) was dissolved.
lmol) and stirred at room temperature for 3 days. The precipitated solid was filtered, washed with water, dissolved in methanol and centrifuged,
Unreacted Nd 2 O 3 was removed by filtration. The methanol was distilled off and the complex [(C 8 F 17 SO 2 ) 2 N] 3 Nd
(206 mg, 20% yield).
【0096】得られた錯体をアセトン−d6中にとかし
(濃度0.05モル/l)、その発光特性を日本分光社
製SS−25を用いて測定した。その結果、励起波長5
85nm、発光波長1.06μm、量子収率3.2%、
発光寿命13μsであった。[0096] The resulting complex was dissolved in acetone -d 6 (concentration 0.05 mol / l), to measure the emission characteristics using JASCO Corp. SS-25. As a result, the excitation wavelength 5
85 nm, emission wavelength 1.06 μm, quantum yield 3.2%,
The light emission lifetime was 13 μs.
【0097】[0097]
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、スルホン酸
ハロゲン化物と、カルボン酸アミドとを塩基性金属塩系
触媒の存在下、穏和な条件にてイミド化することによ
り、短工程で容易にスルホンイミドを製造することが可
能となった。 特許出願人 新日本理化株式会社According to the production method of the present invention, the sulfonic acid halide and the carboxylic acid amide are imidized under mild conditions in the presence of a basic metal salt-based catalyst, thereby facilitating the reaction in a short step. It has become possible to produce sulfonimide. Patent applicant Shin Nippon Rika Co., Ltd.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07F 1/06 C07F 1/06 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC61 BA02 BA06 BA08 BA10 BA14 BA17 BA32 BA34 BA36 BA69 BC31 BE12 4H039 CA80 CD10 CD20 CD90 4H048 AA02 AC61 BA02 BA03 BA05 BA06 BA07 BA08 BA10 BA19 BA20 BA21 BA23 BA24 BA28 BA29 BA32 BE12 VA11 VA30 VA50 VB10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (reference) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07F 1/06 C07F 1/06 F term (reference) 4H006 AA02 AC61 BA02 BA06 BA08 BA10 BA14 BA17 BA32 BA34 BA36 BA69 BC31 BE12 4H039 CA80 CD10 CD20 CD90 4H048 AA02 AC61 BA02 BA03 BA05 BA06 BA07 BA08 BA10 BA19 BA20 BA21 BA23 BA24 BA28 BA29 BA32 BE12 VA11 VA30 VA50 VB10
Claims (9)
キル基もしくはアルケニル基、又はパーハロゲン化芳香
族基を表す。Xはハロゲン原子を表す。]で表される1
種もしくは2種のスルホン酸ハロゲン化物と、一般式
(2) RCONH2 (2) [式中、Rはハロゲン置換基を有していてもよいアルキ
ル基を表す。]で表されるカルボン酸アミドを、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属、希土類金属又は遷移金属の
群から選択される金属を成分とする塩基性金属塩系触媒
存在下でイミド化反応することを特徴とする、一般式
(3) [(RfSO2)2N]nM (3) [式中、2つのRfは、同一または異なって、一般式
(1)に記載のものと同じである。Mは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属又は遷移金属
を表す。nは1〜6の整数を表す。]で表されるスルホ
ンイミドの製造方法。1. A compound represented by the general formula (1): RfSO 2 X (1) wherein Rf represents a perhalogenated alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms, or a perhalogenated aromatic group. X represents a halogen atom. 1 represented by
One or two kinds of sulfonic acid halides and a general formula (2) RCONH 2 (2) wherein R represents an alkyl group which may have a halogen substituent. Is carried out in the presence of a basic metal salt catalyst containing a metal selected from the group consisting of an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal and a transition metal. General formula
(3) [(RfSO 2 ) 2 N] n M (3) [wherein the two Rf are the same or different and are the same as those described in the general formula (1). M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal or a transition metal. n represents an integer of 1 to 6. ] The manufacturing method of the sulfonimide represented by this.
れるスルホンイミドが、下記の(a)〜(b)の工程により得
られることを特徴とする請求項1に記載の一般式(3)
で表されるスルホンイミドの製造方法。 (a)一般式(1) RfSO2X (1) [式中、Rf及びXは前記に同じである。]で表される
1種もしくは2種のスルホン酸ハロゲン化物と、一般式
(2) RCONH2 (2) [式中、Rは前記に同じである。]で表されるカルボン
酸アミドを、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類
金属又は遷移金属の群から選択される金属を成分とする
塩基性金属塩系触媒存在下でイミド化反応を行い、一般
式(4) RfSO2NHCOR (4) [式中、Rf及びRは、一般式(1)及び一般式(2)
に記載のものと同じである。]で表されるイミドを得る
工程、(b)一般式(4)で表されるイミドが更に一般式
(1)で表されるスルホン酸ハロゲン化物とイミド化反
応することにより、一般式(3)で表されるスルホンイ
ミドを得る工程。2. Formula (3) [(RfSO 2 ) 2 N] n M (3) wherein Rf, M and n are the same as above. The sulfonimide represented by the following formula (3) is obtained by the following steps (a) and (b):
A method for producing a sulfonimide represented by the formula: (a) General formula (1) RfSO 2 X (1) wherein Rf and X are the same as described above. And one or two sulfonic acid halides represented by the general formula (2) RCONH 2 (2) wherein R is the same as defined above. A carboxylic acid amide represented by the formula (I) in the presence of a basic metal salt catalyst containing a metal selected from the group consisting of an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal and a transition metal; Formula (4) RfSO 2 NHCOR (4) [wherein Rf and R represent the general formulas (1) and (2)
Is the same as that described in the above. (B) an imide represented by the general formula (4) is further subjected to an imidation reaction with a sulfonic acid halide represented by the general formula (1) to obtain an imide represented by the general formula (3). A) obtaining a sulfonimide represented by
れるスルホンイミドが、下記の(a)〜(d)の工程により得
られることを特徴とする請求項1に記載の一般式(3)
で表されるスルホンイミドの製造方法。 (a)一般式(1) RfSO2X (1) [式中、Rfは前記に同じである。]で表される1種も
しくは2種のスルホン酸ハロゲン化物と、一般式(2) RCONH2 (2) [式中、Rは前記に同じである。]で表されるカルボン
酸アミドを、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類
金属又は遷移金属の群から選択される金属を成分とする
塩基性金属塩系触媒存在下でイミド化反応を行い、一般
式(4) RfSO2NHCOR (4) [式中、Rf及びRは前記に同じである。]で表される
イミドを得る工程、(c)一般式(4)で表されるイミド
が前記塩基性金属塩系触媒により分解されて一般式
(5) RfSO2NH2 (5) [式中、Rfは、一般式(1)に記載のものと同義であ
る。]で表されるスルホンアミドを形成する工程、(d)
一般式(5)で表されるスルホンアミドが更に一般式
(1)で表されるスルホン酸ハロゲン化物とイミド化反
応することにより、一般式(3)で表されるスルホンイ
ミドとなる工程。3. The formula (3) [(RfSO 2 ) 2 N] n M (3) wherein Rf, M and n are the same as above. The sulfonimide represented by the formula (3) is obtained by the following steps (a) to (d):
A method for producing a sulfonimide represented by the formula: (a) General formula (1) RfSO 2 X (1) wherein Rf is the same as above. And one or two sulfonic acid halides represented by the general formula (2) RCONH 2 (2) wherein R is the same as defined above. A carboxylic acid amide represented by the formula (I) in the presence of a basic metal salt catalyst containing a metal selected from the group consisting of an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal and a transition metal; Formula (4) RfSO 2 NHCOR (4) wherein Rf and R are the same as above. (C) an imide represented by the general formula (4) is decomposed by the basic metal salt-based catalyst to obtain an imide represented by the general formula (5): RfSO 2 NH 2 (5) , Rf have the same meanings as those described in formula (1). (D) forming a sulfonamide represented by the formula:
A step in which a sulfonamide represented by the general formula (5) further undergoes an imidation reaction with a sulfonic acid halide represented by the general formula (1) to form a sulfonimide represented by the general formula (3).
種のスルホン酸ハロゲン化物2モルに対し、一般式
(2)で表されるカルボン酸アミドを0.5〜1.5モ
ル使用することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか
の請求項に記載のスルホンイミドの製造法。4. One or two kinds represented by the general formula (1)
4. The method according to claim 1, wherein the carboxylic acid amide represented by the general formula (2) is used in an amount of 0.5 to 1.5 mol per 2 mol of the sulfonic acid halide. The method for producing a sulfonimide described in the above item.
ゲン化物が、一般式(6)で表される化合物及び一般式
(7)で表される化合物 Rf1SO2X1 (6) Rf2SO2X2 (7) [式中、Rf1及びRf2は互いに異なって、Rfと同
義である。X1及びX2は互いに異なって、Xと同義で
ある。]の混合物であり、一般式(3)で表されるスル
ホンイミドが、一般式(8) (Rf1SO2)(Rf2SO2)NnM (8) [式中、Rf1、Rf2、M及びnは前記に同じであ
る。]で表されるものである請求項1〜3のいずれかの
請求項に記載のスルホンイミドの製造方法。5. A compound represented by the general formula (6) and a compound represented by the general formula (7) wherein the sulfonic acid halide represented by the general formula (1) is Rf 1 SO 2 X 1 (6) Rf 2 SO 2 X 2 (7) [wherein, Rf 1 and Rf 2 are different from each other and have the same meaning as Rf. X 1 and X 2 are different from each other and have the same meaning as X. Wherein the sulfonimide represented by the general formula (3) is represented by the general formula (8): (Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) N n M (8) wherein Rf 1 and Rf 2 , M and n are the same as above. The method for producing a sulfonimide according to any one of claims 1 to 3, which is represented by the following formula:
ド中の基Rが、CH 3、CCl3又はCF3である、請
求項1〜3のいずれかの請求項に記載のスルホンイミド
の製造方法。6. A carboxylic acid amide represented by the general formula (2)
Group R in CH is CH 3, CCl3Or CF3Is
The sulfonimide according to any one of claims 1 to 3.
Manufacturing method.
Na2CO3、K2CO3、MgCO3、CaCO3の
群から選択される1種若しくは2種以上である請求項1
〜3又は請求項5のいずれかの請求項に記載のスルホン
イミドの製造法。7. The method according to claim 1, wherein the basic metal salt-based catalyst is Li 2 CO 3 ,
2. One or more kinds selected from the group consisting of Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , MgCO 3 , and CaCO 3.
The method for producing a sulfonimide according to any one of claims 1 to 3.
ン酸ハロゲン化物と、一般式(2) RCONH2 (2) [式中、Rは前記に同じである。]で表されるカルボン
酸アミドを、塩基性触媒存在下でイミド化反応を行い、
反応中間体として一般式(4) RfSO2NHCOR (4) [式中、Rf及びRは前記に同じである。]で表される
イミドを得、更に、一般式(4)で表されるイミドを加
水分解することを特徴とする、一般式(5) RfSO2NH2 (5) [式中、Rfは前記に同じである。]で表されるスルホ
ンアミドの製造方法。8. A general formula (1) RfSO 2 X (1) wherein Rf is the same as described above. And a sulfonic acid halide represented by the general formula (2): RCONH 2 (2) wherein R is the same as defined above. Is subjected to an imidation reaction in the presence of a basic catalyst,
General formula (4) RfSO 2 NHCOR as a reaction intermediate (4) wherein Rf and R are the same as above. RfSO 2 NH 2 (5) wherein the imide represented by the general formula (4) is hydrolyzed, and the imide represented by the general formula (4) is hydrolyzed. Is the same as ] The manufacturing method of the sulfonamide represented by this.
ゲン化物1モルに対し、一般式(2)で表されるカルボ
ン酸アミドを0.5〜1.5モル使用することを特徴と
する請求項8に記載のスルホンアミドの製造法。9. A carboxylic acid amide represented by the general formula (2) is used in an amount of 0.5 to 1.5 mol per 1 mol of the sulfonic acid halide represented by the general formula (1). The method for producing a sulfonamide according to claim 8.
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